KR100891614B1 - 평면디스플레이용 화학기상 증착장치 - Google Patents
평면디스플레이용 화학기상 증착장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100891614B1 KR100891614B1 KR1020070035198A KR20070035198A KR100891614B1 KR 100891614 B1 KR100891614 B1 KR 100891614B1 KR 1020070035198 A KR1020070035198 A KR 1020070035198A KR 20070035198 A KR20070035198 A KR 20070035198A KR 100891614 B1 KR100891614 B1 KR 100891614B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- cross head
- upper chamber
- side frame
- coupled
- elbow
- Prior art date
Links
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 21
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 43
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 24
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 24
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 24
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 8
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 abstract description 16
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 21
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 13
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 208000014674 injury Diseases 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45563—Gas nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/0262—Reduction or decomposition of gaseous compounds, e.g. CVD
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/6719—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the processing chambers, e.g. modular processing chambers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
평면디스플레이용 화학기상 증착장치가 개시된다. 본 발명의 평면디스플레이용 화학기상 증착장치는, 증착 대상의 평면디스플레이가 안착되는 내부의 증착공간을 형성하는 하부 챔버; 하부 챔버에 결합되는 상부 챔버; 상부 챔버의 외측면에 장착된 적어도 하나의 측면 프레임; 및 상부 챔버가 열팽창할 때 측면 프레임에 대해 상대적으로 슬라이딩 가능하도록 측면 프레임에 결합된 크로스 헤드(Cross head)를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 상부 챔버를 용이하게 운반할 수 있을 뿐 아니라 평면디스플레이의 증착 공정 중에 상부 챔버의 열팽창으로 인해 상부 챔버에 설치된 측면 프레임과 크로스 헤드에 발생될 수 있는 결합의 약화 또는 부재변형을 방지할 수 있다.
평면디스플레이, 화학기상 증착장치, 크로스 헤드, 측면 프레임, 상부 챔버
Description
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평면디스플레이용 화학기상 증착장치의 개략적인 구조도이다.
도 2는 도 1의 평면디스플레이용 화학기상 증착장치의 상부 챔버의 사시도이다.
도 3은 도 2의 A 영역의 확대 사시도이다.
도 4는 도 3의 부분 분해도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10 : 상부 챔버 20 : 하부 챔버
30 : 전극 31 : 가스분배판
32 : 후방플레이트 37 : 가스공급부
38 : 고주파 전원부 40 : 서셉터
42 : 리프트 핀 44 : 컬럼
46 : 서셉터지지부 49 : 승강 모듈
50a, 50b : 측면 프레임 60 : 크로스 헤드
61 : 걸림부재 71 : 수평고정부
72 : 수평고정 엘보우 74 : 밀착부재
75 : 상하고정부 76 : 상하고정 엘보우
80 : 노출조절부 81 : 노출조절 엘보우
G : 유리기판 H : 관통홀
본 발명은 평면디스플레이용 화학기상 증착장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 평면디스플레이의 증착 공정 중에 상부 챔버의 열팽창으로 인해 상부 챔버에 설치된 측면 프레임과 크로스 헤드에 발생될 수 있는 결합의 약화 또는 부재변형을 방지할 수 있는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치에 관한 것이다.
평면디스플레이는 개인 휴대단말기를 비롯하여 TV나 컴퓨터의 모니터 등에 널리 채용된다.
이러한 평면디스플레이는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 등으로 그 종류가 다양하다.
이들 중에서도 특히, LCD(Liquid Crystal Display)는 2장의 얇은 상하 유리기판 사이에 고체와 액체의 중간물질인 액정을 주입하고, 상하 유리기판의 전극 전압차로 액정분자의 배열을 변화시킴으로써 명암을 발생시켜 숫자나 영상을 표시하는 일종의 광스위치 현상을 이용한 소자이다.
LCD는 현재, 전자시계를 비롯하여, 전자계산기, TV, 노트북 PC 등 전자제품 에서 자동차, 항공기의 속도표시판 및 운행시스템 등에 이르기까지 폭넓게 사용되고 있다.
종전만 하더라도 LCD TV는 20 인치 내지 30 인치 정도의 크기를 가지며, 모니터는 17 인치 이하의 크기를 갖는 것이 주류였다. 하지만, 근자에 들어서는 40 인치 이상의 대형 TV와 20 인치 이상의 대형 모니터에 대한 선호도가 높아지고 있다.
따라서 LCD를 제조하는 제조사의 경우, 보다 넓은 유리기판을 제작하기에 이르렀다. 현재에는 가로/세로의 폭이 2 미터(m) 내외에 이르는 소위, 8세대의 유리기판 양산을 눈 앞에 두고 있다.
LCD는 증착(Deposition), 사진식각(Photo lithography), 식각(Etching), 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition) 등의 공정이 반복적으로 수행되는 TFT 공정, 상하 유리기판을 합착하는 Cell 공정, 그리고 기구물을 완성하는 Module 공정을 통해 제품으로 출시된다.
이와 같은 공정들 중의 하나인 화학 기상 증착 공정(Chemical Vapor Deposition Process)은, 외부의 고주파 전원에 의해 플라즈마(Plasma)화되어 높은 에너지를 갖는 실리콘계 화합물 이온(ion)이 전극을 통해 가스분배판으로부터 분출되어 유리기판 상에 증착되는 공정이다.
이러한 화학 기상 증착 공정은 챔버(Chamber) 내에서 수행된다. 그리고 챔버는 통상적으로 상부 챔버와 하부 챔버로 이루어지며, 상부 챔버는 하부 챔버에 탈착될 수 있게 마련된다. 따라서, 유지 보수 등의 작업이 필요한 경우 상부 챔버는 하부 챔버로부터 분리되었다가 다시 결합되어진다.
그런데, 8세대의 유리기판은 가로/세로의 폭이 대략 2 미터(m)에까지 이르기도 하며, 이에 따라 대형 유리기판의 증착 공정에 사용되는 챔버의 부피 및 무게도 상당히 커질 수 밖에 없다. 따라서, 상부 챔버를 하부 챔버로부터 분리 또는 결합하는 과정에서 상부 챔버를 이동시키기 위해서 크레인(Crane)과 같은 장비를 사용하게 된다.
그리고, 크레인을 사용하여 상부 챔버에 상방으로의 힘을 가하기 위해서는, 크레인의 일단에 마련되는 후크(Hook) 등의 결합 수단을 상부 챔버에 걸리게 해야 한다. 따라서 크레인의 사용을 위해 상부 챔버는 후크가 걸릴 수 있는 구조를 갖추어야 한다. 그러한 구조로, 상부 챔버의 양 측면에 한 쌍의 측면 프레임을 설치하고, 빔(Beam)의 형상을 갖는 크로스 헤드(Cross head)를 한 쌍의 측면 프레임에 수평으로 결합시킴과 동시에 이러한 크로스 헤드의 중앙부에 후크가 걸리는 걸림 부재를 장착하는 방식이 제안될 수 있다.
그런데, 챔버 내의 온도는 유리기판의 증착 공정 중에 수백 도 이상으로 상승하게 되며, 증착 공정이 완료되면 다시 상온으로 냉각된다. 유리기판의 증착 공정 중에 상부 챔버는 열팽창하게 되며, 이러한 상부 챔버의 열팽창은 상부 챔버에 설치되는 두 개의 측면 프레임에 간격이 넓어지도록 하는 힘을 작용하게 된다. 그리고 이때 두 개의 측면 프레임에 연결된 크로스 헤드는 팽창하는 상부 챔버를 따라 두 측면 프레임이 이동하지 못하도록 구속하는 작용을 하게 된다.
이처럼 두 측면 프레임이 상부 챔버를 따라 자유로이 이동되지 못하는 경우, 두 측면 프레임에 가해지는 열팽창력은, 측면 프레임과 상부 챔버의 결합 또는 측면 프레임과 크로스 헤드의 결합을 약화시키거나 측면 프레임과 크로스 헤드 자체의 부품 변형을 발생시킬 수 있다. 이러한 현상이 챔버의 가열과 냉각이 반복됨에 따라 더욱 심화되면 측면 프레임과 크로스 헤드가 제 기능을 발휘하지 못할 정도가 될 수도 있다.
이에 따라, 상부 챔버를 운반하기 용이하도록 상부 챔버에 측면 프레임과 크로스 헤드를 설치하는 경우, 상부 챔버의 열팽창력에 의해 이들 부재에 발생될 수 있는 결합의 약화 또는 부재변형에 대한 대비책이 필요한 실정이다.
따라서, 본 발명의 목적은, 상부 챔버를 용이하게 운반할 수 있을 뿐 아니라 평면디스플레이의 증착 공정 중에 상부 챔버의 열팽창으로 인해 상부 챔버에 설치된 측면 프레임과 크로스 헤드에 발생될 수 있는 결합의 약화 또는 부재변형을 방지할 수 있는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치를 제공하는 것이다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 증착 대상의 평면디스플레이가 안착되는 내부의 증착공간을 형성하는 하부 챔버; 하부 챔버에 결합되는 상부 챔버; 상부 챔버의 외측면에 장착된 적어도 하나의 측면 프레임; 및 상부 챔버가 열팽창할 때 측면 프레임에 대해 상대적으로 슬라이딩 가능하도록 측면 프레임에 결합된 크로스 헤드(Cross head)를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치에 의해 달성된다.
여기서, 측면 프레임은 한 쌍 마련되되 크로스 헤드의 단면의 형상에 대응하는 형상을 갖는 관통홀이 형성되며, 크로스 헤드는 한 쌍의 측면 프레임 사이에 배치되어 양 단부에서 관통홀을 관통할 수 있다.
그리고, 측면 프레임에 결합되며, 길이방향을 제외한 다른 방향으로 크로스 헤드가 측면 프레임에 대해 상대이동하는 것을 저지하는 고정부를 더 포함할 수 있다.
또한, 고정부는, 수평방향으로 크로스 헤드가 측면 프레임에 대해 상대이동하는 것을 저지하는 수평고정부; 및 상하방향으로 크로스 헤드가 측면 프레임에 대해 상대이동하는 것을 저지하는 상하고정부를 포함할 수 있다.
그리고, 수평고정부는, 일면은 측면 프레임에 결합되고 타면은 크로스 헤드의 일측면에 대향하도록 마련며, 일측이 타측보다 긴 장공이 일면에 형성되는 적어도 하나의 수평고정 엘보우(elbow); 장공을 관통하여 수평고정 엘보우를 측면 프레임에 결합시키는 결합나사; 및 수평고정 엘보우의 타면을 관통하여 크로스 헤드의 일측면에 밀착되는 적어도 하나의 밀착부재를 포함할 수 있다.
또한, 상하고정부는, 일면은 측면 프레임에 결합되고 타면은 크로스 헤드의 하면을 상방 지지하며, 일측이 타측보다 긴 장공이 형성되는 적어도 하나의 상하고정 엘보우; 및 장공을 관통하여 상하고정 엘보우를 측면 프레임에 결합시키는 결합나사를 포함할 수 있다.
그리고, 한 쌍의 측면 프레임에 형성된 관통홀을 관통하여 노출되는 크로스 헤드의 노출길이를 조절하는 노출조절부를 더 포함할 수 있다.
또한, 노출조절부는, 일면은 크로스 헤드의 상면에 결합되고 타면은 측면 프레임에 대향하도록 마련며, 일측이 타측보다 긴 장공이 형성되는 노출조절 엘보우; 및 장공을 관통하여 노출조절 엘보우를 크로스 헤드에 결합시키는 결합나사를 포함할 수 있다.
그리고, 크로스 헤드의 중앙 영역에는, 상부 챔버의 리프팅(lifting)을 위한 걸림부재가 장착될 수 있다.
또한, 평면디스플레이는 LCD(Liquid Crystal Display)용 대형 유리기판일 수 있다.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시예에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.
이하, 첨부한 도면을각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다. 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평면디스플레이용 화학기상 증착장치의 개략적인 구조도이다.
설명에 앞서, 평면디스플레이(G)란, 전술한 바와 같이 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 중 어떠한 것이 적용되어도 좋다.
다만, 본 실시예에서는 LCD(Liquid Crystal Display)용 대형 유리기판(G)을 평면디스플레이(G)로 간주하기로 한다. 그리고 대형이란, 앞서도 기술한 바와 같이, 8세대에 적용되는 수준의 크기를 가리킨다. 이하, 평면디스플레이(G)를 유리기판(G)이라 하여 설명하도록 한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 평면디스플레이용 화학기상 증착장치는, 상부 및 하부 챔버(10, 20)와, 상부 챔버(10) 내에 마련되어 증착 대상의 유리기판(G)을 향해 소정의 실리콘계 화합물 이온(ion)인 증착물질을 방출하는 전극(30)과, 하부 챔버(20) 내에 마련되어 유리기판(G)이 로딩(Loading)되는 서셉터(40)를 구비한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 증착 공정이 진행될 때 상부 및 하부 챔버(10, 20)는 상호 결합된 상태를 유지한다. 즉, 별도의 크레인(Crane)에 의해 상부 챔버(10)가 하부 챔버(20)의 상부에 결합됨으로써 상부 및 하부 챔버(10, 20)는 한 몸체를 이룬다.
이처럼 상부 및 하부 챔버(10, 20)가 한 몸체를 이루게 되면, 챔버(10, 20)의 내부공간(S)은 진공 분위기로 유지될 수 있도록 외부와 차폐되어 유리기판(G)의 증착공간(S)으로 활용될 수 있다.
상부 챔버(10)에 대해 살펴보면, 상부 챔버(10)의 내부에는 횡 방향을 따라 전극(30)이 구비되어 있다. 전극(30)은, 하부 챔버(20)를 향한 전면에 배치되는 가스분배판(31)과, 가스분배판(31)과의 버퍼공간(B)을 사이에 두고 가스분배판(31)의 배후에 배치되는 후방플레이트(32)를 구비한다.
가스분배판(31)에는 미세하게 가공된 수많은 오리피스(미도시)가 형성되어 있다. 따라서 증착 공정 시 서셉터(40)가 상승하여 가스분배판(31)과 대략 수십 밀리미터(mm) 정도로 근접 배치되면, 이어서 증착물질이 수많은 오리피스를 통해 방출되어 유리기판(G)의 상면으로 증착된다.
후방플레이트(32)와 상부 챔버(10) 사이에는 후방플레이트(32)가 상부 챔버(10)의 외벽에 직접 접촉되어 통전되지 않도록 절연체(34)가 마련되어 있다. 절연체(34)는 테프론 등으로 제작될 수 있다.
가스분배판(31)과 후방플레이트(32) 사이에는 현가지지부재(35)가 마련되어 있다. 현가지지부재(35)는 버퍼공간(B) 내의 증착물질이 외부로 누출되지 않도록 할 뿐만 아니라 대략 400kg 정도의 무거운 중량을 갖는 가스분배판(31)을 후방플레이트(32)에 대해 현가 지지한다. 뿐만 아니라 현가지지부재(35)는 증착 공정 시 대략 200℃ 정도로 가열된 가스분배판(31)이 X축, Y축 및 Z축 방향 중 적어도 어느 한 방향으로 열팽창하는 것을 보상하는 역할도 겸한다.
상부 챔버(10)의 상단에는 증착공간(S) 내로 반응 가스 혹은 클리닝(Cleaning) 가스, 기타 가스를 공급하는 가스공급부(37)가 마련되어 있다. 그리고 가스공급부(37)의 주변에는 고주파 전원부(38)가 설치되어 있다. 고주파 전원부(38)는 연결라인(39)에 의해 전극(30)의 후방플레이트(32)와 전기적으로 연결되어 있다.
도시하고 있지는 않지만 하부 챔버(20) 내의 바닥면 영역에는 증착공간(S)에 존재하는 가스를 다시 증착공간(S)으로 확산시키는 가스확산판(미도시)이 마련되어 있다.
서셉터(40)는 하부 챔버(20) 내의 증착공간(S)에서 횡방향으로 배치되어 로딩되는 유리기판(G)을 지지한다. 보통은 증착 대상의 유리기판(G)의 면적보다 큰 구조물로 형성된다. 서셉터(40)의 상면은 유리기판(G)이 정밀하게 수평상태로 로딩될 수 있도록 거의 정반으로 제조된다. 서셉터(40)의 내부에는 도시 않은 히터가 장착되어 서셉터(40)를 소정의 증착온도인 대략 280℃~380℃로 가열한다.
서셉터(40)의 상면으로 유리기판(G)이 얹혀지면서 로딩되거나 취출되기 위해 서셉터(40)에는 로딩되거나 취출되는 유리기판(G)의 하면을 안정적으로 지지하는 복수의 리프트 핀(42)이 더 구비되어 있다. 리프트 핀(42)들은 서셉터(40)를 관통하도록 설치되어 있다.
이러한 리프트 핀(42)들은 서셉터(40)가 하강할 때, 그 하단이 하부 챔버(20)의 바닥면에 가압되어 상단이 서셉터(40)의 상면으로 돌출된다. 이에, 유리기판(G)을 서셉터(40)로부터 이격시킨다. 반대로, 서셉터(40)가 부상하면, 하방으로 이동하여 유리기판(G)이 기판로딩부(31)의 상면에 밀착되도록 한다. 이러한 리프트 핀(42)들은 도시 않은 로봇아암이 서셉터(40)에 로딩된 유리기판(G)을 파지할 수 있도록 유리기판(G)과 서셉터(40) 사이의 공간을 형성하는 역할을 겸한다.
이러한 서셉터(40)에는 그 상단이 서셉터(40)의 배면 중앙 영역에 고정되고 하단이 하부 챔버(20)를 통해 하방으로 노출되어 서셉터(40)를 승강 가능하게 지지하는 컬럼(44)이 더 결합되어 있다.
전술한 바와 같이, 8세대 하에서의 서셉터(40)는 그 무게가 무겁고 크기가 상대적으로 커서 처짐이 발생할 수 있는데, 이럴 경우, 유리기판(G)에도 처짐이 발 생할 수 있다. 이에, 도시된 바와 같이, 컬럼(44)의 상부 영역에는 서셉터지지부(46)가 마련되어 서셉터(40)를 안정적으로 떠받치고 있다.
서셉터(40)는 하부 챔버(20) 내의 증착공간(S)에서 상하로 승강한다. 즉, 유리기판(G)이 로딩될 때는 하부 챔버(20) 내의 바닥면 영역에 배치되어 있다가 유리기판(G)이 로딩되고 증착 공정이 진행될 때는 유리기판(G)이 가스분배판(31)에 인접할 수 있도록 부상한다. 이를 위해, 서셉터(40)에 결합된 컬럼(44)에는 서셉터(40)를 승강시키는 승강 모듈(49)이 더 마련되어 있다.
승강 모듈(49)에 의해 서셉터(40)가 승강하는 과정에서 컬럼(44)과 하부 챔버(20) 사이이 공간이 발생되어서는 아니 된다. 따라서 컬럼(44)이 통과하는 하부 챔버(20)의 해당 영역에는 컬럼(44)의 외부를 감싸도록 벨로우즈관(48)이 마련되어 있다. 벨로우즈관(48)은 서셉터(40)가 하강할 때 팽창되고, 서셉터(40)가 부상할 때 압착된다.
도 2는 도 1의 평면디스플레이용 화학기상 증착장치의 상부 챔버의 사시도이고, 도 3은 도 2의 A 영역의 확대 사시도이며, 도 4는 도 3의 부분 분해도이다.
본 실시예의 평면디스플레이용 화학기상 증착장치는, 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 상부 챔버의 외측면에 장착된 한 쌍의 측면 프레임(50a, 50b)과, 한 쌍의 측면 프레임(50a, 50b)에 결합된 크로스 헤드(60, Cross head)와, 길이방향을 제외한 다른 방향으로 크로스 헤드(60)가 측면 프레임(50a, 50b)에 대해 상대이동할 수 없도록 고정하는 고정부(71, 75)와, 크로스 헤드(60)의 측면 프레임(50a, 50b)에 대한 노출길이를 조절하는 노출조절부(80)를 구비한다.
측면 프레임(50a, 50b)은 한 쌍으로 마련되며, 상부 챔버(10)의 측면에 기립되도록 장착된다. 도 4에 도시된 바와 같이, 측면 프레임(50a, 50b)에는 크로스 헤드(60)의 일단이 관통하는 관통홀(H)이 형성된다. 이러한 관통홀(H)은 크로스 헤드(60)의 단면의 형상에 대응하여 직사각형으로 형성된다.
크로스 헤드(60)는, 두 개의 측면 프레임(50a, 50b) 사이에 배치됨과 동시에 양단부가 측면 프레임(50a, 50b)에 형성된 관통홀(H)을 관통하도록 마련된다. 이에 크로스 헤드(60)는 직육면체 형상의 길다란 빔(Beam)으로 마련되어, 측면 프레임(50a, 50b)에 형성된 직사각형의 관통홀(H)에 관통될 수 있다. 이처럼, 크로스 헤드(60)는 길이방향으로 측면 프레임(50a, 50b)에 대해 슬라이딩 가능하도록 결합된다. 그리하여, 상부 챔버(10)가 열팽창함에 따라 두 측면 프레임(50a, 50b) 사이의 간격이 넓어지더라도, 크로스 헤드(60)는 측면 프레임(50a, 50b)의 이동을 제한하지 않을 수 있다.
크로스 헤드(60)의 길이방향의 중앙 영역에는 별도의 크레인을 통하여 상부 챔버(10)를 리프팅(lifting)하는 과정에서 크레인의 후크(Hook)가 걸릴 수 있는 걸림부재(61)가 장착된다. 그리하여, 걸림부재(61)에 후크가 걸린 상태에서 크레인이 상방의 힘을 가하면 상부 챔버(10)는 위로 리프팅될 수 있다.
이러한 크로스 헤드(60)가 측면 프레임(50a, 50b)의 관통홀(H)에 관통될 때 비교적 쉽게 관통될 수 있도록, 크로스 헤드(60)의 둘레는 관통홀(H)의 둘레보다 다소 작게 마련된다. 그러나, 이러한 크로스 헤드(60)와 관통홀(H) 간의 공차는 그대로 두면 크레인으로 상부 챔버(10)를 운반하는 과정에서 크로스 헤드(60)와 측면 프레임(50a, 50b)의 불필요한 상대이동을 유발하는 원인으로 작용할 수 있다.
이러한 크로스 헤드(60)와 관통홀(H) 간의 공차에 대한 대비책으로, 본 실시예의 평면디스플레이용 화학기상 증착장치는 고정부(71, 75)를 구비한다. 고정부(71, 75)가 마련됨으로써, 상부 챔버(10)가 열팽창하는 경우에만 크로스 헤드(60)가 길이방향으로 측면 프레임(50a, 50b)에 대해 일정 정도 슬라이딩할 수 있고, 이외의 경우에는 크로스 헤드(60)와 측면 프레임(50a, 50b)은 어떠한 방향으로도 상대이동 할 수 없다.
이러한 고정부(71, 75)는, 도 4에 도시된 바와 같이, 수평고정부(71)와 상하고정부(75)를 구비한다.
수평고정부(71)는, 하나의 관통홀(H) 주변에 한 쌍 마련되며, 수평고정 엘보우(72, elbow))와, 결합나사(73)와, 밀착부재(74)를 구비한다.
수평고정 엘보우(72)는, "L"자 형으로 마련되며, 일면은 측면 프레임(50a)에 결합되고 타면은 크로스 헤드(60)의 일측면에 대향하도록 마련된다. 수평고정 엘보우(72)는 결합나사(73)를 통하여 측면 프레임(50a)에 결합될 수 있으며, 수평고정 엘보우(72)에 형성된 나사공이 장공(長空)으로 형성되어 있어 수평고정 엘보우(72)를 수평방향으로 일정폭 이동시켜가며 측면 프레임(50a)에 결합시킬 수 있다. 그리고 밀착부재(74)는 볼트와 너트로 이루어지는데, 수평고정 엘보우(72)에 볼트의 머리부분은 도 3에서와 같이 크로스 헤드(60)의 일측면에 밀착될 수 있다. 이러한 밀착을 통하여 크로스 헤드(60)와 관통홀(H) 간의 수평방향의 공차가 메꿔진다.
상하고정부(75)는, 도 4에 도시된 바와 같이, "L"자 형의 상하고정 엘보 우(76)와, 결합나사(77)를 구비한다. 상하고정 엘보우(76)는, 일면은 측면 프레임(50a)에 결합되고 타면은 크로스 헤드(60)의 하부면을 접촉 지지한다. 그리고, 상하고정 엘보우(76)에 형성된 나사공 역시 장공으로 형성되어 있어, 상하고정 엘보우(76)를 상하로 일정폭 이동되도록 조절하여 측면 프레임(50a)에 결합시킬 수 있다. 따라서, 상하고정 엘보우(76)를 상방으로 적절하게 올려 결합나사(77)를 체결하면, 크로스 헤드(60)와 관통홀(H) 간의 상하방향의 공차가 메꿔질 수 있다.
노출조절부(80)는 측면 프레임(50a, 50b)에 형성된 관통홀(H)을 관통하여 노출된 크로스 헤드(60)의 노출길이를 조절한다. 이에 노출조절부(80)는, 도 3 내지 도 4에 도시된 바와 같이 크로스 헤드(60)의 상면에 설치되며, 노출조절 엘보우(81)와, 결합나사(82)를 구비한다. 크로스 헤드(60)의 양단의 적절한 위치에 노출조절 엘보우(81)를 결합나사(82)를 통하여 결합시킴으로써, 크로스 헤드(60)가 관통홀(H)을 관통하는 길이가 결정된다. 즉, 도 3에 도시된 바와 같이, 노출조절 엘보우(81)의 일면이 측면 프레임(50a)에 밀착됨으로써 크로스 헤드(60)의 일단은 허용된 길이에서만 관통홀(H)을 관통할 수 있다.
이처럼 크로스 헤드(60)의 양단에서 관통되어 노출된 길이를 조절하는 것은, 크레인을 이용하여 상부 챔버(10)를 리프팅할 때 무게중심을 맞춰 한쪽으로 기울어지는 것을 방지하기 위함이다. 이에, 노출조절 엘보우(81)에는 장공의 나사공이 형성되어 있으므로, 상부 챔버(10)를 리프팅하는 과정에서 어느 한쪽으로 기울어지는 경우 결합나사(82)를 풀어 무게중심이 잡히도록 노출조절 엘보우(81)의 설치위치를 일정폭 변경시킬 수 있다.
이러한 구성을 갖는 본 실시예의 평면디스플레이용 화학기상 증착장치의 유리기판(G)의 증착 공정에 대하여 설명하면 다음과 같다.
우선, 승강 모듈(49)에 의해 서셉터(40)가 하부 챔버(20)의 하부 영역으로 하강된 상태에서 로봇아암(미도시)에 의해 이송된 증착 대상의 유리기판(G)이 증착공간(S)으로 유입되어 서셉터(40)의 상부에 배치된다.
이 때, 리프트 핀(42)의 상단은 서셉터(40)의 상면으로 소정 높이 돌출된 상태이므로, 로봇아암은 리프트 핀(42)들에 유리기판을 올려둔 후, 취출된다. 로봇아암이 취출되면, 상부 및 하부 챔버(10, 20)의 내부는 진공 분위기로 유지됨과 동시에 증착에 필요한 공정가스(SiH4, NH3등)가 충전된다.
다음, 증착 공정의 진행을 위해, 승강 모듈(49)이 동작하여 서셉터(40)를 부상시킨다. 그러면 리프트 핀(42)이 하강되고, 이를 통해 유리기판(G)은 서셉터(40)의 상면으로 밀착하면서 로딩된다. 정해진 거리만큼 서셉터(40)가 부상하면 승강 모듈(49)의 동작이 정지되고 유리기판(G)은 가스분배판(31)의 직하방에 위치하게 된다. 이 때 이미, 서셉터(40)는 대략 280℃~380℃ 정도로 가열된다.
그런 다음, 절연체(34)로 인해 절연된 전극(30)을 통해 전원이 인가된다. 이어 수많은 오리피스가 형성된 가스분배판(31)을 통해 실리콘계 화합물 이온인 증착물질이 분출되면서 유리기판(G) 상으로 도달함으로써 유리기판(G) 상에 증착이 이루어진다.
유리기판(G)의 증착 공정이 수행될 때, 서셉터(40)의 가열 그리고 고온고압 의 증착물질의 분출로 인하여, 상부 및 하부 챔버(10, 20)의 온도는 상당히 높아지게 된다. 이에 따라, 상부 챔버(10)는 열팽창하여 길이 및 부피가 늘어나게 된다. 따라서, 상부 챔버(10)의 두 측면에 결합된 한 쌍의 측면 프레임(50a, 50b) 사이의 거리도 증가하는 방향으로 일정폭 이동하게 된다.
이처럼 한 쌍의 측면 프레임(50a, 50b) 간의 거리가 증가할 때, 측면 프레임(50a, 50b)과 크로스 헤드(60) 상호 간에는 크로스 헤드(60)의 길이방향으로 상대적인 슬라이딩이 발생하게 된다. 즉, 측면 프레임(50a, 50b)은 크로스 헤드(60)에 의해 구속되지 않고 측면 프레임(50a, 50b) 간의 거리가 증가하도록 소폭 이동할 수 있다.
본 실시예의 평면디스플레이용 화학기상 증착장치의 상부 챔버를 리프팅하는 과정을 설명하면 다음과 같다.
전술한 바와 같이, 때에 따라 상부 챔버(10)는 하부 챔버(20)와의 결합을 위해 또는 챔버(10, 20) 내부의 유지 보수 작업을 위해 별도로 마련된 크레인에 의해 리프팅되어 운반되어져야 한다.
이처럼 상부 챔버(10)가 리프팅될 때, 크레인에 마련된 후크와 같은 결합수단은 크로스 헤드(60)의 중앙에 설치된 걸림부재(61)에 걸릴 수 있다. 그리고, 크레인에 의해 상부 챔버(10)가 리프팅된 경우 무게중심이 맞지 않아 상부 챔버(10)가 좌우 어느 한 방향으로 기울어질 수 있다. 이때, 크로스 헤드(60)의 상면에 설치된 노출조절부(80)의 노출조절 엘보우(81)의 설치위치를 조절하여 줌으로써, 리프팅된 상태에서 상부 챔버(10)의 기울어짐을 방지할 수 있다.
그리고, 상부 챔버(10)가 리프팅되었다가 하부 챔버(20) 위에 얹혀지거나 유지 보수를 위한 작업대 위에 놓여질 때, 크로스 헤드(60)와 측면 프레임(50a, 50b)은 수평고정부(71) 및 상하고정부(75)에 의해 상호 간의 상대이동이 발생되지 않는다. 따라서, 상부 챔버(10)의 운반 과정에서, 크로스 헤드(60)와 측면 프레임(50a, 50b)은 상호 충격을 주고받는 일이 없게 되며, 이 두 부재 간의 불필요한 상호 간의 슬라이딩이 방지되어 상부 챔버(10)의 균형을 유지한 채 안정적으로 운반할 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 평면디스플레이용 화학기상 증착장치에 의하면, 유리기판(G)의 증착 공정 중에 상부 챔버(10)의 열팽창할 때, 상부 챔버(10)에 설치된 측면 프레임(50a, 50b)과 크로스 헤드(60)는 상호 간에 슬라이딩될 수 있다. 그리하여, 두 측면 프레임(50a, 50b)은 크로스 헤드(60)에 구속되지 않고 상부 챔버(10)의 열팽창에 따라 자유로이 이동될 수 있다. 그러므로, 측면 프레임(50a, 50b)이 크로스 헤드(60)에 구속됨으로 인하여 발생될 수 있는 결합 부위에서의 체결의 약화 또는 부재변형이 방지될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 평면디스플레이용 화학기상 증착장치에 의하면, 크레인을 이용하여 상부 챔버(10)를 운반하는 과정에서, 수평고정부(71)과 상하고정부(75)에 의해 측면 프레임(50a, 50b)과 크로스 헤드(60)는 상호 고정된 상태를 유지하게 된다. 이로 인하여, 크로스 헤드(60)와 측면 프레임(50a, 50b)은 상부 챔버(10)의 운반 중에 서로 충격을 주고 받지 않게 되고, 상부 챔버(10)는 균형이 유지된 채로 운반될 수 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 상기와 같은 특정 실시 예에 한정되지 아니하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 본 발명의 특허청구범위에 기재된 내용의 범주에서 적절하게 변경 가능한 것이다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 상부 챔버를 용이하게 운반할 수 있을 뿐만 아니라 평면디스플레이의 증착 공정 중에 상부 챔버의 열팽창으로 인해 상부 챔버에 설치된 측면 프레임과 크로스 헤드에 발생될 수 있는 결합의 약화 또는 부재변형을 방지할 수 있는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치를 제공할 수 있다.
Claims (10)
- 증착 대상의 평면디스플레이가 안착되는 내부의 증착공간을 형성하는 하부 챔버;상기 하부 챔버에 결합되는 상부 챔버;상기 상부 챔버의 외측면에 장착되며 관통홀이 각각 관통형성되는 한 쌍의 측면 프레임; 및상기 상부 챔버의 열팽창에 의해 발생하는 상기 한 쌍의 측면 프레임의 이동을 제한하지 않도록, 상기 한 쌍의 측면 프레임 사이에 배치되어 양 단부에서 상기 관통홀을 관통하여 상기 한 쌍의 측면 프레임에 대해 슬라이딩 가능하게 상기 한 쌍의 측면 프레임에 결합되는 크로스 헤드(Cross head)를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치.
- 삭제
- 제1항에 있어서,상기 측면 프레임에 결합되며, 길이방향을 제외한 다른 방향으로 상기 크로스 헤드가 상기 측면 프레임에 대해 상대이동하는 것을 저지하는 고정부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치.
- 제3항에 있어서,상기 고정부는,수평방향으로 상기 크로스 헤드가 상기 측면 프레임에 대해 상대이동하는 것을 저지하는 수평고정부; 및상하방향으로 상기 크로스 헤드가 상기 측면 프레임에 대해 상대이동하는 것을 저지하는 상하고정부를 포함하는 것을 특징을 하는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치.
- 제4항에 있어서,상기 수평고정부는,일면은 상기 측면 프레임에 결합되고 타면은 상기 크로스 헤드의 일측면에 대향하도록 마련며, 일측이 타측보다 긴 장공이 상기 일면에 형성되는 적어도 하나의 수평고정 엘보우(elbow);상기 장공을 관통하여 상기 수평고정 엘보우를 상기 측면 프레임에 결합시키는 결합나사; 및상기 수평고정 엘보우의 상기 타면을 관통하여 상기 크로스 헤드의 상기 일측면에 밀착되는 적어도 하나의 밀착부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치.
- 제4항에 있어서,상기 상하고정부는,일면은 상기 측면 프레임에 결합되고 타면은 상기 크로스 헤드의 하면을 상방 지지하며, 일측이 타측보다 긴 장공이 형성되는 적어도 하나의 상하고정 엘보우; 및상기 장공을 관통하여 상기 상하고정 엘보우를 상기 측면 프레임에 결합시키는 결합나사를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치.
- 제1항에 있어서,상기 한 쌍의 측면 프레임에 형성된 상기 관통홀을 관통하여 노출되는 상기 크로스 헤드의 노출길이를 조절하는 노출조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치.
- 제7항에 있어서,상기 노출조절부는,일면은 상기 크로스 헤드의 상면에 결합되고 타면은 상기 측면 프레임에 대향하도록 마련며, 일측이 타측보다 긴 장공이 형성되는 노출조절 엘보우; 및상기 장공을 관통하여 상기 노출조절 엘보우를 상기 크로스 헤드에 결합시키는 결합나사를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치.
- 제1항에 있어서,상기 크로스 헤드의 중앙 영역에는, 상기 상부 챔버의 리프팅(lifting)을 위한 걸림부재가 장착되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치.
- 제1항에 있어서,상기 평면디스플레이는 LCD(Liquid Crystal Display)용 대형 유리기판인 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학기상 증착장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020070035198A KR100891614B1 (ko) | 2007-04-10 | 2007-04-10 | 평면디스플레이용 화학기상 증착장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020070035198A KR100891614B1 (ko) | 2007-04-10 | 2007-04-10 | 평면디스플레이용 화학기상 증착장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20080091987A KR20080091987A (ko) | 2008-10-15 |
| KR100891614B1 true KR100891614B1 (ko) | 2009-04-08 |
Family
ID=40152313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020070035198A KR100891614B1 (ko) | 2007-04-10 | 2007-04-10 | 평면디스플레이용 화학기상 증착장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100891614B1 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101479931B1 (ko) * | 2012-10-23 | 2015-01-12 | 주식회사 에스에프에이 | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102409375B1 (ko) * | 2018-11-15 | 2022-06-15 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판처리장치 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040100196A (ko) * | 2003-05-22 | 2004-12-02 | 주성엔지니어링(주) | 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치의샤워헤드 어셈블리 |
| KR20060001166A (ko) * | 2004-06-30 | 2006-01-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 플라즈마 화학기상 증착장비의 리드 커버 및 플라즈마화학기상 증착장비 |
| KR20070009186A (ko) * | 2005-07-15 | 2007-01-18 | 삼성전자주식회사 | 화학기상증착장치 |
-
2007
- 2007-04-10 KR KR1020070035198A patent/KR100891614B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040100196A (ko) * | 2003-05-22 | 2004-12-02 | 주성엔지니어링(주) | 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치의샤워헤드 어셈블리 |
| KR20060001166A (ko) * | 2004-06-30 | 2006-01-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 플라즈마 화학기상 증착장비의 리드 커버 및 플라즈마화학기상 증착장비 |
| KR20070009186A (ko) * | 2005-07-15 | 2007-01-18 | 삼성전자주식회사 | 화학기상증착장치 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101479931B1 (ko) * | 2012-10-23 | 2015-01-12 | 주식회사 에스에프에이 | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20080091987A (ko) | 2008-10-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4951536B2 (ja) | 基板載置台及び基板処理装置 | |
| KR100938874B1 (ko) | 유리기판 지지용 서셉터 및 그 제조 방법, 그리고 그유리기판 지지용 서셉터를 구비한 화학 기상 증착장치 | |
| KR20080097832A (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR101352923B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR100904038B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR100891614B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학기상 증착장치 | |
| KR100701512B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR100738874B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR100896067B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR100738873B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR20150053593A (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR100714882B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR100853248B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR101022313B1 (ko) | 화학 기상 증착 장치의 로드락 챔버 조립체 | |
| KR100858934B1 (ko) | 화학 기상 증착장치 | |
| KR100877822B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR100833118B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR101419346B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR101430659B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR101365075B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR101479931B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR100857806B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR100738876B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR101341422B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
| KR100854421B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E90F | Notification of reason for final refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130218 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140213 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150213 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160218 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |