CN101978307B - 真空处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及真空处理装置，具体涉及对用于LCD控制板的玻璃等基板进行所相关的蚀刻、蒸发等真空处理的真空处理装置。本发明所提供的真空处理装置包括相互连接形成对基板进行真空处理的处理空间的腔体本体以及上部盖子、设置于所述上部盖子的下侧，向所述处理空间进行气体供给的喷头部以及为了对所述喷头部的边缘部位进行支持而设置于所述腔体本体以及所述上部盖子之间的辅助盖子。

Description

真空处理装置

技术领域

本发明涉及真空处理装置，具体涉及对用于LCD控制板的玻璃等基板进行所相关的蚀刻、蒸发等真空处理的真空处理装置。

背景技术

真空处理装置是在形成有处理空间的真空腔内设置电极，且通过在真空状态下向电极输入电源来形成等离子体，从而对设置有电极的基板支持部上所设置的基板表面进行蒸发(Vacuum Evaporation)、蚀刻等真空处理工程的装置。

现有的真空处理装置由上侧开口的腔体本体以及腔体本体上侧可装卸地连接的上部盖子组成。为了维护以及维修真空处理腔，上部盖子构成为在与腔体本体分离后可向腔体本体的一侧移动及回转。

另一方面由于LCD的大型化趋势，用于LCD(Liquid CrystalDisplay)控制板的玻璃基板的尺寸也随之增大，因此对上述用于LCD控制板的玻璃基板进行处理的真空处理装置的尺寸也随之变大。

上述真空处理装置大型化的同时，处理空间的体积(真空体积)，也进而增加，而由体积增加的处理空间内的真空压所引起的腔体外部施加的荷重也随之增加，不仅使腔体本体，还使上部盖子发生变形。

此时，上部盖子所发生的变形会向着设置于上部盖子底面的喷头进行传达，进而现有的真空处理装置中，存在由于上部盖子发生变形而导致喷头或者喷头上设置的绝缘构件的破损、设置误差等情况发生的问题。

并且在上述腔体外部施加的荷重增加的同时，腔体为了支撑所增加的荷重而增大其自身的厚度，进而导致整体腔体的自重都会增加，从而导致上部盖子也将增大其厚度以及自重。

现有的真空处理装置为了对喷头等设置于上部盖子底面上的内部设备进行修理或替换，而需要要求上部盖子从腔体本体方向开始分离，而现有技术中所采用的方案是先提升上部盖子进行旋转，然后再将其从腔体本体分离开。

可是现有真空处理装置在上部盖子的自重增加时，相应的存在需要具有能够支撑上部盖子自重的功率的回转装置(回转电机、减速机等)的问题。

尤其与半导体不同，作为真空处理对象的基板为第八代的四角LCD腔体玻璃基板的情况下，存在一边长度大约超过2m的基板的尺寸会显著增大，相对地导致上部盖子的自重急剧增加，使上部盖子的回转几乎不可能的问题。

发明内容

(一)要解决的技术问题

为了解决上述问题，本发明的目的在于提供具备将上部盖子以及喷头分开设置结构的真空处理装置。

本发明的另一目的在于提供在对真空处理装置处设置的重物，比如喷头，进行维护修补时，对重物可容易进行替换的真空处理装置。

本发明的另一目的在于提供上部盖子即使因为真空压产生变形，也能防止对设置于上部盖子附近的部件造成影响的真空处理装置。

(二)技术方案

为了达到如上所述的本发明的目的，本发明所提供的真空处理装置包括：

相互连接形成对基板进行真空处理的处理空间的腔体本体以及上部盖子；

设置于所述上部盖子下侧，向处理空间进行气体供给的喷头部；

对所述喷头部的边缘部位进行支持而设置于所述腔体本体以及所述上部盖子之间的辅助盖子。

所述辅助盖子形成有使所述喷头部的底面向所述处理空间露出的开口部，所述辅助盖子包括夹于所述腔体本体上端与所述上部盖子下端之间的盖子支持部，所述腔体本体的上端与盖子支持部之间以及上部盖子的下端和盖子支持部之间插入设置有密封件；

所述上部盖子以及辅助盖子对于腔体本体可拆卸地设置。

优选地，本发明所涉及的真空处理装置的形状构成为其一边尺寸超过1,300mm的矩形。

所述辅助盖子与所述喷头部的整体或者一部分可形成为一体。

所述喷头部可设置与所述上部盖子的底面之间有间隔。

所述上部盖子设置为与所述辅助盖子可拆卸。

所述辅助盖子设置为与所述腔体本体可拆卸。

所述喷头部设置为与所述辅助盖子可拆卸。

当上部盖子从所述辅助盖子处拆卸后，所述喷头部设置为可以向所述辅助盖子的上方分离出来。

所述上部盖子、喷头部以及辅助盖子中至少有一个为了与外部装卸装置相连接而形成有装卸部件结合部。

所述喷头部的上侧追加设置有用于进行冷却操作的冷却面板，所述冷却面板为了与外部装卸装置相连接可形成有装卸部件结合部。

所述喷头部可构成为为了向处理空间喷射气体，可以追加包括有多个喷射孔的喷射面板。

所述喷头部构成为为了形成用于气体的扩散的一个以上的扩散空间，可以追加包括与所述喷射面板的上表面具备间隔，且与所述喷射面板结合的一个以上的扩散面板；

此时，所述喷射面板以及所述至少一个的扩散面板可形成为一体或者可拆卸地连接；为了与外部装载装置相连接，所述喷射面板以及所述至少一个的扩散面板上形成有装载部件结合部，或者所述喷射面板以及所述至少一个的扩散面板的整体上形成有装载部件结合部。

所述辅助盖子可包括：

设置为密封件夹于所述腔体本体上端与所述上部盖子下端之间的盖子支持部；

由所述盖子支持部延伸形成的为了使所述喷头部的底面向着所述处理空间而形成开口部，且支持所述喷头部边缘部位的喷头安装部；

所述开口部设置为小于所述腔体本体内所设置的基板支持部。

所述喷头安装部设置为从所述盖子支持部的上表面起向下侧呈台阶状，以使所述喷头安装部从所述上部盖子的底面分隔开。

为了对所述喷头部底面的边缘部位以及所述辅助盖子的底面向所述处理空间侧所露出的部分受等离子体的影响起保护作用，可以在所述喷头部底面的边缘部位以及所述辅助盖子的底面向所述处理空间侧所露出的部分设置第一保护构件。

所述辅助盖子上可形成有用于进行温度控制的热媒介通道。

向着所述处理空间露出的所述辅助盖子的露出面上，为了保护受等离子体影响的表面，设置有可拆卸的第二保护构件。

所述真空处理器可以追加包括将上部盖子从所述辅助盖子处可拆卸的装卸装置。

所述装卸装置可以包括：

为了将上部盖子对应于腔体本体进行水平方向移动的水平方向移动部而构成。

所述装卸装置可以包括：

为了将所述上部盖子对应于所述腔体本体进行升降移动的升降部；

为了将所述上部盖子对应于所述腔体本体进行水平方向移动的水平方向移动部。

所述升降部设置为通过对所述上部盖子进行支持来对所述上部盖子进行升上降下操作；

为了使所述升降部可沿水平方向移动，所述水平方向移动部包括设置于所述腔体本体两侧面的一对导轨，以及使所述上部盖子沿所述导轨进行移动的驱动部。

为了通过对所述上部盖子进行支持来对所述上部盖子进行升上降下操作，所述水平方向移动部包括设置于所述腔体本体两侧的一对升降导轨，以及在所述升降导轨上升后使所述上部盖子沿所述升降导轨进行移动的驱动部；

所述水平方向移动部可以包括支持所述上部盖子使能够升降，设置在腔体本体的两侧的一对升降导轨和当所述升降导轨上升后将上部盖子随着升降导轨移动的驱动部，所述升降部使支持上部盖子的升降导轨升降而构成。

所述装卸装置可追加包括：所述升降导轨上升后，与所述升降导轨连接来移动所述上部盖子的连接导轨。

所述上部盖子铰接于腔体主体的一侧表面。

(三)有益效果

本发明所涉及的真空处理装置由于其上部盖子以及喷头部可分别设置于腔体本体上，因此其各部件的荷重可得到减少从而具有便于对部件进行传送以及可拆卸的优点。

此外，本发明所涉及的真空处理装置由于其上部盖子以及喷头部对于腔体本体可拆卸，进而由辅助盖子所支持的喷头部能够从辅助盖子上可拆卸下来，因此，可对真空处理装置中需要维修更换的对象所对应的部件进行方便的装载以及卸载。

此外，本发明所涉及的真空处理装置由于其上部盖子与由辅助盖子所支持的喷头部之间形成有间隔，可以防止由于真空体积增加等原因所引起的上部盖子的变形向喷头部进行传达，进而避免造成喷头部的变形或者损坏。

附图说明

图1为展示本发明所涉及的真空处理装置的分解细节示意图；

图2为展示图1的真空处理装置的截面图；

图3至图5及图6至图8为展示对图1的真空处理装置进行拆解及组装过程的截面图；

图9至图12为展示图1的真空处理装置中装卸装置的运作的侧面图；

图13至图15为另一种展示图1的真空处理装置中装卸装置的运作的侧面图；

图16为展示图1的真空处理装置中上部盖子铰接(hinge)于腔体主体的例子的侧面图。

具体实施方式

下面将参照附图来对本发明所涉及的真空处理装置进行详细说明。

图1为展示本发明所涉及的真空处理装置的分解细节示意图，且图2为展示图1的真空处理装置的截面图。

本发明所涉及的真空处理装置100如图1及图2所示，包括上侧开口的腔体本体120以及可装卸地连接于腔体本体120上侧的以形成真空处理空间S的上部盖子110。

比起小型的基板晶圆，本发明所涉及的真空处理装置110优选为更倾向于形成为四角形状等多角形，对大型的用于LCD面板的玻璃基板的表面在真空状态下形成等离子体进行蚀刻或蒸发等真空处理操作的装置。

在真空处理的对象中用于LCD面板的玻璃基板为第五时代水平的情况下，考虑到该玻璃基板的尺寸可为1,100*1,300mm。因此，本发明所涉及的真空处理装置100作为处理大型基板的装置，优选地为形状构成为其一边尺寸超过1,300mm的矩形。

所述真空处理装置100为了向处理空间S供给气体，可设置有由气体供给管以及喷头部210等所构成的气体供给系统，以及为了在处理空间内形成等离子体而用于输入电源的电源输入部，以及用于排气及压力控制的排气系统等各种模块以及设备(安装器械)。

所述真空处理装置100所构成的腔体本体120以及上部盖子相互连接进而形成了用于真空处理的处理空间S。

所述腔体本体120可设置为为了使其底面与地面相隔开而将其支撑设置于一支持结构上(未图示)。

所述腔体本体120的侧面中至少存在一面，其上形成有为了基板1的出入而设置的腔门130。并且，在其内侧底面处设置有可架设基板1的基板支持部140。

所述腔门130通过腔门阀(未图示)来进行开关，并与装载锁定腔体(Load Lock Chamber,未图示)连接的传送腔体(未图示)相连通。

所述基板支持部140为了架设基板1而具备支持面，可设置为了将下部电极，基板1根据静电力固定的静电夹头等多种构成。

另一方面，所述上部盖子110可制造为形成面板或者容器构造等各种形状以及结构。

为了对设置于真空处理装置100内部的部件进行修理及替换等维护维修操作，所述上部盖子110设置为可拆卸的与腔体本体120相连接。并且，将所述上部盖子110制造为具备一定程度的厚度来承受处理空间S内所形成的真空压。并且上部盖子110的外表面为防止由于真空压所引起的上部盖子110变形可将其外侧辅助设置成为了强化构造的结构。

另外，辅助盖子300设置于腔体本体120以及上部盖子110之间，并可拆卸的与腔体本体120相连接。理所当然的，上部盖子110可与辅助盖子300进行可拆卸的连接。

所述可拆卸的与上部盖子110或者腔体本体120相连接的辅助盖子300包括夹于腔体本体120上端与上部盖子110下端之间的盖子支持部330；以及由盖子支持部330延伸形成的，为了使喷头部210的底面向着处理空间S而形成开口部310；用于支持喷头部210的边缘部位的喷头安装部320。此时所述喷头安装部320和盖子支持部330可作为整体或者由结合部件相连接。此处所述腔体本体120的上端与盖子支持部330之间，以及上部盖子110的下端和盖子支持部330之间插入设置有密封件121、122。

所述盖子支持部330由于与喷头安装部320相连接，并设置于腔体本体120及上部盖子110之间，从而来对喷头部210进行支持。

并且考虑到由真空压所引起的上部盖子120的变形，优选地将支持所述喷头部210的喷头安装部320与上部盖子120的底面间隔开，设置成从盖子支持部330的上表面向下方呈阶梯状的等间隔开地设置。

所述喷头安装部320设置成为了使喷头部210中用于气体的喷射的喷射孔211a能够向着处理空间S的方向进而使喷头部210的底面面向处理空间S而形成开口部310的同时，使其能够支持喷头部210的边缘。

所述喷头安装部320支持喷头部210边缘部位的方法可通过向着喷头部210的上侧方向或是下侧方向等多种方法来支持喷头部210，并且在喷头部210为多个部件所组成的情况下，所述喷头安装部320可对其各个组成部件进行各自的支持而形成有阶段模式的支持部321、322。

此时考虑到对喷头部210进行修理及替换，优选地将所述喷头安装部320设置于辅助盖子300的上侧面。

并且，如上所述所构成的辅助盖子300为了实现所期望的真空处理工程而需要通过加热或冷却来对处理空间S的温度进行控制，因此所述辅助盖子300上可设置有用于控制温度的热媒介通道340。

另一方面，所述喷头部210设置成在上部盖子110的下侧与上部盖子110的底面间隔开，由辅助盖子300来支持，根据各个真空处理工程，构成为为了将处理气体、载体气体等向处理空间S注入气体，可以具有多种构成。

举例来说，所述喷头部210可构成为包括：为了向处理空间S输入气体而设置有具备多个喷射孔211a的喷射面板211；以及为了形成至少一个的用于扩散气体的扩散空间DS1、DS2的与喷射面板211的上表面具备间隔并与喷射面板211相连接的至少一个的扩散面板212。

所述喷射面板211为了向处理空间S内以相同分布的方式喷射气体，从而设置有多个以预定模式垂直贯通的贯通孔211a，且该喷射面板211设置为其边缘部位可通过辅助盖子300来支持，当该喷射面板211采用铝材制作时，其朝向处理空间S的表面会受到阳极氧化处理。

所述扩散面板212为面板部件，设置于喷射面板211上方并形成扩散空间DS1、DS2，当扩散空间DS1、DS2为多个的情况下，扩散面板212设置为具备多个扩散孔212a以使气体向与喷射面板211相连接的扩散空间DS1进行传达。

优选地，形成了所述扩散空间的扩散面板212通过插入设置密封件212c来紧密连接喷射面板211或者辅助盖子300。此时，为了将所述扩散面板212设置为与喷射面板211的上侧面具备间隔，于喷射面板211的边缘部位上突出形成有用于支持扩散面板212底面的突出部211b。

此时，所述扩散面板212可与喷射面板211一体形成，或者与喷射面板211或辅助盖子300通过螺丝等连接部件来进行可拆卸地连接。或者所述扩散面板212可如后述内容来设置为与喷射面板211或者辅助面板300进行可拆卸地连接。

优选地，在由真空压所引起的上部盖子110变形时，所述扩散面板212为防止受到该变形所带来的影响，其设置为与上部盖子110的底面之间具备一定的间隔。此时所述扩散面板212与上部盖子110之间间隔所形成的空间可灵活利用为用于扩散气体的扩散空间DS2。此时所述上部盖子110的底面可设置为凹形来与扩散面212之间形成间隔。

另一方面，在考虑到上部盖子110的变形程度发生为最大程度的情况下，所述扩散面板212与上部盖子110的底面之间所形成间隔由上部盖子110中央部的变形量来决定。并且当上部盖子110的变形程度随着边缘部分向中央方向趋于严重的情况下，该间隔可设置为向中央方向逐渐增加。

如上所述，真空处理过程中由于处理空间中所形成的真空压所导致的在外部看来上部盖子110存在凹陷变形的情况下，由于上部盖子110的底面与喷头部210，即扩散面板212的上侧面之间形成有间隔，因此可以防止上部盖子110的变形对喷头部210造成影响。

另一方面，所述喷头部210的上侧上可进一步设置有用于控制喷头部210的温度的冷却面板(未图示)。此时，为对喷头部210进行温度控制，所述冷却面板的边缘部位部分与喷头部210进行紧密连接。并且，冷却面板的上侧面可代替喷头部210而设置为与上部盖子110的底面之间具备间隔。

为了在处理空间S处形成等离子体，至少喷头部210的一部分或辅助盖子300为了能够起到作为电极，即上部电极(一般情况下接地)的功能，可以使用具有导电性的金属部件。

如上所述的喷头部210以及辅助盖子300等作为金属部件进行使用的情况下，在等离子体的影响下，其向着处理空间侧的表面所包含的部分会出现由于蚀刻而受到损伤，或者产生粒子堆积等对真空处理造成不良影响的情况。

为解决上述问题，为了使所述喷头部210底面的边缘部位，或者边缘部位的周边及辅助盖子300的底面的一部分避免等离子体的干扰，可设置第一保护构件240，比如陶瓷。

在辅助盖子300向着所述处理空间侧所露出的露出面上，与腔体本体120相类似的设置有可拆卸的第二保护构件350。因此，可以防止真空处理过程中真空处理装置100内部中所产生的副产品直接附着于暴露在处理空间中的辅助盖子300的底面上的情况。

另一方面，为了对真空处理装置100的内部所设置的部件进行容易的修理或替换，所述上部盖子110设置为可拆卸的与腔体本体120相连接。为了在腔体本体120上可对上部盖子110进行安装或者卸载，如下内容所述的装卸装置可连接于腔体本体120上或者设置于腔体本体120的周边。

所述上部盖子110以及辅助盖子300可同时或者分别地与腔体本体120进行可拆卸地连接。

在所述上部盖子110以及辅助盖子300分别地可拆卸地连接的情况下，辅助盖子300设置为在上部盖子110首先分离后，所述上部盖子110再与辅助盖子300分离开。

所述喷头部210设置为可拆卸地安装于辅助盖子300上，此时喷头部210可设置为在上部盖子110与辅助盖子300首先分离后，喷头部210再从辅助盖子300分离出来。

此外，与现有技术中将喷头部210连接于上部盖子110的真空处理装置所不同，本发明所涉及的真空处理装置100，其上部盖子120首先分离后，然后对露出于外部的喷头部210再进行分离，由此在本发明中喷头部210可在无需回转上部盖子110的情况下进行修理或者更换。

所述上部盖子110、喷头部210以及辅助盖子300可以以各种方法与腔体本体120进行可拆卸的装载或者卸载。比如，所述上部盖子110、喷头部210以及辅助盖子300可通过升降移动、上侧移动、倾斜移动、滑动等多种方式或者其组合的方式来进行装载、卸载以及移动。

另一方面，所述上部盖子110、喷头210以及辅助盖子300中至少有一个上可拆卸的设置有装卸部件521、522以及523，比如环首螺栓，以与作为外部装置的起重机上的牵引线510相结合。或者，为了与装卸装置相结合，至少一个装卸部件结合部形成于上部盖子110、喷头210以及辅助盖子300的上侧、侧面、边缘部位等各种位置上。

根据外设装置，比如起重机等的外部装置，或者装卸装置的种类以及结合的方式的不同，所述装卸部件结合部可以具有多种结构；而且为了在上部盖子110、喷头210以及辅助盖子300上连接环首螺栓，不仅可设置为螺丝孔521a、521b以及521c、其构成还可以为辅助螺丝攻525或者插槽等各种形态。

另一方面，如上所述的本发明所涉及的真空处理装置100中需要对各部件进行卸载的情况，可分为需要对各部件进行卸载以对喷头部210下侧所设置的基板支持部140等设备进行修理或者更换的情况，以及需要对喷头部210进行修理或者更换的情况。

图3至图5及图6至图8为展示对图1的真空处理装置进行拆解及组装过程的截面图。

首先，为了对比如喷头部210下侧所设置的基板支持部140等设备进行修理或者更换的情况，该基板支持部140或者基板支持部140上设置的静电夹头、下部电极等需要从腔体本体120等处进行卸载的过程的情况如图3至图5所示。

即，如图3及图4所示，使用为外部装置的起重机等进行分离，移动至设定的位置，然后如图5所示，使用起重机将辅助盖子300及喷头部210从腔体本体120上进行卸载。此时，所述喷头部210可以与辅助盖子300一同进行卸载，接下来自然就再将喷头部210从辅助盖子300上进行卸载。

其次，在需要对所述喷头部210进行修理或者更换的情况下，辅助盖子300不需要从腔体本体120上进行卸载，该卸载过程如图6及图7所示。

即，如图6及图7所示，在上部盖子110从辅助盖子300上进行卸载后，可按顺序继续进行卸载，此时喷头部210在由喷射面板211及扩散面板212构成的情况下，可将喷射面板211及扩散面板212分别按顺序或者一次性地从辅助盖子300上卸载下来。

另一方面，在辅助盖子300需要被卸载的情况下，如图8所示，对喷头部210进行卸载后，辅助盖子300可进行卸载。

图9至图12为展示图1的真空处理装置中装卸装置的运作的侧面图；图13至图15为另一种展示图1的真空处理装置中装卸装置的运作的侧面图；图16为展示图1的真空处理装置中上部盖子铰接于腔体主体的例子的侧面图。

另一方面，为了对所述上部盖子110等进行卸载，除了如起重机等外部装置，还可另外设置用于对上部盖子110进行卸载的装卸装置。

所述装卸装置作为将上部盖子110于腔体本体120处卸载并将其向设定的位置进行移动的装置，可具备多种结构，该装卸装置可设置为将上部盖子110沿上下方向及水平方向进行移动，此时上部盖子110可同时进行上下移动以及水平移动，并且还可以进行回转。

一般情况下，在设置了真空处理装置100的工厂中设置有起重机，所述装卸装置可灵活应用为用于对起重机进行安装及卸载的外部装置。此时为了与起重机上的牵引线510相结合，所述上部盖子110、喷头部210以及辅助盖子300上设置或者可拆卸的结合设置有如环首螺栓的搭载部件521、522、523于装卸部件结合部上。

所述装卸装置可包括：为了将上部盖子110对应于腔体本体120进行升降移动的升降部530，以及为了将上部盖子110对应于腔体本体120进行水平方向移动的水平方向移动部540。此时装卸装置可仅由升降部构成。

另一方面，结合附图对所述装卸装置的升降部530及水平方向移动部540所具备的多种结构进行说明。

如图9所述，所述升降部530设置为通过对所述上部盖子进行支持来对所述上部盖子110进行升上降下操作，此时所述上部盖子110以及升降部530可通过一个以上的辅助螺丝攻525进行连接。

并且，为了使升降部530可沿水平方向移动，所述水平方向移动部540可包括设置于腔体本体120两侧面的一对导轨541，以及使上部盖子110沿导轨541进行移动的驱动部(未示出)。

如图9至图11所示，具备如上所述结构的装卸装置用于在辅助盖子300上装载或卸载上部盖子110。

另一方面，如图12所示，所述上部盖子110从辅助盖子300上卸载后，喷头部210可通过起重机来进行卸载。当然，此时辅助盖子300也可以同时进行卸载或者分别进行卸载。

接下来，作为所述装卸装置的变形例，所述水平方向移动部540可包括安装于腔体本体120两侧的一对移动导轨542来通过对上部盖子110进行支持来对上部盖子110进行升上降下操作，以及在升降导轨542上升后使上部盖子110沿升降导轨542进行移动的驱动部(未示出)。

此时所述升降部530设置为对用于支持上部盖子110的升降导轨542进行上下移动。

并且所述水平方向移动部540可追加地包括通过与上升后的升降导轨542进行连接来使上部盖子110进行移动的连接导轨543。

通过如上所述的装卸装置所进行的上部盖子110以及喷头部210的卸载过程如图13至图15所示。

另一方面，如图16所示，所述上部盖子110可铰接于腔体主体120的侧面。

在现有技术中，由于喷头部210连接于上部盖子110的底面，在卸载喷头部210的时候，需要将上部盖子110回转180度之后再进行卸载。

然而，如本发明所述的喷头部210为可拆卸的连接于辅助盖子300上，因此通过使用由液压汽缸545等构成的装卸装置来使上部盖子110仅回转大约90度后，即可通过如起重机的外部装置将喷头部210容易地从辅助盖子300上进行卸载。

另一方面，用于卸载上部盖子110的装卸装置自然也可以应用于将辅助盖子300从腔体本体120上进行卸载。

以上仅为对本发明技术方案进行实施的优选实施例的部分相关说明，众所周知，本发明的保护范围并不仅限于上述实施例所限定并解释的内容，上述所说明的本发明的技术思想以及基于该思想的技术思路均应被认为被包含于本发明的保护范围。

Claims (20)

1.一种真空处理装置，其特征在于，所述真空处理装置包括：

相互连接形成对基板进行真空处理的处理空间的腔体本体以及上部盖子；

设置于所述上部盖子的下侧、向处理空间进行气体供给的喷头部；

对所述喷头部的边缘部位进行支持而设置于所述腔体本体以及所述上部盖子之间的辅助盖子；

所述辅助盖子形成有使所述喷头部的底面向所述处理空间露出的开口部，所述辅助盖子包括夹于所述腔体本体上端与所述上部盖子下端之间的盖子支持部，所述腔体本体的上端与盖子支持部之间以及上部盖子的下端和盖子支持部之间插入设置有密封件；

所述辅助盖子还包括支持所述喷头部的边缘部位的喷头安装部；

所述开口部是由所述盖子支持部延伸形成的；

所述上部盖子以及辅助盖子对于腔体本体可拆卸地设置；

所述喷头部设置为与所述辅助盖子可拆卸，

所述上部盖子、喷头部以及辅助盖子中至少有一个形成有为了与外部装卸装置相连接的装卸部件结合部；

所述辅助盖子的边缘部位和所述上部盖子的边缘部位，比所述腔室本体的内壁更向外侧延长；

所述辅助盖子的边缘部位、所述上部盖子的边缘部位及所述腔室本体的上端在垂直方向上重叠。

2.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，所述真空处理装置的形状构成为其一边尺寸超过1,300mm的矩形。

3.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，所述喷头部设置为与所述上部盖子的底面之间有间隔。

4.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，所述上部盖子设置为与所述辅助盖子可拆卸。

5.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，在所述上部盖子从所述辅助盖子处卸载之后，所述喷头部设置为向所述辅助盖子的上侧可进行分离。

6.如权利要求1-5任一项所述的真空处理装置，其特征在于，所述喷头部的上侧追加设置有用于进行冷却操作的冷却面板，所述冷却面板为了与外部装卸装置相连接而形成有装卸部件结合部。

7.如权利要求1-5任一项所述的真空处理装置，其特征在于，所述喷头部包括：为了向处理空间喷射气体而形成有多个喷射孔的喷射面板。

8.如权利要求7所述的真空处理装置，其特征在于，所述喷头部进一步包括：为了形成用于气体的扩散的一个以上的扩散空间，而设置为与所述喷射面板的上表面具备间隔，且与所述喷射面板可分离的一个以上的扩散面板；

为了与外部装卸装置相连接，所述喷射面板以及所述至少一个的扩散面板上形成有装卸部件结合部。

9.如权利要求1-5任一项所述的真空处理装置，其特征在于，所述开口部设置为小于所述腔体本体内所设置的基板支持部。

10.如权利要求1-5任一项所述的真空处理装置，其特征在于，所述喷头安装部设置为从所述盖子支持部的上表面起向下侧呈台阶状，以使所述喷头安装部从所述上部盖子的底面分隔开。

11.如权利要求1-5任一项所述的真空处理装置，其特征在于，为了对所述喷头部底面的边缘部位以及所述辅助盖子的底面向所述处理空间侧所露出的部分受等离子体的影响起到保护作用，在所述喷头部底面的边缘部位以及所述辅助盖子的底面的一部分设置有第一保护构件。

12.如权利要求1-5任一项所述的真空处理装置，其特征在于，所述辅助盖子上设置有用于进行温度控制的热媒介通道。

13.如权利要求1-5任一项所述的真空处理装置，其特征在于，向着所述处理空间侧露出的所述辅助盖子的露出面上，为了保护受等离子体影响的表面，设置有可拆卸的第二保护构件。

14.如权利要求1-5任一项所述的真空处理装置，其特征在于，所述真空处理装置还包括用于将所述上部盖子可拆卸的安装于所述辅助盖子上的装卸装置。

15.如权利要求14所述的真空处理装置，其特征在于，所述装卸装置包括：

为了将上部盖子对应于腔体本体进行水平方向移动的水平方向移动部。

16.如权利要求14所述的真空处理装置，其特征在于，所述装卸装置包括：

为了将上部盖子对应于腔体本体进行升降移动的升降部；

为了将上部盖子对应于腔体本体进行水平方向移动的水平方向移动部。

17.如权利要求16所述的真空处理装置，其特征在于，所述升降部设置为通过对所述上部盖子进行支持来对所述上部盖子进行升上降下操作；

为了使所述升降部可沿水平方向移动，所述水平方向移动部包括设置于所述腔体本体两侧面的一对导轨，以及为了使所述上部盖子沿所述导轨进行移动的驱动部。

18.如权利要求16所述的真空处理装置，其特征在于，为了通过对所述上部盖子进行支持来对所述上部盖子进行升上降下操作，所述水平方向移动部包括设置于所述腔体本体两侧的一对升降导轨，以及在所述升降导轨上升后使所述上部盖子沿所述升降导轨进行移动的驱动部；

所述升降部设置为对所述用于支持所述上部盖子的升降导轨进行上下移动。

19.如权利要求18所述的真空处理装置，其特征在于，所述装卸装置进一步地包括：所述升降导轨上升后，与所述升降导轨连接来移动所述上部盖子的连接导轨。

20.如权利要求1-5任一项所述的真空处理装置，其特征在于，所述上部盖子铰接于腔体主体的一侧表面。