KR20070087688A - 감광성 조성물 제거액 - Google Patents

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KR20070087688A
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Abstract

알킬렌글리콜모노알킬에테르류 및 방향족탄화수소류, 및 필요에 따라, 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복시산에스테르류, 알콕시카르복시산에스테르류, 지환식 케톤류 및 아세트산에스테르류로부터 선택된 적어도 1종의 용제를 함유하는 것을 특징으로 하는, 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거를 위한 감광성 조성물 제거액에 관한 것으로, 감광성 조성물 제거 성능이 우수한 감광성 조성물 제거액이 제공된다.
감광성 조성물 제거액

Description

감광성 조성물 제거액{PHOTOSENSITIVE COMPOSITION REMOVING LIQUID}
본 발명은 감광성 조성물 제거액에 관한 것이다. 본 발명은 특히 유리 기판이나 반도체 웨이퍼 등에 감광성 조성물 필름을 형성하는 공정에 있어서의 기판의 주변부, 가장자리부 또는 이면부의 경화되지 않은 감광성 조성물 필름의 제거, 또는 장치부 재료나 기구의 표면에 부착된 경화되지 않은 감광성 조성물을 제거하기 위한 제거액에 관한 것이다.
본 발명의 감광성 조성물 제거액은 특히 액정이나 유기EL, 이미지 센서에 사용할 수 있는 컬러필터의 제조에 있어서 기판 위에 감광성 조성물 필름을 형성하는 공정에 있어서, 기판의 주변부, 가장자리부 또는 이면부에 잔존하는 경화되지 않은 안료를 함유하는 감광성 조성물 필름을 제거하거나, 또는 장치부 재료나 기구의 표면에 부착된 경화되지 않은 안료를 함유하는 감광성 조성물을 제거하는 데 유용하다.
액정, 유기EL, 플라즈마 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이 또는 반도체의 제조 공정에서는 일반적으로 리소그래피 기술을 이용한 감광성 조성물에 의해 패턴(pattern)이 형성된다.
액정이나 유기EL, 이미지 센서 등에 사용할 수 있는 컬러필터의 제조에 있어 서의 RGB 혹은 수지 블랙 매트릭스의 패턴 형성 방법으로서는, 안료분산법, 염색법, 인쇄법, 전착법 등을 이용할 수 있다. 안료분산법은 안료를 함유하는 감광성 조성물을 사용한 포토리소그래피에 의해 각 색깔의 패터닝을 행하는 방법이며, 안정한 착색 필름을 얻을 수 있기 때문에 컬러필터 제조에 적합한 방법이다. 이 방법으로 기판 위에 감광성 조성물 필름을 형성할 경우, 안료를 함유하는 감광성 조성물을 기판 상에 도포하는 공정이 포함되고, 그 도포방법으로서는 스핀코팅, 슬릿코팅, 와이어 바코팅, 롤코팅, 딥코팅, 스프레이코팅, 또는 이들을 조합한 방법이 알려져 있다.
스핀코팅을 행할 경우, 감광성 조성물 도포 후의 기판의 주변부, 가장자리부부의 감광성 조성물 막의 팽창 부분이나 이면에 부착된 감광성 조성물을 제거하기 위해서, 일반적으로 감광성 조성물 제거액에 의한 린스 처리, 소위 에지 린스 또는 백 린스가 행하여진다. 또한, 스핀코팅에서는 컵에 비산한 감광성 조성물을 제거하는 공정, 소위 컵 린스에 있어서도, 감광성 조성물 제거액에 의한 감광성 조성물 제거 처리가 행하여진다.
또한, 컬러필터 제조에 있어서의 감광성 조성물 도포공정으로서는, 상기 스핀코팅 이외에도 슬릿코팅법에 의한 감광성 조성물의 도포나 와이어 바를 이용한 도포, 또는 롤코터에 의한 도포가 행하여지지만, 이들 방법에 있어서도 감광성 조성물 도포 후에 각각 슬릿 노즐이나 와이어 바와 같은 도포장치의 일부 또는 전부에 부착된 불필요한 감광성 조성물의 제거가 실시된다.
또한, 이외에도 감광성 조성물을 이송하기 위한 장치 배관과 같은 도포장치 의 부재에 부착된 감광성 조성물의 제거가 실시되는 경우가 있다. 일반적으로, 이러한 감광성 조성물의 제거로는 제거액을 사용한 세정 처리가 행하여진다.
이러한 기판 및 장치에 부착된 감광성 조성물 중 어떠한 제거 공정에 있어서도, 감광성 조성물 성분의 잔류가 문제가 된다. 컬러필터 제조에 사용할 수 있는 안료를 함유하는 감광성 조성물, 즉 RGB형성에 이용할 수 있는 컬러레지스트나, 수지블랙 매트릭스 형성에 이용할 수 있는 블랙레지스트는, 안료성분이 기판이나 장치표면에 쉽게 잔류하는 경향이 있고, 이들의 양이 적어도 이물질의 원인이 되어서 컬러 필터 제조의 불량율 증가, 혹은 컬러 필터의 색깔순도 변화나 콘트라스트 저하를 야기할 가능성이 있다. 최근의 컬러 디스플레이에 쓸 수 있는 컬러필터에는 기판의 대화면화, 고정밀화 및 저가격화의 요구가 높아지고 있지만, 이러한 상황에 있어서 컬러필터의 성능, 제품 수율에 영향을 끼치는 감광성 조성물 성분 잔류를 피하는 것이 점점 중요해지고 있다.
종래의 감광성 조성물 제거제로는, 글리콜에테르 또는 그 에스테르, 또는 그 혼합물이 일반적으로 많이 사용되었지만(예를 들면, 일본 특허공고 평4-49938호 공보 및 특허공개 평7-146562호 공보참조), 이들을 상기 컬러레지스트의 세정 제거에 적용했을 경우, 레지스트 제거성이 충분하지 않고, 많은 양의 제거액을 사용할 필요가 있거나, 제거 후에도 잔여물이 남아 있는 문제가 있었다.
또한, 안료를 함유하는 착색 조성물의 제거는 감광성 조성물에 사용되고 있는 용제성분, 또는 계면활성제나 분산제 등과 같이 감광성 조성물에 함유되는 성분을 채용하는 방법(예를 들면, 일본 특허공개 제2000-273370호 공보3 참조)도 있지 만, 감광성 조성물에 함유되는 용제성분만을 세정제로서 썼을 경우, 안료가 침강하기 쉬워서, 충분한 세정성이 얻어질 수 없다. 또한, 계면활성제나 분산제 등의, 감광성 조성물 성분에 함유되는 성분을 세정액 조성물 중에 함유시켰을 경우, 그 성분이 증발 잔분으로서 기판이나 장치부재 위에 잔류하기 쉬워서, 부가적인 세정 공정이 필요하거나, 증발 잔분의 잔류가 바람직하지 않은 기판의 끝면이나 이면의 감광성 조성물 제거에는 실질적으로 소용이 없다는 문제가 있다.
본 발명의 목적은 감광성 조성물 제거성능이 뛰어난 감광성 조성물 제거액을 제공하는 것에 있다.
특히, 액정이나 유기EL, 이미지 센서 등의 제조에서 기판 상에 감광성 조성물 필름을 형성하는 공정에 있어서, 기판의 주변부, 가장자리부 또는 이면부에 잔존하는 안료를 함유하는 감광성 조성물 필름의 제거, 또는 장치부재나 기구의 표면에 부착된 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거에 유효한 제거액을 제공한다.
한편, 본 명세서에 있어서, 알킬렌글리콜모노알킬에테르류를 "성분 1", 방향족탄화수소류를 "성분 2", 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복시산에스테르류, 알콕시카르복시산에스테르류, 지환식 케톤류 및 아세트산에스테르류 중에서 선택되는 적어도 1종의 용제를 "성분3"이라고 할 수도 있다.
본 발명자들은 상기과제를 해결하기 위해서 많은 연구를 거듭했다. 그 결과, 특정한 조성으로 이루어지는 제거액을 쓰는 것에 의해 안료 함유 감광성 조성물의 세정 제거성이 향상되는 것을 찾아냈고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, 예를 들면 하기의 사항으로 이루어진다.
[1] 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거액으로서,
(1) 알킬렌글리콜모노알킬에테르류 95∼70질량% 및
(2) 방향족탄화수소류 5∼30질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
[2] 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거액으로서,
(1) 알킬렌글리콜모노알킬에테르류를 85∼20질량%,
(2) 탄소수 9 이상의 방향족탄화수소류를 5∼30질량% 및
(3) 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복시산에스테르류, 알콕시카르복시산에스테르류, 지환식케톤류 및 아세트산에스테르류 중에서 선택되는 적어도 1종의 용제를 10∼75질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
[3] 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거액으로서,
(1) 알킬렌글리콜모노알킬에테르류 85∼20질량%,
(2) 탄소수 9 이상의 방향족탄화수소류를 5∼30질량% 및
(3) 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복시산에스테르류, 알콕시카르복시산에스테르류 및 지환식케톤류 중에서 선택되는 적어도 1종의 용제를 10∼75질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
[4] 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거액으로서,
(1) 알킬렌글리콜모노알킬에테르류를 85∼40질량%,
(2) 탄소수 9 이상의 방향족탄화수소류를 5∼30질량% 및
(3) 아세트산에스테르류 중에서 선택되는 적어도 1종의 용제를 10∼45질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
[5] 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 있어서, 상기 방향족탄화수소류가 비등점 150~250℃의 알킬벤젠류인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
[6] 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 있어서, 상기 알킬글리콜모노알킬에테르류는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메톡시부탄올 및 3-메틸-3-메톡시부탄올로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
[7] 상기 [2], [3], [5], 또는 [6] 중 어느 하나에 있어서, 상기 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복시산에스테르류는 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트 및 3-메틸-3-메톡시부틸 아세테이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
[8] 상기 [2], [3], [5], 또는 [6] 중 어느 하나에 있어서, 상기 알콕시카르복시산에스테르류는 3-메톡시메틸 프로피오네이트 및 3-에톡시에틸 프로피오네이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
[9] 상기 [2], [3], [5], 또는 [6] 중 어느 하나에 있어서, 상기 지환식케톤류는 시클로헥사논, 시클로펜타논 및 메틸시클로헥사논으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
[10] 상기 [2], [4], [5], 또는 [6] 중 어느 하나에 있어서,상기 아세트산에스테르류는 에틸 아세테이트, n-프로필 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, n-부틸 아세테이트, n-아밀 아세테이트, 이소아밀 아세테이트 및 sec-아밀 아세테이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
[11] 상기 [1] 내지 [10] 중 어느 하나에 있어서, 안료를 함유하는 아크릴계 감광성 조성물의 제거용으로 사용되는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
[12] 상기 [1] 내지 [11] 중 어느 하나에 있어서, 노광 전에 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거용으로 사용되는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
[13] 상기 [1] 내지 [12] 중 어느 하나에 기재된 감광성 조성물 제거액을 사용하여 안료를 함유하는 감광성 조성물이 제거된 것을 특징으로 하는 장치.
[14] 상기 [13]에 기재된 장치를 사용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 컬러필터.
[15] 상기 [14]에 기재된 컬러필터를 구비하는 것을 특징으로 하는 장치.
[16] 상기 [1] 내지 [12] 중 어느 하나에 기재된 감광성 조성물 제거액을 사용하여 유색 안료를 함유하는 감광성 조성물이 제거처리된 것을 특징으로 하는 기판.
본 발명의 감광성 조성물 제거액은, 액정이나 유기EL, 이미지센서 등의 제조에서 기판상에 감광성 조성물 필름을 형성하는 공정에 있어서, 기판주변부, 가장자리부 또는 이면부에 잔존하는 안료를 함유하는 감광성 조성물 필름을 제거하거나, 또는 장치부재나 기구의 표면에 부착된 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거하는 데에 효과적으로 쓸 수 있다.
이하, 본 발명의 감광성 조성물 제거액의 바람직한 실시형태에 대해서 설명한다.
본 발명의 감광성 조성물 제거액은, 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거에 사용할 수 있는 것이며, 알킬렌글리콜모노알킬에테르류(성분 1) 및 방향족탄화수소(성분 2)를 함유한다.
본 발명에 사용할 수 있는 알킬렌글리콜모노알킬에테르류(성분 1)는, 감광성 조성물에 함유된 수지성분에 대한 용해성이 높기 때문에 감광성 조성물 제거액의 주성분으로서 바람직하게 사용된다. 구체적인 예로는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메톡시부탄올 및 3-메틸-3-메톡시부탄올 등을 들 수 있지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
이들 중에서, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노 메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메톡시부탄올 및 3-메틸-3-메톡시부탄올이 바람직하고, 특히 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메톡시부탄올 및 3-메틸-3-메톡시부탄올이 감광성 조성물의 용해성 향상, 입수의 용이함, 안정성의 관점에서 특히 바람직하다.
본 발명의 감광성 조성물 제거액에 함유되는 방향족탄화수소(성분 2)는, 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거에 있어서 안료의 분산성을 유지하여 제거액의 안료제거 성능을 향상시키는 점에서 효과적이다. 본 발명의 성분 2는, 바람직하게는, 알킬기로 치환된 방향족탄화수소이고, 알킬벤젠류, 알킬나프탈렌류 등을 들 수 있다. 상기 알킬기는 직쇄상 또는 분기상이어도 좋고, 2 이상의 기가 연결되어서 환구조를 형성해도 좋다. 방향족탄화수소의 탄소수는 9 이상인 것이 바람직하고, 12 이하가 더욱 바람직하다. 성분 2의 구체적인 예로는 1,2,3-트리메틸벤젠, 1,2,4-트리메틸벤젠, 1,3,5-트리메틸벤젠, 1-에틸-2-메틸벤젠, 1-에틸-3-메틸벤젠, 1-에틸-4-메틸벤젠, n-프로필벤젠, 쿠멘, n-부틸벤젠, sec-부틸벤젠, iso-부틸벤젠, 1,2,3,4-테트라메틸벤젠, 1,2,3,5-테트라메틸벤젠, 1,2,4,5-테트라메틸벤젠, 1,2-디메틸-3-에틸벤젠, 1,2-디메틸-4-에틸벤젠, 1,3-디메틸-2-에틸벤젠, 1,3-디메틸-4-에틸벤젠, 1,3-디메틸-5-에틸벤젠, 1,4-디메틸-2-에틸벤젠, 1-메틸-2-프로필벤젠, 1-메틸-3-프로필벤젠, 1-메틸-4-프로필벤젠, 1-메틸-2-이소프로필벤젠, 1-메틸-3-이소프로필벤젠, 1-메틸-4-이소프로필벤젠, 1,2-디에틸벤젠, 1,3-디에틸벤젠, 1,4-디에틸벤젠, 펜틸벤젠, 메틸부틸벤젠, 에틸프로필벤젠, 디메틸프로필벤젠, 메틸디에틸벤젠, 트리메틸에틸벤젠, 펜타메틸벤젠, 헥실벤젠, 메틸펜틸벤젠, 에틸부 틸벤젠, 디메틸부틸벤젠, 디프로필벤젠, 메틸에틸프로필벤젠, 트리메틸프로필벤젠, 트리에틸벤젠, 디메틸디에틸벤젠, 테트라메틸에틸벤젠, 헥사메틸벤젠, 인단 및 테트라히드로나프탈렌과 같은 알킬벤젠류; 및 메틸나프탈렌과 디메틸나프탈렌과 같은 알킬나프탈렌류가 언급될 수 있지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
이들 방향족탄화수소는 감광성 조성물 제거액 중에 단독으로 함유되어 있어도 좋고, 2종 이상이 조합하여 함유되어 있어도 좋다.
이들 중에서 비등점이 150~250℃인 알킬벤젠류가 감광성 조성물의 제거 성능, 특히 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거성능이 우수하고, 또한 감광성 조성물 제거에 적합한 건조성을 갖는 점에서 바람직하다.
이들 중에서 특히 바람직한 알킬벤젠류로는, 탄소수 9~10의 알킬벤젠류이며, 구체적으로는, 1,2,3-트리메틸벤젠, 1,2,4-트리메틸벤젠, 1,3,5-트리메틸벤젠, 1-에틸-2-메틸벤젠, 1-에틸-3-메틸벤젠, 1-에틸-4-메틸벤젠, n-프로필벤젠, 쿠멘, n-부틸벤젠, sec-부틸벤젠, iso-부틸벤젠, 1,2,3,4-테트라메틸벤젠, 1,2,3,5-테트라메틸벤젠, 1,2,4,5-테트라메틸벤젠, 1,2-디메틸-3-에틸벤젠, 1,2-디메틸-4-에틸벤젠, 1,3-디메틸-2-에틸벤젠, 1,3-디메틸-4-에틸벤젠, 1,3-디메틸-5-에틸벤젠, 1,4-디메틸-2-에틸벤젠, 1-메틸-2-프로필벤젠, 1-메틸-3-프로필벤젠, 1-메틸-4-프로필벤젠, 1-메틸-2-이소프로필벤젠, 1-메틸-3-이소프로필벤젠, 1-메틸-4-이소프로필벤젠, 1,2-디에틸벤젠, 1,3-디에틸벤젠, 1,4-디에틸벤젠 등을 들 수 있다.
본 발명의 제거액을 실제로 사용하기 위해서 상기 방향족탄화수소는 어떠한 방법으로 제조되어도 좋지만, 방향족성분비율이 높은 용제 나프타, 예를 들면, 상 품명 SHELLSOL A(상표, Shell Chemicals 제품, 일본, 초류점: 160℃, 건점: 182℃), SOLVESSO 100(상표, Exxon Chemical Co. 제품, 초류점: 164℃, 건점: 176℃), SWASOL 1000(상표, Maruzen Petrochemical Co., Ltd. 제품, 초류점: 161℃, 건점: 179℃), IPSOL 100(상표, Idemitsu Kosan Co., Ltd. 제품, 초류점: 162℃, 건점: 179℃), HIGHSOL 100(상표, Nippon Petrochemicals Co., Ltd. 제품, 초류점: 155℃, 건점: 180℃), SOLFINE-TM(상표, Showa Denko K.K. 제품, 초류점: 160℃, 건점: 180℃)와 같은 탄소수 9를 중심으로 한 알킬벤젠계 혼합용제, SHELLSOL AB(상표, Shell Chemicals 제품, Japan, 초류점: 187℃, 건점: 213℃), SOLVESSO 150(상표, Exxon Chemical Co. 제품, 초류점: 188℃, 건점: 209℃), SWASOL 1500(상표, Maruzen Petrochemical Co., Ltd. 제품, 초류점: 180.5℃, 건점: 208.5℃), IPSOL 150(상표, Idemitsu Kosan Co., Ltd. 제품, 초류점: 186℃, 건점: 205℃), HIGHSOL 150(상표, Nippon Petrochemicals Co., Ltd. 제품, 초류점: 182℃, 건점: 216℃), SOLFINE-WZ(상표, Showa Denko K.K. 제품, 초류점: 195℃, 건점: 250℃)과 같은 주로 탄소수 10인 알킬벤젠계 혼합 용제, SWASOL 1800(상표, Maruzen Petrochemical C., Ltd. 제품, 초류점: 195.5℃, 건점: 245℃)와 같은 주로 탄소수10 이상인 알킬벤젠-알킬나프탈렌계 혼합 용제 등의 방향족 탄화수소의 혼합물이 본 발명의 감광성 조성물 제거액에 바람직하게 사용될 수 있다.
본 발명의 감광성 조성물 제거액에 함유된 성분 1 및 성분 2의 바람직한 비율은, 성분 1은 95~70질량%, 성분 2는 5~30질량%이다.
본 발명의 감광성 조성물의 성분 1 및 성분 2의 함유량이 상기의 범위라면, 감광성 조성물에 함유된 수지성분 등의 용해성과 안료의 분산 및 제거성이 양호해진다.
본 발명의 감광성 조성물 제거액은, 알킬렌글리콜모노알킬에테르류(성분 1) 및 방향족탄화수소류(성분 2) 이외에, 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복시산에스테르류, 알콕시카르복시산에스테르류, 지환식케톤류 및 아세트산에스테르류로부터 선택된 1종 이상의 용제(성분 3)를 함유할 수 있다.
본 발명의 감광성 조성물 제거액에 함유될 수 있는 성분 3은, 감광성 조성물 제거액을 감광성 조성물의 제거에 보다 적합한 극성으로 조정함으로써 감광성 조성물의 용해성을 향상시킬 수 있고, 또는 감광성 조성물 재거액의 용해성을 저하시키지 않고 점도를 낮춤으로써 감광성 조성물 제거 속도를 향상시킬 수 있다는 점에서 효과적이다.
본 발명에 사용될 수 있는 성분 3의 구체적인 예로서는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트 및 3-메틸-3-메톡시부틸 아세테이트와 같은 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복시산에스테르류, 2-메톡시메틸 아세테이트, 2-에톡시에틸 아세테이트, 3-에톡시에틸 프로피오네이트, 3-메톡시메틸 프로피오네이트, 3-메톡시에틸 프로피오네이트, 3-에톡시메틸 프로피오네이트, 2-메톡시에틸 프로피오네이 트, 2-에톡시프로필 프로피오네이트, 2-에톡시메틸 프로피오네이트, 2-에톡시에틸 프로피오네이트 및 β-메톡시이소메틸 부티레이트와 같은 알콕시카르복시산에스테르류, 시클로헥사논, 시클로펜타논 및 메틸시클로헥사논과 같은 지환식케톤류, 및 에틸 아세테이트, n-프로필 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, n-부틸 아세테이트, sec-부틸 아세테이트, 이소부틸 아세테이트, 아밀 아세테이트, 헥실 아세테이트 및 시클로헥실 아세테이트와 같은 아세트산에스테르류를 들 수 있지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
이들 중에서도 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시메틸 프로피오네이트, 3-에톡시에틸 프로피오네이트, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸시클로헥사논, 에틸 아세테이트, n-프로필 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, n-부틸 아세테이트, n-아밀 아세테이트, 이소아밀 아세테이트 및 sec-아밀 아세테이트가 제거성, 입수의 용이성, 안전성의 관점에서 바람직하다.
본 발명의 감광성 조성물 제거액에 함유되는 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복시산에스테르류, 알콕시카르복시산에스테르류, 지환식케톤류, 아세트산에스테르류는 단독으로 사용되어도 좋고, 2종 이상을 조합하여 사용하여도 좋다.
본 발명의 감광성 조성물 제거액이 성분 1, 성분 2 및 성분 3을 함유하는 경우, 성분 1, 성분 2 및 성분 3의 바람직한 비율은, 성분 1이 85~20질량%, 성분 2가 5~30질량%, 성분 3이 10~75질량%이다.
성분 3이 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복시산에스테르류, 알콕시카르복시 산에스테르류 또는 지환식케톤류인 경우, 성분 1, 성분 2 및 성분 3의 더욱 바람직한 비율은, 성분 1이 85~20질량%, 성분 2가 5~30질량%, 성분 3이 10~75질량%이고, 성분 3이 아세트산에스테르류인 경우, 성분 1, 성분 2 및 성분 3의 더욱 바람직한 비율은, 성분 1이 85~40질량%, 성분 2가 5~30질량%, 성분 3이 10~45질량%이다.
본 발명의 감광성 조성물에 함유된 성분 1~3이 상기 범위 내로 있으면, 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거에 있어서, 수지의 용해성능 및 안료의 분산 제거성능이 우수해진다.
다음으로, 본 발명의 제거액이 적용되는 유색 감광성 수지 조성물에 대해 상세히 설명한다.
본 발명의 제거액이 적용되는 유색 감광성 조성물은, 일반적으로, 액정, 유기EL, 이미지센서 등의 컬러필터 형성공정에 사용될 수 있는, 안료를 함유하는 유색 감광성 조성물이다. 이들 유색 감광성 조성물은, 안료를 함유함으로써 착색된 감광성 조성물이고, 이들은 일반적으로 알칼리로 현상가능한 필름형성물질, 감광성 물질 및 안료 등을 함유한다.
유색 감광성 조성물에 함유된 필름형성물질로는, 아크릴계 수지, 노볼락계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리비닐페놀계 수지 등을 언급할 수 있지만, 본 발명은 특히 아크릴계 수지를 필름형성물질로서 함유하는 유색 감광성 조성물의 제거에 바람직하게 사용된다. 필름형성물질로서 사용되는 아크릴계 수지는, 알칼리 가용성의 분자량 1,000~500,000 정도의 고분자 중합체 또는 공중합체이고, 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체 및 그 외의 에틸렌성 불포화 단량체와의 공중합체 가 바람직하게 사용될 수 있다.
유색 감광성 조성물에 함유된 감광성 물질로는, 아크릴계 수지를 필름형성물질로서 사용하는 경우, 헥사아릴비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 아미노아세토페논계 화합물, 증감색소와 유기 붕소염계 화합물의 조합, 티타노센계 화합물, 옥사디아졸계 화합물 등을 들 수 있다.
유색 감광성 조성물에 함유될 수 있는 안료로는, 일반적으로 컬러필터의 제조에 사용되는 안료라면 문제없이 사용될 수 있고, 흑색, 황색, 적색, 청색, 녹색 등의 유기, 무기 안료를 필요에 따라 단독 또는 혼합물로 사용할 수 있다. 안료의 구체적인 예로는, 카본블랙, 아세틸렌블랙, 램프블랙, 카본나노튜브, 흑연, 철흑, 산화철계 흑색안료, 아닐린블랙, 시아닌블랙, 티타늄블랙, C. I. 피그먼트 옐로우 20, 24, 83, 86, 93, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 153, 154, 166, C. I. 피그먼트 오렌지 36, 43, 51, 55, 59, 61, C. I. 피그먼트 레드 9, 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 254, C. I. 피그먼트 바이올렛 19, 23, 29, 30, 37, 40, 50, C.I. 피그먼트 블루 15, 15:1, 15:4, 15:6, 22, 27, 60, 64, C. I. 피그먼트 그린 7, 10, 36, 37, C.I. 피그먼트 브라운 23, 25, 26 등을 들 수 있다.
유색 감광성 조성물은 상기의 필름형성물질, 감광성물질 및 안료 외에도 에틸렌성 불포화 단량체를 함유해도 좋다. 에틸렌성 불포화 단량체는 활성광선 조사시 광중합 개시제로부터 발생하는 라디칼에 의해 중합되는 화합물이다.
본 발명의 감광성 조성물 제거액이 적용되는 유색 감광성 조성물에는 상기의 성분 이외에 유기용제, 안료분산제, 밀착향상제, 레벨링제, 현상개량제, 산화방지제, 열중합금지제 등이 적절히 함유될 수 있다.
본 발명의 감광성 조성물 제거액은 피세정물에 도포 또는 부착된 상태의 유색 감광성 조성물의 제거에 사용할 수 있고, 특히 감광 전의 유색 감광성 조성물의 제거에 바람직하게 사용될 수 있다. 유색 감광성 조성물은 용제가 함유되어 있는 상태여도 좋고, 용제가 휘발된 후의 상태여도 좋다.
유색 감광성 조성물을 제거하는 방법으로는, 유색 감광성 조성물이 도포되거나 부착된 피세정물에 본 세척액을 노즐 등으로부터 길게, 액적형태로, 또는 미스트 형태로 분사하여 제거하는 방법, 본 발명의 제거액에 유색 감광성 조성물이 부착된 피세정물을 침지하는 방법 등을 들 수 있다. 제거를 효율적으로 행하기 위해서, 초음파 조사나, 솔 등을 통해 물리적 세정을 병행하는 것도 가능하다.
본 발명의 감광성 조성물 제거액은 액정, 유기EL, 이미지센서 등에 사용되는 컬러필터 제조의 유색 감광성 조성물 제조공정에 있어서, 기판의 주변부, 가장자리부, 또는 이면부에 부착된 불필요한 미경화 유색 감광성 조성물의 제거, 또는 도포 장치의 일부 또는 전부에 부착된 불필요한 미경화 유색 감광성 조성물의 제거에 바람직하게 사용될 수 있다.
본 발명의 감광성 조성물 제거액은 기판상에 스핀코팅법으로 유색 감광성 조성물을 도포할 때, 기판주변부, 가장자리부, 또는 이면부의 미경화 유색 감광성 조성물의 제거, 소위 에지 린스, 백 린스의 린스제로서, 또는 스핀코팅시에 컵에 비산한 감광성 조성물을 세정 제거하는, 소위 컵 린스에 있어서도 바람직하게 사용될 수 있다.
스핀코팅법 이외에 기판상에 유색 감광성 조성물을 도포하는 방법으로서 슬릿코팅법이나 와이어 바코팅법, 또는 롤코팅법 등이 알려져 있지만, 슬릿 노즐이나 와이어 바, 인쇄판 등 도포장치의 부재나 기구의 표면에 부착된 미경화 유색 감광성 조성물을 제거할 때에도, 본 발명의 감광성 조성물 제거액이 바람직하게 사용된다.
또한, 본 발명의 또 다른 양태는, 상기 감광성 조성물 제거액을 사용하여 상기 방법에 의해 미경화 감광성 조성물이 제거된 기판, 또는 액정, 유기EL 및 이미지센서 등의 제조용 장치, 및 이들 장치에 의해 얻어지는 컬러필터이다.
[실시예]
이하 실시예를 통해 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 물론 본 발명이 이러한 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
또한, 세정성은 제거액에 3분간 침지한 후, 감광성 착색 조성물의 용해 상황을 육안으로 관측하여 3단계로 평가하였다.
○: 완전히 제거됨
△: 부분적으로 용해됨
×: 대부분 용해되지 않음
제조예 1: 아크릴계 공중합체의 제조
적하 깔대기, 온도계, 냉각관, 교반기를 구비한 4목 플라스크에 메타크릴산(MA) 12.0 질량부, 메타크릴산메틸(MMA) 14.0 질량부. 메타크릴산n-부틸(BMA) 43.0 질량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트(HEMA) 6.0 질량부, 에틸셀로솔브 아세테이트(EGA) 225.0 질량부를 넣고, 1시간 동안 4목 플라스크 내부를 질소치환 하였다. 그리고 나서, 오일배스에서 90℃까지 가온한 후, MA 12.0 질량부, MMA 14.0 질량부, BMA 43.0 질량부, HEMA 6.0 질량부, EGA 225.0 질량부, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 3.2 질량부의 혼합액을 1시간에 걸쳐 적하하였다. 3시간 동안 중합을 행한 후, AIBN 1.0 질량부와 EGA 5.0 질량부의 혼합액을 첨가하여 100℃로 더 가열하여 1.5시간 동안 중합을 행한 후 냉각시켰다. 이렇게 얻어진 아크릴계 공중합체의 고형분 농도는 22.1질량%이고, 산가는 92mgKOH/g, GPC로 측정한 폴리스티렌 환산 질량평균 분자량은 22,000이었다.
제조예 2: 감광성 착색 조성물 A: 흑색 감광성 착색 조성물의 제조
제조예 1에서 얻어진 아크릴계 공중합체 30.0 질량부(고형분 6.6 질량부), EGA 5.0 질량부, FLOWLEN DOPA-33(상표, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 제품, 분산제, 고형분 농도: 30질량%) 3.3 질량부, Special Black 4(Degussa 제품인 카본블랙) 6.6 질량부를 혼합한 후, 하룻밤 동안 방치하였다. 그리고 나서 1시간 동안 교반한 후, 3중 롤밀(모델명: RIII-1RM-2, Kodaira Seisakusho Co., Ltd. 제품)에 4회 통과시켰다. 얻어진 흑색 잉크에 EGA를 첨가하여 농도를 조절함으로써 고형분 농도 18.0질량%의 흑색 착색 조성물을 얻었다.
이렇게 얻어진 흑색 착색 조성물 100 질량부에 다시 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 4.4 질량부, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 2.2 질량부 및 EGA 25 질량부를 첨가하여 충분히 교반하여 감광성 조성물 A를 얻었 다.
제조예 3: 감광성 착색 조성물 B: 녹색 감광성 착색 조성물의 제조
제조예 1에서 얻어진 아크릴계 공중합체 30.0 질량부(고형분 6.6 질량부), EGA 5.0 질량부, FLOWLEN DOPA-33(상표, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 제품, 분산제, 고형분 농도: 30질량%) 3.3 질량부, 피그먼트 그린 36의 6.6 질량부를 혼합한 후, 하룻밤 동안 방치하였다. 그리고 나서, 1시간 동안 교반한 후, 3중 롤밀(모델명: RIII-1RM-2, Kodaira Seisakusho Co., Ltd. 제품)에 4회 통과시켰다. 얻어진 녹색 잉크에 EGA를 첨가하여 농도를 조절함으로써 고형분 농도 18.0질량%의 녹색 착색 조성물을 얻었다.
이렇게 얻어진 녹색 착색 조성물 100 질량부에 다시 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 4.4 질량부, 4,4'-비스(N,N-디에틸아미노)벤조페논 0.7 질량부, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 2.3 질량부, 트리메틸올프로판 트리스티오프로피오네이트 3.8 질량부 및 EGA 42 질량부를 첨가하고 충분히 교반하여 감광성 착색 조성물 B를 얻었다.
제조예 4: 감광성 착색 조성물 C: 적색 감광성 착색 조성물의 제조
제조예 1에서 얻어진 아크릴계 공중합체 30.0 질량부(고형분 6.6 질량부), EGA 5.0 질량부, FLOWLEN DOPA-33(상표, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 제품, 분산제, 고형분 농도: 30질량%) 3.3 질량부, 피그먼트 레드 177의 6.6 질량부를 혼합한 후, 하룻밤 동안 방치하였다. 그리고 나서, 1시간 동안 교반한 후, 3중 롤밀(모델명: RIII-1RM-2, Kodaira Seisakusho Co., Ltd. 제품)에 4회 통과시켰다. 얻어진 적색 잉크에 EGA를 첨가하여 농도를 조절함으로써 고형분 농도 18.0질량%의 적색 착색 조성물을 얻었다. 상기 착색 조성물 100질량부에 다시 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 4.4 질량부, IRGACURE 369(Ciba Specialty Chemicals, Inc. 제품) 3.0 질량부, 트리메틸올프로판 트리스티오프로피오네이트 3.8 질량부 및 EGA 42 질량부를 첨가하고 충분히 교반하여 감광성 착색 조성물 C를 얻었다.
실시예 1
제조예 2~4에서 제조된 감광성 착색 조성물 A~C를 유리 기판(28mm×76mm)상에 1방울 적하하고, 실온에서 24시간 동안 건조시켰다.
이것을 프로필렌글리콜모노메틸에테르 70g 및 SOLFINE-TM(Showa Denko K.K. 제품) 30g을 혼합한 제거액에 3분간 침지시켜 정치하고, 표면에 도포된 감광성 착색 조성물의 세정 및 제거를 행하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.
실시예 2~21, 비교예 1~4
표 1에 표시한 조성의 제거액을 사용하여, 실시예 1과 같이 감광성 착색 조성물의 제거를 행하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.
Figure 112007053962028-PCT00001
본 발명은, 액정이나 유기EL, 이미지센서의 제조에서 기판상에 감광성 조성물 필름을 형성하는 공정에 있어서, 기판주변부, 가장자리부 또는 이면부에 남아있는 안료를 함유하는 감광성 조성물 필름의 제거, 또는 장치 부재나 기구의 표면에 부착된 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거에 유용한 감광성 조성물 제거액을 제공한다.

Claims (16)

  1. 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거액으로서,
    (1) 알킬렌글리콜모노알킬에테르류 95∼70질량% 및
    (2) 방향족탄화수소류 5∼30질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
  2. 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거액으로서,
    (1) 알킬렌글리콜모노알킬에테르류를 85∼20질량%,
    (2) 탄소수 9 이상의 방향족탄화수소류를 5∼30질량% 및
    (3) 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복시산에스테르류, 알콕시카르복시산에스테르류, 지환식케톤류 및 아세트산에스테르류 중에서 선택되는 적어도 1종의 용제를 10∼75질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
  3. 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거액으로서,
    (1) 알킬렌글리콜모노알킬에테르류를 85∼20질량%,
    (2) 탄소수 9 이상의 방향족탄화수소류를 5∼30질량% 및
    (3) 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복시산에스테르류, 알콕시카르복시산에스테르류 및 지환식케톤류 중에서 선택되는 적어도 1종의 용제를 10∼75질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
  4. 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거액으로서,
    (1) 알킬렌글리콜모노알킬에테르류를 85∼40질량%,
    (2) 탄소수 9 이상의 방향족탄화수소류를 5∼30질량% 및
    (3) 아세트산에스테르류 중에서 선택되는 적어도 1종의 용제를 10∼45질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
  5. 제 1 항 내지 제 4 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방향족탄화수소류가 비등점 150~250℃의 알킬벤젠류인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 알킬글리콜모노알킬에테르류가 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메톡시부탄올 및 3-메틸-3-메톡시부탄올로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
  7. 제 2 항, 제 3 항, 제 5 항, 또는 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복시산에스테르류가 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이 트 및 3-메틸-3-메톡시부틸 아세테이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
  8. 제 2 항, 제 3 항, 제 5 항, 또는 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 알콕시카르복시산에스테르류가 3-메톡시메틸 프로피오네이트 및 3-에톡시에틸 프로피오네이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
  9. 제 2 항, 제 3 항, 제 5 항, 또는 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지환식케톤류가 시클로헥사논, 시클로펜타논 및 메틸시클로헥사논으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
  10. 제 2 항 또는 제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 아세트산에스테르류가 에틸 아세테이트, n-프로필 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, n-부틸 아세테이트, n-아밀 아세테이트, 이소아밀 아세테이트 및 sec-아밀 아세테이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 안료를 함유하는 아크릴계 감광성 조성물의 제거용으로 사용되는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 노광 전의 안료를 함유하는 감광성 조성물의 제거용으로 사용되는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물 제거액.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 기재된 감광성 조성물 제거액을 사용하여 안료를 함유하는 감광성 조성물이 제거된 것을 특징으로 하는 장치.
  14. 제 13 항에 기재된 장치를 사용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 컬러필터.
  15. 제 14 항에 기재된 컬러필터를 구비하는 것을 특징으로 하는 장치.
  16. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 기재된 감광성 조성물 제거액을 사용하여 유색 안료를 함유하는 감광성 조성물이 제거처리된 것을 특징으로 하는 기판.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101132618B1 (ko) * 2009-08-25 2012-04-06 주식회사 이엔에프테크놀로지 포토레지스트 사용량을 절감할 수 있는 신너 조성물
KR20210016348A (ko) * 2018-06-01 2021-02-15 도레이 카부시키가이샤 착색 수지 조성물과 그의 제조 방법, 근적외선 투과 차광막 및 장식 기판

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI276929B (en) * 2003-12-16 2007-03-21 Showa Denko Kk Photosensitive composition remover
JP4005092B2 (ja) * 2004-08-20 2007-11-07 東京応化工業株式会社 洗浄除去用溶剤
KR101097908B1 (ko) 2004-12-09 2011-12-23 주식회사 이엔에프테크놀로지 세정액 조성물 및 이의 제조방법
EP1904899A4 (en) * 2005-07-19 2012-04-25 Showa Denko Kk ELIMINATION SOLUTION FOR PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
CN102443344B (zh) * 2010-10-12 2014-03-19 苏州飞翔新材料研究院有限公司 一种混合溶剂及卷钢涂料组合物和卷钢材料的制备方法
JP6260441B2 (ja) * 2014-04-30 2018-01-17 旭硝子株式会社 樹脂層の除去方法
CN107085356B (zh) * 2017-02-17 2020-06-09 无锡德贝尔光电材料有限公司 一种uv感光负性纯丙光刻胶及其制备方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2591644B2 (ja) * 1987-03-11 1997-03-19 東京応化工業株式会社 ホトレジストの剥離液
US5185235A (en) * 1987-09-09 1993-02-09 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Remover solution for photoresist
US5198482A (en) * 1989-12-14 1993-03-30 Ciba-Geigy Corporation Corrosion-inhibiting coating compositions
JP3257867B2 (ja) * 1993-06-25 2002-02-18 東京応化工業株式会社 現像液組成物
JP3248781B2 (ja) * 1993-06-28 2002-01-21 東京応化工業株式会社 レジスト洗浄除去用溶剤及びそれを使用する電子部品製造用基材の製造方法
JPH07160008A (ja) * 1993-12-06 1995-06-23 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト形成用塗布物あるいはレジストの洗浄除去用溶剤及びそれを使用する電子部品製造用基材の製造方法
KR100234532B1 (ko) * 1996-09-21 1999-12-15 윤종용 반도체 제조공정의 포토레지스트 세정용 시너 조성물 및 그를 이용한 반도체장치의 제조방법
EP0872870A3 (en) * 1997-04-14 1999-05-06 Hitachi Chemical Co., Ltd. Fluorescent pattern, process for preparing the same, organic alkali developing solution for forming the same, emulsion developing solution for forming the same and back plate for plasma display using the same
JP3978255B2 (ja) 1997-06-24 2007-09-19 Ａｚエレクトロニックマテリアルズ株式会社 リソグラフィー用洗浄剤
JPH11218933A (ja) * 1998-01-30 1999-08-10 Fuji Film Olin Kk レジスト洗浄除去用溶剤および電子部品製造用基材の製造方法
JP2000164671A (ja) * 1998-11-27 2000-06-16 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置
JP2000199971A (ja) * 1999-01-07 2000-07-18 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ホトレジスト用剥離液組成物およびこれを用いたホトレジスト剥離方法
KR100594815B1 (ko) * 1999-12-24 2006-07-03 삼성전자주식회사 포토레지스트 린스용 씬너 및 이를 이용한 포토레지스트막의 처리 방법
JP4564683B2 (ja) * 2001-05-21 2010-10-20 大日本印刷株式会社 樹脂膜除去装置およびその方法
JP2003167114A (ja) * 2001-11-30 2003-06-13 Toshiba Corp 平面表示装置の製造方法
US7172996B2 (en) * 2002-01-11 2007-02-06 Az Electronic Materials Usa Corp. Cleaning agent composition for a positive or a negative photoresist
JP3912663B2 (ja) * 2002-02-26 2007-05-09 富士フイルム株式会社 カラーフィルター用画素の形成方法、液晶表示装置用カラーフィルター、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起の形成方法、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起
JP4118586B2 (ja) * 2002-04-04 2008-07-16 花王株式会社 化合物半導体用レジスト剥離剤組成物
JP2004126509A (ja) * 2002-04-18 2004-04-22 Shipley Co Llc 溶媒及び１９３ｎｍイメージング用フォトレジスト組成物
TWI276929B (en) * 2003-12-16 2007-03-21 Showa Denko Kk Photosensitive composition remover
JP4005092B2 (ja) * 2004-08-20 2007-11-07 東京応化工業株式会社 洗浄除去用溶剤

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101132618B1 (ko) * 2009-08-25 2012-04-06 주식회사 이엔에프테크놀로지 포토레지스트 사용량을 절감할 수 있는 신너 조성물
KR20210016348A (ko) * 2018-06-01 2021-02-15 도레이 카부시키가이샤 착색 수지 조성물과 그의 제조 방법, 근적외선 투과 차광막 및 장식 기판

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Publication number Publication date
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