KR20060104376A - 평판표시장치 및 그의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (44)
- 개구부를 구비하는 절연막;상기 절연막의 개구부에 의해 일부분이 노출되는 화소전극;상기 절연막 상에 구비된 도전체; 및상기 도전체를 덮는 캐핑층;을 포함하는 평판표시장치.
- 제1항에 있어서,적어도 상기 화소전극의 노출된 부분을 덮는 발광층; 및적어도 상기 발광층 상에 형성되고, 상기 화소전극과 절연된 대향전극;을 포함하는 평판표시장치.
- 제2항에 있어서,상기 화소전극은 투명전극이고, 상기 대향전극은 반사전극인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제2항에 있어서,상기 화소전극은 반사전극이고, 상기 대향전극은 투명전극인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제2항에 있어서,상기 화소전극 및 대향전극은 투명전극인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제1항에 있어서,상기 화소전극과 대향된 공통전극; 및상기 화소전극과 공통전극 사이에 개재된 액정;을 더 포함하는 평판표시장치.
- 제6항에 있어서,상기 화소전극은 투명전극인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제1항에 있어서,상기 도전체는 도전입자들을 포함하는 페이스트로 구비된 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제1항에 있어서,상기 캐핑층은 무기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제9항에 있어서,상기 무기물은 SiO2, SiNx, SiON, Al2O3, TiO2, Ta2O5, HfO2, ZrO2, BST, 및 PZT로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제1항에 있어서,상기 캐핑층은 유기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제11항에 있어서,상기 유기물은 PMMA, PS, phenol그룹을 갖는 고분자 유도체, 아크릴계 고분자, 이미드계 고분자, 아릴에테르계 고분자, 아마이드계 고분자, 불소계고분자, p-자일리렌계 고분자, 비닐알콜계 고분자 및 이들의 블렌드로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 기판 상에 형성된 화소 전극;상기 기판 상에 형성된 적어도 하나의 도전체; 및상기 도전체를 덮는 캐핑층;을 포함하는 평판표시장치.
- 제13항에 있어서,상기 기판 상에 형성되고, 상기 화소 전극의 소정 부분을 노출시키는 절연 막;적어도 상기 화소전극의 노출된 부분을 덮는 발광층; 및적어도 상기 발광층 상에 형성되고, 상기 화소전극과 절연된 대향전극;을 포함하는 평판표시장치.
- 제14항에 있어서,상기 화소전극은 투명전극이고, 상기 대향전극은 반사전극인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제14항에 있어서,상기 화소전극은 반사전극이고, 상기 대향전극은 투명전극인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제14항에 있어서,상기 화소전극, 및 대향전극은 투명전극인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제13항에 있어서,상기 화소전극과 대향된 공통전극; 및상기 화소전극과 공통전극 사이에 개재된 액정;을 더 포함하는 평판표시장 치.
- 제18항에 있어서,상기 화소전극은 투명전극인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제13항에 있어서,상기 도전체는 도전입자들을 포함하는 페이스트로 구비된 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제13항에 있어서,상기 캐핑층은 무기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제21항에 있어서,상기 무기물은 SiO2, SiNx, SiON, Al2O3, TiO2, Ta2O5, HfO2, ZrO2, BST, 및 PZT로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제13항에 있어서,상기 캐핑층은 유기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제23항에 있어서,상기 유기물은 PMMA, PS, phenol그룹을 갖는 고분자 유도체, 아크릴계 고분자, 이미드계 고분자, 아릴에테르계 고분자, 아마이드계 고분자, 불소계고분자, p-자일리렌계 고분자, 비닐알콜계 고분자 및 이들의 블렌드로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제13항에 있어서,상기 기판은 적어도 하나의 박막 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제25항에 있어서,상기 박막 트랜지스터는,소오스 및 드레인 전극;상기 소오스 및 드레인 전극과 콘택되는 반도체층;상기 소오스 및 드레인 전극과, 상기 반도체층과 절연된 게이트 전극; 및상기 소오스 및 드레인 전극과, 상기 게이트 전극 중 적어도 하나를 덮는 캐핑층;을 포함하는 평판표시장치.
- 제26항에 있어서,상기 캐핑층은 상기 게이트 전극을 덮는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제27항에 있어서,상기 게이트 전극은 도전입자들을 포함하는 페이스트로 구비된 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제27항에 있어서,상기 캐핑층은 무기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제29항에 있어서,상기 무기물은 SiO2, SiNx, SiON, Al2O3, TiO2, Ta2O5, HfO2, ZrO2, BST, 및 PZT로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제27항에 있어서,상기 캐핑층은 유기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제31항에 있어서,상기 유기물은 PMMA, PS, phenol그룹을 갖는 고분자 유도체, 아크릴계 고분 자, 이미드계 고분자, 아릴에테르계 고분자, 아마이드계 고분자, 불소계고분자, p-자일리렌계 고분자, 비닐알콜계 고분자 및 이들의 블렌드로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제26항에 있어서,상기 캐핑층은 상기 소오스 및 드레인 전극을 덮는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제33항에 있어서,상기 소오스 및 드레인 전극은 도전입자들을 포함하는 페이스트로 구비된 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제33항에 있어서,상기 캐핑층은 무기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제35항에 있어서,상기 무기물은 SiO2, SiNx, SiON, Al2O3, TiO2, Ta2O5, HfO2, ZrO2, BST, 및 PZT로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제33항에 있어서,상기 캐핑층은 유기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제37항에 있어서,상기 유기물은 PMMA, PS, phenol그룹을 갖는 고분자 유도체, 아크릴계 고분자, 이미드계 고분자, 아릴에테르계 고분자, 아마이드계 고분자, 불소계고분자, p-자일리렌계 고분자, 비닐알콜계 고분자 및 이들의 블렌드로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 기판 상에 도전입자들을 포함하는 페이스트를 도포하는 단계;상기 페이스트가 도전체가 되도록 형성하는 단계; 및상기 도전체를 덮도록 캐핑층을 형성하는 단계;를 포함하는 평판 표시장치의 제조방법.
- 제39항에 있어서,상기 도전입자들을 포함하는 페이스트는 상기 기판 상에 잉크젯 방법으로 프린팅되는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조방법.
- 제39항에 있어서,상기 캐핑층은 무기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조방법.
- 제41항에 있어서,상기 무기물은 SiO2, SiNx, SiON, Al2O3, TiO2, Ta2O5, HfO2, ZrO2, BST, 및 PZT로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조방법.
- 제39항에 있어서,상기 캐핑층은 유기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조방법.
- 제43항에 있어서,상기 유기물은 PMMA, PS, phenol그룹을 갖는 고분자 유도체, 아크릴계 고분자, 이미드계 고분자, 아릴에테르계 고분자, 아마이드계 고분자, 불소계고분자, p-자일리렌계 고분자, 비닐알콜계 고분자 및 이들의 블렌드로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조방법.
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