KR20070121586A - 중축합물을 포함하는 화장 또는 약학 조성물, 상기조성물을 사용하는 화장 처리 방법, 상기 중축합물 및 그의제조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (47)
- 화장 또는 약학적으로 허용가능한 매질 중에 하기의 반응에 의해 수득될 수 있는 하나 이상의 중축합물을 포함하는 화장 또는 약학 조성물:- 중축합물의 총 중량에 대해 10 내지 30 중량% 인, 3 내지 6 개의 히드록실기를 포함하는 폴리올 하나 이상;- 중축합물의 총 중량에 대해 30 내지 80 중량% 인, 탄소수 6 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 고리형 비방향족 모노카르복실산 하나 이상;- 중축합물의 총 중량에 대해 0.1 내지 10 중량% 인, 탄소수 7 내지 11 의 방향족 모노카르복실산 하나 이상 (이는 임의로 탄소수 1 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 추가 치환됨);- 중축합물의 총 중량에 대해 5 내지 40 중량% 인, 2 이상의 카르복실기 COOH, 특히는 2 내지 4 개의 COOH 기를 포함하는 포화 또는 불포화, 더욱이는 방향족, 선형, 분지형 및/또는 고리형 폴리카르복실산 하나 이상; 및/또는 이러한 폴리카르복실산의 고리형 무수물.
- 제 1 항에 있어서, 폴리올이 3 내지 4 개의 히드록실기를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리올이, 3 내지 6 개의 히드록실기 (OH) 를 포함하고 탄소수가 3 내지 18, 특히는 3 내지 12, 더욱이는 탄소수가 4 내지 10 인 선형, 분지형 및/또는 고리형, 포화 또는 불포화 탄소 화합물, 특히는 탄화수소 화합물이며, 사슬 내에 삽입된 하나 이상의 산소 원자 (에테르 관능기)를 추가로 포함할 수 있는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리올이, 3 내지 6 개의 히드록실기 (OH) 를 포함하고 탄소수가 3 내지 18, 특히는 3 내지 12, 더욱이는 탄소수가 4 내지 10 인 선형 또는 분지형 포화 탄화수소 화합물인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리올이 하기로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:- 1,2,4-부탄트리올, 1,2,6-헥산트리올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 글리세롤과 같은 트리올;- 펜타에리트리톨, 에리트리톨, 디글리세롤 또는 디트리메틸올프로판과 같은 테트라올;- 자일리톨과 같은 펜톨;- 소르비톨 및 만니톨과 같은 헥솔; 또는 디펜타에리트리톨 또는 트리글리세롤.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리올이 글리세롤, 펜타에리트리톨, 소르비톨, 및 이들의 혼합물로부터 선택되고; 더욱 양호하게는 펜타에리트리톨인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리올, 또는 폴리올 혼합물이 중축합물 총 중량의 12 내지 25 중량%, 더욱 양호하게는 14 내지 22 중량% 를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 비방향족 카르복실산이 화학식 RCOOH (식 중, R 은 탄소수 5 내지 31, 특히는 탄소수 7 내지 27, 더욱 양호하게는 탄소수 9 내지 23, 더욱이는 탄소수 11 내지 19 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 고리형 탄화수소 라디칼임)인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 8 항에 있어서, 라디칼 R 이 포화된 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서, 라디칼 R 이 선형 또는 분지형, 바람직하게는 C5-C31 인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 비방향족 모노카르복실산이 하기로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:- 카프로산, 카프릴산, 이소헵탄산, 4-에틸펜탄산, 2-에틸헥산산, 4,5-디메틸헥산산, 2-헵틸헵탄산, 3,5,5-트리메틸헥산산, 옥탄산, 이소옥탄산, 노난산, 데칸산, 이소노난산, 라우르산, 트리데칸산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 아라키드산, 베헨산, 세로트산 (헥사코산산); 시클로펜탄카르복실산, 시클로펜탄아세트산, 3-시클로펜틸프로피온산, 시클로헥산카르복실산, 시클로헥실아세트산, 4-시클로헥실부티르산과 같은 포화 모노카르복실산;- 카프롤레산, 오브투실산, 운데실렌산, 도데실렌산, 린데르산, 미리스톨레산, 피세테르산, 추주산 (tsuzuic acid), 팔미톨레산, 올레산, 페트로셀린산, 박센산, 엘라이드산, 곤도산, 가돌레산, 에루크산, 세톨레산, 네르본산, 리놀레산, 리놀렌산, 아라키돈산과 같은 불포화 비방향족 모노카르복실산.
- 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 비방향족 모노카르복실산이 2-에틸헥산산, 이소옥탄산, 라우르산, 미리스트산, 이소헵탄산, 이소노난산, 노난산, 팔미트산, 이소스테아르산, 스테아르산, 베헨산, 및 이들의 혼합물로부터 선택되고, 더욱 양호하게는 이소스테아르산 단독 또는 스테아르산 단독인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서, 비방향족 모노카르복실산, 또는 상기 산들의 혼합물이 최종 중축합물 총 중량의 40 내지 75 중량%, 더욱이는 45 내지 70 중량%, 더욱 양호하게는 50 내지 65 중량% 를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 화학식 R'COOH (식 중, R' 는 탄소수 6 내지 10 의 방향족 탄화수소 라디칼, 특히는 벤조 및 나프토 라디칼이고, 상기 라디칼 R' 는 탄소수 1 내지 32, 특히는 2 내지 12, 더욱이는 탄소수 3 내지 8 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼, 특히는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, tert-부틸, 펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, 시클로펜틸, 헥실, 시클로헥실, 헵틸, 이소헵틸, 옥틸 또는 이소옥틸로부터 선택되는 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 추가 치환될 수 있음)인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 벤조산, o-톨루산, m-톨루산, p-톨루산, 1-나프토산, 2-나프토산, 4-tert-부틸벤조산, 1-메틸-2-나프토산, 2-이소프로필-1-나프토산으로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 벤조산, 4-tert-부틸-벤조산, o-톨루산, m-톨루산, 1-나프토산으로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되고, 더욱 양호하게는 벤조산 단독인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산, 또는 상기 산들의 혼합물이 최종 중축합물 총 중량의 0.5 내지 9.95 중량%, 더욱 양호하게는 1 내지 9.5 중량%, 더욱이는 1.5 내지 8 중량% 를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리카르복실산이 탄소수 2 내지 50, 특히는 탄소수 2 내지 40, 특히는 3 내지 36, 더욱이는 34 내지 18, 더욱 양호하게는 탄소수 4 내지 12, 더욱이는 탄소수 4 내지 10 의 선형, 분지형 및/또는 고리형, 포화 또는 불포화, 더욱이는 방향족 폴리카르복실산으로부터 선택되고, 상기 산이 2 이상의 카르복실기 COOH, 바람직하게는 2 내지 4 개의 COOH 기를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 18 항에 있어서, 폴리카르복실산이 선형 포화 지방족이고 탄소수가 2 내지 36, 특히는 탄소수가 3 내지 18, 더욱이는 탄소수가 4 내지 12 인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 18 항에 있어서, 폴리카르복실산이 방향족이고 탄소수가 8 내지 12 인 것 을 특징으로 하는 조성물.
- 제 21 항에 있어서, A 및 B 가 수소 원자를 나타내거나 또는 함께 총 탄소수 6 인 방향족 고리를 형성하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리카르복실산 또는 이의 무수물이 하기로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성 물:- 데칸디오산, 도데칸디오산, 시클로프로판디카르복실산, 시클로헥산디카르복실산, 시클로부탄디카르복실산, 나프탈렌-1,4-디카르복실산, 나프탈렌-2,3-디카르복실산, 나프탈렌-2,6-디카르복실산, 수베르산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 테트라히드로프탈산, 헥사히드로프탈산, 피멜산, 세박산, 아젤라산, 글루타르산, 아디프산, 푸마르산, 말레산, 이타콘산, 지방산 (특히 C36) 이량체와 같은 디카르복실산;- 시클로헥산트리카르복실산, 트리멜리트산, 1,2,3-벤젠트리카르복실산, 1,3,5-벤젠트리카르복실산과 같은 트리카르복실산;- 부탄테트라카르복실산 및 피로멜리트산과 같은 테트라카르복실산;- 이러한 산의 고리형 무수물, 특히는 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 말레산 무수물 및 숙신산 무수물.
- 제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리카르복실산 또는 그의 무수물이 아디프산, 프탈산 무수물 및/또는 이소프탈산으로부터 선택되고, 더욱 양호하게는 이소프탈산 단독인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리카르복실산 및/또는 그의 고리형 무수물이 최종 중축합물 총 중량의 10 내지 30 중량%, 더욱 양호하게는 14 내지 25 중량% 를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서, 중축합물이 히드록실 (OH) 및/또는 카르복실 (COOH) 관능기를 갖는 하나 이상의 실리콘을 추가로 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 26 항에 있어서, 실리콘의 중량-평균 분자량 (Mw)이 300 내지 20,000, 특히는 400 내지 10,000, 더욱이는 800 내지 4,000 인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 실리콘이 하기 화학식인 것을 특징으로 하는 조성물:(식 중:- W 및 W' 는 서로 독립적으로 OH 또는 COOH 이고; 바람직하게는, W = W' 이고;- p 및 q 는 서로 독립적으로 0 또는 1 이고;- R 및 R' 는 서로 독립적으로, 탄소수가 1 내지 12, 특히는 탄소수가 2 내지 8 이고, 임의로, O, S 및 N 으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자, 특히는 O (에테르) 를 추가로 갖는, 포화 또는 불포화, 더욱이는 방향족, 선형, 분지형 및/또는 고리형 탄소, 특히는 탄화수소, 2가 라디칼이고;특히, R 및/또는 R' 는 화학식 -(CH2)a- (a = 1 - 12 임)의 것, 특히는 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 페닐렌일 수 있고;선택적으로는, 화학식 -[(CH2)xO]z- (x = 1, 2 또는 3 이고 z = 1 - 10 이며; 특히는 x = 2 또는 3 이고 z = 1 - 4 이며; 더욱 양호하게는 x = 3 이고 z = 1 임)의 것일 수 있고;- R1 내지 R6 은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 20, 특히는 탄소수 2 내지 12 의 선형, 분지형 및/또는 고리형, 포화 또는 불포화, 더욱이는 방향족 탄소 라디칼이고; 바람직하게는, R1 내지 R6 은 포화이거나, 선택적으로는 방향족이고, 특히 알킬 라디칼, 특히는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 데실, 도데실 및 옥타데실 라디칼, 시클로알킬 라디칼, 특히는 시클로헥실 라디칼, 아릴 라디칼, 특히는 페닐 및 나프틸, 아르알킬 라디칼, 특히는 벤질 및 페닐에틸 뿐만 아니라 톨릴 및 자일릴 라디칼로부터 선택될 수 있고;- m 및 n 은 서로 독립적으로 1 내지 140 의 정수이고, 실리콘의 중량-평균 분자량 (Mw) 이 300 내지 20,000, 특히는 400 내지 10,000, 더욱이는 800 내지 4,000 이 되도록 하는 것임).
- 제 26 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘이 α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리알킬실록산, 특히는 α,ω-디올 폴리디메틸실록산 및 α,ω-디카르복실 폴리디메틸실록산; α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리아릴실록산, 특히는 α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리페닐실록산; 폴리페닐실록산과 같이 실라놀 관능기를 갖는 폴리아릴실록산; 폴리디메틸실록산과 같이 실라놀 관능기를 갖는 폴리알킬실록산; 폴리페닐/메틸실록산, 선택적으로는 폴리페닐/프로필실록산과 같이 실라놀 관능기를 갖는 폴리아릴/알킬실록산으로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 26 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘이 중량-평균 분자량 (Mw) 400 내지 10,000, 더욱이는 500 내지 5,000, 특히는 800 내지 4,000 의 α,ω-디올 폴리디메틸실록산으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 26 항 내지 제 30 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘이 중축합물 총 중량의 0.1 내지 15 중량%, 특히는 1 내지 10 중량%, 더욱이는 2 내지 8 중량% 를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 31 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산의 몰수 대 비방향족 모노카르복실산의 몰수 비가 0.08 내지 0.70, 특히는 0.10 내지 0.60, 더욱이는 0.12 내지 0.40 인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 32 항 중 어느 한 항에 있어서, 중축합물이 하기의 반응에 의해 수득될 수 있는 것을 특징으로 하는 조성물:- 1,2,6-헥산트리올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 글리세롤; 펜타에리트리톨, 에리트리톨, 디글리세롤, 디트리메틸올프로판; 자일리톨, 소르비톨, 만니톨, 디펜타에리트리톨 및/또는 트리글리세롤로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 하나 이상의 폴리올 (이는 바람직하게는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 10 내지 30 중량%, 특히는 12 내지 25 중량%, 더욱 양호하게는 14 내지 22 중량% 의 양으로 존재함);- 카프로산, 카프릴산, 이소헵탄산, 4-에틸펜탄산, 2-에틸헥산산, 4,5-디메틸헥산산, 2-헵틸헵탄산, 3,5,5-트리메틸헥산산, 옥탄산, 이소옥탄산, 노난산, 데칸산, 이소노난산, 라우르산, 트리데칸산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 아라키드산, 베헨산, 세로트산 (헥사코산산); 시클로펜탄카르복실산, 시클로펜탄아세트산, 3-시클로펜틸프로피온산, 시클로헥산카르복실산, 시클로헥실아세트산, 4-시클로헥실부티르산으로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 하나 이상의 비방향족 모노카르복실산 (이는 바람직하게는 최종 중축합물 총 중량에 대해 30 내지 80 중량%, 특히는 40 내지 75 중량%, 더욱 양호하게는 45 내지 70 중량% 의 양으로 존재함);- 벤조산, o-톨루산, m-톨루산, p-톨루산, 1-나프토산, 2-나프토산, 4-tert-부틸 벤조산, 1-메틸-2-나프토산, 2-이소프로필-1-나프토산으로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 하나 이상의 방향족 모노카르복실산 (이는 바람직하게는 최종 중축합물 총 중량에 대해 0.1 내지 10 중량%, 특히는 1 내지 9.5 중량%, 더욱이는 1.5 내지 8 중량% 의 양으로 존재함); 및- 데칸디오산, 도데칸디오산, 시클로프로판디카르복실산, 시클로헥산디카르복실산, 시클로부탄디카르복실산, 나프탈렌-1,4-디카르복실산, 나프탈렌-2,3-디카르복실산, 나프탈렌-2,6-디카르복실산, 수베르산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 피멜산, 세박산, 아젤라산, 글루타르산, 아디프산, 푸마르산, 말레산; 시클로헥산트리카르복실산, 트리멜리트산, 1,2,3-벤젠트리카르복실산, 1,3,5-벤젠트리카르복실산; 부탄테트라카르복실산, 피로멜리트산, 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 말레산 무수물 및 숙신산 무수물로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 하나 이상의 폴리카르복실산 또는 그의 무수물 중 하나 (이는 바람직하게는 최종 중축합물 총 중량에 대해 5 내지 40 중량%, 특히는 10 내지 30 중량%, 더욱 양호하게는 14 내지 25 중량% 의 양으로 존재함).
- 제 1 항 내지 제 33 항 중 어느 한 항에 있어서, 중축합물이 하기의 반응에 의해 수득될 수 있는 것을 특징으로 하는 조성물:- 글리세롤, 펜타에리트리톨, 소르비톨, 및 이들의 혼합물로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 하나 이상의 폴리올, 더욱 양호하게는 펜타에리트리톨 단독 (이는 최종 중축합물 총 중량에 대해 10 내지 30 중량%, 특히는 12 내지 25 중량%, 더욱 양호하게는 14 내지 22 중량% 의 양으로 존재함);- 2-에틸헥산산, 이소옥탄산, 라우르산, 팔미트산, 이소스테아르산, 이소노 난산, 스테아르산, 베헨산, 및 이들의 혼합물로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 하나 이상의 비방향족 모노카르복실산, 더욱 양호하게는 이소스테아르산 단독 또는 스테아르산 단독 (이는 최종 중축합물 총 중량에 대해 30 내지 80 중량%, 특히는 40 내지 75 중량%, 더욱 양호하게는 45 내지 70 중량% 의 양으로 존재함);- 벤조산, o-톨루산, m-톨루산, 1-나프토산으로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 하나 이상의 방향족 모노카르복실산, 더욱 양호하게는 벤조산 단독 (이는 최종 중축합물 총 중량에 대해 0.1 내지 10 중량%, 특히는 1 내지 9.5 중량%, 더욱이는 1.5 내지 8 중량% 의 양으로 존재함); 및- 프탈산 무수물 및 이소프탈산으로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 하나 이상의 폴리카르복실산 또는 그의 무수물 중 하나, 더욱 양호하게는 이소프탈산 단독 (이는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 5 내지 40 중량%, 특히는 10 내지 30 중량%, 더욱 양호하게는 14 내지 25 중량% 의 양으로 존재함).
- 제 1 항 내지 제 34 항 중 어느 한 항에 있어서, 중축합물이 하기 특징 중 하나 이상을 갖는 것을 특징으로 하는 조성물:- 1 이상; 특히는 2 내지 30, 더욱 양호하게는 2.5 내지 15 인 산가 (중축합물 g 당 수산화칼륨 mg 으로 표시됨); 및/또는- 40 이상; 특히는 40 내지 120, 더욱 양호하게는 45 내지 80 인 히드록실 수 (중축합물 g 당 수산화칼륨 mg 으로 표시됨); 및/또는- 1,500 내지 300,000, 더욱이는 2,000 내지 200,000, 특히는 3,000 내지 100,000 의 수-평균 분자량 (Mw); 및/또는- 20 내지 4,000 mPa.s, 특히는 30 내지 3,500 mPa.s, 더욱이는 40 내지 3,000 mPa.s, 더욱 양호하게는 50 내지 2,500 mPa.s 인 110℃ 에서 측정된 점도; 및/또는- 70℃ 에서 50 중량% 이상의 비율인, 이소도데칸, 팔레암 (Parleam), 이소노닐 이소노나노에이트, 옥틸도데칸올 및 C12-C15 알킬 벤조에이트로부터 선택되는 하나 이상의 용매에 대한 용해도.
- 제 1 항 내지 제 35 항 중 어느 한 항에 있어서, 중축합물이 최종 화장 또는 약학 조성물의 중량에 대해 0.1 내지 70 중량%, 바람직하게는 1 내지 50 중량%, 특히는 10 내지 45 중량%, 더욱이는 20 내지 40 중량%, 더욱 양호하게는 25 내지 35 중량% 의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 36 항 중 어느 한 항에 있어서, 화장 또는 약학적으로 허용가능한 매질이, 미네랄, 동물, 식물 또는 합성 기원, 탄소-함유, 탄화수소-함유, 플루오르화 및/또는 실리콘화, 휘발성 또는 비휘발성 오일 및/또는 용매로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 하나 이상의 화합물을 함유할 수 있는 하나 이상의 오일 액상을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 37 항 중 어느 한 항에 있어서, 화장 또는 약학적으로 허용가능한 매질이 하기로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 하나 이상의 오일 및/또는 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물:1/ 모노카르복실산과 모노알코올 및 폴리알코올의 에스테르 {유리하게는, 상기 에스테르는 C12-C15 알킬 벤조에이트이거나 하기 화학식에 해당함:R'1-COO-R'2(식 중,R'1 은, 탄소수가 1 내지 40 이고, 임의로 하나 이상의 에틸렌성 이중 결합을 가지고, 임의 치환되며, 그 탄화수소 사슬이 N 및 O 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자 및/또는 하나 이상의 카르보닐 관능기에 의해 중단될 수 있는, 선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타내고,R'2 는 탄소수가 1 내지 40 이고, 임의로 하나 이상의 에틸렌성 이중 결합을 가지고, 임의 치환되며, 그 탄화수소 사슬이 N 및 O 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자 및/또는 하나 이상의 카르보닐 관능기에 의해 중단될 수 있는, 선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타냄)};2/ 지방산과 글리세롤의 에스테르 (상기 지방산은 사슬 길이가 C4 내지 C24 로 다양하고, 이는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화일 수 있음)를 포함하는, 트리글리세라이드 함량이 높은 식물성 탄화수소 오일;3/ C6-C32, 특히는 C12-C26 알코올, 특히는 올레 알코올, 리놀레 알코올, 리놀렌 알코올, 이소스테아릴 알코올, 2-헥실데칸올, 2-부틸옥탄올, 2-운데실펜타데칸올 및 옥틸도데칸올과 같은 모노알코올;4/ 탄소수가 5 내지 100 인 탄화수소 오일, 특히는 바셀린, 폴리데센, 팔레암과 같은 수소화 폴리이소부텐, 수쿠알란, 퍼히드로스쿠알렌, 선형, 분지형 및/또는 고리형 C5-C48 알칸, 및 이들의 혼합물로부터 선택될 수 있는, 합성 또는 미네랄 기원의 휘발성 또는 비휘발성, 선형 또는 분지형 탄화수소 오일;5/ 휘발성 또는 비휘발성 실리콘 오일.
- 제 1 항 내지 제 38 항 중 어느 한 항에 있어서, 화장 또는 약학적으로 허용가능한 매질이 이소도데칸, 팔레암, 이소노닐 이소노나노에이트, 옥틸도데칸올, 페닐 트리메티콘, C12-C15 알킬 벤조에이트 및/또는 D5 (데카메틸시클로펜타실록산)으로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택되는 하나 이상의 오일 및/또는 용매을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 39 항 중 어느 한 항에 있어서, 화장 또는 약학적으로 허용가능한 매질이 증점제, 왁스, 착색성 물질, 항산화제, 향제, 에센셜 오일, 보존제, 화장용 활성제, 보습제, 비타민, 세라마이드, 자외선 차단제, 계면활성제, 확산제, 습윤제, 분산제, 소포제, 중화제, 안정화제, 중합체, 특히 지용성 막-형성 중합체, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 40 항 중 어느 한 항에 있어서, 인체 또는 안면의 피부, 입술, 속눈썹, 눈썹, 모발, 두피 또는 손톱의 케어 및/또는 메이크업 제품; 선탠 제품 또는 자가-태닝 (self-tanning) 제품; 특히 모발의 착색, 컨디셔닝 및/또는 케어를 위한 헤어-케어 제품 형태인 조성물.
- 제 1 항 내지 제 41 항 중 어느 한 항에 있어서, 마스카라, 립스틱, 립글로스, 블러셔, 아이셰도우 또는 파운데이션 형태인 조성물.
- 제 1 항 내지 제 42 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 1 항에 정의된 바와 같은 중축합물을 포함하나, 단 상기 중축합물이 하기의 반응에 의해 수득될 수 있는 경우, 이때 방향족 모노카르복실산의 몰수 대 비방향족 모노카르복실산의 몰수의 비가 0.08 내지 0.70 인 조성물:- 10 중량% 의, 탄소수 7 내지 11 의 방향족 모노카르복실산 하나 이상 (이는 임의로 탄소수 1 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 추가 치환됨); 및- 중축합물의 총 중량에 대해 15 내지 30 중량% 인, 3 내지 6 개의 히드록실기를 포함하는 폴리올 하나 이상; 및- 중축합물의 총 중량에 대해 30 내지 40 중량% 인, 탄소수 6 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 고리형 비방향족 모노카르복실산 하나 이상; 및- 중축합물의 총 중량에 대해 10 내지 25 중량% 인, 2 이상의 카르복실기 COOH, 특히는 2 내지 4 개의 COOH 기를 포함하는 포화 또는 불포화, 더욱이는 방향족, 선형, 분지형 및/또는 고리형 폴리카르복실산 하나 이상;(이러한 조건은 누적적임).
- 제 1 항 내지 제 43 항 중 어느 한 항에 따른 화장 조성물을 케라틴 물질, 특히 인체 또는 안면의 피부, 입술, 손톱, 모발 및/또는 눈썹에 적용하는 것을 포함하는 상기 물질의 화장 처리 방법
- 제 1 항 내지 제 43 항 중 어느 한 항에 따른 화장 조성물의 적용을 포함하는 입술의 케어 또는 메이크업을 위한 화장 방법.
- 하기의 반응에 의해 수득될 수 있는 중축합물:- 중축합물의 총 중량에 대해 10 내지 30 중량% 인, 3 내지 6 개의 히드록실기를 포함하는 폴리올 하나 이상;- 중축합물의 총 중량에 대해 45 내지 80 중량% 인, 탄소수 6 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 고리형 비방향족 모노카르복실산 하나 이 상;- 중축합물의 총 중량에 대해 0.1 내지 10 중량% 인, 탄소수 7 내지 11 의 방향족 모노카르복실산 하나 이상 (이는, 임의로, 탄소수 1 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 추가 치환됨);- 중축합물의 총 중량에 대해 5 내지 40 중량% 인, 2 이상의 카르복실기 COOH, 특히는 2 내지 4 개의 COOH 기를 포함하는 포화 또는 불포화, 더욱이는 방향족, 선형, 분지형 및/또는 고리형 폴리카르복실산 하나 이상; 및/또는 이러한 폴리카르복실산의 고리형 무수물.
- 하기를 포함하는, 제 46 항에 따른 중축합물의 제조 방법:- 폴리올과 방향족 및 비방향족 모노카르복실산을 혼합함,- 비활성 분위기 하에서 혼합물을 먼저 융점 (일반적으로 100 - 130℃)까지 가열하고, 이어서, 모노카르복실산이 완전히 소비될 때까지 150 내지 220℃ 의 온도로 가열함, 이어서,- 임의로 혼합물을 90 내지 150℃ 의 온도로 냉각시킴,- 폴리카르복실산 및/또는 고리형 무수물, 및 임의로 히드록실 또는 카르복실 관능기를 갖는 실리콘을 첨가함, 이어서,- 220℃ 이하의 온도로 재가열함.
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