JP2005104954A - フェニルピラゾール化合物及びその植物病害防除用途 - Google Patents

Abstract

【課題】
植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すること。

【解決手段】
式（１）

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基等を表し、Ｒ⁶は、水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は独立してＣ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基等を表し、Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｑは、以下のＱ１、Ｑ２又はＱ３

（式中、Ｚ¹、Ｚ²、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ²¹等の定義は、明細書中に記載する。）を表す。〕で示されるフェニルピラゾール化合物は植物病害の防除に優れた効力を有する。

【選択図】 なし

Description

本発明は、フェニルピラゾール化合物、及びそれを植物または土壌に施用する植物病害の防除方法に関する。

植物病害を防除するための薬剤の開発が行われ、植物病害防除効果を有する化合物が見出されているが、その効果は十分でない場合があり、新たな化合物群の探索が鋭意行われている。
ある種のフェニルピラゾール化合物が生理活性を有することが知られているが、該化合物の植物病害防除活性については知られていない。（例えば、非特許文献１参照。）

ジャーナル オブ メディシナル ケミストリー、2002年、第45巻、第2994−3008頁（J. Med. Chem., 2002, 45, p.2994−3008）。

本発明は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。

本発明者等は優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式（１）で示されるフェニルピラゾール化合物が優れた植物病害防除効力を有することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は式（１）

［式中、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基を表す、但しＲ²とＲ³においては、Ｒ²とＲ³とが一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を表してもいい。
Ｒ⁶は、水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ⁹及びＲ¹⁰は独立してＣ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基又はＣ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基を表し、
Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表し、
Ｑは、以下のＱ１、Ｑ２又はＱ３

｛式中、
Ｚ¹は酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ¹⁴は水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ¹⁵は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ）カルボニル基又はＣ１−Ｃ３アルキルスルホニル基を表し、
Ｚ²は酸素原子、ＮＯＲ¹⁶基、ＣＲ¹⁷Ｒ¹⁸基、又はＮＮＲ¹⁹Ｒ²⁰
（式中、Ｒ¹⁶は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基を表し、
Ｒ¹⁷はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、ヒドロキシル基、ジ（Ｃ１−Ｃ３アルキル）アミノ基又はＣ３−Ｃ６シクロアルキルオキシ基を表し、Ｒ¹⁸は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ１−Ｃ６ハロアルキル基を表し、
Ｒ¹⁹及びＲ²⁰は、独立して水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基を表す。）を表し、Ｒ²¹は水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ４アルケニル基又はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。）、
Ｒ²¹は水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ４アルケニル基又はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。｝を表す。］
で示されるフェニルピラゾール化合物（以下、本発明化合物と記す。）、本発明化合物を有効成分として含有する植物病害防除剤、及び本発明化合物の有効量を植物又は土壌に施用する植物病害の防除方法を提供する。

本発明化合物を用いることにより、植物病害を防除することができる。

本発明の式（１）における各置換基としては、下記に示す基が具体的に例示される。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵における
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基及びヘキシル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、クロロフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ジクロロブロモメチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２−フルオロエチル基及び６，６，６−トリフルオロヘキシル基等があげられ、
Ｃ２−Ｃ６アルケニル基としては、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−へキセニル基、２−へキセニル基及び５−へキセニル基等があげられ、
Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基としては、１−クロロビニル基、２−クロロビニル基、２，２−ジクロロビニル基、２，２−ジフルオロビニル基、１，２−ジクロロビニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基等があげられ、
Ｃ２−Ｃ６アルキニル基としては、エチニル基、３−ブチニル基、３−ヘキシニル基及び５−ヘキシニル基等があげられ、
Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基としては、２−クロロエチニル基、２−ブロモエチニル基、３−クロロ−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基及び６−クロロ−５−ヘキシニル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基としては、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、フルオロメトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ基、５−クロロペンチルオキシ基、４−フルオロ−３−メチルブトキシオキシ基及び２，２−ジクロロヘキシルオキシ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基としては、２−プロペニルオキシ基、１−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、２−へキセニルオキシ基及び５−ヘキセニルオキシ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基としては、３，３−ジクロロ−２−プロペニルオキシ基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ基、３，３−ジブロモ−２−プロペニルオキシ基、２，３−ジクロロプロペニルオキシ基、６−フルオロ−２−へキセニルオキシ基及び２，２−ジクロロ−５−ヘキセニルオキシ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基としては、２−プロピニルオキシ基、１−メチル−２−プロピニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、２−ヘキシニルオキシ基及び５−ヘキシニルオキシ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基としては、３−クロロ−２−プロピニルオキシ基、３−ブロモ−２−プロピニルオキシ基、３−ヨード−２−プロピニルオキシ基及び６−クロロ−５−ヘキシニルオキシ基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基及びヘキシルチオ基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基としては、トリフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、ブロモジフルオロメチルチオ基、クロロジフルオロメチルチオ基、フルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、１，１，２，２−テトラフルオロエチルチオ基、５−クロロペンチルチオ基、４−フルオロイソペンチルチオ基及び２，２−ジクロロヘキシルチオ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基としては、シクロプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基及びシクロヘキシルオキシ基等があげられる。

Ｒ⁶における
Ｃ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基及びプロピル基等があげられる。

Ｒ⁹及びＲ¹⁰における
Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、tｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基としては、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、フルオロメトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ基、５−クロロペンチルオキシ基、４−フルオロ−３−メチルブトキシオキシ基及び２，２−ジクロロヘキシルオキシ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基としては、２−プロペニルオキシ基、１−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、２−ヘキセニルオキシ基及び５−ヘキセニルオキシ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基としては、３−クロロ−２−プロピニルオキシ基、３−ブロモ−２−プロピニルオキシ基、３−ヨード−２−プロピニルオキシ基及び６−クロロ−５−ヘキセニルオキシ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基としては、２−プロピニルオキシ基、１−メチル−２−プロピニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、２−ヘキシニルオキシ基及び５−ヘキシニルオキシ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基としては、３−クロロ−２−プロピニルオキシ基、３−ブロモ−２−プロピニルオキシ基、３−ヨード−２−プロピニルオキシ基及び６−クロロ−５−ヘキシニルオキシ基等があげられる。

Ｒ¹⁴における
Ｃ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基及びプロピル基等があげられる。

Ｒ¹⁵における
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、tｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基及びヘキシル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、クロロフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基及び６，６，６−トリフルオロヘキシル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としては、２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、１，１−ジメチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２−ヘキセニル基及び５−ヘキセニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基としては、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、２，３−ジクロロ−２−プロペニル基及び３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、２−ヘキシニル基及び５−ヘキシニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基としては、３−クロロ−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基及び６−クロロ−５−ヘキシニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニル基としては、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、tｅｒｔ-ブチルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、イソペンチルカルボニル基及びヘキシルカルボニル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニル基としては、クロロアセチル基、ブロモアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基、クロロフルオロアセチル基、ブロモジフルオロアセチル基、２−フルオロエチルカルボニル基、２，２−ジフルオロエチルカルボニル基、２，２，２−トリフルオロエチルカルボニル基及び６，６，６−トリフルオロヘキシルカルボニル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、tｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基及びヘキシルオキシカルボニル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニル基としては、２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル基、１，１，２，２−テトラフルオロエトキシカルボニル基、５−クロロペンチルオキシカルボニル基及び２，２−ジクロロヘキシルオキシカルボニル基等があげられ、
（Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ）カルボニル基としては、２−プロペニルオキシカルボニル基、１−メチル−２−プロペニルオキシカルボニル基、２−メチル−２−プロペニルオキシカルボニル基、２−ブテニルオキシカルボニル基、３−ブテニルオキシカルボニル基、２−ヘキセニルオキシカルボニル基及び５−ヘキセニルオキシカルボニル基等があげられ、
（Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ）カルボニル基としては、３−クロロー２−プロピニルオキシカルボニル基、３−ブロモ−２−プロピニルオキシカルボニル基、３−ヨード−２−プロピニルオキシカルボニル基及び６−クロロ−５−ヘキセニルオキシカルボニル基等があげられ、
（Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ）カルボニル基としては、２−プロピニルオキシカルボニル基、１−メチル−２−プロピニルオキシカルボニル基、２−ブチニルオキシカルボニル基、３−ブチニルオキシカルボニル基、２−ヘキシニルオキシカルボニル基及び５−ヘキシニルオキシカルボニル基等があげられ、
（Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ）カルボニル基としては、３−クロロ−２−プロピニルオキシカルボニル基、３−ブロモ−２−プロピニルオキシカルボニル基、３−ヨード−２−プロピニルオキシカルボニル基及び６−クロロ−５−ヘキシニルオキシカルボニル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ３アルキルスルホニル基としては、メタンスルホニル基及びエタンスルホニル基等があげられる。

Ｒ¹⁶における
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、tｅｒｔ-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基及びヘキシル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基及び６，６，６−トリフルオロヘキシル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としては、２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２−ヘキセニル基及び５−ヘキセニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基としては、２，３−ジクロロプロペニル基、３，３−ジクロロプロペニル基及び３，３−ジフルオロプロペニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、２−ヘキシニル基及び５−ヘキシニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基としては、３−クロロ−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基及び６−クロロ−５−ヘキシニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等があげられる。

Ｒ¹⁷における
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等があげられる。
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、tｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基及びヘキシル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基及び６，６，６−トリフルオロヘキシル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、tｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基としては、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、フルオロメトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ基、５−クロロペンチルオキシ基、４−フルオロイソペンチルオキシ基及び２，２−ジクロロヘキシルオキシ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基としては、２−プロペニルオキシ基、１−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、２−ヘキセニルオキシ基及び５−ヘキセニルオキシ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基としては、３，３−ジクロロ−２−プロピニルオキシ基、３−クロロ−２−プロピニルオキシ基、３−ブロモ−２−プロピニルオキシ基、３−ヨード−２−プロピニルオキシ基及び６−クロロ−５−ヘキセニルオキシ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基としては、２−プロピニルオキシ基、１−メチル−２−プロピニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、２−ヘキシニルオキシ基及び５−ヘキシニルオキシ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基としては、３−クロロ−２−プロピニルオキシ基、３−ブロモ−２−プロピニルオキシ基、３−ヨード−２−プロピニルオキシ基及び６−クロロ−５−ヘキシニルオキシ基等があげられ、
ジ（Ｃ１−Ｃ３アルキル）アミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及びジプロピルアミノ基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルオキシ基としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基及びシクロヘキシルオキシ基等があげられる。

Ｒ¹⁸における
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、tｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基及びヘキシル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、クロロフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基及び６，６，６−トリフルオロヘキシル基等があげられる。

Ｒ¹⁹及びＲ²⁰における
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、tｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基及びヘキシル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基及び６，６，６−トリフルオロヘキシル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としては、２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２−ヘキセニル基及び５−ヘキセニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基としては、３，３−ジクロロ−２−プロピニル基、３−クロロ−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基、３−ヨード−２−プロピニル基及び６−クロロ−５−ヘキセニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、２−ヘキシニル基及び５−ヘキシニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等があげられる。

Ｒ²¹における
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ4アルケニル基としては、２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ4アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基等があげられる。

本発明化合物の態様としては、例えば以下の化合物があげられる。
式（１）において、Ｘが酸素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁶が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成しているフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成しているフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成しているフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成しているフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁹がＣ１−Ｃ６アルコキシ基であり、Ｒ¹⁰がＣ３−Ｃ６アルキニルオキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁹がメトキシ基であり、Ｒ¹⁰が２−プロピニルオキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁹がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ¹⁰がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁹がメトキシ基であり、Ｒ¹⁰が２−プロピニルオキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ¹⁰がＣ３−Ｃ４アルキニルオキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹がメトキシ基であり、Ｒ¹⁰が２−プロピニルオキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ¹⁰がＣ３−Ｃ４アルキニルオキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹がメトキシ基であり、Ｒ¹⁰が２−プロピニルオキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ¹⁰がＣ３−Ｃ４アルキニルオキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹がメトキシ基であり、Ｒ¹⁰が２−プロピニルオキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ²とＲ³とが一緒になって表す基がトリメチレンであり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ²とＲ³とが一緒になって表す基が−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ²とＲ³とが一緒になって表す基がトリメチレンであり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ²とＲ³とが一緒になって表す基が−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成しており、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成しており、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成しており、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成しており、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成しており、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成しており、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、ＱがＱ１である下記式（１−１）で示されるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、ＱがＱ２である下記式（１−２）で示されるフェニルピラゾール化合物；

式（１）において、ＱがＱ３である下記式（１−３）で示されるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成しており、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ²とＲ³とが一緒になって表す基がトリメチレンであり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ²とＲ³とが一緒になって表す基が−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成しており、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ²とＲ³とが一緒になって表す基がトリメチレンであり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ²とＲ³とが一緒になって表す基が−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｘが酸素原子であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｘが酸素原子であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−２）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−２）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−２）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵が２−プロピニル基であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）において、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁵がメチル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−２）において、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−２）において、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）又は式（１−２）において、Ｘが酸素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｒ⁶が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）又は式（１−２）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−１）又は式（１−２）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｒ⁶が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−１）又は式（１−２）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−３）において、Ｒ²¹が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ²¹がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ²¹が2−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であり、Ｒ²¹が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であり、Ｒ²¹がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であり、Ｒ²¹が2−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−３）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ²¹が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ²¹がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ²¹が2−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｘが酸素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ⁶が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ²¹が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ²¹が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−３）において、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｘが酸素原子でありＲ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁹がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ¹⁰がＣ３−Ｃ４アルキニルオキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ¹⁰がＣ３−Ｃ４アルキニルオキシ基であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−３）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹がＣ１−Ｃ４アルコキシ基であり、Ｒ¹⁰がＣ３−Ｃ４アルキニルオキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ²¹が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｘが酸素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ²¹が水素原子であり、Ｒ⁹がＣ１−Ｃ４アルキニルオキシ基であり、Ｒ¹⁰がＣ１−Ｃ４アルキル基あるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ²¹が水素原子であり、Ｒ⁹が２−プロピニルオキシ基であり、Ｒ¹⁰がメトキシ基あるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ²¹が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；

式（１−３）において、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ²¹が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ²¹が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１−３）において、Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ²¹が水素原子であり、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基であるフェニルピラゾール化合物。

次に、本発明化合物の製造方法について説明する。
本発明化合物は例えば（製造法１）〜（製造法１３）により製造することができる。

（製造法１）
本発明化合物のうち、化合物（４）は化合物（２）と化合物（３）とを反応させることにより製造することができる。

［式中、Ｌ¹は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＱは前記と同じ意味を表す。］
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物等があげられる。
化合物（２）１モルに対して、化合物（３）は通常０．５〜２モルの割合、塩基は通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１５０℃の範囲である。
反応終了後は、例えば以下の方法の後処理操作に付することにより化合物（４）を単離することができる。
（１）反応混合物を水又は塩酸等の酸性水に加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法
（２）反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えて濾過し、濾液を濃縮する方法
（３）反応混合物に水を注加し、生じる固体を濾過等により集める方法
単離された化合物（４）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法２）
本発明化合物のうち、化合物（６）は化合物（５）と２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジフォスフェタン−２，４−ジスルフィド（以下、ローソン試薬と記載する。）を反応させることにより製造することができる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＱは前記と同じ意味を表す。］
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物等があげられる。
化合物（５）１モルに対して、ローソン試薬は通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常３０〜１５０℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（６）を単離することができる。単離された化合物（６）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法３）
本発明化合物のうち、化合物（９）は化合物（７）と化合物（８）とを反応させることにより製造することができる。

［式中、Ｌ²は臭素原子、ヨウ素原子又はメタンスルホニルオキシ基を表し、Ｒ^6-1はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｑ及びＸは前記と同じ意味を表す。］
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類及びトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノン−５−エン等の第３級アミン類等があげられる。
化合物（７）１モルに対して、化合物（８）は通常１〜１０モルの割合、塩基は通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１２０℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（９）を単離することができる。単離された化合物（９）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法４）
本発明化合物のうち、化合物（１１）は化合物（１０）と還元剤とを反応させることにより製造することができる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＸは前記と同じ意味を表す。］
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム及び水素化ホウ素カリウム等があげられる。
反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物等があげられる。
化合物（１０）１モルに対して、還元剤は通常０．２５〜３モルの割合である。
反応時間は通常瞬時〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲である。
反応終了後は例えば以下の方法の後処理操作に付することにより化合物（１１）を単離することができる。
（１）反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液等の酸性水を加えてから有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する方法
（２）反応混合物に水を注加し、生じた固体を濾過等により集める方法
単離された化合物（１１）はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

（製造法５）
本発明化合物のうち、化合物（１２）は化合物（１０）とＲ^14-1に対応するグリニアール試薬又はアルキルリチウム等の有機金属化合物とを反応させることにより製造することができる。

［式中、Ｒ^14-1はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＸは前記と同じ意味を表す。］
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類があげられる。
化合物（１０）１モルに対して、反応に用いられる有機金属化合物は通常１〜２モルの範囲である。
反応時間は通常瞬時〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常−８０〜５０℃の範囲である。
反応終了後は反応混合物を有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（１２）を単離することができる。単離された化合物（１２）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法６）
本発明化合物のうち、化合物（１４）及び化合物（１６）は以下の方法で製造することができる。

［式中、Ｒ³³はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ^15-1はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹⁴、Ｘ及びＺ¹は前記と同じ意味を表す。］

（工程６−１）
化合物（１４）は化合物（１３）とアルキルスルホニルクロリド化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物等があげられる。
化合物（１３）１モルに対して、アルキルスルホニルクロリド化合物は通常１〜３モルの割合、塩基は通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水、塩基性水等で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（１４）を単離することができる。単離された化合物（１４）は再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程６−２）
化合物（１６）は化合物（１４）と化合物（１５）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、塩基の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類及びトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
化合物（１４）１モルに対して、化合物（１５）は通常１モル〜過剰量であり、塩基は通常触媒量〜５モルの割合である。
反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１５０℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水、塩基性水等で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（１６）を単離することができる。単離された化合物（１６）は再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法７）
本発明化合物のうち、化合物（１９）は化合物（１７）と化合物（１８）又はその塩とを反応させることにより製造することができる。

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹⁶及びＸは前記と同じ意味を表す。）
該反応は通常溶媒の存在下、塩基の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
化合物（１７）１モルに対して、塩基は通常触媒量〜１０モルの割合、化合物（１８）又はその塩は通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１５０℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水及び／又は塩基性水で洗浄してから乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（１９）を単離することができる。単離された化合物（１９）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法８）
本発明化合物のうち、化合物（２２）は、化合物（２０）と化合物（２１）とを反応させることにより製造することができる。

［式中、Ｌ³は塩素原子、臭素原子及びメタンスルホニルオキシ基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹⁴、Ｒ^15-1及びＸは前記と同じ意味を表す。］
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、塩基の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
化合物（２０）１モルに対して、化合物（２１）は通常１〜３モルの割合であり、塩基は通常１〜３モルの割合である。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１５０℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（２２）を単離することができる。単離された化合物（２２）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法９）
本発明化合物のうち、化合物（２５）は、化合物（２３）と化合物（２４）とを反応させることにより製造することができる。

［式中、Ｌ⁹は塩素原子、臭素原子又はメタンスルホニルオキシ基を表し、Ｒ^16-1はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＸは前記と同じ意味を表す。］
該反応は溶媒の存在下又は非存在下で、塩基の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類及び水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類があげられる。
化合物（２３）１モルに対して、化合物（２４）は通常１〜３モルの割合であり、塩基は通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１５０℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（２５）を単離することができる。単離された化合物（２５）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法１０）
本発明化合物のうち、化合物（２９）は、化合物（２７）と化合物（２８）とを反応させることにより製造することができる。

［式中、Ｌ¹⁰は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表し、Ｒ³⁴はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＸは前記と同じ意味を表す。］
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、塩基の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
化合物（２７）１モルに対して、化合物（２８）は通常１〜３モルの割合であり、塩基は通常１〜５モルの割合である。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１５０℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（２９）を単離することができる。単離された化合物（２９）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法１１）
化合物（４）は、化合物（２−１）と化合物（３）とを脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することができる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＱは前記と同じ意味を表す。］
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記す）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、化合物（３）１モルに対して、化合物（２−１）が通常１〜３モルの割合であり、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合である。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１４０℃の範囲である。
反応終了後は、例えば以下の方法の後処理操作に付することにより化合物（４）を単離することができる。
（１）反応混合物を水又は塩酸等の酸性水に加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法
（２）反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えて濾過し、濾液を濃縮する方法
（３）反応混合物に水を注加し、生じる固体を濾過等により集める方法
単離された化合物（４）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法１２）
本発明化合物のうち、化合物（４９）及び化合物（５０）は以下の方法で製造することができる。

［式中、Ｌ¹²及びＬ¹³は同一又は相異なり、メトキシ基等のアルコキシ基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＸは前記と同じ意味を表す。］

（工程１２−１）
化合物（４９）は、化合物（４８）と化合物（４８−１）又は化合物（４８−２）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はこれらの混合物が挙げられる。
化合物（４８）１モルに対して、化合物（４８−１）又は化合物（４８−２）は通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常５０〜１５０℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（４９）を単離することができる。単離された化合物（４９）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程１２−２）
化合物（２７）は化合物（４９）と水とを酸の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、水を溶媒として行うこともでき、また水と他の有機溶媒との混合物中で行うこともできる。
他の有機溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又はこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる酸としては、塩酸、硫酸及びｐ−トルエンスルホン酸等があげられる。
化合物（４９）１モルに対して、酸は通常０．１〜１００モルの割合である。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常２０〜１００℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（２７）を単離することができる。単離された化合物（２７）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法１３）
本発明化合物のうち、化合物（６２）は以下の方法で製造することができる。

［式中、Ｂｎはベンジル基を表し、Ｒ¹⁰⁰はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ２−Ｃ６シアノアルキル基を表し、Ｌ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ¹⁰、Ｑ及びＸは前記と同じ意味を表す。］

（工程１３−１）
化合物（６０）は、水素化触媒及び酸の存在下、化合物（５９）と水素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常水素雰囲気下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。反応に用いられる酸としては、例えば塩酸が挙げられる。
化合物（５９）１モルに対して、水素は通常１モル、水素化触媒は通常０．００１〜０．５モルの割合で用いられる。
該反応は、通常１〜１００気圧の水素雰囲気下で行われる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、濾過し、濾液を有機溶媒抽出して、得られる有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（６０）を単離することができる。単離された化合物（６０）はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

（工程１３−２）
化合物（６２）は化合物（６０）と化合物（６１）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類及びトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノン−５−エン等の第３級アミン類等があげられる。
化合物（６０）１モルに対して、化合物（６１）が通常１〜１０モルの割合、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１２０℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（６２）を単離することができる。単離された化合物（６２）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法１４）
本発明化合物のうち、化合物（６６）は以下の方法で製造することができる。

［式中、Ｂｎ、Ｒ¹⁰⁰、Ｌ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁹、Ｑ及びＸは前記と同じ意味を表す。］

（工程１４−１）
化合物（６４）は、水素化触媒及び酸の存在下、化合物（６３）と水素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常水素雰囲気下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。反応に用いられる酸としては、例えば塩酸が挙げられる。
化合物（６３）１モルに対して、水素は通常１モル、水素化触媒は通常０．００１〜０．５モルの割合で用いられる。
該反応は、通常１〜１００気圧の水素雰囲気下で行われる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、濾過し、濾液を有機溶媒抽出して、得られる有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（６４）を単離することができる。単離された化合物（６４）はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

（工程１４−２）
化合物（６６）は化合物（６４）と化合物（６５）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類及びトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノン−５−エン等の第３級アミン類等があげられる。
化合物（６４）１モルに対して、化合物（６５）が通常１〜１０モルの割合、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１２０℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（６６）を単離することができる。単離された化合物（６６）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

次に本発明化合物の製造中間体の製造法について説明する。
化合物（３）は、例えば、（中間体製造法１）、（中間体製造法２）に従って製造することができる。

（中間体製造法１）

［式中、Ｒ¹²はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は前記と同じ意味を表す。］

（工程Ａ−１）
化合物（３０）は、第4版実験化学講座２０（丸善株式会社）ｐ３３８−ｐ３４２に記載の方法に準じて、化合物（２９）を亜硝酸塩（例えば、亜硝酸ナトリウム）と反応させてジアゾニウム塩を製造した後、該ジアゾニウム塩を塩酸の存在下で還元剤（例えば、塩化第一スズ）と反応させることにより、製造することができる。

（工程Ａ−２）
化合物（３２）は、化合物（３０）と化合物（３１）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物等があげられる。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常５０〜１２０℃の範囲である。
反応終了後は反応混合物を有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（３２）を単離することができる。単離された化合物（３２）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程Ａ−３）
化合物（３３）は、化合物（３２）を塩基の存在下、加水分解反応に付することにより製造することができる。
反応に用いられる溶媒としては、水とメタノール、エタノール等のアルコール類又は１，４−ジオキサン等のエーテル類との混合物等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常２０〜１００℃の範囲である。
反応終了後は例えば反応混合物に酸性水を加えて濃縮し、その残渣に水と有機溶媒（ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等）とを加えて生じた固体を濾過等により集める等の後処理操作を行うことにより、化合物（３３）を単離することができる。単離された化合物（３３）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程Ａ−４）
化合物（３）は、化合物（３３）を加熱して脱炭酸させることにより製造することができる。
該脱炭酸の反応は通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）等のエーテル類があげられる。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常８０〜２００℃の範囲である。
反応終了後は例えば反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過等により集める等の後処理操作を行うことにより、化合物（３）を単離することができる。単離された化合物（３）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（中間体製造法２）

［式中、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は前記と同じ意味を表す。］

（工程Ｂ−１）
化合物（３７）は、化合物（３０）と化合物（３６）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物等があげられる。
化合物（３０）１モルに対して、化合物（３６）は通常１〜３モルの割合であり、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウムは通常０．０１〜１モルの割合である。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常２０〜１００℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（３７）を単離することができる。単離された化合物（３７）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程Ｂ−２）
化合物（３）は、化合物（３７）を酸化剤（例えば、酸素等）の存在下、塩基（例えば、水酸化ナトリウム）と反応させることにより製造することができる。
反応に用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられる酸化剤としては、酸素等があげられる。
化合物（３７）１モルに対して、塩基は通常０．５〜３モルの割合である。化合物（３７）１モルに対して、酸素は１モルが理論量である。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常２０〜１００℃の範囲である。
反応終了後の反応混合物は、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（３）を単離することができる。単離された化合物（３）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

化合物（２）は、（中間体製造法３）に従って製造することができる。すなわち、化合物（２）は、化合物（３９）とハロゲン化剤（塩化チオニル、臭化チオニル等）とを反応させることにより製造することができる。

（中間体製造法３）

［式中、Ｌ¹は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＱは、前記と同じ意味を表す。］
該反応は通常溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等があげられる。
化合物（３９）１モルに対して、ハロゲン化剤は通常１〜５モルの割合である。
反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常５０〜１２０℃の範囲である。
反応終了後は反応混合物を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（２）を単離することができる。

化合物（３９）は、国際特許公開ＷＯ０１／９５７２１号公報、国際特許公開ＷＯ００／４１９９８号公報、国際特許公開ＷＯ９６／２３７６３号公報、又は国際特許公開ＷＯ９６／３１４６４号公報等に記載された方法に準じて製造することができる。

また、化合物（３９）のうち、化合物（４５）は、（中間体製造法４）に従って製造することができる。
（中間体製造法４）

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ^15-1、R²²及びZ¹は前記と同じ意味を表し、Ｒ²²はメチル基、エチル基を表す。］

（工程Ｄ−１）
化合物（４１）は化合物（４０）と還元剤とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム又は水素化ホウ素カリウム等があげられる。
反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられる還元剤の量は、化合物（４０）１モルに対して、通常０．２５〜３モルの割合である。
反応時間は通常瞬時〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲である。
反応終了後は反応混合物を有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（４１）を単離することができる。単離された化合物（４１）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程Ｄ−２）
化合物（４２）は、化合物（４１）とアルキルスルホニルクロリド化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
化合物（４１）１モルに対して、アルキルスルホニルクロリド化合物は通常１〜３モルの割合、塩基は通常１〜１０モルの割合である。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲である。
反応終了後は反応混合物を濃縮し、得られる残渣に有機溶媒を加え、これを濾過して、濾液を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（４２）を単離することができる。

（工程Ｄ−３）
化合物（４４）は化合物（４２）と化合物（１５）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、塩基の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ノン−５−エン等の第３級アミン類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
化合物（４２）１モルに対して、化合物（１５）は通常１モル〜過剰量の割合であり、塩基は通常触媒量〜５モルの割合である。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常５０〜１５０℃の範囲である。
反応終了後は、例えば以下の方法の後処理操作に付すことにより化合物（４４）を単離することができる。
（１）反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法
（２）反応混合物に必要に応じてトルエン等の有機溶媒を加えて濃縮する方法
単離された化合物（４４）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程Ｄ−４）
化合物（４５）は、化合物（４４）を塩基の存在下で加水分解反応に付すことにより製造することができる。
該反応は通常水とメタノール、エタノール等のアルコール類またはテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類との混合物等の溶媒中で行われる。
反応に用いられる塩基としては、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物類等があげられる。
化合物（４４）１モルに対して、塩基は通常１〜２０モルの割合である。
反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１２０℃の範囲である。
反応終了後は反応混合物を塩酸等の酸で酸性にした後、有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（４５）を単離することができる。単離された化合物（４５）はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

（中間体製造法５）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は前記と同じ意味を表す。）
化合物（５１）は、化合物（５０）とハロホルム化合物とを塩基の存在下、メタノールの存在下で反応させることにより製造することができる。
反応に用いられるハロホルム化合物としては、例えばクロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類があげられる。
化合物（５０）１モルに対して、塩基は通常１〜５モルの割合、ハロホルム化合物は通常１〜５モルの割合である。
反応時間は通常１〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常−２０〜５０℃の範囲である。
反応終了後は反応混合物に希塩酸等を加えて酸性にした後、有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（５１）を単離することができる。単離された化合物（５１）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（中間体製造法６）

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ²¹及びＲ²²は前記と同じ意味を表し、L⁴は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはメタンスルホニル基を表す。］

（工程Ｆ−１）
化合物（５４）は、化合物（５２）を塩基の存在下、化合物（５３）と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ペンタン等の脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類等及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコラート類、リチウムジイソプロピルアミド等があげられる。
化合物（５２）１モルに対して、塩基は通常１〜５モルの割合、化合物（５３）が通常０．５〜１．２モルの割合である。
反応時間は通常瞬時〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲である。
反応終了後は反応混合物に希塩酸等を加えて酸性にした後、有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（５４）を単離することができる。単離された化合物（５４）はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

（工程Ｆ−２）
化合物（５５）は、化合物（５４）を塩基の存在下で加水分解反応に付すことにより製造することができる。
該反応は通常水とメタノール、エタノール等のアルコール類またはテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類との混合物等の溶媒中で行われる。
反応に用いられる塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物類等があげられる。
式で示される（５４）化合物１モルに対して、塩基は通常１〜２０モルの割合である。
反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲であり、反応温度は通常０〜１２０℃の範囲である。
反応終了後は反応混合物を塩酸等の酸で酸性にした後、有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（５５）を単離することができる。単離された化合物（５５）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

次に本発明化合物の具体例を以下に示す。
式（Ｉ）で示される化合物

上記式（Ｉ）においてＲ²、Ｒ³、Ａ¹、Ａ²、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＸは（表１）〜（表９）に示す各置換基の組合せを表す。

式（ＩＩ）で示される化合物

上記式（ＩＩ）においてＲ²、Ｒ³、Ａ³、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＸは（表１０）、（表１１）に示す各置換基の組合せを表す。

本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による植物病害があげられ、具体的には例えば次の病害が挙げられる。
蔬菜類、ダイコンのべと病（Peronospora brassicae）、ホウレンソウのべと病（Peronospora spinaciae）、タバコのべと病（Peronospora tabacina）、ウリ類のべと病（Pseudoperonospora cubensis）、ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、リンゴ、イチゴ、ヤクヨウニンジンの疫病（Phytophthora cactorum）、トマト、キュウリの灰色疫病（Phytophora capsici）、パイナップルの疫病（Phytophthora cinnamomi）、ジャガイモ、トマトの疫病（Phytophthora infestans）、タバコ、ソラマメ、ネギの疫病（Phytophthora nicotianae var. nicotianae）、ホウレンソウの立枯病（Pythium sp.）、キュウリ苗立枯病（Pythium aphanidermatum）、コムギ褐色雪腐病（Pythium sp.）、タバコ苗立枯病（Pythium debaryanum）、ダイズのPythium rot（Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum）。

本発明の植物病害防除剤は本発明化合物そのものであってもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等に製剤化されている。これらの製剤は本発明化合物を通常０．１〜９０重量％含有する。

製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば、カオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等が挙げられ、液体担体としては、例えば、キシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、２−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、水が挙げられる。
界面活性剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤が挙げられる。

その他の製剤用補助剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ等の安定化剤が挙げられる。

本発明の植物病害防除剤は、例えば、植物体に処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。

本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合又は土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、１００００ｍ²あたり本発明化合物として通常１〜５０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇである。

乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常を水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常０．０００１〜３重量％、好ましくは０．０００５〜１重量％の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。

また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。その方法としては、例えば、本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍとなるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に本発明の植物病害防除剤を粉衣する方法があげられる。

本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び／又は病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。

本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。

本発明の植物病害防除剤剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び／又は肥料と共に用いることもできる。

かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Ａｌ、環状イミド誘導体（キャプタン、キャプタホール、フォルペット等）、ジチオカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等）、アシルアラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等）、ストロビルリン系化合物（クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン等）、アニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フェニルピロール誘導体（フェンピクロニル、フルジオキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンズイミダゾール誘導体（カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等）、アミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等）、アゾール誘導体（プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、ゾキサミド、エタボキサム、ニコビフェン、フェンヘキサミド、キノキシフェン、ジエトフェンカルブ及びアシベンゾラールＳメチルが挙げられる。

以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例のみに限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。

製造例１

３，４−ジメトキシフェニルヒドラジン塩酸塩３４．２ｇ及び水３４ｍｌの混合物に炭酸水素ナトリウム１６．８ｇを徐々に加え、ついでエタノール３００ｍｌ及び２−エトキシメチレンシアノ酢酸エチルエステル２８．１ｇを加えてから、３時間加熱還流した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから、減圧下で濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄した。ついで有機層に無水硫酸マグネシウム、活性白土、活性炭及びセライトを混合してから濾過した。濾液を減圧下で濃縮し５−アミノ−１−（３，４−ジメトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル４７．４ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ７．７７（１Ｈ，ｓ）、６．９３〜７．０６（３Ｈ，ｍ）、５．２４（２Ｈ，ｓ）、４．３１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）

５−アミノ−１−（３，４−ジメトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル４７．４ｇ、２０％水酸化ナトリウム水溶液１３０ｍｌ及びエタノール３００ｍｌの混合物を２時間加熱還流した。その後、反応混合物を室温まで冷却してから、３６％塩酸及び水を加えて酸性にしてから、減圧下で濃縮した。残渣に水及びｔ−ブチルメチルエーテルを加えて、生成した結晶を濾別した。得られた結晶を水及びｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄し、減圧下で乾燥し５−アミノ−１−（３，４−ジメトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸を得た。
５−アミノ−１−（３，４−ジメトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸及びテトラグライム５０ｍｌを混合し、１６０℃で５時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却した後、水を加えて生成した結晶を濾別した。得られた結晶を水、冷却したエタノール及びヘキサンで洗浄し、減圧下で乾燥して３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール２３．５ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、５．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、３．９２（３Ｈ，ｓ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、３．８１（２Ｈ，ｓ）

３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール２．０ｇ、トリエチルアミン２ｍｌ、約１０ｍｇの４−ジメチルアミノピリジン及びテトラヒドロフラン３０ｍｌの混合物に、４−メチルフェニルグリオキシル酸塩化物１．７ｇを滴下し、室温で３時間、さらに６０℃で３時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下で濃縮した。残渣に、水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を５％塩酸及び水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−オキソ−２−（４−メチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−１）と記す。）２．００ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．４０（１Ｈ，ｓ）、８．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．０１−７．０４（３Ｈ，ｍ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、２．４５（３Ｈ，ｓ）
Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−オキソ−２−（４−メチルフェニル）アセトアミド０．８ｇ及びエタノール１５ｍｌの混合物に、水素化ホウ素ナトリウム２５ｍｇを加えて室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウム乾燥し、減圧下で濃縮しＮ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−ヒドロキシ−２−（４−メチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−２）と記す。）２．８７ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．５３（１Ｈ，ｓ）、７．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．２０−７．２７（４Ｈ，ｍ）、６．８１−７．００（３Ｈ，ｍ）、６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、５．１４（１Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、３．８５（３Ｈ，ｓ）、３．２５（１Ｈ，ｓ）、２．３５（３Ｈ，ｓ）

製造例２

テトラヒドロフラン１０ｍｌに本発明化合物（Ｉ−２）０．５７ｇ及びトリエチルアミン０．４３ｍｌを溶解し、約０℃で塩化メタンスルホニル０．２２ｍｌを加え、室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を３％塩酸及び水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−メチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−３）と記す。）を得た。
上記本発明化合物（Ｉ−３）と２−プロピン−１−オール２ｍｌとを混合し、約８０℃で２時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和塩化アンモニウム水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−メチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−４）と記す。）１３５ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ８．８５（１Ｈ，ｓ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．１７−７．２７（４Ｈ，ｍ）、６．９７−７．０１（３Ｈ，ｍ）、６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、５．１１（１Ｈ，ｓ）、３．９６−４．２３（２Ｈ，ｍ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、２．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、２．３６（３Ｈ，ｓ）

製造例３

本発明化合物（Ｉ−１）０．３０ｇ、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩８９ｍｇ、ピリジン０．０８ｍｌ及びメタノール４ｍｌを室温で６時間撹拌した。その後、反応混合物に酢酸エチル加え、５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮してＮ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシイミノ−２−（４−メチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−５）と記す。）０．２５ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．４８（１Ｈ，ｓ）、７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．９３−７．００（３Ｈ，ｍ）、６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、２．３７（３Ｈ，ｓ）

製造例４

３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール１．０ｇとトリエチルアミン０．５５ｇとをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解し、氷冷下で４−クロルフェニルグリオキシル酸塩化物１．１ｇを滴下し、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に水を注加し、生成した固体を濾集した。この固体を乾燥し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−オキソ−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−６）と記す。）０．７２ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ３．９３（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、６．９８−７．０９（３Ｈ，ｍ）、７．４９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．６７（１Ｈ，ｓ）、８．４０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、９．３８（１Ｈ，ｓ）
本発明化合物（Ｉ−６）５５０ｍｇをメタノール２０ｍｌに溶解し、氷冷下で水素化ホウ素ナトリウム６０ｍｇを加え、室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）に付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−７）と記す）５３０ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、４．９５（１Ｈ，ｓ）、５．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ）、６．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．７２−６．８４（３Ｈ，ｍ）、７．２１−７．２５（４Ｈ，ｍ）、７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、８．７６（１Ｈ，ｓ）

製造例５

３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール０．３７ｇとトリエチルアミン０．２１ｇとをテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、２−プロパルギルオキシ−２−（４−クロルフェニル）酢酸塩化物１．１ｇを滴下して、室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）に付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−８）と記す）０．５４ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、４．００（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝０．８Ｈｚ，２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、４．２５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝０．８Ｈｚ，２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、５．１２（１Ｈ，ｓ）、６．６９−６．７１（１Ｈ，ｍ）、６．９４−７．０２（３Ｈ，ｍ）、７．３０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．５８−７．６０（１Ｈ，ｍ）、８．７９（１Ｈ，ｓ）

製造例６

本発明化合物（Ｉ−６）１００ｍｇとＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩３３ｍｇとをエタノール１０ｍｌに加え、８０℃で１時間攪拌した。反応後、反応混合物を濃縮し、残渣に希塩酸を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）に付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシイミノ−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−９）と記す。）１２５ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ３．８６−３．９６（９Ｈ，ｍ）、６．７７−７．０８（４Ｈ，ｍ）、７．３３−７．６５（５Ｈ，ｍ）、８．７６（０．８２Ｈ，ｓ）、９．１４（０．１８Ｈ，ｓ）

製造例７

３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール２．０ｇとトリエチルアミン１．８ｇとをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解し、氷冷下で４−フルオロフェニルグリオキシル酸塩化物２．０ｇを滴下し、室温で３時間攪拌した。その後、反応液を減圧下で濃縮し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−フルオロフェニル）−２−オキソ−アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−１０）と記す。）０．２３ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ３．９４（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．００−７．０５（３Ｈ，ｍ）、７．１７−７．２８（２Ｈ，ｍ）、７．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、８．５０−８．５５（２Ｈ，ｍ）、９．４０（１Ｈ，ｓ）

製造例８

製造例６と同様の方法で、本発明化合物（Ｉ−１０）からＮ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−フルオロフェニル）−２−メトキシイミノアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−１１）と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ３．８８−４．１３（９Ｈ，ｍ）、６．７７（０．３１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、６．８２（０．６９Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、６．９１−７．１４（５Ｈ，ｍ）、７．４７−７．６４（３Ｈ，ｍ）、８．８０（０．６９Ｈ，ｓ）、９．１６（０．３１Ｈ，ｓ）

製造例９

製造例５と同様の方法で、２−（４−フルオロフェニル）−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸塩化物からＮ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−フルオロフェニル）−２−（２−プロピニルオキシ）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−１２）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、４．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、５．１３（１Ｈ，ｓ）、６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ=２．０Ｈｚ）、６．９４−７．０９（５Ｈ，ｍ）、７．３１−７．３６（２Ｈ，ｍ）、７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ=２．０Ｈｚ）、８．８３（１Ｈ，ｓ）

製造例１０

製造例５と同様の方法で、２−（４−ブロモフェニル）−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸塩化物から２−（４−ブロモフェニル）−Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（２−プロピニルオキシ）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−１３）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、４．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、４．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、５．１０（１Ｈ，ｓ）、６．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．６Ｈｚ）、６．９５−７．０２（３Ｈ，ｍ）、７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．４Ｈｚ）、７．５１（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．４Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．６Ｈｚ）、８．７９（１Ｈ，ｓ）

製造例１１

製造例５と同様の方法で、２−（４−ヨードフェニル）−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸塩化物からＮ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−ヨードフェニル）−２−（２−プロピニルオキシ）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−１４）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、４．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、４．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、５．０８（１Ｈ，ｓ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９５−７．０１（３Ｈ，ｍ）、７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、８．７７（１Ｈ，ｓ）

製造例１２

メタノール５０ｍｌに４−メチルベンズアルデヒド１２ｇ及びブロモホルム３０ｇを加えた後、水酸化カリウムメタノール溶液（水酸化カリウム２８ｇとメタノール１１０ｍｌとの混合溶液）を氷冷下で滴下した。室温で１日間攪拌した後、反応混合物に水及びクロロホルムを加えて抽出し、得られた水層に塩酸を加えて酸性にしてクロロホルムで抽出した。有機層を減圧下で濃縮し、２−メトキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸１１．２ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ２．３４（３Ｈ，ｓ）、３．３９（３Ｈ，ｓ）、４．７４（１Ｈ，ｓ）、７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）
ピリジン１０ｍｌに２−メトキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸０．３２ｇ及び３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール０．３２ｇを加えた後、ＷＳＣ０．３２ｇを加えて１１０℃で３時間攪拌した。反応終了後、反応混合物を室温まで放冷してから塩酸を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を乾燥、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシ−２−（４−メチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−１５）と記す）０．５４ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３４（３Ｈ，ｓ）、３．３２（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、４．７０（１Ｈ，ｓ）、６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９５−７．０２（３Ｈ，ｍ）、７．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、８．８１（１Ｈ，ｓ）

製造例１３

製造例１２と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに４−メトキシベンズアルデヒドを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシ−２−（４−メトキシフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−１６）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．３１（３Ｈ，ｓ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、４．６９（１Ｈ，ｓ）、６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．８Ｈｚ）、６．９７（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．８Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、８．８２（１Ｈ，ｓ）

製造例１４

製造例１２と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに４−エチルベンズアルデヒドを用いて、２−（４−エトキシフェニル）−Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−１７）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．６４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、３．３３（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、４．７１（１Ｈ，ｓ）、６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９７−７．０２（３Ｈ，ｍ）、７．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、８．８３（１Ｈ，ｓ）

製造例１５

製造例１２と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに４−ブロモベンズアルデヒドを用いて、２−（４−ブロモフェニル）−Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−１８）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．３５（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、４．７０（１Ｈ，ｓ）、６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９４２（１Ｈ，ｓ）、６．９４５（１Ｈ，ｓ）、７．００（１Ｈ，ｓ）、７．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、８．７７（１Ｈ，ｓ）

製造例１６

製造例１２と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに４−メチルチオベンズアルデヒドを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−メチルチオフェニル）−２−メトキシアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−１９）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４７（３Ｈ，ｓ）、３．３３（３Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、４．６９（１Ｈ，ｓ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９５−６．９６（２Ｈ，ｍ）、７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．５Ｈｚ）、７．２４（４Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．５Ｈｚ，１．９Ｈｚ）、８．７７（１Ｈ，ｓ）

製造例１７

製造例１２と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりにベンズアルデヒドを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシ−２−フェニルアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−２０）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．３４（３Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、４．７４（１Ｈ，ｓ）、６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９５−７．０２（３Ｈ，ｍ）、７．３１−７．３８（５Ｈ，ｍ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、８．８２（１Ｈ，ｓ）

製造例１８

製造例１２と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに４−クロロベンズアルデヒドを用いて、２−（４−クロロフェニル）−Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−２１）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．３５（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、４．７２（１Ｈ，ｓ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．００（１Ｈ，ｓ）、７．３０（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．５Ｈｚ）、７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．５Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、８．７７（１Ｈ，ｓ）

製造例１９

製造例１２と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに３，４−ジクロロベンズアルデヒドを用いて、２−（３，４−ジクロロフェニル）−Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−２２）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．３８（３Ｈ，ｓ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、４．７０（１Ｈ，ｓ）、６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．６Ｈｚ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ=２．０Ｈｚ）、７．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=２．０Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．４Ｈｚ）、７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、８．７４（１Ｈ，ｓ）

製造例２０

製造例１２と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに４−トリフルオロメチルベンズアルデヒドを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシ−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−２３）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．３９（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、４．８１（１Ｈ，ｓ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．２Ｈｚ）、７．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．０Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．５Ｈｚ，１．９Ｈｚ）、７．６３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、８．８０（１Ｈ，ｓ）

製造例２１

製造例１２と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに４−（１−プロピル）ベンズアルデヒドを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシ−２−（４−（１−プロピル）フェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−２４）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、１．６２（２Ｈ，ｔｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、２．５７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、３．３３（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、４．７１（１Ｈ，ｓ）、６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、６．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，８．６Ｈｚ）、７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、７．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．２Ｈｚ）、７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．５Ｈｚ，１．９Ｈｚ）、８．８２（１Ｈ，ｓ）

製造例２２

製造例１２と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに４−（２−プロピル）ベンズアルデヒドを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシ−２−（４−（２−プロピル）フェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−２５）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．２３（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）、１．６２（１Ｈ，７重線，Ｊ＝６．７Ｈｚ）、３．３３（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、４．７１（１Ｈ，ｓ）、６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、６．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，８．６Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、７．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．２Ｈｚ）、７．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．５Ｈｚ，１．９Ｈｚ）、８．８４（１Ｈ，ｓ）

製造例２３

製造例１２と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに３，４−ジメトキシベンズアルデヒドを用いて、２−（３，４−ジメトキシフェニル）−Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−２６）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．３５（３Ｈ，ｓ）、３．８６（３Ｈ，ｓ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、４．６９（１Ｈ，ｓ）、６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．８１−７．０３（６Ｈ，ｍ）、７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、８．７８（１Ｈ，ｓ）

製造例２４

製造例１２と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに４−（ジエトキシメチル）ベンズアルデヒドを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−ホルミルフェニル）−２−メトキシアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−２７）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．４０（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、４．８３（１Ｈ，ｓ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｓ）、７．５６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、８．８２（１Ｈ，ｓ）、１０．０２（１Ｈ，ｓ）

製造例２５

本発明化合物（Ｉ−２７）０．２０ｇとO−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩７０ｍｇを５ｍｌのエタノールに加え、１時間加熱還流した。反応混合物を室温まで放冷してから濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−メトキシイミノメチルフェニル）−２−メトキシアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−２８）と記す）０．１５ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．３６（３Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、４．７５（１Ｈ，ｓ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｓ）、７．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．５５−７．５９（３Ｈ，ｍ）、８．０４（１Ｈ，ｓ）、８．７８（１Ｈ，ｓ）

製造例２６

本発明化合物（Ｉ−２７）０．３０ｇとヒドロキシルアミン塩酸塩０．１０ｇとを５ｍｌのエタノールに加え、１時間加熱還流した。反応混合物を室温まで放冷してから濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−ヒドロキシイミノメチルフェニル）−２−メトキシアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−２９）と記す）０．２７ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．３６（３Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．９５（３Ｈ，ｓ）、４．７６（１Ｈ，ｓ）、６．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．５Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、７．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、８．１１（１Ｈ，ｓ）、８．５０（１Ｈ，ｓ）、８．８１（１Ｈ，ｓ）
本発明化合物（Ｉ−２９）０．２３ｇをトルエン１０ｍｌに加え、塩化チオニル０．１３ｇを加えた後、３時間加熱還流した。反応混合物を室温まで放冷してから濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−（４−シアノフェニル）−Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−３０）と記す）１３７ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．４０（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、４．８０（１Ｈ，ｓ）、６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．００（１Ｈ，ｓ）、７．５１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、８．７９（１Ｈ，ｓ）

製造例２７

本発明化合物（Ｉ−２７）０．４４ｇとメタノール５ｍｌとの混合液に、氷冷下で水素化ホウ素ナトリウム１３ｍｇを加えた。室温で２時間攪拌した後、反応混合物に希塩酸を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−ヒドロキシメチルフェニル）−２−メトキシアセトアミド０．４１ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３４（１Ｈ，ｂｒ）、３．３３（３Ｈ，ｓ）、３．８５（３Ｈ，ｓ）、３．９５（３Ｈ，ｓ）、４．６５（２Ｈ，ｓ）、４．７２（１Ｈ，ｓ）、６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９５−６．９７（３Ｈ，ｍ）、７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、８．７７（１Ｈ，ｓ）
Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−ヒドロキシメチルフェニル）−２−メトキシアセトアミド０．３６ｇをトルエン１０ｍｌに加え、塩化チオニル０．２１ｇを加えた後、３時間加熱還流した。反応混合物を室温まで放冷してから濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−（４−クロロメチルフェニル）−Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−３１）と記す）１８０ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．３５（３Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、４．５７（２Ｈ，ｓ）、４．７５（１Ｈ，ｓ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．００（１Ｈ，ｓ）、７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．５Ｈｚ，１．９Ｈｚ）、８．８０（１Ｈ，ｓ）

製造例２８

２−ヒドロキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸エチル１９ｇ、トリエチルアミン１５ｇ及びテトラヒドロフラン１００ｍｌの混合液に、塩化メタンスルホニル１３．７ｇを氷冷下で滴下した。室温で３時間攪拌した後、反応混合物に酢酸エチル加え、生成した不溶物を濾別した。得られた濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸エチル２３ｇを得た。
２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸エチル０．５０ｇをエタノール５ｍｌに加え、２時間加熱還流した後、反応混合物を室温まで放冷してから濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−エトキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸エチル０．３２ｇを得た。

２−エトキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸エチル０．３２ｇをテトラヒドロフラン５ｍｌに溶解し、水酸化リチウム水溶液（水酸化リチウム５０ｍｇと水２ｍｌとの混合溶液）を加えた。室温で２時間攪拌した後、反応混合物に塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を減圧下で濃縮し、２−エトキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸を得た。
上記の操作で得られた２−エトキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸、ピリジン１０ｍｌ、ＷＳＣ０．３０ｇ及び３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール０．３０ｇを混合し、１１０℃で３時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで放冷してから塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥、濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−エトキシ−Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−メチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−３２）と記す）３３ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．１２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、２．３４（３Ｈ，ｓ）、３．３９−３．５６（２Ｈ，ｍ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９５（３Ｈ，ｓ）、４．７９（１Ｈ，ｓ）、６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．５Ｈｚ）、６．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=２．２Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ=２．２Ｈｚ）、７．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、９．０１（１Ｈ，ｓ）

製造例２９

製造例２８と同様の方法で、エタノールの代わりに１−プロパノールを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−メチルフェニル）−２−（１−プロピルオキシ）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−３３）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．７９（３Ｈ，ｔ，ｄ＝７．１Ｈｚ）、１．４５−１．５４（２Ｈ，ｍ）、２．３４（３Ｈ，ｓ）、３．３０−３．４３（２Ｈ，ｍ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、３．９５（３Ｈ，ｓ）、４．７８（１Ｈ，ｓ）、６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、６．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=２．２Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ=２．２Ｈｚ）、７．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．５Ｈｚ，１．９Ｈｚ）、８．９９（１Ｈ，ｓ）

製造例３０

製造例２８と同様の方法で、エタノールの代わりに２，２，２−トリフルオロエタノールを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−メチルフェニル）−２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−３４）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３５（３Ｈ，ｓ）、３．６７−３．８３（２Ｈ，ｍ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９５（３Ｈ，ｓ）、４．９６（１Ｈ，ｓ）、６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、６．９８（１Ｈ，ｄ，８．３Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｓ）、７．２１（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、８．８３（１Ｈ，ｓ）

製造例３１

製造例２８と同様の方法で、エタノールの代わりに２−ブチン−１−オールを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−メチルフェニル）−２−（２−ブチニルオキシ）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−３５）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．８３（３Ｈ，ｔ，Ｊ=２．０Ｈｚ）、２．３４（３Ｈ，ｓ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、３．９５（１Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１５．４Ｈｚ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、４．１８（１Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１５．４Ｈｚ）、５．１０（１Ｈ，ｓ）、６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９５−７．０５（３Ｈ，ｍ）、７．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、８．８７（１Ｈ，ｓ）

製造例３２

製造例２８と同様の方法で、エタノールの代わりに３−ペンチン−２−オールを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−メチルフェニル）−２−（２−メチル−２−ブチニルオキシ）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−３６）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．３２（０．６Ｈ，ｄ，Ｊ=６．６Ｈｚ）、１．３５（２．４Ｈ，ｄ，Ｊ=６．６Ｈｚ）、２．３４（３Ｈ，ｓ）、２．４２（０．６Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、２．４９（２．４Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、３．８９（０．６Ｈ，ｓ）、３．９２（２．４Ｈ，ｓ）、３．９４（０．６Ｈ，ｓ）、３．９５（２．４Ｈ，ｓ）、４．１０（０．８Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．６Ｈｚ）、４．３１（０．２Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．６Ｈｚ）、５．１６（０．２Ｈ，ｓ）、５．２１（０．８Ｈ，ｓ）、６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、６．９５−７．０７（３Ｈ，ｍ）、７．１３−７．３１（４Ｈ，ｍ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、８．７４（０．２Ｈ，ｓ）、９．０３（０．８Ｈ，ｓ）

製造例３３

本発明化合物（Ｉ−８）６００ｍｇをテトラヒドロフラン５ｍｌに溶解した溶液に、ローソン試薬６５０ｍｇを加えて、２時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで放冷してから濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−（４−クロロフェニル）−Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（２−プロピニルオキシ）チオアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−３７）と記す）１０２ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、４．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、５．４２（１Ｈ，ｓ）、６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．７Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=２．４Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．２８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ=２．０Ｈｚ）、１０．１３（１Ｈ，ｓ）

製造例３４

製造例３３と同様の方法で、本発明化合物（Ｉ−８）の代わりに本発明化合物（Ｉ−４）を用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−メチルフェニル）−２−（２−プロピニルオキシ）チオアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−３８）と記す）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３４（３Ｈ，ｓ）、２．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８７（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、４．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、５．４１（１Ｈ，ｓ）、６．９４−７．０３（３Ｈ，ｍ）、７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、１０．２０（１Ｈ，ｓ）

製造例３５

４−エチルフェニルグリオキシル酸１．５ｇ、トルエン１５ｍｌ、塩化チオニル０．９ｍｌ及びジメチルホルムアミド１滴を混合し、８０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷してから減圧下で濃縮し、４−エチルフェニルグリオキシル酸塩化物を得た。３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール０．９１ｇ、ジイソプロピルエチルアミン１．２ｍｌおよびテトラヒドロフラン１５ｍｌの混合物に、上記の操作により得られた４−エチルフェニルグリオキシル酸塩化物を０℃で滴下し、室温で３時間、６０℃で３時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから水を加え、５％塩酸水溶液、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を減圧下で濃縮し、生成した固体を濾集した。この固体をヘキサンで洗浄後乾燥して、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−オキソ−２−（４−エチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−３９）と記す。）１．５ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．３９（１Ｈ，ｓ）、８．３５−８．３７（２Ｈ，ｍ）、７．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．０２−７．０４（３Ｈ，ｍ）、６．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、２．７４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）

製造例３６

本発明化合物（Ｉ−３９）０．２０ｇとO−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩６６ｍｇとをプロパノール５ｍｌに加え、２時間加熱還流した。反応混合物を室温まで放冷してから濃縮し、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸水溶液、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、減圧下で濃縮して生成した固体を濾集した。この固体をヘキサンで洗浄後乾燥して、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシイミノ−２−（４−エチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−４０）と記す。）０．２６ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．１６（０．６Ｈ，ｓ）、８．４９（０．４Ｈ，ｓ）、７．６９（０．４Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．６１（０．６Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．５０−７．５２（０．８Ｈ，ｍ）、７．４０−７．４１（１．２Ｈ，ｍ）、７．２５−７．２７（１．２Ｈ，ｍ）、７．１９−７．２１（０．８Ｈ，ｍ）、７．０６−７．０９（１Ｈ，ｍ）、６．９０−７．０１（１Ｈ，ｍ）、６．９５（０．６Ｈ，ｓ）、６．９２（０．４Ｈ，ｓ）、６．８５（０．４Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、６．７９（０．６Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、３．８７−３．９５（９Ｈ，ｍ）、２．６３−２．７１（２Ｈ，ｍ）、１．２１−１．２８（３Ｈ，ｍ）

製造例３７

本発明化合物（Ｉ−３９）１．１ｇをエタノール１５ｍｌに溶解し、氷冷下で水素化ホウ素ナトリウム３３ｍｇを加え、室温で０．５時間攪拌した。その後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸水溶液、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、減圧下で濃縮して生成した固体を濾集した。この固体をヘキサンで洗浄後乾燥して、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−ヒドロキシ−２−（４−エチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−４１）と記す。）１．２ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．５６（１Ｈ，ｓ）、７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）、７．２５−７．２６（２Ｈ，ｍ）、７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．８２−６．９０（３Ｈ，ｍ）、６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、５．１４（１Ｈ，ｓ）、３．９３（３Ｈ，ｓ）、３．８５（３Ｈ，ｓ）、３．３６（１Ｈ，ｓ）、２．６４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）

製造例３８

３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール０．４０ｇ、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−エチルフェニル）酢酸０．４０ｇ及びＷＳＣ０．３７ｇをピリジン８ｍｌに混合し、８０℃で２時間、１００℃で２時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で２回、飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−エチルフェニル）アセトアミド（本発明化合物Ｉ−４２）０．４８ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．８４（１Ｈ，ｓ）、７．５７−７．５８（１Ｈ，ｍ）、７．１８−７．２７（４Ｈ，ｍ）、６．９８−７．０４（３Ｈ，ｍ）、６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、５．１１（１Ｈ，ｓ）、３．９５−４．２３（５Ｈ，ｍ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、２．６４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝８Ｈｚ）、２．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）

製造例３９

フェニルグリオキシル酸１．３７ｇ、トルエン１５ｍｌ、塩化チオニル１．６ｍｌ及びジメチルホルムアミド１滴を混合し、８０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷してから減圧下で濃縮し、フェニルグリオキシル酸塩化物を得た。
３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール２．０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン２．４ｍｌ及びテトラヒドロフラン１５ｍｌの混合物に上記の操作により得られたフェニルグリオキシル酸塩化物を０℃で滴下し、室温で３時間、６０℃で３時間攪拌した。該混合物を氷冷してからフェニルグリオキシル酸塩化物０．９１ｇを滴下し、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に水を注加し、５％塩酸水溶液、飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄し、減圧下で濃縮し、生成した固体を濾集した。この固体をヘキサンで洗浄後乾燥して、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−オキソ−２−フェニルアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−４３）と記す。）１．０ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．３６（１Ｈ，ｓ）、８．４０−８．４２（２Ｈ，ｍ）、７．６５−７．６９（２Ｈ，ｍ）、７．５３−７．４９（２Ｈ，ｍ）、６．９９−７．０４（３Ｈ，ｍ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）

製造例４０

製造例３６と同様の方法で、本発明化合物（Ｉ−３９）の代わりに本発明化合物（Ｉ−４３）を０．２０ｇ用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシイミノ−２−フェニルアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−４４）と記す。）０．２４ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．１６（０．６Ｈ，ｓ）、８．５７（０．４Ｈ，ｓ）、７．５９−７．６４（２Ｈ，ｍ）、７．３５−７．４７（４Ｈ，ｍ）、７．０６−７．０８（１Ｈ，ｍ）、６．９９−７．０１（１Ｈ，ｍ）、６．９５（０．６Ｈ，ｓ）、６．９２（０．４Ｈ，ｓ）、６．８５（０．４Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、６．７９（０．６Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、３．８７−３．９９（９Ｈ，ｍ）

製造例４１

製造例３７と同様の方法で、本発明化合物（Ｉ−３９）の代わりに本発明化合物（Ｉ−４３）を０．７０ｇ用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−ヒドロキシ−２−フェニルアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−４５）と記す。）０．７ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．５４（１Ｈ，ｓ）、７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．３３−７．４１（５Ｈ，ｍ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、６．７９−６．８７（２Ｈ，ｍ）、６．７０（１Ｈ，ｄ）、５．１７（１Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、３．５１（１Ｈ，ｓ）

製造例４２

３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール０．５８ｇ、２−（２−プロピニルオキシ）−２−フェニル酢酸０．５ｇ及びＷＳＣ０．５２ｇをピリジン０．５３ｇに混合し、８０℃で２時間、１００℃で２時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水ついで飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−フェニルアセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−４５）と記す。）０．６５ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．８３（１Ｈ，ｓ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．３３−７．３９（５Ｈ，ｍ）、６．９６−７．０２（３Ｈ，ｍ）、６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、５．１４（１Ｈ，ｓ）、４．０２−４．２６（５Ｈ，ｍ）、４．００（３Ｈ，ｓ）、２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）

製造例４３

製造例３５と同様の方法で、４−エチルフェニルグリオキシル酸の代わりにインダン−５−イル−オキソ−酢酸１．９３ｇを用いてＮ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−オキソ−２−（インダン−５−イル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−４７）と記す。）２．０ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．３６（１Ｈ，ｓ）、８．２７（１Ｈ，ｓ）、８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．０１−７．０５（３Ｈ，ｍ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、２．９８（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、２．０９−２．１７（２Ｈ，ｍ）

製造例４４

製造例３６と同様の方法で、本発明化合物（Ｉ−３９）の代わりに本発明化合物（Ｉ−４７）を用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−メトキシイミノ−２−（インダン−５−イル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−４８）と記す。）０．２９ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．１６（０．６Ｈ，ｓ）、８．０９（０．４Ｈ，ｓ） 、７．６１−７．６４（１Ｈ，ｍ）、６．７８−７．４５（６Ｈ，ｍ）、３．９０−３．９５（９Ｈ，ｍ）、２．８０−２．９５（４Ｈ，ｓ）、２．０４−２．０９（２Ｈ，ｍ）

製造例４５

製造例３７と同様の方法で、本発明化合物（Ｉ−３９）の代わりに本発明化合物（Ｉ−４７）１．４２ｇを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−ヒドロキシ−２−（インダン−５−イル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−４９）と記す。）１．４４ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．５４（１Ｈ，ｓ）、７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．０１−７．２０（３Ｈ，ｍ）、６．８２−６．９３（３Ｈ，ｍ）、６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、５．１３（１Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、３．２９（１Ｈ，ｂｒ）、２．８５−２．９１（４Ｈ，ｍ）、２．０４−２．１１（２Ｈ，ｍ）

製造例４６

製造例３８と同様の方法で、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−エチルフェニル）酢酸の代わりにインダン−５−イル−（２−プロピニルオキシ）酢酸０．４ｇを用いて、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（インダン−５−イル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−５０）と記す。）０．５３ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．８５（１Ｈ，ｓ）、７．５７−７．５８（１Ｈ，ｍ）、６．９６−７．２１（６Ｈ，ｍ）、６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、５．１０（１Ｈ，ｓ）、３．９６−４．２２（５Ｈ，ｍ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、２．８４−２．９０（４Ｈ，ｍ）、２．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、２．０３（２Ｈ，ｍ）

製造例４７

３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール０．３４ｇ、ナフタレン−２−イル−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸０．３８ｇ及びＷＳＣ０．３２ｇをピリジン７ｍｌに混合し、１００℃で２時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（ナフタレン−２−イル）−２−（２−プロピニルオキシ）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−５１）と記す。）０．３３ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．８５（１Ｈ，ｓ）、７．８１−７．８６（４Ｈ，ｍ）、７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．４９−７．５３（２Ｈ，ｍ）、７．４０−７．４２（１Ｈ，ｍ）、６．８９−７．０４（３Ｈ，ｍ）、６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、５．３１（１Ｈ，ｓ）、４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．７Ｈｚ）、４．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．７Ｈｚ）、３．９３（３Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、２．５１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）

製造例４８

３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール２．０ｇ、４−クロルフェニル酢酸１．５ｇ及びＷＳＣ１．８ｇをピリジン２０ｍｌに混合し、８０℃で２時間、１００℃で２時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮し、得られた残渣をヘキサンで洗浄してＮ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−５２）と記す。）３．１ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．２９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、３．６７（２Ｈ，ｓ）

製造例４９

本発明化合物（Ｉ−５２）３．２ｇとｔ−ブトキシビスジメチルアミノメタン４．８ｍｌとを混合し、８０℃で３０分間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷してから減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロルフェニル）−３−ジメチルアミノアクリルアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−５３）と記す。）２．０ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．６２（１Ｈ，ｓ）、７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．２１−７．２３（２Ｈ，ｍ）、７．０９−７．１０（２Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｂｒ）、６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、６．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、２．６８（６Ｈ，ｓ）

製造例５０

本発明化合物（Ｉ−５３）１．９ｇ、５％塩酸３ｍｌ及びテトラヒドロフラン３０ｍｌを混合し、室温で３０分間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた固体をヘキサンで洗浄してＮ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロルフェニル）−３−ヒドロキシアクリルアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−５４）と記す。）１．９ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１３．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．５Ｈｚ，１．９Ｈｚ）、７．３７（１Ｈ，ｂｒ）、７．２６−７．２８（２Ｈ，ｍ）、７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ）、７．０６−７．０７（２Ｈ，ｍ）、６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、３．９５（３Ｈ，ｓ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）

製造例５１

本発明化合物（Ｉ−５４）０．３０ｇ、プロパルギルブロマイド０．０７ｍｌ、炭酸カリウム０．１２ｇ及びアセトニトリル５ｍｌを混合し、８０℃で３時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷してから濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロルフェニル）−３−（２−プロピニルオキシ）アクリルアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−５５）と記す。）０．１３ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：９．４４（１Ｈ，ｓ）、７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．３１−７．３２（２Ｈ，ｍ）、７．２３−７．２５（２Ｈ，ｍ）、６．９９−７．０７（３Ｈ，ｍ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、６．５９（１Ｈ，ｓ）、４．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．９３（３Ｈ，ｓ）、２．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）

製造例５２

本発明化合物（Ｉ−５４）０．３０ｇ、テトラブチルアンモニウムブロマイド４９ｍｇ及びジメトキシエタン５ｍｌを混合し、室温で該混合液に大過剰量のジフルオロクロロメタンのガスをバブリングしながら、１０％の水酸化カリウム水溶液３．２ｍｌを滴下した。（途中で該混合液にテトラブチルアンモニウムブロマイド４９ｍｇ追加した）。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロルフェニル）−３−（ジフルオロメトキシ）アクリルアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−５６）と記す。）０．１４ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．３１−７．３３（２Ｈ，ｍ）、７．３０（１Ｈ，ｓ）、７．１５−７．１７（２Ｈ，ｍ）、７．０３−７．１１（４Ｈ，ｍ）、６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．２９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）

製造例５３

３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール０．４７ｇ、２−（２−プロピニルオキシ）−（４−アセチルフェニル）酢酸０．４６ｇ及びＷＳＣ１．８ｇをピリジン１０ｍｌに混合し、１００℃で２時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で３回、飽和炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−アセチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−５７）と記す。）０．２５ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．８１（１Ｈ，ｓ）、７．９４−７．７９（２Ｈ，ｍ）、７．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．５Ｈｚ、１．９Ｈｚ）、７．４７−７．４９（２Ｈ，ｍ）、６．９５−７．０１（３Ｈ，ｍ）、６．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、５．２１（１Ｈ，ｓ）、４．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．７Ｈｚ）、４．０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．７Ｈｚ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、２．６０（３Ｈ，ｓ）、２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）

製造例５４

３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール０．４０ｇ、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−メチルフェニル）酢酸０．４０ｇ及びＷＳＣ０．３５ｇをピリジン８ｍｌに混合し、１００℃で２時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で３回、飽和炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物（Ｉ−４）０．５０ｇを得た。

製造例５５

３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール０．３０ｇ、２−（４−メチルフェニル）プロピオン酸０．３０ｇ及びＷＳＣ０．３０ｇをピリジン１０ｍｌに混合し、１１０℃で２時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから減圧下で濃縮た。得られた残渣に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−メチルフェニル）プロピオンアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−５８）と記す。）０．５０ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： １．５６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、２．３６（３Ｈ，ｓ）、３．６４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．９３（３Ｈ，ｓ）、６．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．６９（１Ｈ，ｄ，１．６Ｈｚ）、６．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．２５（１Ｈ，ｓ）、７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）

製造例５６

３−アミノ−２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール０．３３ｇ、２−（４−クロロフェニル）−４−ペンチン酸０．２６ｇ及びＷＳＣ０．３１ｇをピリジン１０ｍｌに混合し、１１０℃で２時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷してから減圧下で濃縮し、残渣に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロロフェニル）−４−ペンチン酸アミド（以下、本発明化合物（Ｉ−５９）と記す。）０．２５ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： １．９２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）、２．７３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，８．５Ｈｚ，１７．１Ｈｚ）、３．０６（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，６．３Ｈｚ，１７．１Ｈｚ）、３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、６．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、６．６７−６．７２（２Ｈ，ｍ）、６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、７．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．３２−７．３６（３Ｈ，ｍ）、７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）

製造例５７

２−メトキシ−４−ニトロフェノールカリウム塩２０．７２ｇ、ベンジルブロマイド１７．９６ｇ及び炭酸カリウム１４．５２ｇをアセトニトリル１７０ｍｌと混合し、加熱還流下１．５時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷し、生じた固体をガラスフィルターで濾別し、濾液を減圧下で濃縮し、粗４−ベンジルオキシ−３−メトキシニトロベンゼン２５．４０ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=２．６Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ=２．６Ｈｚ）、７．３１−７．４４（５Ｈ，ｍ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ=９．０Ｈｚ）、５．２５（２Ｈ，ｓ）、３．９７（３Ｈ，ｓ）
酢酸１００ｍｌ、水１００ｍｌの混合溶液に鉄粉１７．８８ｇを加え、８０℃で３０分間攪拌した。ここに上記の操作で得られた粗４−ベンジルオキシ−３−メトキシニトロベンゼン２０．７４ｇと酢酸エチル６６ｍｌとの混合液を徐々に加え、８０℃で１時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層に水を加え、次に炭酸カリウムを加えて中性付近としてから酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、４−ベンジルオキシ−３−メトキシアニリン１４．９３ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．４２（２Ｈ，ｄ，Ｊ=７．４Ｈｚ）、７．３４（２Ｈ，ｔ，Ｊ=１．７７．４Ｈｚ）、７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ=７．４Ｈｚ）、６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、６．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ=２．７Ｈｚ）、６．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=２．７Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、５．０４（２Ｈ，ｓ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、３．４７（２Ｈ，ｂｒ）
上記の操作で得られた４−ベンジルオキシ−３−メトキシアニリンを水４０ｍｌ及び３７％塩酸４０ｍｌの混合溶液に加え、−４℃に冷却した。ここに水１２mlと亜硝酸ナトリウム４．１４ｇとの混合溶液を滴下し、−１２℃で２時間攪拌した。これに３７％塩酸１５ｍｌに溶解した無水塩化錫（II）１４．２ｇを徐々に滴下し、−５℃で１時間攪拌し、さらに室温で３時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えて分液し、有機層及び水層をそれぞれ得た。得られた有機層を１０％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、また得られた水層を炭酸カリウムで中性付近とした後、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を混合し、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で濃縮し、粗４−ベンジルオキシ−３−メトキシフェニルヒドラジン６．１４ｇを得た。
エタノール４０ｍｌに上記の操作で得られた粗４−ベンジルオキシ−３−メトキシフェニルヒドラジン６．１４ｇ及び（エトキシメチレン）シアノ酢酸エチル２．９６ｇを加え、加熱還流下６時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷してから減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、５−アミノ−１−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシフェニル）ピラゾール−４−カルボン酸エチル２．１６ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．７６（１Ｈ，ｓ）、７．３０−７．４５（５Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．７Ｈｚ）、６．９５（２Ｈ，ｍ）、５．２４（２Ｈ，ｂｒ）、５．２０（２Ｈ，ｓ）、４．３０（２Ｈ，ｑ，Ｊ=７．０Ｈｚ）、３．９２（３Ｈ，ｓ）、１．３６（３Ｈ，ｔ，Ｊ=７．０Ｈｚ）

５−アミノ−１−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシフェニル）ピラゾール−４−カルボン酸エチル２．１２ｇ及び１０％水酸化ナトリウム水溶液１２ｍｌをエタノール２５ｍｌに混合し、加熱還流下１．５時間攪拌した。反応混合物を室温まで放冷してから希塩酸を加えて酸性にし、減圧下で濃縮した。残渣を濾別し、得られた固体を水、ｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄し、乾燥して、５−アミノ−１−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシフェニル）−ピラゾール−４−カルボン酸１．５０ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．６１（１Ｈ，ｓ）、７．４５（２Ｈ，ｄ，Ｊ=７．０Ｈｚ）、７．３９（２Ｈ，ｔ，Ｊ=７．０Ｈｚ）、７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ=７．０Ｈｚ）、７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．７Ｈｚ）、７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ=２．４Ｈｚ）、６．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=２．４Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、６．１５（２Ｈ，ｂｒ）、５．１２（２Ｈ，ｓ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）

５−アミノ−１−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシフェニル）−４−カルボン酸１．４０ｇをテトラグライム２０ｍｌに溶解し、１７０℃で７時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で濃縮し、粗５−アミノ−１−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシフェニル）ピラゾール１．６２ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．３１−７．４６（６Ｈ，ｍ）、７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ=７２．３Ｈｚ）、６．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=２．３Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．５Ｈｚ）、５．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．９Ｈｚ）、５．２０（２Ｈ，ｓ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、３．７８（２Ｈ，ｂｒ）
上記の操作で得られた粗５−アミノ−１−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシフェニル）ピラゾール０．８１ｇ及びトリエチルアミン０．２３ｇをテトラヒドロフラン７ｍｌに溶解し、０℃に冷却した。ここに４−クロロフェニル酢酸塩化物０．４３ｇを滴下し、その後室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、N−｛１−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシフェニル）ピラゾール−５−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．３９ｇ得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．７Ｈｚ）、７．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．４１（３Ｈ，ｔ，Ｊ=７．４Ｈｚ）、７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ=７．４Ｈｚ）、７．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ=２．４Ｈｚ）、６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．５Ｈｚ）、６．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．７Ｈｚ）、６．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=２．４Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、５．２３（２Ｈ，ｓ）、３．８５（３Ｈ，ｓ）、３．６６（２Ｈ，ｓ）

N−｛１−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシフェニル）ピラゾール−５−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド５１３ｍｇ及び臭化水素酸５８５ｍｇを酢酸３ｍｌに溶解し、８５℃で２時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸、水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、N−｛１−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）ピラゾール−５−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド２２４ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．７Ｈｚ）、７．２８（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．２２（１Ｈ，ｂｒ）、７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．５Ｈｚ）、６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ=２．３Ｈｚ）、６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．７Ｈｚ）、６．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=２．３Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、５．８３（１Ｈ，ｂｒ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、３．６５（２Ｈ，ｓ）
N−｛１−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）ピラゾール−５−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド２２４ｍｇ、臭化プロパルギル９４ｍｇ及び炭酸カリウム１０９ｍｇをアセトニトリル６ｍｌと混合し、加熱還流下３時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、N−｛１−（４−プロピニルオキシ−３−メトキシフェニル）−ピラゾール−５−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（Ｉ−６０）と記す。）５４ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．７Ｈｚ）、７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、７．２７（１Ｈ，ｂｒ）、７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ=８．３Ｈｚ）、６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．５Ｈｚ）、６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ=２．３Ｈｚ）、６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ=１．７Ｈｚ）、６．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=２．３Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、４．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ=２．３Ｈｚ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、３．６８（２Ｈ，ｓ）、２．５８（１Ｈ，ｔ，Ｊ=２．３Ｈｚ）

次に、本発明化合物の製造中間体の製造について参考製造例を示す。
参考製造例１

４−クロロフェニルグリオキシル酸メチル８０．２ｇをメタノール５００ｍｌに溶解し、ここに０−５℃で水素化ホウ素ナトリウム３．８ｇを加え、室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下で濃縮し、残渣に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝５／１−２／１）に付し、２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル６２．４ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ３．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、５．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、７．３１−７．３８（４Ｈ，ｍ）
テトラヒドロフラン２００ｍｌに２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル６２．４ｇとトリエチルアミン４０．８ｇとを溶解し、０℃で塩化メタンスルホニル４２．８ｇを加え、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下で濃縮し、残渣に酢酸エチルを加えて固形物を濾別した。濾液を減圧下で濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）に付し、２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル７５．６ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ３．１２（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、５．９２（１Ｈ，ｓ）、７．３６−７．４３（４Ｈ，ｍ）

２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル７０ｇと２−プロピニルアルコール７０ｇとを混合し、８０℃で１．５時間攪拌した。その後、反応混合物にトルエンを加えて減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）に付し、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチルと２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸（２−プロピニル）との混合物６４．６ｇを得た。
（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸（２−プロピニル）
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ２．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．４Ｈｚ）、４．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．４Ｈｚ）、５．２３（１Ｈ，ｓ）、７．３３−７．４２（４Ｈ，ｍ）
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ２．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．１２（３Ｈ，ｓ）、４．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、５．１９（１Ｈ，ｓ）、７．３３−７．４２（４Ｈ，ｍ）
上記の（２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチルと２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸（２−プロピニル）との混合物６４．６ｇをテトラヒドロフラン８００ｍｌに溶解し、０℃で水酸化リチウム水溶液（水酸化リチウム６．７４ｇと水２８０ｍｌとの混合物）を滴下してから、０℃−室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。生成した結晶をヘキサンで洗浄し、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸４３．４ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、４．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、５．２０（１Ｈ，ｓ）、７．３３−７．４４（４Ｈ，ｍ）、８．７０−９．５０（１Ｈ，ｂｒ）
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸４．７ｇと塩化チオニル３．０ｇとをトルエン５０ｍｌに溶かし、１００℃で２時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下で濃縮して、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸塩化物５．０ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ２．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、５．３９（１Ｈ，ｓ）、７．３７−７．４４（４Ｈ，ｍ）

参考製造例２
参考製造例１と同様の方法で、４−クロロフェニルグリオキシル酸メチルの代わりに４−ブロモフェニルグリオキシル酸メチルを用いて、２−（４−ブロモフェニル）−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸を得た。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、４．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、５．１９（１Ｈ，ｓ）、７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、９．３２（１Ｈ，ｂｒ）

参考製造例３
参考製造例１と同様の方法で、４−クロロフェニルグリオキシル酸メチルの代わりに４−フルオロフェニルグリオキシル酸メチルを用いて、２−（４−フルオロフェニル）−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸を得た。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ２．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．９Ｈｚ）、４．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．９Ｈｚ）、５．２１（１Ｈ，ｓ）、７．０４−７．１０（２Ｈ，ｍ）、７．４２−７．４７（２Ｈ，ｍ）、８．６０（１Ｈ，ｂｒ）

参考製造例４
参考製造例１と同様の方法で、４−クロロフェニルグリオキシル酸メチルの代わりに４−フルオロフェニルグリオキシル酸メチルを用いて、２−（４−ヨードフェニル）−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸を得た。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）： ２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．９Ｈｚ）、４．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．９Ｈｚ）、５．１７（１Ｈ，ｓ）、７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、１０．００（１Ｈ，ｂｒ）

参考製造例５

塩化アルミニウム８gとジクロロメタン８０ｍｌとの混合物に、０℃でエチルオキサリルクロリド７．８５ｇを滴下した。さらに同温でトルエン４．６０ｇを滴下し、室温で１時間攪拌した。その後、氷水に反応混合物を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮し、４−メチルフェニルグリオキシル酸エチル９．３ｇを粗生成物として得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、４．４４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、２．４４（３Ｈ，ｓ）、１．４２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
上記の操作で得た４−メチルフェニルグリオキシル酸エチル９．３ｇ、３０％水酸化ナトリウム水溶液１３ｍｌ及びエタノール１５ｍｌを混合し２時間加熱還流した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから５％塩酸を加えて酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄後、乾燥して、４−メチルフェニルグリオキシル酸５．２ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、４．２８（１Ｈ，ｂｒ）、２．４５（３Ｈ，ｓ）
トルエン１５０ｍｌに４−メチルフェニルグリオキシル酸１０．０ｇ、塩化チオニル７．２ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．２ｇを混合し、８０℃で１時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから減圧下で濃縮して、４−メチルフェニルグリオキシル酸塩化物１２．１gを得た。

参考製造例６

マグネシウム０．８６ｇに、２−ブロモナフタレンのテトラヒドロフラン溶液（2−ブロモナフタレン７．０ｇとテトラヒドロフラン２２ｍｌとの混合溶液）を室温で滴下し、３０分間撹拌した。該混合液を−７０℃に冷却し、シュウ酸ジエチル９．９ｇおよびテトラヒドロフランの混合物を徐々に滴下した。該混合液を２時間かけて室温まで昇温し、飽和塩化アンモニウム水を加えて、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ナフタレン−２−イル−２−オキソ酢酸エチル９．３ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．５６（１Ｈ，ｓ）、８．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．５６−７．６０（１Ｈ，ｍ）、７．０３−７．０７（１Ｈ，ｍ）、４．５１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．４７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）

参考製造例７

４−ブロムフェニルグリオキシル酸エチル２０．０g、トリメチルシリルアセチレン２２ｍｌ、ビストリフェニルホスフィンジクロロパラジウム１．６ｇ、トリエチルアミン２２ｍｌ、ヨウ化銅（Ｉ）０．４４ｇおよびジメチルホルムアミド２００ｍｌを混合し、５０℃で２時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷してからに水を加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−トリメチルシリルエチニルフェニルグリオキシル酸エチル９．３ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９７−７．９４（２Ｈ，ｍ）、７．５８−７．５５（２Ｈ，ｍ）、４．４５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．４２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、０．２７（９Ｈ，ｓ）

参考製造例８

塩化アルミニウム１５．９gとジクロロメタン１６０ｍｌとの混合物に、０℃でエチルオキサリルクロリド１５．７ｇを滴下した。さらに同温でインダン１１．８ｇを滴下し、室温で１時間攪拌した。その後、氷水に反応混合物を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、インダン−５−イル−グリオキシル酸エチル１６．４ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．４１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．０５−２．１９（２Ｈ，ｍ）、２．９３−３．０３（４Ｈ，ｍ）、４．４５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．７８（１Ｈ，ｄｄ，０．９Ｈｚ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．８３（１Ｈ，ｓ）

参考製造例９
参考製造例１と同様の方法で、４−クロロフェニルグリオキシル酸メチルの代わりにナフタレン−２−イルグリオキシル酸エチルを用いて、下記の化合物をそれぞれ得た。
ナフタレン−２−イル−２−ヒドロキシ酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９１（１Ｈ，ｓ）、７．８２−７．８６（３Ｈ，ｍ）、７．４７−７．５３（３Ｈ，ｍ）、５．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、４．１３−４．３２（２Ｈ，ｍ）、３．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）
ナフタレン−２−イル−２−メタンスルホニルオキシ酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９６（１Ｈ，ｓ）、７．８４−７．９０（３Ｈ，ｍ）、７．５１−７．５６（３Ｈ，ｍ）、６．０９（１Ｈ，ｓ）、４．１９−４．３２（２Ｈ，ｍ）、３．１０（３Ｈ，ｓ）、１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
ナフタレン−２−イル−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸エチルエステルとナフタレン−２−イル−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸（２−プロピニル）エステルとの混合物

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９５（１Ｈ，ｓ）、７．８３−７．８７（３Ｈ，ｍ）、７．４９−７．５８（３Ｈ，ｍ）、５．４３（０．５Ｈ，ｓ）、５．３９（０．５Ｈ，ｓ）、４．７９（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５Ｈｚ）、４．６６（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５Ｈｚ）、４．１２−４．３８（３Ｈ，ｍ）、２．４９−２．５２（１Ｈ，ｍ）、２．４３（０．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、１．２２（１．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
ナフタレン−２−イル−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８−１０（１Ｈ，ｂｒ）、７．９３（１Ｈ，ｓ）、７．８３−７．８８（３Ｈ，ｍ）、７．４９−７．５３（３Ｈ，ｍ）、５．４０（１Ｈ，ｓ）、４．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、４．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、２．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）

参考製造例１０
参考製造例１と同様の方法で、４−クロロフェニルグリオキシル酸メチルの代わりにフェニルグリオキシル酸エチルを用いて、下記の化合物をそれぞれ得た。
２−ヒドロキシ−２−フェニル酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．２９−７．４５（５Ｈ，ｍ）、５．１５（１Ｈ，ｓ）、４．１１−４．３０（２Ｈ，ｍ）、３．５０（１Ｈ，ｂｒ）、１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
２−メタンスルホニルオキシ−２−フェニル酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．２８−７．４６（５Ｈ，ｍ）、５．９２（１Ｈ，ｓ）、４．１６−４．３１（２Ｈ，ｍ）、３．０８（３Ｈ，ｓ）、１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
２−（２−プロピニルオキシ）−２−フェニル酢酸エチルと２−（２−プロピニルオキシ）−２−フェニル酢酸（２−プロピニル）との混合物

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．４４−７．４８（２Ｈ，ｍ）、７．３６−７．３９（３Ｈ，ｍ）、５．２９（０．５Ｈ，ｓ）、５．１９（０．５Ｈ，ｓ）、４．７８（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５Ｈｚ）、４．６６（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５Ｈｚ）、４．０９−４．３４（３Ｈ，ｍ）、２．４７−２．５０（１Ｈ，ｍ）、２．４５（０．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、１．２２（１．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
２−（２−プロピニルオキシ）−２−フェニル酢酸

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８−１０（１Ｈ、ｂｒ）、７．３６−７．４７（５Ｈ，ｍ）、５．２３（１Ｈ，ｓ）、４．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、４．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）

参考製造例１１
参考製造例１と同様の方法で、４−クロロフェニルグリオキシル酸メチルの代わりに４−メチルフェニル酢酸エチルを用いて、以下の化合物をそれぞれ得た。
２−ヒドロキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．２８−７．３０（２Ｈ，ｍ）、７．１５−７．１７（２Ｈ，ｍ）、５．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、４．１２−４．３０（２Ｈ，ｍ）、３．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、２．３５（３Ｈ，ｓ）、１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．３３−７．３６（２Ｈ，ｍ）、７．２１−７．２３（２Ｈ，ｍ）、５．８９（１Ｈ，ｓ）、４．１６−４．３１（２Ｈ，ｍ）、３．０５（３Ｈ，ｓ）、２．３７（３Ｈ，ｓ）、１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−メチルフェニル）酢酸

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８−１０（１Ｈ、ｂｒ）、７．３１−７．３３（２Ｈ，ｍ）、７．１８−７．２０（２Ｈ，ｍ）、５．１９（１Ｈ，ｓ）、４．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、４．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、２．３５（３Ｈ，ｓ）

参考製造例１２
参考製造例１と同様の方法で、４−クロロフェニルグリオキシル酸メチルの代わりに４−エチルフェニルグリオキシル酸エチルを用いて、下記の化合物をそれぞれ得た。
２−ヒドロキシ−２−（４−エチルフェニル）酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．３１−７．３３（２Ｈ，ｍ）、７．１８−７．２０（２Ｈ，ｍ）、５．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）、４．１１−４．３１（２Ｈ，ｍ）、３．３７（１Ｈ，ｄ）、２．６５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−エチルフェニル）酢酸エチルと２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−エチルフェニル）酢酸（２−プロピニル）との混合物

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．３５−７．３７（２Ｈ，ｍ）、７．１８−７．２１（２Ｈ，ｍ）、５．２２（０．５Ｈ，ｓ）、５．１２（０．５Ｈ，ｓ）、４．７８（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．５Ｈｚ）、４．６４（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．５Ｈｚ）、４．１０−４．３２（３Ｈ，ｍ）、２．６５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．４３−２．４９（１．５Ｈ，ｍ）、１．２５−１．２１（４．５Ｈ，ｍ）
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−エチルフェニル）酢酸

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８−１０（１Ｈ、ｂｒ）、７．３５−７．３７（２Ｈ，ｍ）、７．２１−７．２３（２Ｈ，ｍ）、５．２９（１Ｈ，ｓ）、４．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、４．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、２．６５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）

参考製造例１３
参考製造例１と同様の方法で、４−クロロフェニルグリオキシル酸メチルの代わりに２−（インダン−5−イル）グリオキシル酸エチルを用いて、下記の化合物をそれぞれ得た。
２−（インダン−５−イル）−２−ヒドロキシ酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．３１−７．２５（３Ｈ，ｍ）、５．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ）、４．２４−４．３０（１Ｈ，ｍ）、４．１１−４．１９（１Ｈ，ｍ）、３．３５（１Ｈ，ｄ）、２．８８−２．９４（４Ｈ，ｍ）、２．０３−２．１１（２Ｈ，ｍ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
２−（インダン−５−イル）−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸エチルと２−（インダン−５−イル）−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸（２−プロピニル）との混合物

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．３０（１Ｈ，ｓ）、７．２０−７．２１（２Ｈ，ｍ）、５．２１（０．５Ｈ，ｓ）、５．１５（０．５Ｈ，ｓ）、４．７９（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、４．６３（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．５Ｈｚ）、４．０９−４．３３（３Ｈ，ｍ）、２．８７−２．９５（４Ｈ，ｍ）、２．４２−２．５４（１．５Ｈ，ｍ）、２．０４−２．１３（２Ｈ，ｍ）、１．２３（１．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）
２−（インダン−５−イル）−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８−１０（１Ｈ、ｂｒ）、７．１８−７．３０（３Ｈ，ｍ）、５．１９（１Ｈ，ｓ）、４．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、４．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、２．８８−２．９３（４Ｈ，ｍ）、２．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、２．０４−２．１１（２Ｈ，ｍ）

参考製造例１４
参考製造例１と同様の方法で、４−クロロフェニルグリオキシル酸メチルの代わりに、４−（トリメチルシリルエチニルフェニル）グリオキシル酸エチルを用いて、下記の化合物をそれぞれ得た。
２−ヒドロキシ−２−（４−トリメチルシリルエチニルフェニル）酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．４６−７．４４（２Ｈ，ｍ）、７．３５−７．３６（２Ｈ，ｍ）、５．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、４．１３−４．２７（２Ｈ，ｍ）、３．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、０．２４（９Ｈ，ｓ）
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−アセチルフェニル）酢酸

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８−１０（１Ｈ、ｂｒ）、７．９６−７．９８（２Ｈ，ｍ）、７．５６−７．５９（２Ｈ，ｍ）、５．９５（１Ｈ，ｓ）、４．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、２．６１（３Ｈ，ｓ）、２．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）

次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。
製剤例１
本発明化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−６０）の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸マグネシウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。

製剤例２
本発明化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−６０）の各々２０部とソルビタントリオレエ−ト１．５部とを、ポリビニルアルコール２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケート０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコール１０部を加えて攪拌混合し各々のフロアブル製剤を得る

製剤例３
本発明化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−６０）の各々２部、カオリンクレー８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る

製剤例４
本発明化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−６０）の各々５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、各々の乳剤を得る。

製剤例５
本発明化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−６０）の各々２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレー６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、各々の粒剤を得る。

製剤例６
本発明化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−６０）の各々１０部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々のフロアブル製剤を得る。

次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、無処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積を比較することにより評価した。
本発明化合物の比較として、式（Ａ）

で示される化合物（J. Med. Chem., 2002, 45, p.2994−3008に記載の化合物。以下、比較化合物Ａと記す。）を試験に供試した。

試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で２０日間生育させた。本発明化合物（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−４）、（Ｉ−５）、（Ｉ−７）、（Ｉ−８）、（Ｉ−１１）〜（Ｉ−１８）、（Ｉ−２０）〜（Ｉ−２８）、（Ｉ−３０）、（Ｉ−３１）、（Ｉ−３５）〜（Ｉ−３８）、（Ｉ−４０）〜（Ｉ−４２）、（Ｉ−４６）〜（Ｉ−５７）、（Ｉ−６０）および比較化合物Ａを製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で所定濃度（５００ｐｐｍ）に希釈し、該希釈液をトマト葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、トマト疫病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後、２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で1日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室で４日間栽培した。その後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−４）、（Ｉ−５）、（Ｉ−７）、（Ｉ−８）、（Ｉ−１１）〜（Ｉ−１８）、（Ｉ−２０）〜（Ｉ−２８）、（Ｉ−３０）、（Ｉ−３１）、（Ｉ−３５）〜（Ｉ−３８）、（Ｉ−４０）〜（Ｉ−４２）、（Ｉ−４６）〜（Ｉ−５７）、（Ｉ−６０）を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。比較化合物Ａを供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の７６〜１００％の範囲であった。

試験例２
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で２０日間生育させた。本発明化合物（Ｉ−９）、（Ｉ−２９）、（Ｉ−３２）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で所定濃度（２００ｐｐｍ）に希釈し、該希釈液をトマト葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、トマト疫病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後、２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室で４日間栽培した。その後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物（Ｉ−９）、（Ｉ−２９）、（Ｉ−３２）を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。

試験例３
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で２０日間生育させた。本発明化合物（Ｉ−１９）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で所定濃度（５０ｐｐｍ）に希釈し、該希釈液をトマト葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、トマト疫病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後、２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室で４日間栽培した。その後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物（Ｉ−１９）を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。

試験例４
プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（品種:ベリーＡ）を播種し、温室内で４０日間生育させた。本発明化合物（Ｉ−１）、（Ｉ−４）、（Ｉ−８）、（Ｉ−９）、（Ｉ−１２）、（Ｉ−１３）、（Ｉ−１５）、（Ｉ−２１）〜（Ｉ−２５）、（Ｉ−２８）、（Ｉ−３１）、（Ｉ−３２）、（Ｉ−４０）、（Ｉ−４２）、（Ｉ−４６）、（Ｉ−４８）、（Ｉ−５０）、（Ｉ−５１）、（Ｉ−５７）、（Ｉ−６０）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で所定濃度（２００ｐｐｍ）に希釈し、該希釈液をブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室に移して６日間栽培した。その後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物（Ｉ−１）、（Ｉ−４）、（Ｉ−８）、（Ｉ−９）、（Ｉ−１２）、（Ｉ−１３）、（Ｉ−１５）、（Ｉ−２１）〜（Ｉ−２５）、（Ｉ−２８）、（Ｉ−３１）、（Ｉ−３２）、（Ｉ−４０）、（Ｉ−４２）、（Ｉ−４６）、（Ｉ−４８）、（Ｉ−５０）、（Ｉ−５１）、（Ｉ−５７）、（Ｉ−６０）を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。

試験例５
プラスチッポットに砂壌土を詰め、ブドウ（品種:ベリーＡ）を播種し、温室内で４０日間生育させた。本発明化合物（Ｉ−１４）、（Ｉ−１７）、（Ｉ−１８）、（Ｉ−３５）〜（Ｉ−３８）、（Ｉ−５２）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で所定濃度（５０ｐｐｍ）に希釈し、該希釈液をブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室に移して６日間栽培した。その後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物（Ｉ−１４）、（Ｉ−１７）、（Ｉ−１８）、（Ｉ−３５）〜（Ｉ−３８）、（Ｉ−５２）を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。

Claims (18)

1. 式（１）
   

   

   ［式中、
   Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基を表す、但しＲ²とＲ³においては、Ｒ²とＲ³とが一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を表してもいい。
   Ｒ⁶は、水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
   Ｒ⁹及びＲ¹⁰は独立してＣ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基又はＣ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基を表し、
   Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表し、
   Ｑは、以下のＱ１、Ｑ２又はＱ３
   

   

   ｛式中、
   Ｚ¹は酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ¹⁴は水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ¹⁵は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ）カルボニル基又はＣ１−Ｃ３アルキルスルホニル基を表し、
   Ｚ²は酸素原子、ＮＯＲ¹⁶基、ＣＲ¹⁷Ｒ¹⁸基、又はＮＮＲ¹⁹Ｒ²⁰
   （式中、Ｒ¹⁶は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基を表し、
   Ｒ¹⁷はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、ヒドロキシル基、ジ（Ｃ１−Ｃ３アルキル）アミノ基又はＣ３−Ｃ６シクロアルキルオキシ基を表し、Ｒ¹⁸は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ１−Ｃ６ハロアルキル基を表し、
   Ｒ¹⁹及びＲ²⁰は、独立して水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基を表す。）を表し、Ｒ²¹は水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ４アルケニル基又はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。）、
   Ｒ²¹は水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ４アルケニル基又はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。｝を表す。］
   で示されるフェニルピラゾール化合物。
2. Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ２−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルコキシ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成している請求項１に記載のフェニルピラゾール化合物。
3. Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基であるか、Ｒ³がＲ²と一緒になってトリメチレン、テトラメチレン又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成している請求項１に記載のフェニルピラゾール化合物。
4. Ｒ³がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基又はシアノ基である請求項１に記載のフェニルピラゾール化合物。
5. Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵が水素原子である請求項１〜４のいずれかに記載のフェニルピラゾール化合物。
6. Ｒ²が水素原子である請求項５に記載のフェニルピラゾール化合物。
7. Ｘが酸素原子である請求項１に記載のフェニルピラゾール化合物。
8. Ｒ⁶が水素原子である請求項１に記載のフェニルピラゾール化合物。
9. ＱがＱ１である請求項１に記載のフェニルピラゾール化合物。
10. ＱがＱ１であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子である請求項１に記載のフェニルピラゾール化合物。
11. ＱがＱ１であり、Ｚ¹が酸素原子であり、Ｒ¹⁴が水素原子であり、Ｒ¹⁵がは水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基である請求項１に記載のフェニルピラゾール化合物。
12. ＱがＱ２である請求項１に記載のフェニルピラゾール化合物。
13. ＱがＱ２であり、Ｚ²がＮＯＲ¹⁶基である請求項１に記載のフェニルピラゾール化合物。
14. ＱがＱ３である請求項１に記載のフェニルピラゾール化合物。
15. ＱがＱ３であり、Ｒ²¹が水素原子である請求項１に記載のフェニルピラゾール化合物。
16. Ｒ⁹及びＲ¹⁰がメトキシ基である請求項７〜１３のいずれかに記載のフェニルピラゾール化合物。
17. 請求項１〜１６いずれか一項記載のフェニルピラゾール化合物を有効成分として含有する植物病害防除剤。
18. 請求項１〜１６いずれか一項記載のフェニルピラゾール化合物の有効量を、植物又は土壌に施用する工程を有する植物病害の防除方法。