KR20070063516A

KR20070063516A - 공비형 용제 조성물 및 혼합 용제 조성물

Info

Publication number: KR20070063516A
Application number: KR1020077006526A
Authority: KR
Inventors: 미치오미 나가세; 마사아키 츠자키
Original assignee: 아사히 가라스 가부시키가이샤
Priority date: 2004-10-05
Filing date: 2005-10-05
Publication date: 2007-06-19
Also published as: CN100510043C; ATE410503T1; EP1808481B1; JPWO2006038655A1; CN101035888A; JP4775263B2; EP1808481A1; WO2006038655A1; ES2314713T3; US7662764B2; EP1808481A4; DE602005010291D1; US20070173432A1; KR101191067B1

Abstract

아크릴 수지로 이루어지는 부재나 아크릴 수지가 코팅된 부재의 표면으로부터, 그 부재에 영향을 주지 않고, 진애, 유지류 등의 오염을 제거할 수 있는 용제 조성물의 제공.

(2,2,2-트리플루오로에톡시)-1,1,2,2-테트라플루오로에탄 38∼41질량% 와, 퍼플루오로헥산 59∼62질량% 로 이루어지는 공비형 용제 조성물. (2,2,2-트리플루오로에톡시)-1,1,2,2-테트라플루오로에탄 30∼60질량%, 및 퍼플루오로헥산 40∼70질량% 를 함유하는 혼합 용제 조성물.

용제 조성물

Description

공비형 용제 조성물 및 혼합 용제 조성물{AZEOTROPE-LIKE SOLVENT COMPOSITION AND MIXED SOLVENT COMPOSITION}

본 발명은, IC 등의 전자 부품, 정밀 기계 부품, 유리 기판, 수지 성형 부품 등의 물품의 표면에 부착하는 유지류, 진애(塵埃) 등의 오염을 제거하기 위해 이용되는 용제 조성물에 관한 것이다.

종래, 정밀 기계 공업, 광학 기기 공업, 전기 전자 공업, 및 플라스틱 가공 업 등에 있어서, 제조 가공 공정 등으로 표면에 부착된 유지류나 진애 등을 제거하기 위한 정밀 세정용 용제로서는, 할로겐화 탄화 수소가 알려져 있었다.

그러나, 클로로플루오로카본, 하이드로클로로플루오로카본 등의 할로겐화 탄화 수소는, 오존 파괴 계수를 가짐으로써, 최근에는 이것을 대신하는 용제의 개발이 진행되고 있고, 이러한 용제의 하나로서, 하이드로플루오로에테르 (이하, HFE 라고 한다.) 류가 알려져 있다. HFE류는, 불연성이며 화학적 및 열적 안정성 이 우수한, 건조성이 우수한, 오존 파괴 계수가 제로이며 지구 온난화 효과가 작은 등의 이점을 갖는다. HFE류로서는, 구체적으로는, HFE-7100 (C₄F₉OCH₃, 3M사 제품명), HFE-7200 (C₄F₉OC₂H₅, 3M사 제품명) 이 알려져 있다.

일반적으로 HFE류는, 상기 할로겐화 탄화 수소와 비교하여 유지류의 용해성이 낮고, 상기 할로겐화 탄화 수소를 대체하는 세정제로서는 사용이 어렵다는 문제가 있다.

그러나, 본 발명자들은, HFE류의 일종인 (2,2,2-트리플루오로에톡시)-1,1,2,2-테트라플루오로에탄이, 몇가지의 유지류, 예를 들어 그 일종인 파나세이트 810 (일본 유지사 제품명) 을 용해할 수 있는 것을 발견하였다.

그러나, (2,2,2-트리플루오로에톡시)-1,1,2,2-테트라플루오로에탄을 이용하여 파나세이트 810 가 부착된 물품을 세정하는 경우로서, 피세정 물품이 아크릴 수지, 또는 아크릴 수지를 코트한 기재로 이루어지는 경우에는, 피세정 물품에 백화나 균열이 발생하는, 아크릴 수지가 용출되는 등의 문제가 있었다.

한편, 특허 문헌 1 에는, (2,2,2-트리플루오로에톡시)-1,1,2,2-테트라플루오로에탄과, 메탄올 등의 알코올류로 이루어지는 공비(共沸)형 조성물이, 플럭스, 기름 등의 제거제, 전자 부품, 수지 가공 부품, 광학 렌즈 등의 세정제, 수분 제거 건조제 등에 유용한 것이 기재되어 있다.

그러나, 특허 문헌 1 에 기재된 조성물은, 몇가지의 수지류, 예를 들어 아크릴 수지에 대한 영향이 크고, 아크릴 수지나 아크릴 수지를 코트한 기재를 접촉시키면, 백화나 균열, 용출 등을 일으키는 문제가 있었다.

또, 퍼플루오로헥산 등의 퍼플루오로카본도, 오존 파괴 계수가 제로인 화합물인데, 퍼플루오로카본을 기름 등의 세정제로서 이용하려고 해도, 세정력은 충분하지 않아, 세정 불량을 일으키는 문제가 있었다.

특허 문헌 1 : 일본 공개특허공보 평10-324897호 (특허청구범위, 단락 0009)

발명의 개시

발명이 해결하고자 하는 과제

본 발명은, 아크릴 수지로 이루어지는 부재나 아크릴 수지가 코팅된 부재의 표면으로부터, 그 부재에 영향을 주지 않고, 유지류 등의 오염을 제거할 수 있는 용제 조성물의 제공을 목적으로 한다.

과제를 해결하기 위한 수단

본 발명은, (2,2,2-트리플루오로에톡시)-1,1,2,2-테트라플루오로에탄 38∼41질량% 와, 퍼플루오로헥산 59∼62질량% 로 이루어지는 공비형 용제 조성물을 제공한다. 압력 1.011×10⁵Pa 에 있어서의, 이 공비형 용제 조성물의 비점은 47∼48℃ 이다. 여기에서, 공비형 용제 조성물이란, 비휘발도가 1.00±0.04의 범위에 있는 혼합 용제 조성물을 말한다.

또, 본 발명은, (2,2,2-트리플루오로에톡시)-1,1,2,2-테트라플루오로에탄 30∼60질량%, 및 퍼플루오로헥산 40∼70질량% 를 함유하는 혼합 용제 조성물을 제공한다.

본 발명에 있어서, 퍼플루오로헥산은 n-퍼플루오로헥산 및/또는 퍼플루오로 이소헥산을 주성분으로 하는 퍼플루오로헥산을 가리킨다. 여기에서 퍼플루오로헥산에 있어서의, n-퍼플루오로헥산과 퍼플루오로이소헥산의 함유 비율의 합계는 90질량% 이상인 것이 바람직하다.

본 명세서에 있어서는, 이하, (2,2,2-트리플루오로에톡시)-1,1,2,2-테트라플루오로에탄을 HFE-347 이라고 한다.

발명의 효과

본 발명의 공비형 용제 조성물 및 혼합 용제 조성물은, 예를 들어 아크릴 수지에 대한 영향이 작다. 따라서, 이들의 용제 조성물을, 아크릴 수지로 이루어지는 부재나 아크릴 수지가 코팅된 부재의 세정에 이용했을 경우에는, 상기 부재에 백탁이나 균열을 일으키지 않고 세정할 수 있다.

그리고, 본 발명의 공비형 용제 조성물 및 혼합 용제 조성물은, 피세정 물품의 표면에 부착된 유지나 진애, 파티클, 수지의 절단된 분해물 등의 오염 물질, 표면 장력이 크고 비중이 작은 용제의 액체 방울, 물의 물방울 등도 용이하게 제거할 수 있다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

공비형 용제 조성물에는, 그 용제 조성물을 반복 증발, 응축했을 경우, 용제 조성물의 조성 변화가 없고, 매우 안정적으로 세정 성능이 얻어지는 이점이 있다. 따라서, 본 발명의 공비형 용제 조성물도 상기 이점을 갖는다.

본 발명의 공비형 용제 조성물은, HFE-347 과 퍼플루오로헥산만으로 이루어진다. 또, 본 발명의 혼합 용제 조성물은, HFE-347 및 퍼플루오로헥산을 필수로 하고, 추가로 다른 화합물을 함유하고 있어도 된다. 다른 화합물의 함유 비율은 20질량% 이하, 특별히는 10질량% 이하로 하는 것이 바람직하다.

상기 다른 화합물로서는, 탄화 수소류, 알코올류, 케톤류, 할로겐화 탄화 수소류, 에테르류, 에스테르류 및 글리콜에테르류로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물을 들 수 있다. 또한, 여기에서 나타내는 에테르류는 불소화된 에테르류를 제외하고, 할로겐화 탄화 수소류는 적어도 1 개의 염소 원자로 치환되는 탄화 수소이다.

탄화 수소류로서는, 탄소수 5∼15 의 사슬형 또는 고리형의 포화 또는 불포화 탄화 수소류가 바람직하고, n-펜탄, 2-메틸부탄, n-헥산, 2-메틸펜탄, 2,2-디메틸부탄, 2,3-디메틸부탄, n-헵탄, 2-메틸헥산, 3-메틸헥산, 2,4-디메틸펜탄, n-옥탄, 2-메틸헵탄, 3-메틸헵탄, 4-메틸헵탄, 2,2-디메틸헥산, 2,5-디메틸헥산, 3,3-디메틸헥산, 2-메틸-3-에틸펜탄, 3-메틸-3-에틸펜탄, 2,3,3-트리메틸펜탄, 2,3,4-트리메틸펜탄, 2,2,3-트리메틸펜탄, 2-메틸헵탄, 2,2,4-트리메틸펜탄, n-노난, 2,2,5-트리메틸헥산, n-데칸, n-도데칸, 시클로펜탄, 메틸시클로펜탄, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 에틸시클로헥산, 비시클로헥산 등을 들 수 있다. 그 중에서도, n-펜탄, 시클로펜탄, n-헥산, 시클로헥산, n-헵탄 등의 탄소수 5∼7 의 탄화 수소는 바람직하다.

알코올류로서는, 탄소수 1∼16 의 사슬형 또는 고리형의 알코올류가 바람직하고, 메탄올, 에탄올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, sec-부틸알코올, 이소부틸알코올, tert-부틸알코올, 1-펜틸알코올, 2-펜틸알코올, 1-에틸-1-프로필알코올, 2-메틸-1-부틸알코올, 3-메틸-1-부틸알코올, 3-메틸-2-부틸알코올, 네오펜틸알코올, 1-헥실알코올, 2-메틸-1-펜틸알코올, 4-메틸-2-펜틸알코올, 2-에틸-1-부틸알코올, 1-헵틸알코올, 2-헵틸알코올, 3-헵틸알코올, 1-옥틸알코올, 2-옥틸알코올, 2-에틸-1-헥실알코올, 1-노닐알코올, 3,5,5-트리메틸-1-헥실알코올, 1-데실알코올, 1-도데실알코올, 시클로헥실알코올, 1-메틸시클로헥실알코올, 2-메틸시클로헥실알코올, 3-메틸시클로헥실알코올, 4-메틸시클로헥실알코올, α-테르피네올, 2,6-디메틸-4-헵틸알코올, 1-테트라데실알코올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올 등의 탄소수 3 이하의 알킬알코올이 바람직하다.

케톤류로서는, 탄소수 3∼9 의 사슬형 또는 고리형의 케톤류가 바람직하고, 구체적으로는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 2-펜타논, 3-펜타논, 2-헥사논, 메틸이소부틸케톤, 2-헵타논, 3-헵타논, 4-헵타논, 디이소부틸케톤, 시클로헥사논, 2-메틸시클로헥사논, 3-메틸시클로헥사논, 4-메틸시클로헥사논, 아세토페논 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 탄소수 3∼4 의 케톤이 바람직하다.

할로겐화 탄화 수소류로서는, 탄소수 1∼6 의 포화 또는 불포화의 염소화 또는 염소화 불소화 탄화 수소류가 바람직하고, 염화 메틸렌, 1,1-디클로로에탄, 1,2-디클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에탄, 1,1,1,2-테트라클로로에탄, 1,1,2,2-테트라클로로에탄, 펜타클로로에탄, 1,1-디클로로에틸렌, 시스-1,2-디클로로에틸렌, 트랜스-1,2-디클로로에틸렌, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 1,2-디클로로 프로판, 1,1-디클로로-2,2,3,3,3-펜타플루오로프로판 (HCFC-225ca), 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판 (HCFC-225cb), 1,1-디클로로-1-플루오로에탄 (HCFC-141b), 데카플루오로펜탄 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 염화 메틸렌, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌 등의 탄소수 1∼2 의 염소화 탄화 수소 및, HCFC-225ca, HCFC-225cb, HCFC-141b 가 바람직하다.

에테르류로서는, 탄소수 2∼8 의 사슬형 또는 고리형의 에테르류가 바람직하고, 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 에틸비닐에테르, 부틸비닐에테르, 아니솔, 페네톨, 4-메틸아니솔, 디옥산, 푸란, 2-메틸푸란, 테트라히드로푸란 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란 등의 탄소수 4∼6 의 에테르가 바람직하다.

에스테르류로서는, 탄소수 2∼19 의 사슬형 또는 고리형의 에스테르류가 바람직하고, 구체적으로는, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 프로필, 아세트산 이소프로필, 아세트산 부틸, 아세트산 이소부틸, 아세트산 sec-부틸, 아세트산 펜틸, 아세트산(3-메톡시)부틸, 아세트산 sec-헥실, 아세트산2-에틸부틸, 아세트산2-에틸헥실, 아세트산 시클로헥실, 아세트산 벤질, 프로피온산 메틸, 프로피온산 에틸, 프로피온산 부틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산 에틸, 프탈산 디에틸, 프탈산 디부틸 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸 등의 탄소수 3∼4 의 에스테르가 바람직하다.

글리콜에테르류로서는, 탄소수 2∼4 인 2 가 알코올의 2∼4량체의 일방 또는 양방의 수산기의 수소 원자가 탄소수 1∼6 의 알킬기로 치환된 글리콜에테르류가 바람직하고, 구체적으로는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 에틸렌글리콜디부틸에테르, 에틸렌글리콜모노메톡시메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르의 글리콜에테르류이다.

본 발명의 혼합 용제 조성물이, 탄소수 1∼3 의 알코올류, 그 중에서도 에탄올 또는 이소프로필알코올을 함유하는 경우에는, 세정력을 향상할 수 있는 데다가, 표면에 수분이 부착된 물품으로부터 수분을 제거하는, 이른바 탈수 건조 용도에서도 이용할 수 있는 점에서 바람직하다. 또한, 탄소수 1∼3 의 알코올류를 함유하는 혼합 용제 조성물이, 공비 조성 또는 공비형 조성을 형성하는 경우에는, 공비 용제 조성물 또는 공비형 용제 조성물이 되는 조성비를 선택하는 것이 바람직하다.

또, 주로 안정성을 높인다는 관점으로부터, 이하에 예시하는 화합물의 1 종 또는 2 종 이상을, 공비형 용제 조성물 또는 혼합 용제 조성물 중에 0.001∼5질량% 가 되도록 배합해도 된다.

배합할 수 있는 화합물로서는, 이하의 것을 들 수 있다. 니트로메탄, 니트로에탄, 니트로프로판, 니트로벤젠 등의 니트로 화합물류. 디에틸아민, 트리에틸아민, 이소프로필아민, 디이소프로필아민, n-부틸아민 등의 아민류. 페놀, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 티몰, p-t-부틸페놀, t-부틸카테콜, 카테콜, 이소오이게놀, o-메톡시페놀, 비스페놀 A, 살리실산 이소아밀, 살리실산 벤질, 살리실산 메틸, 2,6-디-t-부틸-p-크레졸 등의 페놀류. 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 1,2,3-벤조트리아졸, 1-[(N,N-비스-2-에틸헥실)아미노메틸]벤조트리아졸 등의 트리아졸류.

본 발명의 공비형 용제 조성물 또는 혼합 용제 조성물을 이용하여 세정할 수 있는 물품의 재질로서는, 아크릴 수지 등의 플라스틱 외에, 유리, 세라믹, 엘라스토머, 또는 금속 등을 들 수 있다. 또, 상기 물품의 구체예로서는, 전자 기기, 전기 기기, 정밀 기계, 정밀 기구, 광학 물품 등, 및 그들의 부품인 IC, 마이크로 모터, 릴레이, 베어링, 광학 렌즈, 유리 기판 등을 들 수 있다.

본 발명의 공비형 용제 조성물 또는 혼합 용제 조성물을 이용하여 제거할 수 있는 오염으로서는, 물품 또는 물품을 구성하는 부품을 제조할 때에 부착되어, 최종적으로 제거되어야 하는 오염을 들 수 있고, 구체적으로는, 일부의 유지, 진애, 파티클, 수지의 절단된 분해물 등의 오염 물질을 들 수 있다. 또, 본 발명의 공비 용제 조성물 또는 혼합 용제 조성물을 이용함으로써, 표면 장력이 크고 비중이 작은 용제의 액체 방울, 물의 물방울 등에 대해서도 제거할 수 있다.

이러한 오염을 제거하기 위해서는, 본 발명의 각 용제 조성물을 피세정 물품의 표면에 접촉시키면 된다. 구체적인 수단으로서는, 예를 들어, 닦기, 침지, 스프레이, 침지 요동, 침지 초음파 세정, 증기 세정, 또는 이들을 조합한 방법 등을 채용할 수 있다.

<기액 평형의 측정>

HFE-347 과, PF-5060 (퍼플루오로헥산, 스미토모 3M사 제품명) 을 여러가지의 중량비로 혼합하여 얻어진 용제 조성물 300g 을, 오스머 기액 평형 증류 장치에 넣고, 압력 9.96×10⁴∼1.02×10⁵pa 로 증류를 실시하였다. 기상과 액상의 온도가 평형 상태가 된 시점에서, 기상 및 액상으로부터 그 용제 조성물의 샘플을 채취하여, 가스 크로마토그래피로 HFE-347 과 PF-5060 의 조성을 분석하였다. 그 결과, 대기압 (1.011×10⁵pa) 에 있어서, 기상 및 액상의 조성은, HFE-347 이 39.5질량%, PF-5060 이 60.5질량% 로 일치하였다. 이 때의 기상 온도는 47.6℃ 였다.

<아크릴 수지에 대한 영향의 확인 시험>

이하의 방법에 따라, 용제 조성물이 아크릴 수지에 주는 영향에 대하여 시험을 실시하였다. 예 1∼3 은 실시예, 예 4 는 비교예이다.

표 1 에 나타내는, HFE-347 및 PF-5060 로 이루어지는 용제 조성물 (예 1∼4) 을 준비하였다. 각 용제 조성물 100mL 에, 6mm 직경의 구멍이 있는, 25mm×30mm×2mm 의 아크릴 수지 (아크릴라이트 L : 미츠비시 레이욘사 제품명) 의 시험편을 실온 (21℃) 에서 1 분간 침지한 후, 끌어올려, 시험편의 외관을 관찰하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다. 표 1 에 있어서, 0 : 거의 변화 없음, 1 : 구멍 의 주연부에 크랙이 발생한 것을 나타낸다.

예	용제 조성물 (질량 비율)	아크릴 수지에 대한 영향
1	HFE-347(30)/PF-5060(70)	0
2	HFE-347(40)/PF-5060(60)	0
3	HFE-347(60)/PF-5060(40)	0
4	HFE-347(70)/PF-5060(30)	1

<연질 염화 비닐 수지에 대한 영향의 확인 시험>

이하의 방법에 따라, 용제 조성물이 연질 염화 비닐 수지에 주는 영향에 대해 시험을 실시하였다. 예 5∼7 은 실시예, 예 8 은 비교예이다.

표 2 에 나타내는, HFE-347 및 PF-5060 로 이루어지는 용제 조성물 (예 5∼7), 및 HFE-347 로 이루어지는 조성물 (예 8) 을 준비하였다. 각 용제 조성물 100mL 에, 6mm 직경의 구멍이 있는, 25mm×30mm×2mm 의 연질 염화 비닐 수지 (터프닐 : 일본 웨이브로크사 제품명) 의 시험편을 비점 (56℃) 에서 3 일간 침지한 후, 끌어올려, 시험편의 외관을 관찰하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다. 표 2 에 있어서, 0 : 거의 변화 없음, 1 : 전체가 희게 변색한 것을 나타낸다.

예	용제 조성물 (질량 비율)	연질 염화 비닐 수지에 대한 영향
5	HFE-347(30)/PF-5060(70)	0
6	HFE-347(40)/PF-5060(60)	0
7	HFE-347(60)/PF-5060(40)	0
8	HFE-347(100)	1

<탈지 세정 시험>

이하의 방법에 따라, 용제 조성물을 이용하여 유지의 세정 시험을 실시하였다. 예 9, 예 10 은 실시예, 예 11∼13 은 비교예이다.

50mm×50mm×2mm 의 철제 (SPCC-SB) 시험편의 표면에, 유지인 파나세이트 810 (일본 유지사 제품명) 0.3g 을 균일하게 도포하고, 이것을 표 2 에 나타내는 각 용제 조성물 중에 40℃ 에서 1 분간 침지한 후, 동일한 조성의 용제 조성물 중에 25℃ 에서 1 분간 침지하고, 이어서, 상기 용제 조성물을 가열하여 얻어진 증기에 1 분간 노출하여 시험편을 건조시켰다. 또한, 예 13 에서 이용한 HFE-7100 은 스미토모 3M사 제조의 C₄F₉OCH₃ 이다.

상기 시험 전후의 시험편의 중량을 측정하고, 시험 후의 유지의 부착량 및 유지의 제거율을 산출하였다. 결과를 표 3 에 나타낸다.

예	용제 조성물 (질량 비율)	유지 부착량 (mg)	제거율(%)	외관
9	HFE-347(40)/PF-5060(60)	<3	>99	양호
10	HFE-347(30)/PF-5060(70)	<3	>99	양호
11	HFE-347(20)/PF-5060(80)	15	95	일부에 유지 부착
12	PF-5060(100)	81	73	전체면에 유지 부착
13	HFE-7100(100)	45	85	전체면에 유지 부착

<파티클 제거 시험>

이하의 방법에 따라, 용제 조성물을 이용하여 파티클 제거 시험을 실시하였다. 예 14∼16 은 실시예이다.

6mm 직경의 구멍이 있는, 30mm×25mm×2mm 의 저압 폴리에틸렌제 시험편의 표면에, 동일한 재질의 시험편을 미세하게 깎아 얻은 미세한 입자 약 3mg 을 균일하게 산포하였다. 이것을, 표 4 에 나타내는 각 용제 조성물 중에, 40℃ 에서 40kHz, 200W 의 초음파를 가하면서 1 분간 침지한 후, 동일한 조성의 용제 조성물중에 25℃ 에서 1 분간 침지하고, 이어서, 상기 용제 조성물을 가열하여 얻어진 증기에 1 분간 노출하여 시험편을 건조시켰다.

상기 시험 후의 시험편을 육안으로 관찰하고, 시험편 표면에 부착되어 있는 미립자의 유무를 확인하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.

예	용제 조성물 (질량 비율)	미립자의 유무
14	HFE-347(30)/PF-5060(70)	없음
15	HFE-347(40)/PF-5060(60)	없음
16	HFE-347(60)/PF-5060(40)	없음

<탈수 세정 시험>

이하의 방법에 따라, 용제 조성물을 이용하여 탈수 세정 시험을 실시하였다. 예 17 및 예 18 은 실시예이다.

표 5 에 나타내는 각 용제 조성물 100 질량부에 에탄올 5 질량부를 첨가하여 조제한 혼합 용액을 준비하였다.

수계 세정제 및 순수로 세정한 50mm×50mm×2mm 의 유리판을, 순수에 침지 한 후, 이것을, 각 혼합 용액 중에, 40℃ 에서 40kHz, 200W 의 초음파를 가하면서 1 분간 침지하였다. 이어서, 동일한 조성의 혼합 용액을 가열하여 얻어진 증기에 1 분간 노출하여 시험편을 헹굼 세정하고, 건조시켰다.

상기 시험 후의 시험편을 육안으로 관찰하고, 시험편 표면에 부착되어 있는 수분의 유무를 확인하였다. 결과를 표 5 에 나타낸다.

예	용제 조성물 (질량 비율)	수분 부착의 유무
17	HFE-347(40)/PF-5060(60)	없음
18	HFE-347(30)/PF-5060(70)	없음

본 발명의 각 용제 조성물은, IC 등의 전자 부품, 정밀 기계 부품, 유리 기 판, 수지 성형 부품 등, 특히, 적어도 표면이 아크릴 수지로 이루어지는 물품의 표면에 부착되는 진애, 유지류 등의 오염의 제거에 유용하다.

또한, 2004년 10월 5일에 출원된 일본 특허 출원 2004-292618호의 명세서, 특허 청구 범위 및 요약서의 전체 내용을 여기에 인용하고, 본 발명의 명세서의 개시로서 삽입되는 것이다.

Claims

(2,2,2-트리플루오로에톡시)-1,1,2,2-테트라플루오로에탄 38∼41질량% 와, 퍼플루오로헥산 59∼62질량% 로 이루어지는 공비형 용제 조성물.
(2,2,2-트리플루오로에톡시)-1,1,2,2-테트라플루오로에탄 30∼60질량%, 및 퍼플루오로헥산 40∼70질량% 를 함유하는 혼합 용제 조성물.
피세정 물품의 표면에, 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 용제 조성물을 접촉시킴으로써, 피세정 물품에 부착되는 오염을 제거하는 피세정 물품의 세정 방법.
피세정 물품의 표면에, 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 용제 조성물을 접촉 시킴으로써, 피세정 물품에 부착되는 수분을 제거하는 피세정 물품의 수분 제거 방법.
제 3 항에 있어서,

상기 오염이 유지인 피세정 물품의 세정 방법.
제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,

피세정 물품이 아크릴 수지로 이루어지는 피세정 물품의 세정 방법.
제 4 항에 있어서,

피세정 물품이 아크릴 수지로 이루어지는 피세정 물품의 수분 제거 방법.