KR102164987B1 - 기판처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마를 이용하여 기판표면에 다수의 요철을 형성하는 기판처리장치에 관한 것이다.
본 발명은, 상측이 개구된 챔버본체(110)와, 상기 챔버본체(110)에 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 상부리드(120)를 포함하는 공정챔버(100)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 하나 이상의 RF전원이 인가되며 하나 이상의 기판(10)이 안착된 트레이(20)를 지지하는 기판지지부(130)와; 상기 처리공간(S)의 상측에 설치되어 기판처리의 수행을 위한 가스를 분사하는 가스분사부(140)와; 상기 공정챔버(100)에 상하 이동가능하게 설치되며 상기 가스분사부(140)에 의하여 분사되는 가스가 유입될 수 있도록 다수의 개구부(152)들이 형성되는 트레이커버부(150)와; 상기 트레이(20)가 상기 공정챔버(100)내로 도입 또는 배출시 간섭을 방지하기 위하여 상기 트레이커버부(150)를 상하로 이동시키는 상하이동부(200)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다.

Description

기판처리장치 {Substrate processing apparatus}
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마를 이용하여 기판표면에 다수의 요철을 형성하는 기판처리장치에 관한 것이다.
기판처리장치란 밀폐된 내부공간을 형성하는 진공챔버와, 진공챔버 내에 설치되어 기판이 안착되는 기판지지대를 포함하여 구성되며, 내부공간에 처리가스를 주입하면서 전원을 인가하여 기판의 표면을 식각하거나 증착하는 장치를 말한다.
상기 기판처리장치에 의하여 처리되는 기판은 반도체용 웨이퍼, LCD패널용 유리기판, 태양전지용 기판 등이 있다.
상기 기판처리장치의 일례로서, 기판지지대 상에 태양전지용 기판을 안착시킨 후 기판의 상측에 다수개의 개구부들이 형성된 커버부재를 복개하여 기판의 표면에 미세한 요철을 형성하도록 진공처리를 수행하는 기판처리장치가 있다.
상기와 같이 커버부재를 이용하여 기판 표면에 다수의 요철들을 형성하는 기판처리장치로서 한국 공개특허공보 제10-2011-0029621호가 있다.
한편 커버부재를 사용하여 기판표면에 미세요철을 형성하는 종래의 기판처리장치는, 커버부재가 복수의 기판들과 함께 트레이에 안착된 상태로 공정챔버로 도입되거나 배출된다.
그리고, 공정수행시 커버부재가 일정한 온도로 상승되어 하는바, 공정 수행 전 커버부재의 가열시간을 요하여, 커버부재의 온도상승을 위한 시간이 추가적으로 필요함에 따라 전체 공정시간을 증가시켜 양산효율이 떨어지는 문제점이 있다.
한편, 종래의 기판처리장치는, 트레이를 지지하는 트레이지지부에 RF전원을 인가하고 공정챔버 및 샤워헤드를 접지시켜 공정을 수행하는 등 하나 이상의 RF 전원을 인가하여 커버부재가 복개하는 공간에서 플라즈마를 형성하여 공정을 수행함이 일반적이다.
그런데, 종래의 기판처리장치는, 커버부재가 부도체인 트레이 상에 안착된 상태로 이송되므로, RF전원의 인가에 의하여 공정 수행시 챔버 내의 타부재와의 전기적 연결이 없어 공정챔버 내에서 커버부재가 전기적으로 플로팅(floating) 상태에 있게 되므로, 커버부재 및 트레이 사이의 공간 이외에 다른 공간에서도 플라즈마가 형성되어 공정효율을 저하시키는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 기판표면에 미세한 요철들을 형성하기 위하여 다수의 개구가 형성된 트레이커버부를 공정챔버 내에 설치하고, 트레이커버부 및 트레이 사이의 공간에서만 플라즈마를 형성하여 공정을 수행함으로써 공정효율을 크게 향상시킬 수 있는 기판처리장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은, 기판표면에 미세한 요철들을 형성하기 위하여 다수의 개구가 형성된 트레이커버부를 공정챔버 내에 설치하고, 트레이커버부를 상하로 이동가능하게 설치함으로써 최적의 공정의 수행이 가능한 기판처리장치를 제공하는 데 있다.
본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은, 상측이 개구된 챔버본체(110)와, 상기 챔버본체(110)에 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 상부리드(120)를 포함하는 공정챔버(100)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 하나 이상의 RF전원이 인가되며 하나 이상의 기판(10)이 안착된 트레이(20)를 지지하는 기판지지부(130)와; 상기 처리공간(S)의 상측에 설치되어 기판처리의 수행을 위한 가스를 분사하는 가스분사부(140)와; 상기 공정챔버(100)에 상하 이동가능하게 설치되며 상기 가스분사부(140)에 의하여 분사되는 가스가 유입될 수 있도록 다수의 개구부(152)들이 형성되는 트레이커버부(150)와; 상기 트레이(20)가 상기 공정챔버(100)내로 도입 또는 배출시 간섭을 방지하기 위하여 상기 트레이커버부(150)를 상하로 이동시키는 상하이동부(200)를 포함하는 기판처리장치를 개시한다.
상기 상하이동부(200)는, 상기 트레이커버부(150)에 결합되며 상기 상부리드(120)를 관통하는 복수의 승강샤프트(210)들과; 상기 상부리드(120)의 상측에서 상기 복수의 승강샤프트(210)들과 결합되는 샤프트연결부(220)와; 상기 트레이버커부(150)가 상하이동 되도록 상기 샤프트연결부(220)의 상하이동을 구동하는 상하구동부(230)를 포함할 수 있다.
상기 승강샤프트(210)는, 상기 샤프트연결부(220)에 대해 상대수평이동 가능하게 상기 샤프트연결부(220)와 결합될 수 있다.
상기 상하이동부(200)는, 상기 승강샤프트(210)와 상기 샤프트연결부(220) 사이의 결합부위에서 상기 샤프트연결부(220)에 대한 상기 승강샤프트(210)의 구면요동 및 상대수평이동이 가능하도록 상기 샤프트연결부(220) 및 상기 승강샤프트(210) 사이에 설치되는 플로팅조인트(floating joint)를 포함할 수 있다.
상기 상하이동부(200)는, 상기 승강샤프트(210)와 상기 샤프트연결부(220) 사이에 설치되며, 상기 승강샤프트(210)를 상기 샤프트연결부(220)에 대하여 평면상 제1방향으로 이동가능하게 하는 제1선형가이드부(262)와, 상기 제1선형가이드부(262)와 상기 승강샤프트(210) 사이에 설치되어 상기 승강샤프트(210)를 상기 제1선형가이드부(262)에 대하여 상기 평면상 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 이동가능하게 하는 하나 이상의 제2선형가이드부(264)를 포함할 수 있다.
상기 제1선형가이드부(262) 및 상기 제2선형가이드부(264)는, 선형이동을 위한 리니어가이드(LM Guide)로 구성될 수 있다.
상기 상하이동부(200)는, 상기 샤프트연결부(220)에 형성된 관통공을 통하여 상기 승강샤프트(210)와 고정결합되며, 상기 승강샤프트(210)와 상기 샤프트연결부(220)를 결합시키는 하나 이상의 볼팅부재(300)를 포함할 수 있다.
상기 관통공의 직경(D)은, 상기 관통공에서 상기 볼팅부재(300)의 외경(d) 보다 크게 형성될 수 있다.
상기 사프트연결부(220)는, 상기 상하구동부(230)와 결합되는 메인샤프트연결부(222)와; 상기 상하구동부(230)와 상기 복수의 승강샤프트(210)들 간 연결을 위하여 상기 메인샤프트연결부(222)에서 분기되어 승강샤프트(210)와 결합될 수 있다.
상기 상하이동부(200)는, 상기 메인샤프트연결부(222)와 상기 서브샤프트연결부(224) 사이에 설치되며, 상기 서브샤프트연결부(224)를 상기 메인샤프트연결부(222)에 대하여 평면상 제1방향으로 이동가능하게 하는 하나 이상의 제3선형가이드부(266)와, 상기 서브샤프트연결부(224)와 상기 승강샤프트(210) 사이에 설치되어 상기 승걍샤프트(210)를 상기 서브샤프트연결부(224)에 대하여 상기 평면상 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 이동가능하게 하는 하나 이상의 제4선형가이드부(268)를 포함할 수 있다.
상기 제3선형가이드부(266) 및 상기 제4선형가이드부(268)는, 선형이동을 위한 리니어가이드(LM Guide)로 구성될 수 있다.
상기 상하이동부(200)는, 상기 메인샤프트연결부(222)와 상기 서브샤프트연결부(224) 사이에 설치되며, 상기 서브샤프트연결부(224)를 상기 메인샤프트연결부(222)에 대하여 평면상 제1방향으로 이동가능하게 하는 하나 이상의 제3선형가이드부(266)와, 상기 서브샤프트연결부(224)에 형성된 관통공을 통하여 상기 승강샤프트(210)와 고정결합되며, 상기 승강샤프트(210)와 상기 서브샤프트연결부(224)를 결합시키는 하나 이상의 볼팅부재(300)를 포함할 수 있다.
상기 관통공의 직경(D)은, 상기 관통공에서 상기 볼팅부재(300)의 외경(d) 보다 크게 형성될 수 있다.
상기 상하이동부(200)는, 상기 승강샤프트(210)의 상하방향이동을 가이드하는 가이드부(240)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 가이드부(240)는, 상기 샤프트연결부(220)에 대해 상대수평이동 가능하게 상기 샤프트연결부(220)와 결합될 수 있다.
이때, 상기 상하이동부(200)는, 상기 샤프트연결부(220)에 형성된 관통공을 통하여 상기 가이드부(240)와 고정결합되며, 상기 샤프트연결부(220)와 상기 가이드부(240)를 결합시키는 하나 이상의 제1볼팅부재(300a)를 포함할 수 있다.
상기 샤프트연결부(220)에 형성된 관통공의 직경(D)은, 상기 관통공에서 상기 제1볼팅부재(300a)의 외경(d) 보다 크게 형성됨이 바람직하다.
상기 승강샤프트(210)는, 상기 가이드부(240)에 대해 상대수평이동 가능하게 상기 가이드부(220)와 결합될 수 있다.
이때, 상기 상하이동부(200)는, 상기 가이드부(240)에 형성된 관통공을 통하여 상기 승강샤프트(210)와 고정결합되며, 상기 가이드부(240)와 상기 승강샤프트(240)를 결합시키는 하나 이상의 제2볼팅부재(300b)를 포함할 수 있다.
상기 가이드부(240)에 형성된 관통공의 직경(D)은, 상기 관통공에서 상기 제2볼팅부재(300b)의 외경(d) 보다 크게 형성됨이 바람직하다.
상기 상하이동부(200)는, 복수의 상하구동부(230)들을 포함할 수 있다.
상기 상하이동부(200)는, 상기 트레이커버부(150)의 중앙부에 결합되는 승강샤프트(210)의 상하이동을 구동하는 중앙구동부(230a)와, 상기 트레이커버부(150)의 외곽부에 결합되는 승강샤프트(210)의 상하이동을 구동하는 외곽구동부(230b)를 포함할 수 있다.
상기 기판처리장치는, 반응성이온에칭 공정을 수행할 수 있다.
본 발명에 따른 기판처리장치는, 기판표면에 미세한 요철들을 형성하기 위하여 다수의 개구가 형성된 트레이커버부를 공정챔버 내에 설치함으로써, 공정챔버 외부에서 냉각된 트레이커버부의 온도를 상승시키기 위한 공정시간이 요구되지 않아 전체 공정시간을 감소시켜 양산효율을 증대할 수 있는 이점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 트레이커버부를 상하로 이동가능하게 설치함으로써 공정조건에 따라 높이조정이 가능하여 최적의 공정의 수행이 가능한 이점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 공정챔버 외부에 설치되어 트레이커버부를 상하로 이동시키는 상하이동부를 구성하는 부재들 사이의 결합시 결합부위에서 부재 일부가 수평방향으로 이동가능하게 결합됨으로써 자중, 열 등의 변화에 의한 상부리드의 변형에 따른 상하이동부를 구성하는 부재들 사이의 마모나 스트레스를 감소시켜 유지보수기간을 늘리고 유지보수비용을 절감할 수 있는 이점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 트레이커버부를 전기적으로 접지시킴으로써, 트레이커버부 및 트레이 사이의 공간에서만 플라즈마를 형성함에 따라서 상대적으로 작은 출력의 전원인가에도 안정적이고 균일한 기판처리의 수행이 가능하며 공정효율을 크게 향상시킬 수 있는 이점이 있다.
이때, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 플렉서블한 전도성 스트랩을 통해 트레이커버부를 접지함으로써, 공정챔버 내에서의 트레이커버부의 상하방향 이동에도 불구하고 접지상태를 안정적으로 유지할 수 있는 이점이 있다.
도 1a 및 도 1b는, 본 발명에 따른 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도 2는, 도 1a 및 도 1b의 기판처리장치 중 상하이동부를 보여주는 사시도이다.
도 3은, 도 2의 -방향 단면도이다.
도 4는, 도 1a 및 도 1b의 기판처리장치 중 상하이동부의 변형례를 보여주는 사시도이다.
도 5는, 도 2의 상하이동부를 보여주는 평면도이다.
도 6는, 본 발명의 제1실시예에 따른 상하이동부의 구성 일부를 보여주는 사시도이다.
도 7a은, 도 2의 A부분을 확대하여 본 발명의 제2실시예에 따른 상하이동부를 보여주는 사시도이다.
도 7b는, 도 7a의 분해 사시도이다.
도 8는, 도 11의 -방향 단면도이다.
도 9는, 도 11의 -방향 단면도이다.
도 10은, 본 발명의 제3실시예에 따른 상하이동부의 구성 일부를 확대하여 보여주는 확대 사시도이다.
도 11은, 도 10의 분해 사시도이다.
도 12은, 본 발명의 제3실시예에 따른 상하이동부의 구성 일부를 확대하여 보여주는 정면도이다.
도 13는, 도 2의 B부분을 확대하여 보여주는 확대도이다.
도 14는, 도 13의 구성 일부를 보여주는 평면도이다.
이하 본 발명에 따른 기판처리장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 기판처리장치는, 도 1a 내지 도 13에 도시된 바와 같이, 밀폐된 처리공간(S)를 형성하는 공정챔버(100)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 하나 이상의 RF전원이 인가되며 하나 이상의 기판(10)이 안착된 트레이(20)를 지지하는 기판지지부(130)와; 상기 처리공간(S)의 상측에 설치되어 기판처리의 수행을 위한 가스를 분사하는 가스분사부(140)와; 상기 공정챔버(100)에 상하 이동가능하게 설치되며 상기 가스분사부(140)에 의하여 분사되는 가스가 유입될 수 있도록 다수의 개구부(152)들이 형성되는 트레이커버부(150)를 포함한다.
여기서 기판처리의 대상인 기판(10)은, 그 표면에 다수의 미세요철들을 형성하기 위한 공정이 수행될 필요가 있는 기판이면 어떠한 기판도 가능하며, 특히 식각을 통하여 그 표면에 미세한 요철을 형성할 필요가 있는 단결정 실리콘, 다결정 실리콘 등 태양전지용 기판도 가능하다.
상기 트레이(20)는, 하나 이상의 기판(10), 특히 다수개의 기판(10)들을 이송하는 구성으로서 기판(10)의 종류 및 진공처리공정에 따라서 그 재질 및 형상은 다양하게 구성될 수 있다. 여기서 트레이(20)는 붕규산유리(pyrex)와 같은 플라즈마에 강한 재질인 재질이 사용되며, 기판(10)들이 안착된 상태로 기판(10)들을 이송하기 위한 구성으로서 기판(10)이 기판지지대(130)에 직접 안착되는 경우에는 필요하지 않음은 물론이다.
상기 공정챔버(100)는, 기판처리를 하기 위한 밀폐된 내부공간을 형성하기 위한 구성으로서 기판처리공정에 따라 다양한 구성이 가능하며, 도 1에 도시된 바와 같이, 상측이 개구되며 하나 이상의 게이트가 형성된 챔버본체(110) 및 챔버본체(110)와 서로 탈착가능하게 결합되어 처리공간(S)을 형성하는 상부리드(120)를 포함하여 구성될 수 있다. 여기서 본 발명에 따른 기판처리장치에 의하여 수행되는 기판처리공정은 식각공정이 대표적이며, 특히 RIE(반응성 이온 에칭)공정이 있다.
이때, 상기 공정챔버(100)의 챔버본체(110) 및 상부리드(120)중 적어도 하나는, 전기적으로 접지되는 것이 바람직하다.
그리고 상기 공정챔버(100)에는, 가스공급장치(미도시)로부터 공급받아 내부공간(S)으로 처리가스를 분사하는 가스분사부(140) 및 기판(10)이 트레이(20)를 통하여 안착되는 기판지지대(130), 내부공간(S) 내의 압력조절 및 배기를 위한 배기시스템 등 진공처리공정을 수행하기 위한 장치들이 설치된다.
상기 기판지지부(130)는, 공정챔버(100)와 전기적으로 절연된 상태로 설치되어 하나 이상의 RF전원이 인가되며 하나 이상의 기판(10)이 안착된 트레이(20)를 지지하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
한편 상기 기판지지부(130)는, 기판처리의 수행을 위하여, 공정챔버(100) 및 가스분사부(140)가 접지될 때, 하나 또는 두개의 RF전원이 인가될 수 있다.
상기 기판지지부(130)는, 챔버본체(110)와 다양한 구조로 결합될 수 있으며, 일예로서, 챔버본체(110)의 하측에서 상측으로 공정챔버(100)와 결합될 수 있다.
이때 상기 챔버본체(110) 및 기판지지부(130)는, 서로 전기적으로 절연될 필요가 있는바, 챔버본체(110) 및 기판지지부(130)의 결합면 사이에 절연재질을 가지는 하나 이상의 절연부재(미도시)가 설치되는 것이 바람직하다.
그리고 상기 챔버본체(110) 및 상기 기판지지부(130) 사이에서의 결합부위에는, 내부공간(S)을 외부와 격리된 밀폐상태를 유지하기 위하여 하나 이상의 밀봉부재가 설치된다.
한편 상기 기판지지부(130)는, 반송로봇(미도시)에 의한 트레이(20)의 도입 또는 배출이 가능하도록 트레이(20)를 상하로 이동시키기 위한 하나 이상의 리프트핀(132)이 상하로 이동가능하도록 설치될 수 있다.
상기 가스분사부(140)는, 처리공간(S)의 상측에 설치되며, 기판처리의 수행을 위한 가스를 분사하는 구성으로, 분사되는 가스의 종류, 숫자 등에 따라서 다양한 구조를 가질 수 있다.
상기 가스분사부(140)는, 상부리드(120)에 설치되어 상부리드(120)와 함께 전기적으로 접지됨이 바람직하다.
상기 트레이커버부(150)는, 그 사용목적에 따라서 다양한 구성이 가능하며, 도 1a 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 다수개의 개구부(152)들이 형성되어 가스가 통과되도록 하는 플레이트(151)로 구성될 수 있다.
상기 개구부(152)는, 가스분사부(140)로부터 분사되는 가스가 기판(10) 상면에서 기판처리가 수행되도록 다양한 패턴 및 크기로 형성될 수 있다.
한편 상기 트레이커버부(150)는, 기판(10)이 안착된 트레이(20) 사이공간에서 형성되는 플라즈마에 의하여 기판(10) 표면이 식각된 잔사물질을 트레이커버부(150)와 트레이(20)의 사이공간에 가두어 잔사물질이 기판(10)의 표면에 부착되어 미세한 요철을 형성하는 등 소정의 목적을 위해 사용된 경우를 예시한 것이다.
이때 상기 트레이커버부(150)와 트레이(20) 사이의 거리는, 잔사를 가두는 효과 및 잔사에 의한 요철형성속도를 고려하여 5㎜-30㎜를 유지하는 것이 바람직하다.
그리고 상기 트레이커버부(150)는, 기판처리공정에 따라서 다양한 재질이 사용될 수 있으며, 플라즈마에 강한 재질이 사용되는 것이 바람직하며, 알루미늄 또는 그 합금의 재질을 가질 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 도 1a 및 도 1b에 도시된 바와 같이, 트레이(20)가 공정챔버(100)내로 도입 또는 배출시 처리공간(S)에 설치된 트레이커버부(150)와의 간섭을 방지하기 위하여 트레이커버부(150)를 상하로 이동시키는 상하이동부(200)를 추가로 포함할 수 있다.
여기서, 상기 도 1a 및 도 1b는, 설명의 편의를 위하여 트레이커버부(150)의 상하이동을 과장하여 도시하였다.
상기 상하이동부(200)는, 트레이커버부(150)를 공정챔버(100)에 대하여 상하로 이동시키는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 상하이동부(200)는, 트레이커버부(150)의 상면에 결합되며 공정챔버(100)의 상부리드(120)를 관통하는 하나 이상의 승강샤프트(210)와; 상부리드(120)의 상측에 설치되며 승강샤프트(210)의 상하이동을 구동하는 상하구동부(230)를 포함할 수 있다.
상기 승강샤프트(210)는, 트레이커버부(150)의 상면에 결합되어 상하이동됨으로써 트레이커버부(150)가 상하이동되게 하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
상기 상하구동부(230)는, 승강샤프트(210)의 상하이동을 구동하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
상기 상하구동부(230)는, 상부리드(120)의 상측, 즉 처리공간(S)의 외부에서 승강샤프트(210)와 결합될 수 있다.
예로서, 상기 상하구동부(230)는, 샤프트연결부(220)를 상하방향 직선운동시킬 수 있다면 다양한 구동시스템이 적용될 수 있고, 예로서, 상기 상하구동부(230)는, 유압, 공압 등을 구동력으로 하는 압력실린더일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
예로서, 상기 상하이동부(200)는, 복수개의 승강샤프트(210)를 포함할 수 있다.
이때, 상기 상하이동부(200)는, 공정챔버(100)의 상측에서 복수의 승강샤프트(210)들과 결합되는 샤프트연결부(220)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 샤프트연결부(220)는, 하나 이상의 승강샤프트(210) 사이를 연결하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 사프트연결부(220)는, 상하구동부(230)와 결합되는 메인샤프트연결부(222)와; 상하구동부(230)와 복수의 승강샤프트(210)들 간 연결을 위하여 메인샤프트연결부(222)에서 분기되어 승강샤프트(210)와 결합되는 서브샤프트연결부(224)를 포함할 수 있다.
상기 메인샤프트연결부(222)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 하나의 상하구동부(230)에 복수개의 승강샤프트(210)들을 결합시키기 위한 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 메인샤프트연결부(222)는, 상하구동부(230)와 결합되며 상하방향(Z방향)에 수직한 X축방향을 길이방향으로 하는 로드(rod)일 수 있다.
상기 서브샤프트연결부(224)는, 상하구동부(230)와 승강샤프트(210) 간 연결을 위하여 메인샤프트연결부(222)에서 분기되어 승강샤프트(210)와 결합되는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 메인샤프트연결부(222)가 상하방향(Z방향)에 수직한 X축방향을 길이방향으로 하는 로드(rod)인 경우, 서브샤프트연결부(224)는, 승강샤프트(210)와 메인샤프트연결부(22) 사이를 연결하는 Y축방향을 길이방향으로 하는 로드(rod)일 수 있다.
이때, 상기 서브샤프트연결부(224)는, 메인샤프트연결부(222)를 중심으로 대칭으로 분기되어 분기된 양단에서 한 쌍의 승강샤프트(210)와 결합됨이 바람직하다.
상기 서브샤프트연결부(224)는, 승강샤프트(210)와 볼팅부재(300)를 통해 결합될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 샤프트연결부(220)는, 하나의 상하구동부(230) 및 복수의 승강샤프트(210)들과 각각 결합됨으로써 승강샤프트(210)의 상하방향이동을 동기화할 수 있다.
한편, 상기 상하이동부(200)는, 도 4에 도시된 바와 같이, 복수의 상하구동부(230a, 230b)를 포함할 수 있다.
구체적으로, 상기 상하이동부(200)는, 트레이커버부(150)의 상면 중앙부에 대응되는 승강샤프트(210)의 상하이동을 구동 중앙구동부(230a)와; 트레이커버부(150)의 상면 외곽부에 대응되는 승강샤프트(210)의 상하이동을 구동하는 외곽구동부(230b)를 포함할 수 있다.
이때, 상기 사프트연결부(220)는, 트레이커버부(150)의 상면 중앙부에 대응되는 승강샤프트(210) 사이를 연결하는 중앙샤프트연결부(220a)와; 트레이커버부(150)의 상면 외곽부에 대응되는 승강샤프트(210) 사이를 연결하는 외곽샤프트연결부(220b)를 포함할 수 있다.
이때, 상기 중앙샤프트연결부(220a)는, 메인샤프트연결부(222a) 및 서브샤프트연결부(224a)로 구성될 수 있다.
마찬가지로, 상기 외곽샤프트연결부(220b)는, 메인샤프트연결부(222b) 및 서브샤프트연결부(224b)로 구성될 수 있음은 물론이다.
상기 중앙구동부(230a)는, 상기 중앙샤프트연결부(220a)를 통해 중앙부에 대응되는 승강샤프트(210)의 상하이동을 구동할 수 있다.
마찬가지로, 외곽구동부(230b)는, 상기 외곽샤프트연결부(220b)를 통해 외곽부에 대응되는 승강샤프트(210)의 상하이동을 구동할 수 있다.
본 발명은 복수의 상하구동부(230)를 포함함으로써, 트레이커버부(150)의 중앙부와 외곽부의 승강정도에 차이를 둘 수 있어 트레이커버부(150)의 중앙부에서 자중에 의해 발생되는 처짐현상을 방지할 수 있다.
한편, 상기 상하이동부(200)는, 도 7 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 승강샤프트(210)의 상하방향이동을 가이드하는 가이드부(240)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 가이드부(240)는, 승강샤프트(210)의 양측에 상하방향을 길이방향으로 하여 설치되는 한 쌍의 가이드봉(242)과; 승강샤프트(210)와 결합되어 승강샤프트(210)와 함께 상하방향이동되며, 한 쌍의 가이드봉(242)이 상대이동가능하게 삽입되는 한 쌍의 관통공이 형성되는 가이드이동부재(244)를 포함할 수 있다.
상기 가이드부(240)는, 도 7 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 상부리드(200)의 상측의 하부구조물(252) 및 상부구조물(254)에 사이에 설치될 수 있다.
이때, 상기 가이드이동부재(244)는, 승강샤프트(210) 및 샤프트연결부(220) 사이에서 승강샤프트(210) 및 샤프트연결부(220) 각각과 볼팅부재(300)를 통해 결합될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 상기 승강샤프트(210)는 처리공간(S) 내부에 위치된 트레이커버부(150)의 상면과 고정결합되고, 샤프트연결부재(220) 및 상하구동부(230)는 처리공간(S)의 외부에 위치되므로, 자중, 열 등의 변화에 의한 상부리드(120)의 변형(수평방향 팽창/수축 또는 상하방향 휨 등)이 발생되는 경우, 도 5에 도시된 바와 같이, 상부리드(120)의 중앙(M)을 중심으로 한 승강샤프트(210)의 수평방향 위치변화(화살표방향)가 발생될 수 있다.
상기 승강샤프트(210)의 수평방향 위치변화는, 승강샤프트(210), 가이드부(240) 및 샤프트연결부(220) 사이의 결합부위에 스트레스에 의한 마모나 마찰과 같은 손상을 야기할 수 있다.
이에, 상기 승강샤프트(210)는, 샤프트연결부(220)에 대해 상대수평이동 가능하게 샤프트연결부(220)와 결합됨이 바람직하다.
상기 승강샤프트(210)가 상대수평이동 가능하게 결합되기 위해서, 도 5에 도시된 바와 같이, 제1결합부위(C1) 및 제2결합부위(C2) 중 적어도 하나는, 결합된 부재들 간 수평방향으로 선형이동 가능하게 결합될 필요가 있다.
상기 제1결합부위(C1)은, 메인샤프트연결부(222)와 서브샤프트연결부(224) 사이의 결합부위를 의미하며, 제2결합부위(C2)는, 서브샤프트연결부(224)와 승강샤프트(210) 사이의 결합부위를 의미할 수 있다.
이하, 도 6을 참조하여, 본 발명의 제1실시예에 따른 상하이동부(200)를 자세히 설명한다.
여기서, 도 6은, 가이드부(240) 및 가이드부(240)가 설치되는 상부구조물(254) 및 하부구조물(252)는 도면상 생략되었다.
상기 제1실시예에서, 상기 서브샤프트연결부(224)와 승강샤프트(210)는, 제2결합부위(C2)에서 서로 직교하는 방향으로 이동을 가이드하는 두 개의 선형가이드부를 통해 수평방향 상대이동가능하게 결합될 수 있다.
구체적으로, 상기 상하이동부(200)는, 상기 승강샤프트(210)와 상기 샤프트연결부(220) 사이에 설치되며, 상기 승강샤프트(210)를 상기 샤프트연결부(220)에 대하여 평면상 제1방향으로 이동가능하게 하는 제1선형가이드부(262)와, 상기 제1선형가이드부(262)와 상기 승강샤프트(210) 사이에 설치되어 상기 승강샤프트(210)를 상기 제1선형가이드부(262)에 대하여 상기 평면상 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 이동가능하게 하는 하나 이상의 제2선형가이드부(264)를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 제1선형가이드부(262) 및 제2선형가이드부(264)는, 선형이동을 위한 LM 가이드로 구성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 제1선형가이드부(262)는, 도 6에 도시된 바와 같이, 승강샤프트(210)와 샤프트연결부(220)의 서브샤프트연결부(224) 사이에 설치되어, 승강샤프트(210)를 평면상 제1방향(Y축방향)으로 이동가능하게 하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
구체적으로, 상기 제1선형가이드부(262)는, 승강샤프트(210)와 고정결합되어 선형이동되는 이동부재(262a)와; 이동부재(262a)와 가이드홈(G)을 통해 상대이동가능하게 결합되어 서브샤프트연결부(224)에 고정결합되는 고정부재(262b)를 포함할 수 있다.
상기 가이드홈(G)는, 승강샤프트(210)를 제1방향(Y축방향)으로 이동가능하게 하기 위해 형성되는 이동부재(262a)를 위한 가이드로, 평면상 제1방향(Y축방향)으로 형성된다면 다양한 형상이 가능하다.
상기 제2선형가이드부(264)는, 제1선형가이드부(262)와 샤프트연결부(220) 사이에 설치되어 평면상 제1방향과 수직한 제2방향으로 제1선형가이드부(262)를 이동가능하게 하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
구체적으로, 상기 제2선형가이드부(264)는, 제1선형가이드부(262)와 고정결합되어 선형이동되는 이동부재(264a)와; 이동부재(262b)와 가이드홈(G)을 통해 상대이동가능하게 결합되어 샤프트연결부(220)의 서브샤프트연결부(224)에 고정결합되는 고정부재(262b)를 포함할 수 있다.
상기 가이드홈(G)는, 제1선형가이드부(262)를 제2방향(X축방향)으로 이동가능하게 하기 위해 형성되는 이동부재(264a)를 위한 가이드로, 평면상 제1방향(Y축방향)과 수직인 제2방향(X축방향)으로 형성된다면 다양한 형상이 가능하다.
제1실시예에따른 상하이동부(200)는, 샤프트연결부(220)의 서브샤프트연결부(224)와 승강샤프트(210) 사이에 서로 직교하는 방향으로 선형이동 가능한 2개의 선형가이드부(262, 264)를 상하적층방식으로 설치함으로써, 승강샤프트(210)를 서브샤프트연결부(224)에 대해 수평방향으로 상대이동 가능하게 설치할 수 있다.
한편, 상기 제1실시예에 따른 상하이동부(200)는, 서브샤프트연결부(224)와 승강샤프트(210) 사이에 가이드부(240)가 설치된 경우에도 동일하게 적용가능함은 물론이다.
일예로, 상기 제1선형가이드부(262) 및 제2선형가이드부(264)는, 서브샤프트연결부(224)와 가이드부(240) 사이에 또는 가이드부(240)와 승강샤프트(210) 사이에 설치될 수 있다.
다른 일예로, 상기 제1선형가이드부(262)는, 가이드부(240)와 승강샤프트(210) 사이에, 제2선형가이드부(264)는, 가이드부(240)와 서브샤프트연결부(224) 사이에 각각 설치될 수 있다.
이하, 도 7 내지 도 9를 참조하여, 본 발명의 제2실시예에 따른 상하이동부(200)를 자세히 설명한다.
상기 제2실시예에서, 상기 서브샤프트연결부(224)와 승강샤프트(210)는, 제2결합부위(C2)에서 하나 이상의 볼팅부재(300)를 이용하여 수평방향 상대이동가능하게 결합될 수 있다.
즉, 제2실시예에 따른 상하이동부(200)는, 제1실시예와 달리, 선형이동을 위한 리니어모듈 대신 각 부재들을 결합시키는 볼팅부재(300)를 이용하여 승강샤프트(210)를 샤프트연결부(220)에 대해 상대수평이동 가능하게 샤프트연결부(220)와 결합시킬 수 있다.
구체적으로, 제2실시예에 따른 상하이동부(200)는, 도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 제1선형가이드부(262) 및 제2선형가이드부(264) 대신, 서브샤프트연결부(224)에 형성된 관통공을 통하여 승강샤프트(210)와 고정결합되며, 승강샤프트(210)와 샤프트연결부(220)를 결합시키는 하나 이상의 볼팅부재(300)를 포함할 수 있다.
이때, 상기 관통공은, 직경(D)이 관통공에서 볼팅부재(300)의 외경(d) 보다 크게 형성됨이 바람직하다.
그에 따라, 상기 볼팅부재(300)는, 관통공의 직경(D) 내에서 수평방향 이동에 있어 자유도를 가지며 샤프트연결부(220)와의 마찰없이 승강샤프트(210)와 함께 이동될 수 있다.
상기 관통공의 형상은, 상부리드(120)의 변형방향 및 변형정도에 따라 원형, 타원형 또는 슬롯형 등 다양하게 형성될 수 있다.
한편, 상기 상하이동부(200)가 도 7 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 가이드부(240)를 추가로 포함하는 경우, 상기 상하이동부(200)는, 서브샤프트연결부(224)와 가이드이동부재(244)를 결합시키는 하나 이상의 제1볼팅부재(300a)와; 가이드이동부재(244)와 승강샤프트(210)를 결합시키는 하나 이상의 제2볼팅부재(300b)를 포함함이 바람직하다.
상기 제1볼팅부재(300a)는, 서브샤프트연결부(224)에 형성된 관통공을 통해 가이드이동부재(244)에 고정결합될 수 있다.
이때, 상기 관통공의 직경(D)은, 관통공에서 볼팅부재(300)의 외경(d) 보다 크게 형성될 수 있다.
이에 따라, 상기 제1볼팅부재(300a)는, 수평방향으로의 자유도를 가지며 가이드이동부재(244)와 함께 이동될 수 있다.
상기 제2볼팅부재(300b)는, 가이드이동부재(244)에 형성된 관통공을 통해 승강샤프트(210)에 고정결합될 수 있다.
이때, 상기 관통공의 직경(D)은, 관통공에서 볼팅부재(300)의 외경(d) 보다 크게 형성될 수 있다.
이에 따라, 상기 제2볼팅부재(300b)는, 수평방향으로의 자유도를 가지며 승강샤프트(210)와 함께 이동될 수 있다.
이하, 도 10 내지 도 12를 참조하여, 본 발명의 제3실시예에 따른 상하구동부(200)를 자세히 설명한다.
상기 제3실시예에서, 상기 서브샤프트연결부(224)와 승강샤프트(210)는, 제1결합부위(C1) 및 제2결합부위(C2)에서 각각 수평방향 상대이동가능하게 결합될 수 있다.
구체적으로, 상기 상하이동부(200)는, 상기 메인샤프트연결부(222)와 상기 서브샤프트연결부(224) 사이에 설치되며, 상기 서브샤프트연결부(224)를 상기 메인샤프트연결부(222)에 대하여 평면상 제1방향으로 이동가능하게 하는 하나 이상의 제3선형가이드부(266)와, 상기 서브샤프트연결부(224)와 상기 승강샤프트(210) 사이에 설치되어 상기 승걍샤프트(210)를 상기 서브샤프트연결부(224)에 대하여 상기 평면상 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 이동가능하게 하는 하나 이상의 제4선형가이드부(268)를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 제3선형가이드부(266) 및 제2선형가이드부(268)는, 선형이동을 위한 LM 가이드로 구성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
구체적으로, 상기 제3선형가이드부(266)는, 도 10에 도시된 바와 같이, 서브샤프트연결부(224)와 고정결합되어 선형이동되는 이동부재(266a)와; 이동부재(266a)와 가이드홈(G)을 통해 상대이동가능하게 결합되어 메인샤프트연결부(222)에 고정결합되는 고정부재(266b)를 포함할 수 있다.
상기 가이드홈(G)는, 서프샤프트연결부(224)를 제1방향(X축방향)으로 이동가능하게 하기 위해 형성되는 이동부재(266a)를 위한 가이드로, 평면상 제1방향으로 형성된다면 다양한 형상이 가능하다.
이때, 상기 가이드홈(G)은, 제1방향이 메인샤프트연결부(222)의 길이방향(X축방향)과 평행하도록 형성됨이 바람직하다.
마찬가지로, 상기 제4선형가이드부(268)는, 도 12에 도시된 바와 같이, 승강샤프트(210)와 고정결합되어 선형이동되는 이동부재(268a)와; 이동부재(268a)와 가이드홈(G)을 통해 상대이동가능하게 결합되어 서브샤프트연결부(224)에 고정결합되는 고정부재(268b)를 포함할 수 있다.
상기 가이드홈(G)는, 승강샤프트(210)를 제1방향(X축방향)에 수직한 제2방향(Y축방향)으로 이동시키기 위해 형성되는 이동부재(268a)를 위한 가이드로, 평면상 제2방향(Y축방향)으로 형성된다면 다양한 형상이 가능하다.
한편, 본 발명은, 상술한 선형가이드부와 볼팅부재(300)의 조합을 통해 승강샤프트(210)를 샤프트연결부(220)에 대해 상대수평이동 가능하게 샤프트연결부(220)와 결합시킬 수 있음은 물론이다.
다시말해, 상술한 제3실시예에서, 상기 상하이동부(200)는, 제4선형가이드부(268) 대신, 서브샤프트연결부(224)에 형성된 관통공을 통하여 승강샤프트(210)와 고정결합되며, 승강샤프트(210)와 서브샤프트연결부(224)를 결합시키는 하나 이상의 볼팅부재(300)를 포함할 수 있다.
이때, 상기 볼팅부재(300)는, 상술한 실시예들과 마찬가지로, 이때, 관통공의 직경(D)은, 관통공에서 볼팅부재(300)의 외경(d) 보다 크게 형성될 수 있다.
또한, 상기 상하이동부(200)가 가이드부(240)를 추가로 포함하는 경우, 제2실시예와 같이, 상하이동부(200)는, 2개의 볼팅부재(300a, 300b)를 포함할 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 변형예로서 도면상 도시하지는 않았으나, 상기 상하이동부(200)는, 승강샤프트(210)를 샤프트연결부(220)에 대해 상대수평이동 가능하게 결합하기 위해서, 제2결합부위(C2)에서 승강샤프트(210) 및 샤프트연결부(220) 사이에 설치되는 적어도 하나의 플로팅조인트(floating joint, 미도시)를 포함할 수 있다.
상기 플로팅조인트는, 승강샤프트(210)와 샤프트연결부(220) 사이의 결합부위에서 샤프트연결부(220)에 대한 승강샤프트(210)의 구면요동 및 상대수평이동이 가능하도록 샤프트연결부(220) 및 승강샤프트(210) 사이에 설치되는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
여기서, 상기 플로팅조인트는, 구동부인 실린더의 출력단 부분과 피구동부의 작동체 사이를 연결할 때 편심이 발생할 경우 그 편심을 보정하여 실린더의 작동시 실린더와 작동체 간의 과부하로 인한 수명단축을 방지하기 위하여 일반적으로 사용되는 조인트에 해당될 수 있다.
예로서, 상기 플로팅조인트는, 승강사프트(210)의 일단에 고정결합되며 샤프트연결부(220)에 구비된 결합구에 삽입되는 볼스터트를 포함할 수 있다.
이때, 상기 결합구는, 수평방향으로 형성된 슬롯형상으로 이루어져 볼스터드의 샤프트연결부(220)에 대한 상대수평이동을 가능하게 할 수 있다.
한편 상기 플로팅조인트 등은 상부리드(120)의 열변형 등에 대응이 가능하도록 설치되는 구성인바, 그 설치위치에 따라서 임의의 방향으로 회전이 가능한 플로팅조인트 대신에, 구속점을 기준으로 일축으로만 회전이 가능함과 아울러 수평방향으로의 이동이 가능한 힌지조인트가 사용될 수 있다.
또한 상기 상부리드(120)는, 진공압의 경우 중앙부를 중심으로 오목하게 휨이 발생될 수 있는바, 상기 제2결합부위(C2)에서 상기 서브샤프트연결부(224)와 승강샤프트(210)가 수평방향 및 수직방향으로도 이동이 가능하게 결합될 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 트레이커버부(150) 및 상부리드(120)를 전기적으로 연결시키는 하나 이상의 전도성 재질의 통전부재(160)를 포함할 수 있다.
상기 통전부재(160)는, 복수개로 구성되어 트레이커버부(150) 및 상부리드(120) 사이에 측면부를 따라 설치될 수 있다.
또한, 상기 통전부재(160)는, 도 13에 도시된 바와 같이, 트레이커버부(150)의 상방이동에 의하여 트레이커버부(150)와 상부리드(120) 사이의 간격이 감소됨에 따라 트레이커버부(150)의 상면 중앙을 향하여 휨이 가능한 재질을 가지는 플렉서블한 스트랩으로 구성될 수 있다.
상기 통전부재(160)가 플렉서블한 스트랩으로 구성됨으로써, 트레이커버부(150)가 상하로 이동함에도 불구하고, 트레이커버부(150)와 상부리드(120) 사이의 전기적 연결이 유지될 수 있는 이점이 있다.
이때, 상기 통전부재(160)는, 도 14에 도시된 바와 같이, 트레이커버부(150)의 상면 중앙을 향하여 휘는 경우 이웃하는 통전부재(160)와 간섭되지 않도록 배치됨이 바람직하다.
예로서, 상기 통전부재(160)는, 복수개로 구성되며, 통전부재(160)가 굽어질 때 인접한 통전부재(160)와 간섭되는 것을 방지하기 위하여 트레이커버부(150)의 꼭지점에 대응되는 영역에서의 간격(K2)이 나머지 영역에서의 간격(K1)보다 크게 배치될 수 있다.
다른 예로서, 상기 통전부재(160)는, 복수개로 구성되며, 통전부재(160)가 굽어질 때 인접한 통전부재(160)와 간섭되는 것을 방지하기 위하여 트레이커버부(150)의 직사각형 꼭지점에 가장 가깝게 배치된 통전부재(160)는 트레이커버부(150)의 가장자리와 경사(θ)를 이루어 배치될 수 있다.
한편, 상기 통전부재(160)의 일단은, 통전부재결합부(154)에 의하여 트레이커버부(150)의 상면 가장자리에 결합될 수 있다.
상기 통전부재결합부(154)는, 복수의 통전부재(160)들을 한번에 트레이커버부(150)에 결합시키기 위하여, 트레이커버부(150)에 형성된 개구(152)에 대응되는 영역이 개방되며 트레이커버부(150)의 상면 가장자리에 설치되는 직사각형 프레임부재로 구성될 수 있다.
상기 통전부재결합부(154)는, 이때, 프레임부재는, 일체로 형성되거나 또는 복수의 부재의 결합에 의하여 형성될 수 있다.
상기 프레임부재는, 프레임부재와 트레이커버부(150)의 상면 사이에 통전부재(160)가 개재된 상태로 볼트 등과 같은 체결부재(155)에 의해 통전부재(160)를 트레이커버부(150)의 가장자리에 설치할 수 있다.
본 발명에 따른 기판처리장치는, 트레이커버부(150)를 상부리드(120)를 통해 접지함으로써 트레이(20) 및 트레이커버부(150) 사이의 복개공간에서만 플라즈마가 형성되도록 유도함으로써 상대적으로 작은 출력의 전원인가에 의하여도 기판처리의 수행이 가능한 이점이 있다.
또한 인가전압의 출력이 감소됨에 따라서 아킹발생의 가능성이 낮아 기판처리의 불량가능성도 현저히 낮출 수 있는 이점이 있다.
즉, 상기 트레이커버부(150)가 전기적으로 접지되면 실질적으로 트레이커버부(150) 및 기판지지부(130) 사이에서만 플라즈마가 형성됨으로써 기판처리시 요구되는 전력소유의 감소로 기판처리효과를 극대화할 수 있는 것으로 추측된다.
이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.
10: 기판 20: 트레이
100 : 공정챔버 150: 트레이커버부
160: 통전부재 200: 상하이동부

Claims (16)

  1. 상측이 개구된 챔버본체(110)와, 상기 챔버본체(110)에 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 상부리드(120)를 포함하는 공정챔버(100)와;
    상기 공정챔버(100)에 설치되어 하나 이상의 RF전원이 인가되며 하나 이상의 기판(10)이 안착된 트레이(20)를 지지하는 기판지지부(130)와;
    상기 처리공간(S)의 상측에 설치되어 기판처리의 수행을 위한 가스를 분사하는 가스분사부(140)와;
    상기 공정챔버(100)에 상하 이동가능하게 설치되며 상기 가스분사부(140)에 의하여 분사되는 가스가 유입될 수 있도록 다수의 개구부(152)들이 형성되는 트레이커버부(150)와;
    상기 트레이(20)가 상기 공정챔버(100)내로 도입 또는 배출시 간섭을 방지하기 위하여 상기 트레이커버부(150)를 상하로 이동시키는 상하이동부(200)를 포함하며,
    상기 상하이동부(200)는,
    상기 트레이커버부(150)에 결합되며 상기 상부리드(120)를 관통하는 복수의 승강샤프트(210)들과; 상기 상부리드(120)의 상측에서 상기 복수의 승강샤프트(210)들과 결합되는 샤프트연결부(220)와; 상기 트레이커버부(150)가 상하이동 되도록 상기 샤프트연결부(220)의 상하이동을 구동하는 상하구동부(230)를 포함하며,
    상기 승강샤프트(210)는, 상기 샤프트연결부(220)에 대해 상대수평이동 가능하게 상기 샤프트연결부(220)와 결합되며,
    상기 상하이동부(200)는, 상기 샤프트연결부(220)에 형성된 관통공을 통하여 상기 승강샤프트(210)와 고정결합되며, 상기 승강샤프트(210)와 상기 샤프트연결부(220)를 결합시키는 하나 이상의 볼팅부재(300)를 포함하며,
    상기 관통공의 직경(D)은, 상기 관통공에서 상기 볼팅부재(300)의 외경(d) 보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 상측이 개구된 챔버본체(110)와, 상기 챔버본체(110)에 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 상부리드(120)를 포함하는 공정챔버(100)와;
    상기 공정챔버(100)에 설치되어 하나 이상의 RF전원이 인가되며 하나 이상의 기판(10)이 안착된 트레이(20)를 지지하는 기판지지부(130)와;
    상기 처리공간(S)의 상측에 설치되어 기판처리의 수행을 위한 가스를 분사하는 가스분사부(140)와;
    상기 공정챔버(100)에 상하 이동가능하게 설치되며 상기 가스분사부(140)에 의하여 분사되는 가스가 유입될 수 있도록 다수의 개구부(152)들이 형성되는 트레이커버부(150)와;
    상기 트레이(20)가 상기 공정챔버(100)내로 도입 또는 배출시 간섭을 방지하기 위하여 상기 트레이커버부(150)를 상하로 이동시키는 상하이동부(200)를 포함하며,
    상기 상하이동부(200)는,
    상기 트레이커버부(150)에 결합되며 상기 상부리드(120)를 관통하는 복수의 승강샤프트(210)들과; 상기 상부리드(120)의 상측에서 상기 복수의 승강샤프트(210)들과 결합되는 샤프트연결부(220)와; 상기 트레이커버부(150)가 상하이동 되도록 상기 샤프트연결부(220)의 상하이동을 구동하는 상하구동부(230)를 포함하며,
    상기 승강샤프트(210)는, 상기 샤프트연결부(220)에 대해 상대수평이동 가능하게 상기 샤프트연결부(220)와 결합되며,
    상기 상하이동부(200)는,
    상기 승강샤프트(210)와 상기 샤프트연결부(220) 사이에 설치되며, 상기 승강샤프트(210)를 상기 샤프트연결부(220)에 대하여 평면상 제1방향으로 이동가능하게 하는 제1선형가이드부(262)와, 상기 제1선형가이드부(262)와 상기 승강샤프트(210) 사이에 설치되어 상기 승강샤프트(210)를 상기 제1선형가이드부(262)에 대하여 상기 평면상 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 이동가능하게 하는 하나 이상의 제2선형가이드부(264)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 제1선형가이드부(262) 및 상기 제2선형가이드부(264)는, 선형이동을 위한 리니어가이드(LM Guide)인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 삭제
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 사프트연결부(220)는,
    상기 상하구동부(230)와 결합되는 메인샤프트연결부(222)와; 상기 상하구동부(230)와 상기 복수의 승강샤프트(210)들 간 연결을 위하여 상기 메인샤프트연결부(222)에서 분기되어 승강샤프트(210)와 결합되는 서브샤프트연결부(224)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  8. 상측이 개구된 챔버본체(110)와, 상기 챔버본체(110)에 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 상부리드(120)를 포함하는 공정챔버(100)와;
    상기 공정챔버(100)에 설치되어 하나 이상의 RF전원이 인가되며 하나 이상의 기판(10)이 안착된 트레이(20)를 지지하는 기판지지부(130)와;
    상기 처리공간(S)의 상측에 설치되어 기판처리의 수행을 위한 가스를 분사하는 가스분사부(140)와;
    상기 공정챔버(100)에 상하 이동가능하게 설치되며 상기 가스분사부(140)에 의하여 분사되는 가스가 유입될 수 있도록 다수의 개구부(152)들이 형성되는 트레이커버부(150)와;
    상기 트레이(20)가 상기 공정챔버(100)내로 도입 또는 배출시 간섭을 방지하기 위하여 상기 트레이커버부(150)를 상하로 이동시키는 상하이동부(200)를 포함하며,
    상기 상하이동부(200)는, 상기 트레이커버부(150)에 결합되며 상기 상부리드(120)를 관통하는 복수의 승강샤프트(210)들과; 상기 상부리드(120)의 상측에서 상기 복수의 승강샤프트(210)들과 결합되는 샤프트연결부(220)와; 상기 트레이커버부(150)가 상하이동 되도록 상기 샤프트연결부(220)의 상하이동을 구동하는 상하구동부(230)를 포함하며,
    상기 승강샤프트(210)는, 상기 샤프트연결부(220)에 대해 상대수평이동 가능하게 상기 샤프트연결부(220)와 결합되며,
    상기 사프트연결부(220)는, 상기 상하구동부(230)와 결합되는 메인샤프트연결부(222)와; 상기 상하구동부(230)와 상기 복수의 승강샤프트(210)들 간 연결을 위하여 상기 메인샤프트연결부(222)에서 분기되어 승강샤프트(210)와 결합되는 서브샤프트연결부(224)를 포함하며,
    상기 상하이동부(200)는,
    상기 메인샤프트연결부(222)와 상기 서브샤프트연결부(224) 사이에 설치되며, 상기 서브샤프트연결부(224)를 상기 메인샤프트연결부(222)에 대하여 평면상 제1방향으로 이동가능하게 하는 하나 이상의 제3선형가이드부(266)와, 상기 서브샤프트연결부(224)와 상기 승강샤프트(210) 사이에 설치되어 상기 승걍샤프트(210)를 상기 서브샤프트연결부(224)에 대하여 상기 평면상 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 이동가능하게 하는 하나 이상의 제4선형가이드부(268)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 제3선형가이드부(266) 및 상기 제4선형가이드부(268)는, 선형이동을 위한 리니어가이드(LM Guide)인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  10. 상측이 개구된 챔버본체(110)와, 상기 챔버본체(110)에 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 상부리드(120)를 포함하는 공정챔버(100)와;
    상기 공정챔버(100)에 설치되어 하나 이상의 RF전원이 인가되며 하나 이상의 기판(10)이 안착된 트레이(20)를 지지하는 기판지지부(130)와;
    상기 처리공간(S)의 상측에 설치되어 기판처리의 수행을 위한 가스를 분사하는 가스분사부(140)와;
    상기 공정챔버(100)에 상하 이동가능하게 설치되며 상기 가스분사부(140)에 의하여 분사되는 가스가 유입될 수 있도록 다수의 개구부(152)들이 형성되는 트레이커버부(150)와;
    상기 트레이(20)가 상기 공정챔버(100)내로 도입 또는 배출시 간섭을 방지하기 위하여 상기 트레이커버부(150)를 상하로 이동시키는 상하이동부(200)를 포함하며,
    상기 상하이동부(200)는, 상기 트레이커버부(150)에 결합되며 상기 상부리드(120)를 관통하는 복수의 승강샤프트(210)들과; 상기 상부리드(120)의 상측에서 상기 복수의 승강샤프트(210)들과 결합되는 샤프트연결부(220)와; 상기 트레이커버부(150)가 상하이동 되도록 상기 샤프트연결부(220)의 상하이동을 구동하는 상하구동부(230)를 포함하며,
    상기 승강샤프트(210)는, 상기 샤프트연결부(220)에 대해 상대수평이동 가능하게 상기 샤프트연결부(220)와 결합되며,
    상기 사프트연결부(220)는, 상기 상하구동부(230)와 결합되는 메인샤프트연결부(222)와; 상기 상하구동부(230)와 상기 복수의 승강샤프트(210)들 간 연결을 위하여 상기 메인샤프트연결부(222)에서 분기되어 승강샤프트(210)와 결합되는 서브샤프트연결부(224)를 포함하며,
    상기 상하이동부(200)는,
    상기 메인샤프트연결부(222)와 상기 서브샤프트연결부(224) 사이에 설치되며, 상기 서브샤프트연결부(224)를 상기 메인샤프트연결부(222)에 대하여 평면상 제1방향으로 이동가능하게 하는 하나 이상의 제3선형가이드부(266)와,
    상기 서브샤프트연결부(224)에 형성된 관통공을 통하여 상기 승강샤프트(210)와 고정결합되며, 상기 승강샤프트(210)와 상기 서브샤프트연결부(224)를 결합시키는 하나 이상의 볼팅부재(300)를 포함하며,
    상기 관통공의 직경(D)은, 상기 관통공에서 상기 볼팅부재(300)의 외경(d) 보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  11. 청구항 1에 있어서,
    상기 상하이동부(200)는,
    상기 승강샤프트(210)의 상하방향이동을 가이드하는 가이드부(240)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  12. 상측이 개구된 챔버본체(110)와, 상기 챔버본체(110)에 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 상부리드(120)를 포함하는 공정챔버(100)와;
    상기 공정챔버(100)에 설치되어 하나 이상의 RF전원이 인가되며 하나 이상의 기판(10)이 안착된 트레이(20)를 지지하는 기판지지부(130)와;
    상기 처리공간(S)의 상측에 설치되어 기판처리의 수행을 위한 가스를 분사하는 가스분사부(140)와;
    상기 공정챔버(100)에 상하 이동가능하게 설치되며 상기 가스분사부(140)에 의하여 분사되는 가스가 유입될 수 있도록 다수의 개구부(152)들이 형성되는 트레이커버부(150)와;
    상기 트레이(20)가 상기 공정챔버(100)내로 도입 또는 배출시 간섭을 방지하기 위하여 상기 트레이커버부(150)를 상하로 이동시키는 상하이동부(200)를 포함하며,
    상기 상하이동부(200)는, 상기 트레이커버부(150)에 결합되며 상기 상부리드(120)를 관통하는 복수의 승강샤프트(210)들과; 상기 상부리드(120)의 상측에서 상기 복수의 승강샤프트(210)들과 결합되는 샤프트연결부(220)와; 상기 트레이커버부(150)가 상하이동 되도록 상기 샤프트연결부(220)의 상하이동을 구동하는 상하구동부(230)를 포함하며,
    상기 상하이동부(200)는, 상기 승강샤프트(210)의 상하방향이동을 가이드하는 가이드부(240)를 추가로 포함하며,
    상기 가이드부(240)는, 상기 샤프트연결부(220)에 대해 상대수평이동 가능하게 상기 샤프트연결부(220)와 결합되며,
    상기 승강샤프트(210)는, 상기 가이드부(240)에 대해 상대수평이동 가능하게 상기 가이드부(240)와 결합되며,
    상기 상하이동부(200)는, 상기 샤프트연결부(220)에 형성된 관통공을 통하여 상기 가이드부(240)와 고정결합되며, 상기 샤프트연결부(220)와 상기 가이드부(240)를 결합시키는 하나 이상의 제1볼팅부재(300a)와, 상기 가이드부(240)에 형성된 관통공을 통하여 상기 승강샤프트(210)와 고정결합되며, 상기 가이드부(240)와 상기 승강샤프트(210)를 결합시키는 하나 이상의 제2볼팅부재(300b)를 포함하며,
    상기 샤프트연결부(220)에 형성된 관통공의 직경(D)은, 상기 관통공에서 상기 제1볼팅부재(300a)의 외경(d) 보다 크게 형성되며,
    상기 가이드부(240)에 형성된 관통공의 직경(D)은, 상기 관통공에서 상기 제2볼팅부재(300b)의 외경(d) 보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  13. 삭제
  14. 청구항 1, 청구항 4, 청구항 5, 및 청구항 7 내지 청구항 12 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 상하이동부(200)는, 복수의 상하구동부(230)들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 상하이동부(200)는,
    상기 트레이커버부(150)의 중앙부에 결합되는 승강샤프트(210)의 상하이동을 구동하는 중앙구동부(230a)와, 상기 트레이커버부(150)의 외곽부에 결합되는 승강샤프트(210)의 상하이동을 구동하는 외곽구동부(230b)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  16. 청구항 1, 청구항 4, 청구항 5, 청구항 7 내지 청구항 12 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 기판처리장치는, 반응성이온에칭 공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
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