KR100843107B1 - 진공처리장치 - Google Patents
진공처리장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100843107B1 KR100843107B1 KR1020070010205A KR20070010205A KR100843107B1 KR 100843107 B1 KR100843107 B1 KR 100843107B1 KR 1020070010205 A KR1020070010205 A KR 1020070010205A KR 20070010205 A KR20070010205 A KR 20070010205A KR 100843107 B1 KR100843107 B1 KR 100843107B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- lift pin
- lift
- substrate
- chamber body
- lift pins
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 94
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 6
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 3
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
-
- H01L21/205—
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67207—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
Claims (12)
- 진공처리를 위한 처리공간이 내부에 형성된 챔버본체와;상기 챔버본체 내에 설치되어 진공처리될 기판을 지지하는 기판지지대와;상기 기판지지대에 형성된 리프트핀공을 따라서 상하이동이 가능하도록 설치된 복수개의 리프트핀들과, 상기 리프트핀을 상하로 이동시키는 리프트핀구동부를 포함하며,상기 리프트핀의 상기 끝단은 상기 리프트핀구동부와 임의의 방향으로 회전가능하게 결합된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 진공처리를 위한 처리공간이 내부에 형성된 챔버본체와;상기 챔버본체 내에 설치되어 진공처리될 기판을 지지하는 기판지지대와;상기 기판지지대에 형성된 리프트핀공을 따라서 상하이동이 가능하도록 설치된 복수개의 리프트핀들과, 상기 리프트핀을 상하로 이동시키는 리프트핀구동부를 포함하며,상기 리프트핀의 상기 끝단은 상기 리프트핀구동부와 임의의 방향으로 회전및 평행이동가능하게 결합된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 삭제
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 리프트핀들은 각각 상기 리프트핀구동부와 리프트핀조인트에 의하여 결합되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 4 항에 있어서,상기 리프트핀조인트는상부가 리프트핀의 끝단의 직경보다 큰 삽입공이 형성되며 상기 리프트핀구동부에 고정설치되는 하우징과,수평방향 이동이 가능하도록 상기 하우징 내에 설치되며 서로 결합되어 내부에 구형의 공간이 형성되는 한 쌍의 수평이동부재와,상기 한 쌍의 수평이동부재 내에 형성된 구형의 공간 내에 수용되며 상기 리프트핀의 끝단이 결합되어 고정되는 구형부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 5 항에 있어서,상기 챔버본체의 저면에 관통형성된 관통공의 하측에는 플랜지가 설치되고, 상기 플랜지와 상기 리프트핀구동부를 연결하는 벨로우즈가 설치된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 5 항에 따른 진공처리장치의 리프트핀조인트.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070010205A KR100843107B1 (ko) | 2007-01-31 | 2007-01-31 | 진공처리장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070010205A KR100843107B1 (ko) | 2007-01-31 | 2007-01-31 | 진공처리장치 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080024085A Division KR100843106B1 (ko) | 2008-03-14 | 2008-03-14 | 진공처리장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100843107B1 true KR100843107B1 (ko) | 2008-07-03 |
Family
ID=39823495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070010205A KR100843107B1 (ko) | 2007-01-31 | 2007-01-31 | 진공처리장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100843107B1 (ko) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101321690B1 (ko) * | 2010-04-28 | 2013-10-23 | 가부시키가이샤 알박 | 진공 처리 장치, 기판과 얼라인먼트 마스크의 이동 방법 및 위치 맞춤 방법 그리고 성막 방법 |
KR101738986B1 (ko) * | 2015-12-07 | 2017-05-24 | 주식회사 디엠에스 | 리프트 핀 어셈블리를 갖는 기판처리장치 |
KR20190011851A (ko) * | 2017-07-25 | 2019-02-08 | 세메스 주식회사 | 리프트 핀 유닛 및 이를 구비하는 기판 지지 유닛 |
KR20200111102A (ko) * | 2019-03-18 | 2020-09-28 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 리프트 기구, 기판 지지기, 및 기판 처리 장치 |
KR102461496B1 (ko) * | 2021-06-03 | 2022-11-03 | 주식회사 기가레인 | 기판 배치 유닛 |
KR20220163849A (ko) * | 2021-06-03 | 2022-12-12 | 주식회사 기가레인 | 기판 배치 유닛 |
US11984344B2 (en) | 2019-11-25 | 2024-05-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Lift apparatus and substrate processing apparatus including the same |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11204430A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-07-30 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
-
2007
- 2007-01-31 KR KR1020070010205A patent/KR100843107B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11204430A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-07-30 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101321690B1 (ko) * | 2010-04-28 | 2013-10-23 | 가부시키가이샤 알박 | 진공 처리 장치, 기판과 얼라인먼트 마스크의 이동 방법 및 위치 맞춤 방법 그리고 성막 방법 |
KR101738986B1 (ko) * | 2015-12-07 | 2017-05-24 | 주식회사 디엠에스 | 리프트 핀 어셈블리를 갖는 기판처리장치 |
CN106971961A (zh) * | 2015-12-07 | 2017-07-21 | 显示器生产服务株式会社 | 具有提升销组件的基板处理装置 |
CN106971961B (zh) * | 2015-12-07 | 2019-12-10 | 显示器生产服务株式会社 | 具有提升销组件的基板处理装置 |
US11139195B2 (en) | 2017-07-25 | 2021-10-05 | Semes Co., Ltd. | Lift pin unit and substrate supporting unit having the same |
KR20190011851A (ko) * | 2017-07-25 | 2019-02-08 | 세메스 주식회사 | 리프트 핀 유닛 및 이를 구비하는 기판 지지 유닛 |
KR102030471B1 (ko) * | 2017-07-25 | 2019-10-14 | 세메스 주식회사 | 리프트 핀 유닛 및 이를 구비하는 기판 지지 유닛 |
KR20200111102A (ko) * | 2019-03-18 | 2020-09-28 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 리프트 기구, 기판 지지기, 및 기판 처리 장치 |
KR102356931B1 (ko) | 2019-03-18 | 2022-01-28 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 리프트 기구, 기판 지지기, 및 기판 처리 장치 |
TWI836026B (zh) * | 2019-03-18 | 2024-03-21 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 基板升降機構、基板支撐器及基板處理裝置 |
US11984344B2 (en) | 2019-11-25 | 2024-05-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Lift apparatus and substrate processing apparatus including the same |
KR102461496B1 (ko) * | 2021-06-03 | 2022-11-03 | 주식회사 기가레인 | 기판 배치 유닛 |
KR20220163849A (ko) * | 2021-06-03 | 2022-12-12 | 주식회사 기가레인 | 기판 배치 유닛 |
KR102497494B1 (ko) * | 2021-06-03 | 2023-02-08 | 주식회사 기가레인 | 기판 배치 유닛 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100843107B1 (ko) | 진공처리장치 | |
KR102010720B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
US8845810B2 (en) | Substrate damage prevention system and method | |
KR100993441B1 (ko) | 기판 탑재 기구, 기판 주고받음 방법, 기판 처리 장치 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 | |
KR101605721B1 (ko) | 베이크 장치 및 기판 처리 장치 | |
KR20170048787A (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
KR101146149B1 (ko) | 리프트 핀 모듈 | |
KR101068384B1 (ko) | 글라스 지지시스템 및 지지핀 구조 | |
KR100843106B1 (ko) | 진공처리장치 | |
KR100757847B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 상기 장치에서 기판을 로딩하는 방법 | |
KR20190096894A (ko) | 기판 처리 방법 | |
KR20160032501A (ko) | 기판안착장치 및 이를 포함한 기판처리장치 | |
KR102616246B1 (ko) | 처리액을 공급 및 회수하는 기판 처리 장치 | |
KR102671711B1 (ko) | 기판 가열 건조 장치 | |
JP4601341B2 (ja) | 基板処理装置 | |
TWI794668B (zh) | 對準裝置以及包括該對準裝置的基板處理裝置 | |
CN206710743U (zh) | 一种载台结构 | |
KR101146150B1 (ko) | 기판처리장치 | |
KR101256485B1 (ko) | 기판처리장치의 공정챔버 | |
KR20170056224A (ko) | 베이크 장치 및 베이크 방법 | |
KR101768518B1 (ko) | 반송 챔버, 기판 처리 설비, 그리고 기판 반송 방법 | |
KR101776018B1 (ko) | 기판 가열 방법 및 기판 처리 장치 | |
TWI844492B (zh) | 加熱處理裝置的維護方法 | |
KR20110079241A (ko) | 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치 | |
JP7449806B2 (ja) | 吸着装置及び真空処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
A107 | Divisional application of patent | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130515 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140401 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160324 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170324 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190311 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200309 Year of fee payment: 13 |