KR20060070549A - 비침출형 접착제 시스템과 이것의 액체 침지 대물렌즈에의용도 - Google Patents

비침출형 접착제 시스템과 이것의 액체 침지 대물렌즈에의용도 Download PDF

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요한 지. 클로오스터보에르
헨드릭 알. 스타페르트
야코부스 에이치. 엠. 네이젠
산텐 헬마르 반
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코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이.
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Abstract

광 디스크용의 마스터들의 침지 기록을 위한 액체 침지 대물렌즈에서의 비침출형 접착제 시스템과 그것의 용도가 개시된다. 접착제 시스템은, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 모노머, 알릴 모노머, 노보넨 모노머, 화학적으로 다른 중합가능한 작용기들을 포함하는 혼성 모노머 및, 티올이 상기 비티올 모노머들 중에서 적어도 1개와 결합하여 사용된다는 조건하에서, 다관능 티올 모노머로 구성된 그룹으로부터 선택된 적어도 1개의 모노머와, 중합 개시제를 함유한다. 티올이 아닌 상기 모노머들 중에서 적어도 1개는 적어도 2개의 중합가능한 작용기를 구비하여, 가교된 폴리머 네트워크를 얻는다. 중합 개시제는 바람직하게는 열적으로 그리고 UV 방사빔을 사용하여 활성화될 수 있는 개시제이다. 이 접착제 시스템은 반응성 희석제를 더 함유할 수도 있다. 더구나, 액체 침지 렌즈를 장착하는데 있어서의 본 발명의 접착제 시스템의 용도가 개시된다.
광 디스크, 액체 침지 대물렌즈, 접착제, 비침출, 모노머

Description

비침출형 접착제 시스템과 이것의 액체 침지 대물렌즈에의 용도{NON-LEACHING ADHESIVE SYSTEM AND ITS USE IN A LIQUID IMMERSION OBJECTIVE}
본 발명은, 접착제 시스템 분야에 관한 것으로, 특히, 경화되었을 때, 상기 접착제와 접촉하거나 접촉하게 되는 액체 내부로 유해한 성분들 또는 불순물을 침출시키지 않는 비침출형 접착제 시스템에 관한 것이다. 이때, '비침출형(non-leaching)'이란 용어는, 접착제가 사용되는 응용분야에 유해한 화합물들의 침출이 일어나지 않는 것을 의미한다. 이와 같은 응용분야의 예로는, 고밀도 광 디스크의 원자외선(deep-UV) 마스터링에서의 응용, 실리콘 웨이퍼의 원자외선 리소그래피에서의 응용, 액체 침지(liquid immersion) 리소그래피에서의 응용과, 생물학 분야에서의 침지 현미경 검사에서의 응용을 들 수 있다. 또 다른 중요한 응용분야로는, 체액 및 조직과 접촉하기 쉬운 응용분야에 대한 도관(catheter)들과 다른 생물공학 장비들의 조립과, 바이오 센서들, 특히 조립된 마이크로유체(microfluidic) 구조를 포함하는 바이오센서들의 제조를 들 수 있다. 또한, 수의학과 식품&음료업에서 많이 사용된다. 경화된 접착제와 접촉하는 액체가 극히 순수한 상태로 유지되어 오염이 없도록 하는 것이 이와 같은 응용분야에서 가장 중요하다.
액체침지 현미경 검사에서는, 예를 들어, 고정 렌즈와 고정 물체 사이에 침지 액체를 가하여 현미경 대물렌즈의 개구율(NA)과, 이에 따라 해상도가 증가된다. 이 액체의 응착력이 물체를 침지된 상태로 유지한다. 그러나, 물체가 움직이면, 렌즈로부터 액체를 빼내거나 대물렌즈 아래의 가스를 빼냄으로써, 침지의 파괴가 일어날 수 있다. 따라서, 마스터링 장치 등의 동적 시스템에 액체 침지를 적용하는데 있어서 중요한 과제는, 고정 렌즈와 이동 기판 사이에 안정된 액체 막을 유지하는 것이다.
예를 들어, 마스터 디스크 상의 감광층에 정보를 기록하기 위해 높은 NA의 액체 침지 대물렌즈를 사용하여 고밀도(블루레이 디스크) 광 디스크를 원자외선 마스터링하는 것과 같은 중요한 응용분야에서는, 침지 액체 내부의 저농도의 불순물에 의해 감광층의 적절한 현상이 방해받는 경우가 빈번하다. (매우 작을 수도 있는) 이와 같은 오염은, 대물렌즈와 침지 부속물을 형성하는데 사용되는 접착제로부터의 불순물의 침출에 기인한 것이다.
보통, 2성분 에폭시-아민 또는 에폭시-무수물 접착제 시스템이 사용된다. 이때에는, 접착제에서 발생된 알칼리 불순물, 또는 접착제가 부적절하게 투여되거나 혼합되거나 및/또는 경화되었을 때, 미반응된 아민이 수용액 상 내부로 침출된 후 감광층 내부로 침출되는 일이 자주 발생한다(에폭시-무수물 시스템도 침출가능한 3차 아민 가속제를 함유할 수도 있다). 이에 따라, 현상된 영역과 현상되지 않은 영역 사이의 목표로 하는 콘트라스트가 국부적으로 변경되거나 심지어는 없어져, 마스터 디스크에 점 결함 또는 얼룩으로 나타나게 된다. 그후, 이와 같은 결함은 이러한 마스터 디스크들에서 제조된 스탬퍼들과 복제된 디스크들로도 전이되게 된다.
예를 들어, 노볼록-디아조퀴논 형태의 감광제에 속하는 다수의 포지티브형 감광제에 대해서도 부분적으로 또는 전체적으로 현상되지 않은 감광제와 관련된 동일한 문제점이 관찰되었다.
결국, 본 발명은, 유해한 불순물 또는 성분들을 침출시키지 않아, 노광된 감광층의 적절한 현상과 그후의 스탬퍼 제조를 허용하는 접착제 시스템을 제공한다.
구체적으로 설명하면, 본 발명은, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 모노머, 알릴 모노머, 노보넨 모노머, 상기 모노머들의 혼합물, 한 개의 모노머에 화학적으로 다른 중합가능한 작용기들을 포함하는 혼성(hybrid) 모노머 및, 티올이 상기 비티올 모노머들 중에서 적어도 1개와 결합하여 사용된다는 조건하에서, 다관능 티올 모노머로 구성된 그룹으로부터 선택된 적어도 1개의 모노머와, 중합 개시제를 함유하는 비침출형의 경화가능한 접착제 시스템에 관한 것이다. 바람직하게는, 티올이 아닌 상기 모노머들 중에서 적어도 1개는 적어도 2개의 작용기를 구비하고, 이들 작용기는 중합공정에 참여하여, 가교된 폴리머 네트워크를 얻는다. 본 명세서에서 사용된 "다관능(multifunctional)"이라는 용어는, 모노머당 결합될 수 있는 모노머들의 수가 1보다 크다는 것을 의미한다.
사실상 자유 라디칼 개시반응에 의해 중합가능한 모든 모노머가 본 발명의 중합 시스템에 사용될 수 있지만, 유리 및 금속에 대해 양호한 접착성을 갖는 가교된 제품을 제공하는 화합물이 바람직하다. 본 발명에서 사용되는 "유리"라는 용어는 석영 유리도 언급하는 것으로 알려졌다.
본 발명의 접착제 시스템에서 더욱 바람직하게 사용되는 디아크릴레이트 모노머는 2,2-비스[4-(3-아크릴로일옥시-2-히드록시프로폭시)페닐]프로판이다.
이와 달리, 멀티티올(multithiol) 및 멀티알릴(multiallylic) 모노머들과 (라디칼) 중합 개시제로 구성된 티올-엔(thiol-en)계가 독립적으로, 또는 전술한 (메타)아크릴레이트와 조합하여 사용될 수 있다. 티올의 비한정적인 예로는, 트리메틸올플로판 트리티올, 펜타에리스리톨 테트라티올과 이들의 에톡시화된 동족체들을 들 수 있다. 알릴 모노머들의 비한정적인 실시예로는, 이소포론 디이소시아네이트의 디알릴 에스테르, 트리알릴 시아누레이트 및 이소시아누레이트와, 트리메틸올프로판의 트리알릴 에스테르를 들 수 있다.
전술한 것과 같이, 접착 시스템은 중합 개시제를 더 포함한다. 바람직하게는, 열적으로 그리고 방사빔으로, 바람직하게는 UV 방사빔으로 활성화될 수 있는 단일 개시제가 사용된다.
다양한 아조에스테르들이 사용될 수 있지만, 아조비스이소부틸로니트릴이 좋은 예이다.
아조에스테르 개시제는, 광화학 분해 이외에, 비교적 낮은 온도에서 다소 높은 분해 속도를 가지므로, 낮은 온도와 적당히 높은 온도에서도 사용될 수 있도록 한다는 이점을 갖는다.
더 높은 온도에서만 분해되며 본 발명에서도 사용될 수 있는 광개시제의 예로는, Irgacure 184 및 Darocure 1173(모두 Ciba-Geigy AG의 상표) 등의 α-히드록시-케톤, Irgacure 907 및 Irgacure 369(모두 Ciba-Geigy AG의 상표) 등의 α-아미노-케톤, Irgacure 651(=DPMA: α,α-디메톡시-α-페닐-아세토페논)(Ciba-Geigy AG의 상표) 등의 벤질디메틸-케탈을 들 수 있다.
본 발명의 접착제 시스템은, 바람직한 실시예에 있어서는, 반응성 희석제를 더 포함한다. 이와 관련하여, 본 발명에서 사용되는 디(메타)아크릴레이트 모노머는, 예를 들면, 60℃의 동작 온도에서, 접착하고자 하는 정교한 기판들에 적절히 도포하기에는 너무 높은 점도를 가질 수도 있다는 것으로 관찰되었다. 이와 같은 경우에는 반응성 희석제를 사용하는 것이 바람직하다.
상기한 반응성 희석제는 모노아크릴레이트이며, 바람직하게는 디- 또는 멀티아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트 희석제이며, 이것의 예로는 1.6-헥산디올 디아크릴레이트 및 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트를 들 수 있다. 또 다른 예로는, 충분히 낮은 점도를 갖는 에톡시화된 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트와 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트를 포함한다.
기판, 특히 금속 또는 유리 기판에 대한 본 발명의 접착제 시스템의 부착 특성을 향상시키기 위해서는, 이들 기판을 적절한 표면 활성제로 전처리하는 것이 바람직하다. 이와 같은 표면 전처리는 기판으로부터의 접착제의 박리 방지를 돕는다.
따라서, 본 발명은, (a) 전술한 접착제 시스템과, (b) 표면 활성제를 포함하는, 모노머 기반의 비침출형의 경화가능한 접착제 조성물에 관한 것이다.
상기한 표면 활성제는 바람직하게는 아크릴계 또는 메타크릴계 실란 커플링제(coupling agent)이다. 이들 커플링제는 (메타)아크릴레이트 및 티올-엔계 모두에 사용될 수 있다.. 이와 달리, 티올 또는 알릴 커플링제가 티올-엔계와 함께 사용될 수도 있다. 이와 관련하여, 금속 기판들을 접합하기 위한 접착제 조성물과 함께 실란 커플링제를 사용하는 것은 그 자체가 EP-A-1 005 037에 공지되어 있는 것 으로 밝혀졌다. 그런데, 이와 같은 커플링제의 특정한 예들이 이 문헌에 빠져 있다. 더구나, EP-A-1 005 037은, 바람직하게는 주성분으로서의 에폭시 수지와 양이온성 중합형 광개시제로 이루어진, 양이온성 UV 경화 조성물에 관한 것이다. 이와 같은 시스템은 감광제 거동에 영향을 미치기 쉬운 이온성 화합물을 침출시킬 수 있는 가능성을 갖는 것을 특징으로 한다.
전술한 것과 같이, 한편으로, 본 발명은, 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트 모노머, 알릴 모노머, 노보넨 모노머, 화학적으로 다른 중합가능한 작용기들을 포함하는 상기 모노머들의 혼성 모노머 및, 티올이 상기 기타 비티올 모노머들 중에서 적어도 1개와 결합하여 사용된다는 조건하에서, 상기 모노머들과 다관능 티올 모노머들의 혼합물과, 중합 개시제에 기반을 둔 접착제 시스템에 관한 것으로, 이 시스템은 경화되었을 때 상기 접착제 시스템과 접촉하게 되는 액체 내부로 유해한 성분을 침출시키지 않는다.
본 발명의 메타크릴계 실란 커플링제는 바람직하게는 γ-메타크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란이다.
또한, 본 발명은, 전술한 것과 같은 비침출형의 경화가능한 접착제 시스템을 접합하고자 하는 부분들의 표면에 도포하고, 이와 같이 도포된 상기 부분들의 표면을 접합시켜 이 접합된 것을 경화시킴으로써 금속-금속 및 금속-유리 접착을 확보하는 방법으로서, 접착 시스템의 도포 전에, 접합하려는 상기 표면들을 표면 활성제로 전처리하는 접착방법에 관한 것이다.
이와 같은 전처리는 전술한 것과 같이 박리 및/또는 물의 유출을 더욱 더 방 지하게 된다.
상기한 표면 활성제는, 바람직하게는 아크릴계 또는 메타크릴계 실란 커플링제이며, 더욱 바람직하게는 γ-메타크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란이다.
본 발명에 따른 접착제가 설치될 표면의 전처리는, 바람직하게는, 필요한 경우에 적당한 용매에 용해된 커플링제의 증기에 상기 표면을 노출시키는 과정, 또는 적당한 용매에 용해된 상기 커플링제의 용액을 사용하여 상기 표면을 처리하는 과정, 또는 다른 적절한 처리로 이루어진다.
또한, 본 발명은, 기판, 특히 광학 마스터 디스크의 제조를 위해 사용하기 위해, 금속막을 액체 침지 대물렌즈의 다른 금속막 또는 유리 기판에 접착시키기 위한 본 발명의 접착 시스템의 용도에 관한 것이다.
전술한 것과 같이, 침지 대물렌즈와 침지 부속물을 형성하는데 사용된 접착체에서 발생된 미량의 성분들의 침지 액체로의 침출로 인해, 상기 침지 현미경에서 마스터 디스크 상에 있는 감광층의 적절한 현상이 방해를 받는 일이 빈번하게 발생한다. 이와 같이 얻어진 결함들은 점 결함 또는 얼룩으로 나타나게 되는데, 이들은 마스터 디스크의 감광층에서 발생할 뿐만 아니라, 이 마스터 디스크들에서 제조되는 스탬퍼들과 복제된 디스크들로 전이된다.
본 발명의 접착제의 사용은 놀랍게도 이러한 침출 문제를 완전히 방지한다.
더구나, 본 발명은 청구항 16에 기재된 것과 같은 액체 침지 대물렌즈에 관한 것이다.
본 발명의 상기한 발명내용과 또 다른 발명내용은, 어떤 점에서도 본 발명의 범주를 제한하는 것으로 해석되지 않는 다음의 첨부도면과 이하의 실시예를 참조하여 명백해질 것이다.
도 1a 및 도 1b는 광 디스크 마스터링에서 사용된 액체 침지 개념의 단면도 및 저면도이다.
도 1c는 도 1a의 침지 렌즈 마운트와 급수 부속품의 실시에의 상세도이다.
도 2는 액체 침지 현미경에서 종래의 접착제를 사용하여 복제된 디스크 상에서 얻어진 점 결함들을 나타낸 것이다.
도 3은 액체 침지 대물렌즈에서 종래의 접착제를 사용하여 복제된 디스크 상에서 얻어진 얼룩을 나타낸 것이다.
도 4는 액체 침지 대물렌즈에서 종래의 접착제를 사용하여 제조된 파더 스탬퍼 상의 점 결함을 나타낸 AFM 사진이다.
도 5a는 본 발명에 따른 접착제를 사용하여 얻어진 얼룩 또는 점 결함이 없는 복제된 디스크를 나타낸 것이다(배율 X10).
도 5b는 20X의 배율로 도 5a에 도시된 것과 동일한 디스크를 나타낸 것이다.
블루레이 디스크에 대한 마스터 디스크의 침지 기록을 위해 사용된 배치에서는, 이와 같은 배치를 도 1a, 도 1b 및 도 1c에 예시된 액체 침지 개념을 사용하여 구현하였다.
대물렌즈(6)의 최종 렌즈부재(5)와 감광층(4)을 갖는 회전하는 마스터 디스 크(2) 사이에 수막(water film)을 국부적으로 유지하여 액체 침지가 달성된다(도 1a 참조). 물은 기록을 위해 사용된 257nm의 파장을 갖는 방사빔에 대해 투명하고 감광층 처리와 호환되므로, 이와 같은 응용분야에서 침지 액체로서 자연스러운 선택이다. 사용된 대물렌즈는 대략 반구형의 최종 렌즈부재(미도시)를 추가하여 NA=1.23의 수침지(water immersion) 렌즈로 변환되는 상업적으로 입수가능한 렌즈(개구율(NA)=0.9, λ=257nm)이었다. 가스 유입을 방지하기 위해 충분히 높으며 용해된 가스의 이탈을 방지할 정도로 충분히 낮은 압력에서, 물이 침지 렌즈(5)의 바로 상류측에서 구멍(9)을 통해 연속 공급된다. 도 1b에 도시된 저면도에는, 렌즈와 코팅된 디스크의 상대속도가 물을 렌즈 아래로 끌어당겨 초점 위치 근처에 안정된 물 흔적(water trace)을 발생하는 방식이 도시되어 있다. 물 흔적은 보통 5m/s에 이르는 기록속도에서 7㎛의 높이와 200㎛의 폭을 갖는다. 이와 같은 좁은 물 흔적이 렌즈(5)에 대해 가해지는 힘은 최소가 되므로, 수막의 존재에 의해 초점 구동이 방해를 받지 않는다.
침지 렌즈 설비와 급수장치의 구성은 250㎛ 밖에 되지 않는 원시야(far field) 대물렌즈의 원래의 작업거리(working distance) 내에서 구현되어야 한다. 이것은 급수 통로(8)를 포함하는 단지 200㎛ 두께의 매우 가느다란 침지 렌즈용 마운트를 제공하였다. 렌즈 마운트는 도 1c에 도시된 것과 같이 4개의 금속제 포일의 적층체(7)로 구성되며, 이 금속 포일들은 급수 통로(8)가 형성되도록 성형되어 접합된다.
물이 포일들의 적층체(7)의 하부 포일 내부에 있는 구멍(9)을 통과하여, 대 물렌즈(6)와 디스크(2) 사이에 있는 계면에 도달한다. 이것은, 침지를 위해 사용된 물이 접착제와 가깝게 접촉하고 있다는 것을 의미한다. 포일들의 적층체(7)에 있는 접착제는 UV 광이 접근할 수 없으므로 열적으로 경화하여야 한다.
최종적인 침지 렌즈부재는 포일 부속물에 단단히 부착되어야 한다. 이것도 접착에 의해 달성된다. 이때, 응력의 축적, 이 응력의 완화와, 그 결과 침지 렌즈부재(5)의 부정확한 배치를 방지하기 위해 고온을 피해야 하므로, UV 경화 접착제가 바람직하다.
에폭시-아민/무수물계 접착제 등의 종래의 접착제를 사용할 때에는, 수용성 현상제 용액으로 세정하거나 분사하거나 이 용액에 담근 후에, 감광제가 부분적으로 또는 전체가 미현상된 상태로 유지되는 일이 자주 일어난다. 결함이 점 결함(도 2) 또는 얼룩(도 3)으로 나타낸다. 결함 감광층에서 나타날 뿐 아니라, 이와 같은 마스터에서 제조된 스탬퍼들과 복제된 디스크들로 전이된다. 파더 스탬퍼 상의 점 결함의 상세를 도 4에 나타내었다. 감광층이 국부적으로 현상되지 않는다.
도 2 및 도 3의 트랙 피치는 0.7mm인 반면에, 도 4의 트랙 피치는 320nm이었다.
도 5a 및 도 5b는, 본 발명에 따른 접착제를 사용하여 장착된, 도 1a, 도 1b 및 도 1c에서 설명한 침지 현미경을 사용하여 제조된 복제된 디스크를 나타낸 것이다. 도 5a 및 도 5b에서의 트랙 폭은 0.4mm이었다.
실시예 1:
1,6-헥산디올디아크릴레이트에 용해된 2,2-비스[4-(3-아크릴로일옥시-2-히드록시프로필)페닐]프로판(=비스-GAA)의 80%(w/w) 용액과 0.1%(b.w.)의 아조비스이소부틸로니트릴을 혼합하여 접착제를 제조하였다.
이 접착제를 도 1a 및 도 1b에 도시된 것과 같이 포일들의 적층체의 적층과 대물렌즈의 접착에 사용하였다. 포일들의 적층체를 12h 동안 90℃까기 가열하여 포일들 사이의 접착제를 경화시켰다. 동일한 접착제를 UV 광(파장 범위 320-390nm, 강도 40mW·cm-2, 노출시간 1분)에 노출시켜 대물렌즈를 포일들의 적층체에 고정시켰다.
노광된 감광층의 적절한 현상과, 도 1a, 도 1b 및 도 1c에 도시된 것과 같은 침지 현미경 대물렌즈를 사용한 그후의 스탬퍼 제조에서 알 수 있는 것과 같이, 이 접착제 시스템은 불순물을 침출시키지 않은 것으로 밝혀졌다.
도 5a 및 도 5b에 도시된 것과 같이, 복제된 디스크 상에 얼룩 및 핀홀이 존재하지 않는 것에 의해 이 접착제 시스템의 우월한 품질이 더 입증되었다.
실시예 2:
트리프로필렌글리콜디아크릴레이트에 용해된 75%(w/w) 용액으로 비스-GAA를 사용하여 도 1에 따라 접착제를 제조하였다.
실시예 1에 나타낸 것과 동일한 결과를 얻었다.
실시예 3:
박리 및/또는 물의 유출을 더 방지하기 위해(가능하다면, 조금이라도 방지하기 위해), 서로 접착하려는 표면을 액체 실란 커플링제로 전처리하였다. 더욱 구체적으로 설명하면, 금속제 포일들과 침지 렌즈들을 제습기에 배치하였으며, 이때 제습기는 γ-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란이 채워진 개방된 용기를 포함하였다.
제습기를 감압하였으며, 금속제 포일들과 렌즈를 밤새도록 상기한 커플링제의 증기에 노출시켰다. 그후, 실시예 1에 나타낸 접착제와 처리과정을 사용하여 부품들을 접착하였다.
도 1b에 도시된 마스터링 장치를 사용하여 제조된 마스터 디스크들의 현상시에 얼룩이나 점 결함들이 관찰되지 않았다.
비교예 1
종래의 에폭시-아민 접착제, 즉 Araldite 2011(Vantico의 상표)을 사용하여 형성된 도 1c에 개략적으로 나타낸 것과 같은 액체 침지 현미경 시스템을 사용하여 제조된 스탬퍼들로부터 복제된 디스크들은 도 2 및 도 3에 나타낸 것과 같이 다수의 점 결함들과 얼룩을 나타내었다. 디스크들을 복제하는데 사용된 스탬퍼에 결함이 이미 존재하였다(도 4).
본 발명의 특정한 실시예들을 참조하여 본 발명을 설명하였지만, 첨부된 청구범위를 참조하여 더욱 명백히 이해할 수 있는 것과 같은 본 발명의 범주와 사상 을 벗어나지 않으면서 이들 실시에의 다양한 변형 및 변화가 행해질 수 있다는 것은 자명하다.

Claims (17)

  1. 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 모노머, 알릴 모노머, 노보넨 모노머, 상기 모노머들의 혼합물, 한 개의 모노머에 화학적으로 다른 중합가능한 작용기들을 포함하는 혼성 모노머 및, 티올이 상기 비티올 모노머들 중에서 적어도 1개와 결합하여 사용된다는 조건하에서, 다관능 티올 모노머로 구성된 그룹으로부터 선택된 적어도 1개의 모노머와, 중합 개시제를 함유한 것을 특징으로 하는 비침출형의 경화가능한 접착제 시스템.
  2. 제 1항에 있어서,
    티올이 아닌 상기 모노머들 중에서 적어도 1개는 적어도 2개의 중합가능한 작용기를 포함하는 것을 특징으로 하는 비침출형의 경화가능한 접착제 시스템.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 알릴 모노머는, 이소포론 디이소시아네이트의 디알릴 에스테르, 트리알릴 시아누레이트 및 이소시아누레이트와, 트리메틸올프로판의 트리알릴 에스테르로 구성된 그룹에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비침출형의 경화가능한 접착제 시스템.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 다관능 티올은, 트리메틸올플로판 트리티올, 펜타에리스리톨 테트라티올과 이들 화합물의 에톡시화된 동족체들로 구성된 그룹에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비침출형의 경화가능한 접착제 시스템.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 아크릴레이트 모노머는 2,2-비스[4-(3-아크릴로일옥시-2-히드록시프로폭시)페닐]프로판인 것을 특징으로 하는 비침출형의 경화가능한 접착제 시스템.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 개시제는, 광 개시제, 특히 UV 개시제, 열 개시제, 또는 이들 두가지의 조합인 것을 특징으로 하는 비침출형의 경화가능한 접착제 시스템.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 접착제 시스템은 반응성 희석제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비침출형의 경화가능한 접착제 시스템.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 반응성 희석제는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 희석제이며, 바람직하게는 디- 또는 멀티아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 희석제인 것을 특징으로 하는 비침출형의 경화가능한 접착제 시스템.
  9. (a) 청구항 1에 기재된 접착제 시스템과, (b) 표면 활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 비침출형의 경화가능한 접착제 조성물.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 표면 활성제는 아크릴계 또는 메타크릴계 실란 커플링제인 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 메타크릴계 실란 커플링제는 γ-메타크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란인 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.
  12. 청구항 1에 기재된 것과 같은 모노머들에 기반을 둔 경화가능한 접착제 시스템의 막을 접합하고자 하는 부분들의 표면에 도포하고, 이와 같이 도포된 상기 부분들의 표면을 접합시켜 이 접합된 것을 경화시킴으로써 금속-금속 및 금속-유리를 접착하는 방법으로서, 상기 접착 시스템의 도포 전에, 접합하려는 상기 표면들을 표면 활성제로 전처리하는 것을 특징으로 하는 접착방법.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 표면 활성제는 아크릴계 또는 메타크릴계 실란 커플링제인 것을 특징으로 하는 접착방법.
  14. 제 13항에 있어서,
    상기 메타크릴계 실란 커플링제는 γ-메타크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란인 것을 특징으로 하는 접착방법.
  15. 기판, 특히 광학 마스터 디스크의 제조를 위해 사용하기 위해, 금속막을 액체 침지 대물렌즈의 다른 금속막 또는 유리 기판에 접착시키기 위한, 청구항 1에 기재된 모노머들에 기반을 둔 비침출형의 경화가능한 접착제 시스템의 용도.
  16. 기판, 특히 광학 마스터 디스크의 제조를 위해 사용되는 액체 침지 대물렌즈로서, 금속막들(8)의 적층체와, 상기 금속막들의 적층체 내부의 관통공(9) 내부에 형성된 침지 대물 렌즈(5)와, 침지 렌즈(5)에 대향하여 감광층(4)이 설치된 기판(2)을 구비하며, 상기 감광층과 침지 렌즈는 수막(1)에 의해 분리되고, 상기 금속막들의 적층체(8) 사이에 이 적층체를 관통하여 급수 통로(3)가 설치되어 상기 급수 통로가 상기 대물렌즈와 상기 기판 사이의 계면 내부로 배출되며, 상기 금속막들과 침지 렌즈가 청구항 1에 기재된 접착제 시스템을 사용하여 서로 접합된 것을 특징으로 하는 액체 침지 대물렌즈.
  17. 체액 및 조직과 접촉하게 되기 쉬운 도관들, 바이오센서들 및 기타 생물공학 장치들의 제조 및/또는 조립을 위해, 금속막, (석영) 유리 기판 및 폴리머 필름으로 구성된 그룹에서 선택된 적어도 2개의 몸체의 상호 접착을 위한 청구항 1에 기재된 모노머들에 기반을 둔 비침출형의 경화가능한 접착제 조성물의 용도.
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