CN1721569B - 具有弯曲表面的涂层基底以及例如这种涂层基底的生产方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种在弯曲表面上具有形成图案的光学涂层的基底的生产方法,其中:覆盖弯曲表面子区域的掩模涂敷到弯曲表面,光学涂层使用真空沉积方法来涂敷,以及掩模被去除。可以特别地由该方法产生的涂层基底具有提供有至少一个形成图案的光学涂层的弯曲表面,使得光学涂层提供在该表面的至少一个子区域上而在至少一个相邻子区域上缺少。

Description

具有弯曲表面的涂层基底以及例如这种涂层基底的生产方法
技术领域
本发明涉及基底用光学层的涂敷,尤其涉及弯曲表面用例如这些层的涂敷。
背景技术
弯曲表面用光学层的涂敷区别于例如透镜提供有敷霜层的透镜制造。但是,层例如这些通常覆盖透镜的整个折射表面。
但是,另一方面,在适当情况下,也存在以结构化形成在其面积范围上向弯曲表面提供光学层的需求,以便作为实例,实现特殊的视觉效果。
本发明因此基于改进基底用光学层的涂敷使得层横向地构成,分割,或者沿着待涂敷的基底表面形成图案的目的。
这一目的借助于如独立的权利要求书中申请的方法和涂层基底、以非常令人惊讶地简单方法来实现。有利的改良和发展在各个相关权利要求中详述。
发明内容
因此,本发明提供一种在弯曲表面上具有形成图案或横向构成的光学涂层的基底的产生方法,其中覆盖弯曲表面的子区域的掩模涂敷到弯曲表面,光学涂层使用真空沉积方法涂敷,并且掩模被去除。
根据本发明的涂层基底,其可以特别地借助于根据本发明的方法产生,因此具有提供有形成图案的光学涂层的弯曲表面,使得光学涂层,特别是真空涂层,提供在该表面的至少一个子区域上,而在至少一个相邻或邻近子区域上缺少。在这种情况下,光学涂层在根据本发明的基底产生期间涂敷到基底、位于已经从掩模中切除的一个或多个子区域上,而在由掩模覆盖的相邻区域上缺少。
为了本发明的形成图案的涂层因此是已经沿着它的面积范围分割的涂层,分割的涂层具有至少一段。
由于掩模和光学涂层的真空沉积,本发明产生具有形成图案的光学涂层的弯曲基底,其中图案的轮廓的边缘明确且清晰。
关于本发明基底的适用性,不存在任何限制,只要基底可以在真空中涂敷。作为实例,玻璃,玻璃陶瓷,金属或塑料基底是可适用的。特别地,这打算包括光学元件作为基底的使用,以及它们通过本发明的改进。
各种真空沉积方法可适用于沉积处理。在这种情况下,沉积方法的选择可能取决于各种选择标准,包括待涂敷表面的涂层材料或几何形状的选择。根据本发明方法的一种实施方案,光学涂层的涂敷包括借助于物理汽相沉积(PVD)的层的沉积。这可能包括,例如层的汽相沉积或溅射。汽相沉积使得高沉积速率能够实现,而溅射也适用于难以汽化的材料。层也可以通过化学汽相沉积(CVD)来涂敷。例如,层可能通过等离子脉冲感应化学汽相沉积(PICVD)来沉积。
根据本发明另一种实施方案,基底的掩蔽包括清漆层的涂敷。为了产生在其面积范围上构成的清漆层,根据一种有利的发展、借助于例如至少一个计算机可控喷嘴来涂敷清漆层是可能的。适当适用的打印头特别适合于该目的,如例如在喷墨式打印机中使用的。压电喷射打印头和气泡喷射打印头可以使用。这使得在其面积范围上构成的清漆层能够通过将它打印在上面来产生,直接作为掩模或者作为待涂敷表面的掩模的一部分。
为了将打印头或喷嘴与弯曲表面之间的距离保持在容许极限内,例如,在高度弯曲表面的情况下,根据本发明该实施方案的一种发展,在清漆层涂敷期间,改变或重新调节打印头或喷嘴与弯曲表面之间的距离是可能的。
因此,本发明也包括一种用于弯曲和/或多边形基底的涂敷的方法和装置,其中清漆通过计算机可控打印头涂敷到待涂敷表面,打印头的至少一个喷嘴与弯曲和/或多边形基底表面之间的距离在计算机控制下通过适当的设备来重新调节。这使得清漆涂敷过程能够三维地控制。
清漆涂敷的各种措施是有利的,以便特别地在形成图案的清漆层中产生清晰的轮廓并且保证均匀打印的图像。例如,清漆可能被冷却。如果喷嘴用于清漆涂敷,例如,作为打印头的一个组件,在连接到喷嘴的供应容器中,在供应线中或者借助于喷嘴来冷却清漆也可能是有利的,以便减少涂敷前清漆中溶剂的蒸发,从而防止打印设备的堵塞。防止喷嘴或打印头堵塞的另一种可能方法是使基底在适当的气氛中打印。该气氛可能例如为此目的压缩,和/或可能是包含溶剂的气氛,以防止蒸干。
清漆一涂敷,又期望尽可能快地固化清漆,以防止它在弯曲表面上蔓延,从而实现良好的轮廓清晰度。去除包含的任何溶剂也是期望的,以减少清漆层在真空室中的除气。为此目的一种适当的措施是将清漆涂敷到加热的基底,以便加速溶剂的蒸发。
根据本发明又一种实施方案,基底的掩蔽也可能包括用光刻胶涂敷以及光刻胶的曝光和显影。
根据本发明再一种实施方案,可剥离清漆用于掩蔽。一旦涂敷处理已经完成,这可以容易地从基底分离。
本发明一种优选实施方案规定基底的掩蔽包括阻挡清漆的涂敷,如作为实例在印制电路板技术中用作焊接阻挡清漆的。该清漆已经发现与真空特别相容,并且当经受涂敷期间发生的温度荷载时是热稳定的。
本发明的另一种实施方案规定该基底的掩蔽包括机械掩模的布置。这是可重用的并且适用于覆盖较大的区域,而没有真空中的除气。作为实例,裁减以匹配待沉积光学涂层图案的预先形成的金属箔或塑料片可以用作掩模。因为它的低除气速度和耐热性,作为实例,聚酰亚胺,例如适合于用作例如这种掩模的塑料。
特别地,各种掩蔽方法也可能有利地彼此组合。因此,本发明一种有利的发展规定基底的掩蔽包括第一掩模和与第一掩模重叠的第二掩模的涂敷。这使得能够例如将具有明显、轮廓清晰边界的精确构成的清漆层掩模与用于较大待覆盖区域的其他较粗糙的掩模组合起来。例如,使用可剥离清漆或机械掩模例如金属箔或聚酰亚胺片(例如片)的初始掩模可以与用于待覆盖区域边界的精确轮廓的清漆掩模一起使用。
根据本发明另一种实施方案,光学涂层沉积之后掩模的去除可能包括清漆掩模的溶解或刻蚀。然后,清漆掩模的溶解或刻蚀也使得位于清漆层上面沉积的光学涂层离开,使得根据掩模形成图案的光学涂层保留在基底弯曲表面中没有被掩模覆盖的那些子区域上。
去除掩模以及位于其上的光学涂层的另一种可能方法是清漆掩模的膨胀。例如,为此目的,清漆层可以用适当的碱液处理。膨胀处理导致清漆层从基底扯掉,并且与其上的光学涂层一起分离。
可以根据本发明产生的光学涂层也可能具有两层或多层。例如,多层涂层例如这种可能用作光学干涉层。
弯曲表面上光学涂层的另一种选择是包括部分或完全反射的反射层的涂层。层例如这种也可能是彩色反射层的形式。为了实现彩色效果,根据本发明,基底也可能提供有包括彩色或吸收层的形成图案的光学层。
大量基底适合于本发明的使用。本发明一种具体实施方案规定灯泡用作基底,且将被涂敷。根据本发明灯泡上的形成图案的光学涂层使得能够例如以高度定义的方式有利地影响灯泡的光场。
另一个具体实施方案规定透镜将作为基底被涂敷。具有形成图案的光学涂层的透镜例如这种也使得能够故意影响例如灯的光场。
根据本发明的方法的一种发展也规定弯曲表面的不同子区域通过掩蔽和真空涂敷依次提供有光学层。特别地,这也使得能够产生具有拥有不同光学特性的子区域的形成图案的光学涂层。为此目的,子区域可能有利地提供有不同光学涂层。例如,根据本发明、其弯曲表面具有两个或多个具有不同涂层的子区域的涂层基底可以用来在不同方向上或空间角度分段或区域中故意影响经过的光或反射的光。
作为实例,基底的弯曲表面的环形子区域可以提供有光学层,以便使用根据本发明的涂层基底、以期望的方式影响光学设备的光场。
另一种涂敷选择是包括可视信息的形成图案的涂层。该信息可以被观察者看到并且可以用作例如源信息。例如,涂层可能代表可视符号或标志,或者题字。为了用这种方法较小程度地影响光场或根本不影响光场,包含信息的涂层也可能是对照明基本不具有相关性的区域中的透明或部分透明涂层的形式。
本发明的一种预期实际应用是具有根据本发明的涂层基底的机动车辆聚光灯或前灯。作为聚光灯或前灯的组件,基底可能例如包括灯泡和/或投影透镜。然后,聚光灯或前灯的光场可以借助于灯泡例如根据本发明的这种或者借助于根据本发明的涂层投影透镜来影响,尤其为了降低对迎面而来车辆的驾驶员的耀眼效果。
附图说明
本发明将使用示范性实施方案并参考附图在下文中更详细地说明,其中相同或类似的元素提供有相同的参考符号,不同示范性实施方案的特征可以彼此组合。
在图中:
图1A~1D显示根据本发明具有弯曲表面的涂层基底的产生方法步骤,
图2显示图1D中说明的涂层基底的变体,
图3A~3D显示根据本发明另一种实施方案,根据本发明具有弯曲表面的涂层基底的产生方法步骤,
图4A和4B显示根据本发明再一种实施方案基底的掩蔽的方法步骤,
图5~7显示根据本发明具有两个或多个光学涂层的涂层基底的示范性实施方案,
图8和9显示根据本发明提供有光学涂层的透镜101的实例的视图,
图10显示根据本发明涂敷的透镜的应用实例,
图11显示灯的光场如何可以借助于根据本发明的灯泡来影响的实例,以及
图12显示灯的光场如何可以借助于根据本发明的灯泡来影响的另一个实例。
具体实施方式
基于本发明第一实施方案,根据本发明涂敷的基底1的产生方法步骤将参考图1A~1D来描述,其显示具有弯曲表面的基底1的示意横截面视图。
如图1A~1D中说明的,在弯曲表面上具有形成图案的光学涂层的基底的产生方法基于下面的想法:
-覆盖弯曲表面3的子区域的掩模涂敷到基底1的弯曲表面3,
-光学涂层使用真空沉积方法来涂敷,以及
-掩模被去除。
根据本发明该第一实施方案,其在图1A~1D中说明,基底1通过清漆(varnish)13的涂敷来掩蔽,其中清漆13借助于计算机可控喷嘴9来涂敷。根据方法的该实施方案,为此目的,清漆13通过具有喷嘴9并且连接到图1A中没有说明的计算机的打印头7来打印。打印头以及用于移动打印头7的设备由计算机控制。
可以通过真空沉积方法涂敷的任何期望材料可以用于基底。这的预期实例包括例如玻璃,玻璃陶瓷,陶瓷,塑料和/或金属。例如,如图1A~1D中所示,灯泡100可以用作基底1。也存在用作基底的透镜的根据本发明的涂敷的广阔范围的涂敷选择。
清漆13可能例如是光刻胶,可剥离清漆或者阻挡清漆,特别是例如来自印制电路板制造的焊接阻挡清漆。
喷墨式打印头特别适合于用作打印头7。打印头例如这种使得形成图案的清漆层5能够产生具有特别清晰、轮廓明确的边缘。
为了将打印头7例如其喷嘴9与弯曲表面3之间的距离保持在容许极限内,以便在清漆13涂敷期间在清漆层5上产生具有清晰边缘的图案,根据该实施方案的一种变体,该距离可以另外地通过适当的计算机可控设备来改变或重新调节。
各种另外的措施也可以采用以便改进清漆的涂敷。例如,清漆13可以在供应容器11中和/或在到喷嘴9的供应线中和/或另外在喷嘴中,特别通过冷却的喷嘴来冷却,以减少涂敷前清漆中溶剂的蒸发,从而防止打印头7中喷嘴的堵塞。打印处理也可以在适当的环境中,例如在压缩气氛中,和/或在包含溶剂的气氛中执行。
为了去除包含在清漆层5的清漆中的溶剂并且在打印处理后尽可能快地固化清漆层,并且防止蔓延以实现高的轮廓清晰度,基底也可能例如在打印期间预热。
图1B显示产生过程的另一个阶段。基底1用清漆层5的掩蔽已经完成。作为清漆5形成图案的结果,基底1的弯曲表面3的子区域15被清漆层5的清漆掩蔽,而相反地,其他子区域17保持开放。
提供有形成图案的清漆层5的基底1放置在真空室19中,相反地或者在示意说明的涂敷源21中。涂敷源21然后在真空的涂敷室19中使用,用于光学层在已经提供有形成图案的清漆层5的基底1的弯曲表面3上的真空沉积。
光学涂层的真空沉积可能包括例如借助于物理汽相沉积的层的沉积。根据一种发展,为此目的,涂敷源21可能包括蒸发设备,光学涂层的涂敷然后包括由汽相沉积的层的涂敷。根据另一种发展,光学涂层的涂敷包括层的溅射。在这种情况下,涂敷源21因此是溅射源。
光学涂层或该涂层的成分也可能同样地通过适当设计的涂敷源21借助于化学汽相沉积而沉积在表面3上。该实施方案的一种优选发展规定层借助于等离子脉冲感应化学汽相沉积(PICVD)产生。为此目的,涂敷源21包括例如适当气体前体例如气态离析物的进气口以及脉冲等离子通过其在气体前体气氛中产生的脉冲电磁波的产生设备。反应产物在等离子中产生,并且沉积在表面3上且可能彼此反应,使得层沉积在表面3上。
通过真空沉积涂敷的基底1在图1C中说明。以与先前方法步骤相应的方式,基底现在以弯曲表面3上形成图案的清漆层5的形式掩蔽,借助于此,表面3的子区域15被掩蔽而其他子区域17开放。光学涂层23借助于真空沉积涂敷在表面3包括掩模上。该涂层在由形成图案的清漆层5保持开放的那些子区域17中与基底14,或者与其表面3接触。下一步现在是去除掩模。为此目的,清漆层可能例如借助于适当的溶剂溶解或刻蚀。另一种选择是使得清漆层能够膨胀。碱液例如钾或钠碱液可能用于此目的。当使用此外具有良好耐热性和真空中低除气速度的阻挡清漆时,去除清漆层的膨胀的使用特别适用。
在两种情况下,形成图案的清漆层5从弯曲表面3去除,使得位于清漆层5上区域15中的光学涂层23也被去除,而保留在表面3上的全部是没有被形成图案的清漆层5覆盖的子区域17中的光学涂层23。
图1D说明作为方法该实施方案的产品、根据本发明的涂层基底的一种示范性实施方案。因此,该涂层基底1具有以这样一种方式提供有形成图案的光学涂层25的弯曲表面3,即光学涂层25存在于该表面3上至少一个子区域27中,而在至少一个相邻子区域29中缺少。
在这种情况下,如上所述,形成图案的光学涂层25通过清漆层5以及掩蔽区域15上的光学涂层23一起的去除来产生。因此,被形成图案的光学涂层25覆盖的那些子区域27对应于没有被形成图案的清漆层5覆盖的弯曲表面3的那些区域,而没有光学涂层25的相邻子区域29对应于先前被形成图案的清漆层5覆盖的那些区域15。
图2显示根据本发明的涂层基底1的另一种示范性实施方案,其可以通过参考图1A~1D描述的方法步骤的变体获得。
与图1D中所示示范性实施方案对比,图2中说明的涂层基底1具有拥有层31,32,33的多层形成图案的光学涂层25。多层光学涂层25例如这种可以通过借助于适当的涂敷源21在图1B中说明的真空或涂敷室19中依次沉积许多层31,32,33来涂敷。作为实例,PICVD设备形式的涂敷源21可以用来通过改变每层的气体气氛的成分来涂敷多层形成图案的光学涂层25。
图3中说明的涂层25的层数当然仅是说明性的。如果,作为实例,干涉滤光层被沉积,也可能存在多于三层31,32,33。为了引用仅一个实例,图2中说明的三层涂层可以用于形成图案的敷霜(patteredblooming)。
通常,依赖于目的,如图1D或2中说明的形成图案的光学涂层25可能同样包括部分或完全反射的反射层,彩色反射的光学层,干涉层和/或彩色或吸收层。
图3A~3D显示基于本发明另一种实施方案的各种变体、根据本发明具有弯曲表面的涂层基底的产生方法步骤。
根据方法的该实施方案,如将参考图3A~3D描述的,在这种情况下,基底1的掩蔽包括第一掩模35和与第一掩模重叠的第二掩模37的涂敷。
首先,图3A显示通过借助于打印头7中计算机可控喷嘴9打印清漆层5的基底1的掩蔽,如图1A中以类似的形式说明的。光学透镜101在图3A中所示的示范性实施方案中用作基底1。
与参考图1A~1D描述的实施方案对比,仅与轮廓接近的待掩蔽子区域15的区域被打印,以便产生第一掩模35,其用来产生随后涂敷的光学涂层的图案的清晰轮廓。一个或多个子区域15表面的剩余部分提供有与清漆层5,例如第一掩模35重叠的第二掩模37。图3B~3D显示这种重叠的第一和第二掩模35,37的实例。
在图3B中所示的实例中,基底的掩蔽包括预先形成的机械掩模39的布置,其在该实例中用作弯曲表面3的子区域15的第二掩模。例如,掩模39可能是由塑料膜或金属箔,或者一些其他样板组成的轮廓掩模。例如当目的是避免真空中清漆层5的过度除气时,掩模例如这种的使用是有利的。涂敷的清漆的量可以通过另一种掩模例如在这种情况下机械掩模的使用而显著减少。
图3C和3D显示另一种选择。同样在这些实例中,清漆层5用作第一掩模35。第二清漆层6用作第二掩模,其与第一掩模35重叠。在图3C中说明的实例中,形成子区域15掩模的内侧部分的第二清漆层6在清漆层5涂敷之后涂敷。在这种情况下,清漆层5形成一个或多个子区域15的轮廓。
但是,如将参考图3D描述的,首先向区域15的内侧部分提供由清漆层6形成的掩模37,然后向轮廓形成边缘区域提供与掩模37重叠的另一个掩模35同样是可能的。相同的清漆和不同的清漆都可能用于掩模35,37或清漆层5,6。例如,阻挡清漆可能用于外侧掩模35,其可以特别适当且精确地涂敷并且比较耐热。可剥离清漆然后可以用作内侧掩模37,其可以容易地从弯曲表面3脱离。
如图3A~3D中所示掩蔽的基底1然后可以被涂敷,如参考图1B~1D描述的,并且掩模可以与沉积在其上的光学涂层一起去除,以便产生涂层基底1,如图1D或2中所示。在这种情况下,作为选择,图3B中所示实例中的掩模39也可能不布置在表面3前面,直到基底已经放置在真空室19中。
图4A和4B显示表面3的掩蔽的再一种示范性实施方案。同样在这种情况下,光学透镜101提供为用形成图案的光学层涂敷的基底1。在该实例中,掩蔽通过用光刻胶涂敷以及光刻胶的随后曝光和显影来实现。说明的示范性实施方案中的涂层通过光刻胶40在表面上的涂敷来实现。涂敷处理可能例如通过滚涂其上以普通方式实施。然后光刻胶40与掩模的期望图案形成相对应地曝光和显影,使得如图4B中示意说明的形成图案的清漆层5产生作为基底1的弯曲表面3上的掩模。
以这种方法掩蔽的基底然后可以如参考图1B~1D说明地进一步处理,以便产生根据本发明具有形成图案的光学涂层的涂层基底。
上述示范性实施方案具有单个光学涂层。但是,当然,根据本发明的方法也可以用来涂敷两个或多个不同或相同的光学涂层,其特别地也可能全部形成图案。示范性实施方案例如这些在图5~7中说明。
图5显示灯泡100作为基底1的一种示范性实施方案,两个光学涂层251,252已经使用根据本发明的方法,例如参考图1A~1D中描述的,依次涂敷在其弯曲外表面上。层251,252分别覆盖弯曲表面3的子区域271和272,其中各个涂层251,252分别在与子区域271和272相邻的区域中缺少。在图5说明的示范性实施方案中,形成图案的光学层251,252也重叠。此外,图5中所示实例中的两层251和252的层材料也可能是相同的。但是,作为实例,层251,252的厚度可能不同,使得层产生不同的光学效果。
在该示范性实施方案中,形成图案的光学层251首先涂敷,覆盖围绕灯泡100或者基底的对称轴43的圆形区域,因此形成图案为圆点。第二涂层251然后涂敷,其形成图案以便向弯曲表面3的环形子区域272提供光学涂层,例如由它覆盖。在图5所示的示范性实施方案中,光学涂层252的该环形图案与以圆形形成图案的层251的边缘重叠。
图6显示通过具有许多光学涂层的另一种示范性实施方案的基底1的横截面视图。在该示范性实施方案中,第一光学涂层26涂敷到基底1,没有形成图案而覆盖整个弯曲表面3。根据本发明涂敷的形成图案的光学涂层25位于其上并且以与图5中所示光学涂层252类似的形式形成图案,使得它覆盖围绕基底对称轴的环形区域27,并且保持围绕对称轴43的圆形区域自由,或者不被层25覆盖。
在图7中说明的示范性实施方案中,具有不同光学特性的两个形成图案的光学涂层251,252沉积在表面3上。这些涂层分别覆盖不同、不重叠的子区域271,272,而在层251,252之间没有任何间隙。例如,层251,252可能具有不同的反射或吸收特性。
根据本发明的方法使得层251,252能够以具有清晰轮廓的明确形式沉积。作为实例,层的图案形成因此可能如此精确地放置,以致两个层251,252彼此相邻,如在该实例中,而它们之间没有任何空间或者没有任何显著间隙。分别被第一形成图案的光学层251或252覆盖的一个或多个子区域271,272因此对应于各自的子区域292和291,其在每种情况下保持没有另一个形成图案的光学涂层251,252。
图8和9显示作为基底1、提供有光学涂层的透镜101的根据本发明的另外实例的视图。在这些示范性实施方案中,每种情况下形成图案的光学涂层包括可视信息。图8和9显示题字作为可视信息,虽然信息也可能是标志或符号的形式。
在图8中所示的示范性实施方案中,题字由弯曲表面3的未涂敷子区域29形成在透镜101的弯曲表面3上,以题字形式形成图案的光学涂层25在其中缺少。但是,如图9中说明的形成图案的涂层25同样也是可能的。在该示范性实施方案中,题字由形成图案以与该题字相对应的光学涂层的涂敷子区域27来形成。
在图8和9中的透镜101上以标志或题字形成图案的、根据本发明的光学涂层25可能特别地包括部分或完全反射的反射层,彩色反射的光学涂层,干涉层和/或彩色或吸收层。
图10显示如图8或9中作为实例说明的、根据本发明涂敷的透镜的一种示范性实施方案。图10显示具有聚光灯或前灯110的机动车辆105的前视图。机动车辆105的聚光灯或前灯110每个具有涂层投影透镜101形式的、根据本发明涂敷的基底1。在这种情况下,光学涂层25可能提供在透镜101的一个或全部两个折射表面上。投影透镜101上的光学涂层25,以与图8或9中所示示范性实施方案类似的方式,特别地以可视信息的形式形成图案。特别地,在该示范性实施方案的情况下,涂层可能以标志的形式形成图案,其中由图10中的涂层25形成的标志仅作为实例,以斜体“L”的形式用符号表示。作为实例,图案涂层25可能以机动车辆制造商的标志或题字的形式形成图案。然后,当聚光灯或前灯关闭时或者当轻微地照明时,例如当停车灯打开时,该标志可见,并且产生有吸引力的装饰效果。
除此之外或另外地,也可能使用具有如例如在图1D,2和5~7中示意说明的、根据本发明涂敷的灯泡的灯。图11显示同样特别用于汽车领域的、具有有利发光特性的灯的一种示范性实施方案。
灯112形式的灯包括灯泡100。作为实例,灯泡100具有拥有圆形终端的细长圆柱形状。灯泡100的弯曲外表面提供有以这样一种形式形成图案的光学涂层25,即它覆盖灯泡100的弯曲表面3的子区域27,而相邻子区域29保持自由。光学涂层25可能例如包括使发出的光具有颜色的多层干涉滤光层。该涂层图案因此在由灯产生的光场的扇区或空间角度范围中产生彩色和阴影效果,例如以便减小耀眼效果。
图12显示如可能有利地用于例如机动车辆聚光灯或前灯的具有涂层灯泡的灯的另一个实例。灯112形式的灯包括其弯曲外表面提供有光学涂层251,252的灯泡100,该光学涂层覆盖围绕轴113的环形区域,而围绕轴113的圆形区域29在该实例中保持自由,或者没有被具有环形图案的光学涂层覆盖。
光学层251,252可能例如每个包括具有如作为实例在图2中示意说明的多层的干涉层。然后,光学层可以用来提供从灯泡100发出的光的彩色和/或亮度过滤。
由灯产生的光场受光学层251,252的图案形成所影响。如果光学层251,252具有不同的彩色滤光或阴影,作为实例在图11中显示的方案导致例如围绕轴113的不同彩色和/或亮度空间角度范围115,116,117。该效果可能被利用,例如以影响机动车辆聚光灯或前灯的光场,例如为了避免耀眼效果。
图11和12中所示示范性实施方案中图案形成的形式,当然是纯粹说明性的。光学层251,252也可能例如是非对称的环形,或者可能覆盖灯泡弯曲外表面的子区域的任何其他期望形状。在这种情况下,光学层的形状和不同层的数目可能特别地与光场的期望形状相匹配。
如对本领域技术人员显然的,本发明并不局限于上述示范性实施方案,而是事实上,可能以许多方法改变。特别地,各个示范性实施方案的特征也可能彼此组合。

Claims (29)

1.一种基底的产生方法,该基底在弯曲表面上具有形成图案的光学涂层,包括步骤:
-将覆盖该弯曲表面的子区域的第一掩模和与第一掩模重叠的第二掩模涂敷到弯曲表面以便进行基底的掩蔽,
-光学涂层使用真空沉积方法来涂敷,以及
-将所述第一掩模和第二掩模去除。
2.根据权利要求1的方法,其中光学涂层的涂敷包括借助于物理汽相沉积的层的沉积。
3.根据权利要求1的方法,其中光学涂层的涂敷包括借助于汽相沉积来涂敷层。
4.根据权利要求1的方法,其中光学涂层的涂敷包括层的溅射。
5.根据权利要求1的方法,其中光学涂层的涂敷包括借助于化学汽相沉积来涂敷层。
6.根据权利要求5的方法,其中所述层借助于等离子脉冲感应化学汽相沉积产生。
7.根据权利要求1的方法,其中基底的掩蔽包括涂敷清漆层作为第一掩模或第二掩模。
8.根据权利要求7的方法,其中清漆层借助于至少一个计算机可控喷嘴涂敷。
9.根据权利要求8的方法,其中清漆层借助于打印头来打印上。
10.根据权利要求9的方法,其中打印头或喷嘴与弯曲表面之间的距离在清漆层涂敷期间被改变或重新调节。
11.根据权利要求8的方法,其中清漆被冷却。
12.根据权利要求11的方法,其中清漆在连接到喷嘴的供应容器中、或者借助于供应线,或者借助于喷嘴来冷却。
13.根据权利要求7的方法,其中清漆在压缩或包含溶剂的气氛中涂敷。
14.根据权利要求7的方法,其中清漆涂敷到加热的基底。
15.根据权利要求1的方法,其中基底的掩蔽包括用光刻胶涂敷以及对光刻胶曝光和显影作为第一掩模或第二掩模。
16.根据权利要求1的方法,其中基底的掩蔽包括涂敷可剥离清漆作为第一掩模或第二掩模。
17.根据权利要求1的方法,其中基底的掩蔽包括涂敷焊接阻挡清漆作为第一掩模或第二掩模。
18.根据权利要求1的方法,其中基底的掩蔽包括布置机械掩模作为第二掩模。
19.根据权利要求1的方法,其中掩模的去除包括清漆掩模的溶解或刻蚀。
20.根据权利要求1的方法,其中掩模的去除包括清漆掩模的膨胀。
21.根据权利要求1的方法,其中多层光学涂层被涂敷。
22.根据权利要求1-21中任一个的方法,其中基底以包括部分或完全反射的反射层的光学层来涂敷。
23.根据权利要求22的方法,其中彩色反射的光学涂层被涂敷。
24.根据权利要求1-21中任一个的方法,其中基底以包括干涉层的光学涂层来涂敷。
25.根据权利要求1-21中任一个的方法,其中基底以包括彩色或吸收层的光学涂层来涂敷。
26.根据权利要求1-21中任一个的方法,其中灯泡被涂敷。
27.根据权利要求1-21中任一个的方法,其中透镜被涂敷。
28.根据权利要求1-21中任一个的方法,其中弯曲表面的不同子区域借助掩蔽和真空涂敷依次被提供以光学层。
29.根据权利要求28的方法,其中各子区域提供有不同的层。
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