KR20070079608A - 네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 내열성 및 내광성이 우수하고 감도를 향상할 수 있는 네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법에 대해 개시한다.

본 발명은 a)ⅰ) 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물; ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물; ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물; 및 ⅳ) 올레핀계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) 광개시제; c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머; d) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법에 관한 것이다.

유기절연막, 내열성, 내광성, 감도

Description

네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법{NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LIQUID CRYSTAL DISPLAY HAVING THAT CURING PRODUCT, METHOD OF FORMING A PATTERN OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY USING THE SAME}

도1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.

도2는 본 발명의 실시예에 따른 네가티브 감광성 수지 조성물을 사용한 유기절연막의 형성 공정도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호 설명>

10 : 액정표시장치 20 : 박막트랜지스터기판

40 : 박막트랜지스터 110 : 유기절연막

130 : 화소전극 140 : 칼라필터기판

본 발명은 네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법에 관한 것이다.

현재 액정표시장치에는 여러 가지 목적으로 유기절연막이 사용된다. 일반적으로 액정표시장치의 유기절연막은 포지티브 감광성 수지 조성물을 절연기판 상에 도포한 후 노광, 현상 및 경화공정을 통해 형성한다.

그런데, 종래의 포지티브 감광성 수지 조성물을 사용하여 그 경화물인 유기절연막을 형성하는 경우 감도 저하에 따른 노광시간이 증가하여 액정표시장치의 생산성이 저하된다.

또한, 포지티브 감광성 수지 조성물이 절연기판 상에 균일하게 도포되어야 균일한 두께의 유기절연막을 얻을 수 있는데, 불균일한 도포가 발생되는 경우가 많아 불균일한 두께를 갖는 유기절연막이 형성됨과 아울러 액정표시장치에서 이의 투과 및 반사특성으로 인하여 얼룩으로 시인된다.

그리고, 유기절연막이 소정 온도 이상의 열에 일정시간 이상 노출되거나 자외선과 같은 단파장을 흡수하게 되면 유기절연막의 성분이 일부 분해되어 착색현상이 발생되거나 두께 차이가 발생하게 된다. 이와 같이 유기절연막의 성분이 일부 분해되어 착색현상을 보이거나 두께 차이를 보이는 부분은 액정표시장치에서 얼룩으로 시인된다. 또한, 유기절연막의 성분의 일부 분해로 인해 발생되는 불순물 때문에 액정표시장치에서는 잔상이 유발된다.

따라서, 상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 내열성 및/또는 내광성이 우수하고 감도를 향상할 수 있는 네가티브 감광성 수지 조성물을 제공하는 데 있다.

상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 다른 목적은 상기 네가티브 감광성 수지 조성물의 경화로 형성되는 경화물을 갖는 액정표시장치를 제공하는 데 있다.

상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 또 다른 목적은 상기 네가티브 감광성 수지 조성물을 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법을 제공하는 데 있다.

본 발명은 a)ⅰ) 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물; ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물; ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물; 및 ⅳ) 올레핀계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) 광개시제; c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머; d) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물을 제공한다.

본 발명의 일 실시예로, 본 발명은 박막트랜지스터와; 상기 박막트랜지스터와 접속된 화소전극과; 상기 박막트랜지스터와 상기 화소전극 사이에 형성되며, a)ⅰ) 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물; ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물; ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물; 및 ⅳ) 올레핀 계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) 광개시제; c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머; d) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물을 포함하는 네가티브 감광성 수지 조성물의 경화물을 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치를 제공한다.

본 발명의 다른 실시예로, 본 발명은 a)ⅰ) 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물; ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물; ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물; 및 ⅳ) 올레핀계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) 광개시제; c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머; d) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물을 포함하는 네가티브 감광성 수지 조성물을 절연기판 상에 도포하는 단계와; 상기 네가티브 감광성 수지 조성물이 도포된 상기 절연기판 상에 노광 공정을 수행하는 단계와; 상기 노광 공정이 수행된 상기 절연기판 상에 현상 공정을 수행하는 단계와; 상기 현상 공정이 수행된 상기 절연기판 상에 경화 공정을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 패턴형성방법을 제공한다.

이하, 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

본 발명의 실시예에 따른 네가티브 감광성 수지 조성물은 a)ⅰ) 사이클로 헥세닐 아크릴레이트계 화합물, ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물, ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물, 및 ⅳ) 올레핀계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체, b) 광개시제, c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머, d) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물 을 포함한다.

본 발명의 실시예에 따른 네가티브 감광성 수지 조성물은 상기 a)ⅰ) 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물 5 내지 85 중량부; 상기 ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물 5 내지 40 중량부; 상기　ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물 5 내지 70 중량부; 및 상기 ⅳ) 올레핀계 불포화 화합물 10 내지 70 중량부을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체 100 중량부; 상기 b) 광개시제 0.001 내지 30 중량부; 상기 c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머 10 내지 100 중량부; 상기 d) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물 0.0001 내지 5 중량부를 포함한다.

본 발명의 실시예에 따른 상기 a)의 아크릴계 공중합체는 ⅰ) 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물, ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물, ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물, 및 ⅳ) 올레핀계 불포화 화합물을 단량체로 하여 용매 및 중합개시제의 존재하에서 라디칼 반응하여 제조할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 아크릴계 공중합체 제조시 사용되는 단량체인 상기 a)ⅰ)의 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물은 광개시제에 의한 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 다관능 모노머와의 경화속도를 증가시키며, 현상액 내에서 용해성을 저하시켜 잔막율을 향상시키는 작용을 한다.

상기 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물은 하기 화학식 1의 구조를 갖는 화합물인 것이 바람직하며, 구체적으로 3-사이클로헥세닐 메틸 아크릴레이트 또는 3-사이클로헥세닐 메틸 메타 아크릴레이트 등이 있으며 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 화학식 1에서, R은 H 및 CH3 중 어느 하나이다.

상기 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물은 전체 총 단량체에 5 내지 85 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 20 내지 70 중량부로 포함되는 것이다.　그 함량이 5 중량부 미만일 경우에는 광경화 속도가 느려지게 된다는 문제점이 있으며, 85 중량부를 초과할 경우에는 액정표시장치의 컨텍 홀(contact hole) 생성 및 패턴 형성에서 해상력 저하가 발생할 수 있다는 문제점이 있다.

본 발명의 실시예에 따른 아크릴계 공중합체 제조시 사용되는 단량체인 상기 a)ⅱ)의 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물 또는 이들의 혼합물은 아크릴산, 메타크릴산 등의 불포화 모노카르본산; 말레인산, 푸마르산, 시트라콘산, 메타콘산, 이타콘산 등의 불포화 디카르본산; 또는 이들의 불포화 디카르본산의 무수물 등을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으며, 특히 아크릴산, 메타크릴산, 또는 무수말레인산을 사용하는 것이 공중합 반응성과 현상액인 알칼리 수용액에 대한 용해성에 있어 더욱 바람직하다.

상기 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물 또는 이들의 혼합물은 전체 총 단량체에 5 내지 40 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 10 내지 30 중량부로 포함되는 것이다.　그 함량이 5 중량부 미만일 경우에는 알칼리 수용액에 용해하기 어렵다는 문제점이 있으며, 40 중량부를 초과할 경우에는 알칼리 수용액에 대한 용해성이 지나치게 커지게 된다는 문제점이 있다.

본 발명의 실시예에 따른 아크릴계 공중합체 제조시 사용되는 단량체인 상기 a)ⅲ)의 에폭시기 함유 불포화 화합물은 아크릴산 글리시딜, 메타크릴산 글리시딜, α-에틸아크릴산 글리시딜, α-n-프로필아크릴산 글리시딜, α-n-부틸아크릴산 글리시딜, 아크릴산-β-메틸글리시딜, 메타크릴산-β-메틸글리시딜, 아크릴산-β-에틸글리시딜, 메타크릴산-β-에틸글리시딜, 아크릴산-3,4-에폭시부틸, 메타크릴산-3,4-에폭시부틸, 아크릴산-6,7-에폭시헵틸, 메타크릴산-6,7-에폭시헵틸, α-에틸아크릴산-6,7-에폭시헵틸, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, 또는 p-비닐벤질글리시딜에테르 등을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

　특히, 상기 에폭시기 함유 불포화 화합물은 메타크릴산 글리시딜, 메타크릴산-β-메틸글리시딜, 메타크릴산-6,7-에폭시헵틸, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, 또는 p-비닐벤질글리시딜에테르를 사용하는 것이 공중합 반응성 및 얻어지는 패턴의 내열성을 향상시키는데 있어 더욱 바람직하다.

상기 에폭시기 함유 불포화 화합물은 전체 총 단량체에 5 내지 70 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 20 내지 60 중량부로 포함되는 것이다.　그 함량이 5 중량부 미만일 경우에는 얻어지는 패턴의 내열성이 저하된다는 문제점이 있으며, 70 중량부를 초과할 경우에는 공중합체의 보존안정성이 저하된다는 문제점이 있다.

또한 본 발명의 실시예에 따른 아크릴계 공중합체 제조시 사용되는 단량체인 상기 ⅳ)의 올레핀계 불포화 화합물은 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, sec-부틸 메타크릴레이트, tert-부틸 메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트, 시클로헥실 메타크릴레이트, 2-메틸시클로 헥실메타크릴레이트, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐메틸메타크릴레이트, 1-아다만틸 아크릴레이트, 1-아다만틸 메타크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸메타크릴레이트, 이소보로닐메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸아크릴레이트, 이소보로닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 스티렌, σ-메틸 스티렌, m-메틸 스티렌, p-메틸 스티렌, 비닐톨루엔, p-메톡시 스티렌, 1,3-부타디엔, 이소프렌 및 2,3-디메틸 1,3-부타디엔 등을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

특히, 상기 올레핀계 불포화 화합물은 스티렌, 디시클로펜타닐메틸메타크릴레이트, 또는 p-메톡시 스티렌을 사용하는 것이 공중합 반응성 및 현상액인 알칼리 수용액에 대한 용해성 측면에서 더욱 바람직하다.

상기 올레핀계 불포화 화합물은 전체 총 단량체에 대하여 10 내지 70 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 20 내지 50 중량부로 포함되는 것이다.　그 함량이 상기 범위 내인 경우에는 아크릴계 공중합체의 보존안전성 저 하, 아크릴계 공중합체가 현상액인 알칼리 수용액에 용해되기 어렵다는 문제점 등을 동시에 해결할 수 있다.

상기와 같은 단량체를 아크릴계 공중합체로 중합하기 위해 사용되는 용매는 메탄올, 테트라히드로퓨란, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 에틸렌글리콜 디에틸에테르, 에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 프로필에테르, 프로필렌글리콜 부틸에테르, 프로필렌글리콜 메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 메틸에틸프로피오네이트, 프로필렌글리콜 에틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜 프로필에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜 부틸에테르프로피오네이트, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 4-히드록시 4-메틸 2-펜타논, 초산메틸, 초산에틸, 초산프로필, 초산부틸, 2-히드록시 프로피온산에틸, 2-히드록시 2-메틸 프로피온산메틸, 2-히드록시 2-메틸 프로피온산에틸, 히드록시 초산메틸, 히드록시 초산에틸, 히드록시 초산부틸, 유산메틸, 유산에틸, 유산프로필, 유산부틸, 3-히드록시 프로피온산메틸, 3-히드록시 프로피온산에틸, 3-히드록시 프로피온산프로필, 3-히드록시 프로피온산부틸, 2-히드록시 3-메틸 부탄산메틸,　　메톡시초산메틸, 메톡시초산에틸, 메톡시초산프로필, 메톡시초산부틸, 에톡시초산메틸, 에톡시초산에틸, 에톡시초산프로필, 에톡시초산부틸, 프로폭 시초산메틸, 프로폭시초산에틸, 프로폭시초산프로필, 프로폭시초산부틸, 부톡시초산메틸, 부톡시초산에틸, 부톡시초산프로필, 부톡시초산부틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-메톡시프로피온산부틸, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산부틸, 2-부톡시프로피온산메틸, 2-부톡시프로피온산에틸, 2-부톡시프로피온산프로필, 2-부톡시프로피온산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산프로필, 3-에톡시프로피온산부틸, 3-프로폭시프로피온산메틸, 3-프로폭시프로피온산에틸, 3-프로폭시프로피온산프로필, 3-프로폭시프로피온산부틸, 3-부톡시프로피온산메틸, 3-부톡시프로피온산에틸, 3-부톡시프로피온산프로필 및 3-부톡시프로피온산부틸 등과 같은 에테르류 등을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기와 같은 단량체를 아크릴계 공중합체로 중합하기 위해 사용되는 중합개시제는 라디칼 중합개시제를 사용할 수 있으며, 구체적으로 2,2-아조비스이소부티로니트릴, 2,2-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2-아조비스(4-메톡시 2,4-디메틸발레로니트릴), 1,1-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 또는 디메틸 2,2-아조비스이소부틸레이트 등을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기와 같은 단량체를 용매와 중합개시제 존재하에서 라디칼 반응시켜 제조되는 상기 a)의 아크릴계 공중합체는 폴리스티렌 환산 중량평균분자량이 6000 내지 90000인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 6000 내지 40000인 것이다.　상기 폴리스티렌 환산중량평균분자량이 6000 미만인 네가티브 감광성 수지 조성물의 경우 현상성, 잔막율 등이 저하되거나, 패턴 형상, 내열성 등이 뒤떨어진다는 문제점이 있으며, 90000을 초과할 경우에는 컨텍 홀 및 패턴 형상이 뒤떨어진다는 문제점이 있다.

　본 발명의 실시예에 따른 상기 b)의 광개시제는 Irgacure 369, Irgacur 651, Irgacure 907, Darocure TPO, Irgacure 819(상품명 : 시바 스페셜티 케미컬스사)등을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

　상기 광개시제는 아크릴계 공중합체 100 중량부에 대하여 0.001 내지 30 중량부로 포함하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 20 중량부로 포함되는 것이다.　그 함량이 0.001 중량부 미만일 경우에는 낮은 감도로 인해 잔막율이 나빠지게 된다는 문제점이 있으며, 30 중량부를 초과할 경우에는 보존안정성에 문제가 발생할 수 있으며, 높은 경화도로 인해 현상시 패턴의 접착력이 저하된다는 문제점이 있다.

본 발명의 실시예에 따른 상기 c)의 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머는 일반적으로 적어도 2 개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 가지는 가교성 모노머로, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트 및 이들의 메타 크릴레이트류 등을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머는 아크릴계 공중합체100 중량부에 대하여 10 내지 100 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 10 내지 60 중량부로 포함되는 것이다.　그 함량이 10 중량부 미만일 경우에는 감광성 수지와의 낮은 경화도로 인하여 컨텍 홀 및 패턴 구현이 어렵다는 문제점이 있으며, 100 중량부를 초과할 경우에는 높은 경화도로 인해 현상시 컨텍 홀 및 패턴의 해상력이 저하된다는 문제점이 있다.

본 발명의 실시예에 따른 상기 d)의 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물은 (3-글리시드옥시프로필)트리메톡시릴레인, (3-글리시드옥시프로필)트리에톡시실레인, (3-글리시드옥시프로필)메틸디메톡시실레인, (3-글리시드옥시프로필)트리메톡시실레인, (3-글리시드옥시프로필)디메틸에톡시실레인, 3,4-에폭시부틸트리메톡시실레인, 3,4-에폭시부틸트리에톡시실레인, 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리메톡시실레인, 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리에톡시실레인, 또는 아미노프로필트리메톡시실레인 등을 사용할 수 있으며, 상기 화합물을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물은 아크릴계 공중합체 100 중량부에 대하여 0.0001 내지 5 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.005 내지 2 중량부로 포함되는 것이다.　그 함량이 0.0001 중량부 미만일 경우에는 ITO 전극과 감광성 수지와의 접착력이 떨어지며, 경화 후 내열 특성이 떨어진다는 문제점이 있으며, 5 중량부를 초과할 경우에는 현상액 내에서 비 노광부의 백화현상 및 현상 후 컨텍 홀이나 패턴의 스컴(scum)이 생기게 된다는 문제점이 있다.

상기 네가티브 감광성 수지 조성물을 용해시키기 위한 용매는 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르 아세테이트류; 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 등의 디에틸렌글리콜류; 프로필렌글리콜메틸에테르, 프로필렌글리콜에틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르, 프로필렌글리콜부틸에테르 등의 프로필렌글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜부틸에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜메틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜에틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜프로필에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜부틸에테르프로피오네이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 4-히드록시 4-메틸 2-펜타논 등의 케톤류; 또는 초산메틸, 초산에틸, 초산프로필, 초산부틸, 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시 2-메틸프로피온산 메틸, 2-히드록시 2-메틸프로피온산 에틸, 히드록시초산메틸, 히드록시초산에틸, 히드록시초산부틸, 유산메틸, 유산에틸, 유산프로필, 유산부틸, 3-히드록시프로피온산메틸, 3-히드록시프로피온산에틸, 3-히드록시프로피온산프로필, 3-히드록시프로 피온산부틸, 2-히드록시 3-메틸부탄산 메틸, 메톡시초산메틸, 메톡시초산에틸, 메톡시초산프로필, 메톡시초산부틸, 에톡시초산메틸, 에톡시초산에틸, 에톡시초산프로필, 에톡시초산부틸, 프로폭시초산메틸, 프로폭시초산에틸, 프로폭시초산프로필, 프로폭시초산부틸, 부톡시초산메틸, 부톡시초산에틸, 부톡시초산프로필, 부톡시초산부틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-메톡시프로피온산부틸, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시플피온산에틸, 2-에톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산부틸, 2-부톡시프로피온산메틸, 2-부톡시프로피온산에틸, 2-부톡시프로피오산프로필, 2-부톡시프로피온산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산프로필, 3-에톡시프로피온산부틸, 3-프로폭시프로피온산메틸, 3-프로폭시프로피온산에틸, 3-프로폭시프로피온산프로필, 3-프로폭시프로피온산부틸, 3-부톡시프로피온산메틸, 3-부톡시프로피온산에틸, 3-부톡시프로피온산프로필, 3-부톡시프로피온산부틸 등의 에스테르류 등을 사용할 수 있다.

특히, 상기 용매는 용해성, 각 성분과의 반응성, 및 도포막 형성이 용이한 글리콜에테르류, 에틸렌알킬에테르아세테이트류, 및 디에틸렌글리콜류로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택하여 사용하는 것이 바람직하다.

상기와 같은 성분으로 이루어지는 본 발명의 네가티브 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 e) 광증감제 및 f) 계면활성제를 더 포함할 수 있다.

상기 e)의 광증감제는 사용하는 자외선 파장에 적절한 감도를 갖고 광개시제 보다 빠른 광개시반응을 통하여 광개시제에 에너지를 전이시켜 광개시제의 광개시 반응 속도를 도와준다.

상기 광증감제는 DETX(상품명 : 2,4-디에틸 티오산톤 구조의 광중합 개시제, 램손사), ITX(이소프로필티오크산톤, 상품명은 Quantacure ITX, 와드 블랜킨솝사) 등을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 광증감제는 상기 b)의 광개시제 100 중량부에 대하여 0.001 내지 40 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 그 함량이 상기 범위 내일 경우에는 네가티브 감광성 수지 조성물의 광경화 속도 향상에 있어 더욱 좋다.

상기 f)의 계면활성제는 네가티브 감광성 조성물의 도포성이나 현상성을 향상시키는 작용을 한다. 상기 계면활성제는 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, F171, F172, F173(상품명: 대일본잉크사), FC430, FC431(상품명: 수미또모트리엠사) 및 KP341(상품명: 신월화학공업사) 등을 사용할 수 있으며, 상기 화합물을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 계면활성제는 상기 a)의 아크릴계 중합체 100 중량부에 대하여 0.0001 내지 2 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 그 함량이 상기 범위 내일 경우에는 네가티브 감광성 조성물의 도포성이나 현상성 향상에 있어 더욱 좋다.

상기와 같은 성분으로 이루어지는 본 발명의 네가티브 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 열중합 금지제, 소포제 및 안료로 이루어지는 군으로부터 1종 이상을 더 포함할 수 있다.

상기와 같은 본 발명의 네가티브 감광성 수지 조성물은 접착력, 내열성, 절 연성, 평탄성, 내화학성 등의 성능이 우수하여 액정표시장치의 화상 형성용 재료로 적합하고, 특히 액정표시장치의 유기절연막 형성 시 감도, 잔막율, UV 투과율 측면에서 우수한 특성을 가지기 때문에, 그 경화물은 액정표시장치의 유기절연막으로 적합하다. 이에 대해 도1을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.

도1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.

도1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(10)는 박막트랜지스터기판(20)과, 박막트랜지스터기판(20)과 대향하도록 합착된 칼라필터기판(140)과, 박막트랜지스터기판(20) 및 칼라필터기판(140) 사이에 형성된 액정(200)을 구비하고 있다.

박막트랜지스터기판(20)은 하부 절연기판(30) 상에 형성된 박막트랜지스터(40)와, 박막트랜지스터(40)와 접속된 화소전극(130)과, 박막트랜지스터(40)와 화소전극(130) 사이에 형성되는 유기절연막(110)을 구비하고 있다.

박막트랜지스터(40)는 게이트선으로부터의 게이트온/오프전압에 응답하여 데이타선으로부터의 데이타전압을 화소전극(130)에 공급한다. 이를 위해, 박막트랜지스터(40)는 게이트선과 접속된 게이트전극(50)과, 데이타선과 접속된 소스전극(60)과, 소스전극(60)과 마주보고 형성되어 있으며 화소전극(130)과 접속된 드레인전극(70)과, 게이트절연막(100)을 사이에 두고 게이트전극(50)과 중첩된 활성층(80) 및 오믹접촉층(90)을 구비하고 있다.

화소전극(130)은 인듐 틴 옥사이드 또는 인듐 징크 옥사이드와 같은 투명한 금속으로 형성되어 있으며 드레인전극(70)으로부터의 데이타전압을 액정(200)에 인 가한다. 이를 위해, 화소전극(130)은 유기절연막(110)을 관통하는 콘택홀(120)을 통해 드레인전극(70)과 접속되어 있다.

유기절연막(110)은 박막트랜지스터(40)를 덮도록 형성됨과 아울러 하부 절연기판(30)의 전면에 형성되어 있다. 유기절연막(110)은 박막트랜지스터(40)를 보호함과 아울러 데이타선과 화소전극(130) 간의 절연을 위해 형성된다. 이 유기절연막(110)은 상기 네가티브 감광성 수지 조성물을 사용한 도포, 노광, 현상 및 경화공정을 통해 형성된다.

칼라필터기판(140)은 상부 절연기판(150) 상에 빛샘 방지를 위해 형성된 블랙매트릭스(160)와, 색구현을 위해 형성된 칼라필터(170)와, 블랙매트릭스(160) 및 칼라필터(170)를 덮도록 형성된 오버코트(180)와, 오버코트(180) 상에 형성된 공통전극(190)을 구비하고 있다.

블랙매트릭스(160)는 액정(200)을 제어할 수 없는 영역을 통해 광이 투과되는 것을 막기 위해 불투명한 유기물질 또는 불투명한 금속으로 형성되어 있다. 칼라필터(170)는 색을 구현하기 위해 적색, 녹색, 및 청색칼라필터(170)를 구비하고 있다. 오버코트(180)는 투명한 유기물질로 형성되어 있으며 칼라필터(170)를 보호하며 공통전극(190)의 양호한 스텝 커버리지(Step Coverage)를 위해 형성된다. 공통전극(190)은 인듐 틴 옥사이드 또는 인듐 징크 옥사이드와 같은 투명한 금속으로 형성되어 있으며 공통전압을 액정(200)에 인가한다.

상기와 같은 네가티브 감광성 수지 조성물을 사용하여 액정표시장치의 패턴형성방법에 대해 도2를 참조하여 상세히 설명한다.

도2는 본 발명의 실시예에 따른 네가티브 감광성 수지 조성물을 사용한 유기절연막의 형성 공정도이다.

도2를 참조하면, 먼저 본 발명의 실시예에 따른 네가티브 감광성 수지 조성물을 준비한 후, 이를 스프레이법, 롤코터법, 회전도포법 등으로 절연기판 상에 도포한 후, 프리베이크에 의해 용매를 제거하여 도포막을 형성한다.　이때, 상기 프리베이크는 70 내지 110℃의 온도에서 1 내지 15분간 실시하는 것이 바람직하다.(S1)

이어, 미리 준비된 패턴에 따라 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, 엑스선 등을 상기 형성된 도포막에 조사 즉, 노광 공정을 수행하고(S2), 현상액으로 현상하여 불필요한 부분을 제거함으로써 소정의 패턴을 형성한다.(S3)

상기 현상액은 알칼리 수용액을 사용하는 것이 좋으며, 구체적으로 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨 등의 무기 알칼리류; n-프로필아민 등의 1급 아민류; 디에틸아민, n-프로필아민 등의 2급 아민류; 트리메틸아민, 메틸디에틸아민, 디메틸에틸아민, 트리에틸아민 등의 3급 아민류; 디메틸에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 알콜아민류; 및 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라에틸암모늄히드록시드 등의 4급 암모늄염의 수용액 등을 사용할 수 있다.　이때, 상기 현상액은 알칼리성 화합물을 0.1 내지 10 중량부의 농도로 용해시켜 사용하며, 메탄올, 에탄올 등과 같은 수용성 유기용매 및 계면활성제를 적정량 첨가할 수도 있다.

상기 현상액으로 현상한 후 초순수로 30 내지 90초간 세정하여 불필요한 부분을 제거하고 건조하여 패턴을 형성하고, 상기 형성된 패턴에 자외선 등의 빛을 조사한 후, 패턴을 오븐 등의 가열장치에 의해 150 내지 250℃의 온도에서 30 내지 90분간 가열처리 즉, 경화 공정을 수행하여 유기절연막을 형성한다.(S4)

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.

실시예 1　

(아크릴계 공중합체 제조)

냉각관과 교반기를 구비한 플라스크에 2,2‘-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 10 중량부, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 200 중량부, 메타크릴산 10 중량부, 메타아크릴산 글리시딜 25 중량부, 하기 화학식 2a의 사이클로헥세닐 메타 아크릴레이트계 화합물 35 중량부 및 스티렌 30 중량부를 넣고, 질소치환한 후 완만히 교반하여 반응 용액을 제조하였다. 상기 반응 용액을 62℃까지 승온시켜 5시간 동안 이 온도를 유지하면서 아크릴계 공중합체를 포함하는 중합체 용액을 제조하였다.

상기 화학식2a에서, R은 CH3이다.

상기와 같이 제조한 아크릴계 공중합체를 헥산 5000 중량부에 적하시켜 석출 하고, 여과 분리한 다음, 여기에 프로피오네이트 200 중량부를 넣고 30℃까지 가열하여 고형분 농도가 45 중량부이고, 중합체의 중량평균분자량은 11000인 중합체 용액을 제조하였다.　이때, 중량평균분자량은 GPC를 사용하여 측정한 폴리스티렌 환산 중량평균분자량이다.

(네가티브 감광성 수지 조성물 제조)

상기 제조한 아크릴계 공중합체를 포함하는 중합체 용액 100 중량부, 광개시제로는 TPO 15 중량부, 광증감제로 ITX 5 중량부, 다관능성 모노머로　트리메틸올프로판트리아크릴레이트 50 중량부, 실리콘계 화합물로 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리메톡시실레인 1 중량부 및 실리콘계 계면활성제로 F171 2 중량부를 혼합하였다. 상기 혼합물에 고형분 농도가 35 중량부가 되도록 디에틸렌글리콜 디메틸에테르를 가하여 용해시킨 후, 0.2㎛의 밀리포아필터로 여과하여 네가티브 감광성 수지 조성물 코팅 용액을 제조하였다.

실시예 2

상기 실시예 1의 아크릴계 공중합체 제조에서 메타아크릴산 글리시딜을 15 중량부, 화학식 2a의 사이클로헥세닐 메타 아크릴레이트계 화합물을 45 중량부로 사용하여 고형분의 농도가 45 중량부이고, 중량평균분자량이 13000인 아크릴계 공중합체를 제조한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 네가티브 감광성 수지 조성물 코팅 용액을 제조하였다.

실시예 3

상기 실시예 1의 아크릴계 공중합체 제조에서 화학식 2a의 사이클로헥세닐 메타 아크릴레이트계 화합물을 65 중량부, 메타크릴산 5 중량부, 메타크릴산 글리시딜 5 중량부, 스티렌을 25 중량부로 중합체 용액을 제조하였으며, 프로피오네이트 250 중량부를 첨가하여 고형분의 농도가 45 중량부이고, 중량평균분자량이 15000인 아크릴계 공중합체를 제조한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 네가티브 감광성 수지 조성물 코팅용액을 제조하였다.

실시예 4　

상기 실시예 1의 아크릴계 공중합체 제조에서 2,2‘-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 10 중량부, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 200 중량부, 메타크릴산 10 중량부, 메타아크릴산 글리시딜 25 중량부, 하기 화학식 2b의 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물 35 중량부 및 스티렌 30 중량부로 중합체 용액을 제조 하였으며, 프로피오네이트 220 중량부를 첨가하여 고형분의 농도가 45 중량부이고, 중량평균분자량이 15000인 아크릴계 공중합체를 제조한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 감광성 수지 네가티브 조성물 코팅용액을 제조하였다.

상기 화학식 2b에서, R은 H이다.

실험예

상기 실시예 1 내지 4에서 제조된 네가티브 감광성 수지 조성물 코팅용액을 이용하여 하기와 같은 방법으로 물성을 평가한 후, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.

ㄱ) 감도 - 절연기판 상에 스핀코터를 사용하여 상기 실시예 1 내지 4에서 제조된 네가티브 감광성 수지 조성물 코팅용액을 도포한 뒤, 90℃로 2분간 핫 플레이트 상에서 프리베이크하여 도포막을 형성하였다.

상기에서 얻어진 도포막에 소정 패턴 마스크를 사용하여 365㎚에서의 강도가 15㎽/㎠인 자외선을 6초간 조사하였다.　이후, 테트라메틸암모늄히드록시드 0.38 중량부의 수용액으로 25℃에서 2분간 현상한 후, 초순수로 1분간 세정하였다.

이어, 상기에서 현상된 패턴에 365㎚에서의 강도가 15㎽/㎠인 자외선을 34초간 조사하고, 120℃에서 3분간 미드베이크한 후, 오븐 속에서 220℃로 60분간 가열하여 경화시켜 패턴 막을 얻었다.

ㄴ) 잔막율 - 상기 ㄱ)의 감도 측정시 형성된 패턴 막의 가장 아래와 패턴의 가장 윗쪽의 높이를 측정하였다.　이때, 두께 변화율이 프리베이크하여 얻어진 막의 두께를 기준으로, 0 내지 10%인 경우를 우수, 10 내지 40%인 경우를 양호, 40%를 넘는 경우를 나쁨으로 나타내었다.

ㄷ) 투과율 -　　상기 ㄱ)의 감도 측정시 프리베이크 후의 막두께가 3미크론인 도막의 가시광선의 광흡수 스펙트럼을 측정하고, 400㎚에 있어서 광선 투과율이 98% 이상의 경우를 매우 우수, 94 내지 98%인 경우를 우수, 92 내지 94%인 경우를 보통, 92% 이하인 경우를 나쁨으로 나타내었다.

	실시예 1	실시예 2	실시예 3	실시예 4	기존
감도(mJ/㎠)	30	21	18	13	55 내지 200
잔막율	우수	우수	양호	양호	양호
투과율	우수	우수	우수	양호	보통 또는 나쁨
얼룩현상	양호	양호	우수	우수	나쁨

상기 표 1을 통하여, 본 발명에 따라 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물을 포함하여 제조한 아크릴계 공중합체를 사용한 실시예 1 내지 4는 감도가 10 내지 30mJ/㎠로 종래의 포지티브 포토레지스트 조성물로 얻어진 유기절연막의 감도 55 내지 200mJ/㎠과 비교하여 매우 우수하였으며, 특히 투과율에서 종래의 포지티브 포토레지스트 조성물로 얻어진 유기절연막에 비해 상당히 우수한 투과율을 보였다.

이로부터, 본 발명에 따른 네가티브 감광성 수지 조성물을 액정표시장치의 유기절연막으로 사용할 경우 아주 우수한 감도, 잔막율 및 투과율을 향상에 기여할 수 있었다.

이상에서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

본 발명에 따른 네가티브 감광성 수지 조성물은 접착력, 내열성, 절연성, 평탄성,또는 내화학성 등을 가질 뿐만 아니라 개선된 감도, 잔막율, 또는 UV 투과율 가진다.

Claims (14)

1. a)ⅰ) 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물;

   　　ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물;

   　　ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물; 및

   　　ⅳ) 올레핀계 불포화 화합물

   　　을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체;

   b) 광개시제;

   c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머;

   d) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물.
2. 제1항에 있어서,

   상기 a)ⅰ) 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물 5 내지 85 중량부;

   상기 　　ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물 5 내지 40 중량부;

   상기 　　ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물 5 내지 70 중량부; 및

   상기 　　ⅳ) 올레핀계 불포화 화합물 10 내지 70 중량부

   　　 을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체 100 중량부;

   상기 b) 광개시제 0.001 내지 30 중량부;

   상기 c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머 10 내지 100 중량부;

   상기 d) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물 0.0001 내지 5 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물.
3. 제1항에 있어서,

   상기 a)ⅰ)의 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물은

   하기 화학식 1의 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물.

   <화학식 1>

   

   상기 화학식 1에서, R은 H 및 CH3 중 어느 하나이다.
4. 제1항에 있어서,

   상기 a)ⅱ)의 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물 또는 이들의 혼합물은

   아크릴산, 메타크릴산, 말레인산, 푸마르산, 시트라콘산, 메타콘산, 이타콘산, 및 이들의 불포화 디카르본산의 무수물로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선 택되는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물.
5. 제1항에 있어서,

   상기 a)ⅲ)의 에폭시기 함유 불포화 화합물은

   아크릴산 글리시딜, 메타크릴산 글리시딜, α-에틸아크릴산 글리시딜, α-n-프로필아크릴산 글리시딜, α-n-부틸아크릴산 글리시딜, 아크릴산-β-메틸글리시딜, 메타크릴산-β-메틸글리시딜, 아크릴산-β-에틸글리시딜, 메타크릴산-β-에틸글리시딜, 아크릴산-3,4-에폭시부틸, 메타크릴산-3,4-에폭시부틸, 아크릴산-6,7-에폭시헵틸, 메타크릴산-6,7-에폭시헵틸, α-에틸아크릴산-6,7-에폭시헵틸, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, 및 p-비닐벤질글리시딜에테르로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물.
6. 제1항에 있어서,

   상기 a)ⅳ)의 올레핀계 불포화 화합물은

   메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, sec-부틸 메타크릴레이트, tert-부틸 메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트, 시클로헥실 메타크릴레이트, 2-메틸시클로 헥실메타크릴레이트, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐메타크릴레이트, 1-아다만틸 아크릴레이트, 1-아다만틸 메타크릴레 이트, 디시클로펜타닐옥시에틸메타크릴레이트, 이소보로닐메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸아크릴레이트, 이소보로닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 스티렌, σ-메틸 스티렌, m-메틸 스티렌, p-메틸 스티렌, 비닐톨루엔, p-메톡시 스티렌, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 및 2,3-디메틸 1,3-부타디엔으로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물.
7. 제1항에 있어서,

   상기 a)의 아크릴계 공중합체의 폴리스티렌 환산 중량평균분자량이 6000 내지 90000인 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물.
8. 제1항에 있어서,

   상기 b)의 광개시제는

   Irgacure 369, Irgacure 651, Irgacure 907, Darocure TPO 및 Irgacure 819로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물.
9. 제1항에 있어서,

   상기 c)의 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머는

   1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트 및 이들의 메타크릴레이트류로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물.
10. 제1항에 있어서,

    상기 d)의 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물은

    (3-글리시드옥시프로필)트리메톡시릴레인, (3-글리시드옥시프로필)트리에톡시실레인, (3-글리시드옥시프로필)메틸디메톡시실레인, (3-글리시드옥시프로필)트리메톡시실레인, (3-글리시드옥시프로필)디메틸에톡시실레인, 3,4-에폭시부틸트리메톡시실레인, 3,4-에폭시부틸트리에톡시실레인, 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리메톡시실레인, 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리에톡시실레인, 및 아미노프로필트리메톡시실레인으로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물.
11. 제1항에 있어서,

    상기 네가티브 감광성 수지 조성물이 DETX, ITX로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 e) 광증감제를 광개시제 100 중량부에 대하여 0.001 내지 40 중 량부로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물.
12. 제1항에 있어서,

    상기 네가티브 감광성 수지 조성물이 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, F171, F172, F173, FC430, FC431, 및 KP341로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 g) 계면활성제를 아크릴계 중합체 100 중량부에 대하여 0.0001 내지 2 중량부로 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 네가티브 감광성 수지 조성물.
13. 박막트랜지스터와;

    상기 박막트랜지스터와 접속된 화소전극과;

    상기 박막트랜지스터와 상기 화소전극 사이에 형성되며,

    a)ⅰ) 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물;

    　　ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물;

    　　ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물; 및

    　　ⅳ) 올레핀계 불포화 화합물

    　　을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체;

    b) 광개시제;

    c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머;

    d) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물을 포함하는 네가티브 감광성 수지 조성물의 경화물을 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
14. a)ⅰ) 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 화합물;

    　　ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물;

    　　ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물; 및

    　　ⅳ) 올레핀계 불포화 화합물

    　　을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체;

    b) 광개시제;

    c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머;

    d) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물을 포함하는 네가티브 감광성 수지 조성물을 절연기판 상에 도포하는 단계와;

    상기 네가티브 감광성 수지 조성물이 도포된 상기 절연기판 상에 노광 공정을 수행하는 단계와;

    상기 노광 공정이 수행된 상기 절연기판 상에 현상 공정을 수행하는 단계와;

    상기 현상 공정이 수행된 상기 절연기판 상에 경화 공정을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 패턴형성방법.

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