WO2006085678A1 - 感光性組成物除去液 - Google Patents

感光性組成物除去液 Download PDF

Info

Publication number
WO2006085678A1
WO2006085678A1 PCT/JP2006/302673 JP2006302673W WO2006085678A1 WO 2006085678 A1 WO2006085678 A1 WO 2006085678A1 JP 2006302673 W JP2006302673 W JP 2006302673W WO 2006085678 A1 WO2006085678 A1 WO 2006085678A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
photosensitive composition
mass
pigment
acetate
removing liquid
Prior art date
Application number
PCT/JP2006/302673
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Masato Kaneda
Yasuhiro Mikawa
Kouichi Terao
Original Assignee
Showa Denko K.K.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko K.K. filed Critical Showa Denko K.K.
Priority to CN2006800043693A priority Critical patent/CN101116037B/zh
Priority to US11/794,547 priority patent/US20080167210A1/en
Priority to EP06713814A priority patent/EP1847878B1/en
Publication of WO2006085678A1 publication Critical patent/WO2006085678A1/ja

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D9/00Chemical paint or ink removers
    • C09D9/005Chemical paint or ink removers containing organic solvents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42Stripping or agents therefor
    • G03F7/422Stripping or agents therefor using liquids only
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive composition remover.
  • the present invention removes the uncured photosensitive composition film on the peripheral part, the edge part or the back part of the substrate in the step of forming the photosensitive composition film on a glass substrate or a semiconductor wafer.
  • it relates to a removal liquid for removing the uncured photosensitive composition adhering to the surface of the device member.
  • the photosensitive composition removing liquid of the present invention is a process for forming a photosensitive composition film on a substrate in the manufacture of color fills used in liquid crystals, organic ELs, and image sensors, in particular.
  • Useful for removal of photosensitive composition film containing uncured pigment remaining on the surface or back surface, or removal of photosensitive composition containing uncured pigment adhered to the surface of equipment members and instruments. is there. Background art
  • pigment dispersion method As a pattern formation method for RGB or resin black matrix in the production of color fills used in liquid crystal, organic EL, image sensors, etc., pigment dispersion method, dyeing method, printing method, electrodeposition method, etc. are used.
  • the pigment dispersion method is a method of patterning each color by photolithography using a photosensitive composition containing a pigment, and is preferable for producing a color filter because a stable colored film can be obtained. It is a suitable method.
  • a step of coating a photosensitive composition containing a pigment on the substrate is included.
  • the coating method includes spin coating and slipping. Methods such as coat coating, wire bar coating, roll coating, dip coating, spray coating or a combination thereof are known.
  • the photosensitive composition When spin coating is performed, the photosensitive composition is usually used to remove the photosensitive composition adhering to the peripheral portion of the substrate after the photosensitive composition coating, the rising portion of the photosensitive composition film on the edge portion, and the back surface. A rinsing process with a material removal solution, so-called edge rinsing, knock rinsing is performed. Further, in spin coating, a photosensitive composition removing process using a photosensitive composition removing liquid is also performed in a process of removing the photosensitive composition scattered in the cup, that is, a so-called coupling.
  • the photosensitive composition coating process in color filter production includes coating of the photosensitive composition by a slit coat method, coating using a wire bar, and coating by a roll coater.
  • a slit coat method coating using a wire bar
  • a roll coater coating by a roll coater
  • a photosensitive composition containing a pigment used for producing a color filter that is,
  • the color resist used for RGB formation and the black resist used for resin black matrix formation have pigment components in the substrate and equipment. It tends to remain on the surface, and even a slight amount of these may cause foreign matter, resulting in an increase in the defective rate of color filter manufacturing, or a change in color purity or a decrease in contrast of the color filter.
  • glycol ether, its ester, or a mixture thereof is often used as a photosensitive composition remover (for example, Japanese Examined Patent Publication No.
  • the object of the present invention is to remove a photosensitive composition having excellent photosensitive composition removal performance. It is to provide a effluent.
  • the photosensitive composition film containing the pigment remaining on the peripheral portion, edge portion or back surface portion of the substrate Or a removal liquid effective for removing photosensitive compositions containing pigment adhering to the surface of an apparatus member or instrument.
  • alkylene glycol monoalkyl ethers are component 1
  • aromatic hydrocarbons are component 2
  • alkylene diol monoalkyl ether carboxylic acid esters alkoxy force rubonic acid esters, alicyclic ketones.
  • At least one solvent selected from the group consisting of alcohols and acetates is sometimes referred to as Component 3.
  • the inventors of the present invention have made extensive studies to solve the above problems. As a result, it has been found that the use of a removing liquid having a specific composition improves the cleaning and removing properties of the pigment-containing photosensitive composition, and the present invention has been completed.
  • this invention consists of the following matters, for example.
  • a photosensitive composition removing liquid comprising:
  • a photosensitive composition removing liquid comprising:
  • a photosensitive composition removing liquid comprising:
  • a photosensitive composition removing liquid comprising:
  • Alkylene glycol monoalkyl ethers include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, 3 — methoxybutanol and 3 —
  • the photosensitive composition removing liquid as described in any one of [1] to [5] above, wherein the liquid composition is at least one selected from the group consisting of methyl-3-methoxybutanol.
  • Alkylene glycol monoalkyl ether carboxylic acid esters include propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, 3 — methoxybutyl acetate and 3 —methyl 3 —
  • the alkoxycarboxylic acid ester is at least one selected from the group consisting of methyl 3-methoxypropionate and ethyl 3-ethoxypropionate [2], [3], The photosensitive composition remover according to [5] or [6].
  • the acetic acid ester is at least one selected from the group consisting of ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, n-amyl acetate, isoamyl acetate and sec-amyl acetate.
  • the photosensitive composition removing liquid according to any one of claims 2 and 4-6.
  • the photosensitive composition removing liquid of the present invention remains on the periphery, the edge, or the back of the substrate in the step of forming a photosensitive composition film on the substrate in the production of liquid crystals, organic EL, image sensors, and the like. It can be effectively used to remove the photosensitive composition film containing the pigment to be removed, or to remove the photosensitive composition containing the pigment adhered to the surface of the device member
  • the photosensitive composition removing liquid of the present invention is used for removing a photosensitive composition containing a pigment, and contains an alkylene glycol monoalkyl ether (component 1) and an aromatic hydrocarbon (component 2). To do.
  • the alkylene glycol monoalkyl ethers (component 1) used in the present invention are suitably used as the main component of the photosensitive composition removing liquid because the solubility of the resin component contained in the photosensitive composition is high.
  • the Specific examples include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n-propyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, Tilleng U Cole Mono n —Butelle ether, Jetylene glycol monomethyl ether, Diethylene glycol monoethyl ether, Jetylene glycol monopropyl ether, Diethylene glycol mono n-butyl ether, Propylene glycol monomethyl ether, P ⁇ Pyreneglycol monoethyl ether, Propylene glycol monopropyl ether, Propylene glycol mono_n —Butyl ether, Dipropylene glycol monomethyl ether, ⁇ Propylene glycol monomethyl ether, 3—Methoxyb alcohol , 3-methyl-3-methoxyb alcohol, and the like, but the present invention is not limited thereto.
  • ethylene glycol monomethyl ether ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether
  • Dipropylene glycol monomethyl ether, 3 — methoxybutanol, 3 — methyl-3-methyloxybutanol is preferred, and propylene glycol monomethyl ether, 3 — methoxybutanol, 3 — Methyl-3-methylbutanol is particularly preferred because of the high solubility of the photosensitive composition, the availability, and safety.
  • Component 2 of the present invention is preferably an aromatic hydrocarbon substituted with an alkyl group, and examples thereof include alkylbenzenes and alkylnaphthalenes.
  • the alkyl group may be linear or branched, or two or more groups may be linked to form a cyclic structure.
  • the aromatic hydrocarbon preferably has 9 or more carbon atoms, preferably 12 or less. More preferable.
  • component 2 examples include 1, 2, 3—trimethylbenzene, 1,2,4—trimethylbenzene, 1,3,5—trimethylbenzene, 1—ethyl-2-benzene, 1 1-ethyl-3-ethylbenzene, 1-ethylbenzene 4-methylbenzene, n-propylbenzene, cumene, n-butylbenzene, sec-butylbenzene, iso-butylbenzene, 1, 2, 3, 4, 4-tetramethylbenze 1, 2, 3, 5—tetramethylbenzene, 1,2,4,5—tetramethylbenzene, 1,2-dimethyl-3-ethylbenzene, 1,2-dimethyl-4 monoethylbenzene, 1, 3 —Dimethyl-2-ethylbenzene, 1,3 —Dimethyl-4 monoethylbenzene, 1, 3 — Dimethyl-5 —ethylbenzene, 1,4 monodimethyl-2 _ethylbenzene,
  • aromatic hydrocarbons may be contained alone in the photosensitive composition removing solution, or may be contained in a combination of two or more. Among these, the boiling point is 1550 to 2500.
  • Alkylbenzenes are preferred because they have high removal performance of the photosensitive composition, in particular, high removal performance of the photosensitive composition containing the pigment, and further have a drying property suitable for removal of the photosensitive composition.
  • alkylbenzenes are alkylbenzenes having 9 or 10 carbon atoms, such as 1, 2, 3—trimethylbenzene, 1, 2, 4_trimethylbenzene, 1, 3, 5 _ trimethylbenzene, 1 _ethyl _ 2 _ methylbenzene, 1 — ethyl— 3 — methylbenzene, 1 — ethyl _ 4— methylbenzene, n-propylbenzene, cumene, n-butylbenzene, sec — Butylbenzene, iso-butylbenzene, 1, 2, 3, 4—tetramethylbenzene, 1, 2, 3, 3, 5-tetramethylbenzene, 1, 2, 4, 5-tetramethylbenzene, 1, 2-Dimethyl-3-ethyl benzene, 1,2-Dimethyl-4-ethyl benzene, 1,3-Dimethyl-2-ethyl benzene, 1,3-dimethyl-4-
  • the aromatic hydrocarbon may be prepared by any method, Solvent naphtha with a high aromatic component ratio, for example, use of an alkylbenzene-based mixed solvent centered on 9 carbon atoms is effective, and the trade name Cielsol A (trademark: manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.
  • Preferred ratios of Component 1 and Component 2 contained in the photosensitive composition removing solution of the present invention are Component 1 force 95 to 70% by mass, and Component 2 is 5 to 30% by mass.
  • component 1 and component 2 of the photosensitive composition of the present invention are in the above range, the solubility of the resin component contained in the photosensitive composition and the pigment content Scatter removability is good.
  • the photosensitive composition removing liquid of the present invention includes alkylene glycol monoalkyl ether carboxylic acid esters, alkoxy carboxylic acids. At least one solvent (component 3) selected from esters, alicyclic ketones, and acetic acid esters can be contained.
  • Component 3 that can be contained in the photosensitive composition removing liquid of the present invention is the solubility of the photosensitive composition by adjusting the photosensitive composition removing liquid to a polarity more suitable for the removal of the photosensitive composition. It is effective in that the removal rate of the photosensitive composition can be increased by reducing the viscosity without reducing the solubility of the photosensitive composition removing solution.
  • Component 3 that can be used in the present invention include alkylene glycol monoalkyl ether carboxylic acid esters such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, and ethylene glycol monoester.
  • alkylene glycol monoalkyl ether carboxylic acid esters such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, and ethylene glycol monoester.
  • acetate esters ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, ⁇ -butyl acetate, sec-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl acetate, hexyl acetate, cyclohexyl acetate
  • propylene glycol monomethyl ether acetate dipropylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methylbutyl acetate, 3-methyl-3-methylpropyl ether
  • alkylene glycol monoalkyl ether carboxylic acid ester, alkoxycarboxylic acid ester, alicyclic ketone, and acetic acid ester contained in the photosensitive composition removing solution of the present invention may be used alone or in combination. A combination of the above may also be used.
  • the photosensitive composition removing liquid of the present invention contains component 1, component 2 and component 3, the preferred ratio of component 1, component 2 and component 3 is that component 1 is
  • component 2 force S 5 to 30% by mass
  • component 3 is 10 to 75% 3%.
  • Component 3 is alkylene glycol monoalkyl ether carboxylic acid esters, alkoxy carboxylic acid esters, and alicyclic ketones.
  • the more preferable ratio of Component 1, Component 2 and Component 3 is as follows: Component 1 force 85 to 20% by mass, Component 2 5 to 30% by mass, Component 3 10 to 7 to 5% by mass
  • the more preferred ratio of Component 1, Component 2 and Component 3 is as follows: Component 1 is 85 to 40% by mass, Component 2 is 5 to 30% by mass, and Component 3 is 10 to 45% by mass.
  • the colored photosensitive composition to which the removing liquid of the present invention can be applied is a colored photosensitive composition containing a pigment, which is usually used in a color filter forming process for liquid crystals, organic EL, image sensors and the like.
  • These colored photosensitive compositions are photosensitive compositions colored by containing a pigment, and generally contain a film-forming substance that can be developed with alkali, a photosensitive substance, and a pigment. .
  • the film-forming substance contained in the colored photosensitive composition examples include acrylic resins, novolac resins, polyimide resins, and polyvinyl phenol resins.
  • the present invention is particularly acrylic. Removal of a colored photosensitive composition containing a resin as a film-forming substance can be suitably used.
  • the acrylic resin used as a film-forming substance is a polymer or copolymer having a molecular weight of about 1, 000 to 500, 000 that is soluble in alkali, and contains a carboxyl group-containing ethylene. Copolymers of the polymerizable unsaturated monomer and other ethylenically unsaturated monomers are preferably used.
  • the photosensitive material contained in the colored photosensitive composition includes hexaryl biimidazole when acrylic resin is used as a film-forming material.
  • any pigment that is usually used in the production of power filter can be used without any problem.
  • Organics such as black, yellow, red, blue, and green can be used.
  • Specific examples of pigments that can be used alone or as a mixture of inorganic pigments include: Kiichi Bon Black, Acetylene Black, Lamp Black, Kiichi Bonn Nanotube, Graphite, Iron Black, Iron Oxide Black Pigment, Anilin Black, Sheanin Black, Titanium Black, C.I. Big Men ⁇ Yellow 1 20, 24, 8 3, 8 6, 9 3, 1 0 9, 1 1 0, 1 1 1
  • the colored photosensitive composition may further contain an ethylenically unsaturated monomer in addition to the film-forming substance, the light-sensitive substance and the pigment.
  • An ethylenically unsaturated monomer is a compound that polymerizes with radicals generated from a photopolymerization initiator upon irradiation with actinic rays.
  • the colored photosensitive composition to which the photosensitive composition removing liquid of the present invention is applied includes an organic solvent, a pigment dispersant, an adhesion improver, and revealin.
  • An adhesive, a development improver, an antioxidant, a thermal polymerization inhibitor and the like may be appropriately blended.
  • the photosensitive composition decontamination solution of the present invention can be applied to the removal of a colored photosensitive composition that has been applied to or adhered to an object to be cleaned, and in particular, the removal of a colored photosensitive composition prior to photosensitivity. Can be suitably used.
  • the colored photosensitive composition may be in a state where a solvent is contained, or may be in a state after the solvent is volatilized.
  • a method for removing the colored photosensitive composition a method of removing the cleaning liquid by spraying the cleaning liquid from a nozzle or the like in a rod shape, droplet shape or mist shape on the object to be cleaned, which has been coated or adhered, Examples thereof include a method of immersing an object to be cleaned, to which a colored photosensitive composition is attached, in the removal solution of the invention.
  • the photosensitive composition removing liquid of the present invention adheres to the peripheral portion, the edge portion, or the back surface portion of the substrate in the color photosensitive composition coating process for producing color filters used in liquid crystals, organic EL, image sensors and the like. It can be suitably used for removing unnecessary uncured colored photosensitive composition that has been deposited, or removing unnecessary uncured colored photosensitive composition that has adhered to part or all of the coating apparatus.
  • the photosensitive composition removing liquid of the present invention removes the uncured colored photosensitive composition from the periphery, the edge, or the back of the substrate when the colored photosensitive composition is applied onto the substrate by spin coating. It can also be suitably used as a so-called edge rinse or back rinse, or a so-called coupling that removes the colored photosensitive composition scattered in the cup during spin coating.
  • a slit coating method, a wire bar coating method, or a roll is used as a method of applying a colored photosensitive composition on a substrate.
  • the coating method is known, when removing uncured colored photosensitive composition adhering to the surface of the applicator, such as slit nozzles, wire bars, and printing plates, The photosensitive composition removing liquid of the present invention is preferably used.
  • Another embodiment of the present invention provides a substrate from which the uncured photosensitive composition has been removed by the above method using the photosensitive composition removing liquid, or a liquid, an organic EL, an image sensor, or the like. And the color fill obtained with this device.
  • the detergency was evaluated in the following three stages by visual observation of the dissolution state of the photosensitive coloring composition after immersion in the removal solution for 3 minutes.
  • the acrylic copolymer thus obtained had a solid content concentration of 22.1% by mass, an acid value of 9 2 mg KO HZ g, and a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 2 2, 0 measured by GPC. 0 0.
  • Photosensitive Coloring Composition A Preparation of Black Photosensitive Coloring Composition
  • Acrylic copolymer obtained in Preparation Example 1 30.0 parts by mass (solid content 6.6 parts by mass), EGA 5 0 parts by mass, Florene DOPA-3 3 (Trademark: Dispersant solid concentration 30% by mass) Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 3. 3 parts by mass, Special B lack 4 (Dedasa Carbon Black) 6.6 parts by mass
  • a black colored composition having a solid content concentration of 18.0% by mass was obtained.
  • the black colored composition thus obtained was further added to 100 parts by mass of dipentaaldehyde hexitol hexylate 4.4 parts by mass, 2 — (4-methoxyphenyl) 1, 4, 6 _bis (Trichloromethyl) 1 s— ⁇ riazine 2.2 parts by mass and 5 parts by mass of EGA 2 were added and stirred sufficiently to obtain a photosensitive coloring composition A.
  • Photosensitive Coloring Composition B Preparation of Green Photosensitive Coloring Composition
  • Acrylic copolymer obtained in Preparation Example 1 30.0 parts by mass (solid content 6.6 parts by mass), EGA 5 0 parts by mass, Florene DOPA-3 3 (Trademark: Dispersant solid concentration 30% by mass, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 3. 3 parts by mass, 6.6 parts by mass of Pigment Green 3 6 After that, I left it for 1cm. Further, after stirring for 1 hour, it was passed through a three-roll mill (Model R III-1 RM-2 manufactured by Kodaira Seisakusho Co., Ltd.) four times. To adjust the concentration by adding EGA to the obtained green ink As a result, a green coloring composition having a solid content concentration of 18.0% by mass was obtained.
  • the green colored composition thus obtained was further added to 100 parts by mass of dipentose erythritol hexacrylate.
  • 4.4 parts by mass of 4,4′-bis (N, N-jetylamino) benzopheno 0.7 parts by mass, 2, 2 '— Bis (o _ black phenyl) 1, 4, 4', 5, 5 '— tetraphenyl _ 1, 2' — biimidazole 2.3 parts by mass, tri Methylolpropane trispropionate 3.8 parts by mass and 2 parts by mass of EGA 4 were added and stirred sufficiently to obtain a photosensitive coloring composition B.
  • Photosensitive Coloring Composition C Preparation of Red Photosensitive Coloring Composition
  • Acrylic copolymer obtained in Preparation Example 1 30.0 parts by mass (solid content 6.6 parts by mass), EGA 5 0 parts by weight, Floren DOPA-3 3 (Trademark: Dispersant solid content concentration 30% by mass, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 3. 3 parts by weight, 6.6 parts by weight of Pigment ed 1 7 7 , Left 1mm. Further, after stirring for 1 hour, the mixture was passed through a three-roll mill (Model R III — 1 RM-2 manufactured by Kodaira Manufacturing Co., Ltd.) four times.
  • a red coloring composition having a solid content concentration of 18.0% by mass was obtained.
  • a red coloring composition having a solid content concentration of 18.0% by mass was obtained.
  • 4.4 parts by weight of dipentyl erthritol hexylate, Ilgacure 3 69 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 3.0 parts by weight, Methylolpropane trisitol pionate 3.8 parts by mass and EGA 4 2 parts by mass were added and sufficiently stirred to obtain photosensitive coloring composition C.
  • the present invention provides a photosensitive composition film containing a pigment remaining on the periphery, edge or back surface of the substrate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

アルキレングリコールモノアルキルエーテル類及び芳香族炭化水素類、及び所望により、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボン酸エステル類、アルコキシカルボン酸エステル類、脂環式ケトン類及び酢酸エステル類から選ばれる少なくとも1種の溶剤を含有する、顔料を含有する感光性組成物の除去のための感光性組成物除去液。感光性組成物除去性能に優れた感光性組成物除去液が提供される。

Description

感光性組成物除去液 技術分野
本発明は、 感光性組成物除去液に関する。 本発明は、 特に、 ガラ ス基板や半導体ゥェ一八などに感光性組成物皮膜を形成する工程に おける基板の周辺部、 縁辺部明または裏面部の未硬化の感光性組成物 皮膜の除去、 または装置部材ゃ器田具の表面に付着した未硬化の感光 性組成物を除去するための除去液に関書する。
本発明の感光性組成物除去液は、 特に、 液晶や有機 E L、 ィメー ジセンサに用いられるカラ一フィル夕一製造における基板上に感光 性組成物皮膜を形成する工程で、 基板の周辺部、 縁辺部または裏面 部に残存する未硬化の顔料を含有する感光性組成物皮膜の除去、 ま たは装置部材ゃ器具の表面に付着した未硬化の顔料を含有する感光 性組成物の除去に有用である。 背景技術
液晶、 有機 E L、 プラズマディスプレイ等のフラッ トパネルディ スプレイまたは半導体の製造工程では、 通常、 リ ソグラフィ一技術 を用いた感光性組成物のパターン形成が行われる。
液晶や有機 E L、 イメージセンサ等に用いられるカラーフィル夕 一製造における R G Bもしくは樹脂ブラックマ ト リ ックスのパター ン形成方法としては、 顔料分散法、 染色法、 印刷法、 電着法などが 用いられる。 顔料分散法は、 顔料を含有する感光性組成物を用いた フォ ト リ ソグラフィ 一により各色のパターニングを行う方法であり 、 安定な着色皮膜が得られることからカラーフィルター製造には好 適な方法である。 この方法により基板上に感光性組成物皮膜を形成 する場合には、 顔料を含有する感光性組成物を基板上に塗布するェ 程が含まれ、 その塗布方法と してはスピンコー ト、 スリ ッ トコー ト 、 ワイヤーバーコー ト、 ロールコー ト、 ディ ップコー ト、 スプレー コー ト或いはこれらの組み合わせなどの方法が知られている。
スピンコー トを行う場合、 感光性組成物コー ト後の基板の周辺部 、 縁辺部の感光性組成物膜の盛り上がり部分や裏面に付着した感光 性組成物を除去するために、 通常、 感光性組成物除去液による リ ン ス処理、 いわゆるエッジリ ンス、 ノ ック リ ンスが行われる。 更に、 スピンコーティ ングでは、 カップに飛散した感光性組成物を除去す る工程、 いわゆるカップリ ンスにおいても、 感光性組成物除去液に よる感光性組成物除去処理が行われる。
また、 カラーフィルター製造における感光性組成物塗布工程とし ては、 前述のスピンコー ト以外にもスリ ッ トコー ト法による感光性 組成物塗布やワイヤーバーを用いた塗布、 ロールコーターによる塗 布が行われるが、 これらの方法においても感光性組成物塗布後にそ れぞれスリ ッ トノズルやワイヤーバー等、 塗布装置の一部または全 部に付着した不要な感光性組成物の除去が実施される。
更に、 その他にも、 感光性組成物を移送するための装置配管など 、 塗布装置の部材に付着した感光性組成物の除去が実施される場合 がある。 通常、 このような感光性組成物の除去には除去液を用いた 洗浄処理が行われる。
このような基板及び装置に付着した感光性組成物のいずれの除去 工程においても、 感光性組成物成分の残留が問題となる。 カラーフ ィルター製造に用いられる顔料を含有する感光性組成物、 すなわち
R G B形成に用いられるカラ一レジス トや、 樹脂ブラックマ ト リ ツ クス形成に用いられるブラック レジス トは、 顔料成分が基板や装置 表面へ残留しやすく、 これらが僅かであっても異物の原因となって カラ一フィ ルター製造の不良率増加、 あ いはカラーフィルターの 色純度変化やコン トラス ト低下をきたす可能性がある。 近年のカラ 一ディ スプレイ に用いられるカラーフィル夕一には基板の大画面化 、 高精細化、 及び低コス ト化の要求が高くなつているが、 このよう な状況にあってカラーフィルターの性能、 歩留まり に影響を及ぼす 感光性組成物成分残留の回避はますます重要となってきている。 従来、 感光性組成物除去剤としては、 グリコールエーテルやその エステル、 あるいはその混合物が一般的に用いられることが多い ( 例えば、 特公平 4 — 4 9 9 3 8号公報及び特開平 7 — 1 4 6 5 6 2 号公報参照) 力 これらを上記カラーレジス トの洗浄除去に応用 し た場合は、 レジス ト除去性が十分でなく、 大量の除去液の使用が必 要となったり、 除去残が発生するという問題があつた。
また、 顔料を含有する着色組成物の除去に、 感光性組成物に使用 されている溶剤成分または界面活性剤や分散剤などの感光性組成物 に含有される成分を用いる方法もある (例えば、 特開 2 0 0 0 — 2 7 3 3 7 0号公報 3参照) 力 感光性組成物に含有される溶剤成分 のみを洗浄剤として用いた場合は、 顔料が沈降しやすく、 十分な洗 浄性が得られない。 また、 界面活性剤や分散剤等の、 感光性組成物 成分に含有される成分を洗浄液組成物中に含有させた場合は、 その 成分が蒸発残分として基板や装置部材上に残留しやすく、 更なる洗 浄工程が必要となったり、 蒸発残分の残留を好まない基板の端面や 裏面の感光性組成物除去には実質上用いることができないという問 題がある。 発明の開示
本発明の目的は、 感光性組成物除去性能に優れた感光性組成物除 去液を提供することにある。 - 特に、 液晶や有機 E L、 イメージセンサ等の製造における基板上 に感光性組成物皮膜を形成する工程において、 基板の周辺部、 縁辺 部または裏面部に残存する顔料を含有する感光性組成物皮膜の除去 、 または装置部材ゃ器具の表面に付着した顔料を含有する感光性組 成物の除去に有効な除去液を提供する。
なお、 この明細書においては、 アルキレングリ コールモノアルキ ルエーテル類を成分 1 、 芳香族炭化水素を成分 2、 アルキレンダリ コールモノアルキルエーテルカルボン酸エステル類、 アルコキシ力 ルボン酸エステル類、 脂環式ケ トン類及び酢酸エステル類から選ば れる少なく とも 1種の溶剤を成分 3 という ことがある。
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた。 その 結果、 特定の組成からなる除去液を用いることにより顔料含有感光 性組成物の洗浄除去性が向上することを見出し、 本発明を完成する に至った。
すなわち、 本発明は、 例えば、 下記の事項からなる。
[ 1 ] 顔料を含有する感光性組成物の除去液であって、
( 1 ) アルキレングリ コールモノアルキルエーテル類を 9 5〜 7 0 質量%及び
( 2 ) 芳香族炭化水素類を 5〜 3 0質量%
含有することを特徴とする感光性組成物除去液。
[ 2 ] 顔料を含有する感光性組成物の除去液であって、
( 1 ) アルキレングリ コールモノアルキルエーテル類を 8 5〜 2 0 質量%、
( 2 ) 炭素数 9以上の芳香族炭化水素類を 5〜 3 0質量%及び
( 3 ) アルキレングリ コールモノアルキルエーテルカルボン酸エス テル類、 アルコキシカルボン酸エステル類、 脂環式ケ トン類及び酢 酸エステル類から選ばれる少なく とも 1種の溶剤を 1 0〜 7 5質量
%
含有することを特徴とする感光性組成物除去液。
[ 3 ] 顔料を含有する感光性組成物の除去液であって、
( 1 ) アルキレングリ コールモノアルキルエーテル類を 8 5〜 2 0 質量%、
( 2 ) 炭素数 9以上の芳香族炭化水素類を 5〜 3 0質量%及び
( 3 ) アルキレンダリ コールモノアルキルエーテルカルボン酸エス テル類、 アル.コキシカルボン酸エステル類及び脂環式ケ トン類から 選ばれる少なく とも 1種の溶剤を 1 0〜 7 5質量%
含有することを特徴とする感光性組成物除去液。
[ 4 ] 顔料を含有する感光性組成物の除去液であって、
( 1 ) アルキレングリ コールモノアルキルエーテル類を 8 5〜4 0 質量%、
( 2 ) 炭素数 9以上の芳香族炭化水素類を 5〜 3 0質量%及び
( 3 ) 酢酸エステル類から選ばれる少なく とも 1種の溶剤を 1 0〜 4 5質量%
含有することを特徴とする感光性組成物除去液。
[ 5 ] 芳香族炭化水素類が沸点 1 5 0〜 2 5 0でのアルキルべンゼ ン類であることを特徴とする上記 [ 1 ] 〜 [ 4 ] のいずれかに記載 の感光性組成物除去液。
[ 6 ] アルキレングリ コールモノアルキルエーテル類が、 エチレン グリ コールモノメチルエーテル、 エチレングリ コールモノェチルェ 一テル、 ジエチレングリ コールモノメチルエーテル、 ジエチレング リ コールモノェチルエーテル、 プロピレングリ コールモノメチルェ 一テル、 プロピレングリ コールモノェチルエーテル、 ジプロピレン グリ コールモノ メチルエーテル、 3 —メ トキシブ夕ノール及び 3 — メチルー 3 —メ トキシブ夕ノールからなる群から選ばれる少なく と も 1種であることを特徴とする上記 [ 1 ] 〜 [ 5 ] のいずれかに記 載の感光性組成物除去液。
[ 7 ] アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボン酸エス テル類が、 プロピレングリ コールモノメチルエーテルアセテー ト、 ジプロピレングリ コールモノ メチルエーテルアセテー ト、 3 —メ ト キシブチルァセテー ト及び 3 —メチルー 3 —メ トキシブチルァセテ ー トからなる群から選ばれる少なく とも 1種であることを特徴とす る上記 [ 2 ] 、 [ 3 ] 、 [ 5 ] または [ 6 ] に記載の感光性組成物 除去液。
[ 8 ] アルコキシカルボン酸エステル類が、 3 —メ トキシプロピオ ン酸メチル及び 3 —エ トキシプロピオン酸ェチルからなる群から選 ばれる少なく とも 1種であることを特徴とする [ 2 ] 、 [ 3 ] 、 [ 5 ] または [ 6 ] に記載の感光性組成物除去液。
[ 9 ] 脂環式ケ トン類が、 シクロへキサノ ン、 シクロペンタノ ン及 びメチルシクロへキサノ ンからなる群から選ばれる少なく とも 1種 であることを特徴とする上記 [ 2 ] 、 [ 3 ] 、 [ 5 ] または [ 6 ] に記載の感光性組成物除去液。
[ 1 0 ] 酢酸エステル類が、 酢酸ェチル、 酢酸 n—プロピル、 酢酸 イソプロピル、 酢酸 n—ブチル、 酢酸 n—アミル、 酢酸イソアミル 及び酢酸 s e c —ァミルからなる群から選ばれる少なく とも 1種で あることを特徴とする請求項 2または 4〜 6のいずれかに記載の感 光性組成物除去液。
[ 1 1 ] 顔料を含有するアク リル系感光性組成物の除去に用いられ る上記 [ 1 ] 〜 [ 1 0 ] のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
[ 1 2 ] 感光前の顔料を含有する感光性組成物の除去に用いられる 上記 [ 1 ] 〜 [ 1 1 ] のいずれかに記載の感光性組成物除去液。 [ 1 3 ] 上記 [ 1 ] 〜 [ 1 2 ] のいずれかに記載の感光性組成物除 去液を用いて顔料を含有する感光性組成物を除去した装置。
[ 1 4 ] 上記 [ 1 3 ] に記載の装置により得られるカラーフィル夕
[ 1 5 ] 上記 [ 1 4 ] に記載のカラーフィルターを備えた装置。
[ 1 6 ] 上記 [ 1 ] 〜 [ 1 2 ] のいずれかに記載の感光性組成物除 去液を用いて有色顔料を含有する感光性組成物が除去処理された基 板。
本発明の感光性組成物除去液は、 液晶や有機 E L、 イメージセン サ等の製造における基板上に感光性組成物皮膜を形成する工程にお いて、 基板周辺部、 縁辺部または裏面部に残存する顔料を含有する 感光性組成物皮膜の除去、 または装置部材ゃ器具の表面に付着した 顔料を含有する感光性組成物の除去に効果的に用いることができる
発明を実施するための最良の形態
以下に、 本発明の感光性組成物除去液の好ましい態様について説 明する。
本発明の感光性組成物除去液は、 顔料を含有する感光性組成物の 除去に用いられるものであり、 アルキレングリ コールモノアルキル エーテル類 (成分 1 ) 及び芳香族炭化水素 (成分 2 ) を含有する。 本発明に用いられるアルキレングリコールモノアルキルエーテル 類 (成分 1 ) は、 感光性組成物に含有される樹脂成分の溶解性が高 いことから、 感光性組成物除去液の主成分として好適に使用される 。 具体例としては、 エチレングリ コールモノメチルエーテル、 ェチ レンダリコールモノェチルエーテル、 エチレングリ コールモノ n — プロピルエーテル、 エチレングリコールイ ソプロピルェ一テル、 ェ チレング U コールモノ n —ブテルエ 丁ル、 ジェチレングリコ一ル モノメチルエーテル、 ジエチレング ールモノェチルエーテル、 ジェチレングリ コールモノプロピルェ ―テル、 ジエチレングリ コー ルモノ n ―ブチルエーテル、 プロピレングリ コールモノメチルエー テル、 プ □ピレングリ コールモノエチルエーテル 、 プロピレンダリ コールモノプロピルエーテル、 プロピレングリコールモノ _ n —ブ チルェ一テル、 ジプロピレングリ コ一ルモノメチルエーテル、 卜 リ プロピレングリ コールモノメチルェ一テル、 3 —メ トキシブ夕ノー ル、 3 ―メチルー 3 —メ トキシブ夕ノ一ルなどを挙げることができ るが、 本発明はこれらに限定されるものではない
これらの中でも、 エチレングリ コ一ルモノメチルエーテル、 ェチ レング U ールモノェチルエーテル 、 ンェチレングリ コールモノ メ チルェ ―テル、 ジエチレングリコ一ルモノエチルエーテル、 プロピ レング U ールモノメチルエーテル 、 プロピレングリ コールモノエ チルェ一テル、 ジプロピレングリ コ一ルモノメチルエーテル、 3 — メ トキシブ夕ノール、 3 —メチルー 3 ―メ 卜キシブ夕ノールが好ま しく、 と Όわけプロピレングリ コールモノメチルエーテル、 3 —メ 卜キシブ夕ノール、 3 —メチル一 3 ―メ 卜キシブ夕ノールが感光性 組成物の溶解性の高さ、 入手の容易さ 、 安全性から特に好ましい。
本発明の感光性組成物除去液に含有される芳香族炭化水素 (成分
2 ) は 顔料を含有する感光性組成物の除去において顔料の分散を 維持し、 除去液の顔料除去性能を向上させる点で有効である。 本発 明の成分 2 は、 好ましく は、 アルキル基で置換された芳香族炭化水 素であり、 アルキルベンゼン類、 アルキルナフ夕レン類等を挙げる ことができる。 アルキル基は、 直鎖状であっても分岐状であっても よいし、 2つ以上の基が連結して環状構造をなしていてもよい。 芳 香族炭化水素の炭素数は 9以上であるのが好ましく、 1 2以下がよ り好ましい。 成分 2 の具体例としては、 1 , 2 , 3 — ト リ メチルベ ンゼン、 1 , 2 , 4 — ト リ メチルベンゼン、 1 , 3, 5 — ト リ メチ ルベンゼン、 1 —ェチルー 2 _メチルベンゼン、 1 一ェチル— 3 — メチルベンゼン、 1 —ェチルー 4 —メチルベンゼン、 n —プロピル ベンゼン、 クメン、 n —ブチルベンゼン、 s e c —ブチルベンゼン 、 i s o —ブチルベンゼン、 1 , 2 , 3 , 4 —テ トラメチルベンゼ ン、 1 , 2, 3, 5 —テ トラメチルベンゼン、 1 , 2, 4, 5 —テ トラメチルベンゼン、 1 , 2 —ジメチル— 3 —ェチルベンゼン、 1 , 2 —ジメチル— 4 一ェチルベンゼン、 1 , 3 —ジメチルー 2 —ェ チルベンゼン、 1 , 3 —ジメチルー 4 一ェチルベンゼン、 1 , 3 — ジメチルー 5 —ェチルベンゼン、 1 , 4 一ジメチルー 2 _ェチルベ ンゼン、 1 _メチル— 2 _プロピルベンゼン、 1 _メチル— 3 —プ 口ピルベンゼン、 1 —メチル— 4 —プロピルベンゼン、 1 —メチル - 2 —イソプロピルベンゼン、 1 —メチルー 3 —イソプロピルベン ゼン、 1 —メチル— 4 一イソプロピルベンゼン、 1 , 2 —ジェチル ベンゼン、 1 , 3 —ジェチルベンゼン、 1 , 4—ジェチルベンゼン 、 ペンチルベンゼン、 メチルブチルベンゼン、 ェチルプロピルベン ゼン、 ジメチルプロピルベンゼン、 メチルジェチルベンゼン、 ト リ メチルェチルベンゼン、 ペン夕メチルベンゼン、 へキシルベンゼン 、 メチルペンチルベンゼン、 ェチルブチルベンゼン、 ジメチルブチ ルベンゼン、 ジプロピルベンゼン、 メチルェチルプロピルベンゼン 、 ト リ メチルプロピルベンゼン、 ト リェチルベンゼン、 ジメチルジ ェチルベンゼン、 テトラメチルェチルベンゼン、 へキサメチルベン ゼン、 イ ンダン、 テ トラヒ ドロナフタレン等のアルキルベンゼン類 、 メチルナフ夕レン、 ジメチルナフタレンなどのアルキルナフタレ ン類を挙げることができるが、 本発明はこれらに限定されるもので はない。 これらの芳香族炭化水素は感光性組成物除去液中に単独で含有さ れていてもよいし、 2種以上の組み合わせで含有されていてもよい これらの中でも沸点 1 5 0〜 2 5 0でのアルキルベンゼン類が、 感光性組成物の除去性能、 特に顔料を含有する感光性組成物の除去 性能が高く、 更に感光性組成物除去に適した乾燥性を有する点から 好ましい。
これらの中でも特に好ましいアルキルベンゼン類は、 炭素数 9 ま たは 1 0のアルキルベンゼンであり、 具体例としては 1 , 2, 3 — ト リメチルベンゼン、 1 , 2 , 4 _ ト リ メチルベンゼン、 1 , 3 , 5 _ ト リ メチルベンゼン、 1 _ェチル _ 2 _メチルベンゼン、 1 — ェチル— 3 —メチルベンゼン、 1 —ェチル _ 4—メチルベンゼン、 n—プロピルベンゼン、 クメン、 n—ブチルベンゼン、 s e c —ブ チルベンゼン、 i s o—ブチルベンゼン、 1, 2, 3, 4—テ トラ メチルベンゼン、 1 , 2 , 3 , 5 —テ 卜ラメチルベンゼン、 1, 2 , 4, 5—テ トラメチルベンゼン、 1 , 2 —ジメチルー 3 —ェチル ベンゼン、 1 , 2 —ジメチル— 4 _ェチルベンゼン、 1 , 3 —ジメ チル— 2 —ェチルベンゼン、 1, 3—ジメチル— 4—ェチルベンゼ ン、 1 , 3 —ジメチル— 5 —ェチルベンゼン、 1 , 4—ジメチル— 2 —ェチルベンゼン、 1 —メチルー 2 —プロピルベンゼン、 1 —メ チル一 3 —プロピルベンゼン、 1 —メチル— 4 _プロピルベンゼン 、 1 —メチルー 2 —イソプロピルベンゼン、 1 _メチル _ 3 —イ ソ プロピルベンゼン、 1 一メチル _ 4—イソプロピルベンゼン、 1 , 2 —ジェチルベンゼン、 1, 3 —ジェチルベンゼン、 1 , 4ージェ チルベンゼンを挙げることができる。
本発明の除去液を実際に使用するにあたっては、 上記芳香族炭化 水素はどのような方法によって調製されたものであってもよいが、 芳香族成分比率の高いソルベン トナフサ、 例えば、 炭素数 9 を中心 としたアルキルベンゼン系混合溶剤の使用が有効であり、 商品名シ エルソル A (商標 : シェル化学社製、 初留点 1 6 0で、 乾点 1 8 2 °C ) 、 ソルべッソ 1 0 0 (商標 : ェクソン化学社製、 初留点 1 6 4 °C、 乾点 1 7 6で) 、 スヮゾール 1 0 0 0 (商標 : 丸善石油化学社 製、 初留点 1 6 1 °C、 乾点 1 7 9で) 、 ィブゾール 1 0 0 (商標 : 出光石油化学社製、 初留点 1 6 2で、 乾点 1 7 9 ) 、 ハイ ゾール 1 0 0 (商標 : 日本石油化学社製、 初留点 1 5 5 °C、 乾点 1 8 0 °C ) 、 ソルファイン一 T M (商標 : 昭和電工社製、 初留点 1 6 0 °C、 乾点 1 8 0で) 、 炭素数 1 0 を中心としたアルキルベンゼン系混合 溶剤である商品名シェルソル A B (商標 : シェル化学社製、 初留点 1 8 7 :、 乾点 2 1 3 °C ) 、 ソルべッソ 1 5 0 (商標 : ェクソン化 学社製、 初留点 1 8 8 :、 乾点 2 0 9で) 、 スヮゾール 1 5 0 0 ( 商標 : 丸善石油化学社製、 初留点 1 8 0 . 5で、 乾点 2 0 8 . 5 °C ) 、 ィプゾ一ル 1 5 0 (商標 : 出光石油化学社製、 初留点 1 8 6 °C 、 乾点 2 0 5で) 、 ハイゾール 1 5 0 (商標 : 日本石油化学社製、 初留点 1 8 2で、 乾点 2 1 6 °C ) 、 ソルファイ ン— W Z (商標 : 昭 和電工社製、 初留点 1 9 5 °C、 乾点 2 5 0で) 、 炭素数 1 0以上を 中心としたアルキルベンゼン一アルキルナフ夕レン系混合溶剤であ る商品名スヮゾール 1 8 0 0 (商標 : 丸善石油化学社製、 初留点 1 9 5 . 5 °C、 乾点 2 4 5で) 等の芳香族炭化水素の混合物が本発明 の感光性組成物除去液に好適に使用できる。
本発明の感光性組成物除去液に含有される成分 1及び成分 2 の好 ましい比率は、 成分 1力 9 5 〜 7 0質量%、 成分 2が 5 〜 3 0質量 %である。
本発明の感光性組成物の成分 1及び成分 2 の含有量が上記の範囲 であれば、 感光性組成物に含有される樹脂成分等溶解性と顔料の分 散除去性が良好である。
本発明の感光性組成物除去液には、 アルキレングリ コールモノア ルキルエーテル類 (成分 1 ) および芳香族炭化水素類 (成分 2 ) 以 外に、 アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボン酸エス テル類、 アルコキシカルボン酸エステル類、 脂環式ケ トン類及び酢 酸エステル類から選ばれる少なく とも 1種の溶剤 (成分 3 ) を含有 させることができる。
本発明の感光性組成物除去液に含有させることのできる成分 3 は. 、 感光性組成物除去液を感光性組成物の除去により適した極性に調 整することで感光性組成物の溶解性を向上させることができ、 ある いは感光性組成物除去液の溶解性を低下させることなく粘度を下げ ることで感光性組成物の除去速度を上げることができる点で有効で ある。
本発明に用いることのできる成分 3の具体例としては、 アルキレ ングリ コールモノアルキルエーテルカルボン酸エステル類ではェチ レンダリコールモノ メチルエーテルアセテー ト、 エチレングリコー ルモノエチルエーテルアセテー ト、 エチレングリ コールモノブチル エーテルアセテー ト、 ジエチレングリ コールモノメチルエーテルァ セテー ト、 ジエチレンダリ コールモノェチルエーテルァセテ一 卜、 ジエチレングリ コールモノブチルエーテルアセテー ト、 プロピレン グリコールモノメチルエーテルアセテー ト、 ジプロピレングリ コー ルモノメチルエーテルアセテー ト、 3 —メ 卜キシブチルアセテー ト 、 3 —メチルー 3 —メ トキシブチルアセテー ト等を、 アルコキシ力 ルボン酸エステル類では 2 —メ トキシ酢酸メチル、 2 —エトキシ酢 酸ェチル、 3 —エ トキシプロピオン酸ェチル、 3 —メ トキシプロピ オン酸メチル、 3 _メ トキシプロピオン酸ェチル、 3 —エトキシプ 口ピオン酸メチル、 2 —メ トキシプロピオン酸ェチル、 2 —ェ トキ シプロピオン酸プロピル、 2一ェ 卜キシプロピオン酸メチル、 2 — ェ トキシプロピオン酸ェチル 、 β ―メ トキシイ ソ酪酸メチル等を、 脂環式ケ トン類ではシク Dへキサノ ン 、 シクロペンタノヽ
ノ 、 メチル シク口へキサノ ン等を、 酢酸エステル類では酢酸ェチル 、 酢酸 n — プロピル、 酢酸イソプロピル 、 酢酸 η ーブチル、 酢酸 s e c ーブチ ル、 酢酸イソブチル、 酢酸ァミル 、 酢酸へキシル、 酢酸シクロへキ シル等を挙げることができるが、 本発明はこれらに限定されるもの ではない。
これらの中でもプロピレングリ 一ルモノメチルエーテルァセテ 一卜、 ジプロピレングリ コ一ルモノメチルエーテルァセテ一卜、 3 ーメ 卜キシブチルァセテ一卜 、 3 ―メチルー 3 —メ 卜キシプチルァ ヽ
セテ一 卜、 3 —メ トキシプロピオノ酸メチル、 3 —ェ 卜キシプ口ピ オン酸ェチル 、 シクロへキサノ ン 、 シクロペン夕ノ ン、 メチルシク 口へキサノ ン 、 酢酸ェチル、 酢酸 η ―プロピル、 酢酸ィソプ口ピル
、 酢酸 n —ブチル、 酢酸 n ―ァミル 、 酢酸イソァミル、 酢 s e c
—ァミルが、 感光性組成物の除去性 、 入手の容易さ、 安全性の点か ら好ましい
本発明の感光性組成物除去液に含有されるアルキレングリコール モノァルキルェ一テルカルボン酸エステル類 、 アルコキシカルボン 酸ェステル類、 脂環式ケ トン類、 酢酸エステル類は、 単独で用いて もよいし 、 2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の感光性組成物除去液が成分 1 、 成分 2及び成分 3 を含有 する場 □ 、 成分 1 、 成分 2及び成分 3 の好ましい比率は、 成分 1 が
8 5 〜 2 0質量%、 成分 2力 S 5〜 3 0質量% 、 成分 3が 1 0〜 7 5 ¾ %である。
成分 3がアルキレングリ コールモノアルキルエーテルカルボン酸 エステル類、 アルコキシカルボン酸エステル類、 脂環式ケ トン類で ある場合、 成分 1 、 成分 2及び成分 3のより好ましい比率は、 成分 1 力 8 5 〜 2 0質量%、 成分 2が 5 〜 3 0質量%、 成分 3が 1 0 〜 7 ,5質量%であり、 成分 3が酢酸エステル類である場合、 成分 1 、 成分 2及び成分 3 のより好ましい比率は、 成分 1 が 8 5 〜 4 0質量 %、 成分 2が 5 〜 3 0質量%、 成分 3が 1 0 〜 4 5質量%である。 本発明の感光性組成物に含まれる成分 1 〜 3が上記の範囲であれ ば、 顔料を含有する感光性組成物の除去における、 樹脂の溶解性能 および顔料の分散除去性能が良好である。
次に、 本発明の除去液が適用される有色感光性樹脂組成物につい て詳細に説明する。
本発明の除去液が適用できる有色感光性組成物は、 通常、 液晶、 有機 E L、 イメージセンサ等のカラーフィルター形成工程に用いら れる、 顔料を含有する有色感光性組成物である。 これらの有色感光 性組成物は、 顔料を含有させることにより着色した感光性組成物で あり、 一般的にアルカ リで現像可能な皮膜形成物質、 感光性物質、 及び顔料等を含有するものである。
有色感光性組成物に含まれる皮膜形成物質としては、 アク リル系 樹脂、 ノボラック系樹脂、 ポリイ ミ ド系樹脂、 ポリ ビニルフエノー ル系樹脂などを挙げることができるが、 本発明は特にァク リル系樹 脂を皮膜形成物質として含有する有色感光性組成物の除去 ίこ好適に 用いることができる。 皮膜形成物質として使用されるアク リル系樹 脂は、 アルカ リ可溶性の分子量 1 , 0 0 0 〜 5 0 0 , 0 0 0程度の 高分子重合体あるいは共重合体であり、 カルボキシル基含有ェチレ ン性不飽和単量体およびその他のエチレン性不飽和単量体との共重 合体が好適に用いられる。
有色感光性組成物に含有される感光性物質としては、 アク リル系 樹脂を皮膜形成物質とする場合、 へキサァリールビイ ミダゾール系 化合物、 ト リアジン系化合物、 アミ ノアセ トフェノ ン系化合物、 増 感色素と有機ホウ素 系化合物の組み合わせ、 チタノセン系化合物
、 ォキサジァゾール系化合物等が挙げられる。
有色感光性組成物に含有され得る顔料と しては 、 通常力ラーフィ ルターの製造に用いられている顔料であれば問題なく使用すること ができ、 黒色、 黄色 、 赤色 、 青色、 緑色等の有機 、 無機顔料の単独 あるいは混合物を任思に使用することができる 顔料の具体例と し ては、 力一ボンブラック、 アセチレンブラック 、 ランプブラック、 力一ボンナノチューブ 、 黒鉛、 鉄黒、 酸化鉄系黒色顔料、 ァニリ ン ブラック、 シァニンブラック、 チタンブラック 、 C . I . ビグメン 卜イエロ一 2 0、 2 4 、 8 3、 8 6、 9 3、 1 0 9 、 1 1 0 , 1 1
7、 1 2 5、 1 3 7 、 1 3 8、 1 3 9、 1 4 7 、 1 4 8、 1 5 3、
1 5 4、 1 6 6、 C I . ビグメン トオレンジ 3 6 、 4 3 、 5 1、
5 5、 5 9、 6 1、 C . I . ビグメン ト レッ ド 9 、 9 7、 1 2 2、
1 2 3、 1 4 9、 1 6 8、 1 7 7、 1 8 0、 1 9 2 、 2 1 5 , 2 1
6、 2 1 7、 2 2 0 、 2 2 3、 2 2 4、 2 2 6 2 2 7、 2 2 8、
2 4 0、 2 5 4、 C I . ビグメン トバイオレッ 卜 1 9、 2 3 , 2
9、 3 0、 3 7、 4 0 、 5 0、 C . I . ピグメン ブル一 1 5、 1
5 : 1、 1 5 : 4、 1 5 : 6、 2 2、 2 7、 6 0 、 6 4、 C . I . ビグメン 卜グリーン 7 、 1 0、 3 6、 3 7、 C I . ピグメン 卜ブ ラウン 2 3、 2 5、 2 6等を挙げることができる
有色感光性組成物には、 上記の皮膜形成物質 、 光性物質及び顔 料のほかに更にエチレン性不飽和単量体を配合することもできる。 エチレン性不飽和単量体は、 活性光線照射時に光重合開始剤から発 生するラジカルで重合する化合物である。
本発明の感光性組成物除去液が適用される有色感光性組成物には 、 上記の成分以外に有機溶剤、 顔料分散剤、 密着向上剤、 レベリ ン グ剤、 現像改良剤、 酸化防止剤、 熱重合禁止剤等が適宜配合されて いてもよい。
本発明の感光性組成物除考液は、 被洗浄物に塗布あるいは付着さ れた状態の有色感光性組成物の除去に適用することができ、 特に感 光前の有色感光性組成物の除去に好適に用いることができる。 有色 感光性組成物は、 溶剤が含有されている状態であってもよいし、 溶 剤が揮発した後の状態であってもよい。
有色感光性組成物を除去する方法としては、 有色感光性組成物が 塗布されまたは付着した被洗浄物に本洗浄液をノズルなどから棒状 、 液滴状あるいはミス ト状に吹きかけて除去する方法、 本発明の除 去液に有色感光性組成物が付着した被洗浄物を浸漬する方法などが 挙げられる。 除去を効率的に行うために、 超音波照射や、 ブラシ等 による物理的洗浄を併用することも可能である。
本発明の感光性組成物除去液は、 液晶、 有機 E L、 イメージセン サ等に用いられるカラーフィルター製造の有色感光性組成物塗布ェ 程において、 基板の周辺部、 縁辺部、 または裏面部に付着した不要 の未硬化の有色感光性組成物の除去、 または塗布装置の一部または 全部に付着した不要の未硬化の有色感光性組成物の除去に好適に用 いることができる。
本発明の感光性組成物除去液は、 基板上にスピンコー ト法で有色 感光性組成物を塗布する際の、 基板周辺部、 縁辺部、 あるいは裏面 部の未硬化の有色感光性組成物の除去、 いわゆる、 エッジリ ンス、 バック リ ンスのリ ンス剤として、 またスピンコー ト時にカップに飛 散した有色感光性組成物を洗浄除去する、 いわゆるカップリ ンスに も好適に使用可能である。
スピンコー ト法以外に基板上に有色感光性組成物を塗布する方法 と してスリ ツ トコ一 ト法ゃワイヤ一バーコ一ト法、 あるいはロール コー ト法等が知られているが、 スリ ッ トノズルやワイヤーバー、 印 刷版など、 塗布装置の部材ゃ器具の表面に付着した未硬化の有色感 光性組成物を除去する際にも、 本発明の感光性組成物除去液は好適 に使用される。
また、 本発明の別の態様は、 上記感光性組成物除去液を用いて上 記方法により未硬化の感光性組成物が除去された基板、 あるいは液 曰 、 有機 E L及びイメージセンサ等の製造用の装置、 及びこの装置 によつて得られたカラ一フィル夕一である。
以下に実施例を挙げて本発明をさ らに説明する力 もちろん本発 明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
なお 、 洗浄性は、 除去液に 3分間浸漬後、 感光性着色組成物の溶 解状況を目視観察により次の 3段階で評価した
〇 …完全に除去されている
Δ …部分的に溶解している
X …ほとんど溶解していない
調製例 1 アク リル系共重合体の 製
滴下漏斗、 温度計、 冷却管、 撹拌機を付した 4つ口フラスコにメ 夕ク リル酸 (MA) 1 2. 0質量部 、 メタク リル酸メチル (MM A
) 1 4 . 0質量部、 メタク リル酸 n ブチル ( B M A) 4 3. 0質 量部、 2—ヒ ドロキシェチルァク U レ一卜 (H E M A) 6. 0質量 部、 ェチルセ口ソルブァセテー ト ( E G A) 2 2 5. 0質量部を仕 込み、 1時間 4つ口フラスコ内を窒素置換した 。 さらに、 オイルバ スで 9 0でまで加温した後、 M A 1 2 . 0質量部、 MM A 1 4. 0 質量部 、 B M A 4 3. 0質量部、 H E M A 6. 0質量部、 E G A 2
2 5. 0質量部、 2, 2 ' —ァゾビスィソプチロニ ト リル ( A I B
N) 3. 2質量部の混合液を 1時間かけて滴下した。 3時間重合を 行った後、 A I B N 1. 0質量部と E GA 1 5. 0質量部の混合液 を加えさ らに 1 0 0でに昇温して 1. 5時間重合を行った後放冷し た。 このようにして得たアク リル系共重合体の固形分濃度は 2 2. 1質量%、 酸価は 9 2 m g K O HZ g、 G P Cにより測定したポリ スチレン換算の質量平均分子量は 2 2, 0 0 0であった。
調製例 2 感光性着色組成物 A : 黒色感光性着色組成物の調製 調製例 1で得られたアク リル系共重合体 3 0. 0質量部 (固形分 6. 6質量部) 、 E GA 5. 0質量部、 フローレン D O P A— 3 3 (商標 : 共栄社化学株式会社製 分散剤 固形分濃度 3 0質量%) 3. 3質量部、 S p e c i a l B l a c k 4 (デダサ社 カー ボンブラック) 6. 6質量部を混合後、 1晚放置した。 さ らに、 1 時間撹袢した後、 3本ロールミル (株式会社小平製作所製 型式 R III- 1 RM— 2 ) に 4回通した。 得られた黒色イ ンキに E GAを 加えて濃度調整することにより、 固形分濃度 1 8. 0質量%の黒色 着色組成物を得た。
このようにして得られた黒色着色組成物 1 0 0質量部に更にジぺ ン夕エルス リ トールへキサァク リ レー ト 4. 4質量部、 2 — ( 4 - メ トキシフエニル) 一 4, 6 _ビス ( トリ クロロメチル) 一 s — 卜 リ アジン 2. 2質量部及び E GA 2 5質量部を添加し、 十分攪拌し て感光性着色組成物 Aを得た。
調製例 3 感光性着色組成物 B : 緑色感光性着色組成物の調製 調製例 1で得られたアク リル系共重合体 3 0. 0質量部 (固形 分 6. 6質量部) 、 E GA 5. 0質量部、 フローレン D O P A— 3 3 (商標 : 共栄社化学株式会社製 分散剤 固形分濃度 3 0質量% ) 3. 3質量部、 P i gm e n t G r e e n 3 6の 6. 6質量 部を混合後、 1晚放置した。 さ らに、 1時間撹拌した後、 3本ロー ルミル (株式会社小平製作所製 型式 R III— 1 RM— 2 ) に 4回 通した。 得られた緑色イ ンキに E GAを加えて濃度調整することに より、 固形分濃度 1 8. 0質量%の緑色着色組成物を得た。
このようにして得られた緑色着色組成物 1 0 0質量部に更にジぺ ン夕エルスリ トールへキサァク リ レー ト 4. 4質量部、 4, 4 ' - ビス (N, N—ジェチルァミ ノ) ベンゾフエノ ン 0. 7質量部、 2 , 2 ' —ビス ( o _クロ口フエニル) 一 4 , 4 ' , 5, 5 ' —テ ト ラフェニル _ 1, 2 ' —ビイ ミダゾール 2. 3質量部、 ト リ メチロ ールプロパン ト リスチォプロピオネー ト 3. 8質量部及び E G A 4 2質量部を加えて十分攪拌し、 感光性着色組成物 Bを得た。
調製例 4 感光性着色組成物 C : 赤色感光性着色組成物の調製 調製例 1で得られたアク リル系共重合体 3 0. 0質量部 (固形 分 6. 6質量部) 、 E GA 5. 0質量部、 フローレン D O P A— 3 3 (商標 : 共栄社化学株式会社製 分散剤 固形分濃度 3 0質量% ) 3. 3質量部、 P i g m e n t R e d 1 7 7の 6. 6質量部 を混合後、 1晚放置した。 さ らに、 1時間撹袢した後、 3本ロール ミル (株式会社小平製作所製 型式 R III_ 1 RM— 2 ) に 4回通 した。 得られた赤色イ ンキに E GAを加えて濃度調整することによ り、 固形分濃度 1 8. 0質量%の赤色着色組成物を得た。 該色組成 物 1 0 0質量部に、 更に、 ジペン夕エルスリ トールへキサァク リ レ ー ト 4. 4質量部、 ィルガキュア 3 6 9 (チバスべシャリティ ケミ カルズ社製) 3. 0質量部、 ト リ メチロールプロパン ト リスチォプ 口ピオネー ト 3. 8質量部、 及び E G A 4 2質量部を加えて十分攪 袢し、 感光性着色組成物 Cを得た。
実施例 1
調製例 2〜4で調製した感光性着色組成物 A〜Cをガラス板上 ( 2 8 mm X 7 6 mm) に 1滴滴下し、 室温にて 2 4時間乾燥させた これをプロピレングリ コールモノメチルエーテル 7 0 g、 ソルフ アインー T M (昭和電工製) 3 0 gを混合した除去液中に 3分間浸 漬して静置し、 表面に塗布された感光性着色組成物の洗浄除去を行 つた。 その結果を表 1 に示す。
実施例 2 〜 2 1、 比較例 1 〜 4
表 1 に示す組成の除去液を用いて、 実施例 1 と同様に感光性着色 組成物の除去を実施した。 その結果を表 1 に示す。
洗浄液組成 (質量%) 洗浄性 成分 1 成分 2 成分 3 感光性着色組成物
PM DPM MB S-TM TMB CUM PMA MBA 匿 EEP BA CYA CYP A (黒色) B (緑色) C (赤色)
1 70 30 〇 △ 〇
2 80 20 Δ Δ 〇
3 40 30 30 〇 Δ 〇
4 55 20 25 O 〇 〇
5 50 20 30 〇 Δ 〇
6 60 20 20 〇 〇 〇
7 40 10 50 O 〇 〇
8 40 20 40 〇 〇 〇
9 30 10 60 〇 〇 〇
10 60 20 20 〇 O 〇 実施例 11 60 20 20 〇 〇 〇
12 20 20 60 〇 厶 〇
13 30 20 50 Δ Δ 〇
14 50 20 30 〇 〇 〇
15 60 30 10 〇 〇 〇
16 20 20 60 〇 O 〇
17 60 20 20 〇 o 〇
18 20 20 60 〇 〇 〇
19 40 20 40 〇 〇 〇
20 30 20 50 〇 〇 〇
21 50 20 30 〇 〇 〇
1 100 X Δ Δ 比較例 2 100 X X X
3 100 △ X Δ
4 70 30 Δ Δ △ 略号の説明
PM プロピレングリコールモノメチルエーテル PMA プロピレングリコールモノメチルエーテルァセテ一ト
DPM ジプロピレングリコールモノメチルエーテル MBA 3—メ トキシブチルァセテート
MB 3—メトキシブタノール MMP 3—メ卜キシプロピオン酸メチル
TMB 1 , 2 , 4 _トリメチルベンゼン EEP 3—エトキシプロピオン酸ェチル
CUM クメン CYA シクロへキサノン
S-TM ソルファイン— T M (昭和電工 (株) 製) CYP シクロペン夕ノン
産業上の利用可能性
本発明は、 液晶や有機 E L、 イメージセンサの製造における基板 上に感光性組成物皮膜を形成する工程において、 基板周辺部、 縁辺 部または裏面部に残存する顔料を含有する感光性組成物皮膜の除去 、 または装置部材ゃ器具の表面に付着した顔料を含有する感光性組 成物の除去に有用な感光性組成物除去液を提供する。

Claims

1. 顔料を含有する感光性組成物の除去液であって、
( 1 ) アルキレングリ コールモノアルキルエーテル類を 9 5〜 7 0 質量%及び
( 2 ) 芳香族炭化水素類を 5〜 3 0質量%
含有することを特徴とする感光性組成物除去液。
2. 顔料を含有する感光性求組成物の除去液であって、
( 1 ) アルキレングリ コールモノアルキルエーテル類を 8 5〜 2 0 質量%、 範
( 2 ) 炭素数 9以上の芳香族炭化水素類を 5〜 3 0質量%及び
( 3 ) アルキレングリ コールモノアルキルエーテルカルボン酸エス テル類、 アルコキシカルボン酸エステル類、 脂環式ケ トン類及び酢 酸エステル類から選ばれる少なく とも 1種の溶剤を 1 0〜 7 5質量 %
含有することを特徴とする感光性組成物除去液。
3. 顔料を含有する感光性組成物の除去液であって、
( 1 ) アルキレングリ コールモノアルキルエーテル類を 8 5〜 2 0 質量%、
( 2 ) 炭素数 9以上の芳香族炭化水素類を 5〜 3 0質量%及び
( 3 ) アルキレングリ コールモノアルキルエーテルカルボン酸エス テル類、 アルコキシカルボン酸エステル類及び脂環式ケ トン類から 選ばれる少なく とも 1種の溶剤を 1 0〜 7 5質量%
含有することを特徴とする感光性組成物除去液。
4. 顔料を含有する感光性組成物の除去液であって、
( 1 ) アルキレングリ コールモノアルキルエーテル類を 8 5〜 4 0 質量%、 ( 2 ) 炭素数 9以上の芳香族炭化水素類を 5〜 3 0質量%及び ( 3 ) 酢酸エステル類から選ばれる少なく とも 1種の溶剤を 1 0〜 4 5質量%
含有することを特徴とする感光性組成物除去液。
5 . 芳香族炭化水素類が沸点 1 5 0 ~ 2 5 0でのアルキルべンゼ ン類であることを特徴とする請求項 1〜4のいずれかに記載の感光 性組成物除去液。
6 . アルキレングリ コールモノアルキルエーテル類が、 エチレン グリコールモノメチルエーテル、 エチレングリ コールモノェチルェ 一テル、 ジエチレングリ コールモノメチルエーテル、 ジエチレング リ コールモノェチルエーテル、 プロピレングリ コールモノメチルェ 一テル、 プロピレングリ コールモノェチルエーテル、 ジプロピレン グリコールモノメチルエーテル、 3 —メ トキシプ夕ノール及び 3 - メチルー 3 —メ トキシブ夕ノールからなる群から選ばれる少なく と も 1種であることを特徴とする請求項 1〜 5のいずれかに記載の感 光性組成物除去液。
7 . アルキレングリ コールモノアルキルエーテルカルボン酸エス テル類が、 プロピレングリ コールモノメチルエーテルアセテー ト、 ジプロピレングリ コールモノメチルエーテルアセテー ト、 3 —メ ト キシブチルアセテー ト及び 3 —メチルー 3 —メ 卜キシブチルァセテ 一卜からなる群から選ばれる少なく とも 1種であることを特徴とす る請求項 2、 3、 5 または 6 に記載の感光性組成物除去液。
8 . アルコキシカルボン酸エステル類が、 3 —メ トキシプロピオ ン酸メチル及び 3 —エ トキシプロピオン酸ェチルからなる群から選 ばれる少なく とも 1種であることを特徴とする請求項 2、 3、 5 ま たは 6 に記載の感光性組成物除去液。
9 . 脂環式ケ トン類が、 シクロへキサノ ン、 シク ロペン夕ノ ン及 びメチルシクロへキサノ ンからなる群から選ばれる少なく とも 1種 であることを特徴とする請求項 2、 3、 5または 6 に記載の感光性 組成物除去液。
1 0. 酢酸エステル類が、 酢酸ェチル、 酢酸 n _プロピル、 酢酸 イソプロピル、 酢酸 n—プチル、 酢酸 n—ァミル、 酢酸イソアミル 及び酢酸 s e c ーァミルからなる群から選ばれる少なく とも 1種で あることを特徴とする請求項 2または 4〜 6のいずれかに記載の感 光性組成物除去液。
1 1. 顔料を含有するアク リル系感光性組成物の除去に用いられ る請求項 1〜 1 0のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
1 2. 感光前の顔料を含有する感光性組成物の除去に用いられる 請求項 1〜 1 1 のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
1 3. 請求項 1〜 1 2のいずれかに記載の感光性組成物除去液を 用いて顔料を含有する感光性組成物を除去した装置。
1 4. 請求項 1 3 に記載の装置により得られるカラ一フィルター
1 5. 請求項 1 4に記載のカラーフィルターを備えた装置。
1 6. 請求項 1〜 1 2のいずれかに記載の感光性組成物除去液を 用いて有色顔料を含有する感光性組成物が除去処理された基板。
PCT/JP2006/302673 2005-02-09 2006-02-09 感光性組成物除去液 WO2006085678A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2006800043693A CN101116037B (zh) 2005-02-09 2006-02-09 光敏组合物清除液
US11/794,547 US20080167210A1 (en) 2005-02-09 2006-02-09 Removing Solution for Photosensitive Composition
EP06713814A EP1847878B1 (en) 2005-02-09 2006-02-09 Photosensitive composition removing liquid

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005032879 2005-02-09
JP2005-032879 2005-02-09

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2006085678A1 true WO2006085678A1 (ja) 2006-08-17

Family

ID=36793233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2006/302673 WO2006085678A1 (ja) 2005-02-09 2006-02-09 感光性組成物除去液

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20080167210A1 (ja)
EP (1) EP1847878B1 (ja)
KR (1) KR100944401B1 (ja)
CN (1) CN101116037B (ja)
TW (1) TW200634448A (ja)
WO (1) WO2006085678A1 (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI276929B (en) * 2003-12-16 2007-03-21 Showa Denko Kk Photosensitive composition remover
JP4005092B2 (ja) * 2004-08-20 2007-11-07 東京応化工業株式会社 洗浄除去用溶剤
KR101097908B1 (ko) 2004-12-09 2011-12-23 주식회사 이엔에프테크놀로지 세정액 조성물 및 이의 제조방법
WO2007010881A1 (en) * 2005-07-19 2007-01-25 Showa Denko K.K. Removing solution for photosensitive composition
KR101132618B1 (ko) * 2009-08-25 2012-04-06 주식회사 이엔에프테크놀로지 포토레지스트 사용량을 절감할 수 있는 신너 조성물
CN102443344B (zh) * 2010-10-12 2014-03-19 苏州飞翔新材料研究院有限公司 一种混合溶剂及卷钢涂料组合物和卷钢材料的制备方法
JP6260441B2 (ja) * 2014-04-30 2018-01-17 旭硝子株式会社 樹脂層の除去方法
CN107085356B (zh) * 2017-02-17 2020-06-09 无锡德贝尔光电材料有限公司 一种uv感光负性纯丙光刻胶及其制备方法
CN112189154B (zh) * 2018-06-01 2022-08-12 东丽株式会社 着色树脂组合物及其制造方法、近红外线透过性遮光膜和装饰基板

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01158444A (ja) * 1987-03-11 1989-06-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ホトレジストの剥離液
JPH07128867A (ja) * 1993-06-28 1995-05-19 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト洗浄除去用溶剤及びそれを使用する電子部品製造用基材の製造方法
JPH07160008A (ja) * 1993-12-06 1995-06-23 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト形成用塗布物あるいはレジストの洗浄除去用溶剤及びそれを使用する電子部品製造用基材の製造方法
JPH1144960A (ja) * 1997-06-24 1999-02-16 Kurarianto Japan Kk リソグラフィー用洗浄剤
JPH11218933A (ja) * 1998-01-30 1999-08-10 Fuji Film Olin Kk レジスト洗浄除去用溶剤および電子部品製造用基材の製造方法
JP2000164671A (ja) * 1998-11-27 2000-06-16 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置
JP2000199971A (ja) * 1999-01-07 2000-07-18 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ホトレジスト用剥離液組成物およびこれを用いたホトレジスト剥離方法
JP2002341130A (ja) * 2001-05-21 2002-11-27 Dainippon Printing Co Ltd 樹脂膜除去装置およびその方法
JP2003167114A (ja) * 2001-11-30 2003-06-13 Toshiba Corp 平面表示装置の製造方法
JP2003295477A (ja) * 2002-04-04 2003-10-15 Kao Corp 化合物半導体用レジスト剥離剤組成物

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5185235A (en) * 1987-09-09 1993-02-09 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Remover solution for photoresist
US5198482A (en) * 1989-12-14 1993-03-30 Ciba-Geigy Corporation Corrosion-inhibiting coating compositions
JP3257867B2 (ja) * 1993-06-25 2002-02-18 東京応化工業株式会社 現像液組成物
KR100234532B1 (ko) * 1996-09-21 1999-12-15 윤종용 반도체 제조공정의 포토레지스트 세정용 시너 조성물 및 그를 이용한 반도체장치의 제조방법
EP0872870A3 (en) * 1997-04-14 1999-05-06 Hitachi Chemical Co., Ltd. Fluorescent pattern, process for preparing the same, organic alkali developing solution for forming the same, emulsion developing solution for forming the same and back plate for plasma display using the same
KR100594815B1 (ko) * 1999-12-24 2006-07-03 삼성전자주식회사 포토레지스트 린스용 씬너 및 이를 이용한 포토레지스트막의 처리 방법
JP2005514661A (ja) * 2002-01-11 2005-05-19 クラリアント インターナショナル リミテッド ポジ型またはネガ型フォトレジスト用の洗浄剤組成物
JP3912663B2 (ja) * 2002-02-26 2007-05-09 富士フイルム株式会社 カラーフィルター用画素の形成方法、液晶表示装置用カラーフィルター、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起の形成方法、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起
JP2004126509A (ja) * 2002-04-18 2004-04-22 Shipley Co Llc 溶媒及び193nmイメージング用フォトレジスト組成物
TWI276929B (en) * 2003-12-16 2007-03-21 Showa Denko Kk Photosensitive composition remover
JP4005092B2 (ja) * 2004-08-20 2007-11-07 東京応化工業株式会社 洗浄除去用溶剤

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01158444A (ja) * 1987-03-11 1989-06-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ホトレジストの剥離液
JPH07128867A (ja) * 1993-06-28 1995-05-19 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト洗浄除去用溶剤及びそれを使用する電子部品製造用基材の製造方法
JPH07160008A (ja) * 1993-12-06 1995-06-23 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト形成用塗布物あるいはレジストの洗浄除去用溶剤及びそれを使用する電子部品製造用基材の製造方法
JPH1144960A (ja) * 1997-06-24 1999-02-16 Kurarianto Japan Kk リソグラフィー用洗浄剤
JPH11218933A (ja) * 1998-01-30 1999-08-10 Fuji Film Olin Kk レジスト洗浄除去用溶剤および電子部品製造用基材の製造方法
JP2000164671A (ja) * 1998-11-27 2000-06-16 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置
JP2000199971A (ja) * 1999-01-07 2000-07-18 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ホトレジスト用剥離液組成物およびこれを用いたホトレジスト剥離方法
JP2002341130A (ja) * 2001-05-21 2002-11-27 Dainippon Printing Co Ltd 樹脂膜除去装置およびその方法
JP2003167114A (ja) * 2001-11-30 2003-06-13 Toshiba Corp 平面表示装置の製造方法
JP2003295477A (ja) * 2002-04-04 2003-10-15 Kao Corp 化合物半導体用レジスト剥離剤組成物

Also Published As

Publication number Publication date
US20080167210A1 (en) 2008-07-10
CN101116037B (zh) 2010-06-23
EP1847878A4 (en) 2011-10-26
KR100944401B1 (ko) 2010-02-25
TW200634448A (en) 2006-10-01
KR20070087688A (ko) 2007-08-28
CN101116037A (zh) 2008-01-30
EP1847878B1 (en) 2012-10-31
TWI366748B (ja) 2012-06-21
EP1847878A1 (en) 2007-10-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4776731B2 (ja) 感光性組成物除去液
WO2006085678A1 (ja) 感光性組成物除去液
JP4698435B2 (ja) 感光性組成物除去液
KR20070012221A (ko) 수지조성물 제거세정제
TWI416254B (zh) Photosensitive resin composition
KR100944400B1 (ko) 감광성 조성물용 제거액
JP4596894B2 (ja) 感光性組成物除去液
JP4812453B2 (ja) 感光性組成物除去液
JP4698515B2 (ja) 感光性組成物除去液
JP2010070724A (ja) 硬化性組成物除去液
JP4762162B2 (ja) 感光性組成物除去液
US20090208887A1 (en) Removing solution for photosensitive composition

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2006713814

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11794547

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020077017143

Country of ref document: KR

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200680004369.3

Country of ref document: CN

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2006713814

Country of ref document: EP