KR102091781B1 - 기판처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 식각, 증착 등 기판처리를 수행하는 기판처리장치에 관한 것이다.
본 발명은, 상측이 개구된 챔버본체(110)와; 상기 챔버본체(110)의 개구에 탈착가능하게 결합되어 상기 챔버본체(110)와 함께 기판처리를 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 상부리드(120)와; 상기 상부리드(120)를 상하로 이동시켜 상기 챔버본체(110)로부터 탈착시키는 리드개폐부를 포함하며, 상기 리드개폐부는, 상기 상부리드(120)의 가장자리 중 2개 이상의 지점에서 각각 상기 상부리드(120)를 지지하는 2개 이상의 지지부(160)와, 상기 2개 이상의 지지부(160)를 각각 또는 동시에 상하로 이동시키는 상하이동부(140)를 포함하며, 상기 지지부(160)는, 상기 상부리드(120)를 기준으로 상측 및 하측에 각각 설치되는 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와, 상기 상부지지부(310)의 저면 및 상기 상부리드(120)의 상면 사이에 설치되어 상기 상부리드(120)가 상기 챔버본체(110)에 결합될 때 다른 지지부(160)와의 균형을 유지하는 상부밸런싱부(210)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다.

Description

기판처리장치 {Substrate processing apparatus}
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 식각, 증착 등 기판처리를 수행하는 기판처리장치에 관한 것이다.
기판처리장치는, 식각, 증착 등 기판처리를 수행하는 장치로서, 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와, 공정챔버에 설치되어 처리공간에 가스를 분사하는 가스공급부와, 공정챔버에 설치되어 기판이 안착되는 기판지지부와, 처리공간의 압력제어 및 배기를 위한 배기시스템을 포함하여 구성됨이 일반적이다.
공정챔버는 공정조건에 따라서 다양한 구조를 가질 수 있으며, 상측이 개구되고 개구에 상부리드가 탈착가능하게 결합되는 형태를 가질 수 있다.
일반적으로 상부리드는 150 kg 이상으로 중량이 매우 큰 부재이므로 상부리드는 탈착을 위하여 복수의 실린더 구동부가 사용된다.
그런데 종래에 사용되는 실린더구동부의 경우 상부리드의 공정챔버 방향으로 결합시킬 때 공정챔버 및 상부리드 중 어느 하나의 수평도가 틀어지는 문제가 있다.
수평도가 틀어진 상태에서 상부리드를 공정챔버에 결합시키는 경우 가장자리의 위치에 따라서 접촉상태가 달라져 먼저 접촉된 부분에서는 파손가능성이, 미접촉 상태의 부분은 밀착상태의 저하로 진공압의 누설 등의 문제가 있다.
따라서 이를 해결하기 위하여 상부리드의 상하이동을 기능하는 상하이동부에 설치되는 브레이크를 인위적으로 해지하여 상부리드의 자유낙하를 통해 닫는 방법을 사용하였으나, 이러한 방법을 사용하여 상부리드를 닫기 위하여 복수의 실린더 구동부 각각의 브레이크를 해제하여 균형을 맞추어야 하므로 사용이 불편한 문제가 있다.
뿐만아니라 지속적인 자유낙하에 따른 피로도가 축적되어 상부리드 및 챔버본체의 손상을 가져올 수 있는 문제가 있다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 챔버본체에 대한 상부리드의 개폐시 상부리드에 대한 2개 이상의 지지점에서의 균형을 유지함으로써 챔버본체 및 상부리드 사이의 안정된 밀착상태를 유지하면서 상부리드에 대한 지지의 불균형에 따른 부재의 파손을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 데 있다.
본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은, 상측이 개구된 챔버본체(110)와; 상기 챔버본체(110)의 개구에 탈착가능하게 결합되어 상기 챔버본체(110)와 함께 기판처리를 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 상부리드(120)와; 상기 상부리드(120)를 상하로 이동시켜 상기 챔버본체(110)로부터 탈착시키는 리드개폐부를 포함하며, 상기 리드개폐부는, 상기 상부리드(120)의 가장자리 중 2개 이상의 지점에서 각각 상기 상부리드(120)를 지지하는 2개 이상의 지지부(160)와, 상기 2개 이상의 지지부(160)를 각각 또는 동시에 상하로 이동시키는 상하이동부(140)를 포함하며, 상기 지지부(160)는, 상기 상부리드(120)를 기준으로 상측 및 하측에 각각 설치되는 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와, 상기 상부지지부(310)의 저면 및 상기 상부리드(120)의 상면 사이에 설치되어 상기 상부리드(120)가 상기 챔버본체(110)에 결합될 때 다른 지지부(160)와의 균형을 유지하는 상부밸런싱부(210)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다.
상기 상부리드(120)는, 상기 상부리드(120)의 가장자리로부터 외측으로 돌출되며 하나 이상의 관통홀(122)이 형성되는 연장부(121)를 포함하며; 상기 지지부(160)는, 상기 관통홀(122)에 관통되어 설치되어 상기 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와 결합되는 가이드로드(400)를 포함할 수 있다.
상기 관통홀(122)은, 원형 및 다각형 중 어느 하나의 형상을 가질 수 있다.
상기 상부밸런싱부(210)는, 상기 가이드로드(400)가 관통설치되는 코일스프링 또는 탄성변형이 가능한 탄성변형부재가 사용될 수 있다.
상기 지지부(160)는, 상기 하부지지부(320)의 상면 및 상기 상부리드(120)의 저면 사이에 설치되어, 상기 상부리드(120)가 상기 챔버본체(110)에 결합될 때 다른 지지부(160)와의 균형을 유지하는 하부밸런싱부(220)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 하부밸런싱부(210)는, 상기 가이드로드(400)가 관통설치되는 코일스프링 또는 탄성변형이 가능한 탄성변형부재가 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 기판처리장치는, 상부리드의 상하이동을 위한 지지부의 구성에 있어서 챔버본체에 대한 상부리드의 개폐시, 특히 상부리드가 챔버본체에 밀착될 때 상부리드에 대한 2개 이상의 지지점에서의 균형을 유지함으로써 챔버본체 및 상부리드 사이의 안정된 밀착상태를 유지하면서 상부리드에 대한 지지의 불균형에 따른 부재의 파손을 방지할 수 있는 이점이 있따.
구체적으로, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 상부리드의 상하이동을 위한 지지부의 구성에 있어서 챔버본체에 대한 상부리드의 개폐시, 특히 상부리드가 챔버본체에 밀착될 때 상부리드에 대한 2개 이상의 지지점에서의 균형을 유지하기 위한 밸런싱 구성을 추가로 구비하고, 공정챔버와 상부리드의 개폐시 밸런싱 구성이 상부리드를 지지하는 지지부에 탄성력을 부가함으로써, 상부리드의 닫힘시 탄성력에 의하여 챔버본체와 상부리드간의 완벽한 밀봉이 수행가능한 이점이 있다.
뿐만아니라, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 상부리드의 상하이동을 위한 지지부의 구성에 있어서 챔버본체에 대한 상부리드의 개폐시, 특히 상부리드가 챔버본체에 밀착될 때 상부리드에 대한 2개 이상의 지지점에서의 균형을 유지하기 위한 밸런싱 구성을 추가로 구비함으로써, 상부리드 및 챔버본체 간의 과도한 충격을 완화시켜 상부리드와 챔버본체의 결합시 발생되는 충격을 감쇄하여 파손을 방지할 있는 이점이 있다.
도 1은, 본 발명에 따른 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도 2는, 도 1의 기판처리장치를 상측에서 보여주는 평면도이다.
도 3은, 도 1의 상부리드에 결합되는 지지부를 보여주는 단면도이다.
도 4a 및 도 4b는, 도 3의 지지부의 변형례들을 보여주는 단면도들이다.
이하 본 발명에 따른 기판처리장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 기판처리장치는 도 1 내지 도 4b에 도시된 바와 같이, 상측이 개구된 챔버본체(110)와; 챔버본체(110)의 개구에 탈착가능하게 결합되어 챔버본체(110)와 함께 기판처리를 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 상부리드(120)와; 상부리드(120)를 상하로 이동시켜 챔버본체(110)로부터 탈착시키는 리드개폐부를 포함한다.
기판처리의 대상인 기판은, 반도체 제조용 웨이퍼 등 밀폐된 처리공간에서 식각, 증착 등의 공정이 수행되는 기판이면 어떠한 기판도 가능하다.
상기 챔버본체(110)는, 기판처리를 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
그리고 상기 챔버본체(110)는, 공정조건에 따라서 다양한 구조를 가질 수 있으며, 상측이 개구되고 개구에 상부리드(120)가 탈착가능하게 결합될 수 있다.
예로서, 상기 챔버본체(110)는, 처리공간(S)에 기판의 도입 및 배출을 위한 내측벽에 하나 이상의 게이트(111)가 형성될 수 있다.
상기 게이트(111)는, 처리공간(S)에 기판의 도입 및 배출을 위해 챔버본체(110)에 형성되는 구조로서 다양한 구조가 가능하다.
그리고 상기 챔버본체(110)의 내부에는, 기판을 지지하는 기판지지부(130)가 설치될 수 있다.
상기 기판지지부(130)는, 챔버본체(110)에 설치되어 기판을 지지하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 기판지지부(130)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 게이트(111)를 통한 기판의 도입 및 배출을 위하여 상하이동이 가능하도록 설치될 수 있다.
이때 상기 기판지지부(130)는, 게이트(111)가 공정환경에 영향을 주는 것을 방지하기 위하여 공정수행시 게이트(111)보다 높게 이동되는 것이 바람직하다.
한편 상기 기판지지부(130)는, 기판을 가열하거나, 냉각하는 등 온도제어를 위하여 히터 등 온도제어부재가 추가로 설치될 수 있다.
상기 상부리드(120)는, 챔버본체(110)의 개구를 복개하여 챔버본체(110)와 함께 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 상부리드(120)는, 상부리드(120)의 가장자리 외측으로 돌출되며 하나 이상의 관통홀(122)이 형성되는 연장부(121)를 포함할 수 있다.
상기 연장부(121)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상부리드(120)의 가장자리 외측으로 돌출되어 후술하는 지지부(160)와 결합됨으로써 상하이동부(140)에 의하여 상부리드(120)가 상하로 이동될 수 있다.
한편, 상기 연장부(121)는, 후술하는 지지부(160)의 수에 대응되어 형성되며, 상부리드(120)의 가장자리 중 복수의 지점에 설치된다.
그리고 상기 연장부(121)의 형성 위치 및 설치 숫자는, 상부리드(120)의 평면형상, 크기, 중량에 따라서 달라질 수 있다.
예로서, 상기 연장부(121)의 설치숫자는, 상부리드(120)의 무게중심 또는 기하학적 중심을 기준으로 서로 대향되어 한 쌍으로 설치되거나, 3개 등 상부리드(120)의 안정적 지지 및 상하이동이 가능하도록 할 수 있는 구성이면 다양한 구성이 가능하다.
상기 관통홀(122)은, 연장부(121)에 형성되어 후술하는 지지부(160)의 가이드로드(400)가 관통되어 삽입되는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
다른 예로서, 상기 관통홀(122)은, 수평단면 형상이 원형, 타원형, 직사각형, 다각형 등 다양한 형상을 가질 수 있다. 여기서 상기 가이드로드(400)의 수평단면 형상은, 관통홀(122)의 형상에 대응되는 형상으로서, 원형, 타원형, 직사각형, 다각형 등 다양한 형상을 가질 수 있다.
그리고, 상기 관통홀(122)은, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 연장부(121)에 한 쌍으로, 도 4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이 하나로 형성되는 등 하나 이상으로 형성될 수 있다.
또한 상기 관통홀(122)은, 가이드로드(400)가 관통되어 삽입된 후 상부리드(120)의 변형에 따라 수평방향으로의 미세 이동을 고려하여 가이드로드(400)의 수직단면의 크기보다 크게 형성됨이 바람직하다.
이때 상기 관통홀(122)의 내주면 및 가이드로드(400)의 사이의 크기오차는 설계, 실험 등을 통하여 정해진다.
상기 리드개폐부는, 상부리드(120)를 상하로 이동시켜 상기 상부리드(120)를 챔버본체(110)로부터 탈착시키는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 리드개폐부는, 도 3에 도시된 바와 같이, 상부리드(120)의 가장자리 중 2개 이상의 지점에서 각각 상부리드(120)를 지지하는 2개 이상의 지지부(160)와, 2개 이상의 지지부(160)를 각각 또는 동시에 상하로 이동시키는 상하이동부(140)를 포함할 수 있다.
상기 상하이동부(140)는, 지지부(160)를 상하로 이동시킴으로써, 상부리드(120)를 상하로 이동시키기 위한 구성으로서, 그 구동방식에 따라서 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 상하이동부(140)는, 유압실린더, 스크류잭 등 다양한 구동방식에 따라서 구성될 수 있다.
그리고, 상기 상하이동부(140)는, 후술하는 지지부(160)의 하부지지부(320)와 결합되는 이동부재(141)와; 이동부재(141)와 결합하여 이동부재(141)의 상하이동을 구동하는 구동장치(142)를 포함할 수 있다.
한편 상기 상하이동부(130)는, 2개 이상의 지지부(160)를 한꺼번에 상하이동시키도록 구성되거나, 2개 이상의 지지부(160)를 개별적으로 상하이동시키도록 구성될 수 있다.
그리고 상기 상하이동부(130)는, 2개 이상의 지지부(160)를 개별적으로 상하이동시키는 경우 서로 동기화되어 제어될 수 있다.
상기 지지부(160)는, 상부리드(120)의 가장자리 중 2개 이상의 지점에서 각각 상부리드(120)를 지지하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
그리고 상기 지지부(160)는, 상부리드(120)의 가장자리 중 2개 이상의 지점, 즉 복수의 지점에 설치된다.
즉, 상기 지지부(160)의 형성 위치 및 설치 숫자는, 상부리드(120)의 평면형상, 크기, 중량에 따라서 달라질 수 있다.
그리고, 상기 지지부(160)의 설치숫자는, 상부리드(120)의 무게중심 또는 기하학적 중심을 기준으로 서로 대향되어 한 쌍으로 설치되거나, 3개 등 상부리드(120)의 안정적 지지 및 상하이동이 가능하도록 할 수 있는 구성이면 다양한 구성이 가능하다.
한편, 상기 지지부(160)는, 상부리드(120)를 기준으로 상측 및 하측에 각각 설치되는 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와, 상부지지부(310)의 저면 및 상부리드(120)의 상면 사이에 설치되어 상부리드(120)가 챔버본체(110)에 결합될 때 다른 지지부(160)와의 균형을 유지하는 상부밸런싱부(210)를 포함할 수 있다.
상기 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)는, 상부리드(120)를 기준으로 상측 및 하측에 각각 설치되는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 상부지지부(310)는, 상부리드(120)의 상측, 구체적인 예로서, 앞서 설명한 상부리드(120)의 연장부(121)의 상측에 설치되고, 하부지지부(320)는, 상부리드(120)의 하측, 구체적인 예로서, 앞서 설명한 상부리드(120)의 연장부(121)의 하측에 설치되어 상부리드(120)를 지지하며, 상하이동부(140)에 의하여 상하로 이동됨으로써 상부리드(120)를 상하로 이동시킨다.
한편 상기 지지부(160)는, 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)가 상부리드(120)를 안정적으로 지지할 수 있도록, 관통홀(122)에 관통되어 설치되어 상기 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와 결합되는 가이드로드(400)를 포함할 수 있다.
상기 가이드로드(400)는, 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와 결합되며, 관통홀(122)에 관통설치되는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 가이드로드(400)는, 도 3, 도 4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이, 한 쌍의 관통홀(122)들에 각각 관통설치되고, 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와 볼트 등과 같은 체결부재(330)에 의하여 결합될 수 있다.
이때, 상기 가이드로드(400)는, 상부지지부(310) 및 하부지지부(320) 사이의 간격이 후술하는 상부밸런싱부(210)가 설치될 수 있도록 상부리드(120), 구체적으로 연장부(121)의 두께보다 더 크게 이루도록 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와 결합됨이 바람직하다.
한편 상기 가이드로드(400)의 수평단면의 형상은, 관통홀(122)의 형상에 대응되는 형상으로서, 원형, 타원형, 직사각형, 다각형 등 다양한 형상을 가질 수 있다.
상기 상부밸런싱부(210)는, 상부지지부(310)의 저면 및 상부리드(120)의 상면 사이에 설치되어 상부리드(120)가 챔버본체(110)에 결합될 때 다른 지지부(160)와의 균형을 유지하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 상부밸런싱부(210)는, 가이드로드(400)가 관통설치되는 코일스프링, 탄성변형이 가능한 탄성변형부재 등이 사용될 수 있다..
그리고 상기 상부밸런싱부(210)로서 코일스프링이 사용되는 경우, 가이드로드(400)에 끼워진 후 수평방향으로의 이동을 방지하기 위하여 이동방지부재(500)가 설치되거나 상부리드(120)에 형성될 수 있다.
한편 상기 지지부(160)는, 도 3 및 도 4a에 도시된 바와 같이, 다른 지지부(160)와의 균형을 유지하는 상부밸런싱부(210)의 구성에 더하여, 하부지지부(320)의 상면 및 상부리드(120)의 저면 사이에 설치되어 상부리드(120)가 챔버본체(110)에 결합될 때 다른 지지부(160)와의 균형을 유지하는 하부밸런싱부(220)가 추가로 포함할 수 있다.
상기 하부밸런싱부(220)는, 하부지지부(320)의 상면 및 상부리드(120)의 저면 사이에 설치되어 상부리드(120)가 챔버본체(110)에 결합될 때 다른 지지부(160)와의 균형을 유지하는 구성으로서 상부밸런싱부(220)와 유사한 구성을 가진다.
예로서, 상기 하부밸런싱부(220)는, 가이드로드(400)가 관통설치되는 코일스프링, 탄성변형이 가능한 탄성변형부재 등이 사용될 수 있다..
그리고 상기 하부밸런싱부(220)로서 코일스프링이 사용되는 경우, 가이드로드(400)에 끼워진 후 수평방향으로의 이동을 방지하기 위하여 이동방지부재(500)가 설치되거나 상부리드(120)에 형성될 수 있다.
상기와 구성을 가지는 리드개폐부의 구성에 의하여 본 발명에 따른 기판처리장치는, 다음과 같은 작용효과를 가진다.
기판처리장치의 내부에 설치된 기판지지부, 샤워헤드 등의 유지·보수를 요하는 경우 챔버본체(110)로부터 상부리드(120)의 분리를 요한다.
이에, 상기 상부리드(120)는, 리드개폐부의 작동에 의하여 상승되어 챔버본체(110)로부터 분리된다.
상기 상부리드(120)가 챔버본체(110)로부터 분리되고 기판지지부, 샤워헤드 등의 유지·보수 후에 리드개폐부는, 상부리드(120)를 하강시켜 챔버본체(110)에 결합시킨다.
이때 상기 상부리드(120)의 하강과정에 있어서, 각 지점에서의 상하이동거리에 오차가 발생하는 등 상부리드(120)의 수평상태가 흐트러지는 상태, 즉 상부디드(120)에 대한 지지가 불균형을 이룰 수 있다.
그리고 상기 상부리드(120)의 수평상태가 흐트러짐에 따라서 상부리드(120)가 챔버본체(110) 상의 거리가 달라져 각 위치에 따라 챔버본체(110)의 접촉 미접촉 상태가 될 수 있다.
이때 상기 상부리드(120)는, 설계에 따라서 미리 설정된 거리만큼 이동되는 경우 부분적으로 상부리드(120)가 과도하게 이동됨으로써 상부리드(120) 및 챔버본체(110) 중 어느 하나가 파손되거나, 그 사이에 설치된 오링 등이 파손되는 등 부재의 파손 등의 문제가 발생될 수 있다.
또한 상기 상부리드(120)는, 과도한 이동에 따른 파손이 없더라도 챔버본체(110)에 대한 미접촉 상태의 부분이 존재하여 이 부분을 통한 처리공간의 진공압이 누설되는 문제점이 있다.
그러나, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 리드개폐부의 구성에 있어서 상부리드(120)를 지지하는 부분에서 상부밸런싱부(210), 더 나아가 하부밸런싱부(220)를 추가로 구비함으로써 상부리드(120)가 챔버본체(110)에 밀착될 때 상부리드(120)에 대한 지지의 균형이 유지되어 챔버본체(110)에 대한 상부리드(120)의 개폐시 챔버본체(110) 및 상부리드(120) 사이의 안정된 밀착상태를 유지하면서 지지점에서의 과도한 이동에 따른 파손을 방지할 수 있게 된다.
이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.
110: 챔버본체 120: 상부리드
140: 상하이동부 160: 지지부
210: 상부밸런싱부

Claims (6)

  1. 상측이 개구된 챔버본체(110)와;
    상기 챔버본체(110)의 개구에 탈착가능하게 결합되어 상기 챔버본체(110)와 함께 기판처리를 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 상부리드(120)와;
    상기 상부리드(120)를 상하로 이동시켜 상기 챔버본체(110)로부터 탈착시키는 리드개폐부를 포함하며,
    상기 리드개폐부는, 상기 상부리드(120)의 가장자리 중 2개 이상의 지점에서 각각 상기 상부리드(120)를 지지하는 2개 이상의 지지부(160)와, 상기 2개 이상의 지지부(160)를 각각 또는 동시에 상하로 이동시키는 상하이동부(140)를 포함하며,
    상기 지지부(160)는,
    상기 상부리드(120)를 기준으로 상측 및 하측에 각각 설치되는 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와,
    상기 상부지지부(310)의 저면 및 상기 상부리드(120)의 상면 사이에 설치되어 상기 상부리드(120)가 상기 챔버본체(110)에 결합될 때 다른 지지부(160)와의 균형을 유지하는 상부밸런싱부(210)를 포함하며,
    상기 지지부(160)는, 상기 상부리드(120)를 관통하여 설치되어, 상기 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와 각각 결합되는 가이드로드(400)를 포함하며,
    상기 상부밸런싱부(210)는, 상기 가이드로드(400)가 관통설치되는 코일스프링 또는 탄성변형이 가능한 탄성변형부재인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 상부리드(120)는, 상기 상부리드(120)의 가장자리로부터 외측으로 돌출되며 하나 이상의 관통홀(122)이 형성되는 연장부(121)를 포함하며;
    상기 가이드로드(400)는, 상기 관통홀(122)에 관통되어 설치되어 상기 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와 결합되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 관통홀(122)은, 원형 및 다각형 중 어느 하나의 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  4. 삭제
  5. 상측이 개구된 챔버본체(110)와;
    상기 챔버본체(110)의 개구에 탈착가능하게 결합되어 상기 챔버본체(110)와 함께 기판처리를 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 상부리드(120)와;
    상기 상부리드(120)를 상하로 이동시켜 상기 챔버본체(110)로부터 탈착시키는 리드개폐부를 포함하며,
    상기 리드개폐부는, 상기 상부리드(120)의 가장자리 중 2개 이상의 지점에서 각각 상기 상부리드(120)를 지지하는 2개 이상의 지지부(160)와, 상기 2개 이상의 지지부(160)를 각각 또는 동시에 상하로 이동시키는 상하이동부(140)를 포함하며,
    상기 지지부(160)는,
    상기 상부리드(120)를 기준으로 상측 및 하측에 각각 설치되는 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와,
    상기 상부지지부(310)의 저면 및 상기 상부리드(120)의 상면 사이에 설치되어 상기 상부리드(120)가 상기 챔버본체(110)에 결합될 때 다른 지지부(160)와의 균형을 유지하는 상부밸런싱부(210)를 포함하며,
    상기 지지부(160)는, 상기 하부지지부(320)의 상면 및 상기 상부리드(120)의 저면 사이에 설치되어, 상기 상부리드(120)가 상기 챔버본체(110)에 결합될 때 다른 지지부(160)와의 균형을 유지하는 하부밸런싱부(220)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 지지부(160)는, 상기 상부리드(120)를 관통하여 설치되어, 상기 상부지지부(310) 및 하부지지부(320)와 각각 결합되는 가이드로드(400)를 포함하며,
    상기 하부밸런싱부(220)는, 상기 가이드로드(400)가 관통설치되는 코일스프링 또는 탄성변형이 가능한 탄성변형부재인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
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