KR20070004431A - 소수성 실리카 분말의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

[과제] 간소한 소수화 처리 공정에 의한 소수성 실리카 분말의 제조법을 제공하는 것.
[해결수단] 비표면적 5.5-550㎡/g의 친수성 콜로이드상 실리카를 함유하는 수성 실리카 졸에, 상기 수성 실리카 졸의 물에 대한 친수성 유기용매를 질량비 0.12-2.5로 혼합하여 얻어지는, 실리카 농도 5-50질량%의 혼합용매 실리카 졸에, 식 (1)
(R1 3Si)2NH (1)
(식 중의 각 R1은 각각 독립적으로 선택되는 탄소 원자 수가 1-6의 알킬기 또는 페닐기이다.)
로 표현되는 디실라잔 화합물을, 친수성 콜로이드상 실리카의 표면적 100㎡당 0.1-20밀리몰 첨가하고, 50-100℃의 온도로 가열하여 숙성하는 것에 의해 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻는 소수화 처리공정을 포함하는 소수성 실리카 분말의 제조법에 의한다.
소수성 실리카 분말, 친수성 콜로이드상 실리카, 수성 실리카 졸, 친수성 유기용매, 디실라잔 화합물

Description

소수성 실리카 분말의 제조방법{Process for Producing Hydrophobic Silica Powder}
본 발명은 수성 실리카 졸을 원료로서 유기용매에의 재분산성이 우수한 소수성 실리카 분말을 제조하는 방법에 관한 것이다.
종래, 소수성 실리카 분말의 제조에 사용되는 실리카 원료로서, 침강성 실리카, 클로로실란의 화염 열분해에 의해 제조되는 미세 실리카(일반적으로는 퓸드 실리카(fumed silica)라 불린다.)가 많이 사용되고 있다. 소수성 처리방법으로서는, 실리카 분말을 소수화제, 예를 들어, 계면활성제, 실리콘오일, 또는 알킬할로게노실란, 알킬알콕시실란, 알킬디실라잔 등의 실릴화제의 기체에 접촉시켜 소수화 처리하는 방법, 물을 함유한 친수성 유기용매 중에 실릴화제에 접촉시켜 소수화 처리하는 방법 등이 있다.
그러나, 이들 소수화 처리방법에 있어서도 침강성 실리카, 퓸드 실리카를 사용한 경우에는 실리카 그 자체가 응집하여 있기 때문에, 우수한 분산성을 갖는 소 수성 실리카 분말을 얻는 것은 불가능하였다.
실제, 이하의 침강성 실리카, 퓸드 실리카를 이용하는 소수화 처리방법이 개시되어 있다. 이들 중의 방법도 실리카 자체의 일차 입자 지름과 소수화 처리 후의 응집 입자 지름의 관계에 대하여 기술된 것은 없고, 고분산성의 소수성 실리카 분말은 얻어지지 않는다.
친수성 침강 실리카의 수성현탁액을 유기 규소화합물과 친수성 침강 실리카의 반응을 촉진시키기에 충분한 양의 물-혼화성 유기용매의 공존 하에서 촉매량의 산 및 오르간실란 화합물과 접촉시켜, 소수성 침강 실리카를 생성시키는 방법(특허문헌 1 참조).
평균 일차 입자 지름이 5-50㎚이고, 헥사메틸디실라잔으로 표면처리하여 입자표면의 실라놀기를 40% 이상 봉쇄(封鎖)하고, 한편, 잔존 실라놀기 농도가 1.5개/㎚2 이하인 산화규소 입자를 얻는 방법(특허문헌 2 참조).
연무(煙霧) 실리카를 헥사메틸디실라잔 등의 유기 규소 화합물에 소수화 80-300g/ℓ의 고밀도를 가지며, 단위 표면적당 OH기가 0.5개/㎚2 이하이고, 또한, 입자 지름 45㎛ 이하의 응집 입자가 2000ppm 이하인 것을 특징으로 하는 소수성 연무 실 리카와 그 제조방법(특허문헌 3 참조).
퓸드 실리카를 폴리실록산으로 처리한 후, 트리메틸실릴화제로 처리하는 것을 특징으로 하는 소수성 실리카 분말의 제조방법(특허문헌 4 참조).
실리콘 오일계 처리제에 의한 일차 표면처리, 일차 표면 처리 후의 분쇄, 및 분쇄 후의 알킬실라잔계 처리제에 의한 2차 표면처리를 행하는 것을 특징으로 하는 고분산 소수성 실리카 분말과 그 제조방법(특허문헌 5 참조).
한편, 실리카 자체로서 분산성이 양호한 실리카 졸을 출발원료로서 소수화를 행하는 방법도 알려져 있다. 알코올 등의 친수성 유기용매 또는 물과 친수성 유기용매와의 혼합 용매를 분산매로 하는 실리카 졸에, 알킬할로게노실란, 알킬알콕시실란, 알킬디실록산 등의 실릴화제를 반응시킨 후에 용매를 제거하여, 소수성 실리카 분말이 얻어지게 된다. 이들 방법으로는 유기용매 분산 실리카 졸의 제조공정이 번잡하다는 점, 용매의 치환이나 유거가 필요하다는 점 등의 결점이 있다. 나아가 알킬할로게노실란에 의한 소수화에서는 부식성의 산이 부생한다라는 결점이 있다. 또한, 알킬알콕시실란 중, 모노알콕시실란은 반응성이 다소 적고, 디알콕시실란 및 트리알콕시실란은 축합반응이 일어나기 쉽고, 그 축합반응에 의해 입자 간의 가교가 일어나는 것도 있어, 분산성이 양호한 소수성 실리카 분말을 얻는 것은 곤란하다. 나아가, 알콕시실란의 자기 축합물을 제거하는 것은 곤란하다. 또한, 알킬디실 록산은 촉매로서 다량의 광산(鑛酸)과 함께 반응시킬 필요가 있기 때문에, 부식의 문제가 생기는 원인으로 되거나, 소수화 처리 실리카로부터 촉매의 산을 제거하는 공정이 번잡하게 된다고 하는 결점이 있다. 이하에, 개시되어 있는 기술의 예를 든다.
수분이 10질량% 이하의 오르가노실리카 졸에 실릴화제를 첨가하여 반응시킨 후, 용매를 유거하여, 콜로이드 차원의 실리카 입자 표면에 탄소 수 1-36의 실릴기가 1-100/10㎚2 결합한, 유기 용매에 균질하게 분산가능한 실리카 분말이 얻어지는 것이 기재되어 있다(특허문헌 6 참조).
평균 입자 직경이 4㎚보다 큰 친수성 콜로이드상 실리카를 진한 염산, 이소프로판올, 헥사메틸디실록산의 혼합용매에 첨가하여 소수화 처리하고, 다음으로 소수성 콜로이드상 실리카를 소수성 유기용매에 추출하여 가열 환류 후, 실란 화합물을 첨가하고, 가열 환류하여 소수화 처리를 행한다(특허문헌 7 참조).
테트라알콕시실란 화합물을 염기성 물질과 함께 가수분해하는 것에 의해 친수성 실리카 미립자 수성 분산액을 조제하고, 알코올을 제거한다. 다음으로 알킬트리알콕시실란 화합물로 실리카 미립자를 소수화하고, 용매를 케톤계 용매로 치환하고, 실라잔 화합물 또는 트리알킬알콕시실란 화합물로 실리카 미립자 표면에 잔존 하는 반응성기를 트리오르가노실릴화하고, 최후에 용매를 감압 유거하여 표면처리 실리카를 얻는다(특허문헌 8 참조).
메탄올 중에 알킬실리케이트를 가수분해하여 얻어진 메탄올 분산 실리카에, 함유하는 실리카 1몰에 대하여 5몰% 이상의 트리메틸실릴화제를 첨가하여 반응시킨 후, 잉여 트리메틸실릴화제 및 분산용매를 유거하여 표면이 실릴화 처리된 분산성이 우수한 실리카 분말이 얻어지는 것이 기재되어 있다. 예를 들면, 테트라메톡시실란을 메탄올 중에서 암모니아수 존재 하에 가수분해하여 얻어진 메탄올 분산 실리카에, 함유하는 실리카 1몰에 대하여 20몰%의 메톡시트리메틸실란을 첨가하고, 과잉의 실릴화제를 회수한 후, 건조하여 소수화 실리카 분말을 얻는다(특허문헌 9 참조).
[특허문헌 1] 일본 특개2000-327321호 공보
[특허문헌 2] 일본 특개평07-286095호 공보
[특허문헌 3] 일본 특개2000-256008호 공보
[특허문헌 4] 일본 특개2002-256170호 공보
[특허문헌 5] 일본 특개2004-168559호 공보
[특허문헌 6] 일본 특개소58-145614호 공보
[특허문헌 7] 일본 특개2000-080201호 공보
[특허문헌 8] 일본 특개2000-044226호 공보
[특허문헌 9] 일본 특개평03-187913호 공보
본 발명은 유기용매에의 재분산성이 우수한 소수성 실리카 분말을 효율적으로 제조하는 방법을 제공한다.
본 발명의 소수성 실리카 분말의 제조방법은, 비표면적 5,5~550㎡/g의 친수성 콜로이드상 실리카를 함유하는 수성 실리카 졸에, 상기 수성 실리카 졸의 물에 대하여 친수성 유기용매를 질량비 0.12~2.5로 혼합하여 얻어지는 실리카 농도 5-50질량%의 혼합용매 실리카 졸에, 식 (1)
(R1 3Si)2NH (1)
(식 중의 각 R1은 각각 독립적으로 선택되는 탄소 원자 수가 1-6의 알킬기 또는 페닐기이다.)
로 표현되는 디실라잔 화합물을, 친수성 콜로이드상의 표면적 100㎡당 0.1-20밀리몰 첨가하고, 50-100℃의 온도로 가열하여 숙성하는 것에 의해 소수화처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻는 소수화 처리공정을 포함한다.
그 바람직한 태양을 이하에 나타낸다.
상기 소수화 처리공정 후에, 얻어진 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 교반 하에 50-100℃의 온도로 가열하여 숙성함에 의해, 분산액 중에서 소수화 처리 콜로이드상 실리카를 과립상으로 조립(造粒)하는 공정을 포함하는 것.
그 실시 태양을 이하와 같이 나타내어 진다.
하기 (A), (B), (C) 및 (D) 공정을 포함하는 소수성 실리카 분말의 제조방법이다.
(A): 비표면적 5,5~550㎡/g의 친수성 콜로이드상 실리카를 함유하는 수성 실리카 졸에, 상기 수성 실리카 졸의 물에 대해 친수성 유기용매를 질량비 0.12-2.5로 혼합하여 얻어지는, 실리카 농도 5-50질량%의 혼합용매 실리카 졸에, 식 (1)
(R1 3Si)2NH (1)
(식 중의 각 R1은 각각 독립적으로 선택되는 탄소 원자 수가 1-6의 알킬기 또는 페닐기이다.)
로 표현되는 디실라잔 화합물을 친수성 콜로이드상 실리카의 표면적 100㎡당 0.1-20미리몰 첨가하고, 50-100℃의 온도로 가열하여 숙성하는 것에 의해 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻는 소수화 처리공정,
(B): (A) 공정에서 얻어진 슬러리상 분산액을 교반 하에 50-100℃의 온도로 가열하여 숙성하는 것에 의해, 분산액 중에서 소수화 처리 콜로이드상 실리카를 과립상으로 제조하는 공정,
(C): (B) 공정에서 얻어진 과립상으로 조립된 소수화 처리 콜로이드상 실리카와 분산액 중의 액상과 분별하는 공정, 및
(D): (C)공정에서 얻어진 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 케이크를 건조하는 공정.
상기 식 (1)로 표현되는 디실라잔 화합물로 하여 헥사메틸디실라잔을 사용하는 것.
본 발명에서 사용하는 수성 실리카 졸은 비표면적 5,5~550㎡/g, 바람직하게는 5.5-300㎡/g의 친수성 콜로이드상 실리카를 함유하는 5-55질량%의 실리카 농도를 갖는 수성 실리카 졸을 사용할 수 있지만, 10-55질량%의 실리카 농도를 갖는 수성 실리카 졸이 바람직하다. 수성 실리카 졸은, 예를 들면, 글라스를 원료로 하여 공지의 방법에 의해 제조할 수 있다.
친수성 콜로이드상 실리카 입자 지름은 질소흡착법(BET법)에 의해 구한 비표면적 S(㎡/g)으로부터 D(㎚)=2720/S의 식으로 계산된다. 따라서, 친수성 콜로이드상 실리카의 BET법 입자 지름은 5㎚ 이상이고, 바람직하게는 9㎚ 이상이다. 친수성 콜로이드상 실리카의 BET법 입자 지름이 5㎚ 미만의 수성 실리카 졸은 고농도화가 곤란하고, 또 그 표면처리에는 상기 콜로이드상 실리카의 단위 질량당 많은 실릴화제를 필요로 한다.
사용하는 수성 실리카 졸은 유리(遊離)하는 알칼리 금속이온을 함유하지 않는 수성 실리카 졸인 것이 바람직하다. 유리하는 알칼리 금속이온을 함유하는 알칼리성 수성 실리카 졸을 원료로 사용하면, 실릴화제와 친수성 콜로이드상 실리카 표면의 실라놀기와의 반응성이 저하되고, 실릴화제의 반응율의 저하나, 소수성 실리카 분말의 소수화도에 악영향을 미친다. 유리의 알칼리 금속 이온을 함유하지 않는 수성 실리카 졸은, 예를 들면, Na이온을 함유하는 알칼리성 수성 실리카 졸의 유리하는 Na 이온을 양이온 교환 등의 방법으로 제거하는 것에 의해 얻어질 수 있다. 얻어지는 수성 실리카 졸로서 산성 수성 실리카 졸을 들 수 있다. 또한, 암모니아, 아민 등으로 안정화된 수성 실리카 졸도 원료로서 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용하는 소수화제는 디실라잔 화합물이고, 구체적으로는, 헥사메틸디실라잔, 디-n-부틸테트라메틸디실라잔, 디비닐테트라메틸디실라잔, 디페닐테트라메틸디실라잔, 테트라페닐디메틸디실라잔으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 화합물의 적어도 1종류 이상인 것이 바람직하고, 헥사메틸디실라잔이 특히 바람직하다. 수성 실리카 졸에 친수성 유기용매를 혼합하여 얻어지는 혼합용매 실리카 졸에, 디실라잔 화합물을 친수성 콜로이드상 실리카의 표면적 100㎡당 0.1-20밀리몰, 바람직하게는 0.5-10밀리몰 첨가한다. 과잉의 디실라잔 화합물을 사용하더라도 소수화 반응에 소비되지 않고, 경제적으로도 비효율적이다. 또한, 디실라잔 화합물이 부족하면 소수성이 불충분하게 되는 원인으로 된다.
본 발명의 소수화 처리 후의 형태로서는, 소수화처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액 또는 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 과립상 생성물이고, 액상과 분상된 상태로 하는 것이 필요하다. 슬러리상으로는 콜로이드상 실리카가 응집하여 형성된 미립자가 혼합용매 중에 분산하여 있고, 시판의 여과지 등으로 여과 분리할 수 있는 상태를 표시한다. 또한, 과립상으로는 슬러리상 분산액 중에서 소수화 처리 콜로이드 상 실리카가 0.1㎜ 이상으로 조립(造粒)된 상태를 표시한다. 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액 또는 과립상 생성물을 얻기 위해서는 혼합용매 실리카 졸의 친수성 유기용매와 물의 질량비가 중요하다.
본 발명의 혼합용매 실리카 졸에는 디실라잔 화합물과 친수성 콜로이드상 실리카의 접촉을 촉진하기 위해 충분한 양의 친수성 유기용매의 존재가 필요하다. 상기 혼합용매 실리카 졸은, 사용하는 수성 실리카 졸의 물에 대하여 질량비로서 0.12-2.5의 친수성 유기용매를 혼합하여 조제하는 것이 바람직하다. 상기 질량비가 0.12 미만인 경우에는 혼합용매로의 디실라잔 화합물의 용해성이 낮고, 디실라잔 화합물과 친수성 콜로이드상 실리카의 접촉이 불충분하게 되거나, 소수화된 콜로이드상 실리카와 혼합용매와의 친화성이 나쁘기 때문에, 소수화 반응의 진행과 함께 소수화 처리된 콜로이드상 실리카가 괴상으로 석출하여 제조가 곤란하게 되는 것이다. 그리고, 상기 질량비가 2.5보다 큰 경우에는 소수화된 콜로이드상 실리카 혼합용매에 졸 상으로 분산한 그대로 슬러리상 분산액이 얻는 것이 불가능하고, 여과 분리가 불가능한 경우나, 소수화 처리 공정 중에 불안정하게 되어 겔 상으로 증점(增粘)하는 경우가 있고, 후자의 경우에는 실질적으로 제조하는 것이 불가능하다.
친수성 유기용매로서는 예를 들어, 물과의 상용한계가 존재하지 않는 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 이소프로판올, tert-부탄올 등의 비점 100℃ 이하의 알코올류가 바람직하고, 물 및 실라잔 화합물과의 혼화성 및 건조공정에 있어서 제거가 용이하다는 관점에서 이소프로판올이 가장 바람직하다. 또한, 혼합용매 실리카 졸 중의 적절한 친수성 유기용매와 물과의 질량비는 친수성 유기용매의 종류에서 차이가 있고, 친수성 유기용매와 물 및 디실라잔 화합물과의 혼화성이 양호할수록 혼합용매 실리카 졸 중의 물에 대한 친수성 유기용매의 질량비는 작게 된다.
혼합용매 실리카 졸에 있어서는, 실리카 농도는 5-50질량%가 바람직하다. 혼합용매 실리카 졸 중의 실리카 농도가 5질량%보다 작으면 소수성 실리카 분말의 제조효율이 낮아지고, 또한, 친수성 콜로이드상 실리카와 디실라잔 화합물과의 접촉효율이 저하되어, 친수성 콜로이드상 실리카의 비표면적당 디실라잔 화합물의 필요량이 많아지기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 상기 실리카 농도가 50질량%를 초과하면 소수화 처리공정에 있어서 혼합 용매 실리카 졸이 현저하게 증점하기 때문에, 교반이 곤란하게 되어 균질한 소수화 처리를 행하는 것이 곤란하게 된다.
소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻기 위해서 적절한 혼합용매 실리카 졸 중의 실리카 농도 및 친수성 유기용매와 물과의 질량비는, 친수성 콜로이드상 실리카의 BET법 입자 지름 및 친수성 유기용매의 종류에 의존한다. 또한, 적절한 조성의 혼합용매 실리카 졸을 조제하기에는 친수성 콜로이드상 실리카의 BET법 입자 지름이 작을수록, 친수성 콜로이드상 실리카의 질량에 대하여 첨가하는 친수성 유기용매의 질량은 많아지는 경향이 있다.
본 발명의 방법에서는 디실란잔 화합물 첨가시의 혼합용매 실리카 졸의 온도는 특별히 한정하지 않지만, 친수성 콜로이드상 실리카와 디실라잔 화합물과의 반응을 촉진하기 위해, 디실라잔 화합물 첨가시는 혼합용매 실리카 졸의 온도를 50-70℃로 조절하는 것이 바람직하다. 70℃를 초과하면 반응이 격렬하고, 디실라잔 화합물의 반응시에 발생하는 암모니아에 의해 발포하는 경우가 있다. 또한, 디실라잔 화합물 첨가 후에 혼합용매 실리카 졸을 50-100℃의 온도로 가열하여 0.5시간 이상 숙성함에 의해 혼합용매 실리카 졸이 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액으로 될 때까지 소수화 반응을 촉진시켜도 좋다. 숙성 시간이 0.5시간 미만이면 소수화 처리가 불충분하게 되는 경우가 있다. 슬러리상으로 하는 것에 의해, 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 액상으로부터의 분리가 용이하게 되고, 여과 등의 간편한 방법에 의해 소수화 처리 콜로이드상 실리카를 용이하게 취출할 수 있 다.
또한, 소수화 처리공정에 이어, 얻어진 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 교반 하에 50-100℃의 온도로 가열하여 숙성하는 것에 의해, 분산액 중에서 소수화 처리 콜로이드상 실리카를 0.1㎜ 이상의 과립상으로 조립하여도 좋다. 교반 기작에 의해 과립상으로 조립하는 것에 의해 소수화 처리 후에 실시하는 액상과의 분리공정의 작업성이 현저히 개선된다. 조립공정의 액상 온도는 소수화 처리공정과 동일 온도로 실시할 수 있지만, 소수화 처리공정보다 높은 온도로 하는 것에 의해 보다 조립을 촉진할 수도 있다. 이 과립의 크기 및 그 입도 분포는 특별히 한정되지 않지만, 평균 크기가 5㎜ 이하인 것이 바람직하다. 5㎜보다 큰 경우, 조립 중에 교반 저항이 커지거나, 조립 후에 반응장치로부터의 취출이 곤란하게 되는 경우가 있다.
소수화 처리 후, 액상과의 분리방법은 특별히 한정되지 않지만, 공지의 방법에 의해 슬러리상 또는 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카와 액상을 분리할 수 있다. 예를 들면, 여과에 의한 분리나 원심분리, 액상의 증류유거 등을 들 수 있다.
분리공정에서 얻어진 슬러리상 또는 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카 케이크의 건조방법은 특별히 한정하지 않지만, 열풍건조나 마이크로파 건조, 적 외선 건조, 초음파 건조, 진공건조 등 공지의 방법으로 건조할 수 있다. 건조 온도는 특별히 한정하지 않지만, 바람직하게는 200℃ 이하이다. 200℃보다 높으면 소수화 처리 콜로이드상 실리카 표면에 잔존하는 실라놀기의 축합에 의한 일차 입자 사이의 축합이 일어나기 쉬워진다. 이 결합은 건식분쇄에서는 해리되기 어렵고, 결과로서, 소수성 실리카 분말의 유기용매에서의 분산성이 나빠지게 된다. 또한, 분리공정과 건조공정은 필터 드라이어 등의 장치를 사용하여 일련의 공정으로 행할 수도 있다. 이와 같이 하여 얻어진 소수성 실리카는 알코올, 케톤, 에테르, 방향족 탄화수소, 지방족 탄화수소 등 대부분의 유기용매에 균질하게 분산한다.
또한 분쇄를 건조공정 도중에 행하는 것에 의해 건조시간을 단축할 수 있다.
건조된 소수화 처리 실리카를 분체용 밀 등으로 분쇄하여, 분말상의 소수성 실리카를 얻을 수 있다. 분쇄 방법은 특별히 한정되지 않지만, 제트 밀, 진동 밀, 볼 밀, 아트라이터 등의 건식 분쇄장치를 사용할 수 있다.
실시예
각 실시예 및 비교예는 이하의 교반 조건으로 소수화 처리 공정 및 조립 공정을 실시하였다.
실시예 1
1리터 글라스제 반응용기; 내경 85㎜
파우드라 익(翼)(직경 70㎚), 매분 250회전
조립 공정의 액온: 74℃
실시예 2, 4
2리터 글라스제 반응용기; 내경 130㎜
파우드라 익(翼)(직경 100㎚), 매분 250회전
조립 공정의 액온: 75℃
실시예 3, 5
2리터 글라스제 반응용기; 내경 130㎜
파우드라 익(翼)(직경 100㎚), 매분 150회전
조립 공정의 액온: 76℃
비교예 1, 3, 5
1리터 글라스제 반응용기; 내경 85㎜
파우드라 익(翼)(직경 70㎚), 매분 200회전
비교예 2, 4
1리터 글라스제 반응용기; 내경 85㎜
파우드라 익(翼)(직경 70㎚), 매분 500회전
실시예 1
시판의 산성 수성 실리카 졸(상품명: 스노텍스(등록상표)-O, 일본화학공업(주)제, 실리카 농도 20질량%, pH 3.0, BET법 입자 지름 12nm)을 로터리 증발기(evaporator)로 실리카 농도 33%까지 농축하여, 농축 산성 수성 실리카 졸을 얻었다. 계속하여, 교반기, 적하 깔때기, 냉각관, 온도계를 구비한 1리터의 글라스제 반응용기에 상기 농축 산성 수성 실리카 졸 450g, 순수 75g, 이소프로판올(IPA) 225g을 첨가하고, 실리카 농도 20.0질량%, IPA농도 30.0질량%, 수분량 50질량%의 혼합 용매 실리카 졸을 조제하였다. 이 혼합용매 실리카 졸을 65℃까지 가열하고, 헥사메틸디실라잔 75g(친수성 콜로이드상 실리카의 표면적 100㎡당 1.4밀리몰)을 적하하였다. 상기 혼합용매 실리카 졸을 30분간 혼합한 후, 70℃에서 가열하고, 1시간 숙성하는 것에 의해 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻었다. 다음으로, 그 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 환류상태 하에서 교반 하에 3시간 숙성하는 것에 의해 과립상으로 조립하였다. 부흐너 깔때기(ADVANTEC제 정성 여과지 No. 131)에 의해 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카와 액상을 분리하고, 얻어진 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 케이크를 120℃로 건조하였다. 다음으로, 건조시킨 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카를 분체용 밀에 의한 분쇄를 행하고, 다시, 150℃로 건조하여 150g의 소수성 실리카 분말을 얻었다. 얻어진 소수성 실리카 분말은 메틸에틸케톤에 졸 상으로 재 분산하였다.
또한, 이 소수성 실리카 분말은 그 외의 유기 용매로는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 메틸이소부닐케톤, 초산에틸, 톨루엔, 메타크릴산메틸모노머, 폴리디메틸실록산, n-헥산, 테트라히드록시퓨란에서 메틸에틸케톤의 경우와 동일하게 졸 상으로 재분산하였다.
실시예 2
교반기, 적하 깔때기, 냉각관, 온도계를 구비한 2리터의 글라스제 반응용기에, 산성 수성 실리카 졸(실리카 농도 31.5질량%, pH 2.5, BET법 입자 지름 80㎚) 1200g, 순수 75g, 이소프로판올(IPA) 350g을 첨가하고, 실리카 농도 23.3질량%, IPA 농도 21.5질량%, 수분량 55.2질량%의 혼합용매 실리카 졸을 조제하였다. 이 혼합용매 실리카 졸을 65℃까지 가열하고, 헥사메틸디실라잔 80g(친수성 콜로이드상 실리카의 표면적 100㎡당 3.9밀리몰)을 적하하였다. 상기 혼합용매 실리카 졸을 30분간 혼합한 후, 70℃로 가열하여 1시간 숙성하는 것에 의해 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻었다. 다음으로, 이 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 환류상태에서 교반 하에 3시간 숙성하는 것에 의해 과립상으로 조립시켰다. 부흐너 깔때기(ADVANTEC제 정성 여과지 No. 131)에 의해 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카와 액상을 분리하고, 얻어진 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카 케이크를 120℃로 건조하였다. 다음으로 건조시킨 과립상 의 소수화 처리 콜로이드상 실리카를 분체용 밀에 의한 분쇄를 행하고, 다시 200℃로 건조하여 380g의 소수성 실리카 분말을 얻었다. 얻어진 소수성 실리카 분말은 메틸에틸케톤에서 졸 상으로 재분산하였다.
실시예 3
교반기, 적하 깔때기, 냉각관, 온도계를 구비한 2리터의 글라스제 반응용기에, 시판의 알칼리성 수성 실리카 졸(제품명: MP-2040, 일산화학공업(주)제, 실리카 농도 40질량%, pH 9.4, BET법 입자 지름 120㎚)을 양이온 교환하여 얻어지는 산성 수성 실리카 졸(실리카 농도 35질량%, pH 2.0) 1430g, 순수 270g, 이소프로판올(IPA) 300g을 첨가하고, 실리카 농도 25.0질량%, IPA농도 15.0질량%, 수분량 60.0질량%의 혼합용매 실리카 졸을 조제하였다. 이 혼합용매 실리카 졸을 65℃까지 가열하고, 헥사메틸디실라잔 86g(친수성 콜로이드상 실리카의 표면적 100㎡당 5.0밀리몰)을 적하하였다. 상기 혼합용매 실리카 졸을 15분간 혼합한 후, 70℃로 가열하여 30분 숙성하는 것에 의해 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻었다. 다음으로, 이 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 환류상태로 교반 하에 3시간 숙성하는 것에 의해 과립상으로 조립하였다. 부흐너 깔때기(ADVANTEC제 정성 여과지 No. 131)에 의해 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카와 액상을 분리하고, 얻어진 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카 케이크를 120℃로 건조하였다. 다음으로, 건조시킨 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카를 분체용 밀에 의한 분쇄를 행하고, 다시 200℃로 건조하여 500g의 소수성 실리카 분말을 얻었다. 얻어진 소수성 실리카 분말은 메틸에틸케톤에 졸 상으로 재분산하였다.
실시예 4
실시예 2에 있어서, 120℃로 건조시킨 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카를 분체용 밀에 의한 분쇄를 행하지 않고 200℃로 건조한 이외에는 동일한 기작을 행하였다. 얻어진 소수성 실리카 분말은 메틸에틸케톤에 졸 상으로 재분산하였다.
실시예 5
실시예 3에 있어서, 120℃로 건조시킨 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카를 분체용 밀에 의한 분쇄를 행하지 않고, 200℃로 건조시킨 이외에는 동일한 기작을 행하였다. 얻어진 소수성 실리카 분말은 메틸에틸케톤에 졸 상으로 재분산하였다.
비교예 1
교반기, 적하 깔때기, 냉각관, 온도계를 구비한 1리터의 글라스제 반응용기에, 산성 수성 실리카 졸(실리카 농도 31.5질량%, pH 2.5, BET법 입자 지름 80㎚) 150g, 순수 270g, 이소프로판올(IPA) 30g을 첨가하고, 실리카 농도 10.5질량%, IPA농도 6.7질량%, 수분량 82.8질량%의 혼합용매 실리카 졸을 조제하였다. 이 혼합용 매 실리카 졸을 65℃까지 가열하고, 헥사메틸디실라잔 10g(친수성 콜로이드상 실리카의 표면적 100㎡당 3.9밀리몰)을 적하하였다. 첨가한 헥사메틸디실라잔은 즉시 혼합용매 실리카 졸과 혼합하지 않고 표면에 떠 있었다. 상기 혼합용매 실리카 졸을 30분간 혼합한 후, 70℃로 가열하여 1시간 숙성하여도 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻을 수 없었다. 나아가 환류상태에서 교반 하에 3시간 숙성하여도 소수화 처리 콜로이드상 실리카 슬러리상 분산액을 얻을 수 없었다.
소수화 처리 후의 상태는 졸 상인 채로, 부흐너 깔때기를 사용하여 여과지(ADVANTEC제 정성 여과지 No. 131)에 의한 분리가 될 수 없기 때문에, 졸 상의 생성물을 금속제의 배트(vat)로 옮기고, 120℃로 건조하였다. 얻어진 졸 상의 생성물은 액상을 분리되어 있지 않기 때문에 건조효율이 현저히 나쁘고, 건조에 장시간을 요하였다. 건조한 소수성 처리 콜로이드상 실리카를 분체용 밀레 의한 분쇄를 행하고, 200℃로 건조하여 48g의 소수성 실리카 분말을 얻었다. 얻어진 소수성 실리카 분말은 일부가 메틸에틸케톤에 재분산하였으나, 재분산되지 않는 침강물도 생성하였다.
비교예 2
시판의 산성 수성 실리카 졸(상품명: 스노텍스(등록상표)-O, 일산화학공업(주)제, 실리카 농도 20질량%, pH 3.0, BET법 입자 지름 12㎚)를 로터리 증발기로 실리카 농도 33%질량까지 농축하였다. 계속하여, 교반기, 적하 깔때기, 냉각관, 온 도계를 구비한 1리터의 글라스제 반응용기에, 농축 산성 수성 실리카 졸 200g, 이소프로판올(IPA) 400g을 첨가하고, 실리카 농도 11.0질량%, IPA 농도 66.7질량%, 수분량 22.3질량%의 혼합용매 실리카 졸을 조제하였다. 이 혼합용매 실리카 졸을 65℃까지 가열하고, 헥사메틸디실라잔 34g(친수성 콜로이드상 실리카의 표면적 100㎡당 1.4밀리몰)을 적하하였다. 상기 혼합용매 실리카 졸을 30분간 혼합한 후, 70℃로 가열하고 1시간 숙성하였으나, 졸 상인 채로 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻을 수는 없었다. 나아가 환류상태로 교반 하에 3시간 숙성하였으나, 증점한 겔 상 물질이 생성되고, 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻을 수는 없었다. 상기 생성물은 겔 상의 소수화 처리 실리카이고, 부흐너 깔때기를 사용하여 여과지(ADVANTEC제 정성 여과지 No. 131)에 의한 분리가 될 수 없기 때문에, 상기 생성물을 금속제의 배트로 옮겨, 120℃의 건조기에 투입하였다. 상기 생성물은 액상을 포함한 그대로이어서 건조효율이 현저히 나쁘고, 건조에 장시간을 요하였다. 건조한 소수화 처리 실리카를 분체용 밀에 의한 분쇄를 행하고, 다시 150℃로 건조하여 69g의 소수성 실리카 분말을 얻었다. 얻어진 소수성 실리카 분말은 일부가 메틸에틸케톤에 재분산하였으나, 재분산하지 않는 침강물도 생성하였다.
비교예 3
교반기, 적하 깔때기, 냉각관, 온도계를 구비한 1리터의 글라스제 반응용기에 산성 수성 실리카 졸(실리카 농도 31.5질량%, pH 2.5, BET법 입자 지름 80㎚) 333g, 순수 87g, 이소프로판올(IPA) 30g을 첨가하고, 실리카 농도 23.3질량%, IPA 농도 5.0질량%, 물 71.7질량%의 혼합용매 실리카 졸을 조제하였다. 이 혼합용매 실리카를 65℃까지 가열하고, 헥사메틸디실라잔 22.5g(친수성 콜로이드상 실리카의 표면적 100㎡당 3.9밀리몰)을 적하하였다. 첨가한 헥사메틸디실란잔은 즉시 혼합용매 실리카 졸과 혼합함이 없이 표면에 떠 있었다. 상기 혼합 용매 실리카 졸을 30분간 혼합한 후 70℃로 가열하고 1시간 숙성함에 의해 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻었다. 나아가 환류상태에서 교반 하에 숙성하였으나, 숙성 도중에 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 괴상 생성물이 다량으로 생성하여 교반저항이 크게 되어, 교반할 수 없었기 때문에 제조를 중지하였다.
비교예 4
시판의 산성 수성 실리카 졸(상품명: 스노텍스(등록상표)-O, 일산화학공업(주)제, 실리카 농도 20질량%, pH 3.0, BET법 입자 지름 12㎚)를 로터리 증발기로, 이소프로판올을 첨가하면서 물과 알코올을 감압 증류시켰다. 이 기작을 실리카 농도 33질량%, 수분량 5.7질량%의 이소프로판올 분산 실리카 졸이 얻어질 때까지 계속하였다. 이어서, 교반기, 적하 깔때기, 냉각관, 온도계를 구비한 1리터 글라스제 반응용기에, 상기 이소프로판올 분산 실리카 졸 364g, 이소프로판올(IPA) 177g, 순수 59g을 첨가하고, 실리카 농도 20.0질량%, IPA농도 66.7질량%, 수분량 13.3질량%의 혼합용매 실리카 졸을 조제하였다. 이 혼합용매 실리카 졸을 65℃까지 가열하고, 헥사메틸디실라잔 62g(친수성 콜로이드상 실리카의 표면적 100㎡당 1.4밀리몰) 을 적하하였다. 가열과 혼합을 계속하였는바, 현저히 증점이 일어나고, 내용물의 교반이 일어나지 않았기 때문에 제조를 중지하였다.
비교예 5
교반기, 적하 깔때기, 냉각관, 온도계를 구비한 1리터의 글라스제 반응용기에, 시판의 침강성 실리카 파우더(상품명: Zeosil(등록상표) 1165MP, 로디아제, 실리카 농도 90질량%, 비표면적 165㎡/g, 레이저 회절식 분산 입자지름 273㎛), 100g, 이소프로판올(IPA) 135g, 순수 215g을 첨가하고, 실리카 농도 20.0질량%, IPA 농도 30.0질량%, 수분량 50.0질량%의 침강성 실리카의 슬러리상 분산액을 조제하였다. 이 침강성 실리카의 슬러리상 분산액을 65℃까지 가열하고, 헥사메틸디실라잔 45g(친수성 침강성 실리카의 표면적 100㎡당 1.9밀리몰)을 적하하였다. 상기 슬러리상 분산액을 30분간 혼합한 후, 70℃로 가열하여 1시간 숙성하였다. 나아가, 환류상태로 교반 하에 3시간 숙성하여 소수화 처리 침강성 실리카의 슬러리상 분산액을 얻었다. 부흐너 깔때기를 사용하여 여과지(ADVANTEC제 정성 여과지 No. 131)에 의해 슬러리상의 소수화 처리 침강성 실리카와 액상을 분리하고, 얻어진 소수화 처리 침강성 실리카 케이크를 120℃로 건조하였다. 다음으로 건조한 소수화 처리 침강성 실리카 케이크를 분체용 밀에 의한 분쇄를 행하고, 다시 200℃로 건조하여 98g의 소수성 실리카 분말을 얻었다. 얻어진 소수성 실리카 분말은 메틸에틸케톤에 습윤할 뿐이고, 졸 상으로 재분산하지 않았다.
평가
[소수성 실리카 분말의 분석방법]
(1) 소수성 실리카 분말 중의 탄소량
얻어진 소수성 실리카 분말 중의 탄소량을 CHNS/O 분석기(analyser)(PE2400시리즈 Ⅱ 퍼킨엘머제)를 사용하여 측정하였다. 소수성 실리카 분말 단위 표면적당 트리메틸실릴기의 수(개/㎚2)는 이하의 계산식(α)으로 산출하였다.
A: 트리메틸실릴기 함유량(질량%)=탄소량(질량%)×(73.19/36.03).
B: 소수성 실리카 분말 1g당의 트리메틸실릴기(개)=6.02×1023×A/73.19)×10-2.
C: 소수성 실리카 분말 1g당 표면적(㎚2)=소수성 실리카 분말의 비표면적(㎡/g)×1018×고형분(질량%)×10-2.
소수성 실리카 분말 단위 표면적당 트리메틸실릴기의 수(개/㎚2)=B/C(α).
여기서 고형분으로는 얻어진 소수성 실리카 분말을 800℃에서 소성하여 얻어지는 소성 잔분이다.
(2) 소수성 실리카 분말의 분산 입자 지름
얻어진 소수성 실리카 분말을 메틸에틸케톤에 분산하고, 분산 입자 지름을 동적 광산란법(샤프 미크론 입자 분석기 모델 N4, 베크만·콜터사제)으로 측정하였다.
(3) 소수화도: 실리카 분말 시료 0.20g(0.20±0.01g)을 측정하고, 100cc의 글라스제 비커 중에 순수 50㎖를 첨가하고, 실리카 분말이 액면에 부유한 상태로 하였다. 마그네틱 교반기(stirrer)로 교반하면서, 메탄올이 직접 시료에 접촉하지 않도록 뷰렛을 사용하여 액중에 주입하고, 액면 상에 실리카 분말 시료가 인식되지 않게 된 때를 종점으로 한다. 이때의 메탄올 사용량을 X㎖로 하여, 다음 식에 따라 소수화도를 구하였다.
소수화도(%)=X/(50+X)×100
평가 결과는 표 1에 표시하였다.
헥사메틸디실라잔 첨가량 (밀리몰/친수성 실리카 100㎡) 혼합용매 실리카 졸 중의 SiO2 농도 (질량%) 혼합용매 실리카 졸 중의 IPA 농도 (질량%) IPA/물 질량비 소수성 실리카 분말 중의 탄소량 (질량%) 소수성 실리카 분말 단위 표면적당 트리메틸실릴기의 수 (개/㎚2) 분산 입자 지름 (㎚) 소수화도 (%)
실시예 1 1.4 20.0 30.0 0.6 3.2 2.4 67 55
실시예 2 3.9 23.3 21.5 0.4 0.47 2.3 152 54
실시예 3 5.0 25.0 15.0 0.3 0.28 2.2 212 53
실시예 4 3.9 23.3 21.5 0.4 0.48 2.4 160 54
실시예 5 5.0 25.0 15.0 0.3 0.28 2.2 213 53
비교예 1 3.9 10.5 6.7 0.1 0.36 1.8 196 47
비교예 2 1.4 11.0 66.7 3.0 2.8 2.1 170 53
비교예 3 3.9 23.3 5.0 0.07 - - - -
비교예 4 1.4 2.0 66.7 5.0 - - - -
비교예 5 1.9 2.0 30.0 0.6 3.5 3.6 73㎛ 60
(4) 유기용매 분산성 평가는 이하와 같이 행하였다.
글라스제 20cc 작은 병 중에, 얻어진 소수성 실리카 분말 1g을 메틸에틸케톤 9g에 첨가하고, 마그네틱 교반기로 30분간 혼합한 후, 시판의 초음파 세정기로 30초간 분산시키는 것에 의해 분산액을 조제하였다. 다음으로 얻어진 분산액을 메틸에틸케톤으로 적절하게 희석하여 동적 광산란법(샤프 미크론 입자 분석기 모델 N4, 베크만·콜터사제)로 분산입자 지름을 측정하였다.
비교예 1, 2에서는 분산액 중에 침강성 성분이 존재하기 때문에, 상등액을 적절히 희석하여 측정하였다. 또한, 비교예 5에서는 졸 상으로 분산하지 않아, 동적 광산란법으로는 측정할 수 없으므로, 레이저 회절식 입도 분산 측정장치(SALD-7000, 시마즈(島津)제작소제)로 분산입자 지름을 측정하였다. 소수성 실리카 분말의 분산 입자 지름과 원료로 사용한 수성 실리카 졸의 분산입자 지름을 비교하여 유기 용매 분산성 평가를 행하였다.
원료 수성 실리카 졸의 분산 입자 지름(㎚) 소수성 실리카 분말의 분산 입자 지름(㎚) 소수화 처리 콜로이드상 실리카 슬러리상 분산액이 생성 소수화처리 콜로이드상 실리카의 과립 형성 메틸에틸케톤에의 재분산성
실시예 1 36 67 ○ ○ ○
실시예 2 125 152 ○ ○ ○
실시예 3 200 212 ○ ○ ○
실시예 4 125 160 ○ ○ ○
실시예 5 200 213 ○ ○ ○
비교예 1 125 196 ×(겔 상) - △(침강물 유)
비교예 2 36 170 ×(겔 상) - △(침강물 유)
비교예 3 125 - ○ ×(증점·겔상) -
비교예 4 36 - ×(증점·겔상) - -
비교예 5 263㎛ 73㎛ ○ - ×(졸 상에 분산하지 않음)
이상, 본 발명의 제조방법에 의해 간편한 장치로 간소한 소수화 처리 공정에 의한 소수성 실리카 분말의 제조가 가능하게 된다. 본 발명으로 얻어진 소수성 실리카 분말은 전자사진 등의 토너용 외첨제나 수지의 내첨제, 하드 코트제, 발수화제, 난연제 등으로서 유용하다.
본 발명의 제조방법은 다양한 입자 지름을 갖는 수성 실리카 졸에 대하여 유효하다. 실리카 자체로 높은 분산성을 갖는 수성 실리카 졸을 사용하는 것에 의해, 소수화 처리 후에도 각종 유기용매에 대하여 높은 재분산성을 갖는 소수성 실리카 분말이 얻어지는 것, 수성 실리카 졸에 친수성 유기용매를 혼합하는 것에 의해 디 실라잔 화합물과 친수성 콜로이드상 실리카와의 접촉이 촉진되는 것, 및 소수화 처리 후에 스럴리상, 바람직하게는 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카와 액상이 분상하기 때문에, 여과 등의 간편한 방법에 의해 소수화된 실리카를 얻을 수 있는 등, 본 발명의 제조방법에 의해 간편한 장치로 간소한 소수화 처리공정에 의한 소수성 실리카 분말의 제조가 가능하게 된다.
본 발명에서 얻어진 소수성 실리카 분말은 전자 사진 등의 터너용 외첨제나 수지의 내첨제, 하드 코트제, 발수화제, 난연제 등으로서 유용하다.

Claims (4)

  1. 비표면적 5.5-550㎡/g의 친수성 콜로이드상 실리카를 함유하는 수성 실리카 졸에, 상기 수성 실리카 졸의 물에 대하여 친수성 유기 용매를 질량비 0.12-2.5로 혼합하여 얻어지는, 실리카 농도 5-50질량%의 혼합용매 실리카 졸에, 식 (1)
    (R1 3Si)2NH (1)
    (식 중의 각 R1은 각각 독립적으로 선택되는 탄소 원자 수가 1-6의 알킬기 또는 페닐기이다.)
    로 표현되는 디실라잔 화합물을, 친수성 콜로이드상 실리카의 표면적 100㎡당 0.1-20밀리몰 첨가하고, 50-100℃의 온도로 가열하여 숙성하는 것에 의해 소수화처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻는 소수화 처리 공정을 포함하는 소수성 실리카 분말의 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 교반 하에 50-100℃의 온도로 가열하여 숙성하는 것에 의해, 상기 분산액 중에서 소수화 처리 콜로이드상 실리카를 과립상으로 조립하는 공정을 포함하는 제조방법.
  3. 제 1항에 있어서,
    하기 (A), (B), (C) 및 (D) 공정을 포함하는 소수성 실리카 분말의 제조방법.
    (A): 비표면적 5.5-550㎡/g의 친수성 콜로이드상 실리카를 함유하는 수성 실리카 졸에, 상기 수성 실리카 졸의 물에 대해 친수성 유기용매를 질량비 0.12-2.5로 혼합하여 얻어지는 실리카 농도 5-50질량%의 혼합용매 실리카 졸에,
    식 (1)
    (R1 3Si)2NH (1)
    (식 중의 각 R1은 각각 독립적으로 선택되는 탄소 원자 수가 1-6의 알킬기 또는 페닐기이다.)
    로 표현되는 디실라잔 화합물을 친수성 콜로이드상 실리카의 표면적 100㎡당 0.1-20밀리몰 첨가하고, 50-100℃의 온도로 가열하여 숙성하는 것에 의해 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 슬러리상 분산액을 얻는 소수화 처리공정,
    (B): (A) 공정에서 얻어진 슬러리상 분산액을 교반 하에 50-100℃의 온도로 가열하여 숙성하는 것에 의해, 상기 분산액 중에서 소수화 처리 콜로이드상 실리카를 과립상으로 조립하는 공정,
    (C): (B) 공정에서 얻어진 과립상으로 조립된 소수화 처리 콜로이드상 실리카와 상기 분산액 중의 액상을 분별하는 공정, 및
    (D): (C)공정에서 얻어진 과립상의 소수화 처리 콜로이드상 실리카의 케이크를 건조하는 공정.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
    식 (1)로 표현되는 디실라잔 화합물이 헥사메틸디실라잔인 것을 특징으로 하는 제조방법.
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