KR20050096100A - 아미드 화합물 및 그것을 사용한 식물 병해의 방제 방법 - Google Patents

아미드 화합물 및 그것을 사용한 식물 병해의 방제 방법 Download PDF

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KR20050096100A
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Abstract

하기 화학식 1로 표시되는 아미드 화합물은 식물 병해에 대해 우수한 방제 활성을 갖는다.
<화학식 1>
상기 식 중, R51은 할로겐 원자, C1-C6알킬기 등을 나타내고, R52는 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C6알킬기 등을 나타내고, R53은 수소 원자 등을 나타내고, R56은 수소 원자 등을 나타내고, R57은 수소 원자 등을 나타내고, R58 및 R59는 독립적으로, 수소 원자, C1-C3알킬기 등을 나타내고, R60은 C1-C4알킬기 등, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C6알키닐기를 나타내고, R61은 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C6알키닐기 또는 C2-C4시아노알킬기를 나타내고, R62, R63 및 R64는 수소 원자, 할로겐 원자 등을 나타내고, X는 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다.

Description

아미드 화합물 및 그것을 사용한 식물 병해의 방제 방법{AMIDE COMPOUND AND METHOD OF CONTROLLING PLANT DISEASE WITH THE SAME}
본 발명은 아미드 화합물 및 그것을 식물 또는 식물DL 생육하는 토양에 시용(施用)하는 식물 병해의 방제 방법에 관한 것이다.
식물 병해를 방제하기 위한 약제의 개발이 행하여지고, 식물 병해 방제 효과를 갖는 화합물이 많이 발견되고 있지만, 그 효과는 충분하지 않은 경우가 있어, 새로운 화합물군의 탐색이 예의 행하여지고 있다.
한편, Journal of Chemical Society, Perkin Transactions I, 6, p.661 (1976)에, 하기에 나타내는 아미드 화합물 (A)이 기재되어 있지만, 상기 화합물의 구체적인 용도에 대해서는 기재되어 있지 않다.
본 발명자 등은 우수한 식물 병해 방제 효력을 갖는 화합물을 발견하고자 예의 검토한 결과, 하기 화학식 1로 표시되는 아미드 화합물이 우수한 식물 병해 방제효력을 갖는다는 것을 발견하여 본 발명을 완성하였다.
즉, 본 발명은 하기의 화학식 1을 나타낸다.
식 중, R51은 할로겐 원자, C1-C6알킬기, C3-C6시클로알킬기, C1-C6할로알킬기, C2-C6알케닐기, C2-C6할로알케닐기, C2-C6알키닐기, C2-C6할로알키닐기, C1-C6알콕시기, C3-C6알케닐옥시기, C3-C6알키닐옥시기, C1-C6할로알콕시기, (C1-C6알콕시) C1-C6알킬기, 페녹시 C1-C6알킬기, 히드록시 C1-C6알킬기, (C1-C6알킬술포닐옥시) C1-C6알킬기, C1-C6알킬티오기, C1-C6할로알킬티오기, C1-C6알킬아미노기, 디(C1-C6알킬)아미노기, 포르밀기, (C1-C6알킬)카르보닐기, (C1-C6알콕시)카르보닐기, (C1-C6알콕시이미노) C1-C6알킬기, 벤질옥시이미노 C1-C6알킬기, 디(C1-C6알킬)아미노이미노 C1-C6알킬기, 트리(C1-C6알킬)실릴기, 페닐기, 페녹시기, 시아노기 또는 니트로기를 나타내고, R52는 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C6알킬기, C1-C6할로알킬기, C2-C6알케닐기, C2-C6알키닐기, 시아노기 또는 니트로기를 나타내거나 또는 R51과 R52가 합쳐져 C3-C6알킬렌기 또는 -CR65=CR66-CR67=CR68-기 (R65, R66, R67 및 R68은 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C3알킬기, C1-C3알콕시기 또는 C1-C3할로알킬기를 나타내고,
R53는 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C3알킬기 또는 C1-C3할로알킬기를 나타내고,
R56은 수소 원자, C1-C4알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기를 나타내고,
R57은 수소 원자, C1-C4알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기를 나타내고,
R58 및 R59는 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 C1-C3알킬기를 나타내고,
R60은 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C6알키닐기를 나타내고,
R61은 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C6알키닐기 또는 C2-C4시아노알킬기를 나타내고,
R62, R63 및 R64는 수소 원자, 할로겐 원자 또는 C1-C2알킬기를 나타내고, X는 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다.
아미드 화합물 (1) (이하, 본 발명 화합물이라고 한다), 본 발명 화합물을 유효 성분으로서 함유하는 식물 병해 방제 조성물 및 본 발명 화합물의 유효량을 식물 또는 식물의 생육하는 토양에 시용하는 식물 병해의 방제 방법을 제공한다. 본 발명은 또한 본 발명 화합물의 제조에 있어서 중요한 중간체인 하기의 화학식 3으로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 중간체 1이라 한다) 및 화학식 4로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 중간체 2라 한다)로 제공한다.
식 중, R100은 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부틸옥시기, 이소부틸옥시기, tert-부틸옥시기, OH기 또는 염소 원자를 나타내고, R101 및 R102는 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 C1-C3알킬기를 나타내고, R103은 C1-C4알킬기를 나타내고, R104는 C3-C6알키닐기를 나타내고, R105, R106 및 R107은 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 C1-C2알킬기를 나타낸다.
식 중, R201은 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C1-C4알콕시기, C1-C4할로알콕시기, 디(C1-C4알킬)아미노기 또는 시아노기를 나타내고, R202는 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기 또는 C1-C4할로알킬기를 나타내거나 또는 R201과 R202가 합쳐져 C3-C5알킬렌기 또는 -CH= CH-CH=CH-기를 나타내고, R203 및 R204는 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 C1-C3알킬기를 나타내고, R205는 C1-C4알킬기를 나타내고, R206, R207 및 R208은 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 C1-C2알킬기를 나타낸다.
본 발명의 아미드 화합물 (1), 화합물 (3) 및 아미드 화합물 (4)에 있어서의 각 치환기로서는 하기에 나타내는 기가 구체적으로 예시된다.
R51로 표시되는 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있고,
C1-C6알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기의 C1-C4알킬기; 펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 헥실 등의 C5-C6알킬기를 들 수 있고,
C3-C6시클로알킬기로서는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기 및 시클로헥실기를 들 수 있고,
C1-C6할로알킬기로서는, 예를 들면 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기 등의 C1-C4할로알킬기를 들 수 있고,
C2-C6알케닐기로서는, 예를 들면 비닐기, 1-메틸비닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 1-메틸-2-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기 등의 C2-C4알케닐기; 1-펜테닐기, 4-펜테닐기, 1-헥세닐기, 5-헥세닐기 등의 C5-C6알케닐기를 들 수 있고,
C2-C6할로알케닐기로서는, 예를 들면 2-플루오로비닐기, 2-클로로비닐기, 2-브로모비닐기, 2,2-디플루오로비닐기, 2,2-디클로로비닐기, 2,2-디브로모비닐기, 1-메틸-2,2-디클로로비닐기, 1-메틸-2,2-디브로모비닐기를 들 수 있고,
C2-C6알키닐기로서는, 예를 들면 에티닐기, 1-프로피닐기, 2-프로피닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 1-부티닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기 등의 C2-C4알키닐기; 3,3-디메틸-1-부티닐기, 1-펜티닐기, 4-펜티닐기, 1-헥시닐기, 5-헥시닐기 등의 C5-C6알케닐기를 들 수 있고,
C2-C6할로알키닐기로서는 예를 들면 클로로에티닐기, 브롬에티닐기, 요오드에티닐기를 들 수 있고,
C1-C6알콕시기로서는 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기의 C1-C4알콕시기; 펜틸옥시기, 헥실옥시기 등의 C5-C6알콕시기를 들 수 있고,
C3-C6알케닐옥시기로서는 예를 들면 2-프로페닐옥시기, 1-메틸-2-프로페닐옥시기, 2-메틸-2-프로페닐옥시기, 2-부티닐옥시기, 3-부테닐옥시기, 4-펜테닐옥시기, 5-헥세닐옥시기를 들 수 있고,
C3-C6알키닐옥시기로서는 예를 들면 2-프로피닐옥시기, 1-메틸-2-프로피닐옥시기, 2-부티닐옥시기, 3-부테닐옥시기, 3-펜티닐옥시기, 4-펜티닐옥시기, 5-헥시닐옥시기를 들 수 있고,
C1-C6할로알콕시기로서는 예를 들면 플루오로메톡시기, 디플루오로메톡시기, 트리플루오로메톡시기, 클로로메틸기, 디클로로메틸기, 트리클로로메틸기, 2,2,2-트리플루오로에톡시기, 1,1,2,2-테트라플루오로에톡시기, 2-플루오로에톡시기 등의 C1-C4할로알콕시기를 들 수 있고,
(C1-C6알콕시) C1-C6알킬기로서는 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, 프로필옥시메틸기, 1-메톡시에틸기, 2-메톡시에틸기, 2-메톡시프로필기, 2-메톡시이소프로필기를 들 수 있고,
페녹시 C1-C6알킬기로서는 페녹시메틸기, 1-페녹시에틸기, 2-페녹시에틸기, 1-페녹시프로필기, 3-페녹시프로필기, 4-페녹시부틸기를 들 수 있고,
히드록시 C1-C6알킬기로서는 히드록시메틸기, 1-히드록시에틸기, 2-히드록시에틸기, 1-히드록시프로필기, 1-히드록시부틸기를 들 수 있고,
(C1-C6알킬술포닐옥시) C1-C6알킬기로서는 메틸술포닐옥시메틸기, 에틸술포닐옥시메틸기, 1-메틸술포닐옥시에틸기, 2-술포닐옥시에틸기, 1-메틸술포닐옥시프로필기를 들 수 있고,
C1-C6알킬티오기로서는 예를 들면 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 이소프로필티오기, 부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기, 펜틸티오기, 헥실티오기를 들 수 있고,
C1-C6할로알킬티오기로서는, 예를 들면 플루오로메틸티오기, 디플루오로메틸티오기, 트리플루오로메틸티오기를 들 수 있고,
C1-C6알킬아미노기로서는 예를 들면 메틸아미노기, 에틸아미노기, 프로필아미노기, 이소프로필아미노기 등의 C1-C4알킬아미노기; 펜틸아미노기, 헥실아미노를 들 수 있고,
디(C1-C6알킬)아미노기로서는 예를 들면 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디프로필아미노기 등의 C1-C4디알킬아미노기; 디펜틸아미노기, 디헥실아미노기를 들 수 있고,
(C1-C6알킬)카르보닐기로서는 메틸카르보닐기, 에틸카르보닐기, 프로필카르보닐기, 이소프로필카르보닐기를 들 수 있고,
(C1-C6알콕시)카르보닐기로서는 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 이소프로폭시카르보닐기를 들 수 있고,
(C1-C6알콕시이미노)C1-C6알킬기로서는 메톡시이미노메틸기, 1-메톡시이미노에틸기, 1-메톡시이미노프로필기, 1-메톡시이미노부틸기, 에톡시이미노메틸기, 1-에톡시이미노에틸기, 프로폭시이미노메틸기, 1-이소프로폭시이미노에틸기, 부톡시이미노메틸기, 펜틸옥시이미노메틸기, 1-헥실옥시이미노에틸기를 들 수 있고,
벤질옥시이미노 C1-C6알킬기로서는 벤질옥시이미노메틸기, 1-(벤질옥시이미노)에틸기, 2-(벤질옥시이미노)에틸기, 1-(벤질옥시이미노)프로필기, 1-(벤질옥시이미노)부틸기를 들 수 있고,
디(C1-C6알킬)아미노이미노 C1-C6알킬기로서는 디메틸아미노이미노메틸기, 1-(디메틸아미노이미노)에틸기, 디에틸아미노이미노메틸기, 1-(디에틸아미노이미노)에틸기를 들 수 있다.
트리(C1-C6알킬)실릴기로서는 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, tert-부틸디메틸실릴기를 들 수 있고;
R52로 표시되는
할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있고,
C1-C6알킬기로서는 예를 들면 메틸기,에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기의 C1-C4알킬기; 펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 헥실기 등의 C5-C6알킬기를 들 수 있고,
C1-C6할로알킬기로서는, 예를 들면 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기를 들 수 있고,
C2-C6알케닐기로서는 예를 들면 비닐기, 1-메틸비닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 1-메틸-2-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기 등의 C1-C4알케닐기; 1-펜테닐기, 4-펜테닐기, 1-헥세닐기, 5-헥세닐기 등의 C5-C6알킬기를 들 수 있고,
C2-C6알키닐기로서는 예를 들면 에티닐기, 1-프로피닐기, 2-프로피닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 1-부티닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기 등의 C2-C4알키닐기; 1-펜티닐기, 4-펜티닐기, 1-헥시닐기, 5-헥시닐기 등의 C5-C6알키닐기를 들 수 있고,
R51와 R52가 합쳐져 된 C3-C6알킬렌기로서는, 예를 들면 트리메틸렌기, 테트라에틸렌기, 펜타메틸렌기 및 헥사메틸렌기를 들 수 있다.
R53으로 표시되는 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있고,
C1-C3알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기를 들 수 있고,
C1-C3할로알킬기로서는 예를 들면 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.
R56으로 표시되는
C1-C4알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 들 수 있고,
C2-C4알케닐기로서는, 예를 들면 비닐기, 1-메틸비닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 1-메틸-2-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기를 들 수 있고,
C2-C4알키닐기로서는, 예를 들면 에티닐기, 1-프로피닐기, 2-프로피닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기를 들 수 있다.
R57로 표시되는 C1-C4알킬기로서는, 예를 들면 메틸기,에틸기, 프로필기, 부틸기를 들 수 있고,
C3-C4알케닐기로서는, 예를 들면 2-프로페닐기, 1-메틸-2-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기를 들 수 있고,
C3-C4알키닐기로서는 2-프로피닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 2-부테닐기, 3-부티닐기를 들 수 있다.
R58 및 R59로 표시되는
할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자를 들 수 있고,
C1-C3알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기를 들 수 있다.
R60으로 표시되는
C1-C4알킬기로서는, 메틸기, 에틸기의 C1-C2알킬기;
프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 들 수 있고,
C1-C4할로알킬기로서는 예를 들면 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸기, 2-플루오로에틸기를 들 수 있고,
C3-C4알케닐기로서는 예를 들면 2-프로페닐기, 1-메틸-2-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기를 들 수 있고,
C3-C6알키닐기로서는 예를 들면 2-프로피닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기 등의 C3-C4알키닐기; 1,1-디메틸-2-프로피닐기, 1-메틸-2-부티닐기, 2-펜티닐기, 1-메틸-2-펜티닐기, 4-메틸-2-펜티닐기, 3-펜티닐기, 4-펜티닐기, 2-헥시닐기, 3-헥시닐기 등의 C5-C6알키닐기를 들 수 있다.
R61로 표시되는
C1-C4알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 들 수 있고,
C1-C4할로알킬기로서는 예를 들면 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸기, 2-플루오로에틸기를 들 수 있고,
C3-C4알케닐기로서는 예를 들면 2-프로페닐기, 1-메틸-2-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기를 들 수 있고,
C3-C6알키닐기로서는 예를 들면 2-프로피닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기의 C3-C4알키닐기; 1,1-디메틸-2-프로피닐기, 1-메틸-2-부티닐기, 2-펜티닐기, 1-메틸-2-펜티닐기, 4-메틸-2-펜티닐기, 3-펜테닐기, 4-펜티닐기, 2-헥시닐기, 3-헥시닐기 등의 C5-C6알키닐기를 들 수 있고,
C2-C4시아노알킬기로서는, 예를 들면 시아노메틸기, 시아노에틸기, 시아노프로필기, 1-메틸시아노메틸기, 1,1-디메틸시아노메틸기를 들 수 있다.
R62, R63 및 R64로 표시되는
할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있고,
C1-C2알킬기로서는 메틸기 및 에틸기를 들 수 있다.
R65, R66, R67 및 R68로 표시되는
할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있고,
C1-C3알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기를 들 수 있다.
C1-C3알콕시기로서는 메톡시기, 에톡시기, 프로필옥시기, 이소프로필옥시기를 들 수 있다.
C1-C3할로알킬기로서는 예를 들면 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.
R101 및 R102로 표시되는
할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자를 들 수 있고,
C1-C3알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기를 들 수 있다.
R103으로 표시되는
C1-C4알킬기로서는 메틸기, 에틸기의 C1-C2알킬기; 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 들 수 있다.
R104로 표시되는
C3-C6알키닐기로서는, 예를 들면 2-프로피닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기의 C3-C4알키닐기; 1,1-디메틸-2-프로피닐기, 1-메틸-2-부티닐기, 2-펜티닐기, 1-메틸-2-펜티닐기, 4-메틸-2-펜티닐기, 3-펜티닐기, 4-펜티닐기, 2-헥시닐기, 3-헥시닐기 등의 C5-C6알키닐기를 들 수 있다.
R105, R106 및 R107로 표시되는
할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있고,
C1-C2알킬기로서는 메틸기 및 에틸기를 들 수 있다.
R201로 표시되는
할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있고,
C1-C4알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 들 수 있고,
C1-C4할로알킬기로서는 예를 들면 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기를 들 수 있고,
C1-C4알콕시기로서는 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기를 들 수 있고,
C1-C4할로알콕시기로서는 예를 들면 플루오로메톡시기, 디플루오로메톡시기, 트리플루오로메톡시기, 클로로메틸기, 디클로로메틸기, 트리클로로메틸기, 2,2,2-트리플루오로에톡시기, 1,1,2,2-테트라플루오로에톡시기, 2-플루오로에톡시기를 들 수 있고,
디(C1-C4알킬)아미노기로서는 예를 들면 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디프로필아미노기를 들 수 있고;
R202로 표시되는 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있고,
C1-C4알킬기로서는 예를 들어 메틸기,에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 들 수 있고,
C1-C6할로알킬기로서는 예를 들면 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기를 들 수 있고;
R201과 R202이가 합쳐져 된 C3-C5알킬렌기로서는 예를 들면 트리메틸렌기, 테트라에틸렌기 및 펜타에틸렌기을 들 수 있다.
R203 및 R204로 표시되는
할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자를 들 수 있고,
C1-C3알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기 및 이소프로필기를 들 수 있다.
R205로 표시되는
C1-C4알킬기로서는 메틸기, 에틸기의 C1-C2알킬기; 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 들 수 있다.
R206, R207 및 R208로 표시되는
할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있고,
C1-C2알킬기로서는, 메틸기 및 에틸기를 들 수 있다.
본 발명 화합물로서는, 예를 들면 이하의 형태의 화합물을 들 수 있다.
화학식 1에 있어서, R53이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 1에 있어서, R62, R63 및 R64가 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 1에 있어서, R58 및 R59가 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 1에 있어서, R56이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 1에 있어서, R51이 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기, C2-C4알키닐기, C1-C4알콕시기, C1-C4할로알콕시기, C1-C4알킬아미노기, 디(C1-C4알킬)아미노기 또는 시아노기이고, R52가 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기이거나, 또는 R51과 R52가 합쳐져 C3-C5알킬렌기 또는 -CH=CH-CH=CH-기인 아미드 화합물;
화학식 1에 있어서, R51이 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기, C2-C4알키닐기, C1-C4알콕시기, C1-C4할로알콕시기, C1-C4알킬아미노기, 디(C1-C4알킬)아미노기 또는 시아노기인 아미드 화합물;
화학식 1에 있어서, R52가 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 1에 있어서, R57이 수소 원자 또는 C1-C3알킬기인 아미드 화합물;
화학식 1에 있어서, R60이 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 1에 있어서, R61이 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 1에 있어서, R51이 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C1-C4알콕시기, C1-C4할로알콕시기, 디(C1-C4알킬)아미노기 또는 시아노기이고, R52가 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기이거나 또는 R51과 R52가 합쳐져 C3-C5알킬렌기 또는 -CH=CH-CH=CH-기이고, R53이 수소 원자이고, R56이 수소 원자이고, R57이 수소 원자이고, X가 산소 원자이고, R60이 C1-C4알킬기이고, R61이 C3-C6알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 1에 있어서, R51가 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C1-C4알콕시기, C1-C4할로알콕시기, 디(C1-C4알킬)아미노기 또는 시아노기이고, R52가 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기, 또는 R51과 R52가 합쳐져 C3-C5알킬렌기 또는 -CH=CH-CH=CH-기이고, R53이 수소 원자이고, R56이 수소 원자이고, R57이 수소 원자이고, X가 산소 원자이고, R58 및 R59가 수소 원자, 불소 원자 또는 메틸기이고, R60이 메틸기 또는 에틸기이고, R61이 C3-C6알키닐기이고, R62, R63 및 R64가 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 1에 있어서, R51이 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기, C2-C4알키닐기, C1-C4알콕시기, C1-C4할로알콕시기, C1-C4알킬아미노기, 디(C1-C4알킬)아미노기 또는 시아노기이고, R52가 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기이거나 또는 R51과 R52가 합쳐져 C3-C6알킬렌기 또는-CH=CH-CH=CH-기이고, R53 및 R56이 수소 원자이고, R57이 수소 원자 또는 C1-C3알킬기이고, R58 및 R59가 수소 원자이고, R60이 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C4알키닐기이고, R61이 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C4알키닐기이고, R62, R63 및 R64가 수소 원자인 아미드 화합물, 즉 화학식 2로 표시되는 아미드 화합물;
식 중, R1은 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기, C2-C4알키닐기, C1-C4알콕시기, C1-C4할로알콕시기, C1-C4알킬아미노기, 디(C1-C4알킬)아미노기 또는 시아노기를 나타내고, R2는 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기를 나타내거나 또는 R1과 R2가 합쳐져 C3-C5알킬렌기 또는 -CH= CH-CH=CH-기를 나타내고,
R3은 수소 원자 또는 C1-C3알킬기를 나타내고,
R4는 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C4알키닐기를 나타내고,
R5는 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C4알키닐기를 나타내고,
X는 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다.
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬아미노기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 할로겐 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 C1-C4할로알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1가 할로겐 원자이고, R2가 할로겐 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 C1-C4할로알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 할로겐 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 C1-C4 할로알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 할로겐 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 C1-C4할로알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 할로겐 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 C1-C4할로알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 할로겐 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 C1-C4할로알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 할로겐 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 C1-C4할로알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1가 트리플루오로메틸기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R2가 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R2가 할로겐 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R2가 C1-C4할로알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1 내지 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1 내지 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R6이 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1가 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C2알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C2알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C2알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C2알킬기이고, R5가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, R4가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, R4가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R4가 C1-C4알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R4가 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R4가 C1-C2알킬기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R4가 2-프로피닐기인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1 내지 할로겐 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 할로겐 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 C1-C4할로알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 할로겐 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 C1-C4할로알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1 할로겐 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1 내지 할로겐 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 할로겐 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 C1-C4할로알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 할로겐 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 C1-C4할로알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 할로겐 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물, ;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 C1-C4할로알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 할로겐 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 C1-C4할로알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 할로겐 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 C1-C4할로알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R2가 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R2가 할로겐 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R2가 C1-C4할로알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 디(C1-C4알킬)아미노기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1가 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1가 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C4-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 할로겐 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 C1-C4할로알킬기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2 알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 염소 원자이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이다, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R1이 트리플루오로메틸기이고, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R3이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R3이 수소 원자이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C4알킬기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C2알킬기이고, R5가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C2알킬기이고, R5가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C2알킬기이고, R5가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R4가 C1-C2알킬기이고, R5가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, R4가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C2알킬기이고, R4가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R4가 C1-C4알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R4가 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R4가 C1-C2알킬기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물;
화학식 2에 있어서, R2가 수소 원자이고, R4가 C1-C4알킬기이고, R4가 2-프로피닐기이고, X가 산소 원자인 아미드 화합물.
다음으로, 본 발명 화합물의 제조법에 대해서 설명한다. 본 발명 화합물은 예를 들면 이하의 (제조법 A), (제조법 B), (제조법 C) 또는 (제조법 D)에 따라서 제조할 수가 있다.
(제조법 A)
본 발명 화합물 중 R57이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 화합물 (1-1)은, 화합물 (5)과 화합물 (6)을 반응시킴으로써 제조할 수가 있다. ·
식 중, R51, R52, R53, R56, R58, R59, R60, R61, R62, R63 및 R64는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
상기 반응은, 통상 용매의 존재하, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데크-7-엔, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류 및 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
화합물 (6) 1 몰에 대하여 염기가 통상 1 내지 10 몰의 비율, 화합물 (5)가 통상 1 내지 5 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 -20 내지 100 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는 (i) 반응 혼합물을 물에 가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 필요에 따라서 산성수 (희염산 등), 염기성수 (탄산수소나트륨 수용액 등)로 세정한 후, 건조, 농축하거나, 또는 (ii) 반응 혼합물에 소량의 물을 가한 후 감압하 농축하고, 얻어진 고체를 여집하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물(1-1)을 단리할 수 있다. 단리된 화합물 (1-1)은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수 있다.
(제조법 B)
본 발명 화합물 중 R57이 수소 원자이고, X가 산소 원자인 화합물 (1-1)은 화합물 (7)과 화합물 (8)을 반응시킴으로써도 제조할 수 있다.
식 중, L1은 할로겐 원자, 메탄술포닐옥시기, 트리플루오로메탄술포닐옥시기 또는 p-톨루엔술포닐옥시기를 나타내고, R51, R52, R53, R56, R58, R59, R60, R61, R62, R63 및 R64는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
상기 반응은 통상 용매의 존재하, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 수소화나트륨, 수소화칼륨 등의 알칼리 금속수소화물, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데크-7-엔, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류 및 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
화합물 (7) 1 몰에 대하여 염기가 통상 1 내지 10 몰의 비율, 화합물 (8)이 통상 1 내지 5 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 -20 내지 100 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물을 물에 가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 필요에 따라서 산성수 (희염산 등), 염기성수 (탄산수소나트륨 수용액 등)로 세정한 후, 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (1-1)을 단리할 수가 있다. 단리된 화합물 (1-1)은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해또한 정제할 수 있다.
또한, 화합물 (1-1)은 화합물 (7')와 화합물 (11)을 반응시킴으로써도 제조할 수가 있다.
식 중, L3은 할로겐 원자, 메탄술포닐옥시기, 트리플루오로메탄술포닐옥시기 또는 p-톨루엔술포닐옥시기를 나타내고, R51, R52, R53, R56, R58, R59, R60, R61, R62, R63 및 R64는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
상기 반응은 상기한 반응과 동일한 조건으로 행한다.
(제조법 C)
본 발명 화합물 중 R57이 C1-C4알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C4알키닐기이고, X가 산소 원자인 화합물 (1-2)는 화합물 (1-1)과 화합물 (9)를 반응시킴으로써 제조할 수가 있다.
식 중, L2는 할로겐 원자, 메탄술포닐옥시기, 트리플루오로메탄술포닐옥시기 또는 p-톨루엔술포닐옥시기를 나타내고, R57 -1은 C1-C4알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C4알키닐기를 나타내고, R51, R52, R53, R56, R58, R59, R60, R61, R62, R63 및 R64는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
상기 반응은, 통상 용매의 존재하, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부틸로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 수소화나트륨, 수소화칼륨 등의 알칼리 금속 수소화물, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데크-7-엔, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류 및 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
화합물 (1-1) 1 몰에 대하여 염기가 통상 1 내지 10 몰의 비율, 화합물 (9)가 통상 1 내지 5 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 0 내지 10O ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는 반응 혼합물을 물에 가하여 유기 용매 추출하여, 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (1-2)을 단리할 수 있다. 단리된 화합물 (1-2)는 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
(제조법 D)
본 발명 화합물 중 X가 황 원자인 화합물 (1-4)는 본 발명 화합물 중 X가 산소 원자인 화합물 (1-3)과 2,4-비스(4-메톡시페닐)-1,3-디티어-2,4-디포스페탄-2,4-디술피드 (일반적으로 로손 시약으로서 알려져 있는 화합물)을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
식중 R51, R52, R57, R60, 및 R71은 상기와 동일한 의미를 나타낸다. 반응식은 통상용매의 존재하에서 행해진다. 반응에 이용되는 용매로서는, 예를 들어 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
화합물 (1-3) 1 몰에 대하여, 로손 시약이 통상 1 내지 10 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 50 내지 150 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.5 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물에 물을 가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (1-4)를 단리할 수가 있다. 단리된 화합물 (1-4)는 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한 정제할 수도 있다.
다음으로, 본 발명에 있어서의 제조 중간체의 제조법에 대해서 설명한다.
화합물 (6)은, 예를 들면 하기의 구성에 따라서 제조할 수가 있다.
식 중, R6은 C1-C6알킬기를 나타내고, R7은 벤질기 또는 메톡시메틸기를 나타내고, R58, R59, R60, R61, R62, R63, R64, L1 및 L3은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
공정 (I-1)
화합물 (12)는 화합물 (10)과 화합물 (11)을 반응시킴으로써 제조할 수가 있다.
상기 반응은, 용매의 존재하 또는 비존재하, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 수소화나트륨, 수소화칼륨 등의 알칼리 금속 수소물, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데크-7-엔, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류 및 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
화합물 (10) 1 몰에 대하여 염기가 통상 1 내지 50 몰의 비율, 화합물 (11)이 통상 1 내지 5 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 0 내지 100 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 O.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물을 물에 가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (12)를 단리할 수 있다. 단리된 화합물 (12)는, 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
또한, 화합물 (10)은 예를 들면 문헌 [Tetrahedron Letters, vol. 36, No. 51, pp.9369-9372, 1995]에 기재된 화합물이거나 또는 상기 문헌에 기재된 방법에 준하는 방법에 의해 제조할 수가 있는 화합물이다.
공정(I-2):
(A) R7이 벤질기인 경우
화합물 (13)은 수소화 촉매 및 산의 존재하, 화합물 (12)과 수소를 반응시킴으로써 제조할 수가 있다.
상기 반응은 통상 수소 분위기하, 통상 용매의 존재하에서 행해진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 수소화 촉매로서는, 예를 들면 팔라듐탄소, 수산화팔라듐, 라니-니켈, 산화 백금 등의 전이 금속 화합물을 들 수 있다. 반응에 사용되는 산으로서는 예를 들면 염산을 들 수 있다.
화합물 (13) 1 몰에 대하여 수소는 통상 1 몰, 수소화 촉매는 통상 0.001 내지 0.5 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응은 통상 1 내지 100 기압의 수소 분위기하에서 행해진다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 -20 내지 100 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는 반응 혼합물을 여과하고, 여액을 유기 용매 추출하여, 얻어지는 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (13)을 단리할 수가 있다. 단리된 화합물 (13)은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해또한 정제할 수 있다.
(B) R7가 메톡시메틸기인 경우
화합물 (11)은, 화합물 (12)를 산의 존재하에서 가수 분해 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
상기 반응은 통상 물 및 유기 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 유기 용매로서는 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 산으로서는, 예를 들면 염산, 황산 등의 무기산, p-톨루엔술폰산, 메탄술폰산 등의 유기산을 들 수 있다.
화합물 (12) 1 몰에 대하여 산은 통상 1 내지 10 몰의 비율로 사용된다. 상기 반응의 반응 온도는 통상 O 내지 100 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 O.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물을 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (13)을 단리할 수 있다. 단리된 화합물 (13)은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
공정(I-3)
화합물 (14)는 화합물 (13)과 화합물 (8)을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
상기 반응은 용매의 존재하 또는 비존재하, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부틸로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데크-7-엔, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류 및 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
화합물 (13) 1 몰에 대하여 염기가 통상 1 내지 50 몰의 비율, 화합물 (8)이 통상 1 내지 5 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 O 내지 100 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 O.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는 반응 혼합물에 필요에 따라서 유기 용매를 가한 후, 여과하고, 여액을 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (14)를 단리할 수 있다. 단리된 화합물 (14)는 증류, 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
공정 (I-4)
화합물 (15)는 화합물 (14)를 염기의 존재하에서 가수 분해 반응시킴으로써 제조할 수가 있다.
상기 반응은 통상 물 및 유기 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 유기 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류, 아세토니트릴, 부틸로니트릴 등의 니트릴류, 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 수산화 리튬, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨 등의 알칼리 금속 수산화물을 들 수 있다.
화합물 (14) 1 몰에 대하여 염기는 통상 1 내지 1O 몰의 비율로 사용된다. 상기 반응의 반응 온도는 통상 0 내지 150 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물에 산성수 (염산 등)를 가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (15)를 단리할 수 있다. 단리된 화합물 (15)는 증류, 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
공정 (I-5)
화합물 (6)은 화합물 (15)와 염소화제를 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
상기 반응은, 용매의 존재하또는 비 존재하로 행해진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염소화제로서는, 예를 들면 염화티오닐, 염화옥살릴 및 옥시 염화인을 들 수 있다.
화합물 (15) 1 몰에 대하여 염소화제는 통상 1 내지 100 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 30 내지 150 ℃ 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물을 그대로 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (6)을 단리할 수가 있다. 단리된 화합물 (6)은 통상 정제하는 일 없이 다음 공정의 반응에 사용된다.
여기서, 화합물 (14)에 있어서, R60이 C1-C4알킬기이고, R61이 C3-C6알키닐기이고, R6이 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 이소부틸기, tert-부틸기인 화합물; 화합물 (15)에 있어서, R60이 메틸기 또는 에틸기이고, R61이 C3-C6알키닐기인 화합물; 및 화학식 6에 있어서, R60이 메틸기 또는 에틸기이고, R61이 C3-C6알키닐기이고, R58, R59, R62, R63 및 R64가 수소 원자인 화합물은 본 발명 중간체 1이다.
화합물 (13)은, 하기의 구성에 따라 제조할 수 있다.
식 중, R6은 C1-C6알킬기를 나타내고, R7은 벤질기 또는 메톡시메틸기를 나타내고, R58, R59, R60, R62, R63, R64, L1 및 L3은 상기와 동일 의미를 나타낸다.
공정 (I-6)
화합물 (21)은, 화합물 (20)과 하기의 화합물 (22)과 염기를 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
상기 반응은 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 테트라히드로푸란을 들 수 있다. 반응에 사용되는 염기로서는, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 수소화나트륨 등의 알칼리 금속 수소화물을 들 수 있다.
화합물 (20) 1 몰에 대하여, 화합물 (22)는 통상 1 내지 2 몰의 비율, 염기는 통상 1 내지 2 몰의 비율로 사용된다. 반응 온도는 통상 0 내지 80 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물을 물에 가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (20)을 단리할 수가 있다. 단리된 화합물 (20)은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
또한, 화합물 (20)은 시판되거나 공지된 방법에 준하여 제조할 수 있다.
공정 (I-7)
화합물 (13)은 수소화 촉매 및 산의 존재하, 화합물 (20)과 수소를 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
반응에 사용되는 용매로서는 예를 들면 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 수소화 촉매로서는, 예를 들면 팔라듐탄소, 수산화 팔라듐, 라니-니켈, 산화 백금 등의 전이 금속 화합물을 들 수 있다. 반응에 사용되는 산으로서는 예를 들면 염산을 들 수 있다.
화합물 (13) 1 몰에 대하여 수소는 통상 2 몰, 수소화 촉매는 통상 0.001 내지 0.5몰의 비율로 사용된다.
상기 반응은 통상 1 내지 100 기압의 수소 분위기하에서 행하여진다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 -20 내지 100 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물을 여과하고, 여액을 유기 용매 추출하여, 얻어지는 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (13)을 단리할 수 있다. 단리된 화합물 (13)은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한 정제할 수도 있다.
화합물 (14)는, 하기의 구성에 따라 제조할 수 있다.
식 중, R6은 C1-C6알킬기를 나타내고, R7은 벤질기 또는 메톡시메틸기를 나타내고, R58, R59, R60, R61, R62, R63, R64, L1 및 L3은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
또한, 공정 (I'-1)은 상기 공정 (I-3)과 동일한 조건으로 행한다. 공정 (I'-2)는 상기 공정 (I-2)와 동일한 조건으로 행한다. 공정 (I'-3)은 상기 공정(I-1)의 조건에 준한다.
또한, 화합물 (10')는 예를 들면 문헌 [Tetrahedron Letters, vol. 36, No. 51, pp. 9369-9372, 1995]에 기재된 화합물이거나 또는 상기 문헌에 기재된 방법에 준하는 방법에 의해 제조할 수가 있는 화합물이다.
화합물 (13')은 하기의 구성에 따라서 제조할 수 있다.
식 중, R6은 C1-C6알킬기를 나타내고, R7은 벤질기 또는 메톡시메틸기를 나타내고, R58, R59, R61, R62, R63, R64, L1 및 L3은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
또한, 공정 (I'-6)은 상기한 공정 (I-6)과 동일한 조건으로 행한다. 공정(I'-7)은 상기한 공정 (I-7)과 동일한 조건으로 행한다.
또한, 화합물 (20')은 시판되어 있거나 공지된 방법에 준하여 제조할 수 있다.
화합물 (7)은 예를 들면 하기의 구성에 따라서 제조할 수가 있다.
식 중, R51, R52, R53, R56, R58, R59, R60, R61, R62, R63, R64는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
공정 (II-1)
화합물 (17)은 화합물 (16)과 염소화제를 반응시킴으로써 제조할 수가 있다.
상기 반응은, 용매의 존재하 또는 비존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염소화제로서는, 예를 들면 염화 티오닐, 염화옥살릴 및 옥시 염화인을 들 수 있다.
화합물 (16) 1 몰에 대하여, 염소화제는 통상 1 내지 100 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 30 내지 150 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물을 그대로 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (17)을 단리할 수가 있다. 단리된 화합물 (17)은 통상 정제하는 일없이 다음 공정의 반응에 사용된다.
화합물 (16)은 예를 들면 문헌 [Synthetic Communications, 29 (4), pp. 573-581 (1999)]에 기재된 화합물이거나 또는 상기 문헌에 기재된 방법에 준한 방법으로 제조할 수가 있는 화합물이다.
공정 (II-2)
화합물 (18)은 화합물 (17)과 화합물 (5)를 반응시킴으로써 제조할 수가 있다.
상기 반응은 통상 용매의 존재하, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데크-7-엔, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류 및 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
화합물 (17) 1 몰에 대하여 염기가 통상 1 내지 10 몰의 비율, 화합물 (5)가 통상 1 내지 5 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 -20 내지 100 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는 (i) 반응 혼합물을 물에 가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 필요에 따라서 산성수 (희염산 등), 염기성수 (탄산수소나트륨 수용액 등)으로 세정한 후, 건조, 농축하는, 또는 (ii) 반응 혼합물에 소량의 물을 가한 후 감압하 농축하여, 얻어진 고체를 여집하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (18)을 단리할 수가 있다. 단리된 화합물 (18)은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
공정 (II-3)
화합물 (7)은 수소화 촉매 및 산의 존재하, 화합물 (18)과 수소를 반응시킴으로써 제조할 수가 있다.
상기 반응은 통상 수소 분위기하, 통상 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 수소화 촉매로서는, 예를 들면 팔라듐탄소, 수산화 팔라듐, 라니-니켈, 산화 백금 등의 전이 금속 화합물을 들 수 있다. 반응에 사용되는 산으로서는 예를 들면 염산을 들 수 있다.
화합물 (18) 1 몰에 대하여, 수소는 통상 2 몰, 수소화 촉매는 통상 0.001 내지 0.5 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응은 통상 1 내지 100 기압의 수소 분위기하에서 행하여진다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 -20 내지 100 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물을 여과하고, 여액을 유기 용매 추출하여, 얻어지는 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (7)을 단리할 수 있다. 단리된 화합물 (7)은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한정제할 수 있다.
여기서, 화합물 (7)에 있어서, R51이 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C1-C4알콕시기, C1-C4할로알콕시기, 디(C1-C4알킬)아미노기 또는 시아노기이고, R52가 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기 또는 C1-C4할로알킬기이거나 또는 R51과 R52가 합쳐져 C3-C5알킬렌기 또는 -CH=CH-CH=CH-기이고, R53이 수소 원자이고, R56이 수소 원자이고, R60이 C1-C4알킬기인 화합물은 본 발명 중간체 2이다.
화합물 (7')는 예를 들면 하기의 구성에 따라서 제조할 수가 있다.
식 중, R51, R52, R53, R56, R58, R59, R60, R61, R62, R63, R64는 상기와 동일 의미를 나타낸다.
공정 (II'-1)은 상기한 공정, (II-1)과 동일한 조건으로 행하고, 공정 (II'-2)는 상기한 공정 (II-2)와 동일한 조건으로 행하고, 공정 (II'-3)은 상기한 공정 (II-3)과 동일한 조건으로 행한다.
화합물 (16')는 예를 들면 문헌 [Synthetic Communications, 29(4), pp. 573-581(1999)]에 기재된 화합물이거나 또는 상기 문헌에 기재된 방법에 준한 방법으로 제조할 수 있는 화합물이다.
화합물 (5) 중 R56이 수소 원자인 화합물 (5-1)은 예를 들면 화합물 (19)를 환원 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
식 중, R51, R52 및 R53은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
상기 반응은 통상 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 환원제로서는, 예를 들면 수소화알루미늄리튬, 디이소부틸알루미늄히드리드 등의 금속 수소화물을 들 수 있다.
화합물 (19) 1 몰에 대하여, 환원제는 통상 0.5 내지 5 몰의 비율로 사용되지만, 환원제의 종류에 따라 적절하게 변경할 수 있다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물을 물에 가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 필요에 따라서 염기성수 (수산화나트륨 수용액 등)으로 세정한 후, 건조, 농축 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (5)를 단리할 수가 있다. 단리된 화합물 (5)는 증류, 크로마토그래피 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
화합물 (5)는 하기의 구성에 따라서 제조할 수가 있다.
식 중, R51, R52, R53 및 R56은 상기와 동일한 의미를 나타내고, L4는 염소 원자 또는 브롬 원자를 나타낸다.
공정 (III-1)
화합물 (21)은, 화합물 (20)과 프탈이미드칼륨을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
상기 반응은 통상 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 물 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
화합물 (20) 1 몰에 대하여 프탈이미드칼륨은 통상 1 내지 3 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 -20 내지 100 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는 반응 혼합물을 물에 가한 후 유기 용매 추출하여, 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (21)을 단리할 수가 있다. 단리된 화합물 (21)은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
공정 (III-2)
화합물 (5)는, 화합물 (21)과 하이드라진을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
상기 반응은 통상 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류, 물 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 하이드라진은 수화물일 수도 있다. 화합물 (21) 1 몰에 대하여, 하이드라진은 통상 1 내지 10 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 0 내지 150 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물을 여과하고, 여액에 물을 가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (5)를 단리할 수 있다. 단리된 화합물 (5)는 증류, 크로마토그래피 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
화합물 (5)는 예를 들면 화합물 (22)를 로이칼트 반응 시킴으로써 제조할 수가 있다.
식 중, R51, R52, R53 및 R56은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
상기 반응은, 용매의 존재하 또는 비존재하, 포름아미드 및 포름산의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
화합물 (22) 1 몰에 대하여 포름아미드는 통상 1 내지 15 몰의 비율, 포름산은 통상 0.1 내지 2 몰의 비율로 사용된다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물을 물에 가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 필요에 따라서 염기성수 (수산화나트륨 수용액 등)으로 세정한 후, 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (5)를 단리할 수 있다. 단리된 화합물 (5)는 증류, 크로마토그래피 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
화합물 (5)는 하기의 구성에 따라서 제조할 수가 있다.
식 중, R51, R52, R53 및 R56은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
공정 (VI-1)
화합물 (23)은 화합물 (22)와 히드록실아민을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
상기 반응은 통상 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올 등의 알코올류, 물 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
화합물 (22) 1 몰에 대하여 히드록실아민은 통상 1 내지 5 몰의 비율로 사용된다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 0 내지 150 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는 반응 혼합물을 물에 가한후, 유기 용매 추출하여, 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (23)을 단리할 수 있다. 단리된 화합물 (23)은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
공정 (VI-2)
화합물 (5)는 수소화 촉매의 존재하, 화합물 (23)과 수소를 반응시킴으로써 제조할 수가 있다.
상기 반응은 통상 수소 분위기하, 통상 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르류 및 이들 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 수소화 촉매로서는, 예를 들면 팔라듐탄소, 수산화팔라듐, 라니-니켈, 산화 백금 등의 전이 금속 화합물을 들 수 있다.
화합물 (23) 1 몰에 대하여 수소는 통상 2 몰, 수소화 촉매는 통상 0.001 내지 0.5몰의 비율로 사용된다.
상기 반응은 통상 1 내지 100 기압의 수소 분위기하에서 행하여진다. 필요에 따라서 산 (염산 등)을 가하여 행할 수도 있다.
상기 반응의 반응 온도는 통상 -20 내지 100 ℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 내지 24 시간의 범위이다.
반응 종료 후는, 반응 혼합물을 여과하고, 여액을 유기 용매 추출하여, 얻어지는 유기층을 건조, 농축하는 등의 후 처리 조작을 행함으로써 화합물 (5)를 단리할 수 있다. 단리된 화합물 (5)는 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 또한 정제할 수 있다.
본 발명 화합물이 방제 효력을 갖는 식물 병해로서는, 예를 들면 조균류에 의한 식물 병해를 들 수 있고, 구체적으로는 예를 들면 다음 병해를 들 수 있다.
소채류 (疏菜類), 무우의 노균병 (Peronospora brassicae), 시금치의 노균병 (Peronospora spinaciae), 담배의 노균병 (Peronospora tabacina), 참외류의 노균병 (Pseudoperonospora cubensis), 포도의 노균병 (Plasmopara viticola), 사과, 딸기, 약용 인삼의 역병 (Phytophthora cactorum), 토마토, 오이의 회색 역병 (Phytophora capsici), 파인애플의 역병 (Phytophthora cinnamomi), 감자, 토마토의 역병 (Phytophthora infestans), 담배, 잠두콩, 파의 역병 (Phytophthora nicotianae var. nicotianae), 시금치의 입고병 (Pythium sp.), 오이묘 입고병 (Pythium aphanidermatum), 밀 갈색 설부병 (褐色雪腐病) (Pythium sp.), 담배 묘 입고병 (Pythium debaryanum), 대두의 입고병 (Pythium rot; Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum).
본 발명 화합물은 그 자체를 식물 또는 토양에 처리함으로써도 식물 병해를 방제할 수 있지만 통상은 본 발명 화합물과 담체를 함유하는 조성물, 즉 적당한 담체에 본 발명 화합물을 담지시킨 식물 병해 방제 조성물의 형태로써 사용된다. 본 발명의 식물 병해 방제제는 본 발명 화합물을 고체 담체, 액체 담체, 계면활성제 그 밖의 제제용 보조제와 혼합하고, 유제, 수화제, 과립 수화제, 플로어블제, 분제, 입제 등으로 제제화된다. 이들 제제는 본 발명 화합물을 통상 0.1 내지 90 중량％ 함유한다.
제제화 시에 사용되는 고체 담체로서는, 예를 들면 카올린클레이, 아타퓰자이트크레이, 벤토나이트, 몬모릴나이트, 산성 백토, 파일로피라이트, 탈크, 규조토, 방해석 등의 광물, 옥수수 이삭 축 가루, 호두 껍데기 가루 등의 천연 유기물, 우레아 등의 합성 유기물, 탄산 칼슘, 황산 암모늄 등의 염류, 합성 함수산화 규소 등의 합성 무기물 등을 포함하는 미분말 또는 입상물 등을 들 수 있고, 액체 담체로서는, 예를 들면 크실렌, 알킬벤젠, 메틸나프탈렌 등의 방향족 탄화수소류, 2-프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 셀로솔브 등의 알코올류, 아세톤, 시클로헥사논, 이소포론 등의 케톤류, 대두유, 면실유 등의 식물유, 지방족 탄화수소류, 에스테르류, 디메틸술폭시드, 아세토니트릴 및 물을 들 수 있다.
계면활성제로서는, 예를 들면 알킬황산에스테르염, 알킬아릴술폰산염, 디알킬술포숙신산염, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르 인산에스테르염, 리그닌술폰산염, 나프탈렌술포네이트 포름알데히드 중축합물 등의 음이온 계면활성제 및 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬폴리옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄 지방산 에스테르 등의 비이온 계면활성제를 들 수 있다.
그 밖의 제제용 보조제로서는, 예를 들면 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈 등의 수용성 고분자, 아라비아검, 이르긴산 및 그의 염, CMC (카르복시메탈셀룰로오스), 잔탄검 등의 다당류, 알루미늄마그네슘실리케이트, 알루미나졸 등의 무기물, 방부제, 착색제, PAP (산성 인산이소프로필), BHT 등의 안정화제를 들 수 있다.
본 발명의 식물 병해 방제제는, 예를 들면 식물체에 줄기 잎 처리함으로써 해당 식물을 식물 병해로부터 보호하기 위해서 사용되고, 또한 토양에 처리함으로써 해당 토양에 생육하는 식물을 식물 병해로부터 보호하기 위해서 사용된다.
본 발명의 식물 병해 방제제를 식물체에 줄기 잎 처리함으로써 사용하는 경우 또는 토양에 처리함으로써 사용하는 경우, 그 처리량은 방제 대상 식물인 작물 등의 종류, 방제 대상 병해의 종류, 방제 대상 병해의 발생 정도, 제제 형태, 처리 시기, 기상 조건 등에 의해서 변화시킬 수 있지만 1OOOO m2 당 본 발명 화합물로서 통상 1 내지 5000 g, 바람직하게는 5 내지 1000 g이다.
유제, 수화제, 플로어블제 등은 통상 물로 희석하여 산포함으로써 처리한다. 이 경우, 본 발명 화합물의 농도는 통상 0.0001 내지 3 중량％, 바람직하게는 0.0005 내지 1 중량％의 범위이다. 분제, 입제 등은 통상 희석하는 일 없이 그대로 처리한다.
또한, 본 발명의 식물 병해 방제제는 종자 소독 등의 처리 방법으로 사용할 수 있다. 종자 소독의 방법으로서는, 예를 들면 본 발명 화합물의 농도가 1 내지 1OOO ppm이 되도록 제조한 본 발명의 식물 병해 방제제에 식물의 종자를 침지하는 방법, 식물의 종자에 본 발명 화합물의 농도가 1 내지 1OOO ppm의 본 발명의 식물 병해 방제제를 분무 또는 도말하는 방법 및 식물의 종자에 분제로 제제화된 본 발명의 식물 병해 방제제를 분의 (粉衣)하는 방법을 들 수 있다.
본 발명의 식물 병해 방제 방법은, 통상 본 발명의 식물 병해 방제제의 유효량을, 병해의 발생이 예측되는 식물 또는 그 식물이 생육하는 토양에 처리하고, 그리고(또는) 병해의 발생이 확인된 식물 또는 그 식물이 생육하는 토양으로 처리함으로써 행하여진다.
본 발명의 식물 병해 방제제는 통상 농원예용 식물 병해 방제제, 즉 밭, 논, 과수원, 차밭, 목초지, 잔디밭 등의 식물 병해를 방제하기 위한 식물 병해 방제제로서 사용된다.
본 발명의 식물 병해 방제 제제는 다른 식물 병해 방제 제제, 살충제, 살비제, 살선충제, 제초제, 식물 성장 조절제 및(또는) 비료와 함께 사용할 수 있다.
이러한 식물 병해 방제제의 유효 성분으로서는, 예를 들면 클로로탈로닐, 플아지남, 디클로플루아니드, 포세틸-Al, 시클릭 이미드 유도체 (캡탄, 캡타폴, 포르페트 등), 디티오카바메이트 유도체 (만네브, 만코제브, 티우람, 지램, 지네브, 프로피네브 등), 무기 또는 유기의 구리 유도체 (염기성 황산 구리, 염기성 염화 구리, 수산화 구리, 옥신 구리 (Copper-oxime)등), 아실알라닌 유도체 (메타락실, 푸랄락실, 오푸레이스, 시프로푸란, 베날락실, 옥사딕실 등), 스트로빌루린계 화합물 (크레속심메틸, 아족시스트르빈, 트리플록시스틀로빈, 피콕시스트르빈, 피라클로스트르빈, 디목시스트로빈 등), 아닐리노피리미딘 유도체 (시프로디닐, 피리메타닐, 메파니피림 등), 페닐피롤 유도체 (펜피클로닐, 플루디옥소닐 등), 이미드 유도체 (프로시미돈, 이프로디온, 빈클로졸린 등), 벤즈이미다졸 유도체 (카르벤다짐, 베노밀, 티아벤다졸, 티오파네이트메틸 등), 아민 유도체 (펜프로피몰프, 트리데몰프, 펜프로피딘, 스핀록사민 등), 아졸 유도체 (프로피코나졸, 트리아디메놀, 프로클로라즈, 펜코나졸, 테브코나졸, 플루실라졸, 디니코나졸, 브로무코나졸, 에폭시코나졸, 디페노토코나졸, 시프로코나졸, 메트코나졸, 트리플루미졸, 테트라코나졸, 마이크로부타닐, 펜브코나졸, 헥사코나졸, 플루킨코나졸, 트리티코나졸, 비테르타놀, 이마자릴, 플루트리아폴 등), 시목사닐, 디메토몰프, 파목시아돈, 페나미돈, 이프로바리카르브, 벤티아발리카르브, 시아조파미드, 족사미드, 에타복삼, 니코비펜, 펜헥사미드, 퀴녹시펜, 디에토펜카르브 및 아시벤조랄 S 메틸을 들 수 있다.
본 발명 화합물의 구체적인 예로서는 이하의 화합물을 들 수 있다.
화학식 (i) 내지 (xxxxxv) 아미드 화합물
화학식 i 내지 xxxxxv에 있어서, Z는 이하 중 어느 하나의 기를 나타낸다.
4-플루오로페닐기, 4-클로로페닐기, 4-브로모페닐기, 4-요오드페닐기, 4-메틸페닐기, 4-에틸페닐기, 4-프로필페닐기, 4-이소프로필페닐기, 4-부틸페닐기, 4-(sec-부틸)페닐기, 4-이소부틸페닐기, 4-(tert-부틸)페닐기, 4-비닐페닐기, 4-(1-메틸비닐)페닐기, 4-(1-프로페닐)페닐기, 4-(2-메틸-1-프로페닐)페닐기, 4-(1-부테닐)페닐기, 4-에티닐페닐기, 4-(1-프로피닐)페닐기, 4-(1-부티닐)페닐기, 4-(1-펜타닐)페닐기, 4-(3-메틸-1-부티닐)페닐기, 4-(3,3-디메틸-1-부티닐)페닐기, 4-(플루오로메틸)페닐기, 4-(디플루오로메틸)페닐기, 4-(트리플루오로메틸)페닐기, 4-메톡시페닐기, 4-에톡시페닐기, 4-(플루오로메톡시)페닐기, 4-(디플루오로메톡시)페닐기, 4-(트리플루오로메톡시)페닐기, 4-시아노페닐기, 4-(N,N-디메틸아미노)페닐기, 4-(N,N-디에틸아미노)페닐기, 4-(N,N-디프로필아미노)페닐기, 3,4-디플루오로페닐기, 4-클로로-3-플루오로페닐기, 4-브로모-3-플루오로페닐기, 3-플루오로-4-메틸페닐기, 4-에틸-3-플루오로페닐기, 3-플루오로-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 3-플루오로-4-메톡시페닐기, 4-시아노-3-플루오로페닐기, 4-플루오로-3-클로로페닐기, 3,4-디클로로페닐기, 4-브로모-3-클로로페닐기, 3-클로로-4-메틸페닐기, 3-클로로-4-에틸페닐기, 3-클로로-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 3-클로로-4-메톡시페닐기, 4-시아노-3-클로로페닐기, 3-브로모-4-플루오로페닐기, 3-브로모-4-클로로페닐기, 3,4-디브로모페닐기, 3-브로모-4-메틸페닐기, 3-브로모-4-에틸페닐기, 3-브로모-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 3-브로모-4-메톡시페닐기, 3-브로모-4-시아노페닐기, 4-플루오로-3-메틸페닐기, 4-클로로-3-메틸페닐기, 4-브로모-3-메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 4-에틸-3-메틸페닐기, 3-메틸-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 4-메톡시-3-메틸페닐기, 4-시아노-3-메틸페닐기, 3-에틸-4-플루오로메틸기, 4-클로로-3-에틸페닐기, 4-브로모-3-에틸페닐기, 3-에틸-4-메틸페닐기, 3,4-디에틸페닐기, 3-에틸-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 3-에틸-4-메톡시페닐기, 4-시아노-3-에틸페닐기, 4-플루오로-3-(트리플루오로메틸)페닐기, 4-클로로-3-(트리플루오로메틸)페닐기, 4-브로모-3-(트리플루오로메틸)페닐기, 4-메틸-3-(트리플루오로메틸)페닐기, 4-에틸-3-(트리플루오로메틸)페닐기, 3,4-디-(트리플루오로메틸)페닐기, 4-메톡시-3-(트리플루오로메틸)페닐기, 4-시아노-3-(트리플루오로메틸)페닐기, 4-메톡시카르보닐페닐기, 4-에톡시카르보닐페닐기, 4-페닐페닐기, 3-플루오로-4-페닐페닐기, 3-클로로-4-페닐페닐기, 3-브로모-4-페닐페닐기, 3-메틸-4-페닐페닐기, 3-에틸-4-페닐페닐기, 4-페녹시페닐기, 3-플루오로-4-페녹시페닐기, 3-클로로-4-페녹시페닐기, 3-브로모-4-페녹시페닐기, 3-메틸-4-페녹시페닐기, 3-에틸-4-페녹시페닐기, 4-니트로페닐기, 3-플루오로-4-니트로페닐기, 3-클로로-4-니트로페닐기, 3-브로모-4-니트로페닐기, 3-메틸-4-니트로페닐기, 3-에틸-4-니트로페닐기, 4-메틸티오페닐기, 3-플루오로-4-메틸티오페닐기, 3-클로로-4-메틸티오페닐기, 3-브로모-4-메틸티오페닐기, 3-메틸-4-메틸티오페닐기, 3-에틸-4-메틸티오페닐기, 인단-5-일기, 5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-일기, 6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-일기, 5,6,7,8,9,10-헥사히드로-벤조시클로옥텐-2-일기, 2-나프틸기, 4-플루오로나프탈렌-2-일기, 5-플루오로나프탈렌-2-일기, 6-플루오로나프탈렌-2-일기, 7-플루오로나프탈렌-2-일기, 4-클로로나프탈렌-2-일기, 5-클로로나프탈렌-2-일기, 6-클로로나프탈렌-2-일기, 7-클로로나프탈렌-2-일기, 4-브로모나프탈렌-2-일기, 5-브로모나프탈렌-2-일기, 6-브로모나프탈렌-2-일기, 7-브로모나프탈렌-2-일기, 4-메틸나프탈렌-2-일기, 5-메틸나프탈렌-2-일기, 6-메틸나프탈렌-2-일기, 7-메틸나프탈렌-2-일기, 4-메톡시나프탈렌-2-일기, 5-메톡시나프탈렌-2-일기, 6-메톡시나프탈렌-2-일기, 7-메톡시나프탈렌-2-일기, 4-트리플루오로메틸나프탈렌-2-일기, 5-트리플루오로메틸나프탈렌-2-일기, 6-트리플루오로메틸나프탈렌-2-일기, 7-트리플루오로메틸나프탈렌-2-일기, 5,6-디플루오로나프탈렌-2-일기, 5,6-디클로로나프탈렌-2-일기, 5,6-디메틸나프탈렌-2-일기, 5-플루오로-6-메틸나프탈렌-2-일기, 6-플루오로-5-메틸나프탈렌-2-일기, 5-클로로-6-메틸나프탈렌-2-일기, 6-클로로-5-메틸나프탈렌-2-일기, 6-클로로-5-플루오로나프탈렌-2-일기, 5-클로로-6-플루오로나프탈렌-2-일기,
4-(2-플루오로비닐)페닐기, 4-(2-클로로비닐)페닐기, 4-(2-브로모비닐)페닐기, 4-(2,2-디플루오로비닐)페닐기, 4-(2,2-디클로로비닐)페닐기, 4-(2,2-디브로모비닐)페닐기, 4-(1-메틸-2,2-디클로로비닐)페닐기, 4-(1-메틸-2,2-디브로비닐)페닐기, 4-클로로에티닐페닐기, 4-브로모에티닐페닐기, 4-요오드에티닐페닐기, 4-메톡시메틸페닐기, 4-에톡시메틸페닐기, 4-프로필옥시메틸페닐기, 4-(1-메톡시에틸)페닐기, 4-(2-메톡시에틸)페닐기, 4-(2-메톡시프로필)페닐기, 4-(2-메톡시이소프로필)페닐기, 4-페녹시메틸페닐기, 4-(1-페녹시에틸)페닐기, 4-(2-페녹시에틸)페닐기, 4-(1-페녹시프로필)페닐기, 4-(3-페녹시프로필)페닐기, 4-(4-페녹시부틸)페닐기, 4-(히드록시메틸)페닐기, 4-(1-히드록시에틸)페닐기, 4-(2-히드록시에틸)페닐기, 4-(1-히드록시프로필)페닐기, 4-(1-히드록시부틸)페닐기, 4-메틸술포닐옥시메틸)페닐기, 4-에틸술포닐옥시메틸)페닐기, 4-(1-메틸술포닐옥시에틸)페닐기, 4-(2-술포닐옥시에틸)페닐기, 4-(1-메틸술포닐옥시프로필)페닐기, 4-카르보닐페닐기, 4-메틸카르보닐페닐기, 4-에틸카르보닐페닐기, 4-프로필카르보닐페닐기, 4-이소프로필카르보닐페닐기, 4-메톡시이미노메틸페닐기, 4-(1-메톡시이미노에틸)페닐기, 4-(1-메톡시이미노프로필)페닐기, 4-(1-메톡시이미노부틸)페닐기, 4-에톡시이미노메틸페닐기, 4-(1-에톡시이미노에틸)페닐기, 4-프로폭시이미노메틸페닐기, 4-(1-이소프로폭시이미노에틸)페닐기, 4-(부톡시이미노메틸)페닐기, 4-펜틸옥시이미노메틸페닐기, 4-(1-헥실옥시이미노에틸)페닐기, 4-벤질옥시이미노메틸페닐기, 4-(1-벤질옥시이미노에틸)페닐기, 4-(1-벤질옥시이미노프로필)페닐기, 4-(1-벤질옥시이미노부틸)페닐기, 4-디메틸아미노이미노메틸페닐기, 4-(1-디메틸아미노이미노에틸)페닐기, 4-디에틸아미노이미노메틸페닐기, 4-(1-디에틸아미노이미노에틸)페닐기, 4-트리메틸실릴페닐기, 4-트리에틸실릴페닐기, 4-tert-부틸디메틸실릴페닐기를 들 수 있다.
이하, 본 발명을 제조예, 제제예 및 시험예 등에 의해 더욱 자세히 설명하지만 본 발명은 이들 예에 만에 한정되는 것이 아니다.
우선, 본 발명 화합물의 제조예를 나타낸다.
<제조예 1>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 염화물 200 mg, 4-클로로벤질아민 112 mg, 트리에틸아민 0.17 ㎖ 및 테트라히드로푸란 5 ㎖를 혼합하고, 실온에서 30 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하고, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하고, N-(4-클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 1이라 한다) 212 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 1
<제조예 2>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 200 mg과 4-메틸벤질아민 99 mg을 사용하여 제조예 1과 동일하게 하여 N-(4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 2라 한다). 204 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 2
<제조예 3>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 200 mg, 4-플루오로벤질아민 99 mg을 사용하여 제조예 1과 동일하게 하여 N-(4-플루오로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 3이라 한다) 0.13g을 얻었다.
본 발명 화합물 3
<제조예 4>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 200 mg과 4-브로모벤질아민염산염 176 mg과 트리에틸아민 0.29 ㎖ 및 테트라히드로푸란 5 ㎖를 혼합하고, 실온에서 30 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하고, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5％염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하고, N-(4-브로모벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 4라 한다) 177 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 4
<제조예 5>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-프로판산염화물 300 mg, 4-메톡시벤질아민 163 mg, 트리에틸아민 0.25 ㎖ 및 테트라히드로푸란 10 ㎖를 혼합하고, 실온에서 30 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 물에 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여 N-(4-메톡시벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 5라 한다) 280 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 5
<제조예 6>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 300 mg과 4-(트리플루오로메틸)벤질아민 208 mg을 사용하여 제조예 5와 동일하게 하여 N-{4-(트리플루오로메틸)벤질}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 6이라 한다) 208 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 6
<제조예 7>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 300 mg과 3,4-디클로로벤질아민 209 mg을 사용하여 제조예 5와 동일하게 하여 N-(3,4-디클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 7이라 한다) 430 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 7
<제조예 8>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 300 mg과 4-tert-부틸벤질아민 194 mg을 사용하고 제조예 5와 동일하게 하여 N-(4-tert-부틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 8이라 한다) 511 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 8
<제조예 9>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 염화물 300 mg과 4-(트리플루오로메톡시)벤질아민 227 mg 사용하여 제조예 5와 동일하게 하여 N-{4-(트리플루오로메톡시)벤질}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하 본 발명 화합물 9라 한다) 209 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 9
<제조예 10>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.20 g과 4-디메틸아미노벤질아민염산염 0.27 g과 트리에틸아민 0.28 ㎖를 사용하여 제조예 5와 동일하게 하여 N-(4-디메틸아미노벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 1O이라 한다) 0.40 g을 얻었다.
본 발명 화합물 10
<제조예 11>
3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.81 g, 4-클로로벤질아민 0.46 g, 트리에틸아민 0.64 ㎖ 및 테트라히드로푸란 10 ㎖를 혼합하고, 실온에서 20 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하고, N-(4-클로로벤질)-3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 11이라고 한다) 0.79 g을 얻었다.
본 발명 화합물 11
<제조예 12>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.30 g과 (나프탈렌-2-일)메틸아민 0.19 g과 트리에틸아민 0.5 ㎖를 사용하여 제조예 11과 동일하게 하여 N-{(나프탈렌-2-일)메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 12라 한다) 0.25 g을 얻었다.
본 발명 화합물 12
<제조예 13>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.30 g과 (5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-일)메틸아민염산염 0.23 g과 트리에틸아민 0.42 ㎖를 사용하여 제조예 11과 동일하게 하여 N-{(5,6,7,8테트라히드로나프탈렌-2-일)메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 13이라 한다) 0.41 g을 얻었다.
본 발명 화합물 13
<제조예 14>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.30 g과 4-에틸벤질아민 0.16 g을 사용하여 제조예 5와 동일하게 하여 N-(4-에틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 14라고 한다) 0.40 g을 얻었다.
본 발명 화합물 14
<제조예 15>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 1.1 g과 4-요오드벤질아민 1.0 g, 트리에틸아민 0.98 ㎖ 및 테트라히드로푸란 20 ㎖를 혼합하고, 실온에서 30 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, N-(4-요오드벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 15라고 한다) 1.5 g을 얻었다.
본 발명 화합물 15
<제조예 16>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.50 g과 4-부틸벤질아민 0.32 g, 트리에틸아민 0.41 ㎖ 및 테트라히드로푸란 15 ㎖를 혼합하고, 실온에서 30 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, N-(4-부틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 16이라고 한다) 0.60 g을 얻었다.
본 발명 화합물 16
<제조예 17>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.30 g과 3-플루오로-4-메틸벤질아민 0.17 g과 트리에틸아민 0.25 ㎖를 사용하여 제조예 11과 동일하게 하여 N-(3-플루오로-4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 17이라고 한다) 0.34 g을 얻었다.
본 발명 화합물 17
<제조예 18>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.50 g, 3-플루오로-4-(트리플루오로메틸)벤질아민 0.50 g, 트리에틸아민 0.41 ㎖ 및 테트라히드로푸란 10 ㎖를 혼합하여, 실온에서 30 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, N-{3-플루오로-4-(트리플루오로메틸)벤질}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 18이라고 한다) 0.73 g을 얻었다.
본 발명 화합물 18
<제조예 19>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.5 g과 4-클로로-3-(트리플루오로메틸)벤질아민 0.42 g과 트리에틸아민 0.42 ㎖를 사용하여 제조예 18과 동일하게 하여 N-{4-클로로-3-(트리플루오로메틸)벤질}}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 19라고 한다) 0.76 g을 얻었다.
본 발명 화합물 19
<제조예 20>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.50 g, (인단-5-일)메틸아민염산염 0.36 g, 트리에틸아민 0.8 ㎖ 및 테트라히드로푸란 20 ㎖를 혼합하여, 실온에서 20 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, N-{(인단-5-일)메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 20이라고 한다) 0.34 g을 얻었다.
본 발명 화합물 20
<제조예 21>
3-(3,4-디메톡시페닐)프로판산염화물 0.30 g과 4-클로로벤질아민 0.19 g을 사용하여 제조예 5와 동일하게 하여 N-(4-클로로벤질)-3-(3,4-디메톡시페닐)프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 21이라고 한다) 0.32 g을 얻었다.
본 발명 화합물 21
<제조예 22>
3-(3,4-디메톡시페닐)프로판산염화물 0.30 g, C-(5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-일)메틸아민염산염 0.25 g, 트리에틸아민 O.40 ㎖ 및 테트라히드로푸란 10 ㎖를 혼합하고, 실온에서 20 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, N-{(5,6,7,8테트라히드로나프탈렌-2-일)메틸}-3-(3,4-디메톡시페닐)프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 22라고 한다) 0.35 g얻었다.
본 발명 화합물 22
<제조예 23>
N-(4-메틸벤질)-3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판아미드 300 mg, 요오드화메틸 0.075 ㎖, 탄산칼륨 0.21 g 및 N,N-디메틸포름아미드 5 ㎖를 혼합하여, 실온에서 6 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여 N-(4-메틸벤질)-3-(3,4-디메톡시페닐)프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 23이라고 한다) 226 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 23
<제조예 24>
N-(4-메틸벤질)-3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판아미드 300 mg과 요오드화에틸 0.1 ㎖를 사용하여 제조예 23과 동일하게 하여 N-(4-메틸벤질)-3-(4-에톡시-3-메톡시페닐)프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 24라고 한다) 225 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 24
<제조예 25>
N-(4-메틸벤질)-3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판아미드 300 mg과 요오드화프로필 0.12 ㎖를 사용하여 제조예 23과 동일하게 하여 N-(4-메틸벤질)-3-(3-메톡시-4-프로폭시페닐)프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 25라고 한다) 262 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 25
<제조예 26>
N-(4-메틸벤질)-3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판아미드 300 mg, 브롬화알릴 0.104 ㎖, 탄산칼륨 0.21 g 및 N,N-디메틸포름아미드 5 ㎖를 혼합하고, 60 ℃에서 6 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, N-(4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로페닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 26이라고 한다) 366 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 26
<제조예 27>
N-(4-메틸벤질)-3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판아미드 0.30 g과 1-브로모-2-부틴 0.11 ㎖를 사용하여 제조예 23과 동일하게 하여 N-(4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-부테닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 27이라고 한다) 0.31 g을 얻었다.
본 발명 화합물 27
<제조예 28>
1-메틸-2-프로피놀 0.11 g, 염화 메탄술포닐 0.11 ㎖, 트리에틸아민 0.28 ㎖ 및 테트라히드로푸란 3 ㎖를 혼합하고, 실온에서 30 분 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 아세트산에틸을 가하여 여과하였다. 여액을 감압하 농축하여 얻어진 잔사와, N-(4-메틸벤질)-3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판아미드 0.30 g, 탄산칼륨0.21 g 및 N,N-디메틸포름아미드 5 ㎖를 혼합하여 60 ℃에서 6 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(1-메틸-2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 28이라고 한다) 0.16 g을 얻었다.
본 발명 화합물 28
<제조예 29>
N-(4-트리플루오로메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 1.4 g, 로손 시약 1.6 g 및 테트라히드로푸란 20 ㎖를 혼합하고, 65 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 냉각하여 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 3 ％ 수산화나트륨물, 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-트리플루오로메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 29라고 한다) 1.3 g을 얻었다.
본 발명 화합물 29
<제조예 30>
N-(4-클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.59 g, 로손 시약 0.67 g 및 테트라히드로푸란 10 ㎖를 혼합하여, 65 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 냉각하여, 감압하 농축하였다. 잔사에 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 3 ％ 수산화나트륨물, 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 30이라고 한다) 0.59 g을 얻었다.
본 발명 화합물 30
<제조예 31>
N-(3,4-디클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.40 g, 로손 시약 0.45 g 및 테트라히드로푸란 15 ㎖를 혼합하여, 65 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 냉각하고, 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(3,4-디클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 31이라고 한다) 0.42 g을 얻었다.
본 발명 화합물 31
<제조예 32>
N-(4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.40 g, 로손 시약 0.53 g 및 테트라히드로푸란 10 ㎖를 혼합하여, 65 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 냉각하여, 감압하 농축하였다. 잔사에 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 32라고 한다) 0.38 g을 얻었다.
본 발명 화합물 32
<제조예 33>
N-{(나프탈렌-2-일)메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드0.61 g과 로손 시약 745 mg을 사용하여 제조예 32와 동일하게 하여 N-{(나프탈렌-2-일)메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 33이라고 한다) 0.38 g을 얻었다.
본 발명 화합물 33
<제조예 34>
3-(3,4-디메톡시페닐)프로판산염화물 686 mg과 4-메톡시-3-메틸벤질아민염산염 563 mg과 트리에틸아민 758 mg을 사용하여 제조예 4와 동일하게 하여 N-(4-메톡시-3-메틸벤질)-3-(3,4-디메톡시페닐)프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 34라고 한다) 900 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 34
<제조예 35>
N-(4-메틸벤질)-3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판아미드 0.30 g과 클로로아세토니트릴 0.08 ㎖를 사용하여 제조예 23과 같이 하여 N-(4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-시아노메톡시페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 35라고 한다) 0.19 g을 얻었다.
본 발명 화합물 35
<제조예 36>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 1.0 g과 4-메톡시카르보닐벤질아민염산염 0.90 g을 사용하여 제조예 18과 같이 하여 N-(4-메톡시카르보닐벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 36이라고 한다) 0.82 g을 얻었다.
본 발명 화합물 36
<제조예 37>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 884 mg, 4-페닐벤질아민 641 mg, 트리에틸아민 530 mg 및 테트라히드로푸란 10 ㎖를 혼합하여, 실온에서 1 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, N-(4-페닐벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 37이라고 한다) 1.00 g을 얻었다.
본 발명 화합물 37
<제조예 38>
제조예 37과 동일한 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 884 mg 및 3-클로로-4-메틸-벤질아민 544 mg에서, N-(3-클로로-4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 38이라고 한다) 100 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 38
<제조예 39>
제조예 37과 동일한 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 884 mg 및 3-클로로-4-플루오로벤질아민 559 mg으로부터 N-(3-클로로-4-플루오로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 39라고 한다) 1.03 g을 얻었다.
본 발명 화합물 39
<제조예 4O>
N-(5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-일메틸)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 637 mg, 로손 시약 769 mg 및 테트라히드로푸란 10 ㎖를 혼합하여, 65 ℃에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 냉각하여, 감압하 농축하였다. 잔사에 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-일메틸)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 40이라고 한다) 394 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 40
<제조예 41>
제조예 37과 동일한 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 884 mg 및 4-디플루오로메톡시벤질아민 606 mg에서 N-(4-디플루오로메톡시벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 4 1이라고 한다) 700 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 41
<제조예 42>
제조예 37과 동일한 방법으로, 3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.93 g, 4-메틸벤질아민 0.42 g에서 N-(4-메틸벤질)-3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 42라고 한다) 1.02 g을 얻었다.
본 발명 화합물 42
<제조예 43>
제조예 37과 동일한 방법으로, 3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.93 g, 3,4-디클로로벤질아민 0.62 g에서 N-(3,4-디클로로벤질)-3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 43이라고 한다) 1.34 g을 얻었다.
본 발명 화합물 43
<제조예 44>
제조예 40과 동일한 방법으로, N-(인단-5-일메틸)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 500 mg 및 로손 시약 627 mg에서 N-(인단-5-일메틸)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 44라고 한다) 350 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 44
<제조예 45>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-페닐벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 500 mg 및 로손 시약 571 mg에서 N-(4-페닐벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 45라고 한다) 314 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 45
<제조예 46>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.50 g, 4-니트로벤질아민 0.39 g, 트리에틸아민 0.69 ㎖ 및 테트라히드로푸란 10 ㎖를 혼합하고, 실온에서 1 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-니트로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 46이라고 한다) 0.32 g을 얻었다.
본 발명 화합물 46
<제조예 47>
3-(3,4-디메톡시페닐)프로판산염화물 0.50 g, 4-니트로벤질아민 0.43 g, 트리에틸아민 0.71 ㎖ 및 테트라히드로푸란 1O ㎖를 혼합하여, 실온에서 1 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-니트로벤질)-3-(3,4-디메톡시페닐)프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 47이라고 한다) 0.30 g을 얻었다.
본 발명 화합물 47
<제조예 48>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(3-클로로-4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 560 mg 및 로손 시약 683 mg에서 N-(3-클로로-4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 48이라고 한다) 338 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 48
<제조예 49>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(3-클로로-4-플루오로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 500 mg 및 로손 시약 384 mg에서 N-(3-클로로-4-플루오로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 49라고 한다) 345 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 49
<제조예 50>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-디플루오로메톡시벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 550 mg 및 로손 시약 408 mg에서 N-(4-디플루오로메톡시벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 50이라고 한다) 483 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 50
<제조예 51>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-클로로벤질)-3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 425 mg 및 로손 시약 330 mg에서 N-(4-클로로벤질)-3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 51이라고 한다) 360 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 51
<제조예 52>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-메틸벤질)-3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.53 g 및 로손 시약 0.44 g에서 N-(4-메틸벤질)-3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 52라고 한다) 423 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 52
<제조예 53>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-브로모벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 660 mg 및 로손 시약 435 mg에서 N-(4-브로모벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 53이라고 한다) 463 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 53
<제조예 54>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-요오드벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 541 mg 및 로손 시약 348 mg에서 N-(4-요오드벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 54라고 한다) 360 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 54
<제조예 55>
제조예 37과 동일한 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 632 mg 및 4-메틸티오벤질아민 383 mg에서 N-(4-메틸티오벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 55라고 한다) 830 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 55
<제조예 56>
제조예 37과 동일한 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 632 mg 및 3,4-디메틸벤질아민 338 mg에서 N-(3,4-디메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 56이라고 한다) 830 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 56
<제조예 57>
제조예 37과 동일한 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 1.61 g 및 4-시아노벤질아민 0.84 g에서 N-(4-시아노-벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 57이라고 한다) 1.44 g을 얻었다.
본 발명 화합물 57
<제조예 58>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-메틸티오벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.52 g 및 로손 시약 0.41 g에서 N-(4-메틸티오벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 58이라고 한다) 390 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 58
<제조예 59>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(3,4-디메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.43 g 및 로손 시약 0.36 g에서 N-(3,4-디메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 59라고 한다) 345 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 59
<제조예 60>
제조예 37과 동일한 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.76 g 및 4-메톡시-3-메틸벤질아민염산염 0.56 g에서 N-(4-메톡시-3-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 60이라고 한다) 830 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 60
<제조예 61>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-시아노벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 532 mg 및 로손 시약 435 mg에서 N-(4-시아노벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 61이라고 한다) 449 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 61
<제조예 62>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-메톡시-3-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.55 g 및 로손 시약 0.44 g에서 N-(4-메톡시-3-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 62라고 한다) 383 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 62
<제조예 63>
N-(4-클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 500 mg 및 N,N-디메틸포름알데히드 5 ㎖의 혼합액을 0-5 ℃에서 교반하여, 수소화나트륨 61 mg을 가하고, 30 분 교반한 후, 옥화메틸 199 mg을 적하하여, 0-5 ℃에서 30 분, 그 다음 실온에서 2 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-클로로벤질)-N-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 63이라고 한다) 312 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 63
<제조예 64>
제조예 37과 동일한 방법으로 2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 934 mg 및 4-클로로벤질아민 496 mg에서 N-(4-클로로벤질)-2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 64라고 한다) 720 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 64
<제조예 65>
제조예 37과 동일한 방법으로 2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 934 mg 및 4-메틸벤질아민 424 mg에서 N-(4-메틸벤질)-2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 65라고 한다) 720 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 65
<제조예 66>
제조예 37과 동일한 방법으로 2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 1.07 g 및 3,4-디클로로벤질아민 704 mg에서 N-(3,4-디클로로벤질)-2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 66이라고 한다) 1.05 g을 얻었다.
본 발명 화합물 66
<제조예 67>
제조예 37과 동일한 방법으로 2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 1.07 g 및 (나프탈렌-2-일)메틸아민 628 mg에서 N-{(나프탈렌-2-일)메틸}-2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 67이라고 한다) 480 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 67
<제조예 68>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-클로로벤질)-N-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 500 mg 및 로손 시약 390 mg에서 N-(4-클로로-벤질)-N-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 68이라고 한다) 242 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 68
<제조예 69>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-클로로벤질)-2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 420 mg 및 로손 시약 328 mg에서 N-(4-클로로벤질)-2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 69라고 한다) 451 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 69
<제조예 70>
제조예 37과 동일한 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄산염화물 934 mg 및 4-클로로벤질아민 496 mg에서 N-(4-클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄아미드 (이하, 본 발명 화합물 70이라고 한다) 1.17 g을 얻었다.
본 발명 화합물 70
<제조예 71>
제조예 37과 동일한 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄산염화물 934 mg 및 4-메틸벤질아민 424 mg에서 N-(4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄아미드 (이하, 본 발명 화합물 71이라고 한다) 1.13 g을 얻었다.
본 발명 화합물 71
<제조예 72>
제조예 37과 동일한 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄산염화물 934 mg 및 3,4-디클로로벤질아민 616 mg에서 N-(3,4-디클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄아미드 (이하, 본 발명 화합물 72라고 한다) 1.28 g을 얻었다.
본 발명 화합물 72
<제조예 73>
제조예 37과 동일한 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄산염화물 934 mg 및 (나프탈렌-2-일)메틸아민 550 mg으로부터 N-{(나프탈렌-2-일)-메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄아미드 (이하, 본 발명 화합물 73이라고 한다) 1.21 g을 얻었다.
본 발명 화합물 73
<제조예 74>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-메틸벤질)-2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 420 mg 및 로손 시약 348 mg에서 N-(4-메틸벤질)-2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 74라고 한다) 423 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 74
<제조예 75>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(3,4-디클로로-벤질)-2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 500 mg 및 로손 시약 357 mg에서 N-(3,4-디클로로-벤질)-2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 75라고 한다) 451 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 75
<제조예 76>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-{(나프탈렌-2-일)메틸}-2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 470 mg 및 로손 시약 352 mg N-{(나프탈렌-2-일)메틸}-2-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 76이라고 한다) 1.17 g을 얻었다.
본 발명 화합물 76
<제조예 77>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부틸아미드 500 mg 및 로손 시약 413 mg으로부터 N-(4-메틸-벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 77이라고 한다) 395 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 77
<제조예 78>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(3,4-디클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄아미드 500 mg 및 로손 시약 343 mg에서 N-(3,4-디클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 78이라고 한다) 313 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 78
<제조예 79>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-{(나프탈렌-2-일)메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄아미드 500 mg 및 로손 시약 388 mg에서 N-{(나프탈렌-2-일)메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 79라고 한다) 436 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 79
<제조예 80>
4-클로로벤질아민 566 mg, 3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 937 mg, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염 (이하 WSC라고 기재한다) 805 mg 및 N,N-디메틸 포름알데히드 10 ㎖를 실온에서 4 시간 혼합하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 물 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼 정제에 붙이고, N-(4-클로로벤질)-3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 80이라고 한다) 847 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 80
<제조예 81>
N-(4-클로로벤질)-3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 517 mg, 로손 시약 419 mg 및 테트라히드로푸란 10 ㎖를 혼합하고, 65 ℃에서 5 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 냉각하여, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-클로로벤질)-3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 81이라고 한다) 160 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 81
<제조예 82>
N-(4-클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 538 mg, 및 N,N-디메틸포름아미드 5 ㎖를 혼합하여, 0 ℃까지 냉각하고, 수소화나트륨72 mg을 첨가하여, 0 ℃에서 15 분 정도 교반하였다. 계속해서 브롬화 프로파르길 196 mg을 가하여 0 ℃에서 30 분 교반하고, 또한 실온에서 2 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-클로로벤질)-N-(2-프로피닐)-3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 82라고 한다) 105 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 82
<제조예 83>
4-페녹시벤질아민염산염 943 mg, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 1.01 g, WSC 844 mg 및 피리딘 10 ㎖를 실온에서 4 시간 혼합하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 얼물 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하고, N-(4-페녹시벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 83이라고 한다) 1.31 g을 얻었다.
본 발명 화합물 83
<제조예 84>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(4-페녹시벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 1.0 g 및 로손 시약 681 mg에서 N-(4-페녹시벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 84라고 한다) 250 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 84
<제조예 85>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 300 mg과 2,4-디클로로벤질아민 209 mg을 사용하여 제조예 5와 동일하게 하여 N-(2,4-디클로로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 85라고 한다) 450 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 85
<제조예 86>
N-(4-히드록시벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 1.19 g, 브롬화프로파르길 418 mg, 탄산칼륨 531 mg 및 아세토이트릴 15 ㎖를 혼합하고, 80 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고, 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산수, 물, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, N-{4-(2-프로피닐옥시)벤질}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 86이라고 한다) 1.12 g을 얻었다.
본 발명 화합물 86
<제조예 87>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-{4-(2-프로피닐옥시)벤질}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 793 mg 및 로손 시약 594 mg에서 N-{4-(2-프로피닐옥시)벤질}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 87이라고 한다) 780 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 87
<제조예 88>
N-(4-클로로벤질)-3-{2-클로로-5-메톡시-4-히드록시페닐}프로판아미드 1.9 g, 브롬화프로파르길 0.57 ㎖, 탄산칼륨 1.0 g 및 아세토니트릴 40 ㎖를 혼합하고, 80 ℃에서 1 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고, 아세트산에틸을 가하여 여과하였다. 여액을 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 헥산으로 세정하여 N-(4-클로로벤질)-3-{2-클로로-5-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 88이라고 한다) 1.9 g을 얻었다.
본 발명 화합물 88
<제조예 89>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 586 mg과 (6-메틸나프탈렌-2-일)메틸아민염산염 519 mg을 사용하여 제조예 83과 같이 하여 N-(6-메틸나프탈렌-2-일)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 89라고 한다) 850 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 89
<제조예 90>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 810 mg과 (7-메틸나프탈렌-2-일)메틸아민염산염 720 mg을 사용하여 제조예 83과 같이 하여 N-(7-메틸나프탈렌-2-일)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 90이라고 한다) 730 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 90
<제조예 91>
제조예 40과 동일한 방법으로 N-(7-메틸나프탈렌-2-일)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 420 mg 및 로손 시약 310 mg에서 N-(7-메틸나프탈렌-2-일)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 91이라고 한다) 292 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 91
<제조예 92>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.2 g, 1-(4-클로로페닐)에틸아민 0.12 g, 트리에틸아민 0.2 ㎖ 및 테트라히드로푸란 5 ㎖를 혼합하고, 실온에서 30 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하고, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, N-{1-(4-클로로페닐)에틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로비닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 92라고 한다) 0.21 g을 얻었다.
본 발명 화합물 92
<제조예 93>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 0.84 g과 1-(4-클로로페닐)-3-부티닐아민 0.85 g을 사용하여 제조예 92와 같이 하여 N-{1-(4-클로로페닐)-3-부티닐}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 93이라고 한다) 0.40 g을 얻었다.
본 발명 화합물 93
<제조예 94>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 0.30 g, 1-(3,4-디클로로페닐)에틸아민 0.24 g, WSC 0.26 g 및 디메틸포름아미드 10 ㎖를 혼합하고, 실온에서3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여 N-{1-(3,4-디클로로페닐)에틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 94이라고 한다) 0.25 g을 얻었다.
본 발명 화합물 94
<제조예 95>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 0.30 g과 1-(나프탈렌-2-일)에틸아민 0.29 g을 사용하여 제조예 94와 같이 하여 N-{1-(나프탈렌-2-일)에틸}3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 95라고 한다) 0.23 g을 얻었다.
본 발명 화합물 95
<제조예 96>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 0.30 g과 1-(5,6,7,8테트라히드로나프탈렌-2-일)에틸아민 0.22 g을 사용하여 제조예 94와 같이 하여 N-{1-(5,6,7,8테트라히드로나프탈렌-2-일)에틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 97이라고 한다) 0.22 g을 얻었다.
본 발명 화합물 96
<제조예 97>
3-{3-플루오로-5-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 0.30 g과 4-클로로벤질아민 0.22 g을 사용하여 제조예 94와 같이 하여 N-(4-클로로벤질)-3-{3-플루오로-5-메톡시-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 97이라고 한다) 0.23 g을 얻었다.
본 발명 화합물 97
<제조예 98>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 196 mg과 4-클로로-3-플루오로벤질아민염산염 234 mg을 사용하여 제조예 83과 같이 하여 N-(4-클로로-3-플루오로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물98이라고 한다) 310 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 98
<제조예 99>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 196 mg과 4-클로로-2-플루오로벤질아민염산염 234 mg을 사용하여 제조예 83과 같이 하여 N-(4-클로로-2-플루오로벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물99라고 한다) 330 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 99
<제조예 100>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 562 mg과 (6-플루오로나프탈렌-2-일)메틸아민염산염 508 mg을 사용하여 제조예 83과 같이 하여 N-{(6-플루오로나프탈렌-2-일)메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 100이라고 한다) 540 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 100
<제조예 101>
4-(2-메틸-[1,3]디옥솔란-2-일)벤질아민 10.7 g, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 11.8 g, WSC 10.6 g 및 디메틸포름아미드 150 ㎖를 실온에서 2 시간 혼합하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 물 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사에 아세톤 약 1OO ㎖ 및 p-톨루엔술폰산 약 0.1 g을 가하여, 혼합물을 50 ℃에서 3 시간 교반하였다. 상기 혼합물을 냉각후, 포화 중조수를 가하여 농축하고, 아세트산에틸을 가하여 물로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 고체를 헥산으로 세정하고, N-(4-메틸카르보닐벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 101이라고 한다) 12.5 g을 얻었다.
본 발명 화합물 101
<제조예 102>
N-(4-메틸카르보닐벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.52 g, O-메톡시히드록실아민염산염 0.18 g, 피리딘 0.16 ㎖ 및 에탄올 10 ㎖를 혼합하고, 50 ℃에서 2 시간 혼합하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산으로 2 회, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 고체를 헥산으로 세정하여 N-(4-(1-메톡시이미노에틸)벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 102라고 한다) 0.49 g을 얻었다.
본 발명 화합물 102
<제조예 103>
N-(4-메틸카르보닐벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.50 g, O-벤질옥시히드록실아민염산염 0.26 g, 피리딘 0.12 ㎖ 및 에탄올 10 ㎖를 혼합하여, 50 ℃에서 2 시간 혼합하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산 에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산으로 2 회, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 고체를 헥산으로 세정하여, N-(4-(1-벤디러기시이미노에틸)벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 103이라고 한다) 0.54 g을 얻었다.
본 발명 화합물 103
<제조예 104>
N-(4-메틸카르보닐벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.50 g, 1,1-디메틸하이드라진 0.21 ㎖, 아세트산 1 ㎖ 및 메탄올 10 ㎖를 혼합하고, 환류 조건하에서 1 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산으로 2 회, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 고체를 헥산으로 세정하고, N-(4-(1-디메틸아미노이미노)에틸)벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 104라고 한다) 0.46 g을 얻었다.
본 발명 화합물 1O4
<제조예 105>
4-([1,3]디옥솔란-2-일)벤질아민 13.0 g, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 15.5 g을 사용하여 제조예 101과 같이 하여 N-(4-포르밀벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 105라고 한다) 14.7 g을 얻었다.
본 발명 화합물 105
<제조예 106>
N-(4-포르밀벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.54 g, O-메톡시히드록실아민염산염 0.15 g을 사용하여 제조예 102와 같이 하여 N-(4-메톡시이미노메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 106이라고 한다) 0.54 g을 얻었다.
본 발명 화합물 106
<제조예 107>
N-(4-포르밀벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.56 g, O-벤질옥시히드록실아민염산염 0.31 g을 사용하여 제조예 103과 같이 하여 N-(4-벤질옥시이미노메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 107이라고 한다) 0.64 g을 얻었다.
본 발명 화합물 107
<제조예 108>
N-(4-포르밀벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 3.48 g 및 에탄올 50 ㎖를 혼합하고, 0 ℃에서 수소화붕소나트륨 0.10 g을 혼합하고 실온에서 3 시간 교반 후, 재차 수소화붕소나트륨 O.10 g을 혼합하여 실온에서 1 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 포화 염화암모늄수 및 물을 가하고 감압하에서 농축하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 고체를 헥산으로 세정하여 N-(4-히드록시메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 108이라고 한다) 3.7 g을 얻었다.
본 발명 화합물 108
<제조예 109>
N-(4-히드록시메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 1.5 g, 트리에틸아민 0.71 ㎖ 및 테트라히드로푸란 50 ㎖를 혼합하고, 0 ℃에서 염화 메탄술포닐 0.35 ㎖를 혼합하여 실온에서 30 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여 감압하에서 농축하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 물 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 고체를 헥산으로 세정하여, 메탄술폰산4-{(3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피오닐)아미노메틸}벤질 (이하, 본 발명 화합물 109라고 한다) 1.7 g을 얻었다.
본 발명 화합물 109
<제조예 110>
N-(4-포르밀벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 1.2 g 및 염화메틸렌 30 ㎖를 혼합하고, 빙냉하에서 트리페닐포스핀 5.3 g 및 사브롬화탄소 3.6 g을 혼합하여 빙냉하에서 2 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 아세트산에틸을 가하여, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여 N-(4-(2,2-디브로모비닐)벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 110이라고 한다) 0.2 g을 얻었다.
본 발명 화합물 110
<제조예 111>
메탄술폰산4-{(3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피오닐)아미노메틸}벤질 0.37 g, 브롬화리튬 2.0 g 및 아세톤 20 ㎖를 혼합하여, 환류 조건하에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 아세트산에틸을 가하고, 물로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 고체를 헥산으로 세정하여, N-(4-브로모메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 111이라고 한다) 0.34 g을 얻었다.
본 발명 화합물 111
<제조예 112>
메탄술폰산4-{(3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피오닐)아미노메틸}벤질 0.23 g, 나트륨메톡시드 (28 ％ 메탄올 용액) 0.11 g 및 테트라히드로푸란 5 ㎖를 혼합하여, 실온에서 2 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 아세트산에틸을 가하여, 물 및 포화 중조수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 고체를 헥산으로 세정하여, N-(4-메톡시메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 112라고 한다) 0.15 g을 얻었다.
본 발명 화합물 112
<제조예 113>
페놀 52 mg, 디메틸포름아미드 5 ㎖ 및 55 ％ 수소화나트륨 24 mg을 혼합하여 실온에서 15 분간 교반하였다. 반응 혼합물에 메탄술폰산4-{(3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피오닐)아미노메틸}벤질 0.20 g을 혼합하여, 실온에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 아세트산에틸을 가하여, 5 ％ 염산, 물, 포화 중조수 및 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 고체를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-페녹시메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 113이라 한다) 97 mg을 얻었다.
본 발명 화합물 113
<제조예 114>
N-(4-메틸카르보닐벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 1.0 g 및 수소화붕소나트륨 0.06 g을 사용하고 제조예 108과 동일한 방법으로 N-{4-(1-히드록시에틸)벤질}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 114라고 한다) 1.0 g을 얻었다.
본 발명 화합물 114
<제조예 115>
C-(6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-일)메틸아민 0.30 g, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 0.30 g을 사용하여 제조예 94와 같이 하여 N-{(6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-일)메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 115라고 한다) 0.34 g을 얻었다.
본 발명 화합물 115
<제조예 116>
2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-프로피온산 0.3 g, 염화티오닐 0.15 ㎖ 및 톨루엔 5 ㎖를 혼합하여, 80 ℃에서 1 시간 교반하였다. 실온까지 냉각 후, 감압하에서 농축하고, 얻어진 잔사를, 4-클로로벤질아민 0.22 g과, 트리에틸아민 0.5 ㎖ 및 테트라히드로푸란의 혼합물에 0 ℃에서 혼합하여, 실온에서 1 시간 교반하였다. 반응 혼합물에 물 및 아세트산에틸을 가하여, 유기층을 분리하고, 5 ％ 염산, 포화 중조수 및 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 고체를 헥산으로 세정하여, N-(4-클로로벤질)-2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드 (이하, 본 발명 화합물 116이라고 한다) 0.20 g을 얻었다.
본 발명 화합물 116
<제조예 117>
4-트리메틸실릴벤질아민 0.65 g, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-프로피온산 0.78 g을 사용하여 제조예 94와 같이 하여 N-(4-트리메틸실릴벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 117이라고 한다) 0.68 g을 얻었다.
본 발명 화합물 117
<제조예 118>
메탄술폰산4-{(3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피오닐)아미노메틸}-벤질 0.30 g, 염화리튬 0.30 g을 사용하여 제조예 109와 같이 하여 N-(4-클로로메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물118이라고 한다) 0.25 g을 얻었다.
본 발명 화합물 118
<제조예 119>
3-(3,4-디메톡시페닐)프로판산염화물 0.30 g, (나프탈렌-2-일)메틸아민 0.21 g, 트리에틸아민 0.50 ㎖ 및 테트라히드로푸란 10 ㎖를 혼합하고, 실온에서 20 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5％ 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, N-{(나프탈렌-2-일)메틸}-3-(3,4-디메톡시페닐)프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 119라고 한다) 0.25 g을 얻었다.
본 발명 화합물 119
<제조예 120>
N-(4-포르밀벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 0.65 g 및 염화메틸렌 10 ㎖를 혼합하고, 빙냉하에서 트리페닐포스핀 1.5 g 및 사염화탄소 2 ㎖를 혼합하여 빙냉하에서 2 시간, 이어서 실온에서 15 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 감압하 농축하였다. 얻을 수 있었던 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 2 회 정제하여 N-(4-(2,2-디클로로비닐)벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 120이라고 한다) 0.15 g을 얻었다.
본 발명 화합물 120
<제조예 121>
4-(트리메틸실릴에티닐)벤질아민아세트산염 0.52 g, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 0.42 g, WSC 0.38 g 및 디메틸포름아미드 10 ㎖를 실온에서 4 시간 혼합하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 물, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사와 메탄올 10 ㎖ 및 탄산칼륨 0.5 g을 실온에서 2 시간 교반하였다. 반응 혼합물을 감압하에서 용매를 증류 제거하여, 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사와 실리카 겔 칼럼 정제에 붙이고, N-(4-에테닐벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 121이라 한다) 0.21 g을 얻었다.
본 발명 화합물 121
<제조예 122>
4-시클로프로필벤질아민 0.51 g, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 0.74 g, WSC 0.67 g 및 디메틸포름아미드 10 ㎖를 실온에서 2 시간 혼합하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5％ 염산, 물, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고 황산 마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여 N-(4-시클로프로필벤질)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 122라고 한다) 0.47 g을 얻었다.
본 발명 화합물 122
<제조예 123>
2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 0.2 g, C-나프탈렌-2-일메틸아민염산염 0.15 g, WSC 0.19 g, 피리딘 1 ㎖ 및 디메틸포름아미드 5 ㎖를 실온에서 2 시간 혼합하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 물, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-{(나프탈렌-2-일)메틸}-2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 123이라고 한다) 0.13 g을 얻었다.
본 발명 화합물 123
<제조예 124>
2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물의 조생성물 0.5 g, 4-브롬벤질아민염산염 0.49 g, 트리에틸아민 0.64 ㎖, 디메틸아미노피리딘약 10 mg 및 테트라히드로푸란 10 ㎖를 실온에서 20 분간 혼합하였다. 그 후, 반응 혼합물에 얼음을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 물, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 실리카 겔 칼럼 정제하고 N-(4-브로모벤질)-2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 124라고 한다) 0.23 g을 얻었다.
본 발명 화합물 124
<제조예 125>
2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물의 조생성물 0.5 g 및 3,4-디클로로벤질아민 0.39 g을 사용하여 제조예 124와 같이 하여 N-(3,4-디클로로벤질)-2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 125라고 한다) 0.31 g을 얻었다.
본 발명 화합물 125
<제조예 126>
2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물의 조생성물 0.5 g 및 4-메틸벤질아민 0.27 g을 사용하여 제조예 124와 같이 하여 N-(4-메틸벤질)-2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 126이라고 한다) 0.30 g을 얻었다.
본 발명 화합물 126
<제조예 127>
2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물의 조생성물 0.5 g 및 4-트리플루오로메틸벤질아민 0.39 g을 사용하여 제조예 124와 같이 하여 N-(4-트리플루오로메틸벤질)-2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 127이라고 한다) 0.29 g을 얻었다.
본 발명 화합물 127
<제조예 128>
2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물의 조생성물 0.5 g 및 (5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-일)메틸아민염산염 0.44 g을 사용하여 제조예 124와 같이 하여 N-{(5,6,7,8테트라히드로나프탈렌-2-일)메틸}-2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 (이하, 본 발명 화합물 128이라고 한다) 0.33 g을 얻었다.
본 발명 화합물 128
<제조예 129>
N-(4-클로로벤질)-2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 1.1 g, 로손 시약 0.86 g 및 테트라히드로푸란 30 ㎖를 혼합하고, 65 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 냉각하여, 감압하 농축하였다. 잔사에 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 탄산나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-클로로벤질)-2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판티오아미드 (이하, 본 발명 화합물 129라고 한다) 0.15 g을 얻었다.
본 발명 화합물 129
다음으로 본 발명 중간체의 제조에 대하여 참고 제조예로서 기술한다.
<참고 제조예 1>
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판산에틸 23.8 g, 브롬화프로파르길 11.4 ㎖, 탄산칼륨 20.5 g 및 아세토니트릴 250 ㎖를 혼합하여, 80 ℃에서 2 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고, 아세트산에틸을 가하여 여과하였다. 여액을 감압하 농축하고 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산에틸28.9 g을 얻었다.
<참고 제조예 2>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산에틸 28.9 g, 수산화 리튬 4.0 g, 테트라히드로푸란 300 ㎖ 및 물 100 ㎖를 혼합하여, 65 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여 감압하 농축하였다. 잔사에 5 ％ 염산을 가하여, 클로로포름으로 3 회 추출하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하고, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 22.7 g을 얻었다.
<참고 제조예 3>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 12.7 g, 염화티오닐 4.3 ㎖,톨루엔 100 ㎖ 및 N,N-디메틸포름아미드 약 0.05 g을 혼합하고, 80 ℃에서 30 분간교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 방냉한 후 감압하 농축하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 14.6 g을 얻었다.
<참고 제조예 4>
N-(4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴아미드 6.2 g, 5 ％ 팔라듐탄소 0.6 g, 수산화 팔라듐 O..3 g, 에탄올 1OO ㎖,아세트산에틸 1O㎖, 테트라히드로푸란100 ㎖ 및 36％ 염산1 ㎖를 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 여과하고 여액을 감압하 농축하였다. 잔사에 아세트산에틸과 물을 가하여 분액하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하고, N-(4-메틸벤질)-3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판아미드 4.5 g을 얻었다.
<참고 제조예 5>
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판산 50 g, 브롬화 프로파르길 50 ㎖, 탄산칼륨 88 g 및 아세토니트릴 500 ㎖를 혼합하고, 80 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하여, 아세트산에틸을 가하여 여과하였다. 여액을 감압하 농축하여 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산(2-프로피닐) 67 g을 얻었다.
<참고 제조예 6>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산(2-프로피닐) 67 g, 수산화 리튬 8.08 g, 테트라히드로푸란 400 ㎖ 및 물 200 ㎖를 혼합하여, 65 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여 감압하 농축하였다. 잔사에 5 ％ 염산을 가하여, 클로로포름으로 3 회 추출하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 51 g을 얻었다.
<참고 제조예 7>
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판산 20.0 g, 4-클로로벤질아민 15 g, 2-니트로페닐붕소산 0.51 g 및 톨루엔 300 ㎖를 혼합하여, 환류 조건하에서 딘 스타크 (Dean-Stark) 장치를 사용하여 탈수하면서 4 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합액을 실온까지 냉각하여 약 10O0 ㎖의 아세트산에틸을 가하여, 5 ％ 염산, 포화 중조수, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 톨루엔보다 재결정하여, N-(4-클로로벤질)-3-{4-히드록시-3-메톡시페닐}프로판아미드 28 g을 얻었다.
<참고 제조예 8>
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판산 12.5 g, (C-나프탈렌-2-일)메틸아민10.0 g, WSC 13.4 g 및 N,N-디메틸포름아미드 100 ㎖를 혼합하고, 실온에서 2 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합액에 물을 가하여, 클로로포름으로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하고, N-(나프탈렌-2-일메틸)-3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판아미드 15.1 g을 얻었다.
<참고 제조예 9>
3-(4-히드록시-3-에톡시페닐)프로판산에틸 16.2 g, 브롬화프로파르길 7.3 ㎖, 탄산칼륨 13.2 g 및 아세토니트릴 160 ㎖를 혼합하고, 80 ℃에서 2 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고, 아세트산에틸을 가하여 여과하였다. 여액을 감압하 농축하고 3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산에틸 18.8 g을 얻었다.
<참고 제조예 10>
3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산에틸 28.7 g, 수산화 리튬 2.3 g, 테트라히드로푸란 180 ㎖ 및 물 60 ㎖를 혼합하여, 65 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여 감압하 농축하였다. 혼합물을 메틸= tert-부틸에테르로 세정하고, 수층을 분액하여 5 ％ 염산을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 포화 식염수로 세정 후, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하고, 3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 15.5 g을 얻었다.
<참고 제조예 11>
3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 6.7 g, 염화티오닐 3.2 ㎖, 톨루엔 100 ㎖ 및 N,N-디메틸포름아미드 약 0.03 g을 혼합하고, 80 ℃에서 30 분간, 계속하여 100 ℃에서 30 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각한 후 감압하 농축하고, 3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산염화물 17.5 g을 얻었다.
<참고 제조예 12>
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)부탄산에틸 7.14 g, 3-브롬프로핀 3.93 g, 탄산칼륨 4.98 g 및 아세토니트릴 50 ㎖를 혼합하고, 80 ℃에서 4 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고, 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄산에틸 8.3 g을 얻었다.
<참고 제조예 13>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄산에틸 8.0 g, 수산화 리튬 1.04 g, 테트라히드로푸란 40 ㎖ 및 물 15 ㎖를 혼합하고, 65 ℃에서 4 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여 감압하 농축하였다. 잔사에 5 ％ 염산을 가하여, 클로로포름으로 3 회 추출하여, 유기층을 물 및 포화 식염수로 차례로 세정하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하고, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄산 7.0 g을 얻었다.
<참고 제조예 14>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄산 7.0 g, 염화티오닐 5.0 g 및 톨루엔 100 ㎖를 혼합하고, 50 ℃에서 30 분 교반하고, 계속해서 80 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 방냉한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하고, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부탄산염화물 6.3 g을 얻었다.
<참고 제조예 15>
3-(3-메톡시-4-히드록시페닐)-2-메틸프로판산에틸 5.93 g을 사용하고 참고 제조예 12와 같이 하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-메틸프로판산에틸6.84 g을 얻었다.
<참고 제조예 16>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-메틸프로판산에틸 6.50 g을 사용하고 참고 제조예 13과 같이하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-메틸프로판산 5.33 g을 얻었다.
<참고 제조예 17>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-메틸프로판산 5.03 g을 사용하고 참고 제조예 14와 같이 하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-메틸프로판산염화물 5.09 g을 얻었다.
<참고 제조예 18>
3-(3-메톡시-4-히드록시페닐)-2-플루오로프로판산에틸의 조생성물 2.0 g과 3-브로모프로핀 0.86 ㎖를 사용하고 참고 제조예 12와 같이하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-플루오로프로판산에틸의 조생성물 2.3 g을 얻었다.
<참고 제조예 19>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-플루오로프로판산에틸의 조생성물 2.3 g을 사용하고, 참고 제조예 13과 같이 하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-플루오로프로판산 1.8 g을 얻었다.
<참고 제조예 20>
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-플루오로프로판산 약 4.7 g을 사용하고 참고 제조예 14와 같이 하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-플루오로프로판산 염화물의 조생성물 5.0 g을 얻었다.
다음으로 중간체의 제조에 대하여 참고예로서 기술한다.
<참고예 1>
4-벤질옥시-3-메톡시벤즈알데히드 100 g, 디에틸포스포노아세트산에틸 120 g, 탄산칼륨 570 g 및 물 570 ㎖를 혼합하고, 환류 조건하에서 20 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 방냉한 후, 물을 가하여 아세트산에틸로 2 회 추출하였다. 유 (油)층을 분액하고, 물에 이어 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 에탄올로부터 재결정하여 3-{3-메톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴산에틸 58.6 g을 얻었다.
<참고예 2>
3-{3-메톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴산에틸 33 g, 5 ％ 팔라듐 탄소 0.3 g, 36 ％ 염산 약 0.05 g 및 에탄올 200 ㎖를 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 여과하고 여액을 감압하 농축하였다. 잔사에 아세트산에틸과 물을 가하여 분액하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 활성탄 약 5 g 및 가성 백토 약 5 g을 가하여 여과하고 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, 3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판산에틸 23 g을 얻었다.
<참고예 3>
3-{3-메톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴산에틸 10 g, 20 ％ 수산화나트륨 수용액 10 g에 균일하게 될 때까지 에탄올을 혼합하였다. 얻어진 혼합물을 환류하에서 2 시간 교반하였다. 반응 혼합물을 냉각하고 감압하에서 에탄올을 증류 제거한 후, 물을 가하고, 5 ％ 염산으로 PH=2로 조절하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 포화 식염수로 2회 세정하고 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, 3-{3-메톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴산 9 g을 얻었다.
<참고예 4>
3-{3-메톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴산 5.0 g, 염화티오닐 2 ㎖, 톨루엔 100 ㎖ 및 N,N-디메틸포름아미드 약 0.05 g을 혼합하고, 80 ℃에서 30 분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 방냉한 후, 감압하에서 농축하고, 3-{3-메톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴산염화물을 얻었다. 이 3-{3-메톡시-4-(벤질옥시)페닐}-아크릴산염화물, 4-메틸벤질아민 2.1 g, 트리에틸아민 3.7 ㎖ 및 테트라히드로푸란 100 ㎖를 혼합하여, 실온에서 1 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여 감압하에서 용매를 증류 제거하고, 얻어진 고체를 여집하였다. 이 고체를 헥산으로 세정 후, 건조하고, N-(4-메틸벤질)-3-{3-메톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴아미드 6.5 g을 얻었다.
<참고예 5>
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)아크릴산 50 g, 5 ％ 팔라듐 탄소 0.5 g, 36 ％ 염산 약 0.05 g, 에탄올 250 ㎖ 및 테트라히드로푸란 1OO ㎖를 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 여과하고, 여액을 감압하 농축하여, 3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로판산 52 g을 얻었다.
<참고예 6>
3-에톡시-4-히드록시벤즈알데히드 25 g, 브롬화벤질 27 g, 탄산칼륨 25 g 및 아세토니트릴 250 ㎖를 혼합하고, 환류 조건하에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고 아세트산에틸을 가하여, 고체를 여별하였다. 얻어진 유기층을 감압하 농축하고, 잔사를 메틸=tert-부틸에테르와 헥산으로 세정하여, 4-벤질옥시-3-에톡시벤즈알데히드 36 g을 얻었다.
<참고예 7>
디에틸포스포노아세트산에틸 19 g 및 테트라히드로푸란 400 ㎖를 혼합하고, 빙냉하에서 수소화나트륨 (함량 60 ％) 3.3 g을 가하여 10 분간 교반하였다. 이어서 4-벤질옥시-3-에톡시벤즈알데히드 20 g과 테트라히드로푸란 50 ㎖의 혼합물을 빙냉하 서서히 가하여, 실온에서 1 시간 교반하였다. 얻어진 혼합물에 물을 가하고, 감압하에서 유기 용매를 증류 제거 후, 아세트산에틸로 추출하였다. 유층을 분액하고, 물, PH 6.8 완충액 계속하여 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고, 얻어진 잔사를 헥산으로 세정하여 3-{3-에톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴산에틸 25 g을 얻었다.
<참고예 8>
3-{3-에톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴산에틸 23 g, 5 ％ 팔라듐 탄소 0.2 g, 36 ％ 염산 약 0.04 g, 에탄올 12O ㎖ 및 테트라히드로푸란 1OO ㎖를 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 여과하여, 여액을 감압하 농축하여 잔사를 헥산으로 세정하여, 3-(4-히드록시-3-에톡시페닐)프로판산에틸 17 g을 얻었다.
<참고예 9>
4-아세틸-2-메톡시페놀 30 g, 브롬화벤질 32 g, 탄산칼륨 28 g 및 아세토니트릴 300 ㎖를 혼합하고, 환류 조건하에서 4 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고 아세트산에틸을 가하여, 고체를 여별하였다. 얻어진 유기층을 감압하 농축하고, 잔사를 헥산으로 세정하여, 4-벤질옥시-3-메톡시아세토페논46 g을 얻었다.
<참고예 10>
디에틸포스포노아세트산에틸 18 g 및 테트라히드로푸란 400 ㎖를 혼합하고, 빙냉하에서 수소화나트륨 (함량 60 ％) 3.2 g을 가하여 10 분간 교반하였다. 계속하여 4-벤질옥시-3-메톡시아세토페논 20 g과 테트라히드로푸란 50 ㎖의 혼합물을 빙냉하 서서히 가하여, 실온에서 2 시간 교반하였다. 얻어진 혼합물에 물을 가하고, 감압하에서 유기 용매를 증류 제거 후, 아세트산에틸로 추출하였다. 유층을 분액하여, 물에 이어서 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고, 얻어진 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여 3-(3-메톡시-4-벤질옥시페닐)-2-부텐산에틸 17 g을 얻었다.
<참고예 11>
3-{4-벤질옥시-3-메톡시-페닐}-2-부텐산에틸 10.0 g, 10 ％ 팔라듐 탄소 1.0 g, 진한 염산15 ㎖, 10 ％ 백금 탄소 0.5 g 및 에탄올 100 ㎖를 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 여과하고, 여액을 감압하 농축하였다. 잔사를 아세트산에틸로 분액하고, 3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)부탄산에틸7.24 g을 얻었다.
<참고예 12>
4-벤질옥시-3-메톡시벤즈알데히드 30 g, 프로판산나트륨 12 g 및 무수 프로판산 24 g을 혼합하여, 150 ℃에서 6 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 방냉한 후, 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유층을 분액하고, 5 ％ 염산, 이어서 포화 식염수로 2 회에 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 톨루엔 및 헥산으로 세정하여 3-(3-메톡시-4-벤질옥시페닐)-2-메틸아크릴산 28 g을 얻었다.
<참고예 13>
에탄올 75 ㎖에 염화아세틸 9 ㎖를 혼합하여 실온에서 10 분간 교반한 혼합물에 3-(3-메톡시-4-벤질옥시페닐)-2-메틸아크릴산 8.3 g을 혼합하고, 환류 조건하에서 2 시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 여과 후, 감압하에서 농축하고, 잔사와 10 ％ 팔라듐 탄소 1.0 g, 10 ％ 백금 탄소 0.5 g, 36 ％ 염산 15 ㎖ 및 에탄올 80 ㎖를 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 여과하고, 여액을 감압하 농축하고 잔사를 헥산으로 세정하여, 3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)-2-메틸-프로판산에틸 5.4 g을 얻었다.
<참고예 14>
3-히드록시-4-메톡시-벤즈알데히드 15.2 g, 브롬화벤질 18.0 g, 탄산칼륨15.2 g 및 아세토니트릴 200 ㎖를 혼합하고, 80 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고, 아세트산에틸을 가하여 여과하였다. 여액을 감압하 농축하고, 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여 (3-벤질옥시-4-메톡시)벤즈알데히드 23.3 g을 얻었다.
<참고예 15>
수소화 나트륨 2.1 g 및 테트라히드로푸란 150 ㎖를 0 내지 5 ℃로 혼합하고, 디에틸포스포노아세트산에틸 11.2 g을 조금씩 적하하였다. 적하 후, 30 분간 교반하였다. 계속해서, (3-벤질옥시-4-메톡시)벤즈알데히드 12.1 g의 테트라히드로푸란 혼합액을 적하하여 0 내지 5 ℃에서 15 분 교반하여, 실온에서 30 분간 교반하였다. 그 후, 물을 가하고 아세트산에틸로 분액하여, 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산 세정하여, 3-(3-벤질옥시-4-메톡시페닐)아크릴산에틸 14.1 g을 얻었다.
<참고예 16>
3-(3-벤질옥시-4-메톡시페닐)아크릴산에틸 8.0 g, 10 ％ 팔라듐 탄소 0.8 g, 및 에탄올 80 ㎖를 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 여과하고 여액을 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여3-(3-히드록시-4-메톡시페닐)프로판산에틸 5.53 g을 얻었다.
<참고예 17>
참고 제조예 12와 동일한 방법으로, 3-(3-히드록시-4-메톡시페닐)프로판산에틸 2.24 g에서 3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산에틸 2.53 g을 얻었다.
<참고예 18>
참고 제조예 13과 동일한 방법으로, 3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산에틸 2.53 g에서 3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 1.93 g을 얻었다.
<참고예 19>
4-히드록시-벤질아민염산염 1.59 g, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-프로판산 2.34 g, WSC 2.11 g 및 피리딘 25 ㎖를 혼합하여, 실온에서 4 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 물, 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-히드록시-벤질)-3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판아미드 2.1 g을 얻었다.
<참고예 20>
N-(4-클로로벤질)-3-{4-히드록시-3-메톡시페닐}프로판아미드 10 g, 브롬화벤질 5.6 g, 탄산칼륨 5.6 g 및 아세토니트릴 150 ㎖를 혼합하여, 환류 조건하에서 4 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고 아세트산에틸을 가하여, 고체를 여별하였다. 얻어진 유기층을 감압하 농축하고, 잔사를 헥산으로 세정하여, N-(4-클로로벤질)-3-{4-벤질옥시-3-메톡시페닐}프로판아미드 11 g을 얻었다.
<참고예 21>
N-(4-클로로벤질)-3-{4-벤질옥시-3-메톡시페닐}프로판아미드 3.7 g, 모노클로로벤젠 50 ㎖ 및 염화 술푸릴 0.75 g 150 ㎖를 혼합하여, 실온에서 1 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 톨루엔을 가하여, 고체를 여별하였다. 얻어진 고체를 톨루엔 및 헥산으로 세정하고 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-클로로벤질)-3-{4-벤질옥시-2-클로로-5-메톡시페닐}프로판아미드 3.3 g을 얻었다.
<참고예 22>
N-(4-클로로벤질)-3-{4-벤질옥시-2-클로로-5-메톡시페닐}프로판아미드 3.0 g, 아세트산 50 ㎖ 및 48 ％ 브롬화수소산 1.48 g을 혼합하여, 80 ℃에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 감압하에서 농축하고 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, N-(4-클로로벤질)-3-{2-클로로-4-히드록시-5-메톡시페닐}프로판아미드 2.2 g을 얻었다.
<참고예 23>
3-플루오로-4-히드록시-5-메톡시벤즈알데히드 1.1 g, 브롬화벤질 1.2 g, 탄산칼륨 1.3 g 및 아세토니트릴 15 ㎖를 혼합하여, 환류 조건하에서 4 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고 아세트산에틸을 가하여, 고체를 여별하였다. 얻어진 유기층을 감압하 농축하고, 잔사를 헥산으로 세정하여, 4-벤질옥시-3-플루오로-5-메톡시벤즈알데히드 1.8 g을 얻었다. 다음으로 디에틸포스포노아세트산에틸 1.5 g 및 테트라히드로푸란 20 ㎖를 혼합하고, 빙냉하에서 수소화나트륨 (함량 55 ％) 0.29 g 가하여 10 분간 혼합한 혼합물에, 4-벤질옥시-3-플루오로-5-메톡시벤즈알데히드 1.8 g과 테트라히드로푸란 5 ㎖의 혼합물을 빙냉하 서서히 가하여, 실온에서 1 시간 교반하였다. 얻어진 혼합물에 물을 가하여, 감압하에서 유기 용매를 증류 제거 후, 아세트산에틸로 추출하였다. 유층을 분액하여, 5％ 염산, 포화 중조수 계속하여 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고, 얻어진 잔사를 헥산으로 세정하여 3-(4-벤질옥시-3-플루오로-5-메톡시페닐)아크릴산에틸 3.6 g을 얻었다.
<참고예 24>
3-(4-벤질옥시-3-플루오로-5-메톡시페닐)아크릴산에틸 3.6 g, 5 ％ 팔라듐탄소 0.1 g, 36 ％ 염산 약 0.01 g, 에탄올 50 ㎖를 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 여과하고, 여액을 감압하 농축하여, 3-(3-플루오로-4-히드록시-5-메톡시페닐)프로판산에틸 2.2 g을 얻었다.
<참고 제조예 25>
3-(3-플루오로-4-히드록시-5-메톡시페닐)프로판산에틸 2.3 g, 브롬화프로파르길 0.63 ㎖, 탄산칼륨 1.23 g 및 아세토니트릴 300 ㎖를 혼합하고, 환류 조건하에서 1 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고, 아세트산에틸을 가하여 여과하였다. 여액을 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사, 수산화 리튬 0.54 g, 테트라히드로푸란 40 ㎖ 및 물 20 ㎖를 혼합하고, 환류 조건하에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여 감압하 농축하였다. 혼합물을 메틸=tert-부틸에테르로 세정하고, 수층을 분액하여 5 ％ 염산을 가하고, 클로로포름으로 3회 추출하였다. 유기층을 황산 마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하여, 3-{3-플루오로-5-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 1.5 g을 얻었다.
<참고예 26>
수소화알루미늄리튬 7.58 g 및 테트라히드로푸란 100 ㎖를 혼합하고, 2-나프토니트릴 15.3 g의 테트라히드로푸란 용액을 조금씩 적하하여, 실온에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 0 내지 5 ℃로 냉각하고, 가성 소다수를 조금씩 적하하였다. 적하 후, 여과하고, 여액을 감압하 농축하였다. 잔사에 아세트산에틸과 물을 가하여 분액하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 헥산으로 세정하고, C-나프탈렌-2-일-메틸아민 12.5 g을 얻었다.
<참고예 27>
염화 알루미늄 31 g 및 염화 메틸렌 150 ㎖의 혼합물을 빙냉하고, 에틸옥살릴클로라이드 30 g을 혼합하고 빙냉하에서 30 분간 교반하여 얻어진 혼합물을 인단 22 g 및 염화 메틸렌 200 ㎖의 혼합물에 빙냉하에서 서서히 가하여 실온에서 1 시간 교반하였다. 반응 혼합물을 얼음물에 서서히 혼합하고 유기층을 분액하였다. 유기층을 물로 세정하고 황산마그네슘으로 건조한 후 감압하 농축하여 인단-5-일-옥소 아세트산에틸의 조생성물 37 g을 얻었다.
<참고예 28>
인단-5-일-옥소-아세트산에틸의 조생성물 25 g, 수소화붕소나트륨 7.0 g 및 에탄올 250 ㎖의 혼합물을 실온에서 1 시간, 계속하여 60 ℃에서 2 시간 교반하였다. 반응 혼합물에 물을 가하고, 감압하에서 유기 용매를 증류 제거한 후, 36 ％ 염산으로 pH=2로 조절하여, 클로로포름으로 추출하였다. 유기층을 물로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하에서 유기 용매를 증류 제거하여, 잔사를 헥산으로 세정하여 인단-5-일-에탄-1,2 디올 11 g을 얻었다.
<참고예 29>
인단-5-일-에탄-1,2디올의 조생성물 11 g, 과요오드산 18 g, 물 100 ㎖ 및 에탄올 100 ㎖의 혼합물을 실온에서 12 시간 교반하였다. 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하고, 물로 2회 세정 후, 감압하에서 유기 용매를 증류 제거한 후, 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여 인단-5-카르보알데히드 8.1 g을 얻었다.
<참고예 30>
인단-5-카르보알데히드 8.1 g, 히드록실아민염산염 4.3 g, 아세트산나트륨5.0 g, 물 25 ㎖ 및 에탄올 100 ㎖의 혼합물을 실온에서 1 시간 교반하였다. 반응 혼합물에 물을 가하고, 메틸=tert-부틸에테르로 추출하고, 물에 이어 포화 식염수로 세정 후, 감압하에서 유기 용매를 증류 제거하였다. 얻어진 잔사를 헥산으로 세정하여 인단-5-카르보알데히드옥심 6.3 g을 얻었다.
<참고예 31>
인단-5-카르보알데히드옥심 3.0 g, 10 ％ 팔라듐탄소 0.8 g, 36 ％ 염산 약3.8 ㎖, 에탄올 90 ㎖를 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 여과하고, 여액을 감압하 농축하여, 인단-5-일-메틸아민염산염 3.2 g을 얻었다.
<참고예 32>
참고예 27과 동일한 방법으로, 테트라인 58 g에서 5,6,7,8-테트라히드로-나프탈렌-2-일-옥소-아세트산에틸의 조생성물 55 g을 얻었다.
<참고예 33>
참고예 28과 동일한 방법으로, 5,6,7,8-테트라히드로-나프탈렌-2-일-옥소-아세트산에틸의 조생성물 30 g으로부터 5,6,7,8-테트라히드로-나프탈렌-2-일-에탄-1,2 디올 17 g을 얻었다.
<참고예 34>
참고예 29와 동일한 방법으로, 5,6,7,8-테트라히드로-나프탈렌-2-일-에탄-1,2디올 16 g으로부터 5,6,7,8-테트라히드로-나프탈렌-2-카르보알데히드 13 g을 얻었다.
<참고예 35>
참고예 30과 동일한 방법으로, 5,6,7,8-테트라히드로-나프탈렌-2-카르보알데히드 2.6 g으로부터 5,6,7,8-테트라히드로-나프탈렌-2-카르보알데히드옥심 1.5 g을 얻었다.
<참고예 36>
참고예 31과 동일한 방법으로, 5,6,7,8-테트라히드로-나프탈렌-2-카르보알데히드옥심 2.6 g으로부터 5,6,7,8-테트라히드로-나프탈렌-2-일-메틸아민염산염 1.5 g을 얻었다.
<참고예 37>
참고예 30과 동일한 방법으로, 4-메톡시-3-메틸벤즈알데히드 5.40 g으로부터 4-메톡시-3-메틸벤즈알데히드옥심 이성체의 혼합물 4.69 g을 얻었다.
<참고예 38>
참고예 31과 동일한 방법으로, 4-메톡시-3-메틸-벤즈알데히드옥심 이성체의 혼합물 4.69 g으로부터 4-메톡시-3-메틸-벤질아민염산염 4.50 g을 얻었다.
<참고예 39>
참고예 30과 동일한 방법으로, 4-페녹시-벤즈알데히드 4.96 g으로부터 4-페녹시-벤즈알데히드옥심 이성체의 혼합물 5.00 g을 얻었다.
<참고예 4O>
참고예 31과 동일한 방법으로, 4-페녹시-벤즈알데히드옥심 이성체의 혼합물4.61 g으로부터 4-페녹시-벤질아민염산염 4.71 g을 얻었다.
<참고예 41>
프탈이미드칼륨 9.5 g, 4-시아노벤질브로마이드 10 g 및 디메틸포르미 10O ㎖를 혼합하여 1OO ℃에서 4 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유층을 5％ 염산, 포화 중조수, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 헥산으로 세정하여 N-(4-시아노-벤질)프탈이미드 13 g을 얻었다.
<참고예 42>
N-(4-시아노-벤질)프탈이미드 4.00 g 및 메탄올 15 ㎖의 혼합물에 하이드라진 1 수화물 0.90 g을 적하하여 65 ℃에서 2 시간반 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하여 물을 가하여, 감압하 농축하였다. 잔사에 1N-염산수를 가하여, 여과하였다. 여액에 아세트산에틸을 가하여, 25 ％ 가성 소다수, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고, 조(粗) 4-시아노벤질아민 0.84 g을 얻었다.
<참고예 43>
참고예 30과 동일한 방법으로써, 4-벤질옥시-벤즈알데히드 6.39 g에서 4-벤질옥시-벤즈알데히드옥심 이성체의 혼합물 6.4 g을 얻었다.
<참고예 44>
참고예 31과 동일한 방법으로, 4-벤질옥시-벤즈알데히드옥심 이성체의 혼합물6.4 g에서 4-히드록시-벤질아민염산염 4.0 g을 얻었다.
<참고예 45>
2,6-디메틸나프탈렌 1.87 g 및 50 ％ 아세트산 수용액 200 ㎖를 혼합하여, 80 ℃에서 가열 현탁 상태로 하였다. 이 혼합액에 질산2암모늄세륨 (IV) 26.3 g 및 50 ％ 아세트산 수용액 400 ㎖의 혼합 용액을, 약 1 시간 동안 적하하였다. 또한 80 ℃에서 1 시간 교반하였다. 그 후, 반응액을 실온까지 냉각하여, 클로로포름으로 추출하였다. 유기층을 물, 포화 중조수, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카 겔 칼럼 정제하고, 6-메틸-2-나프토알데히드 0.90 g을 얻었다.
<참고예 46>
참고예 30과 동일한 방법으로, 6-메틸-2-나프토알데히드 1.74 g으로부터 6-메틸-2-나프토알데히드옥심의 이성체 혼합물 1.56 g을 얻었다.
<참고예 47>
참고예 31과 동일한 방법으로 6-메틸-2-나프토알데히드옥심 이성체의 혼합물 1.46 g으로부터 C-(6-메틸-나프탈렌-2-일)-메틸아민염산염 1.60 g을 얻었다.
<참고예 48>
참고예 45와 동일한 방법으로 2,7-디메틸나프탈렌 1.87 g으로부터 7-메틸-2-나프토알데히드0.85 g을 얻었다.
<참고예 49>
참고예 30과 동일한 방법으로 7-메틸-2-나프토알데히드 1.32 g으로부터 7-메틸-2-나프토알데히드옥심 이성체의 혼합물 0.78 g을 얻었다.
<참고예 50>
참고예 31과 동일한 방법으로 7-메틸-2-나프토알데히드옥심 이성체의 혼합물0.78 g에서 C-(7-메틸-나프탈렌-2-일)-메틸아민염산염 0.72 g을 얻었다.
<참고예 51>
테트라히드로푸란 500 ㎖과 수소화칼륨 (유동 파라핀 혼합물, 함량 35 ％) 8.7 g을 혼합하였다. 0 ℃로 냉각하여 4-클로로페닐아세트산에틸 15 g을 혼합하고 0 ℃에서 30 분간 교반 후, 3-브로모프로핀 5.7 ㎖를 서서히 혼합하여, 0 ℃에서 30 분, 계속하여 실온에서 8 시간 혼합하였다. 반응 혼합물에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하고, 유층을 5 ％ 염산, 포화 중조수, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하여 2-(4-클로로페닐)-4-펜텐산에틸 13 g을 얻었다. 2-(4-클로로페닐)-4-펜틴산에틸 13 g, 20 ％ 가성 소다 수용액 27 ㎖ 및 에탄올 약 60 ㎖를 0 ℃에서 혼합하고, 70 ℃에서 1 시간 교반한 반응 혼합물에 물을 가하고, 5 ％ 염산으로 PH=2로 조절하고, 아세트산에틸로 추출하였다. 유층을 PH 6.8 완충액, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 헥산으로 세정하여 2-(4-클로로페닐)-4-펜틴산 1O g을 얻었다.
<참고예 52>
2-(4-클로로페닐)-4-펜틴산 1.0 g, 디페닐포스포릴아지드 1.2 ㎖, 트리에틸아민 1 ㎖와 tert-부탄올 15 ㎖를 혼합하여, 환류 조건하에서 3 시간 교반한 반응 혼합물을 냉각하여 물을 가하고 아세트산에틸로 추출하여, 유층을 5 ％ 염산, 포화 중조수, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사 ({1-(4-클로로페닐)-3-부티닐아민}카르밤산 tert-부틸)과와 트리플루오로아세트산 1 ㎖, 아세트산 6 ㎖ 및 물 3 ㎖에 혼합하고, 70 ℃에서 3 시간 교반한, 반응 혼합물을 감압하에서 농축하고 1-(4-클로로페닐)-3-부티닐아민아세트산염의 조생성물 0.85 g을 얻었다. 얻어진 1-(4-클로로페닐)-3-부테닐아민아세트산염은 정제하지 않고 그대로 사용하였다.
<참고예 53>
4-클로로아세토페논 10 g, 포름아미드 12 g 및 포름산 1.0 g을 혼합하여, 170 ℃에서 6 시간 교반하였다. 반응 혼합물을 실온까지 냉각 후에 물을 가하고, 아세트산에틸로 추출하고, 유층을 물로 차례로 세정하여, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 36 ％ 염산을 혼합하여 100 ℃에서 1 시간 교반한 반응 혼합물에 물을 가하여, 메틸=tert-부틸에테르로 세정하였다. 수층을 20 ％ 가성 소다 수용액으로 PH=10으로 조절하고, 메틸=tert-부틸에테르로 2 회 추출하였다. 유층을 물 계속하여 포화 식염수로 차례로 세정하여, 탄산칼륨으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 헥산으로 세정하고 1-(4-클로로페닐)-에틸아민 8.4 g을 얻었다.
<참고예 54>
참고예 53과 동일한 방법으로, 3,4-디클로로아세토페논 9.5 g에서 1-(3,4-디클로로페닐)에틸아민 6.6 g을 얻었다.
<참고예 55>
참고예 53과 동일한 방법으로, 2-아세틸나프탈렌 5.3 g에서 1-나프탈렌-2-일에틸아민 4.1 g을 얻었다.
<참고예 56>
2-아세틸-5,6,7,8-테트라히드로-나프탈렌 3.0 g, 포름아미드 3.1 g 및 포름산 0.34 g을 혼합하여, 170 ℃에서 6 시간 교반하였다. 반응 혼합물을 실온까지 냉각 후에 물을 가하여, 아세트산에틸로 추출하여, 유층을 물로 차례로 세정하여, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 36 ％ 염산을 혼합하여 100 ℃에서 1 시간 교반한 반응 혼합물에 물을 가하여 생성물을 여별하고 감압하에서 건조하여 1-(5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2일)-에틸아민염산염 2.5 g을 얻었다.
<참고예 57>
4-클로로-2-플루오로벤즈알데히드 4.75 g 및 메탄올 30 ㎖를 혼합하였다. 0 ℃로 냉각하고 수소화붕소나트륨 0.57 g을 가하여 0 ℃에서 30 분, 그 다음에 실온에서 1 시간 교반하였다. 반응 혼합액에 물을 가하고, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 클로로포름으로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여, (4-클로로-2-플루오로페닐)메탄올 4.57 g을 얻었다.
<참고예 58>
(4-클로로-2-플루오로-페닐)메탄올 4.75 g, 트리에틸아민 4.31 g 및 테트라히드로푸란 60 ㎖를 혼합하였다. 0 ℃로 냉각하여 염화 메탄술폰산 4.24 g을 가하여 0 ℃에서 30 분, 다음으로 실온에서 2 시간 교반하였다. 반응 혼합액에 물을 가하여, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 클로로포름으로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고, 메탄술폰산(4-클로로-2-플루오로벤질) 3.4 g을 얻었다.
<참고예 59>
프탈이미드칼륨 2.64 g, 메타디술폰산(4-클로로-2-플루오로-벤질) 3.4 g 및 N,N-디메틸포름알데히드 80 ㎖를 혼합하여 실온에서 2 시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 가하여, 클로로포름으로 추출하였다. 유기층을 5 ％ 염산, 물, 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 헥산으로 세정하여 N-(4-클로로-2-플루오로-벤질)프탈이미드2.92 g을 얻었다.
<참고예 60>
N-(4-클로로-2-플루오로-벤질)프탈이미드 2.7 g 및 메탄올 50 ㎖의 혼합액에 하이드라진 1 수화물 0.90 g을 적하하고 65 ℃에서 2 시간반 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고 물을 가하여, 감압하 농축하였다. 잔사에 1N-염산수를 가하고, 여과하였다. 여액에 클로로포름을 가하고, 상기 혼합액의 수층이 염기성이 될 때까지 25 ％ 수산화 나트륨 수용액을 가하고 분액하여, 얻어진 유기층을 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고, 얻어진 잔사에 아세토니트릴 20 ㎖ 및 진한 염산2 ㎖를 가하였다. 그 후, 감압하 농축하여 얻어진 잔사를 헥산으로 세정하여 4-클로로-2-플루오로-벤질아민염산염 1.13 g을 얻었다.
<참고예 61>
참고예 57과 동일한 방법으로, 4-클로로-3-플루오로벤즈알데히드 3.96 g으로부터 (4-클로로-3-플루오로-페닐)메탄올 3.98 g을 얻었다.
<참고예 62>
참고예 58과 동일한 방법으로, (4-클로로-3-플루오로-페닐)메탄올 3.98 g으로부터 메탄술폰산(4-클로로-3-플루오로-벤질) 5.77 g을 얻었다.
<참고예 63>
참고예 59와 동일한 방법으로, 메탄술폰산(4-클로로-3-플루오로-벤질) 5.77 g으로부터 N-(4-클로로-3-플루오로-벤질)프탈이미드 6.23 g을 얻었다.
<참고예 64>
참고예 60과 동일한 방법으로, N-(4-클로로-3-플루오로-벤질)프탈이미드 6.23 g으로부터 4-클로로-3-플루오로-벤질아민염산염 1.2 g을 얻었다.
<참고예 65>
참고예 45와 동일한 방법으로, 2-플루오로-6-메틸나프탈렌 1.0 g으로부터 6-플루오로-2-나프토알데히드 0.25 g을 얻었다.
<참고예 66>
참고예 30과 동일한 방법으로, 6-플루오로-2-나프토알데히드 0.55 g으로부터 6-플루오로-2-나프토알데히드옥심 이성체의 혼합물 0.53 g을 얻었다.
<참고예 67>
참고예 31과 동일한 방법으로 6-플루오로-2-나프토알데히드옥심 이성체의 혼합물 0.53 g으로부터 C-(6-플루오로-나프탈렌-2-일)-메틸아민염산염 0.51 g을 얻었다.
<참고예 68>
4-시아노아세토페논 10 g, 에틸렌글리콜 6.4 g, p-톨루엔술폰산 약 0.1 g 및 톨루엔 150 ㎖를 탈수하면서 환류 조건하에서 3 시간 교반하였다. 계속하여 재차에틸렌글리콜 5 ㎖를 혼합하여 탈수하면서 환류 조건하에서 3 시간 교반하였다. 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고, 물, 포화 중조수 및 포화 식염수로 차례로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔사를 헥산으로 세정하여 4-(2-메틸-[1,3]디옥솔란-2-일)벤조니트릴 11 g을 얻었다.
<참고예 69>
알루미늄 하이드라이드 4.4 g을 테트라히드로푸란 150 ㎖에 혼합하고, 4-(2-메틸-[1,3]디옥솔란-2-일)벤조니트릴 10 g과 테트라히드로푸란 30 ㎖의 혼합물을 서서히 혼합하였다. 반응 혼합물을 환류 조건하에서 2 시간 교반하고, 실온에 냉각후, 20 ％ 수산화 나트륨 수용액 9 ㎖ 및 물 11 ㎖를 서서히 혼합하고 계속하여 실온에서 1 시간 교반 후 여과하여, 고체를 제거하였다. 얻어진 용액을 감압하에서 농축하여 4-(2-메틸-[1,3]디옥솔란-2-일)벤질아민 11 g을 얻었다.
<참고예 70>
4-시아노벤즈알데히드 11 g, 에틸렌글리콜 8.6 g을 사용하여 참고예 68과 동일한 방법으로 4-([1,3]디옥솔란-2-일)벤조니트릴 13 g을 얻었다.
<참고예 71>
알루미늄 하이드라이드 5.5 g 및 4-([1,3]디옥솔란-2일)-벤조니트릴 13 g을 사용하여 참고예 69와 동일한 방법을 사용하여 4-([1,3]디옥솔란-2-일)벤질아민 13 g을 얻었다.
<참고예 72>
1-벤조수베론 25 g, 에탄올 300 ㎖ 및 수소화붕소나트륨 3.0 g을 실온에서 3 시간 혼합하였다. 혼합물에 포화 염화암모늄 수용액을 가하고, 감압하에서 농축하고 아세트산에틸을 가하여 추출하였다. 유기층을 물, 및 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여 6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-5-올 25 g을 얻었다.
<참고예 73>
6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-5-올 25 g, 10 ％ 팔라듐탄소 2.4 g, 에탄올 200 ㎖ 및 36 ％ 염산 0.5 ㎖를 수소 기류하에서 수소 가스의 흡수가 없어질 때까지 혼합하였다. 여과 후, 감압하에서 농축하고, 잔사에 헥산을 가하여 물, 포화 중조수 및 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여 6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐 22 g을 얻었다.
<참고예 74>
6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐 7.2 g, 에틸옥살릴클로라이드 6.2 g 및 염화 알루미늄 6.3 g을 사용하여 참고예 27과 동일한 방법으로 6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-일-옥소-아세트산에틸의 조생성물 12 g을 얻었다.
<참고예 75>
6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-일-옥소-아세트산에틸 7.3 g, 수소화붕소나트륨 2.2 g을 사용하고 참고예 28과 동일한 방법으로 6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-일-에탄-1,2디올의 조생성물 5.1 g을 얻었다.
<참고예 76>
6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-일-에탄-1,2디올 5.0 g, 과요오드산나트륨 2.2 g을 사용하고 참고예 29와 동일한 방법으로 6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-카르보알데히드의 조생성물 5.1 g을 얻었다.
<참고예 77>
6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-카르보알데히드 1.0 g, 히드록실아민염산염 0.52 g을 사용하고 참고예 30과 동일한 방법으로 6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-카르보알데히드옥심 1.3 g을 얻었다.
<참고예 78>
6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-카르보알데히드옥심 1.2 g을 사용하여 참고예 31과 동일한 방법으로 6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-일-메틸아민염산염을 얻었다.
<참고예 79>
Synlett, 2000, No. 12, 1801 항내지 1803 항 기재의 방법에 준하여, 4-브롬벤조니트릴 10 g, 트리스디벤질리덴아세톤팔라듐 (0), 2-(디-tert-부틸포스피노)비페닐 0.98 g 및 디메틸이미다졸리논 200 ㎖를 실온에서 5 분간 혼합하였다. 계속하여 헥사메틸디실란 16.9 ㎖ 및 물 2.0 g을 가하여 물로 5회 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고 실리카 겔 칼럼으로 정제하여 4-트리메틸실릴벤조니트릴 8.0 g을 얻었다.
<참고예 80>
4-트리메틸실릴벤조니트릴 0.66 g, 리튬알루미늄 하이드라이드 0.29 g을 사용하고 참고예 69와 동일한 방법으로 4-트리메틸실릴벤질아민 0.65 g을 얻었다.
<참고예 81>
2-플루오로-2-디에틸포스포노아세트산에틸 2.2 g 및 테트라히드로푸란 50 ㎖를 혼합하여, 빙냉하에서 수소화나트륨 (함량 55 ％) 040 g 가하여 10분간 교반하였하였다. 계속하여 4-벤질옥시-3-메톡시벤즈알데히드 2.0 g과 테트라히드로푸란 5 ㎖의 혼합물을 빙냉하 서서히 가하여, 실온에서 3 시간 교반하였다. 얻어진 혼합물에 물을 가하고, 감압하에서 유기 용매를 증류 제거 후, 아세트산에틸로 추출하였다. 유층을 분액하고, 물, 5 ％ 염산, 포화 중탄산 소다수, 이어서 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여, 얻어진 잔사를 실리카 겔 칼럼으로 정제하고 3-(3-메톡시-4-벤질옥시페닐)-2-플루오로아크릴산에틸의 조생성물 (cis체와 trans체의 혼합물) 2.8 g을 얻었다.
<참고예 82>
3-(3-메톡시-4-벤질옥시페닐)-2-플루오로아크릴산에틸의 조생성물 2.6 g을 사용하여 참고예 11과 동일한 방법으로 3-(3-메톡시-4-히드록시페닐)-2-플루오로프로판산에틸의 조생성물 2.0 g을 얻었다.
<참고예 83>
4-요오드벤질아민 1.O g, 디tert부틸디카르보네이트 1.1 g, 트리에틸아민 0.9 ㎖, 디메틸아미노피리딘 약 10 mg 및 테트라히드로푸란 2 ㎖를 실온에서 4 시간 혼합하였다. 계속하여 물을 가하고 아세트산에틸로 추출하였다. 유층을 분액하고, 5 ％ 염산으로 2 회, 포화 중조수 계속하여 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고 (4-요오드 벤질)카르밤산 tert부틸의 조생성물 1.5 g을 얻었다.
<참고예 84>
(4-요오드벤질)카르밤산 tert부틸에스테르 1.5 g, 트리메틸실릴아세틸렌 1.3 ㎖, 비스(트리페닐포스핀)팔라듐 (II) 디클로라이드 97 mg, 트리에틸아민 1.3 ㎖, 요오드화 구리 (I) 26 mg 및 디메틸포름아미드 30 ㎖를 50 ℃에서 4 시간 혼합하였다. 계속하여 물을 가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유층을 분액하고, 5 ％ 염산으로, 포화 중조수, 계속하여 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고 잔사를 실리카 겔 칼럼 크로마토로 정제하여, {(4-트리메틸실릴에티닐)벤질}카르밤산 tert부틸 0.55 g을 얻었다.
<참고예 85>
{(4-트리메틸실릴에티닐)벤질}카르밤산 tert부틸 O.55 g, 트리플루오로아세트산 0.42 ㎖, 아세트산 20 ㎖ 및 물 10 ㎖를 60 ℃에서 2 시간 혼합하였다. 계속하여 감압하에서 농축하고 (4-트리메틸실릴에티닐)벤질아민ㆍ아세트산염의 조생성물 0.52 g을 얻었다.
<참고예 86>
Tetra hedron Letters 43, 6987 내지 6990에 기재된 방법에 준하여 제조한 4-시클로프로필시아노벤젠 0.58 g, 알루미늄 하이드라이드 0.27 g을 사용하고, 참고예 69와 동일한 방법으로 4-시클로프로필벤질아민 0.51 g을 얻었다.
다음으로 제제예를 나타낸다. 부는 중량부를 나타낸다.
<제제예 1>
본 발명 화합물 1 내지 129 각각 50 부, 리그닌술폰산칼슘 3 부, 라우릴황산마그네슘 2 부 및 합성 함수산화 규소 45 부를 잘 분쇄 혼합함으로써, 각각의 수화제를 얻는다.
<제제예 2>
본 발명 화합물 1 내지 129 각각 20 부와 소르비탄트리올레이트 1.5 부를, 폴리비닐알코올 2 부를 포함하는 수용액 28.5 부와 혼합하고, 습식 분쇄법으로 미분쇄한 후, 이 중에, 크산탄검 0.05 부 및 알루미늄마그네슘실리케이트 O.1 부를 포함하는 수용액 4O 부를 가하고, 또한 프로필렌글리콜 10 부를 가하여 교반 혼합하여 각각의 플로어블 제제를 얻는다.
<제제예 3>
본 발명 화합물 1 내지 129 각각 2 부, 카올린 클레이 88 부 및 탈크 10 부를 잘 분쇄 혼합함으로써, 각각의 분제를 얻는다.
<제제예 4>
본 발명 화합물 1 내지 129 각각 5 부, 폴리옥시에틸렌스티릴페닐에테르 14 부, 도데실벤젠술폰산칼슘 6 부 및 크실렌 75 부를 잘 혼합함으로써, 각각의 유제를 얻는다.
<제제예 5>
본 발명 화합물 1 내지 129 각각 2 부, 합성 함수산화 규소 1 부, 리그닌술폰산칼슘 2 부, 벤토나이트 30 부 및 카올린 클레이 65 부를 잘 분쇄 혼합한 후, 물을 가하여 잘 혼합하여, 조립 건조함으로써, 각각의 입제를 얻는다.
<제제예 6>
본 발명 화합물 1 내지 129 각각 10 부, 폴리옥시에틸렌알킬에테르술페이트암모늄염 50 부를 포함하는 화이트 카본 35 부 및 물 55 부를 혼합하여, 습식 분쇄법으로 미분쇄함으로써, 각각의 제제를 얻는다.
다음으로, 본 발명 화합물이 식물 병해의 방제에 유용한 것을 시험예로 나타낸다.
또한 방제 효과는, 조사시의 공시 식물 상의 병반 (병으로 말미암아 생기는 피부의 반점)의 면적을 육안으로 관찰하고 무처리구의 병반의 면적과 본 발명 화합물 처리구의 병반의 면적을 비교함으로써 평가하였다.
또한, 문헌 [Journal of Chemical Society, Perkin Transactions I, 6, p. 661(1976)]에 기재된 하기 화학식의 화합물 (A)도 시험에 제공하였다.
<시험예 1>
플라스틱 포트에 사조토 (砂壤土)를 채워, 토마토 (품종: 폰테로더)를 파종하여, 온실 내에서 20 일간 생육시켰다. 본 발명 화합물 1 내지 27, 29 내지 35, 37 내지 79, 82 내지 93, 95, 96, 98 내지 112, 115 내지 118, 120 내지 123 및 화합물 (A)의 각각을 제제예 6에 준하여 제제로 한 후, 물로 소정 농도 (500 ppm)로 희석하고, 희석액을 토마토 잎면에 충분히 부착하도록 줄기잎 산포하였다. 산포 후 식물을 풍건(風乾)하고, 토마토 역병의 유주자낭 현탁액 (遊走子囊懸濁液) (현탁액 1 ㎖ 당 약 1OOO0 개의 유주자낭을 함유한다)를 분무 접종 (식물 1개체당 약 2 ㎖의 비율)하였다. 접종 후, 23 ℃, 상대 습도 90 ％ 이상의 조건하에서 하루 재배하고, 계속하여 주간 24 ℃, 야간 20 ℃의 온실에서 4 일간 재배하였다. 그 후, 방제 효과를 조사하였다.
그 결과, 본 발명 화합물 1 내지 27, 29 내지 35, 37 내지 79, 82 내지 93, 95, 96, 98 내지 112 및 115 내지 118 및 120 내지 123을 공시한 식물 상의 병반 면적은, 무 처리구의 병반 면적의 10％ 이하였다. 화합물(A)을 공시한 식물상의 병반 면적은 무처리구의 병반 면적의 76 내지 100 ％였다.
<시험예 2>
플라스틱 포트에 사조토를 채워, 토마토 (품종: 폰테로더)를 파종하고, 온실 내에서 20 일간 생육시켰다. 본 발명 화합물 94, 113, 119 및 125 내지 129를 제제예 6에 준하여 제제로 한 후 물로 소정 농도 (200 ppm)로 희석하여, 희석액을 토마토 잎면에 충분히 부착하도록 줄기잎 산포하였다. 산포 후 식물을 풍건하여, 토마토 역병의 유주자낭 현탁액 (현탁액 1 ㎖ 당 약 1OOOO 개의 유주자낭을 함유한다)를 분무 접종 (식물 1 개체 당 약 2 ㎖의 비율)하였다. 접종 후, 23 ℃, 상대 습도 90 ％ 이상의 조건하에서 하루 재배하고, 계속하여 주간 24 ℃, 야간 20 ℃의 온실에서 4 일간 재배하였다. 그 후, 방제 효과를 조사하였다.
그 결과, 본 발명 화합물 94, 113, 119 및 125 내지 129를 공시한 식물 상의 병반 면적은, 무처리구 병반 면적의 10 ％ 이하였다.
<시험예 3>
플라스틱 포트에 사조토를 채워, 포도 (품종: 벨리 A)를 파종하고, 온실 내에서 40 일간 생육시켰다. 본 발명 화합물 1 내지 4, 9 내지 11, 16 내지 19, 21, 23, 34 내지 36, 40, 41, 45, 46, 49, 50, 55, 61, 63, 68, 70 내지 73, 77 내지 79, 81, 83, 84, 86 내지 92, 95 내지 97, 102, 103, 105 내지 112, 116 및 120 내지 129의 각각을 제제예 6에 준하여 제제로 한 후, 물로 소정 농도 (200 ppm)으로 희석하여, 희석액을 포도 잎면에 충분히 부착하도록 줄기 잎 산포하였다. 산포후 식물을 풍건하고, 포도 노균병의 유주자낭 현탁액 (현탁액 1 ㎖당 약 1OOOO 개의 유주자낭을 함유한다)를 분무 접종 (식물 1 개체 당 약 2 ㎖의 비율)하였다. 접종 후, 상대 습도 90 ％ 이상의 조건하에서 하루 재배하고, 계속하여 주간 24 ℃, 야간 20 ℃ 의 온실에 옮겨 6 일간 재배하였다. 그 후, 방제 효과를 조사하였다.
그 결과, 본 발명 화합물 1 내지 4, 9 내지 11, 16 내지 19, 21, 23, 34 내지 36, 40, 41, 45, 46, 49, 50, 55, 61, 63, 68, 70 내지 73, 77 내지 79, 81, 83, 84, 86 내지 92, 95 내지 97, 102, 103, 105 내지 112, 116 및 120 내지 129를 시공한 식물 상의 병반 면적은, 무처리구의 병반 면적의 10 ％ 이하였다.
<시험예 4>
플라스틱 포트에 사조토를 채워, 포도 (품종: 벨리 A)를 파종하고, 온실 내에서 40 일간 생육시켰다. 본 발명 화합물 6, 13 내지 15, 20, 27 내지 33, 37 내지 39, 48, 53, 54, 62, 64, 66, 67, 69, 74 내지 76, 93, 98 내지 100, 115 및 118의 각각을 제제예 6에 준하여 제제로 한 후, 물로 소정 농도 (50 ppm)로 희석하여, 희석액을 포도 잎면에 충분히 부착하도록 줄기 잎 산포하였다. 산포 후 식물을 풍건하여, 포도 노균병의 유주자낭 현탁액 (현탁액 1 ㎖ 당 약 1OOOO 개의 유주자낭을 함유한다)를 분무 접종 (식물 1 개체 당 약 2 ㎖의 비율)하였다. 접종 후, 23 ℃, 상대 습도 90 ％ 이상의 조건하에서 하루 재배하여, 계속하여 주간 24 ℃, 야간 20 ℃의 온실에 옮겨 6 일간 재배하였다. 그 후, 방제 효과를 조사하였다.
그 결과, 본 발명 화합물 6, 13 내지 15, 20, 27 내지 33, 37 내지 39, 48, 53, 54, 62, 64, 66, 67, 69, 74 내지 76, 93, 98 내지 100, 115 및 118을 공시한식물 상의 병반 면적은, 무처리구의 병반 면적의 10 ％ 이하였다.
<시험예 5>
플라스틱 포트에 사조토를 채워, 포도 (품종: 벨리 A)를 파종하고, 온실 내에서 40 일간 생육시켰다. 본 발명 화합물 5, 7, 8, 12, 44, 56, 59 및 85의 각각을 제제예 6에 준하여 제제로 한 후, 물로 소정 농도 (12.5 ppm)로 희석하여, 희석액을 포도 잎면에 충분히 부착하도록 줄기 잎 산포하였다. 산포 후 식물을 풍건하여, 포도 노균병의 유주자낭 현탁액 (현탁액 1 ㎖당 약 10000 개의 유주자낭을 함유한다)를 분무 접종 (식물 1 개체 당 약 2 ㎖의 비율)하였다. 접종 후, 23 ℃, 상대 습도 90 ％ 이상의 조건하에서 하루 재배하고, 계속하여 주간 24 ℃, 야간 20 ℃의 온실로 옮겨 6 일간 재배하였다. 그 후, 방제 효과를 조사하였다. 그 결과, 본 발명 화합물 5, 7, 8, 12, 44, 56, 59 및 85를 공시한 식물 상의 병반 면적은 무처리구 병반 면적의 10 ％ 이하였다.
본 발명 화합물을 사용함으로써, 식물 병해를 방제할 수가 있다.

Claims (38)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 아미드 화합물.
    <화학식 1>
    상기 식 중, R51은 할로겐 원자, C1-C6알킬기, C3-C6시클로알킬기, C1-C6할로알킬기, C2-C6알케닐기, C2-C6할로알케닐기, C2-C6알키닐기, C2-C6할로알키닐기, C1-C6알콕시기, C3-C6알케닐옥시기, C3-C6알키닐옥시기, C1-C6할로알콕시기, (C1-C6알콕시)C1-C6알킬기, 페녹시C1-C6알킬기, C1-C6히드록시알킬기, (C1-C6알킬)술포닐옥시 C1-C6알킬기, C1-C6알킬티오기, C1-C6할로알킬티오기, C1-C6알킬아미노기, 디(C1-C6알킬)아미노기, 포르밀기, (C1-C6알킬)카르보닐기, (C1-C6알콕시)카르보닐기, (C1-C6알콕시)이미노C1-C6알킬기, 벤질옥시이미노C1-C6알킬기, 디(C1-C6알킬아미노)이미노C1-C6알킬기, 트리(C1-C6알킬)실릴기, 페닐기, 페녹시기, 시아노기 또는 니트로기를 나타내고, R52는 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C6알킬기, C1-C6할로알킬기, C2-C6알케닐기, C2-C6알키닐기, 시아노기 또는 니트로기를 나타내거나 또는 R51과 R52가 합쳐져 C3-C6알킬렌기 또는 -CR65=CR66-CR67=CR68-기 (R65, R66, R67 및 R68은 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C3알킬기, C1-C3알콕시기 또는 C1-C3할로알킬기를 나타낸다)를 나타내고,
    R53은 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C3알킬기 또는 C1-C3 할로알킬기를 나타내고,
    R56은 수소 원자, C1-C4알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기를 나타내고,
    R57은 수소 원자, C1-C4알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기를 나타내고,
    R58 및 R59는 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 C1-C3알킬기를 나타내고,
    R60은 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C6알키닐기를 나타내고,
    R61은 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C6알키닐기 또는 C2-C4시아노알킬기를 나타내고,
    R62, R63 및 R64는 수소 원자, 할로겐 원자 또는 C1-C2알킬기를 나타내고, X는 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, R51은 할로겐 원자, C1-C6알킬기, C3-C6시클로알킬기, C1-C6할로알킬기, C2-C6알케닐기, C2-C6할로알케닐기, C2-C6알키닐기, C2-C6할로알키닐기, C1-C6알콕시기, C3-C6알케닐옥시기, C3-C6알키닐옥시기, C1-C6할로알콕시기, (C1-C6알콕시) C1-C6알킬기, 페녹시C1-C6알킬기, C1-C6히드록시알킬기, (C1-C6알킬)술포닐옥시 C1-C6알킬기, C1-C6알킬티오기, C1-C6할로알킬티오기, C1-C6알킬아미노기, 디(C1-C6알킬)아미노기, 포르밀기, (Cl-C6알킬)카르보닐기, (C1-C6알콕시)카르보닐기, (C1-C6알콕시)이미노C1-C6알킬기, 벤질옥시이미노C1-C6알킬기, 디(C1-C6알킬아미노)이미노C1-C6알킬기, 트리(C1-C6알킬)실릴기, 페닐기, 페녹시기, 시아노기 또는 니트로기를 나타내고, R52는 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C6알킬기, C1-C6할로알킬기, C2-C6알케닐기, C2-C6알키닐기, 시아노기 또는 니트로기인 아미드 화합물.
  3. 제1항에 있어서, R51과 R52가 합쳐져 표시되는 기가 -CR65=CR66-CR67=CR68-기 (R65, R66, R67 및 R68은 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C3알킬기, C1-C3알콕시기 또는 C1-C3할로알킬기이다)인 아미드 화합물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, R53이 수소 원자인 아미드 화합물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, R62, R63 및 R64가 수소 원자인 아미드 화합물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, R58 및 R59가 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 메틸기인 아미드 화합물.
  7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, R58 및 R59가 수소 원자인 아미드 화합물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, R56이 수소 원자인 아미드 화합물.
  9. 제1항에 있어서, R51이 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기, C2-C4알키닐기, C1-C4알콕시기, C1-C4할로알콕시기, C1-C4알킬아미노기, 디(C1-C4알킬)아미노기 또는 시아노기이고, R52가 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기이거나 또는 R51과 R52가 합쳐져 C3-C5알킬렌기 또는 -CH=CH-CH=CH-기이고,
    R57이 수소 원자 또는 C1-C3알킬기이고,
    R60이 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C4알키닐기이고,
    R61이 C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C3-C4알케닐기 또는 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물.
  10. 제9항에 있어서, R51이 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기, C2-C4알키닐기, C1-C4알콕시기, C1-C4할로알콕시기, C1-C4알킬아미노기, 디(C1-C4알킬)아미노기 또는 시아노기이고, R52가 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기인 아미드 화합물.
  11. 제9항에 있어서, R51과 R52가 합쳐져 표시되는 기가 C3-C5알킬렌기 또는 -CH=CH-CH=CH-기인 아미드 화합물.
  12. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, R53이 수소 원자인 아미드 화합물.
  13. 제9항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, R62, R63 및 R64가 수소 원자인 아미드 화합물.
  14. 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, R58 및 R59가 수소 원자인 아미드 화합물.
  15. 제9항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, R56이 수소 원자인 아미드 화합물.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, R57이 수소 원자인 아미드 화합물.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, X가 산소 원자인 아미드 화합물.
  18. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, X가 황 원자인 아미드 화합물.
  19. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, R51이 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기, C2-C4알키닐기, C1-C4알콕시기, C1-C4할로알콕시기 또는 시아노기이고, R52가 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기, Cl-C4할로알킬기, C2-C4알케닐기 또는 C2-C4알키닐기이거나 또는 R51과 R52가 합쳐져 C3-C5알킬렌기 또는 -CH=CH-CH=CH-기인 아미드 화합물.
  20. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, R52가 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기 또는 C1-C4할로알킬기인 아미드 화합물.
  21. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, R51은 할로겐 원자, C1-C4알킬기 또는 C1-C4할로알킬기인 아미드 화합물.
  22. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, R52가 수소 원자인 아미드 화합물.
  23. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, R51과 R52가 합쳐져 C3-C6알킬렌기 또는 -CH=CH-CH=CH-기인 아미드 화합물.
  24. 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, R60이 C1-C4알킬기인 아미드 화합물.
  25. 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, R60이 C1-C2알킬기인 아미드 화합물.
  26. 제1항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서, R61이 C3-C4알키닐기인 아미드 화합물.
  27. 제1항 내지 제26항 중 어느 한 항에 기재된 아미드 화합물을 유효 성분으로서 함유하는 식물 병해 방제 조성물.
  28. 제1항 내지 제26항 중 어느 한 항에 기재된 아미드 화합물의 유효량을 식물또는 식물이 생육하는 토양에 시용하는 공정을 갖는 식물 병해의 방제 방법.
  29. 식물 병해 방제조성물의 유효 성분으로서의, 제1항 내지 제26항 중 어느 한 항에 기재된 아미드 화합물의 사용.
  30. 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물.
    <화학식 3>
    상기 식 중, R100은 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부틸옥시기, 이소부틸옥시기, tert-부틸옥시기, OH기 또는 염소 원자를 나타내고, R101 및 R102는 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 C1-C3알킬기를 나타내고, R103은 C1-C4알킬기를 나타내고, R104는 C3-C6알키닐기를 나타내고, R105, R106 및 R107은 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 C1-C2알킬기를 나타낸다.
  31. 제30항에 있어서, R101 및 R102가 수소 원자, 불소 원자 또는 메틸기이고, R105, R106 및 R107이 수소 원자인 화합물.
  32. 제30항에 있어서, R101, R102, R105, R106 및 R107이 수소 원자인 화합물.
  33. 제30항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서, R103이 메틸기 또는 에틸기인 화합물.
  34. 제30항 내지 제33항 중 어느 한 항에 있어서, R104가 2-프로피닐기인 화합물.
  35. 하기 화학식 4로 표시되는 아미드 화합물.
    <화학식 4>
    상기 식 중, R201은 할로겐 원자, C1-C4알킬기, C1-C4할로알킬기, Cl-C4알콕시기, C1-C4할로알콕시기, 디(C1-C4알킬)아미노기 또는 시아노기를 나타내고, R202는 수소 원자, 할로겐 원자, C1-C4알킬기 또는 C1-C4할로알킬기를 나타내거나 또는 R201과 R202가 합쳐져 C3-C5알킬렌기 또는 -CH=CH-CH=CH-기를 나타내고, R203 및 R204는 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 C1-C3알킬기를 나타내고, R205는 C1-C4알킬기를 나타내고, R206, R207 및 R208이 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 C1-C2알킬기를 나타낸다.
  36. 제35항에 있어서, R203 및 R204가 수소 원자, 불소 원자 또는 메틸기이고, R206, R207 및 R208이 수소 원자인 아미드 화합물.
  37. 제35항에 있어서, R203, R204, R206, R207 및 R208이 수소 원자인 아미드 화합물.
  38. 제35항 내지 제37항 중 어느 한 항에 있어서, R205가 메틸기 또는 에틸기인 화합물.
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