KR20160062626A - 이중 배기 구조의 프로세스챔버와 이를 포함하는 기판제조장치 및 기판제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 내부공간의 가스가 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있는 프로세서챔버를 제공하고자 함에 그 목적이 있다. 이를 구현하기 위한 본 발명의 프로세스챔버는, 내부에 투입된 기판이 공정가스에 의해 처리가 이루어지는 내부챔버(100); 상기 내부챔버(100) 내부 공간의 가스를 외부로 배기하기 위한 내부배기구(131); 상기 내부챔버(100)의 외부를 둘러싸는 외부커버(200); 상기 내부챔버(100)와 외부커버(200) 사이의 공간의 가스를 외부로 배기하기 위한 외부배기구(231)를 포함한다.

Description

이중 배기 구조의 프로세스챔버와 이를 포함하는 기판제조장치 및 기판제조방법{PROCESS CHAMBER HAVING DUAL EXHAUST AND SUBSTRATE MANUFACTURING APPARATUS AND SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD}
본 발명은 이중 배기 구조의 프로세스챔버와 이를 포함하는 기판제조장치 및 기판제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판의 투입 및 반출이 이루어지는 과정에서 챔버 내부의 가스가 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있는 이중 배기 구조의 프로세스챔버와 이를 포함하는 기판제조장치 및 기판제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 장치는 반도체 기판 상에 사진, 식각, 증착, 확산, 이온 주입, 금속 증착 등의 공정이 반복되어 형성된다. 상기 공정들을 거치면서 반도체 장치로 제조되기까지 반도체 기판은 높은 진공 상태로 유지되는 챔버에 빈번하게 유출입된다.
챔버를 포함하는 반도체 제조 설비는 반도체 기판을 몇 장씩 장입하느냐에 따라 크게 배치형(batch type)과 매엽식(single wafer type)으로 구분할 수 있다.
매엽식의 경우, 한 챔버에 한 장의 반도체 기판이 투입되어 공정이 진행되어 생산수율이 떨어진다는 단점이 있지만, 반도체 기판이 대구경화되고 임계공정에 적합하기 때문에 최근에는 많은 반도체 제조 설비가 배치형에서 매엽식으로 전환되는 추세이다.
도 1은 종래의 매엽식 기판제조장치를 보여주는 평면 개략도, 도 2는 도 1의 기판제조장치에 대한 정단면 개략도이다.
기판 제조 장치는, 반도체 기판(미도시)에 필요한 공정을 수행하기 위한 프로세스챔버(10,20)와, 반도체 기판이 내부에 적재되는 로드락챔버(30)와, 상기 로드락챔버(30)와 프로세스챔버(10,20) 사이에 구비된 진공챔버(40)로 이루어진다.
상기 로드락챔버(30)는 내부가 진공의 분위기인 진공챔버(40)의 진공 상태를 유지하면서 기판의 인수/인계가 이루어질 수 있도록 하기 위한 것이다.
상기 진공챔버(40) 내부에는 진공로봇(45)이 구비되어, 상기 로드락챔버(30)에서 기판을 인수하여 프로세스챔버(10,20)에 투입하거나, 프로세스챔버(10,20)에서 처리가 완료된 기판을 로드락챔버(30)로 반출하게 된다.
상기 프로세스챔버(10,20)와 진공챔버(40)에는 그 내부 공간에 잔존하는 공정가스를 외부로 배기하기 위한 배기구(11,21,41)가 각각 구비되어 있고, 상기 프로세스챔버(10,20)에 기판의 입출(入出)을 위해 개폐되는 게이트(50)가 구비된다.
이와 같이 진공챔버(40)와 로드락챔버(30)에는 진공을 형성하기 위한 부품들이 구비되어야 하므로, 장비의 구조가 복잡하고, 가격이 비싼 문제점이 있다.
상기와 같은 종래기술로서, 대한민국 공개특허 제10-2004-0024156호 "반도체 웨이퍼 처리를 위한 매엽식 진공 챔버 시스템"이 공개되어 있다.
본 발명은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 내부공간의 가스가 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있는 프로세서챔버를 제공하고자 함에 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은, 기판제조장치에서 로드락챔버와 진공챔버가 불필요하게 되어 제조 비용을 절감할 수 있는 기판제조장치를 제공하고자 함에 있다.
상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 프로세스챔버는, 내부에 투입된 기판이 공정가스에 의해 처리가 이루어지는 내부챔버(100); 상기 내부챔버(100) 내부 공간의 가스를 외부로 배기하기 위한 내부배기구(131); 상기 내부챔버(100)의 외부를 둘러싸는 외부커버(200); 상기 내부챔버(100)와 외부커버(200) 사이의 공간의 가스를 외부로 배기하기 위한 외부배기구(231)로 이루어진다.
상기 내부챔버(100)는, 상부가 개방된 챔버본체(110)와, 상기 챔버본체(110)의 개방된 상부를 개폐하는 덮개(120)로 이루어지고; 상기 덮개(120)를 상기 챔버본체(110)의 상부를 개폐하도록 상하 방향으로 이동시키는 구동력을 제공하는 덮개개폐구동부(400;410,420)가 구비될 수 있다.
상기 외부커버(240)에는 로봇(4)에 의해 기판의 투입 및 반출이 이루어질 수 있도록 개구부(211) 및 상기 개구부(211)를 개폐하는 외부커버도어(240)가 구비되고; 상기 개구부(211)와 외부커버도어(240)는 상기 덮개(120)가 상방향으로 개방된 경우 상기 덮개(120)와 챔버본체(110) 상단 사이의 공간과 대응되는 높이에 위치하는 것일 수 있다.
상기 외부커버(200)에는 외부와 연통하는 연통구멍(221)이 형성될 수 있다.
상기 외부배기구(231)는 상기 외부커버(200)의 바닥부(230)에 관통된 구멍으로 이루어진 것일 수 있다.
상기 덮개(120)의 저면에는 상기 기판의 처리를 위한 공정가스를 균일하게 분사하기 위한 샤워헤드(500)가 결합된 것일 수 있다.
상기 내부챔버(100)와 외부커버(200)의 바닥부는 일체로 형성될 수 있다.
본 발명의 기판제조장치는, 복수의 기판이 적재되는 카세트(3); 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 항에 기재된 적어도 하나의 프로세스챔버(1,2); 상기 카세트(3)로부터 기판을 인수하여 상기 프로세스챔버(1,2)의 내부에 상기 기판을 투입시키고, 상기 프로세스챔버(1)에서 처리가 완료된 기판을 반출하기 위한 로봇(4)으로 이루어진다.
상기 외부배기구(231)에는 상기 기판의 처리 과정 중에 상시 진공흡입력이 작용하는 것일 수 있다.
상기 카세트(3)는 대기압 분위기로 이루어진 것일 수 있다.
상기 로봇(4)은 대기압 하에서 작동되는 것일 수 있다.
본 발명의 기판제조방법은, a) 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 항에 기재된 프로세스챔버(1)의 내부에 로봇(4)에 의해 기판이 투입되는 단계; b) 상기 내부챔버(100) 내부에 공정가스를 주입하여 기판의 처리가 이루어지는 단계; c) 상기 기판의 처리가 완료된 후 상기 내부챔버(100)로부터 상기 기판을 반출하는 경우 상기 내부챔버(100)와 외부커버(200) 사이의 공간에 잔존하는 가스를 상기 외부배기구(231)를 통해 배기하는 단계로 이루어진다.
상기 내부챔버(100)는, 상부가 개방된 챔버본체(110)와, 상기 챔버본체(110)의 개방된 상부를 개폐하는 덮개(120)로 이루어지고; 상기 덮개(120)를 상기 챔버본체(110)의 상부를 개폐하도록 상하 방향으로 이동시키는 구동력을 제공하는 덮개개폐구동부(400;410,420)가 구비되며; 상기 a)단계는, 상기 덮개개폐구동부(400;410,420)에 의해 상기 덮개(120)가 상방향으로 개방된 상태에서 로봇(4)에 의해 상기 기판의 투입이 이루어지고, 상기 b)단계는, 상기 로봇(4)이 외부로 이동된 후 상기 덮개(120)가 하방향으로 이동되어 상기 챔버본체(110)의 상부를 덮은 상태에서 기판의 처리가 이루어지는 것일 수 있다.
상기 a)단계는, 상기 외부커버도어(240)가 개구부(211)를 개방하고, 상기 로봇(4)의 아암(4a)에 의해 상기 기판이 상기 개구부(211)를 통해 상기 내부챔버(100)로 투입되는 것일 수 있다.
본 발명에 의하면, 기판의 처리 후 챔버 내부에 잔존하는 가스가 기판 반송시 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있다.
또한 기판제조장치에서 진공챔버와 로드락챔버를 구비하지 않아도 가스를 외부로 배기할 수 있어 기판제조장치의 제조 비용을 절감할 수 있다.
또한 내부챔버의 상부를 개폐하는 덮개를 구비하고, 상기 덮개를 개방한 상태에서 기판의 투입 및 반출이 이루어지도록 함으로써, 가스의 와류 생성을 방지함과 동시에 내부챔버를 둘러싸는 외부커버의 크기를 소형화할 수 있다.
도 1은 종래의 매엽식 기판제조장치를 보여주는 평면 개략도
도 2는 도 1의 기판제조장치에 대한 정면 개략도
도 3은 본 발명에 의한 기판제조장치를 보여주는 평면 개략도
도 4는 도 3의 기판제조장치에 대한 정면 개략도
도 5는 본 발명에 의한 프로세스챔버를 보여주는 단면 개략도
도 6은 본 발명에 의한 내부챔버를 보여주는 단면 개략도
도 7은 본 발명에 의한 기판처리장치에서 덮개가 개방된 상태를 보여주는 단면 개략도
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.
<기판제조장치>
도 3은 본 발명에 의한 기판제조장치를 보여주는 평면 개략도, 도 4는 도 3의 기판제조장치에 대한 정면 개략도이다.
본 발명의 기판제조장치는, 공정가스로 기판을 처리하기 위한 프로세스챔버(1,2), 복수의 기판이 적재되는 카세트(3), 상기 카세트(3)로부터 기판을 인수하여 상기 프로세스챔버(1,2)의 내부에 상기 기판을 투입시키거나 상기 프로세스챔버(1,2)에서 처리가 완료된 기판을 반출하기 위한 로봇(4)으로 이루어진다.
도 3에서는 프로세스챔버(1,2)가 2개인 것으로 예시하였으나, 2개 이상으로 구비될 수 있다. 각각의 프로세스챔버(1,2)는 그 내부에서 하나의 기판에 대한 처리가 이루어진다.
상기 프로세스챔버(1,2)는, 내부에 투입된 기판이 공정가스에 의해 처리가 이루어지도록 하는 내부챔버(100)와, 상기 내부챔버(100)의 외측을 둘러싸는 외부커버(200)로 이루어진다.
상기 외부커버(200)에는 로봇(4)에 의해 기판의 투입 및 반출이 이루어질 수 있도록 개구부(211; 도 5)가 형성되어 있고, 상기 개구부(211)를 개폐하는 외부커버도어(240)가 구비되어 있다.
상기 프로세스챔버(1,2) 내부에 기판을 투입하거나 처리가 완료된 기판을 반출하는 경우에는 상기 외부커버도어(240)가 개방되어 기판의 투입 및 반출이 이루어지도록 하고, 공정이 진행중인 경우에는 상기 외부커버도어(240)가 닫혀 있다.
상기 프로세스챔버(1,2)의 내부에는 기판이 안착되거나 기판에 열을 가하기 위해 히터가 구비된 서셉터(300)가 구비될 수 있다.
상기 프로세서챔버(1,2)는 그 내부에 잔존하는 가스를 프로세스챔버(1,2) 내부에 구비된 배기구를 통해 외부로 배기하도록 되어 있다. 따라서 프로세스챔버(1,2)의 외측에 구비되는 로봇(4)과 카세트(3)로는 가스가 유출되지 않으므로, 종래 기술에서 구비되는 진공챔버 및 로드락 챔버를 구비할 필요가 없다.
상기 카세트(3)는 그 내부에 복수의 기판이 적재되어 대기하는 상태로 있고, 그 내부는 대기압 분위기로 되어 있다. 상기 로봇(4)은 그 외부를 둘러싸는 진공 챔버가 없이 대기압 하에서 작동하도록 되어 있다.
<프로세스챔버>
도 5는 본 발명에 의한 프로세스챔버를 보여주는 단면 개략도, 도 6은 본 발명에 의한 내부챔버를 보여주는 단면 개략도, 도 7은 본 발명에 의한 기판처리장치에서 덮개가 개방된 상태를 보여주는 단면 개략도이다.
프로세스챔버(1)는 내부챔버(100)와 외부커버(200)로 이루어진다.
상기 내부챔버(100)는, 상부가 개방된 챔버본체(110)와, 상기 챔버본체(110)의 개방된 상부를 개폐하는 덮개(120)로 이루어지고, 상기 챔버본체(110)의 상부를 개폐하도록 상기 덮개(120)를 상하 방향으로 이동시키는 구동력을 제공하는 덮개개폐구동부(400;410,420)가 구비되어 있다.
상기 챔버본체(110)는 단면이 원형 또는 다각형으로서, 상부는 개방된 형상으로 되어 있어 상기 개방된 상부를 통해 로봇(4)의 아암이 챔버본체(110)의 내부 공간으로 진입하여 서셉터(300) 상에 기판(W)을 안착시키거나 처리가 완료된 기판(W)을 외부로 반출하게 된다.
종래에는 챔버본체의 내벽에 개구부가 형성되어 그 개구부를 게이트로 개폐하기 위한 돌출부 등의 구성으로 인해 챔버본체의 내부에서 가스의 와류가 발생하게 되고, 이러한 와류의 생성은 기판의 공정 균일도를 저하시키는 문제점이 있었다.
이에 반해 본원발명은 챔버본체(110)의 상부를 개폐하는 덮개(120)가 구비되고, 상기 덮개(120)는 덮개개폐구동부(400;410,420)에 의해 상하 방향으로 이동됨으로써 개폐가 이루어진다. 따라서 챔버본체(110)의 내부에는 공정가스의 와류를 형성시킬 수 있는 공간이나 형상이 존재하지 않으므로 공정의 균일도(Uniformity)를 향상시킬 수 있다. 또한 챔버본체(110)에 기판의 반출입이 이루어지는 개구부 및 돌출부에 대응하는 구성이 없어 제조공정이 단순해져 제조비용을 절감할 수 있다.
상기 챔버본체(100)의 내부에는 기판(W)이 안착되는 서셉터(300)가 구비된다. 상기 서셉터(300)에는 기판(W)에 열을 가한 상태에서 공정을 진행하기 위하여 하부히터(미도시)가 구비될 수 있다.
상기 서셉터(300) 상에 안착된 기판(W)을 승강시키거나, 챔버본체(110) 내부에 투입된 기판(W)을 서셉터(300) 상에 안착시키기 위하여 리프트핀(350)이 구비된다. 상기 리프트핀(350)은 상기 서셉터(300)를 관통하도록 구비된 상태에서 구동부(미도시)에 의해 상하 방향으로 승강 또는 하강됨으로써 기판(W)을 승강 또는 하강시킨다.
기판(W)은 상기 서셉터(300) 상에 안착된 상태에서 처리가 이루어질 수도 있고, 상기 서셉터(300)의 상면으로부터 이격되어 리프트핀(350)의 상단에 안착된 상태에서 처리가 이루어질 수도 있다.
상기 내부챔버(100)의 바닥부(130)에는 내부챔버(100) 내부 공간의 가스를 배기하기 위한 내부배기구(131)가 형성되어 있다. 상기 내부배기구(131)는 내부챔버(100)의 바닥부(130)에서 외부커버(200)의 바닥부(230)를 순차 관통하여 형성되어 있다.
상기 덮개(120)는 원형의 평판 형상으로 이루어지는데, 상기 챔버본체(110)의 단면 형상에 대응하여 그 형상이 결정될 수 있다.
상기 덮개(120)의 저면에는 유입된 공정가스를 기판(W)의 전체에 걸쳐 균일하게 분사하기 위하여 샤워헤드(140)가 구비된다. 상기 샤워헤드(140)의 상측에는 상부히터(미도시)가 구비될 수 있다.
상기 덮개(120)는 챔버본체(110)의 개방된 상부를 폐쇄하거나 개방시키기 위하여, 챔버본체(110)의 상단에서 상하 방향으로 덮개개폐구동부(400;410,420)에 의해 이동된다.
상기 덮개(120)의 가장자리 저면과 상기 챔버본체(110)의 상단 사이에는 패킹(미도시)이 개재되고, 상기 덮개(120)를 하방향으로 하강시키면 상기 패킹이 압착되어 덮개(120)와 챔버본체(110) 사이에 기밀이 유지된다.
상기 덮개개폐구동부(400)는 상기 덮개(120)를 상하방향으로 이동시킬 수 있도록 상기 덮개(120)의 가장자리 둘레를 따라 제1구동부(410)와 제2구동부(420)를 포함하여 복수 개가 구비된다. 상기 덮개개폐구동부(400)는 공압 또는 유압 실린더로 이루어질 수 있고, 상하 이동되는 실린더 축을 상기 덮개(100)의 저면에 결합시켜, 실린더를 작동시키면 실린더 축과 함께 덮개(120)가 승하강하게 된다.
상기 외부커버(200)는, 챔버본체(110)의 외측으로 이격되어 챔버본체(110)를 둘러싸는 외부커버몸체(210)와, 상기 외부커버몸체(210)의 개방된 상부를 덮도록 형성된 외부커버덮개(220)와, 상기 내부챔버(100)의 바닥부(130) 하측에 위치하는 외부커버바닥부(230)로 이루어진다.
상기 외부커버덮개(220)에는 외부와 연통하는 연통구멍(221)이 형성되어 있어, 외부커버(200)와 내부챔버(100) 사이의 공간에 존재하는 가스를 배기하는 경우 상기 연통구멍(221)을 통해 외부 공기가 유입된다.
상기 연통구멍(221)은 외부커버덮개(220)에 형성되는 것으로 예시하였으나, 이에 한정되지 않고 외부커버몸체(210)의 상단부에 형성될 수도 있다.
상기 외부커버몸체(210)에는 로봇(4)의 아암(4a)에 의해 기판(W)의 투입 및 반출이 이루어질 수 있도록 개구부(211)가 형성되어 있고, 상기 개구부(211)를 개폐하는 외부커버도어(240)가 구비된다.
상기 개구부(211)와 외부커버도어(240)는 상기 덮개(120)가 덮개개폐구동부(400)에 의해 상방향으로 개방된 경우 상기 덮개(120)와 챔버본체(110)의 상단 사이의 공간(A)과 동일한 높이에 위치하게 된다. 따라서 로봇(4)의 아암(4a)에 의해 기판(W)은 외부로부터 개구부(211)를 통과한 후 상기 공간(A)에 위치하게 되고, 리프트핀(350)이 승강하여 기판(W)을 인수하게 된다.
상기 내부챔버(100)와 외부커버(200) 사이의 공간의 가스를 외부로 배기하기 위한 외부배기구(231)가 구비된다. 상기 외부배기구(231)는 상기 외부커버(200)의 바닥부(230)에 관통된 구멍으로 이루어질 수 있다.
상기 외부배기구(231)는 기판 제조 공정 시스템의 배기측과 연결될 수 있으며, 상기 기판(W)의 처리 과정 중에 상시(常時) 진공흡입력이 작용하도록 구성될 수 있다.
상기 제1구동부(410)와 제2구동부(420)를 포함하는 덮개개폐구동부(400)는 내부챔버(100)와 외부커버(200) 사이의 외부커버바닥부(230) 상에 구비될 수 있다.
<기판제조방법>
상기와 같은 구성으로 이루어진 기판제조장치에 의한 기판제조방법에 대해 설명한다.
먼저, 기판(W)의 처리를 위해 덮개개폐구동부(400)의 구동신호에 의해 덮개(120)가 상부로 승강되면 챔버본체(110)의 상부가 개방되고, 외부커버(200)의 외부커버도어(240)가 개방된다. 이때 기판(W)은 로봇(4)에 의해 카세트(3)로부터 인계되어 프로세스챔버(1)의 외부에 위치하고 있다.
다음으로, 프로세스챔버(1)의 외부에 위치되어 있는 기판(W)이 로봇(4)의 아암(4a)에 의해 외부커버(200)의 개구부(211)를 통해 덮개(120)의 하측 공간(A)으로 투입되면 도 7과 같은 상태가 된다.
그 후 리프트핀(450)이 승강되면 리프트핀(450)의 상단에 기판(W)이 지지되어 기판(W)을 인수한 후, 상기 로봇(4)의 아암(4a)이 프로세스챔버(1)의 외부로 이동한다. 상기 아암(4a)이 외부로 이동하면, 상기 리프트핀(350)이 하강하여 기판(W)을 서셉터(300) 상에 안착시키거나, 기판(W)의 저면이 서셉터(300) 상면으로부터 소정거리 이격되는 위치까지 리프트핀(350)을 하강시킨다.
그 후 덮개개폐구동부(400)의 구동신호에 의해 상기 덮개(120)가 하강되어 챔버본체(110)의 상부를 덮어 챔버본체(110) 내부를 그 외부와 격리시킨다. 또한 외부커버도어(240)는 구동부(미도시)에 의해 개구부(211)를 폐쇄한다.
이와 같이 내부챔버(100)가 밀폐되면 내부챔버(100)의 내부공간에 샤워헤드(140)를 통해 공정가스가 유입되어 기판(W)의 처리가 이루어지는데, 이 경우 챔버본체(110)의 내벽면에는 종래의 게이트가 개폐하는 개구부와 같은 형상이 없고 매끈한 원통의 내면으로만 이루어져 있어 공정가스에서 와류가 생성되지 않아 공정 균일도(Uniformity)가 향상된다. 상기 내부챔버(100) 내부에 잔존하는 가스는 내부배기구(131)를 통해 외부로 배기된다.
기판(W)의 처리가 완료되면, 덮개개폐구동부(400)의 구동신호에 의해 덮개(120)가 승강되어 챔버본체(110)의 상부를 개방하고, 리프트핀(350)이 승강하여 기판(W)은 덮개(120)의 하측 공간(A)에 위치한다.
또한 외부커버도어(240)가 개방되어 로봇(4)의 아암(4a)이 개구부(211)를 통해 기판(W)의 하측까지 진입한 후 리프트핀(350)으로부터 기판(W)을 인수한 후 개구부(211)를 통해 외부로 반출한다.
이 경우 외부배기구(231)를 통해 진공흡입력이 계속 작용하고 있으므로, 로봇(4)의 아암(4a)이 기판(W)을 외부로 반출하는 과정에서도 내부챔버(100) 내부의 잔존하는 가스가 개구부(211)를 통해 로봇(4)이 있는 외부 공간으로 유출되지 않고, 외부배기구(231)를 통해 배기처리된다.
이와 같이 내부챔버(100)의 외부에 외부커버(200)를 구비하고, 내부챔버(100)와 외부커버(200)의 사이에 잔존하는 가스를 외부배기구(231)를 통해 배기되도록 구성하면, 내부챔버(100)의 내부로 기판을 투입하거나 내부챔버(100)의 외부로 기판을 반출하는 경우 내부챔버(100) 내부에 잔존하는 가스가 로봇(4)이 위치하는 공간으로 유출되는 것이 방지된다.
또한 로봇(4) 및 카세트(3)를 진공 분위기로 형성시킬 필요가 없으므로 장치의 구성이 간단해지고, 기판제조장치의 제조 비용을 절감시킬 수 있다.
또한 기판(W)을 챔버본체(110)의 개방된 상부를 통해 투입 및 반출되도록 하기 위해 덮개(120)를 덮개개폐구동부(400;410,420)에 의해 상하 방향으로 이동시키도록 되어 있어, 덮개개폐구동부(400;410,420)를 설치하기 위한 공간이 많이 필요없어 외부커버(200)의 크기를 작게 할 수 있다.
<변형 실시예 1>
상기한 실시예에서는 내부챔버(100)의 상부를 개폐하는 덮개(120)가 구비되어 상기 내부챔버(100)의 개방된 상부를 통해 기판의 투입 및 반출이 이루어지는 것으로 예시하였으나, 이에 한정되지 않고 다른 구성의 내부챔버도 적용가능하다.
일례로, 외부커버(200)의 개구부(211)에 대응하는 위치에 챔버본체(110)의 측부를 관통하는 내부챔버개구부(미도시)를 형성시키고, 상기 내부챔버개구부를 개폐하는 내부챔버도어(미도시) 및 상기 내부챔버도어를 개폐하는 내부챔버도어구동부(미도시)가 구비되는 것으로 구성할 수 있다. 이 경우 챔버본체(110)의 상부는 개방된 형상이 아니라 막힌 형상으로 이루어진다.
<변형 실시예 2>
상기한 실시예에서는 내부챔버(100)의 바닥부(130)와 외부커버바닥부(230)가 각각 별개로 구성된 경우에 대해 설명하였으나, 2개의 바닥부(130,230)가 일체화된 것으로 구성할 수도 있다.
즉, 외부커버바닥부(230)의 상면에 챔버본체(110)의 하단이 결합된 것으로 구성할 수도 있고, 내부챔버(100)의 바닥부(130)의 크기를 외부커버바닥부(230)의 크기만큼 크게 한 상태에서 외부커버몸체(210)의 하단이 결합되는 것으로 구성할 수도 있다.
또한 내부챔버(100)의 덮개(120)와 외부커버덮개(220)가 각각 별개로 구성된 경우에 대해 설명하였으나, 2개의 덮개(120,220)가 일체화된 것으로 구성할 수도 있다. 이 경우 외부커버몸체(210)에 형성된 개구부(211)와 외부커버도어(240)의 구성을 없애고, 일체화된 덮개를 상부로 승강시킨 후 개방된 상부를 통해 기판(W)이 내부챔버(100)의 내부로 투입되는 것으로 구성할 수도 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구되는 본 발명의 기술적 사상에 벗어남 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 자명한 변형실시가 가능하며, 이러한 변형실시는 본 발명의 범위에 속한다.
1,2 : 프로세스챔버 3 : 카세트
4 : 로봇 100 : 내부챔버
110 : 챔버본체 120 : 덮개
130 : 바닥부 131 : 내부배기구
140 : 샤워헤드 200 : 외부커버
210 : 외부커버몸체 211 : 개구부
220 : 외부커버덮개 221 : 연통구멍
230 : 외부커버바닥부 231 : 외부배기구
240 : 외부커버도어 300 : 서셉터
350 : 리프트핀 400 : 덮개개폐구동부

Claims (15)

  1. 내부에 투입된 기판이 공정가스에 의해 처리가 이루어지는 내부챔버(100);
    상기 내부챔버(100) 내부 공간의 가스를 외부로 배기하기 위한 내부배기구(131);
    상기 내부챔버(100)의 외부를 둘러싸는 외부커버(200);
    상기 내부챔버(100)와 외부커버(200) 사이의 공간의 가스를 외부로 배기하기 위한 외부배기구(231);
    를 포함하는 이중 배기 구조의 프로세스챔버
  2. 제1항에 있어서,
    상기 내부챔버(100)는, 상부가 개방된 챔버본체(110)와, 상기 챔버본체(110)의 개방된 상부를 개폐하는 덮개(120)로 이루어지고;
    상기 덮개(120)를 상기 챔버본체(110)의 상부를 개폐하도록 상하 방향으로 이동시키는 구동력을 제공하는 덮개개폐구동부(400;410,420)가 구비된 것을 특징으로 하는 이중 배기 구조의 프로세스챔버
  3. 제2항에 있어서,
    상기 외부커버(240)에는 로봇(4)에 의해 기판의 투입 및 반출이 이루어질 수 있도록 개구부(211) 및 상기 개구부(211)를 개폐하는 외부커버도어(240)가 구비되고;
    상기 개구부(211)와 외부커버도어(240)는 상기 덮개(120)가 상방향으로 개방된 경우 상기 덮개(120)와 챔버본체(110) 상단 사이의 공간과 대응되는 높이에 위치하는 것을 특징으로 하는 이중 배기 구조의 프로세스챔버
  4. 제1항에 있어서,
    상기 외부커버(200)에는 외부와 연통하는 연통구멍(221)이 형성된 것을 특징으로 하는 이중 배기 구조의 프로세스챔버
  5. 제1항에 있어서,
    상기 외부배기구(231)는 상기 외부커버(200)의 바닥부(230)에 관통된 구멍으로 이루어진 것을 특징으로 하는 이중 배기 구조의 프로세스챔버
  6. 제2항에 있어서,
    상기 덮개(120)의 저면에는 상기 기판의 처리를 위한 공정가스를 균일하게 분사하기 위한 샤워헤드(140)가 결합된 것을 특징으로 하는 이중 배기 구조의 프로세스챔버
  7. 제1항에 있어서,
    상기 내부챔버(100)와 외부커버(200)의 바닥부는 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 이중 배기 구조의 프로세스챔버
  8. 복수의 기판이 적재되는 카세트(3);
    제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 항에 기재된 적어도 하나의 프로세스챔버(1,2);
    상기 카세트(3)로부터 기판을 인수하여 상기 프로세스챔버(1,2)의 내부에 상기 기판을 투입시키고, 상기 프로세스챔버(1)에서 처리가 완료된 기판을 반출하기 위한 로봇(4);
    으로 이루어진 기판제조장치
  9. 제8항에 있어서,
    상기 외부배기구(231)에는 상기 기판의 처리 과정 중에 상시 진공흡입력이 작용하는 것을 특징으로 하는 기판제조장치
  10. 제8항에 있어서,
    상기 카세트(3)는 대기압 분위기로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판제조장치
  11. 제8항에 있어서,
    상기 로봇(4)은 대기압 하에서 작동되는 것을 특징으로 하는 기판제조장치
  12. a) 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 항에 기재된 프로세스챔버(1)의 내부에 로봇(4)에 의해 기판이 투입되는 단계;
    b) 상기 내부챔버(100) 내부에 공정가스를 주입하여 기판의 처리가 이루어지는 단계;
    c) 상기 기판의 처리가 완료된 후 상기 내부챔버(100)로부터 상기 기판을 반출하는 경우 상기 내부챔버(100)와 외부커버(200) 사이의 공간에 잔존하는 가스를 상기 외부배기구(231)를 통해 배기하는 단계;
    를 포함하는 기판제조방법
  13. 제12항에 있어서,
    상기 내부챔버(100)는, 상부가 개방된 챔버본체(110)와, 상기 챔버본체(110)의 개방된 상부를 개폐하는 덮개(120)로 이루어지고;
    상기 덮개(120)를 상기 챔버본체(110)의 상부를 개폐하도록 상하 방향으로 이동시키는 구동력을 제공하는 덮개개폐구동부(400;410,420)가 구비되며;
    상기 a)단계는, 상기 덮개개폐구동부(400;410,420)에 의해 상기 덮개(120)가 상방향으로 개방된 상태에서 로봇(4)에 의해 상기 기판의 투입이 이루어지고,
    상기 b)단계는, 상기 로봇(4)이 외부로 이동된 후 상기 덮개(120)가 하방향으로 이동되어 상기 챔버본체(110)의 상부를 덮은 상태에서 기판의 처리가 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판제조방법
  14. 제12항에 있어서,
    상기 외부배기구(231)에는 상기 기판의 처리 과정 중에 상시 진공흡입력이 작용하는 것을 특징으로 하는 기판제조방법
  15. 제12항에 있어서,
    상기 a)단계는, 상기 외부커버도어(240)가 개구부(211)를 개방하고, 상기 로봇(4)의 아암(4a)에 의해 상기 기판이 상기 개구부(211)를 통해 상기 내부챔버(100)로 투입되는 것을 특징으로 하는 기판제조방법
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