KR20070063450A - 기판 처리 장치 및 덮개 지지 장치 - Google Patents
기판 처리 장치 및 덮개 지지 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20070063450A KR20070063450A KR1020060127316A KR20060127316A KR20070063450A KR 20070063450 A KR20070063450 A KR 20070063450A KR 1020060127316 A KR1020060127316 A KR 1020060127316A KR 20060127316 A KR20060127316 A KR 20060127316A KR 20070063450 A KR20070063450 A KR 20070063450A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- processing chamber
- chamber
- processing apparatus
- lid
- movement restricting
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/6719—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the processing chambers, e.g. modular processing chambers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
Claims (16)
- 피처리 기판에 소정의 처리를 실시하는 처리실로서, 상기 처리실을 밀폐하기 위한 처리실 상측 덮개가 상부에 설치된 처리실을 구비하는 기판 처리 장치에 있어서,상기 처리실 상측 덮개를 위쪽에서 수직 방향으로 이동이 자유롭게 유지하는 수직 이동 규제부와, 상기 처리실 상측 덮개를 소정의 수평 방향으로 이동이 자유롭게 유지하는 수평 이동 규제부로 이루어지는, 상기 처리실 상측 덮개를 매달아 지지하는 덮개 지지 기구를 구비하며, 상기 수평 이동 규제부는 상기 수직 이동 규제부를 개재하여 상기 처리실 상측 덮개를 매달아 지지하는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 수직 이동 규제부는 수직 방향으로 신축이 자유로운 에어 실린더로 이루어지는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 수평 이동 규제부는 상기 수평 방향으로 연장되는 리니어 가이드로 이루어지는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 처리실 상측 덮개의 이동 위치를 제어하는 제어장치를 구비하는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 처리실 상측 덮개에는, 상기 처리실 상측 덮개와 상기 처리실 내에 배치된 처리실 내 부품을 결합하는 결합 부재가 끼워지는 적어도 하나의 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 제 5 항에 있어서,상기 처리실 내 부품은 상기 소정의 처리에 필요한 전력을 상기 처리실 내로 향하여 공급하는 상부 전극, 및 상기 처리실의 내면의 상부를 보호하는 내벽 보호체 중 적어도 한쪽을 포함하는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 수직 이동 규제부는, 적어도 상기 처리실 상측 덮개쪽의 단부가 상기 처리실 내에 설치된 상기 피처리 기판을 탑재하기 위한 탑재대를 포함하는 탑재대 유닛을 꺼내기 위한 인출 지그와 교환 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 피처리 기판에 소정의 처리를 실시하는 처리실로서, 상기 처리실을 밀폐하기 위한 처리실 상측 덮개가 상부에 설치된 처리실을 구비하는 기판 처리 장치에 있어서,상기 처리실 상측 덮개를 위쪽에서 수직 방향으로 이동이 자유롭게 유지하는 수직 이동 규제부와, 상기 처리실 상측 덮개를 소정의 수평 방향으로 이동이 자유롭게 유지하는 수평 이동 규제부로 이루어지는, 상기 처리실 상측 덮개를 매달아 지지하는 덮개 지지 기구를 구비하며, 상기 수평 이동 규제부는 상기 수직 이동 규제부를 개재하여 상기 처리실 상측 덮개를 매달아 지지하며,상기 수직 이동 규제부는 수직 방향으로 신축이 자유로운 에어 실린더로 이루어지며,상기 수평 이동 규제부는 상기 수평 방향으로 연장되는 리니어 가이드로 이루어지는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 처리실 상측 덮개의 이동 위치를 제어하는 제어장치를 구비하는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 처리실 상측 덮개에는, 상기 처리실 상측 덮개와 상기 처리실 내에 배치된 처리실 내 부품을 결합하는 결합 부재가 끼워지는 적어도 하나의 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 처리실 내 부품은 상기 소정의 처리에 필요한 전력을 상기 처리실 내로 향하여 공급하는 상부 전극, 및 상기 처리실의 내면의 상부를 보호하는 내벽 보호체 중 적어도 한쪽을 포함하는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 수직 이동 규제부는, 적어도 상기 처리실 상측 덮개쪽의 단부가 상기 처리실 내에 설치된 상기 피처리 기판을 탑재하기 위한 탑재대를 포함하는 탑재대 유닛을 꺼내기 위한 인출 지그와 교환 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 피처리 기판에 소정의 처리를 실시하는 기판 처리 장치의 처리실을 밀폐하기 위하여 상기 처리실의 상부에 설치된 처리실 상측 덮개를 매달아 지지하는 덮개 지지 장치에 있어서,상기 처리실 상측 덮개를 위쪽에서 수직 방향으로 이동이 자유롭게 유지하는 수직 이동 규제부와, 상기 처리실 상측 덮개를 소정의 수평 방향으로 이동이 자유롭게 유지하는 수평 이동 규제부로 이루어지며, 상기 수평 이동 규제부는 상기 수직 이동 규제부를 개재하여 상기 처리실 상측 덮개를 매달아 지지하는 것을 특징으로 하는덮개 지지 장치.
- 제 13 항에 있어서,상기 수직 이동 규제부는 수직 방향으로 신축이 자유로운 에어 실린더로 이루어지는 것을 특징으로 하는덮개 지지 장치.
- 제 13 항에 있어서,상기 수평 이동 규제부는 상기 수평 방향으로 연장되는 리니어 가이드로 이루어지는 것을 특징으로 하는덮개 지지 장치.
- 제 14 항에 있어서,상기 수평 이동 규제부는 상기 수평 방향으로 연장되는 리니어 가이드로 이루어지는 것을 특징으로 하는덮개 지지 장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2005-00360934 | 2005-12-14 | ||
JP2005360934A JP4355314B2 (ja) | 2005-12-14 | 2005-12-14 | 基板処理装置、及び該装置の蓋釣支装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070063450A true KR20070063450A (ko) | 2007-06-19 |
KR100854803B1 KR100854803B1 (ko) | 2008-08-27 |
Family
ID=38165943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060127316A KR100854803B1 (ko) | 2005-12-14 | 2006-12-13 | 기판 처리 장치 및 덮개 지지 장치 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4355314B2 (ko) |
KR (1) | KR100854803B1 (ko) |
CN (1) | CN100474506C (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101289971B1 (ko) * | 2010-04-28 | 2013-07-26 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 시스템 |
KR101413526B1 (ko) * | 2008-07-30 | 2014-07-02 | (주)소슬 | 기판 처리 장치 |
KR102371550B1 (ko) * | 2020-08-31 | 2022-03-07 | 주식회사 엔이아이디 | 반도체 제조를 지원하는 제어 시스템을 조립하는 방법 및 시스템 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9184072B2 (en) * | 2007-07-27 | 2015-11-10 | Mattson Technology, Inc. | Advanced multi-workpiece processing chamber |
KR101007711B1 (ko) * | 2008-05-19 | 2011-01-13 | 주식회사 에스에프에이 | 플라즈마 처리장치 |
JP5154491B2 (ja) * | 2009-03-30 | 2013-02-27 | 住友重機械工業株式会社 | チャンバーライン |
CN101673810B (zh) * | 2009-09-03 | 2011-06-22 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 腔盖启闭机构 |
JP5585238B2 (ja) * | 2010-06-24 | 2014-09-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP5575558B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2014-08-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
KR101016044B1 (ko) | 2010-07-01 | 2011-02-23 | 강우성 | 반도체 장비의 리드를 위한 자동 유지보수장치 |
TWI415208B (zh) * | 2010-09-21 | 2013-11-11 | Sumitomo Heavy Industries | Chamber line |
CN102433539B (zh) * | 2010-09-29 | 2014-07-09 | 住友重机械工业株式会社 | 腔系列 |
JP2013229373A (ja) * | 2012-04-24 | 2013-11-07 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及びそのメンテナンス方法 |
US10319568B2 (en) | 2013-11-12 | 2019-06-11 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus for performing plasma process for target object |
JP6293499B2 (ja) | 2014-01-27 | 2018-03-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空処理装置 |
KR102328325B1 (ko) * | 2014-09-23 | 2021-11-18 | (주)선익시스템 | 챔버장비 유지보수 시스템 |
EP3220413B1 (de) * | 2016-03-15 | 2022-01-26 | Integrated Dynamics Engineering GmbH | Serviceeinrichtung |
KR102091781B1 (ko) * | 2016-12-20 | 2020-03-20 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판처리장치 |
PL3422396T3 (pl) * | 2017-06-28 | 2021-12-13 | Meyer Burger (Germany) Gmbh | Urządzenie do transportu substratu, urządzenie do obróbki z płytą mieszczącą dostosowaną do nośnika substratu takiego urządzenia oraz sposób przetwarzania substratu za pomocą takiego urządzenia do transportu substratu oraz układ do obróbki |
JP6475877B2 (ja) * | 2018-02-14 | 2019-02-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空処理装置 |
CN111863655B (zh) * | 2019-04-26 | 2024-04-12 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 开盖机构及半导体加工设备 |
JP7365822B2 (ja) * | 2019-08-22 | 2023-10-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム |
JP7482746B2 (ja) | 2020-10-19 | 2024-05-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理システム、及びメンテナンス方法 |
JP7548668B2 (ja) | 2020-11-13 | 2024-09-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08225152A (ja) * | 1995-02-23 | 1996-09-03 | Sekisui Chem Co Ltd | 面材搬送・取付装置 |
JP2004335743A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置用真空チャンバー |
KR100544490B1 (ko) * | 2003-11-11 | 2006-01-23 | 주식회사 디엠에스 | 기판의 진공처리장치 |
-
2005
- 2005-12-14 JP JP2005360934A patent/JP4355314B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-10-25 CN CNB2006101375503A patent/CN100474506C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-12-13 KR KR1020060127316A patent/KR100854803B1/ko active IP Right Grant
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101413526B1 (ko) * | 2008-07-30 | 2014-07-02 | (주)소슬 | 기판 처리 장치 |
KR101289971B1 (ko) * | 2010-04-28 | 2013-07-26 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 시스템 |
KR102371550B1 (ko) * | 2020-08-31 | 2022-03-07 | 주식회사 엔이아이디 | 반도체 제조를 지원하는 제어 시스템을 조립하는 방법 및 시스템 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100474506C (zh) | 2009-04-01 |
CN1983515A (zh) | 2007-06-20 |
JP2007165659A (ja) | 2007-06-28 |
KR100854803B1 (ko) | 2008-08-27 |
JP4355314B2 (ja) | 2009-10-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100854803B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 덮개 지지 장치 | |
US20220216035A1 (en) | Vacuum processing apparatus and maintenance apparatus | |
US7883579B2 (en) | Substrate processing apparatus and lid supporting apparatus for the substrate processing apparatus | |
US11710619B2 (en) | Vacuum processing apparatus | |
KR102002216B1 (ko) | 기판 승강 기구, 기판 탑재대 및 기판 처리 장치 | |
US20220389575A1 (en) | Vacuum processing apparatus | |
KR101063127B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR20090068175A (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP2015088500A (ja) | ロードポート装置 | |
KR20200022681A (ko) | 버퍼 유닛, 그리고 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법 | |
TW202137356A (zh) | 量測裝置、量測方法及真空處理裝置 | |
JP6750928B2 (ja) | 真空処理装置 | |
KR102299883B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
KR102378330B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP6666630B2 (ja) | 真空処理装置 | |
JP6475877B2 (ja) | 真空処理装置 | |
JP2022018902A (ja) | 基板処理システム、メンテナンス方法及び基板処理方法 | |
KR101390785B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
KR100622201B1 (ko) | 액정 표시 장치용 기판을 위한 플라즈마 처리 장치 | |
JP2009130225A (ja) | 基板処理装置 | |
JP7089987B2 (ja) | 原子層堆積装置 | |
KR20230021332A (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP2021077916A (ja) | 半導体プロセスモジュールからin−situで消耗部品を取り出して交換するためのシステム | |
KR20210017298A (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120802 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130801 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140808 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150716 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160721 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170720 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180801 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190730 Year of fee payment: 12 |