KR20060045578A - 곡면을 갖는 코팅 기판 및 그 코팅 기판의 제조 방법 - Google Patents

곡면을 갖는 코팅 기판 및 그 코팅 기판의 제조 방법 Download PDF

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KR20060045578A
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Abstract

본 발명은 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법에 관한 것으로, 상기 방법에서는
- 곡면의 부영역(subarea)을 덮는 마스킹을 곡면에 도포하고,
- 진공 증착 방법을 사용하여 광학 코팅을 도포하며, 그리고
- 상기 마스킹을 제거한다.
상기 방법에 의해 제조될 수 있는 코팅된 기판은 적어도 하나의 패턴화된 광학 코팅이 제공된 곡면을 가지며, 상기 광학 코팅은 상기 표면의 적어도 하나의 부영역 위에 제공되고 인접한 적어도 하나의 부영역 위에는 제공되지 않도록 패턴화된 것이다.
광학 코팅, 패턴화, 마스킹, 바니시, 진공 증착

Description

곡면을 갖는 코팅 기판 및 그 코팅 기판의 제조 방법{COATED SUBSTRATE WITH A CURVED SURFACE, AND A METHOD FOR PRODUCTION OF A COATED SUBSTRATE SUCH AS THIS}
도 1a 내지 도 1d는 곡면을 갖는 본 발명에 따른 코팅 기판을 제조하는 방법의 단계를 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1d에 도시된 코팅 기판의 변형예를 도시하는 도면이다.
도 3a 내지 도 3d는, 본 발명의 다른 실시예로서, 곡면을 갖는 본 발명에 따른 코팅 기판을 제조하는 방법의 단계를 나타내는 도면이다.
도 4a 내지 도 4b는, 본 발명의 또 다른 실시예로서, 기판을 마스킹하는 방법의 단계를 나타내는 도면이다.
도 5 내지 도 7은 본 발명에 따라 두 개 이상의 광학 코팅을 구비하는 코팅 기판의 예시적인 실시예를 나타내는 도면이다.
도 8과 도 9는 본 발명에 따른 광학 코팅을 구비하는 렌즈(101)의 예를 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명에 따라 코팅된 렌즈의 적용예를 나타내는 도면이다.
도 11은 본 발명에 따라 전구에 의해 광선의 라이트 필드(light field)가 어떻게 영향받을 수 있는지에 대한 예를 나타내는 도면이다.
도 12는 본 발명에 따라 전구에 의해 광선의 라이트 필드가 어떻게 영향받을 수 있는지에 대한 다른 예를 나타내는 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *
1: 곡면을 갖는 기판
3: 도면 부호 1의 곡면
5, 6: 바니시 층(vanish layer)
7: 프린트 헤드
9: 도면 부호 7의 노즐
11: 도면 부호 7의 탱크
13: 바니시(vanish)
15: 도면 부호 3의 마스크된 부영역(subarea)
17: 도면 부호 3의 마스크되지 않은 부영역
19: 진공 또는 코팅 체임버(chamber)
21: 코팅 소스(source)
23: 광학 코팅
25, 251, 252: 패턴화된 광학 코팅
26: 광학 코팅
27, 271, 272: 도면 부호 25에 의해 덮인 도면 부호 3의 부영역
29, 291, 292: 도면 부호 27에 인접한 도면 부호 3의 코팅되지 않은 부영역
31, 32, 33: 도면 부호 2의 층들
35, 37: 서로 겹치는 마스킹들
39: 기계적 마스크(mechanical mask)
40: 포토레지스트(photoresist)
43: 대칭 축
100: 전구
101: 렌즈
105: 자동차
110: 스포트라이트 또는 헤드라이트
112: 램프
113: 축
115, 116, 117: 공간각 범위(spatial angle range)
본 발명은 광학층(optical layer)을 가지는 기판의 코팅, 더욱 상세하게는 이러한 광학층을 가지는 곡면의 코팅에 관한 것이다.
광학층을 가지는 곡면의 코팅은, 예를 들어 블루밍 층(blooming layer)이 제공되는 렌즈의 제조로부터 알려져 있다. 그러나, 이러한 층은 일반적으로 렌즈의 전체 굴절면을 덮는다.
그렇지만, 다른 한편으로, 예를 들어 특정의 시각적 효과가 얻어질 수 있도 록 하기 위해서는, 소정 영역에 걸쳐 조직화된 형태의 광학층들을 적절히 구비한 곡면을 제고하는 것 또한 요구되고 있다.
본 발명의 목적은, 횡방향으로 조직화되며, 코팅될 기판 표면을 따라 패턴화되거나 또는 구획되어진 광학층을 구비한 기판의 코팅을 개선하는 데에 기초한다.
상기 목적은 독립항들에서 청구된 방법 및 코팅 기판에 의해 놀라울 정도로 대단히 간단한 방식으로 달성된다. 각각의 종속항에서는 바람직한 개선과 개량이 기술된다.
따라서, 본 발명은 곡면상에 패턴화되거나 또는 횡방향으로 조직화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법을 제공하며, 상기의 기판 제조 방법에서, 곡면의 부영역(subarea)을 덮는 마스킹(masking)을 곡면에 도포하고, 진공 증착 방법을 이용하여 광학 코팅을 하며, 마스킹을 제거한다.
따라서, 본 발명에 따른 코팅 기판, 특히 본 발명에 따른 방법에 의해 제조될 수 있는 코팅 기판은 패턴화된 광학 코팅이 제공되는 곡면을 가지며, 상기 패턴화된 광학 코팅은, 광학 코팅 특히 진공 코팅이 곡면의 적어도 하나의 부영역상에 제공되고 그리고 적어도 하나의 인접한 또는 이웃한 부영역상에는 도포되지 않도록 한 것이다. 이 경우, 본 발명에 따라 기판을 제조하는 동안에, 광학 코팅은 마스킹이 제거된 하나 또는 다수의 부영역상의 기판에 도포되고 마스킹에 의해 덮인 인접한 영역들에는 도포되지 않는다.
그러므로, 본 발명의 목적을 위한 패턴화된 코팅은 코팅 영역 범위를 따라 구획된 코팅이며, 구획된 코팅은 적어도 하나의 세그먼트(segment)를 가진다.
마스킹과 광학 코팅의 진공 증착에 의하여, 본 발명의 곡형 기판은 패턴의 윤곽 테두리가 잘 한정되며 선명한 패턴화된 광학 코팅을 구비하게 된다.
본 발명에 적당한 기판에는, 진공 상태에서 코팅될 수 있는 기판이라면, 어떠한 제한도 없다. 예를 들어, 유리, 유리-세라믹, 금속 또는 플라스틱 기판들이 적절하다. 특히, 본 발명에 의해 광학 구성 요소들을 기판으로 사용하고 광학 구성 요소들을 개선하고자 하는 것이다.
증착 공정에는 다양한 진공 증착 방법들이 적절하다. 이 경우, 증착 방법의 선택은 코팅 재료의 선택 또는 코팅될 표면의 형상을 포함하는 다양한 선택 기준에 의존한다. 본 발명에 따른 방법의 일 실시예에 의하면, 광학 코팅의 도포에는 물리적 증기 증착(PVD: physical vapor deposition)에 의한 층의 증착이 포함된다. PVD에는, 예를 들어 층의 스퍼터링(spttering)또는 증기 증착을 포함된다. 증기 증착에 의해 높은 증착률이 달성될 수 있고, 한편 스퍼터링은 기화하기 어려운 재료에도 적절하다. 또한, 화학적 증기 증착(CVD: chemical vapor deposition)에 의해서도 층이 증착될 수 있다. 예를 들어, 플라즈마-펄스 유도 화학적 증기 증착(PICVD: plasma-pulse induced chemical vapor deposition)에 의해 층이 증착될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기판의 마스킹에는 바니시 층(varnish layer)의 도포가 포함된다. 소정 영역에 걸쳐 구성되는 바니시 층을 만들기 위하여, 바람직한 개량에 따라, 예를 들어 적어도 하나의 컴퓨터 제어 노즐(computer- controlled nozzle)에 의해 바니시 층을 도포할 수 있다. 예를 들어 잉크 젯 프린터에서 사용되는 것으로서 적절히 수정된 프린트 헤드는 특히 이러한 목적에 적당하다. 피에조 젯(pieso jet) 프린트 헤드와 버블 젯(bubble jet) 프린트 헤드 모두가 사용될 수 있다. 프린트 헤드에 의해 기판에 바니시 층을 프린트함으로써 일정 영역에 걸쳐 구성되는 바니시 층이 기판의 마스킹 또는 마스킹의 일부로서 직접 만들어질 수 있다.
예를 들어 상당히 만곡된 표면의 경우에, 프린트 헤드 또는 노즐과 곡면 사이의 거리를 허용 한계 내에 유지하기 위하여, 본 발명의 이러한 개선된 일 실시예에 따라, 바니시 층을 도포하는 동안 프린트 헤드 또는 노즐과 곡면 사이의 거리를 적절히 수정하거나 재조정할 수 있다.
또한, 본 발명은 곡형 및/또는 다각형 기판을 코팅하기 위한 방법 및 장비를 포함하며, 이러한 방법 및 장비에서는, 프린터 헤드의 적어도 하나의 노즐과 곡형 및/또는 다각형 기판 표면 사이의 거리가 적절한 장치에 의한 컴퓨터 제어 하에서 재조정되어, 컴퓨터 제어되는 프린트 헤드에 의해 바니시가 코팅될 표면에 도포된다. 이에 의해 바니시 도포 공정은 3차원적으로 제어될 수 있다.
바니시 도포를 위한 다양한 수단이 특히 패턴화된 바니시 층에 선명한 윤곽을 만들기 위하여 그리고 균일한 인쇄 이미지를 보장하기 위하여 바람직하다. 예를 들어, 바니시는 냉각된다. 바니시 도포를 위하여 예를 들어 프린트 헤드의 하나의 구성요소로서 노즐이 사용되면, 도포에 앞서 바니시 내에 있는 솔벤트(solvent)의 기화를 줄여 인쇄 장치의 막힘을 방지하기 위하여, 노즐에 연결되는 공급 컨테이너 내에서, 공급 라인 내에서 또는 노즐에 의해 바니시를 냉각시키는 것이 바람직하다. 노즐 또는 프린트 헤드의 막힘을 방지하는 다른 방법은 적절한 분위기에서 기판에 인쇄를 하는 것이다. 이러한 목적을 위한 분위기는 건조를 방지하기 위하여 예를 들어 가압된 분위기 그리고/또는 솔벤트를 함유하는 분위기로 할 수 있다.
바니시가 도포되자마자, 바니시가 곡면 위에서 흐르는 것을 방지하여 양호한 윤곽 선명성을 달성하기 위하여 가능한 한 빨리 바니시를 응고시키는 것이 또한 바람직하다. 진공 체임버 내에서 바니시 층의 기체 이탈(outgassing)을 줄이기 위하여 바니시에 함유되어 있는 솔벤트를 제거하는 하는 것이 또한 중요하다. 이러한 목적을 위한 적절한 수단은, 솔벤트의 기화를 가속시키기 위하여, 바니시를 가열된 기판에 도포하는 것이다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 기판의 마스킹은 포토레지스트(photoresist)에 의한 코팅과 포토레지스트의 노출 및 현상을 또한 포함한다.
본 방법의 또 다른 실시예에 의하면, 풀-오프(pull-off) 바니시가 마스킹용으로 사용된다. 코팅 공정이 실행된 다음에 이러한 바니시는 기판으로부터 용이하게 떼어낼 수 있다.
본 발명의 바람직한 일 실시예는 기판의 마스킹에, 예를 들어 인쇄 회로 기판 기술에서 땜납 스톱(solder stop) 바니시로서 사용되는 스톱 바니시의 도포를 포함한다. 이러한 바니시는 특히 진공에 적합하고 코팅 중에 발생하는 온도 부하를 받는 경우에 열적으로 안정함이 알려져 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에서는 상기 기판의 마스킹을 위해 기계적 마스크 (mechanical mask)의 배치가 포함된다. 기계적 마스크는 재사용이 가능하고, 진공 중에서 기체 이탈이 없이 더 넓은 영역을 덮기에 적절하다. 증착될 광학 코팅의 패턴에 일치하도록 절단된 미리 형성된 금속 포일(foil) 또는 플라스틱 시트(sheet) 등이 마스크로 사용될 수 있다. 낮은 기체 이탈율과 온도 저항으로 인해, 상표명이 캡톤®(Kapton®)인 폴리이미드가 이러한 마스크용의 플라스틱으로 적절하다.
또한, 다양한 마스킹 방법을 서로 조합하는 것이 특히 바람직할 수 있다. 본 발명의 바람직한 개선예에는 기판의 마스킹으로 제1 마스킹과 제1 마스킹에 겹쳐지는 제2 마스킹을 도포하는 것이 포함된다. 이에 의하면, 덮여질 더 넓은 영역의 더 거친(coarser) 마스킹에 예리하고 잘 한정된 테두리를 가지는 정교하게 구성된 바니시 층을 결합할 수 있게 된다. 예를 들어, 풀-오프 바니시 또는 금속 포일이나 폴리이미드 시트(예를 들어, 캡톤® 시트)와 같은 기계적 바니시를 이용한 초기 마스킹이 덮여질 영역의 테두리에 정교한 윤곽을 주기 위한 바니시 마스킹과 함께 사용될 수 있다.
광학 코팅을 증착한 뒤에 마스킹의 제거는, 본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 바니시 마스킹을 용해하거나 에칭(etching)하는 것을 포함한다. 바니시 마스킹의 용해 또는 에칭은 또한 바니시 층 위에 위치한 증착된 광학 코팅을 들어내는 것이고, 이에 따라 마스킹으로 덮이지 않은 기판 곡면의 부영역 위에는 마스킹에 의해 패턴화된 광학 코팅이 남게된다.
마스킹 및 그 위에 위치한 광학 코팅을 제거하는 또 다른 방법은 바니스 마 스킹을 부풀리는 것이다. 이러한 목적으로, 예를 들어, 바니스층은 적절한 가성 소오다(lye)로 처리될 수 있다. 부풀림(swelling) 공정에 의해 바니스층은 기판으로부터 떨어져서 그 위의 광학 코팅과 함께 분리되게 된다.
본 발명에 따라 제조될 수 있는 광학 코팅은 또한 두 개 이상의 층을 가질 수 있다. 예를 들어, 이와 같은 다층 코팅은 광학 간섭층으로 사용될 수 있다.
곡면상에 광학 코팅을 하기 위한 또 다른 선택은 부분적으로 또는 완전히 반사하는 반사층을 포함하는 코팅이다. 이러한 층은 채색된 반사층(colored-reflective layer)의 형태일 수도 있다. 색채 효과를 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면, 기판에는 또한 채색 또는 흡수 층을 포함하는 패턴화된 광학층이 제공될 수 있다.
많은 수의 기판이 본 발명의 사용에 적합하다. 본 발명의 특정 실시예서는 전구가 기판으로 사용되어 코팅된다. 전구 위로 본 발명에 따른 패턴화된 광학 코팅을 함으로써, 예를 들어 전구의 라이트 필드(light field)에 상당히 한정된 방식으로 바람직하게 영향을 미칠 수 있다.
또 다른 특정 실시예에서는 렌즈가 기판으로 되어 코팅된다. 패턴화된 광학 코팅을 구비한 이러한 렌즈 또한 예를 들어 전등의 라이트 필드에 정교하게 영향을 미치게 할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 방법의 일 개선예에서는, 곡면의 상이한 부영역들에 마스킹과 진공 코팅에 의해 연속적으로 광학층이 제공된다. 특히, 이에 따라 상이한 광학 특성을 가지는 부영역들을 구비하는 패턴화된 광학 코팅을 제조할 수 있게 된다. 이러한 목적을 위해 부영역들에는 상이한 광학 코팅이 제공되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 상이한 코팅을 가지는 두 개 이상의 부영역을 구비한 곡면을 갖는 본 발명에 따른 코팅 기판은 상이한 방향 또는 공간각(spatial angle) 구역 내지 영역을 통과하는 광선 또는 반사된 광선에 정교하게 영향을 미치는 데 사용될 수 있다.
예시로서, 기판의 곡면의 환형 부영역에는, 본 발명에 따른 코팅 기판을 이용하여 소정의 방식으로 광학 장치의 라이트 필드에 영향을 미치도록 하기 위하여, 광학층이 제공될 수 있다.
또 다른 적용예는 시각적인 정보를 포함하는 패턴화된 코팅이다. 이러한 정보는 관찰자에 의해 감지될 수 있고, 예를 들어 출처 정보로서 이용될 수 있다. 예를 들면, 코팅이 시각적인 심볼이나 로고 또는 각인을 나타낼 수 있다. 이러한 방식에서 라이트 필드에 적게 영향을 미치거나 또는 전혀 영향을 미치지 않게 하기 위하여, 정보를 포함하는 코팅은 조명과 거의 관련이 없는 투명한 또는 부분적으로 투명한 코팅의 형태로 주어질 수 있다.
본 발명이 의도하는 실제적인 적용예로는 본 발명에 따라 코팅 기판을 구비한 자동차의 스포트라이트 또는 헤드라이트가 있다. 스포트라이트 또는 헤드라이트의 구성 요소로서, 기판은 전구 및/또는 프로젝션 렌즈를 포함한다. 이 때에, 스포트라이트 또는 헤드라이트의 라이트 필드는 본 발명에 따른 이러한 전구에 의해 또는 본 발명에 따른 코팅된 프로젝션 렌즈에 의해 영향을 받을 수 있고, 그 중에서도 특히 다가오는 자동차의 운전자에 대한 눈부심 효과를 감소시키는 데 사용될 수 있다.
본 발명은 도면을 참조하고 예시적인 실시예들에 이용하여 아래에서 더욱 상세하게 설명될 것이고, 도면에 있어서 동일하고 유사한 부재에는 동일한 도면 부호가 부여되며, 상이한 예시적인 실시예들의 특징은 서로 조합될 수 있다.
본 발명에 따라 코팅될 기판(1)의 제조를 위한 방법의 단계가, 본 발명의 제1 실시예로서, 곡면을 가지는 기판(1)의 개략적인 단면도를 나타내는 도 1a 내지 도 1d를 참조하여 기술된다.
도 1a 내지 도 1d에 도시된 것처럼, 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법은,
- 곡면(3)의 부영역을 덮는 마스킹을 기판(1)의 곡면(3)에 도포하고,
- 진공 증착 방법을 사용하여 광학 코팅을 도포하며, 그리고
- 상기 마스킹을 제거한다는 사상을 기초로 한다.
도 1a 내지 도 1d에 도시된 본 발명의 상기 제1 실시예에 따르면, 기판(1)은 바니시(13)의 도포에 의해 마스크되며, 바니시(13)는 컴퓨터 제어되는 노즐(9)에 의해 도포된다. 본 방법의 이러한 실시예에 따르면, 바니시(13)는 이러한 목적을 위해 노즐(9)을 구비하며 도 1a에 도시되지 않은 컴퓨터에 연결된 프린트 헤드(7)에 의해 프린트된다. 프린트 헤드(7)의 이동을 위한 장치와 프린트 헤드는 컴퓨터에 의해 제어된다.
진공 증착 방법에 의해 코팅될 수 있는 임의의 소정 재료가 기판에 사용될 수 있다. 이러한 목적의 예로는, 유리, 유리-세라믹, 세라믹, 플라스틱 및/또는 금 속이 포함된다. 예를 들어, 도 1a 내지 도 1d에 도시된 바와 같이, 전구(100)가 기판(1)으로 사용될 수 있다. 본 발명에 따른 넓은 범위의 적용예로는, 기판으로서의 렌즈를 코팅하는 경우도 있다.
바니시(13)는, 예를 들어 포토레지스트(photoresist), 풀-오프(pull-off) 바니시 또는 그 외에 특히 인쇄 회로 기판 제조에서의 땝납 스톱(solder stop) 바니시와 같은 스톱 바니시일 수 있다.
잉크 젯 프린트 헤드는 상기 프린트 헤드(7)로 사용하기에 특히 적당하다. 이러한 프린트 헤드에 의해 특히 선명하고 잘 한정된 테두리를 구비한 패턴화된 바니시 층이 제조될 수 있다.
바니시(13)를 도포하는 동안 바니시 층(5) 위에 선명한 테두리를 구비한 패턴을 제조할 목적으로, 프린트 헤드(7) 또는 프린트 헤드의 노즐(9)과 곡면(3) 사이의 거리를 허용 한계 범위 내에 유지하기 위하여, 본 실시예의 일 변형예에 따르면, 상기 거리는 적당한 컴퓨터 제어되는 장치에 의해 추가적으로 수정되거나 또는 재조정된다.
다양한 부가적인 수단이 또한 바니시 도포를 개선하기 위하여 채택될 수 있다. 바니시 도포에 앞서 바니시 내의 솔벤트의 기화를 줄이고 이에 따라 프린트 헤드(7)의 노즐 막힘을 방지하기 위하여, 예를 들면, 바니시는 공급 컨테이너(11) 내에서 그리고/또는 노즐(9)로의 공급 라인 내에서 그리고/또는 그 외에 특히 냉각된 노즐에 의한 노즐 내에서 냉각된다. 또한, 프린트 공정은 적당한 환경 내에서, 예를 들어 가압된 분위기에서 그리고/또는 솔벤트를 함유하는 분위기 내에서 실행될 수 있다.
바니시 층(5)의 바니시 내에 함유된 솔벤트를 제거하고 그리고 프린트 공정 후에 가능한 한 빨리 바니시 층을 응고시켜 높은 윤곽 선명성의 달성을 위한 흘러내림 방지를 위하여, 기판은, 예를 들어 프린트하는 동안 예열될 수도 있다.
도 1b는 제조 공정의 다음 단계를 나타낸다. 바니시 층(5)에 의한 기판(1)의 마스킹은 완료되어 있다. 기판(1)의 곡면(3)의 부영역(15)은 바니시 층(5)의 바니시에 의해 마스크되고, 한편 이와 대조적으로, 다른 부영역(17)은 바니시 층(5)의 패턴화 결과로서 마스크되지 않은 채 남아 있다. 진공 체임버(19) 내에, 패턴화된 바니시 층(5)이 제공된 기판(1)을 상징적으로 도시된 코팅 소스(coating source)(21) 내에 또는 맞은 편에 배치한다. 이 때에, 진공화된 코팅 체임버(19) 내에서, 코팅 소스(21)는 패턴화된 바니시 층(5)이 제공된 기판(1)의 곡면(3)상에 광학층의 진공 증착을 위해 사용된다.
광학 코팅의 진공 증착은, 예를 들어 물리적 증기 증착에 의한 층의 증착을 포함한다. 일 개선예에 따르면, 이러한 목적을 위해 코팅 소스(21)는 기화 장치를 포함하고, 이 때에 광학 코팅의 도포는 증기 증착에 의한 층의 도포를 포함한다. 다른 개선예에 따르면, 광학 코팅의 도포에는 층의 스퍼터링(sputtering)이 포함된다. 이 경우, 코팅 소스(21)는 스퍼터 소스이다.
또한, 광학 코팅 또는 이러한 코팅의 구성 요소는 적절히 설계된 코팅 소스(21)를 통해 화학적 증기 증착법에 의해 표면(3)상에 마찬가지로 증착된다. 이러한 실시예의 바람직한 개선예에서는 플라즈마-펄스 유도 화학적 증기 증착(PICVD: plasma-pulse induced chemical vapor deposition)에 의해 층이 만들어진다. 이를 위하여, 코팅 소스(21)는, 예를 들어 가스 상태의 유리물(遊離物)인 적당한 전구 가스(precursor gas)를 위한 가스 입구와, 전구 가스 분위기에서 플라즈마 펄스를 발생시키는 펄스 전자기파 발생용 장치를 포함한다. 반응 물질은 플라즈마 상태로 생성되어 표면(3)상에 증착되고 서로 반응하여서, 표면(3) 상에 층이 증착된다.
진공 증착에 의해 코팅 기판(1)이 도 1c에 도시된다. 전술한 방법의 단계와 동일한 방식으로, 표면(3)상의 부영역(15)은 마스크되고 다른 부영역(17)은 마스크되지 않는 방식으로, 패턴화된 바니시 층(5)의 형태가 곡면(3)상에 마스크된다. 마스킹을 포함한 광학 코팅(23)이 진공 증착에 의해 표면(3) 위로 도포된다. 패턴화된 바니시 층(5)에 의해 마스크되지 않은 부영역(17)에서, 상기 코팅은 기판(1) 또는 그 표면(3)과 접촉한다. 다음 단계는 마스킹을 제거하는 것이다. 이를 위하여, 바니시 층은 적당한 솔벤트에 의해 용해되거나 에칭 등이 된다. 다른 선택으로는 바니시 층을 부풀리는 것이다. 칼륨 또는 소다와 같은 가성 소다가 이러한 목적으로 사용된다. 바니시 층을 제거하기 위해 부풀림을 이용하는 것은 진공에서 낮은 가스 이탈율(outgassing rate)과 양호한 온도 저항을 가지는 스톱 바니시를 사용할 때 특히 적당하다.
두 경우 모두에서, 패턴화된 바니시 층(5)은 곡면(3)으로부터 제거되어서, 바니시 층(5)상의 마스킹된 부영역(15)에 위치한 광학 코팅(23)도 또한 제거되고, 표면(3)상에는 패턴화된 바니시 층(5)에 의해 덮이지 않았던 부영역(17)의 광학 코팅(23)만이 남게 된다.
도 1d는 본 발명의 상기 실시예의 생산물로서 본 발명에 따라 코팅 기판의 예시적인 일 실시예를 나타낸다. 따라서, 이와 같이 코팅 기판(1)의 곡면(3)에는, 상기 표면(3)상에서 적어도 하나의 부영역(27)에 광학 코팅(25)이 존재하고 적어도 하나의 인접한 부영역(29)에 광학 코팅이 없는 방식으로, 패턴화된 광학 코팅(25)이 제공된다.
이 경우, 패턴화된 광학 코팅(25)은, 전술한 바와 같이, 마스크된 영역(15)상에서 광학 코팅(23)과 함께 바니시 층(5)을 제거함으로써 제조된다. 이에 따라, 패턴화된 광학 코팅(25)에 의해 덮인 상기 부영역(27)들은 패턴화된 바니시 층(5)에 의해 덮이지 않았던 곡면(3) 영역에 해당하고, 한편, 어떠한 광학 코팅(25)도 없는 인접한 부영역(29)들은 이전에 패턴화된 바니시 층(5)에 의해 덮였던 영역(15)에 해당한다.
도 2는, 도 1a 내지 도 1d를 참조하여 기술된 방법의 단계를 변형하여 얻어질 수 있는, 본 발명에 따른 코팅 기판(1)의 또 다른 예시적인 실시예를 나타낸다.
도 1d에 도시된 실시예와 비교하여, 도 2에 도시된 코팅 기판(1)은 층(31, 32, 33)들을 구비한 패턴화된 다층 광학 코팅(25)을 가진다. 이와 같은 다층 광학 코팅(25)은 도 1b에 도시된 진공 또는 코팅 체임버(19) 내에서 적당한 코팅 소스(21)에 의해 연속적으로 다수의 층(31, 32, 33)을 증착함으로써 도포될 수 있다. 예를 들어, PICVD 장치 형태의 코팅 소스(21)를 사용하여 각 층에 가스 분위기의 구성 성분을 변경함으로써 패턴화된 다층 광학 코팅(25)을 도포할 수 있다.
도 2에 도시된 광학 코팅(25) 층의 수는 물론 예시적일 뿐이다. 예를 들어, 간섭 필터층(interference filter layer)이 증착된다면, 삼층(31, 32, 33) 이상일 수도 있다. 단 하나의 예를 든다면, 도 2에 도시된 삼층 코팅은 패턴화된 블루밍(patterned blooming)으로 사용될 수 있다.
일반적으로, 목적에 따라서, 도 1d 또는 도 2에 도시된 패턴화된 광학 코팅(25)은 부분적으로 또는 완전히 반사하는 반사층, 채색된 반사 광학층(colored-reflective optical layer), 간섭층 및/또는 채색 또는 흡수 층을 또한 포함한다.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 또 다른 실시예의 여러 변형예에 기초하여 곡면을 갖는 본 발명에 따라 코팅 기판의 제조 방법의 단계를 나타낸다. 도 3a 내지 도 3d를 참조하여 기술될 본 방법의 상기 실시예에 따르면, 이 경우, 기판(1)의 마스킹에는 제1 마스킹(35)의 도포와 제1 마스킹에 겹치는 제2 마스킹(37)의 도포가 포함된다.
우선, 도 3a는 도1a와 유사한 형태로 도시된 프린트 헤드(7)에 있는 컴퓨터 제어된 노즐(9)로 바니시 층(5)이 프린트되는 기판(1)의 마스킹을 나타낸다. 도 3a에 도시된 예시적인 실시예에서는, 광학 렌즈(101)가 기판으로 사용된다.
도 1a 내지 도 1d를 참조하여 기술된 실시예와 비교하여, 윤곽에 근사한 마스크될 부영역(15)만이 프린트되며, 이것은 나중에 도포될 광학 코팅 패턴의 선명한 윤곽을 제조하는 데 사용될 제1 마스킹(35)을 만들기 위한 것이다. 하나 또는 다수의 부영역(15)의 나머지 표면에는, 예를 들어 제1 마스킹(35)인 바니시 층(5)에 겹쳐지는 제2 마스킹(37)이 제공된다. 도 3b 내지 도 3d는 이와 같이 겹쳐진 제1 및 제2 마스킹(35, 37)의 예시를 나타낸다.
도 3b에 도시된 예시에서, 기판의 마스킹에는 미리 형성된 기계적 마스크(mechanical mask)(39)의 배치가 포함되며, 이 예시에서, 기계적 마스크(39)는 곡면(3)의 부영역(15)을 위한 제2 마스킹으로 사용된다. 예를 들어, 마스크(39)는 플라스틱 필름, 금속 포일 또는 그 외의 템플레이트(template)로 구성되는 윤곽 마스크일 수 있다. 이러한 마스크를 사용하면 진공에서 바니시 층(5)의 과도한 가스 이탈을 피하고자 하는 경우에 이점이 있다. 도포된 바니시의 양은 이 경우에서처럼 기계적 마스크와 같은 추가적인 마스크를 사용함으로써 상당히 감소될 수 있다.
도 3c와 도 3d는 또 다른 선택을 나타낸다. 이 예들에서도, 바니시 층(5)은 제1 마스킹(35)으로 사용된다. 제2 바니시 층(6)은 제1 마스킹(35)에 겹치는 제2 마스킹으로 사용된다. 도 3에 도시된 예시에서, 제1 바니시 층(5)이 도포된 후에, 부영역(15)의 마스킹의 내부 부위를 형성하는 제2 바니시 층(6)이 도포된다. 이 경우, 바니시 층(5)은 하나 또는 다수인 부영역(15)의 윤곽을 형성한다.
그렇지만, 도 3d를 참조하여 기술되는 것처럼, 우선 바니시 층(6)에 의해 형성된 마스킹(37)에 의해 영역(15)의 내부 부분을 제공한 다음, 마스킹(37)에 겹치는 추가적인 마스킹(35)에 의해 윤곽-형성 테두리(contour-forming edge)를 마찬가지로 제공할 수도 있다. 마스킹(35, 37)들 또는 바니시 층(5, 6)들에는 동일한 바니시들과 상이한 바니시들 모두가 사용될 수 있다. 예를 들어, 외부 마스킹(35)으로는 특히 양호하고 정확하게 도포될 수 있으며 비교적 온도 저항성이 있는 스톱 바니시가 사용될 수 있다. 이 때에, 내부 마스킹(37)으로는 곡면(3)으로부터 용이하게 떼어낼 수 있는 풀-오프 바니시가 사용될 수 있다.
그 다음, 도 3a 내지 도 3d에 도시된 것처럼 마스크된 기판(1)은 도 1b 내지 도 1d를 참조하여 기술된 바와 같이 코팅될 수 있고, 상기 마스킹은 그 위에 증착된 광학 코팅과 함께 제거되어 도 1d 또는 도 2에 도시된 것과 같은 코팅 기판(1)이 제조될 수 있다. 이 경우, 도 3b에 도시된 예시의 마스크(39)는, 선택적으로, 기판이 진공 체임버(19) 내에 위치된 다음에야 비로소 표면(3) 전방에 배치될 수도 있다.
도 4a와 도 4b는 표면(3)의 마스킹에 대한 또 다른 실시예를 나타낸다. 이 경우에도, 광학 렌즈(101)가 패턴화된 광학층으로 코팅하기 위한 기판(1)으로 제공된다. 이 실시예에서, 포토레지스트와 이에 후속하는 포토레지스트의 노출 및 현상에 의한 코팅에 의해 마스킹이 실행된다. 도시된 예시적인 실시예에서의 코팅은 표면 위로 포토레지스트(40)를 도포하여 실행된다. 도포 공정은 통상의 방식인 표면 위로의 롤링(rolling) 등에 의해 실행될 수 있다. 그 다음에, 포토레지스트(40)는 노출되고 소정의 마스킹 패턴에 해당하도록 현상되어서, 도 4b에 개략적으로 도시된 패턴화된 바니시 층(5)이 기판(1)의 곡면(3)상의 마스킹으로 제조된다.
이러한 방식으로 마스크된 기판은 도 1b 내지 도 1d를 참조하여 설명된 것처럼 후속 처리되어, 패턴화된 광학 코팅을 구비한 본 발명에 따른 코팅 기판을 제조할 수 있다.
전술한 예시적인 실시예는 단 하나의 광학 코팅을 가진다. 그렇지만, 본 발명에 따른 방법은 그 모두가 또한 패턴화된 두 개 이상의 상이한 또는 동일한 광학 코팅을 도포하는 데에도 물론 사용될 수 있다. 이러한 예시적인 실시예는 도 5 내 지 도 7에 보여진다.
도 5는 전구(100)를 기판(1)으로 하는 하나의 예시적인 실시예를 나타내며, 전구(100)의 외부 곡면상에는 두 개의 광학 코팅(251, 252)이, 예들 들어 도 1a 내지 도 1d를 참조하여 기술된 바와 같은 본 발명에 따른 방법을 사용하여 연속적으로 도포되어 있다. 부영역(271과 272)에 인접한 영역에서 각각의 코팅(251, 252)이 되어 있지 않은 채, 층(251, 252) 각각은 곡면(3)의 부영역(271과 272)들을 덮는다. 도 5에 도시된 예시적인 실시예에서, 패턴화된 광학층(251, 252)들은 겹쳐진다. 더욱이, 도 5에 도시된 예시에서 두 개의 광학층(251, 252)의 재료는 또한 동일할 수 있다. 그렇지만, 예를 들어, 광학층들(251, 252)이 상이한 광학 효과를 만들어 내도록 광학층의 두께가 서로 다를 수 있다.
상기 예시적인 실시예에서, 패턴화된 광학층(251)이 우선 도포되어, 전구(100) 또는 기판의 대칭 축(43) 주위의 원형 영역을 덮고 이에 따라 원형 스폿(spot)으로 패턴화된다. 그 다음에, 곡면(3)의 환형 부영역(272)에 광학 코팅을 제공하여 광학 코팅에 의해 덮이도록 패턴화된 제2 코팅(252)을 도포한다. 도 5에 도시된 예시적 실시예에서, 이러한 광학 코팅(252)의 환형 패턴은 원형 형상으로 패턴화된 광학층(251)의 가장자리에 겹친다.
도 6은 다수의 광학 코팅을 구비한 또 다른 예시적인 실시예의 기판(1)을 절단한 단면도를 나타낸다. 이 예시적 실시예에서, 기판(1)에 도포된 제1 광학 코팅(26)은 패턴화되지 않은 채 전체 곡면(3)을 덮는다. 본 발명에 따라 도포된 패턴화된 광학 코팅(25)은, 제1 광학 코팅(26) 위에 위치하며 도 5에 도시된 광학 코팅 (252)과 유사한 형태로 패턴화되어 있어서, 기판의 대칭 축 주위의 환형 영역(27)을 덮으며 그리고 대칭 축(43) 주위의 원형 영역은 덮지 않는다.
도 7에 도시된 예시적인 실시예에서, 상이한 광학 특성을 가지는 두 개의 패턴화된 광학 코팅(251, 252)이 표면(3)상에 증착된다. 이러한 코팅 각각은 상이하고 겹치지 않는 부영역(271, 272)들을 덮으며, 층(251, 252)들 사이에는 어떠한 틈도 없다. 예를 들어, 층(251, 252)들은 상이한 반사 또는 흡수 특성을 가질 수 있다.
본 발명에 따른 방법에 의하면 층(251, 252)들은 선명한 윤곽을 구비하여 잘 한정된 형태로 증착될 수 있다. 이와 같이, 층들의 패턴은 예를 들어 정밀하게 위치되어서 두 개의 층(251, 252)은 본 예시에서처럼 층들 사이에 어떠한 공간도 없이 또는 어떠한 큰 틈도 없이 서로 인접한다. 첫 번째의 패턴화된 광학 코팅(251 또는 252) 각각에 의해 덮이는 하나 또는 다수의 부영역(271, 272)은 각각의 부영역(292 및 291)에 해당하며, 부영역(292 및 291) 각각에는 다른 패턴화된 광학 코팅(251, 252)이 존재하지 않는다.
도 8과 도 9는 광학 코팅이 제공된 렌즈(101)를 기판(1)으로 하는 본 발명에 따른 또 다른 실시예를 나타낸다. 이러한 예시적인 실시예에서, 각 경우의 패턴화된 광학 코팅은 시각적인 정보를 포함한다. 도 8과 도 9는 시각적인 정보로서 각인(inscription)을 보이고 있지만, 상기 정보는 로고 또는 심볼의 형태일 수도 있다.
도 8에 도시된 예시적인 실시예에서, 곡면(3)의 코팅되지 않은 부영역(29)들에 의하여 렌즈(101)의 곡면(3)상에 각인이 형성되어 있고, 여기서 각인 형상의 영 역에는 패턴화된 광학 코팅(25)이 존재하지 않는다. 그렇지만, 도 9에 도시된 것과 같이 패턴화된 코팅(25)도 또한 마찬가지로 가능하다. 이 예시적인 실시예에서는, 각인에 일치하도록 패턴화된 광학 코팅으로 코팅된 부영역(27)들에 의해 각인이 형성된다.
도 8과 도9에서 렌즈(101)상에 로고 또는 각인에 의해 패턴화된 본 발명에 따른 광학 코팅(25)은 특히 부분적으로 또는 완전히 반사하는 반사층, 채색된 반사 광학 코팅, 간섭층 및/또는 채색 또는 흡수 층을 포함한다.
도 10은 도 8 또는 도 9에 예시로서 도시된 것과 같은 본 발명에 따라 코팅된 렌즈의 예시적인 일 실시예를 나타낸다. 도 10은 스포트라이트 또는 헤드라이트(110)들을 구비한 자동차(105)의 정면도를 나타낸다. 자동차(105)의 스포트라이트 또는 헤드라이트(110)들 각각은 코팅된 프로젝션 렌즈(101)들의 형태로 본 발명에 따라 코팅 기판(1)을 가진다. 이 경우, 강학 코팅(25)은 렌즈(101)들의 굴절면들 모두에 또는 그 중 하나에 제공된다. 프로젝션 렌즈(101)들상의 광학 코팅(25)은, 도 8 또는 도 9에 도시된 예시적인 실시예와 유사한 방식으로, 특히 시각적인 정보의 형태로 패턴화되어 있다. 특히, 본 예시적인 실시예의 경우에, 코팅은 로고 형태로 패턴화될 수 있고, 도 10에는 단지 예시로서 이탤릭체 "L"자의 형태인 로고가 코팅(25)에 의해 형성되어 있다. 예를 들면, 패턴 코팅(25)은 자동차 제조회사의 로고 또는 각인의 형태로 패턴화된다. 스포트라이트 또는 헤드라이트가 꺼져있는 경우 또는 주차등이 켜졌을 때처럼 약간 밝혀진 경우에 로고가 보이게 되어 매력적이며 장식적인 효과를 만들어낸다.
추가로 또는 선택적으로, 예를 들어 도 1d, 도 2 및 도 5 내지 도 7에 개략적으로 도시된 것처럼, 본 발명에 따라 코팅된 전구를 가지는 라이트를 사용할 수도 있다. 도 11은 특히 자동차 분야에서 바람직한 조명 특성을 가지는 라이트의 예시적인 일 실시예를 나타낸다.
램프(112) 형태의 라이트는 전구(100)를 포함한다. 예시로서, 전구(100)는 둥그런 단부가 있는 세장형 원통 형상이다. 전구(100)의 외부 곡면에는 광학 코팅(25)이 제공되고, 상기 광학 코팅은 전구(100) 곡면(3)의 부영역(27)을 덮는 형태로 그리고 인접한 부영역(29)들에는 광학 코팅이 되어 있지 않은 형태로 패턴화되어 있다. 광학 코팅(25)은 예를 들어 방출된 광선을 채색하는 다층 간섭 필터 코팅을 포함한다. 이러한 코팅 패턴은 광선에 의해 발생되는 라이트 필드(light field)의 구간 또는 공간각 범위에서 채색과 음영 효과를 만들어 내어, 예를 들어 눈부심 효과를 감소시킨다.
도 12는 자동차의 스포트라이트 또는 헤드라이트용 등으로 사용되기에 바람직한 코팅된 전구를 구비한 라이트의 다른 예시를 나타낸다. 램프(112) 형태의 라이트는 그 외부 곡면에 광학 코팅(251, 252)이 제공된 전구(100)를 포함하며, 이 예시에서, 축(113) 주위의 원형 영역(29)은 광학 코팅으로 덮이지 않은 채, 축(113) 주위의 환형 영역은 상기 광학 코팅으로 덮여 환형 패턴의 광학 코팅(251, 252)이 제공된다.
광학층(251, 252) 각각은, 예를 들어 도 2의 예시에 의해 개략적으로 도시된 다수의 간섭층을 포함한다. 이 때에, 광학층은 전구(100)로부터 방사된 광선의 색 채 및/또는 휘도 필터링을 제공하는 데 사용될 수 있다.
광선에 의해 발생되는 라이트 필드는 광학층(251, 252)의 패턴에 의해 영향을 받는다. 도 11의 예시에 의해 보여지는 배치는, 광학층(251, 252)이 상이한 색채 필터링 또는 음영을 가지는 경우라면, 예를 들어 축(113)에 대해 상이한 채색 및/또는 밝기의 공간각 범위(115, 116, 117)를 이끌어낸다. 이러한 효과는, 자동차의 스포트라이트 또는 헤드라이트 등의 라이트 필드에 영향을 주어, 예를 들어 눈부심 효과를 방지하기 위하여 사용될 수 있다.
도 11 또는 도 12에 도시된 예시적인 실시예의 패턴화 형태는 물론 단순히 설명을 위한 것이다. 광학층(251, 252)은, 예를 들어 비대칭 환형이거나 또는 전구의 외부 곡면에서 또 다른 소정 형상의 부영역들을 덮을 수도 있다. 이 경우, 광학층의 형상과 상이한 층들의 수는 특히 라이트 필드의 소정 형상에 부합된다.
본 발명이 전술한 예시적인 실시예들에 국한되지 않고 여러 방식으로 변경될 수 있다는 것은 당업자에게 자명하다. 특히, 개별적인 예시적 실시예의 특징들은 서로 조합될 수도 있다.
본 발명에 의해 제조된 패턴화된 광학 코팅을 가지는 곡면의 기판은, 패턴화된 광학층을 구비한 기판의 코팅 방법을 개선함으로써, 컴퓨터 제어 노즐(computer-controlled nozzle)과 진공 증착 방법에 의해 곡면에도 윤곽 테두리가 잘 한정되며 선명한 패턴화된 광학 코팅을 가질 수 있으며, 진공 상태에서 코팅될 수 있는 기판이라면 기판의 종류에 어떠한 제한도 없다. 자동차의 스포트라이트 또 는 헤드라이트(110)에 코팅된 프로젝션 렌즈의 형태로 본 발명에 따른 코팅 기판을 적용하는 경우에는 자동차 제조회사의 로고를 패턴화함으로써, 장식적인 효과뿐만 아니라 운전자의 눈부심을 방지하는 효과도 발휘할 수 있다.

Claims (45)

  1. 곡면의 부영역(subarea)을 덮는 마스킹을 곡면에 도포하는 단계와,
    진공 증착 방법을 사용하여 광학 코팅을 도포하는 단계와,
    상기 마스킹을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 광학 코팅의 도포는 물리적 증기 증착(PVD: physical vapor deposition)에 의한 층의 증착을 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 광학 코팅의 도포는 증기 증착에 의한 층의 도포를 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 광학 코팅의 도포는 층의 스퍼터링(sputtering)을 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 광학 코팅의 도포는 화학적 증기 증착(CVD: chemical vapor deposition)에 의한 층의 도포를 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 층은 플라즈마-펄스 유도 화학적 증기 증착(PICVD: plasma- pulse induced chemical vapor deposition)에 의해 생성되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 기판의 마스킹은 바니시 층(vanish layer)의 도포를 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 바니시 층은 하나 이상의 컴퓨터 제어되는 노즐에 의해 도포되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 바니시 층은 프린트 헤드에 의해 프린트되는 것을 특징으로 하는 곡면 상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서,
    프린트 헤드 또는 노즐과 곡면 사이의 거리는 바니시 층을 도포하는 동안 수정되거나 재조정되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  11. 제8항 또는 제9항에 있어서,
    상기 바니시가 냉각되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 바니시가 노즐에 연결된 공급 탱크 내에서, 또는 공급 라인에서, 또는 노즐에서 냉각되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  13. 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 바니시가 가압되거나 또는 솔벤트(solvent)를 포함하는 분위기에서 도포되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  14. 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 바니시가 가열된 기판에 도포되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  15. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판의 마스킹은 포토레지스트(photoresist)에 의한 코팅과 상기 포토레지스트의 노출 및 현상을 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  16. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판의 마스킹은 풀-오프(pull-off) 바니시의 도포를 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  17. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판의 마스킹은 스톱(stop) 바니시의 도포를 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  18. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판의 마스킹은 기계적 마스크(mechanical mask)의 배치를 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  19. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판의 마스킹은 제1 마스킹의 도포와 상기 제1 마스킹에 겹치는 제2 마스킹의 도포를 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  20. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마스킹의 제거는 바니시 마스킹의 용해 또는 에칭(etching)을 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  21. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마스킹의 제거는 바니시 마스킹의 부풀림(swelling)을 포함하는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  22. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    다층 광학 코팅이 도포되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  23. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 부분적으로 또는 완전히 반사하는 반사층을 포함하는 광학층으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  24. 제23항에 있어서,
    채색된 반사하는 광학 코팅이 도포되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  25. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 간섭층(interference layer)을 포함하는 광학 코팅으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  26. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 채색 또는 흡수 층을 포함하는 광학 코팅으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  27. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    전구(電球)가 코팅되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  28. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    렌즈가 코팅되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  29. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    곡면의 상이한 부영역들에 마스킹과 진공 코팅에 의해 광학층이 연속적으로 제공되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  30. 제29항에 있어서,
    상기 부영역들에 상이한 층들이 제공되는 것을 특징으로 하는 곡면상에 패턴화된 광학 코팅을 가지는 기판의 제조 방법.
  31. 제1항, 제2항 또는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조될 수 있는 코팅 기판에 있어서,
    곡면을 구비하고,
    상기 곡면에는, 상기 표면의 적어도 하나의 부영역에 광학 코팅이 제공되고 이에 인접한 적어도 하나의 부영역에 광학 코팅이 제공되지 않도록 하여, 적어도 하나의 패턴화된 광학 코팅이 제공되는 것을 특징으로 하는 코팅 기판.
  32. 제31항에 있어서,
    전구를 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅 기판.
  33. 제31항에 있어서,
    렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅 기판.
  34. 제31항에 있어서, 상기 광학 코팅은,
    부분적으로 또는 완전히 반사하는 반사층, 채색된 반사하는 광학 코팅, 간섭층, 채색 또는 흡수 층 중 적어도 하나의 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅 기판.
  35. 제31항에 있어서,
    상기 광학 코팅은 다층 코팅을 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅 기판.
  36. 제31항에 있어서,
    유리, 유리-세라믹, 금속 또는 플라스틱 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅 기판.
  37. 제31항에 있어서,
    상기 곡면은 상이한 광학 코팅을 가지는 다수의 부영역을 구비하는 것을 특 징으로 하는 코팅 기판.
  38. 제31항에 있어서,
    시각적인 정보를 가지는 패턴화된 광학 코팅을 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅 기판.
  39. 제38항에 있어서,
    상기 패턴화된 광학 코팅은 각인된 시각적인 심볼, 로고를 표시하는 것을 특징으로 하는 코팅 기판.
  40. 제31항에 따른 코팅 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 자동차용 스포트라이트 또는 헤드라이트.
  41. 제40항에 있어서,
    상기 기판이 전구 또는 프로젝션 렌즈(projection lens)를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동차용 스포트라이트 또는 헤드라이트.
  42. 컴퓨터 제어되는 프린트 헤드가 코팅될 표면에 바니시를 도포하는 데에 사용되고, 프린트 헤드의 적어도 하나의 노즐과 곡형 또는 다각형 기판 표면 사이의 거리는 컴퓨터 제어에 의해 재조정되는 것을 특징으로 하는 곡형 또는 다각형 기판을 코팅하는 방법.
  43. 곡형 또는 다각형 기판의 표면을 바니시로 코팅하기 위한 컴퓨터 제어되는 프린트 헤드를 구비하고, 프린트 헤드의 적어도 하나의 노즐과 곡형 또는 다각형 기판 표면 사이의 거리를 컴퓨터 제어에 의해 재조정하기 위한 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 곡형 또는 다각형 기판을 코팅하기 위한 장비.
  44. 컴퓨터 제어되는 프린트 헤드가 코팅될 표면에 바니시를 도포하는 데에 사용되고, 프린트 헤드의 적어도 하나의 노즐과 곡형 및 다각형 기판 표면 사이의 거리는 컴퓨터 제어에 의해 재조정되는 것을 특징으로 하는 곡형 및 다각형 기판을 코팅하는 방법.
  45. 곡형 또는 다각형 기판의 표면을 바니시로 코팅하기 위한 컴퓨터 제어되는 프린트 헤드를 구비하고, 프린트 헤드의 적어도 하나의 노즐과 곡형 및 다각형 기판 표면 사이의 거리를 컴퓨터 제어에 의해 재조정하기 위한 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 곡형 및 다각형 기판을 코팅하기 위한 장비.
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