WO2005000796A1 - アミド化合物およびそれを用いた植物病害の防除方法 - Google Patents

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WO2005000796A1
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alkyl
phenyl
halogen atom
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PCT/JP2004/008397
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Hiroshi Sakaguchi
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Sumitomo Chemical Company, Limited
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    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N37/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most two bonds to halogen, e.g. carboxylic acids
    • A01N37/42—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most two bonds to halogen, e.g. carboxylic acids containing within the same carbon skeleton a carboxylic group or a thio analogue, or a derivative thereof, and a carbon atom having only two bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. keto-carboxylic acids
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N37/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most two bonds to halogen, e.g. carboxylic acids
    • A01N37/34—Nitriles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/01—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C255/32—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring
    • C07C255/42—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring the carbon skeleton being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being further bound to other hetero atoms
    • C07C255/44—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring the carbon skeleton being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being further bound to other hetero atoms at least one of the singly-bound nitrogen atoms being acylated

Definitions

  • the present invention relates to an amide compound and a method for controlling plant diseases by applying the amide compound to plants or soil where plants grow.
  • An object of the present invention is to provide a compound having an excellent plant disease controlling effect.
  • the present invention relates to the formula (1)
  • R 1 is a hydrogen atom; a halogen atom; a nitro group; a cyano group; a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a C3-C6 cycloalkyl group, a C6-C6 alkoxy group, and a C3-C6 cycloalkoxy.
  • a C2-C6 alkenyl group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a C3-C6 cycloalkyl group, a C2-C6 alkoxy group, a C3-C
  • a C1-C6 alkylthio group which may be substituted with a group; substituted with a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a CI-C6 alkoxy group and an alkylthio group.
  • R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a CI-C6 alkyl group, a C3-C6 cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group, a C8 octaalkyl group, a C6 C6 alkoxy group, a CI -Represents a C6 haloalkoxy group, a C1-C6 alkylthio group, a C1-C6 haloalkylthio group, a di (C1-C6 alkyl) amino group, a nitro group or a cyano group,
  • R 1 and R 2 together form a C3-C6 polymethylene group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a CI-C3 alkyl group and a CI-C3 haloalkyl group;
  • a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a CI-C3 alkyl group and a CI-C3 haloalkyl group An 1,3-butadiene-1,4-diyl group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of an atom, a CI-C3 alkyl group and a ⁇ -C3 haloalkyl group,
  • R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a -C3 alkyl group
  • R 4 represents a C 4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkynyl group
  • R 5 represents a C 4 alkyl group, a C 3 -C 4 alkenyl group, a C 3 -C 6 alkynyl group, a CI-C 4 haloalkyl group, a cyanoalkyl group or a (CI-C 3 alkyl) carbonyl group
  • R 6 represents a hydrogen atom.
  • R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group
  • R 8 represents a hydrogen atom, a porogen atom or a -C3 alkyl group
  • R 9 represents a hydrogen atom or a -C3 alkyl group
  • R 1 Q represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group
  • R 11 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group
  • R 12 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group.
  • a plant disease control composition characterized by containing the compound of the present invention as an active ingredient, and an effect of the compound of the present invention.
  • a method for controlling plant diseases which comprises treating an amount of the plant or soil in which the plant is grown.
  • Examples of the halogen atom represented by R 1 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the C 6 alkyl group which may be substituted with a substituent is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec group.
  • C 6 C 6 alkyl groups such as monobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group, hexyl group; fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl C1-C6 haloalkyl groups such as chloromethyl, dichloromethyl, and trichloromethyl; cyanomethyl, 2-sia C1-C6 alkyl groups such as ethyl group and 1-cyanoethyl; C1-C6 hydroxyalkyl groups such as hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group and 3-hydroxypropyl group; cyclopropylmethyl group C3-C6 cycloalkyl C2-C6 alkyl group such as cyclobutylmethyl group, cyclopentylmethyl group, cyclohexylmethyl group; 2-methoxyethoxy group, 2-
  • C1-C6 alkyl group of Cano cyclopropyloxymethyl group, cyclobutyloxymethyl group, cycloalkyl C 1 -C 6 cycloalkoxy C 1 -C 6 alkyl group such as pentyloxymethyl group, cyclohexyloxymethyl group; C 1 -C 6 alkylthio C 1 -C 6 alkyl group such as 2-methylthioethyl group; cyclopen A C1-C6 cycloalkylthio C2C6 alkyl group such as a tylthiomethyl group; and a tri (C2C3alkyl) silyl C1-C6 alkyl group.
  • R 1 represents a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a C3-C6 cycloalkyl group, an alkoxy group, a C3-C6 cycloalkoxy group, a C6-C6 alkylthio group, a C3-C6 cycloalkylthio group or a tri- (C1-C3 alkyl) group.
  • the C2-C6 alkenyl group which may be substituted by a substituted grave selected from the group consisting of a silyl group includes, for example, a vinyl group, a 1-methylvinyl group, a 1-propyl group, a 2-propyl group Group, 1-methyl-12-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-pentenyl group, 4-pentenyl group, 1-hexenyl group, C2-C6 alkenyl groups such as 5-hexenyl group; 2_fluorovinyl group, 2,2-difluorovinyl group, 2-chlorovinyl group, 2,2-dichlorovinyl group, 2-bromovinyl group,, 2-dibromo Bier group, 2-black — C2-C6 haloalkenyl groups such as 2-propenyl group and 3,3-dichloro-2-propenyl group; cyano C2-C6 alken
  • the C2-C6 alkynyl group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of silyl groups includes, for example, ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propiel group, 1-methyl-2- Propiel group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, 3-butenyl group, 3,3-dimethyl-1-butynyl group, 1-1pentynyl group, 4-pentynyl group, 1-hexyl group, 5-hexyl group, etc.
  • C2-C6 alkynyl group C2-C6 haloalkynyl group such as 2-fluoroethyl group, 2-chloroethynyl group, 2-promochel group, 2-phenylethyl group; cyano C2-C6 alkynyl group C2-C6 hydroxyalkynyl group; C3-C6 cycloalkyl C2-C6 alkynyl group; CI-C6 alkoxy C2-C6 alkynyl group; CI-C6 cycloalkoxy C2-C6 alkynyl group; C1-C6 alkylthio C2-C6 alkynyl group; C1-C6 cycloalkylthio C2-C6 alkynyl group; trimethylsilylethynyl group, triethylsilyl And a tri (CI-C3 alkyl) silyl C2-C6 alkynyl group such as an ethenyl group.
  • the C3-C6 cycloalkyl group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a silyl group includes, for example, C3-such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group and cyclohexyl group.
  • C6 cycloalkyl group C3-C6 halocycloalkyl group; cyano C3-C6 cycloalkyl group; C3-C6 hydroxycycloalkyl group; C3-C6 cycloalkyl C3-C6 cycloalkyl group; C2-C6 alkoxy C3-C6 cycloalkyl C6-C6 cycloalkoxy C3-C6 cycloalkyl group; CI-C6 alkylthio C3-C6 cycloalkyl group; CI-C6 cycloalkylthio C3-C6 Roarukiru groups; tri (C1-C3 alkyl) silyl C3-C6 a cycloalkyl group.
  • Halogen atom represented by R 1 examples of C1-C6 alkoxy and C1-C6 optionally substituted C Bok C6 alkoxy group with a substituent selected from the group consisting of alkylthio group include a methoxy group, an ethoxy group, CI-C6 alkoxy groups such as propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, pentyloxy group and hexyloxy group; fluoromethoxy group, difluoromethoxy, trifluoromethoxy group, 2,2,2- C1-C6 octyloxy, such as trifluoroethoxy, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy, and 2-fluoroethoxy; CI-C6 alkoxy, such as 2-methoxyethoxy C6 alkoxy group; CI-C6 alkylthio CI-C6 alkoxy group such as 2-methylthioethoxy group.
  • Examples of the C3-C6 cycloalkoxy group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a C1-C6 alkoxy group and an alkylthio group represented by R 1 include, for example, a cyclopropyloxy group, C3-C6 cycloalkoxy group such as cyclobutyloxy group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 2,2-dimethylpropyl group; C3-C6 halocycloalkoxy group; CI-C6 alkoxy C3-C6 cycloalkoxy group A C1-C6 alkylthio C3-C6 cycloalkoxy group.
  • Halogen atoms that represented by R 1, examples of C1-C6 alkoxy group and a C Bok C6 optionally substituted C1-C6 even if alkylthio group with a substituent selected from the group consisting of an alkylthio group include a methylthio group, Echiruchio group, C1-C6 alkylthio groups such as propylthio, isopropylthio, butylthio, isobutylthio, sec-butylthio, tert-butylthio, pentylthio, and hexylthio; fluoromethylthio, difluoromethylthio, trifluoromethyl
  • a C1-C6 haloalkylthio group such as a lomethylthio group, a 2,2,2-trifluoroethylthio group, a 1,1,2,2-tetrafluoroethylthio group or a 2-fluoroethylthio group
  • the C3-C6 cycloalkylthio group optionally substituted with a substituent selected from the group consisting of an octogen atom, a C 6 alkoxy group and a CI-C6 alkylthio group represented by R 1 is a cyclopropylthio group C3-C6 cycloalkylthio groups such as cyclobutyltyl, cyclopentylthio, etc .; C3-C6 halocycloalkylthio; C1-C6 alkoxy C3-C6 cycloalkylthio; CI-C6 alkylthio C3-C6 cycloa Alkylthio group.
  • Examples of the di (C3-C6 alkyl) amino group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a C1-C6 alkoxy group and a C1-C6 alkylthio group represented by R 1 include, for example, a dimethylamino group Di (C3-C6 alkyl) amino groups such as dimethylamino, dipropylamino, dipropylamino, dipentylamino and dihexylamino; (C3-C6 alkyl) such as methyl (2-methoxyethyl) amino; (CI-C6 (C3-C6 alkyl) amino group; (C3-C6 alkyl) (CI-C6 alkylthio C3-C6 alkyl) amino group.
  • Di (C3-C6 alkyl) amino groups such as dimethylamino, dipropylamino, dipropylamino, dipentylamino and di
  • Examples of the phenyl group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a C 6 C alkyl group, a C 6 C alkyl group and a C 6 alkoxy group represented by R 1 include phenyl.
  • Examples of the phenoxy group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a C 6 alkyl group, a C 6 haloalkyl group and a C 1 -C 6 alkoxydi group represented by R 1 include a phenoxy group, 2-fluorophenoxy group, 3-fluorophenoxy group, 4-fluorophenoxy group, 3,4-difluorophenoxy group, 2-chlorophenoxy group, 3-chlorophenoxy group, 4-chlorophenoxy group, 3, 4-Dichlorophenoxy group, 2-bromophenoxy group, 3-bromophenoxy group, 4-bromophenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 2-ethylphenoxy group, 3-ethylphenoxy group, 4- Ethyl phenoxy, 2-trifluoromethylphenoxy, 3-trifluoro And a 4-methylphenoxy group, a 4-trifluoromethylphenoxy group,
  • Examples of the phenylthio group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a C 6 alkyl group, a ⁇ -C 6 haloalkyl group and a C 1 -C 6 alkoxy group represented by R 1 include phenylthio.
  • the halogen atom represented by R 1 , a C 6 alkyl group, a C 6 octaalkyl group and a benzyl group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a C 1 -C 6 alkoxy group include: Benzoyl group, 2-fluorobenzoyl group, 3-fluorobenzoyl group, 4-fluorobenzoyl group, 3,4-difluorobenzoyl group, 2-chlorobenzoyl group, 3- Chlorbenzoyl group, 4-chlorobenzoyl group, 3,4-dichlorobenzoyl group, 2-bromobenzoyl group, 3-bromobenzoyl group, 4-bromobenzoyl group, 2-methylbenzoyl group, 3-methylbenzoyl group, 4-methylbenzoyl group, 2 —Ethylbenzoyl group, 31-ethylbenzoyl group, 41-ethylbenzoyl group, 2-
  • the haloalkyl groups and C1-C 6 substituted base may Nzoi Ruokishi group with a substituent selected from the group consisting of alkoxy group, Benzoiruokishi group, 2-Fluorobenzoyloxy group, 3-Fluorobenzoyloxy group, 4-Fluorobenzoyloxy group, 3,4-Difluorobenzoyloxy group, 2-Chlorbe N-ziroxy, 3-chlorobenzoyloxy, 4-chlorobenzoyloxy, 3,4-dichlorobenzene Benzoyloxy, 4-methylbenzoyloxy, 2-ethylbenzoyloxy, 3-ethylbenzoyloxy, 4-ethylbenzoyloxy, 2-trifluoromethyl Benzoyloxy group, 3-trifluoromethylbenzoyloxy group, 4-trifluoromethylbenzoyloxy group
  • Examples of the (CI-C6 alkyl) carbonyl group represented by R 1 include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.
  • Examples of the (C2-C6 alkenyl) carbonyl group represented by R 1 include an acryloyl group, a methacryloyl group, a crotonyl group, and an isocrotonyl group.
  • Examples of the (C2-C6 alkynyl) carbonyl group represented by R 1 include a propioyl group.
  • Examples of the (C3-C6 cycloalkyl) carbonyl group represented by R 1 include a cyclopropyl carbonyl group, a cyclobutyl carbonyl group, a cyclopentyl carbonyl group, and a cyclohexyl carbonyl group.
  • Examples of the (C1-C6 haloalkyl) carbonyl group represented by R 1 include a chloroacetyl group and a trifluoroacetyl group.
  • Examples of the (CI-C6 alkoxy) carbonyl group represented by R 1 include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a petyryloxy group.
  • the tri (CI- C6 alkyl) silyl group represented by R 1 for example, trimethylsilyl group, Toriedjirushiriru group, triisopropylsilyl group, and a tert- Puchiruji methylsilyl group.
  • Examples of the halogen atom represented by R 2 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the C1-C6 alkyl group represented by R 2 for example, a methyl group, Echiru group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec one butyl group, and a tert- heptyl S.
  • the C3-C6 cycloalkyl group represented by R 2 for example, cyclopropyl group, Shikuropuchiru group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.
  • Examples of the C2-C6 alkenyl group represented by R 2 include a bier group, a 1-methylvinyl group, a 1-propenyl group, a 2-propenyl group, a 1-methyl-2-propenyl group, a 2-methyl-2 —Propenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 11-pentenyl group, 4-pentenyl group, 11-hexenyl group and 5-hexenyl group.
  • the C2- C6 alkynyl group represented by R 2 for example, Edji group, 1 one propylene group, 2-propynyl group, 1-methyl-2-propynyl group, 1 Buchuru group, 2-heptynyl group, 3-Petit Examples thereof include a benzyl group, a 3,3-dimethyl-1-pentynyl group, an 1-pentynyl group, an 4-pentynyl group, an 11-hexyl group, and a 5-hexyl group.
  • the CI- C6 eight necked alkyl group represented by R 2 for example, Furuoromechiru group and a di Furuoromechiru group and triflate Ruo ii methyl group.
  • Examples of the CI-C6 alkoxy group represented by R 2 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group.
  • Examples of the C6-C6-octaalkoxy group represented by R 2 include, for example, a fluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, a 1,1,2,2- Examples thereof include a tetrafluoroethoxy group and a 2-fluoroethoxy group.
  • Examples of the CI-C6 alkylthio group represented by R 2 include a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, an isopropylthio group, a butylthio group, an isobutylthio group, a sec-butylthio group, a tert-butylthio group, a pentylthio group, and a hexyl group. And a luthio group.
  • the C1-C6 octaalkylthio group represented by R 2 includes, for example, a fluoromethylthio group, a difluoromethylthio group, a trifluoromethylthio group, a 2,2,2-trifluoroethylthio group, a 1,1 A 2,2,2-tetrafluoroethylthio group and a 2-fluoroethylthio group.
  • the di (C1-C6 alkyl) amino group represented by R 2 for example, dimethylaminopyridine amino group, Jechiruamino group, dipropylamino group, dipentyl ⁇ amino group, include alkoxy Ruamino group to di.
  • Examples of the C3-C6 polymethylene group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, C 1 C 3 alkyl group and C 3 C 3 haloalkyl group in which R 1 and R 2 are 1,3-propanedyl group, 1,3-butanedyl group, 1,4-butanedyl group, 1,5-pentanedyl group, 1,4-pentanedyl group, and 1,6-hexanediyl group.
  • a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, C 1 C 3 alkyl group and C 3 C 3 haloalkyl group in which R 1 and R 2 are 1,3-propanedyl group, 1,3-butanedyl group, 1,4-butanedyl group, 1,5-pentanedyl group, 1,4-pentanedyl group, and 1,6-hexanediyl group.
  • R 1 and R 2 together may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a CI-C3 alkyl group and a C1-C3 haloalkyl group, 1,3-butadiene 1,4
  • Examples of the diyl group include 1,3-butadiene-1,4-diyl group, 1-methyl-1,3-butadiene-1,1,4-diyl group, and 2-methyl-1,3-butadiene-1,1,4-diyl Group, 3-methyl-1,3-butadiene 1,4-diene Styrene, 4-methyl-1,3-butadiene-1,4-diyl, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene-1,4-diyl, 1-ethyl-1,3-butadiene 1,4 1-diyl group, 2-ethyl-1,3-butadiene-1,4-diyl group, 3-ethyl-1,1,3-buta
  • the atom means bonded at the position where R 2 is bonded.
  • Examples of the halogen atom represented by R 3 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the CI-C3 alkyl group represented by R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.
  • the C1-C4 alkyl group represented by R 4, a methyl group, Echiru group, a propyl group, an isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec one butyl group, and a tert- Petit Le group.
  • Examples of the CI-C4 haloalkyl group represented by R 4 include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2-fluoroether group, and a 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group.
  • the C3-C4 alkenyl group represented by R 4 includes, for example, 2-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 2-butenyl group, 3- Butenyl groups.
  • the C3-C4 alkynyl group represented by R 4 for example, 2-propynyl group, 1 one-methyl-2-propynyl group, 2-butynyl group, and a 3-butynyl group.
  • Examples of the CI-C4 alkyl group represented by R 5 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. And the like.
  • the C3- C4 alkenyl group represented by R 5 for example, 2-propenyl group, 1 one-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl, 2-butenyl, 3-Buteyuru Groups.
  • Examples of the C3-C6 alkynyl group represented by R 5 include a 2-propynyl group, a 1-methyl-2-propyl group, a 1,1-dimethyl-2-propenyl group, a 2-butyl group, a 3-butynyl group, 1-methyl-2-pentynyl, 2-pentulyl, 1-methyl-2-pentynyl, 4-methyl-2-pentynyl, 3-pentynyl, 4-pentynyl, 2-hexynyl, 3-hexyl Groups.
  • the C1-C4 haloalkyl group represented by R 5 includes, for example, a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2-fluoroethyl group, a 2,2,
  • Examples of the cyano C 6 alkyl group represented by R 5 include a cyanomethyl group, a 1-cyanoethyl group, a 2-cyanoethyl group, and an 11-cyanopropyl group.
  • Examples of the CI-C4 alkyl group represented by include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group.
  • Examples of the C3-C4 alkenyl group represented by R 6 include a 2-probel group, a 1-methyl-2-propenyl group, a 2-methyl-2-propenyl group, a 2-butenyl group,
  • the C3-C4 alkynyl group represented by R s includes, for example, a 2-propyl group, a 1-methyl-2-propynyl group, a 2-butynyl group, and a 3-butynyl group.
  • Examples of the halogen atom represented by R 7 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • Examples of the CI-C3 alkyl group represented by include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.
  • Examples of the halogen atom represented by R 8 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the C 3 C 3 alkyl group represented by R 8 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.
  • Examples of the CI-C3 alkyl group represented by R 9 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.
  • Examples of the halogen atom represented by R 11 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. .
  • Examples of the alkyl group represented by R 11 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.
  • halogen atom represented by R 12 examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom,
  • the compound of the present invention has (R) and (S) optical isomers based on the carbon atom to which the nitrogen atom of the amide is bonded, and each optical isomer and a mixture thereof are included in the present invention.
  • the compounds of the present invention include, for example, compounds of the following embodiments.
  • N— (monocyanobenzyl) amide compound wherein R 3 is a hydrogen atom is a hydrogen atom.
  • N- ( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound wherein R 4 is a CI-C4 alkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkynyl group.
  • R 7 and R 8 are hydrogen atoms Nyu- (shed one Shianobenjiru) ⁇ bromide compound.
  • N- (monocyanobenzyl) amide compound of the formula (1) wherein R 3 , R 7 and R 8 are hydrogen atoms.
  • T , R 8, R l R u and R 12 is a hydrogen atom N-(alpha-Shianobenjiru) amide compound.
  • N- ( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound of the formula (1) wherein R 3 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 are hydrogen atoms.
  • R 4 and R 5 are a CI-C4 alkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkynyl group, respectively.
  • N- ( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound of the formula (1) wherein R 6 is a hydrogen atom or a C3-C4 alkynyl group, and R 3 , R 7 and R 8 are hydrogen atoms.
  • R 6 is a hydrogen atom or a C3- C4 alkynyl group
  • R 3, R 7, R 8, R [R " and R u is a hydrogen atom N-(alpha-Shianobenjiru) amide compound
  • R 4 is a CI-C4 alkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkynyl group
  • R 5 is a CI-C4 alkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkynyl.
  • R 4 is a C 4 C 4 alkyl group, a C 3 -C 4 alkenyl group or a C 3 -C 4 alkynyl group
  • R 5 is a ⁇ -C 4 alkyl group, a C 3 -C 4 alkenyl group or a C 3 -C 4 alkynyl group.
  • An N- ( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound wherein R 6 is a hydrogen atom or a C3-C4 alkynyl group; and R 3 , R 7 , R 8 , R 10 , R 11 and R 12 are hydrogen atoms.
  • R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a CI-C6 alkyl group, a C6-C6 alkoxy group or a C1-C6 haloalkoxy group
  • R 4 is CI- A C4 alkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkynyl group
  • R 5 is a C-C4 alkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkynyl group
  • R 6 is a hydrogen atom or a C3-C4 An N- (a-cyanobenz
  • R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C 6 C 6 alkyl group, a C 6 C 6 alkoxy group or a C 1 -C 6 haloalkoxy group
  • R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group.
  • R 1 is a halogen atom; nitro group; cyano group; halogen atom, cyano group, hydroxyl group, C3-C6 cycloalkyl group, CI-C6 alkoxy group, C3-C6 cycloalkoxy group, -C6 alkylthio
  • a C1-C6 alkyl group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a C3-C6 cycloalkylthio group and a tri (CI-C3 alkyl) silyl group; a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a C3 Substituted with a substituent selected from the group consisting of -C6 cycloalkyl group, -C6 alkoxy group, C3-C6 cycloalkoxy group, C2-C6 alkylthio group, C3-C6 cycloalkylthio group and tri (CI-C
  • C2-C6 alkenyl group halogen atom, cyano group, hydroxyl group, C3-C6 cycloalkyl group, C2-C6 alkoxy group, C3-C6 cycloalkoxy
  • a C2-C6 alkynyl group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a CI-C6 alkylthio group, a C3-C6 cycloalkylthio group and a tri (CI-C3 alkyl) silyl group; a halogen atom, a cyano group , Hydroxyl group, C3-C6 cycloalkyl group, CI-C6 alkoxy group, C3-C6 cycloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C3-C6 cycloalkylthio group and tri (C-C3 alkyl) silyl group
  • a C3-C6 cycloalkyl group which may be substituted
  • a C3-C6 cycloalkylthio group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of: a halogen atom, a C1-C6 alkoxy group and a C1-C6 alkylthio group; Di (CI-C6 alkyl) amino group; phenyl group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group and C1-C6 alkoxy group A phenoxy group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group and a -C6 alkoxy group; a halogen atom, CI- A phenylthio group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a C6 alkyl group,
  • R 1 is a halogen atom; nitro group; cyano group; halogen atom, cyano group, hydroxyl group, C3-C6 cycloalkyl group, CI-C6 alkoxy group, C3-C6 cycloalkoxy group, C-C6 A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent selected from the group consisting of an alkylthio group, a C3-C6 cycloalkylthio group and a tri (CI-C3 alkyl) silyl group; a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, Selected from the group consisting of C3-C6 cycloalkyl groups, C2-C6 alkoxy groups, C3-C6 cycloalkoxy groups, ⁇ -C6 alkylthio groups, C3-C6 cycloalkylthio groups, and tri (CI-C3 alkyl) silyl
  • a benzoyl group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group and a C1-C6 alkoxy group.
  • R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C 6 C 6 alkyl group, a C 3 -C 6 cycloalkyl group.
  • R 1 and R 2 are together a connexion, eight androgenic atom, CI- C3 alkyl group and CI- A C3-C5 polymethylene group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a C3 octaalkyl group; or a group selected from the group consisting of a halogen atom, a C1-C3 alkyl group and a C1-C3 anoalkyl group N- (CK-cyano. Benzyl) amide compound which is a 1,3-butadiene-1,4-diyl group which may be substituted with a substituent.
  • R 1 is a halogen atom; nitro group; cyano group; halogen atom, cyano group, hydroxyl group, C3-C6 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C3-C6 cycloalkoxy group, CI-C6 A CI-C6 alkyl group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of an alkylthio group, a C3-C6 cycloalkylthio group and a tri (-C3 alkyl) silyl group; a C2-C6 alkenyl group; a C2-C6 alkynyl C3-C6 cycloalkyl group; C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom; C3-C6 cycloalkoxy group optionally substituted with a halogen atom; optionally substituted with a halogen atom CI-C6 alkylthio
  • R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C 6 C 6 alkyl group, a C 2 C 6 alkenyl group, a C 2 -C 6 alkynyl group, a —C 6 haloalkyl group, a C 1 -C 6 alkoxy group, a C 1 -C 6 haloalkoxy group C 2 C 6 alkylthio group, CI-C 6 haloalkylthio group, di (C 1 -C 6 alkyl) amino group, phenyl group, phenoxy group or cyano group
  • R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C 2 C 6 alkyl group, - C6 or alkoxy group or CI- C6 Haroa alkyl group, or R 1 and
  • R 61 is a hydrogen atom, a halogen atom, a CI-C6 alkyl group, a C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group, a CI-C6 haloalkyl group, a CI-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C1-C6 Alkylthio, C1-C6 haloalkylthio, di (C1-C6 alkyl) amido
  • R M represents a hydrogen atom or a CI-C4 alkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkynyl group, and R 67 and R 68 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group.
  • R 69 represents a hydrogen atom or a CI-C3 alkyl group.
  • R 63 is a hydrogen atom N- (shed one Shianobenjiru) amide compound.
  • N- (hydroquinobenzyl) amide compound wherein R M is a CI-C4 alkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkyl group.
  • R 63, R 67, R 6S and R 69 is a hydrogen atom N- (Hishi Anobenjiru) amide compound.
  • N- (monocyanobenzyl) amide compounds wherein R 64 and R 65 are each a CI-C4 alkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkynyl group.
  • R 66 is a hydrogen atom or a C3-C4 alkynyl group
  • R 64 is a CI-C4 alkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkynyl group
  • R 65 is a CI-C4 alkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkyl group.
  • An N— (hydrocyanobenzyl) amide compound wherein R 66 is a hydrogen atom or a C3-C4 alkynyl group; and R 63 , R 67 and R 68 are hydrogen atoms.
  • R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a CI-C4 alkyl group, a CI-C4 alkoxy group or a C1-C4 haloalkyl group
  • R 4 There CI- C4 ⁇ alkyl group, a C3- C4 alkenyl group or C3- C4 alkynyl group, R 5 is CI- C4 alkyl group, a C3- C4 alkenyl group or C3-C4 alkynyl group, R 6 is hydrogen An N
  • R and R 52 are the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom, a C 4 alkyl group, an alkoxy group or a CI-C 4 haloalkyl group, or R 51 and R 52 are taken together.
  • R 55 represents a CI-C4 alkyl group.
  • R 56 represents a hydrogen atom or a C3-C4 alkynyl group.
  • R 51 is a () -C4 alkoxy group.
  • R 5i is a CI-C4 octaalkyl group.
  • R 51 is a C1-C2 alkyl group,-( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound.
  • R 51 is a hydrogen atom. ⁇ — ( ⁇ — cyanobenzyl) amide compound.
  • R " is a s, a chlorine atom ⁇ — (histanobenzyl) amide compound.
  • R 51 is a trifluoromethyl group. Jill) Amide compounds.
  • R 54 is a C3 to C4 alkynyl group,-( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound.
  • R 55 is a C3-C4 alkynyl group.
  • R 55 is a 2-propynifle group.
  • R 51 is a halogen atom
  • R 52 is a halogen atom
  • R 51 is a C 4 C 4 alkyl group
  • R 52 is a hydrogen atom.
  • a ⁇ - ( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound wherein R 51 is a CI-C4 haloalkyl group and R 52 is a hydrogen atom.
  • R 51 is a C 2 C 2 alkyl group
  • R 52 is a hydrogen atom.
  • R 51 is a halogen atom
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 5 4 is a C 1 -C4 alkyl group New - (shed one Shianobenjiru) amide compound.
  • R 51 is a halogen atom
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 5 is a CI-C2 alkyl group, a mono ( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound.
  • R 51 is a halogen atom
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 5 5 is a CI- C4 alkyl group ⁇ - ( ⁇ - Shianobenjiru) amide compound.
  • R 51 is a halogen atom
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 5 5 is a C3- C4 alkynyl group ⁇ - ( ⁇ - Shianobenjiru) amide compound.
  • R 51 is a halogen atom
  • a R 52 is a hydrogen atom
  • R 5 5 is a C1-C2 alkyl group Nyu- (shed one Shianobenjiru) amide compound.
  • R 51 is a CI-C4 alkyl group
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 54 is a C 1 -C4 alkyl group.
  • R 51 is a CI-C4 alkyl group
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 5 is a CI-C2 alkyl group, a mono ( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound.
  • R 51 is a —C4 alkyl group
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 55 is a 2-propynyl group.
  • R 51 is a CI-C4 alkoxy group
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 54 is a CI-C4 alkyl group.
  • an R 51 is CI- C4 alkoxy group
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 54 is a CI- C2 alkyl group Nyu- (alpha-Shianobenjiru) amide compound.
  • R 51 is a CI-C4 alkoxy group
  • : 52 is a hydrogen atom And N- ( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound wherein R 55 is a CI-C4 alkyl group.
  • an R 51 is CI- C4 alkoxy group
  • an R 52 is a hydrogen atom
  • R 55 is a C3- C4 alkynyl group Nyu- (shed - Shianobenjiru) amide compound.
  • ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ -( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound wherein R 51 is a C 4 C 4 alkoxy group, R 52 is a hydrogen atom, and R 55 is a 2-propyl group.
  • R 51 is a CI-C4 haloalkyl group
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 54 is a C 1 -C4 alkyl group.
  • R 51 is a CI-C4 haloalkyl group
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 54 is a C ⁇ C2 alkyl group.
  • ⁇ - (hi-cyanobenzyl) amide compound wherein 51 is a C1-C4 haloalkyl group, R 52 is a hydrogen atom, and R 55 is a C3-C4 alkynyl group.
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 54 is a -C4 alkyl group.
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 54 is a CI-C2 alkyl group.
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 55 is a CI-C2 alkyl group.
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 55 is a 2-propynyl group.
  • III. A ( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound.
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 54 is a CI-C2 alkyl group
  • R 5 is a C3-C4 alkynyl group.
  • R 54 is a CI-C4 alkyl group
  • R 55 is a CI-C4 alkyl group
  • R 54 is a —C4 alkyl group
  • R 55 is a C3 to C4 alkynyl group.
  • R 54 is a CI-C2 alkyl group
  • R 55 is a CI-C4 alkyl group.
  • R 52 is a hydrogen atom
  • R 54 is a CI-C4 alkyl group
  • R 55 is a CI-C2 alkyl group.
  • ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ -( ⁇ -cyanobenzyl) ′ amide compound wherein R 52 is a hydrogen atom, R 54 is a CI-C4 alkyl group, and R 55 is a 2-propynyl group.
  • R 1 is a halogen atom, a C 6 C 6 alkyl group, a C 2 -C 6 alkenyl group, a C 2 -C 6 alkynyl group, a C 1 -C 6 haloalkyl group, a CI-C 6 alkoxy group, a CI-C 6 /, a lower alkoxy group.
  • R 1 is a halogen atom, a C 6 C 6 alkyl group, a C 2 -C 6 alkenyl group, a C 2 -C 6 alkynyl group, a C 1 C 6 haloalkyl group, a C 1 -C 6 alkoxy group, a C 1 -C 6 octalalkoxy group, CI-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, di (C1-C6 alkyl) amino group, phenyl group, phenoxy group or cyano group; R 3 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 Is an N- ( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound.
  • R ′ represents a halogen atom, a C 6 C 6 alkyl group, a C 2 -C 6 alkenyl group, a C 2 -C 6 alkynyl group, a CI-C 6 haloalkyl group, a C 2 C 6 alkoxy group, a C 1 -C 6 haloxy group, Bok C6 alkylthio group, haloalkylthio group, a di (C Bok C6 alkyl) amino group, phenyl group, a phenoxy group or Shiano group, R 2, R 3, R 6, R 7, R 8 and R 9 are hydrogen Atomic N- ( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound.
  • R 1 is a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a -C6 alkoxy group, a CI-C6 halalkoxy group, a CI- C6 alkylthio group or CI- C6 haloalkylthio group, R 3, R 6, R 7, R 8 and R 9 are hydrogen atoms N- (shed one Shianobenjiru) amide compound.
  • R 2 , R 3 , R 6 , R 7 , 1 ⁇ and scale 9 are hydrogen atoms? ⁇ — (— Cyanobenzyl) amide compound.
  • R 1 is a halogen atom, CI-C6 alkyl group, C2-C6 alkenyl group, C2-C6 alkynyl group, C-C6 haloalkyl group, C1-C6 alkylthio group or CI-C6 haloalkylthio group.
  • An N- ( ⁇ -cyanobenzyl) amide compound wherein R 2 , R 3 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are hydrogen atoms;
  • R 1 is a halogen atom, a CI-C6 alkyl group, a C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group, a U-C6 haloalkyl group, a ⁇ -C6 alkylthio group or a CI-C6 haloalkylthio group.
  • R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group
  • R 3 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are hydrogen atoms ( ⁇ ——cyanobenzyl) amide compound.
  • R 5 1 is Nono androgenic atom, C WINCH C4 alkyl group, a C Bok C4 alkoxy group or CI- C4 haloalkyl group
  • R 5 2 is hydrogen atom N- (shed - Shianoben Gilles ) Amide compounds.
  • R 5 1 and R 5 2 is, same or different halogen atoms, C1-C4 alkyl group, CI- C4 alkoxy group, or - C4 haloalkyl group New ( " ⁇ Xia Nobenjiru) amide compound .
  • the compound of the present invention represented by the formula (1) can be produced, for example, according to the following (Production method I), (Production method I) or (Production method C).
  • the compound of the present invention comprises a compound represented by the formula (2) (or a salt such as a hydrochloride thereof) and a compound represented by the formula (2):
  • the compound can be produced by reacting the compound shown in 3).
  • the reaction is usually performed in the presence of a solvent, usually in the presence of a base.
  • Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; Aromatic hydrocarbons such as benzene and xylene, halogenated hydrocarbons such as benzene benzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetate nitrile and butylonitrile, N, N-dimethyl Examples include acid amides such as formamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
  • ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether
  • aliphatic hydrocarbons such as he
  • Bases used in the reaction include, for example, carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] pandac 7-ene, 1,5 —Diazabicyclo [4.3.0] Tertiary amines such as non-1-ene and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
  • the base is usually used in an amount of 1 to 10 mol
  • the compound represented by the formula (2) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (3).
  • the reaction temperature is usually in the range of 120 to 100 C
  • the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • reaction mixture was poured into water and extracted with an organic solvent.
  • organic layer was washed with acidic water (such as dilute hydrochloric acid) and basic water (such as aqueous sodium hydrogen carbonate) as necessary, then dried and concentrated.
  • acidic water such as dilute hydrochloric acid
  • basic water such as aqueous sodium hydrogen carbonate
  • the compound represented by the formula (1) can be isolated.
  • the isolated compound represented by the formula (1) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization.
  • the compound represented by the formula (112) wherein R 6 is a CI-C4 alkyl group, a C3-C4 alkenyl group or a C3-C4 alkynyl group is a compound represented by the formula (4): It can also be produced by reacting the compound represented by (5)
  • R 6 -. 1 is CI- C4 alkyl group, and display the C3-C4 alkenyl group or C3- C4 alkynyl group
  • L 1 is a halogen atom, methanesulfonyl O alkoxy group, triflate Ruo b methanesulfonyl Niruokishi group or It represents p- toluenesulfonyl O alkoxy group, RKRR 4, R 5, R 7, R s, R 9, R 1 Q,; R 1 1 and R 1 2 are as defined above. ]
  • the reaction is usually performed in the presence of a solvent, usually in the presence of a base.
  • Solvents used for the reaction include, for example, ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, and toluene.
  • ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, tert-butyl methyl ether
  • aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, and toluene.
  • Aromatic hydrocarbons such as benzene and xylene, halogenated hydrocarbons such as benzene benzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and butylonitrile, and acids such as N, N-dimethylformamide Examples include amides, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
  • Examples of the base used in the reaction include charcoal such as sodium carbonate and potassium carbonate.
  • Acid salts alkali metal hydrides such as sodium hydride, potassium hydride, etc., triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] pentadec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [ 4.3.0] Tertiary amines such as non-1-ene and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
  • the base is usually used in a proportion of 1 to 10 mol
  • the compound represented by the formula (5) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (4).
  • the reaction temperature is usually in the range of 1 to 20 and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the reaction mixture is poured into water and extracted with an organic solvent, and the organic layer is washed with acidic water (such as dilute hydrochloric acid) and basic water (such as aqueous sodium hydrogen carbonate) as necessary.
  • acidic water such as dilute hydrochloric acid
  • basic water such as aqueous sodium hydrogen carbonate
  • the compound represented by the formula (1-2) can be isolated by performing operations such as drying, concentration and the like.
  • the isolated compound represented by the formula (1-2) can be further purified by a procedure such as chromatography and recrystallization.
  • the compound of the present invention can also be produced by reacting a compound represented by the formula (2) (or a salt such as a hydrochloride thereof) with a compound represented by the formula (6).
  • the reaction is carried out in the presence of a dehydrating condensing agent, usually in the presence of a solvent.
  • Solvents used in the reaction include, for example, acids such as N, N-dimethylformamide.
  • acids such as N, N-dimethylformamide.
  • examples include amides, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and quinoline, and mixtures thereof.
  • Examples of the dehydrating condensing agent used in the reaction include carpoimides such as 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (hereinafter, referred to as WSC) and 1,3-dicyclohexylcarpoimide. .
  • carpoimides such as 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (hereinafter, referred to as WSC) and 1,3-dicyclohexylcarpoimide. .
  • the compound represented by the formula (2) is usually used in a proportion of 1 to 3 mol, and the dehydration condensing agent is usually used in a proportion of 1 to 5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (6).
  • the dehydration condensing agent is usually used in a proportion of 1 to 5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (6).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 140: and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • reaction mixture is poured into water and extracted with an organic solvent, and the organic layer is washed with acidic water (such as dilute hydrochloric acid) and basic water (such as aqueous sodium hydrogen carbonate) as necessary, then dried and concentrated.
  • acidic water such as dilute hydrochloric acid
  • basic water such as aqueous sodium hydrogen carbonate
  • the compound represented by the formula (1) can be isolated.
  • the isolated compound represented by the formula (1) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization. Next, a method for producing an intermediate of the compound of the present invention will be described with reference to a production method.
  • the compound represented by the formula (3) and the compound represented by the formula (6) can be produced, for example, according to the following scheme.
  • R 2 ° represents a C 6 C 6 alkyl group (such as a methyl group, an ethyl group and a propyl group), represents a benzyl group or a methoxymethyl group
  • L 3 and L 4 each independently represent a halogen atom.
  • atom, methanesulfonyl O alkoxy group, a triflate Ruo b methanesulfonyl O alkoxy group, or p- toluenesulfonyl O alkoxy group, R 4, R 5, R 7, R 8, R 9, R 1 0, R u and R 1 2 has the same meaning as described above.
  • the compound represented by the formula (9) can be produced by reacting the compound represented by the formula (7) with the compound represented by the formula (8).
  • the reaction is usually performed in the presence of a base.
  • examples of the solvent used include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, and aliphatics such as hexane, heptane and octane.
  • Hydrocarbons aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and butyronitrile, N, N— Acids such as dimethylformamide Examples include amides, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
  • Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5 . 4.0] Terdecamines such as undeck-7-ene and 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene and nitrogen-containing compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine And aromatic compounds.
  • carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate
  • alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride
  • triethylamine diisopropylethylamine
  • Terdecamines such as undeck-7-ene and 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene and nitrogen-containing compounds
  • pyridine and 4-dimethylaminopyridine And aromatic compounds
  • the base is generally used in a proportion of 1 to 50 mol
  • the compound represented by the formula (8) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (7).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 100
  • the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (9) can be isolated by pouring the reaction mixture into water, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. .
  • the isolated compound represented by the formula (9) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization. '
  • the compound represented by the formula (7) is, for example, a compound described in Tetraedr on Letters, vol. 36, No. 51, pp. 9369-9372, 1995, or a method described in the literature. It is a compound that can be produced according to Process (Part 2)
  • the compound represented by the formula (10) can be produced by reacting the compound represented by the formula (9) with hydrogen in the presence of a hydrogenation catalyst.
  • the reaction is carried out under a hydrogen atmosphere, usually in the presence of a solvent.
  • Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol, ethanol, and propanol; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; and mixtures thereof.
  • Examples of the hydrogenation catalyst used in the reaction include transition metal compounds such as palladium carbon, palladium hydroxide, nickel nickel, and platinum oxide.
  • the hydrogenation catalyst is used usually in a proportion of 0.001 to 0.5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (9).
  • the reaction can be further carried out, if necessary, by adding an acid (hydrochloric acid or the like). At this time, the acid is usually used in an amount of 0.01 mol to an excess amount per 1 mol of the compound represented by the formula (9). 4 008397
  • the reaction is usually performed under a hydrogen atmosphere at 1 to 100 atm.
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 120 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (10) is isolated by performing operations such as filtering the reaction mixture, extracting the filtrate with an organic solvent, and drying and concentrating the obtained organic layer. be able to.
  • the isolated compound represented by the formula (10) can be further purified by an operation such as chromatography and recrystallization.
  • the compound represented by the formula (10) can be produced by reacting the compound represented by the formula (9) with water in the presence of an acid.
  • the narrow reaction is usually performed in the presence of an organic solvent.
  • organic solvent used in the reaction examples include 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane; Aromatic hydrocarbons such as benzene and xylene; halogenated hydrocarbons such as benzene benzene; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; nitriles such as acetonitrile and butylonitrile; N, N-dimethylformamide Acid amides, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, alcohols such as methanol, ethanol and propanol, and mixtures thereof.
  • 1,4-dioxane tetrahydrofuran
  • ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether
  • Examples of the acid used in the reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids such as p-toluenesulfonic acid and methanesulfonic acid.
  • the acid is usually used in a proportion of 0.1 to 10 mol
  • the water is usually used in a proportion of 3 mol to an excess based on 1 mol of the compound represented by the formula (9).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 10 Ot :, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (10) can be isolated by performing operations such as extracting the reaction mixture with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer.
  • the isolated compound represented by the formula (10) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization.
  • the compound represented by the formula (12) can be produced by reacting the compound represented by the formula (10) with the compound represented by the formula (11).
  • the reaction is usually performed in the presence of a base.
  • a solvent examples of the solvent used include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether; and aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane.
  • Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, N, N-dimethylformamide And sulphoxides such as dimethylsulphoxide and mixtures thereof.
  • Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] Tertiary amines such as 5-diazabicyclo [4.3.0] non-1-ene; and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
  • the base is usually used in a proportion of 1 to 50 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (10), and the compound represented by the formula (11) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol.
  • the reaction temperature is usually in the range of 0 to 10 and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (12) can be isolated by performing an operation such as adding an organic solvent to the reaction mixture, if necessary, followed by filtration and concentration of the filtrate.
  • the isolated compound represented by the formula (12) can be further purified by an operation such as distillation, chromatography, recrystallization and the like.
  • the compound represented by the formula (6) can be produced by reacting the compound represented by the formula (12) with water in the presence of a base.
  • the reaction is usually performed in the presence of an organic solvent.
  • organic solvent used in the reaction examples include 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethers such as ethylene dalcol dimethyl ether, tert-butyl methyl ether, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and chloroform.
  • ethers such as ethylene dalcol dimethyl ether, tert-butyl methyl ether
  • aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene
  • chloroform examples include halogenated hydrocarbons such as benzene, nitriles such as acetate nitrile and ptyronitrile, alcohols such as methanol, ethanol, and propanol, and mixtures thereof.
  • Examples of the base used in the reaction include lithium hydroxide, sodium hydroxide, and alkali metal hydroxides such as hydroxide hydroxide.
  • the base is usually used in the proportion of 1 to 10 mol
  • the water is usually used in the proportion of 1 mol to excess amount per 1 mol of the compound represented by the formula (12).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (6) is isolated by adding acidic water (hydrochloric acid, etc.) to the reaction mixture, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. Can be.
  • the isolated compound represented by the formula (6) can be further purified by chromatography, recrystallization or the like, but can be used as it is in the next step.
  • the compound represented by the formula (3) can be produced by reacting the compound represented by the formula (6) with a chlorinating agent.
  • examples of the solvent include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether; and aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane. , Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, and mixtures thereof.
  • chlorinating agent used in the reaction examples include thionyl chloride, oxalyl chloride and phosphorus oxychloride.
  • the chlorinating agent is usually used in a proportion of 1 to 100 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (6).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 30 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (3) can be isolated by performing an operation such as concentration of the reaction mixture as it is.
  • the isolated compound represented by the formula (3) is generally used in the next step without purification.
  • the compound represented by the formula (6) the compound represented by the formula (6-2) wherein R 7 is a hydrogen atom, and the compound represented by the formula (3—) wherein R 7 is a hydrogen atom among the compounds represented by the formula (3):
  • the compound represented by 2) can also be produced, for example, according to the following scheme.
  • the compound represented by the formula (15) can be produced by reacting a compound represented by the formula (13) with a compound represented by the formula (14).
  • the reaction is usually performed in the presence of a base.
  • examples of the solvent used include 1,4-diene Ethers such as oxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Halogenated hydrocarbons, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
  • 1,4-diene Ethers such as oxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether
  • aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and o
  • Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [ 5.4.10] Indices of tertiary amines such as 7-ene and 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene and pyridine and 4-dimethylaminopyridine. Nitrogen aromatic compounds.
  • the base is usually used in a proportion of 1 to 50 mol
  • the compound represented by the formula (14) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol, based on 1 mol of the compound represented by the formula (13).
  • the reaction temperature is usually in the range of 0 to 100 ° C
  • the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (15) can be isolated by pouring the reaction mixture into water, extracting the solvent with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. it can.
  • the isolated compound represented by the formula (15) can be further purified by an operation such as chromatography and recrystallization. Step (II-12).
  • the compound represented by the formula (16) can be produced by reacting the compound represented by the formula (15) with the compound represented by the formula (16).
  • the reaction is performed in the presence of a base in the presence of a solvent.
  • solvent used in the reaction examples include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; toluene; Examples include aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, water, and mixtures thereof.
  • ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether
  • aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane
  • toluene examples include aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated hydrocarbons
  • Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, sodium And metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, and potassium butyrate.
  • the base is usually used in a proportion of 1 to 50 mol
  • the compound represented by the formula (16) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (15).
  • the temperature is usually in the range of 20 to 100 ° C
  • the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (17) can be isolated by pouring the reaction mixture into water, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. it can.
  • the isolated compound represented by the formula (17) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization. Process (II-1 3)
  • the compound represented by the formula (18) can be produced by reacting the compound represented by the formula (17) with hydrogen in the presence of a hydrogenation catalyst.
  • reaction is carried out under a hydrogen atmosphere, usually in the presence of a solvent.
  • solvent used in the reaction examples include alcohols such as methanol, ethanol, and propanol; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; and mixtures thereof. Is mentioned.
  • Examples of the hydrogenation catalyst used for the reaction include transition metal compounds such as palladium carbon, palladium hydroxide, Raney nickel, and platinum oxide.
  • the hydrogenation catalyst is usually used in a proportion of 0.001 to 0.5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (17).
  • the reaction can be further carried out by adding an acid (hydrochloric acid or the like) as needed.
  • the acid is usually used in a proportion of 0.01 mol to an excess amount relative to 1 mol of the compound represented by the formula (17).
  • the reaction is usually performed under a hydrogen atmosphere at 1 to 100 atm.
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 120 to L00, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (18) is isolated by filtering the reaction mixture, extracting the filtrate with an organic solvent, and drying and concentrating the obtained organic layer. be able to.
  • the isolated compound represented by the formula (18) can be further purified by an operation such as chromatography and recrystallization. Process (II-4)
  • the compound represented by the formula (20) is a compound represented by the formula (18) and the compound represented by the formula (19) It can be produced by reacting the compound shown.
  • the reaction is usually performed in the presence of a base.
  • examples of the solvent include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, tert-butyl methyl ether, and aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane.
  • Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and the like, halogenated hydrocarbons such as ethyl benzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and butyronitrile, N, N-dimethylformamide Acid amides; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; and mixtures thereof.
  • Bases used in the reaction include, for example, carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] pendec-7-ene, 1,5 —Diazabicyclo [4.3.0] Tertiary amines such as non-1-ene and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
  • carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate
  • triethylamine diisopropylethylamine
  • 1,8-diazabicyclo [5.4.0] pendec-7-ene 1,5 —Diazabicyclo [4.3.0]
  • Tertiary amines such as non-1-ene and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
  • the amount of the reagent used in the reaction is such that the base is usually 1 to 50 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (18), and the compound represented by the formula (19) is usually 1 to 5 mol. It is a percentage.
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 100, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours. ,
  • the compound represented by the formula (20) can be isolated by performing operations such as adding an organic solvent to the reaction mixture, if necessary, followed by filtration and concentration of the filtrate.
  • the isolated compound represented by the formula (20) can be further purified by an operation such as distillation, chromatography, and recrystallization.
  • the compound represented by the formula (6-2) can be produced by reacting the compound represented by the formula (20) with water in the presence of a base.
  • the reaction is usually performed in the presence of an organic solvent.
  • organic solvent used in the reaction examples include 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and chlorobenzene.
  • ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether
  • aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene
  • chlorobenzene chlorobenzene.
  • Halogenated hydrocarbons such as acetylene, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, alcohols such as methanol, ethanol and propanol, and mixtures thereof.
  • Examples of the base used in the reaction include lithium hydroxide, sodium hydroxide, Metal hydroxides such as Z oxidizing rim.
  • the base is usually used in a proportion of 1 to 10 mol
  • water is usually used in a proportion of 1 mol to an excess amount per 1 mol of the compound represented by the formula (20).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 150, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (6-1) is isolated by adding acidic water (hydrochloric acid, etc.) to the reaction mixture, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. can do.
  • the isolated compound represented by the formula (6-1) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like, but can also be used as it is in the next step.
  • the compound represented by the formula (3-2) can be produced by reacting the compound represented by the formula (6-2) with a chlorinating agent.
  • examples of the solvent include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane; toluene; Examples include aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated hydrocarbons such as benzene, and mixtures thereof. .
  • chlorinating agent used in the reaction examples include thionyl chloride, oxalyl chloride and phosphorus oxychloride.
  • the chlorinating agent is usually used in the proportion of 1 to 100 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (6-1).
  • the reaction temperature is usually in the range of 30 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (3-2) can be isolated by performing an operation such as concentration of the reaction mixture as it is.
  • the isolated compound represented by the formula (3-2) is usually used for the next step reaction without purification.
  • the compounds of formula R 8 Among the compounds represented by (6) is a hydrogen atom Formula (6-3) and the formula R 8 Among the compounds represented by the formula (3) is a hydrogen atom (3-
  • the compound represented by 3) can also be produced, for example, according to the following scheme.
  • the compound represented by the formula (23) can be produced by reacting a compound represented by the formula (21) with a compound represented by the formula (22).
  • the reaction is performed in the presence of an acid anhydride.
  • R 7 has the same meaning as described above.
  • acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, etc. are used.
  • the acid anhydride is generally used in a proportion of 1 to 5 mol, and the compound represented by the formula (22) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (21). .
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 100 to 200 ° C, and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (23) can be isolated by pouring the reaction mixture into water, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. it can.
  • the isolated compound represented by the formula (23) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization. Process (I I I-1 2)
  • the compound represented by the formula (25) can be produced by reacting the compound represented by the formula (23) with the compound represented by the formula (24).
  • the reaction is usually performed in the presence of an acid catalyst.
  • Examples of the acid used in the reaction include hydrogen chloride, hydrogen bromide and the like, hydrogenogens, mineral acids such as sulfuric acid and the like, and sulfonic acids such as methanesulfonic acid and paratoluenesulfonic acid. .
  • the compound represented by the formula (24) is usually used in a proportion of 3 moles to an excess amount per 1 mole of the compound represented by the formula (23).
  • the acid is usually used in an amount of 0.001 to 0.2. Used in molar proportions.
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 50 to 150 C, and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (25) can be isolated by pouring the reaction mixture into water, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. it can.
  • the isolated compound represented by the formula (25) can be further purified by a technique such as chromatography and recrystallization. Alternatively, the reaction mixture can be concentrated under reduced pressure to obtain a crude product, which can be used as it is in the next step.
  • the compound represented by the formula (26) can be produced by reacting the compound represented by the formula (25) with hydrogen in the presence of a hydrogenation catalyst.
  • the reaction is carried out under a hydrogen atmosphere, usually in the presence of a solvent.
  • Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol, ethanol, and propanol; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; and mixtures thereof.
  • alcohols such as methanol, ethanol, and propanol
  • esters such as ethyl acetate and butyl acetate
  • ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane
  • Examples of the hydrogenation catalyst used in the reaction include transition metal compounds such as palladium carbon, palladium hydroxide, nickel nickel, and platinum oxide.
  • the hydrogenation catalyst is used usually in a proportion of 0.001 to 0.5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (25).
  • the reaction can be carried out by further adding an acid (hydrochloric acid or the like) as needed.
  • the acid is usually used in a proportion of 0.01 mol to an excess amount per 1 mol of the compound represented by the formula (25).
  • the reaction is usually performed under a hydrogen atmosphere at 1 to 100 atm.
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of ⁇ 20 to 100 ° C.
  • the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (26) is isolated by performing operations such as filtering the reaction mixture, extracting the filtrate with an organic solvent, and drying and concentrating the obtained organic layer. be able to.
  • the isolated compound represented by the formula (26) can be further purified by a procedure such as chromatography and recrystallization. Process (I I I-4).
  • the compound represented by the formula (28) can be produced by reacting a compound represented by the formula (26) with a compound represented by the formula (27).
  • the reaction is usually performed in the presence of a base.
  • examples of the solvent include 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, tert-butyl. Ethers such as methyl ether; and aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane.
  • Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, etc., octalogized hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile, butyronitrile, N, N-dimethyl
  • acids amides such as formamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
  • Bases used in the reaction include, for example, carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, triadilamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] Tertiary amines such as 5-diazabicyclo [4.3.0] non-1-ene; and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
  • a base is usually used in an amount of 1 to 50 per 1 mol of the compound represented by the formula (26).
  • the compound represented by the formula (27) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol, and the reaction temperature of the reaction is usually in a range of 0 to 100 ° C, and the reaction time is usually 0.1 to 1 mol. The range is 1-2 hours.
  • the compound represented by the formula (28) can be isolated by performing an operation such as adding an organic solvent to the reaction mixture, if necessary, filtering the mixture, and concentrating the filtrate.
  • the isolated compound represented by the formula (28) can be further purified by an operation such as distillation, chromatography, recrystallization and the like.
  • the compound represented by the formula (6-3) can be produced by reacting the compound represented by the formula (28) with water in the presence of a base.
  • the reaction is usually performed in the presence of an organic solvent.
  • organic solvent used for the reaction examples include 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and chlorobenzene. And nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile; alcohols such as methanol, ethanol, and propanol; and mixtures thereof. .
  • Examples of the base used in the reaction include lithium hydroxide, sodium hydroxide, and alkali metal hydroxides such as hydroxide hydroxide.
  • the base is usually used in the proportion of 1 to 10 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (28).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 150, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (3-3) can be produced by reacting the compound represented by the formula (6-3) with a chlorinating agent.
  • examples of the solvent include 1,4-dioxane, Ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; halogens such as benzene Hydrogenated hydrocarbons and mixtures thereof.
  • chlorinating agent used in the reaction examples include thionyl chloride, oxalyl chloride and phosphorus oxychloride.
  • the chlorinating agent is usually used in a proportion of 1 to 100 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (6-3).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 30 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound represented by the formula (3-3) can be isolated by performing an operation such as concentration of the reaction mixture as it is.
  • the isolated compound represented by the formula (3-3) is generally used in the next step reaction without purification.
  • the compound represented by the formula (3) can be produced, for example, by reacting a compound represented by the formula (30) with a cyanide, an ammonium salt and a compound represented by the formula (31).
  • R 1 R 2 , R 3 , R 6 and R 9 represent the same meaning as described above.
  • the reaction is usually performed in the presence of a solvent.
  • Examples of the solvent used for the reaction include alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, water, and mixtures thereof.
  • Examples of the cyanide compound used in the reaction include sodium cyanide and potassium cyanide.
  • ammonium salt used in the reaction examples include ammonium chloride and ammonium bromide.
  • the amount of the cyanide is usually 1 to 5 mol
  • the amount of the ammonium salt is usually 1 to 5 mol
  • the amount of the compound represented by the formula (31) is 1 mol of the compound represented by the formula (30). Usually, it is used in a proportion of 1 to 50 mol.
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of ⁇ 10 to 100 ° C., and the reaction time is usually 1 to 5 The range is 0 hours.
  • the compound represented by the formula (3) can be isolated by performing an operation such as adding an organic solvent to the reaction mixture, if necessary, extracting and concentrating the organic layer. It can also be taken out as a hydrochloride by mixing with hydrochloric acid.
  • the compound represented by the formula (3) is, for example, a compound described in Tetraedr on Letters, vol. 25, No. 41, .4583-4586, 1984, or US Pat. It can also be produced according to the method described in the literature.
  • Examples of the plant disease having the controlling effect of the compound of the present invention include plant diseases caused by algae, and specific examples include the following diseases.
  • Vegetables such, radish of the base and the disease (Peronospora brassicae), downy mildew of Hourensou (P eronospora spinaciae), tobacco base mildew (Peronospora tabacina), base and ⁇ (Pseudoperonospora cubensis) of ⁇ Li such 3 ⁇ 4 Fudu downy 3 hei (Plasmopara viticola), apple, strawberry, and ginseng plague (Phytop thora cactorum), tomato, yuri grape plague (Pyiophthora capsici), pineapple plague (Phytophiho ra cinnamomi), potato and tomato plague infest Phytophthora nicotianae var.nicotianae, tobacco, broad bean, and black cat (Phytophthora nicotianae var.nicotianae), spinach wilt (Pythiuin sp.), Cucumber seedling wilt (Pythium
  • the plant disease control composition of the present invention contains the compound of the present invention and an inert carrier.
  • the composition for controlling plant diseases of the present invention is obtained by mixing the compound of the present invention, an inert carrier (solid carrier or liquid carrier), and, if necessary, a surfactant and Z or other auxiliaries for formulation, and then preparing an emulsion, It is formulated in the form of powders, wettable powders, flowables, powders, granules and the like. These preparations usually contain the present compound in an amount of 0.1 to 90% by weight.
  • solid carrier used in the formulation examples include kaolin clay, Atsuya pulgite clay, bentonite, montmorillonite, acid clay, pyrophyllite, talc, diatomaceous earth, calcite and other minerals, corn cob powder, walnut shell powder Fine organic or inorganic powders such as urea, synthetic organic substances such as urea, calcium carbonate, ammonium sulfate, etc .; and synthetic inorganic substances such as synthetic hydrous silicon oxide.
  • kaolin clay Atsuya pulgite clay, bentonite, montmorillonite, acid clay, pyrophyllite, talc, diatomaceous earth, calcite and other minerals
  • corn cob powder walnut shell powder
  • Fine organic or inorganic powders such as urea, synthetic organic substances such as urea, calcium carbonate, ammonium sulfate, etc .
  • synthetic inorganic substances such as synthetic hydrous silicon oxide.
  • liquid carrier examples include aromatic hydrocarbons such as xylene, alkylbenzene, and methylnaphthalene; alcohols such as 2-propanol, ethylene glycol, propylene glycol, and cellosolve; acetone, cyclohexanone; Ketones such as isophorone; vegetable oils such as soybean oil and cottonseed oil; aliphatic hydrocarbons; esters; dimethyl sulfoxide; acetonitrile; and water.
  • aromatic hydrocarbons such as xylene, alkylbenzene, and methylnaphthalene
  • alcohols such as 2-propanol, ethylene glycol, propylene glycol, and cellosolve
  • acetone cyclohexanone
  • Ketones such as isophorone
  • vegetable oils such as soybean oil and cottonseed oil
  • aliphatic hydrocarbons esters
  • dimethyl sulfoxide acetonitrile
  • surfactant examples include alkyl sulfates, alkyl aryl sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, polyoxyethylene alkyl aryl ether phosphates, lignin sulfonates, and naphthalene sulfonate formaldehyde polycondensates.
  • anionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl copolymer and sorbitan fatty acid ester.
  • compositions of the present invention can be obtained, for example, by foliar treatment of plants. It is used to protect the plant from plant diseases, and is also used to protect plants growing on the soil from plant diseases by treating the soil.
  • the amount of treatment depends on the type of the crop to be controlled and the disease to be controlled.
  • the type of the compound of the present invention is usually 1 to 500 g per 100 m 2 , and preferably varies depending on the type, the degree of occurrence of the disease to be controlled, the form of preparation, the time of treatment, the period, weather conditions, and the like. 5 to 1000 g.
  • Emulsions, wettable powders, flowables, etc. are usually processed by diluting with water and spraying.
  • the concentration of the compound of the invention is usually in the range of 0.001 to 3% by weight, preferably 0.005 to 1% by weight.
  • Dusts, granules, etc. are usually processed without dilution.
  • the composition for controlling plant diseases of the present invention can be used in a treatment method such as seed disinfection.
  • the method for disinfecting seeds include, for example, a method of immersing plant seeds in the plant disease control composition of the present invention prepared so that the concentration of the compound of the present invention is 1 to 100 ppm; A method for spraying or smearing the composition for controlling plant diseases of the present invention having a concentration of the compound of the present invention of 1 to 100 ppm, and a method in which the composition is formulated into a powder on plant seeds.
  • a method of dressing the composition for controlling plant diseases of the present invention is exemplified.
  • the method for controlling a plant disease of the present invention generally comprises applying an effective amount of the composition for controlling a plant disease of the present invention to a plant in which the occurrence of a disease is predicted or a soil in which the plant is grown, and This is done by treating the identified plants or the soil on which they grow.
  • the plant disease controlling composition of the present invention is generally used as an agricultural and horticultural plant disease controlling composition, i.e., a plant disease controlling composition for controlling plant diseases such as fields, paddy fields, orchards, tea fields, pastures, lawns, etc. Used.
  • the composition for controlling plant diseases of the present invention can be used together with other fungicides, insecticides, acaricides, nematicides, herbicides, plant growth regulators and Z or fertilizers.
  • Examples of the active ingredients of such plant disease controlling agents include chlorothalonil, fluazinam, diclofluanid, Josetyl-A1, cyclic imide derivatives (such as capbutane, captaphor, and phorpet), and dithiocarbamate derivatives (manneb, mancozeb, thiram, Ziram, zineb, propineb, etc.), inorganic or organic copper derivatives (basic copper sulfate, basic copper chloride, copper hydroxide, oxin copper, etc.), and acylylalanine derivatives (metalaxyl, furalaxyl, offrace, cyprofuran, benalaxil, oxazixil) Etc.), stoline viruline compounds (cresoxime methyl, azoxystropine, trifloxystropine, picoxystrobin, pirac ⁇ ⁇ strobin, dimoxisto mouth bottle, etc.), anilinopyrimidine derivatives
  • Z represents any of the following groups: phenyl, 4-fluorophenyl, 3-fluorophenyl, 2-fluoro Phenyl, 4-chlorophenyl, 3-chlorophenyl, 2-chlorophenyl, 4-bromophenyl, 3-bromophenyl, 2-bromophenyl Phenyl, 4-phenyl, 3-phenyl, 2-phenyl, 4-methylphenyl, 3-methylphenyl, 2-methylphenyl, 4-ethylphenyl, 3-ethylphenyl, 2 —Ethylphenyl group, 4-propylpyruphenyl group, 3-propylphenyl group, 2-propylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 4-butylphenyl group, 3-butylphenyl group, 4- (sec-butyl) phenyl Group, 4-isobut
  • 2-amino-2- (4-chlorophenol) 8.0 g of acetonitrile hydrochloride, 17 ml of diisopropylethylamine and 150 ml of tetrahydrofuran are mixed, and the mixture is mixed at 0 to 5 ° C. with 3- (3-methoxy-4).
  • a mixture of 8.3 g of 1- (2-propieroxy) phenyl ⁇ propionate and 30 ml of tetrahydrofuran was added, and the mixture was stirred at room temperature for ⁇ hour. Thereafter, the reaction mixture was concentrated under reduced pressure, water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate.
  • Production Example 10 was performed using 0.69 g of 4- (trifluoromethyl) benzaldehyde and 0.50 g of 3- (3-methoxy-4- (2-propieroxy) phenyl) propionate chloride. Perform the same operation to obtain N- ⁇ 1- (4-trifluoromethylphenyl) 1-1-cyanomethyl ⁇ -13- ⁇ 3-methoxy-41- (2-propynyloxy) phenyl ⁇ propionamide (hereinafter referred to as the book Inventive compound 13) 0.43 g was obtained.
  • Production example 1 5 Similar to Production Example 10 using 0.65 g of 5,6,7,8-tetrahydronaphthalene-l-2-propanolaldehyde and 0.45 g of 3- (3,4-dimethoxyphenyl) propionate chloride Then, N- ⁇ 11- (5,6,7,8-tetrahydronaphthalene-1-yl) -11-cyanomethyl ⁇ —3- (3,4-dimethoxyphenyl) propionamide (hereinafter referred to as Compound 1 of the present invention) This was described as 5.) 0.21 g was obtained.
  • the organic layer was washed sequentially with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water, and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure.
  • the residue was subjected to silica gel column purification, and N- ⁇ 1-1 (4-chlorophenyl) 111-cyanomethyl ⁇ —3- ⁇ 3-ethoxy4-1 (2-propieroxy) phenyl ⁇ propionamide (hereinafter referred to as the book Inventive compound 17) 493 mg was obtained.
  • N- ⁇ 1- was obtained from 406 mg of 2-amino-2- (4-chlorophenyl) acetonitrile hydrochloride and 477 mg of 3- (4-isopropoxy-13-methoxyphenyl) propionic acid. 398 mg of (4-chlorophenyl) -1-cyanomethyl ⁇ -13- (4-isopropoxy-3-methoxyphenyl) propionamide (hereinafter referred to as compound 25 of the present invention) were obtained.
  • N- ⁇ 1- (4-one) was obtained from 406 mg of 2-amino-2_ (4-chlorophenyl) acetonitrile hydrochloride and 476 mg of 3- (4-acetoxy-3-methoxyphenyl) propionic acid.
  • the organic layer was washed twice with 5% hydrochloric acid, sequentially with water, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and a saturated saline solution, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure.
  • the residue was subjected to silica gel column purification, and N- ⁇ 1-1 (4-bromophenyl) -11-cyanomethyl ⁇ -12-fluoro-3- ⁇ 3-methoxy-41- (2-provinyloxy) phenyl ⁇ propion Amide (hereinafter referred to as the present compound 42) 0.27 ′ g was obtained.
  • N- [1- (4- ⁇ hydroxymethyl ⁇ phenyl) 1-1-cyanomethyl] -3- ⁇ 3-methoxy41- (2-propynyloxy) phenyl ⁇ propion Amide hereinafter referred to as compound 50 of the present invention
  • compound 50 of the present invention 0.79 g
  • N— [1-4-1 ⁇ (ethoxy) cyanomethyl ⁇ phenyl] -11-cyanomethyl ⁇ 13— ⁇ 3-methoxy-4- ( 0.32 g of 2-propynyloxy) phenyl ⁇ propionamide (hereinafter referred to as the present compound 51) was obtained.
  • Production Example 52 In the same manner as in Production Example 30, 4-chloro-3-0.5 lg and 3- ⁇ 3-methoxy-41- (2-propieroxy) phenyl ⁇ propionic acid from 0.50 g of N— ⁇ 1- (4 —Chloro-3-fluorophenyl) -11-cyanomethyl ⁇ -13- ⁇ 3-methoxy-4- (2-propieroxy) phenyl ⁇ propionamide (hereinafter referred to as the present compound 53) 0.29 g was obtained.
  • the obtained organic layer was washed with water, PH6.8 buffer and then with a saturated saline solution, dried over magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was washed with hexane to obtain 3- ⁇ 3 -Ethoxy 41- (benzyloxy) phenyl ⁇ 25 g of ethyl acrylate were obtained.
  • a mixture of 31 g of aluminum chloride and 15 Oml of methylene chloride was ice-cooled, 30 g of ethyl oxalyl chloride was mixed, and the mixture was stirred under ice-cooling for 30 minutes.
  • the obtained mixture was mixed with 22 g of indane and The mixture was gradually added to a mixture of 20 ml of methylene under ice-cooling and stirred at room temperature for 1 hour.
  • the reaction mixture was gradually mixed with ice water, and the organic layer was separated. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain 37 g of a crude product of ethyl 15-yloxoethyl acetate.
  • Indane-5-ylethane 1,1,2-diol crude product 1 g, periodic acid 1 A mixture of 8 g, 100 ml of water and 100 ml of ethanol was stirred at room temperature for 12 hours. Water was added to the reaction mixture, extracted with ethyl acetate, washed twice with water, the organic solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by a silica gel column to give 8.1-lg of indan-5-propanolaldehyde. Obtained.
  • reaction mixture was allowed to cool to around room temperature, water was added, the mixture was concentrated under reduced pressure, and washed with t-tert-butyl methyl ether.
  • pH 2 by adding 5% hydrochloric acid to the residue
  • the mixture was extracted with ethyl acetate.
  • the organic layer was washed with water and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure.
  • the residue was washed with hexane and then dried to obtain 62 g of 3- (3-methoxy-4-benzyloxyphenyl) propionic acid.
  • a mixture of 10 Oml of methanol and 1 Oml of salt of acetyl acetyl for 15 minutes at room temperature is mixed with 4.Og of 3- (3-methoxy-14-benzyloxyphenyl) propionic acid, and the mixture is refluxed for 6 hours under total reflux. Stirred. Thereafter, the reaction mixture was allowed to cool to near room temperature, concentrated under reduced pressure, tert-butyl methyl ether was added, washed with water, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and then dried under reduced pressure. Concentrated.
  • the obtained residue (3.0 g) was mixed with monochlorobenzene (100 ml), and sulfuryl chloride (1.7 ml) was gradually mixed and stirred at room temperature for 1 hour. Thereafter, the reaction mixture was washed with water, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was washed with hexane and dried to obtain 2.3 g of methyl 3- (6-chloro-13-methoxy-4-benzyloxyphenyl) propionate.
  • Each wettable powder is obtained by thoroughly pulverizing and mixing 50 parts of each of the compounds of the present invention 1 to 46, 3 parts of calcium ligninsulfonate, 2 parts of magnesium perilla sulfate and 45 parts of synthetic hydrous silicon oxide.
  • Each powder is obtained by thoroughly pulverizing and mixing 2 parts of each of the present compounds 1 to 46, 88 parts of kaolin crease and 10 parts of talc.
  • Emulsions are obtained by thoroughly mixing 5 parts of each of the present compounds 1 to 46, 14 parts of polyoxyethylene styrylphenyl ether, 6 parts of calcium dodecylbenzenesulfonate and 75 parts of xylene.
  • each of the present compounds 1 to 46 1 part of synthetic hydrous silicon oxide, 2 parts of calcium ligninsulfonate, 30 parts of bentonite and 65 parts of kaolin clay are thoroughly ground and mixed, followed by adding water and kneading well. Each granule is obtained by drying the granules.
  • control effect was evaluated by visually observing the area of the lesion on the test plant at the time of the survey, and comparing the area of the lesion in the untreated section with the area of the lesion in the section treated with the present compound. Also, Compound A described in Journal of Chemical and Engineering Data, 10 (2), pp. 188 (1965) 1965, Vol. 10, No. 2, p. 188 was served.
  • Plastic pots were filled with sandy loam, and tomatoes (variety: Bon terror) were sowed and grown in a greenhouse for 20 days.
  • Compounds of the present invention 1, 3 to 6, 8 to 23, 26 to 28, 30 to 34, 36, 38, 39, 41 to 50, 52 to 57, 59 and 61 were formulated into preparations according to Preparation Example 6. Then, the mixture was diluted to a predetermined concentration (500 ppm) with water, and the diluted solution was sprayed on the foliage so as to sufficiently adhere to the tomato leaf surface.
  • the diluted solution on the leaf surface is air-dried to dryness, and sprayed with a suspension of zoospores of tomato late blight (containing about 1 000 zoospores per ml of suspension) (plant 1). About 2 ml per individual).
  • plant 1.1 a suspension of zoospores of tomato late blight (containing about 1 000 zoospores per ml of suspension) (plant 1). About 2 ml per individual).
  • the plants were cultivated for 1 day under conditions of 23 ° C and a relative humidity of 90% or more, and then cultivated in a greenhouse at 24 ° C during the day and 20 ° C at night for 4 days. After that, the control effect was investigated.
  • the lesion area on the plant to which the compound of the present invention was tested was 10% or less of the lesion area in the untreated plot.
  • the lesion area on the plant to which Compound A was tested was 76 to 100% of the lesion area in the untreated plot.
  • Plastic pots were filled with sandy loam, sown with grapes (variety: Berry A), and grown in a greenhouse for 40 days.
  • Compounds of the Invention 1-5, 8-10, 12-15, 17, 19, 20, 22, 23, 25, 27-34, 37, 38, 39, 41-46, 50-54, 59, 61-64 And 65 were prepared into formulations according to Formulation Example 6, then diluted with water to a predetermined concentration (200 ppm), and the diluted solution was sprayed on the foliage so as to sufficiently adhere to the vine leaves.
  • the lesion area on the plant to which the compound of the present invention was tested was 10% or less of the lesion area in the untreated plot.
  • the compound of the present invention Since the compound of the present invention has an excellent plant disease controlling effect, it is useful as an active ingredient of a plant disease controlling composition.

Landscapes

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Description

明 細 書
アミド化合物およびそれを用いた植物病害の防除方法 技術分野
本発明は、 アミド化合物、 及びそれを植物または植物の生育する土壌に施用す る植物病害の防除方法に関する。 背景技術
植物病害を防除するための薬剤の開発が行われ、 植物病害防除効果を有する化 合物が数多く見出されているが、 その効果は十分でない場合があり、 新たな化合 物群の探索が鋭意行われている。 発明の開示
本発明は、 優れた植物病害防除効力を有する化合物を提供することを課題とす る。
すなわち、 本発明は式 ( 1 )
式 （1 )
Figure imgf000003_0001
[式中、 R1は水素原子；ハロゲン原子；ニトロ基；シァノ基；ハロゲン原子、 シ. ァノ基、 ヒドロキシル基、 C3-C6シクロアルキル基、 C卜 C6アルコキシ基、 C3- C6シ クロアルコキシ基、 C1-C6アルキルチオ基、 C3- C6シクロァルキルチオ基及びトリ (C1 - C3アルキル) シリル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよ レ C卜 C6アル'キル基；ハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロア ルキル基、 CI- C6アルコキシ基、 C3- C6シクロアルコキシ基、 CI- C6アルキルチオ基 、 C3- C6シクロアルキルチオ基及びトリ （CI- C3アルキル） シリル基からなる群か ら選ばれる置換基で置換されていてもよい C2-C6アルケニル基；ハロゲン原子、 シ ァノ基、 ヒドロキシル基、 C3-C6シクロアルキル基、 C卜 C6アルコキシ基、 C3- C6シ クロアルコキシ基、 CI- C6アルキルチオ基、 C3-C6シクロアルキルチオ基及びトリ (C1-C3アルキル) シリル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよ い C2 - C6アルキニル基；ハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロ アルキル基、 C1 - C6アルコキシ基、 C3 C6シクロアルコキシ基、 C卜 C6アルキルチオ 基、 C3- C6シクロアルキルチオ基及びトリ （C1-C3アルキル） シリル基からなる群 から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6シクロアルキル基；ハロゲン原 子、 -C6アルコキシ基及び アルキルチオ基からなる群から選ばれる置換基 で置換されていてもよい C1-C6アルコキシ基；ハロゲン原子、 C卜 C6アルコキシ基 及び C1 - C6アルキルチオ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよ い C3- C6シクロアルコキシ基；ハロゲン原子、 C1-C6アルコキシ基及び CI- C6アルキ ルチオ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C1-C6アルキル チォ基；ハロゲン原子、 CI- C6アルコキシ基及び アルキルチオ基からなる群 から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6シクロアルキルチオ基；ハロゲ ン原子、 C1 - C6アルコキシ基及び - C6アルキルチオ基からなる群から選ばれる置 換基で置換されていてもよいジ （CI- C6アルキル） アミノ基；ハロゲン原子、 CI- C 6アルキル基、 CI- C6ハロアルキル基及び C1 - C6アルコキシ基からなる群から選ばれ る置換基で置換されていてもよいフエニル基；ハロゲン原子、 - C6アルキル基、 C1-C6ハロアルキル基及ぴ C卜 C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置 換されていてもよいフエノキシ基；ハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C1-C6ハロ アルキル基及び C1-C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されて いてもよいフエ二ルチオ基；ハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 CI- C6ハロアルキ ル基及び C1 - C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていても よいベンゾィル基；ハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C1 - C6ハロアルキル基及び C 卜 C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいべンゾ ィルォキシ基；ホルミル基； (C卜 C6アルキル） カルボニル基； (C2-C6アルケニ ル） 力ルポニル基； (C2- C6アルキニル） カルボ二ル基； (C3-C6シクロアルキル ) カルボニル基； (C1-C6ハロアルキル) カルボニル基； (C1-C6アルコキシ） 力 ルポニル基；又はトリ (C1-C6アルキル) シリル基を表し、
R2は水素原子、 ハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 C3-C6シクロアルキル基、 C2-C 6アルケニル基、 C2-C6アルキニル基、 C卜 C6八口アルキル基、 C卜 C6アルコキシ基 、 CI- C6ハロアルコキシ基、 C1 - C6アルキルチオ基、 C1 - C6ハロアルキルチオ基、 ジ (C1 - C6アルキル） アミノ基、 ニトロ基又はシァノ基を表すか、
R1と R2とが一緒になつて、 ハロゲン原子、 CI- C3アルキル基及び CI- C3ハロアルキ ル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6ポリメチレン 基；又はハロゲン原子、 CI- C3アルキル基及び Π- C3ハロアルキル基からなる群か ら選ばれる置換基で置換されていてもよい 1 , 3—ブタジエン一 1 , 4一ジィル 基を表し、
R3は水素原子、 ハロゲン原子又は - C3アルキル基を表し、 R4は C卜 C4アルキル基、 C1-C4ハロアルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4アル キニル基を表し、
R5は C卜 C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基、 C3- C6アルキニル基、 CI- C4ハロアル キル基、 シァノ アルキル基又は （CI- C3アルキル） カルボ二ル基を表し、 R6は水素原子又は CI- C4アルキル基、 C3-C4アルケニル基又は C3- C4アルキニル基 を表し、
R1は水素原子、 ハロゲン原子又は C1-C3アルキル基を表し、
R8は水素原子、 Λロゲン原子又は -C3アルキル基を表し、
R 9は水素原子又は - C3アルキル基を表し、
R 1 Qは水素原子、 ハロゲン原子又は C1-C3アルキル基を表し、
R1 1は水素原子、 ハロゲン原子又は C1-C3アルキル基を表し、
R 1 2は水素原子、 ハロゲン原子又は C1-C3アルキル基を表す。]
で示される N— （ひ一シァノベンジル） アミド化合物 （以下、 本発明化合物と記 す。）、 本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除組 成物及び本発明化合物の有効量を植物又は植物を栽培する土壌に処理することを 特徴とする植物病害の防除方法を提供する。 本発明化合物において、 R\ R\ R3、 R4、 R5、 R6、 R7、 R8、 R9、 R10、 R1 1及び R12で示される各置換基を以下に例示する。 .
R 1で示されるハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ 素原子が挙げられる。
R1で示されるハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロアルキ ル基、 - C6アルコキシ基、 C3- C6シクロアルコキシ基、 C卜 C6アルキルチオ基、 C3 - C6シクロアルキルチオ基及びトリ （C卜 C3アルキル） シリル基からなる群から選. ばれる置換基で置換されていてもよい C卜 C6アルキル基としては、 例えば、 メチル 基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c 一ブチル基、 t e r t —ブチル基、 ペンチル基、 2—メチルペンチル基、 3—メ チルペンチル基、 4ーメチルペンチル基、 へキシル基等の C卜 C6アルキル基；フル ォロメチル基、 ジフルォロメチル基、 トリフルォロメチル基、 クロルメチル基、 ジクロルメチル基、 トリクロルメチル基等の C1-C6ハロアルキル基；シァノメチル 基、 2—シァノエチル基、 1ーシァノエチル等のシァノ C1-C6アルキル基；ヒドロ キシメチル基、 1ーヒドロキシェチル基、 2—ヒドロキシェチル基、 3—ヒドロ キシプロピル基等の C1-C6ヒドロキシアルキル基；シクロプロピルメチル基、 シク ロブチルメチル基、 シクロペンチルメチル基、 シクロへキシルメチル基等の C3 - C6 シクロアルキル C卜 C6アルキル基； 2—メトキシェトキシ基、 2—エトキシェトキ シ基等の C1-C6アルコキシ C1-C6アルキル基；エトキシシァノメチル基、 メトキシ シァノメチル基等の （C1-C3アルコキシ） シァノ C1 - C6アルキル基；シクロプロピ ルォキシメチル基、 シクロブチルォキシメチル基、 シク口ペンチルォキシメチル 基、 シクロへキシルォキシメチル基等の C 1 -C 6シクロアルコキシ C 1 -C 6アルキル基 ； 2—メチルチオェチル基等の C1-C6アルキルチオ C1 - C6アルキル基；シクロペン チルチオメチル基等の C1-C6シクロアルキルチオ C卜 C6アルキル基； トリ (Cト C3ァ ルキル） シリル C1-C6アルキル基が挙げられる。
R 1で示されるハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロァルキ ル基、 アルコキシ基、 C3- C6シクロアルコキシ基、 C卜 C6アルキルチオ基、 C3 -C6シクロアルキルチオ基及びトリ （C1-C3アルキル） シリル基からなる群から選 ばれる置換墓で置換されていてもよい C2-C6アルケニル基としては、 例えば、 ビニ ル基、 1—メチルビニル基、 1—プロぺニル基、 2—プロぺニル基、 1一メチル 一 2—プロぺニル基、 2—メチルー 2—プロぺニル基、 2—ブテニル基、 3—ブ テニル基、 1一ペンテニル基、 4一ペンテニル基、 1一へキセニル基、 5—へキ セニル基等の C2-C6アルケニル基； 2 _フルォロビニル基、 2 , 2—ジフルォロビ ニル基、 2—クロロビニル基、 2 , 2—ジクロロビニル基、 2—ブロモビニル基 、 , 2—ジブロモビエル基、 2—クロ口— 2—プロぺニル基、 3， 3—ジクロ ロー 2—プロぺニル基等の C2-C6ハロアルケニル基；シァノ C2 - C6アルケニル基； C 2 - C6ヒドロキシァルケニル基； C3 - C6シク口アルキル C2-C6アルケニル基； C1 - C6ァ ルコキシ C2- C6アルケニル基； C1-C6シクロアルコキシ C2- C6アルケニル基； C1-C6 アルキルチオ C2- C6アルケニル基； CI- C6シクロァルキルチオ C2- C6アルケニル基； トリ （C卜 C3アルキル） シリル C2 - C6アルケニル基が挙げられる。
R 1で示されるハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロァルキ ル基、 CI- C6アルコキシ基、 C3- C6シクロアルコキシ基、 C卜 C6アルキルチオ基、 C3 -C6シクロアルキルチオ基及びトリ （C卜 C3アルキル） シリル基からなる群から選 ばれる置換基で置換されていてもよい C2-C6アルキニル基としては、 例えば、 ェチ ニル基、 1一プロピニル基、 2—プロピエル基、 1ーメチルー 2—プロピエル基 、 1—プチニル基、 2—プチニル基、 3—ブチェル基、 3、 3—ジメチルー 1一 ブチニル基、 1一ペンチニル基、 4一ペンチニル基、 1—へキシェル基、 5—へ キシェル基等の C2-C6アルキニル基； 2—フルォロェチェル基、 2—クロ口ェチニ ル基、 2—プロモェチェル基、 2—ョ一ドエチェル基等の C2-C6ハロアルキニル基 ；シァノ C2- C6アルキニル基； C2 - C6ヒドロキシアルキニル基； C3-C6シクロァルキ ル C2- C6アルキニル基； CI- C6アルコキシ C2- C6アルキニル基； CI- C6シクロァルコ キシ C2- C6アルキニル基； C1-C6アルキルチオ C2- C6アルキニル基； C1-C6シクロア ルキルチオ C2- C6アルキニル基； トリメチルシリルェチニル基、 トリエチルシリル ェチェル基等のトリ （CI- C3アルキル） シリル C2-C6アルキニル基が挙げられる。
R1で示されるハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロアルキ ル基、 C1-C6アルコキシ基、 C3- C6シクロアルコキシ基、 C卜 C6アルキルチオ基、 C3 - C6シクロアルキルチオ基及びトリ （ -C3アルキル） シリル基からなる群から選 ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6シクロアルキル基としては、 例えば、 シクロプロピル基、 シクロブチル基、 シクロペンチル基、 シクロへキシル基等の C 3 - C6シクロアルキル基； C3- C6ハロシクロアルキル基；シァノ C3-C6シクロァルキ ル基； C3- C6ヒドロキシシクロアルキル基； C3- C6シクロアルキル C3-C6シクロアル キル基； C卜 C6アルコキシ C3- C6シクロアルキル基； C卜 C6シクロアルコキシ C3-C6 シクロアルキル基； CI- C6アルキルチオ C3-C6シクロアルキル基； CI- C6シクロアル キルチオ C3- C6シクロアルキル基； トリ （C1-C3アルキル） シリル C3-C6シクロアル キル基が挙げられる。
R1で示されるハロゲン原子、 C1-C6アルコキシ基及び C1-C6アルキルチオ基から なる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C卜 C6アルコキシ基としては、 例えば、 メトキシ基、 エトキシ基、 プロポキシ基、 イソプロポキシ基、 ブトキシ 基、 イソブトキシ基、 s e c—ブトキシ基、 ペンチルォキシ基、 へキシルォキシ 基等の CI- C6アルコキシ基；フルォロメトキシ基、 ジフルォロメトキシ、 トリフル ォロメトキシ基、 2， 2 , 2—トリフルォロエトキシ基、 1， 1 , 2， 2—テト ラフルォロエトキシ基、 2—フルォロエトキシ基等の C1-C6八口アル キシ基； 2 ーメトキシェトキシ基等の CI- C6アルコキシ CI- C6アルコキシ基； 2—メチルチオ エトキシ基等の CI- C6アルキルチオ CI- C6アルコキシ基が挙げられる。
R1で示されるハロゲン原子、 C1-C6アルコキシ基及び アルキルチオ基から なる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6シクロアルコキシ基と しては、 例えば、 シクロプロピルォキシ基、 シクロブチルォキシ基、 シクロペン. チルォキシ基、 シクロへキシル基、 2 , 2 -ジメチルプロピル基等の C3-C6シクロア ルコキシ基； C3-C6ハロシクロアルコキシ基； CI- C6アルコキシ C3-C6シクロァルコ キシ基； C1-C6アルキルチオ C3- C6シクロアルコキシ基が挙げられる。
R1で示さ るハロゲン原子、 C1-C6アルコキシ基及び C卜 C6アルキルチオ基から なる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C1-C6アルキルチオ基として は、 例えば、 メチルチオ基、 ェチルチオ基、 プロピルチオ基、 イソプロピルチオ 基、 ブチルチオ基、 イソプチルチオ基、 s e c 一プチルチオ基、 t e r t —プチ ルチオ基、 ペンチルチオ基、 へキシルチオ基等の C1-C6アルキルチオ基；フルォロ メチルチオ基、 ジフルォロメチルチオ基、 トリフルォロメチルチオ基、 2 , 2 , 2—トリフルォロェチルチオ基、 1 , 1， 2 , 2—テトラフルォロェチルチオ基 、 2—フルォロェチルチオ基等の C1-C6ハロアルキルチオ基； 2—メトキシェチル チォ基等の C卜 C6アルコキシ C卜 C6アルキルチオ基； C卜 C6アルキルチオ CI- C6アル キルチオ基が挙げられる。
R 1で示される八ロゲン原子、 C卜 C6アルコキシ基及び CI- C6アルキルチオ基から なる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6シクロァルキルチオ基 としては、 シクロプロピルチオ基、 シクロプチルチオ基、 シクロペンチルチオ基 等の C3- C6シクロアルキルチオ基； C3-C6ハロシクロアルキルチオ基； C 1 - C6アルコ キシ C3- C6シクロァルキルチオ基； CI- C6アルキルチオ C3- C6シクロァルキルチオ基 が挙げられる。
R 1で示されるハロゲン原子、 C1-C6アルコキシ基及び C卜 C6アルキルチォ基から なる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいジ （C3 - C6アルキル） アミノ基 としては、 例えば、 ジメチルァミノ基、 ジェチルァミノ基、 ジプロピルアミノ基 、 ジペンチルァミノ基、 ジへキシルァミノ基等のジ （C3- C6アルキル） ァミノ基； メチル （2—メトキシェチル） アミノ基等の (C3-C6アルキル） （CI- C6アルコキ シ C3- C6アルキル） アミノ基； （C3- C6アルキル） （CI- C6アルキルチオ C3- C6アル キル） ァミノ基が挙げられる。
R1で示されるハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C卜 C6ハ'口アルキル基及び C卜 C 6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいフエニル 基としては、 フエニル基、 2—フルオロフェニル基、 3—フルオロフェニル基、 4—フルオロフェニル基、 3 , 4—ジフルオロフェニル基、 2—クロルフエニル 基、 3—クロルフエニル基、 4一クロルフエニル基、 3 , 4—ジクロルフエニル 基、 2—ブロモフエエル基、 3—ブロモフエニル基、 4一ブロモフエニル基、 2 一メチルフエニル基、 3—メチルフエニル基、 4一メチルフエニル基、 2—ェチ ルフエ二ル基、 3—ェチルフエニル基、 4一ェチルフエニル基、 2—トリフルォ ロメチルフエニル基、 3—トリフルォロメチルフエニル基、 4—トリフルォロメ. チルフエニル基、 2—メトキシフエエル基、 3—メトキシフエ二ル基、 4ーメト キシフエニル基が挙げられる。
R 1で示されるハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C卜 C6ハロアルキル基及び C1 - C 6アルコキジ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいフエノキ シ基としては、 フエノキシ基、 2—フルオロフエノキシ基、 3—フルオロフエノ キシ基、 4一フルオロフエノキシ基、 3 , 4—ジフルオロフエノキシ基、 2—ク ロルフエノキシ基、 3—クロルフエノキシ基、 4一クロルフエノキシ基、 3 , 4 —ジクロルフエノキシ基、 2—ブロモフエノキシ基、 3—ブロモフエノキシ基、 4一ブロモフエノキシ基、 2—メチルフエノキシ基、 3—メチルフエノキシ基、 4一メチルフエノキシ基、 2—ェチルフエノキシ基、 3—ェチルフエノキシ基、 4—ェチルフエノキシ基、 2—トリフルォロメチルフエノキシ基、 3—トリフル ォロメチルフエノキシ基、 4一トリフルォロメチルフエノキシ基、 2—メトキシ フエノキシ基、 3—メトキシフエノキシ基、 4ーメトキシフエノキシ基が挙げら れる。
R 1で示されるハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 Π- C6ハロアルキル基及び C1 - C 6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいフエニル チォ基としては、 フエ二ルチオ基、 2—フルオロフェニルチオ基、 3—フルォロ フエ二ルチオ基、 4一フルオロフェニルチオ基、 3， 4—ジフルオロフェニルチ ォ基、 2—クロルフエ二ルチオ基、 3—クロルフエ二ルチオ基、 4一クロルフエ 二ルチオ基、 3， 4ージクロルフエ二ルチオ基、 2—ブロモフエ二ルチオ基、 3 一ブロモフエ二ルチオ基、 4一ブロモフエ二ルチオ基、 2—メチルフエ二ルチオ 基、 3—メチルフエ二ルチオ基、 4一メチルフエ二ルチオ基、 2—ェチルフエ二 ルチオ基、 3—ェチルフエ二ルチオ基、 4一ェチルフエ二ルチオ基、 2—トリフ ルォロメチルフエ二ルチオ基、 3—トリフルォロメチルフエ二ルチオ基、 4ート リフルォロメチルフエ二ルチオ基、 2—メトキシフエ二ルチオ基、 3—メトキシ フエ二ルチオ基、 4—メトキシフエ二ルチオ基が挙げられる。
R1で示されるハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C卜 C6八口アルキル基及び C1 - C 6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいべンゾィ ル基としては、 ベンゾィル基、 2—フルォロベンゾィル基、 3—フルォロベンゾ ィル基、 4一フルォロベンゾィル基、 3 , 4—ジフルォロベンゾィル基、 2—ク ロルベンゾィル基、 3—クロルベンゾィル基、 4一クロルベンゾィル基、 3， 4 —ジクロルベンゾィル基、 2—ブロモベンゾィル基、 3—ブロモベンゾィル基、 4一ブロモベンゾィル基、 2—メチルベンゾィル基、 3—メチルベンゾィル基、 4一メチルベンゾィル基、 2—ェチルベンゾィル基、 3一ェチルベンゾィル基、 4一ェチルベンゾィル基、 2—トリフルォロメチルベンゾィル基、 3—トリフル. ォロメチルベンゾィル基、 4一トリフルォロメチルベンゾィル基、 2—メトキシ ベンゾィル基、 3—メトキシベンゾィル基、 4ーメトキシベンゾィル基が挙げら れる。
R1で示されるハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 - C6ハロアルキル基及び C1-C 6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいべンゾィ ルォキシ基としては、 ベンゾィルォキシ基、 2—フルォロベンゾィルォキシ基、 3—フルォロベンゾィルォキシ基、 4—フルォロベンゾィルォキシ基、 3， 4一 ジフルォロベンゾィルォキシ基、 2—クロルべンゾィルォキシ基、 3—クロルべ ンゾィルォキシ基、 4一クロルベンゾィルォキシ基、 3 , 4ージクロルべンゾィ ンゾィルォキシ基、 4—メチルベンゾィルォキシ基、 2—ェチルベンゾィルォキ シ基、 3—ェチルベンゾィルォキシ基、 4一ェチルベンゾィルォキシ基、 2—ト リフルォロメチルベンゾィルォキシ基、 3—トリフルォロメチルベンゾィルォキ シ基、 4一トリフルォロメチルベンゾィルォキシ基、 2—メトキシベンゾィルォ キシ基、 3—メトキシベンゾィルォキシ基、 4ーメトキシベンゾィルォキシ基が 挙げられる。
R 1で示される （CI- C6アルキル） カルポニル基としては、 ァセチル基、 プロピ ォニル基、 プチリル基が挙げられる。
R 1で示される （C2- C6アルケニル） カルボニル基としては、 ァクリロイル基、 メタクリロイル基、 クロトノィル基、 イソクロトノィル基が挙げられる。
R1で示される （C2-C6アルキニル） カルポニル基としては、 プロピオロイル基 が挙げられる。
R1で示される （C3- C6シクロアルキル） カルポニル基としては、 シクロプロピ ルカルポニル基、 シクロプチルカルポニル基、 シクロペンチルカルポニル基、 シ クロへキシルカルポニル基が挙げられる。
R1で示される （C1-C6ハロアルキル） カルボニル基としては、 クロロアセチル 基、 トリフルォロアセチル基が挙げられる。
R 1で示される （CI- C6アルコキシ） カルポニル基としては、 ァセチルォキシ基 、 プロピオニルォキシ基、 プチリルォキシ基が挙げられる。 ,
R1で示されるトリ （CI- C6アルキル） シリル基としては、 例えばトリメチルシ リル基、 トリエヂルシリル基、 トリイソプロピルシリル基、 t e r t—プチルジ メチルシリル基が挙げられる。
R2で示されるハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ. 素原子が挙げられる。
R2で示される C1-C6アルキル基としては、 例えば、 メチル基、 ェチル基、 プロ ピル基、 イソプロピル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c一ブチル基、 t e r t—プチル Sが挙げられる。
R2で示される C3-C6シクロアルキル基としては、 例えば、 シクロプロピル基、 シクロプチル基、 シクロペンチル基、 シクロへキシル基が挙げられる。
R2で示される C2-C6アルケニル基としては、 例えば、 ビエル基、 1ーメチルビ ニル基、 1一プロぺニル基、 2—プロぺニル基、 1ーメチルー 2—プロぺニル基 、 2—メチルー 2—プロぺニル基、 2—ブテニル基、 3—ブテニル基、 1一ペン テニル基、 4一ペンテニル基、 1一へキセニル基、 5—へキセニル基が挙げられ る。 R2で示される C2- C6アルキニル基としては、 例えば、 エヂ二ル基、 1一プロピ ニル基、 2—プロピニル基、 1ーメチルー 2—プロピニル基、 1ーブチュル基、 2—プチニル基、 3—プチ二ル基、 3、 3—ジメチルー 1一プチニル基、 1一べ ンチニル基、 4一ペンチニル基、 1一へキシェル基、 5—へキシュル基が挙げら れる。
R2で示される CI- C6八口アルキル基としては、 例えば、 フルォロメチル基、 ジ フルォロメチル基及びトリフルォロメチル基が挙げられる。
R2で示される CI- C6アルコキシ基としては、 例えば、 メトキシ基、 エトキシ基 、 プロポキシ基、 イソプロポキシ基、 ブトキシ基、 イソブトキシ基、 s e c—ブ トキシ基、 ペンチルォキシ基及びへキシルォキシ基が挙げられる。
R2で示ざれる C卜 C6八口アルコキシ基としては、 例えば、 フルォロメトキシ基 、 ジフルォロメトキシ、 トリフルォロメトキシ基、 2 , 2， 2—トリフルォロェ トキシ基、 1 , 1， 2 , 2—テトラフルォロエトキシ基、 2—フルォロエトキシ 基が挙げられる。
R2で示される CI- C6アルキルチオ基としては、 例えば、 メチルチオ基、 ェチル チォ基、 プロピルチオ基、 イソプロピルチオ基、 プチルチオ基、 イソプチルチオ 基、 s e c—プチルチオ基、 t e r t—ブチルチオ基、 ペンチルチオ基、 へキシ ルチオ基が挙げられる。
R2で示される C1-C6八ロアルキルチオ基としては、 例えば、 フルォロメチルチ ォ基、 ジフルォロメチルチオ基、 トリフルォロメチルチオ基、 2， 2 , 2—トリ フルォロェチルチオ基、 1， 1 , 2， 2—テトラフルォロェチルチオ基、 2—フ ルォロェチルチオ基が挙げられる。
R2で示されるジ （C1-C6アルキル） アミノ基としては、 例えば、 ジメチルアミ ノ基、 ジェチルァミノ基、 ジプロピルアミノ基、 ジペンチルァミノ基、 ジへキシ ルァミノ基が挙げられる。
R1と R2とが一緒になつたハロゲン原子、 C卜 C3アルキル基及び C卜 C3ハロアルキ ル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6ポリメチレン 基としては、' 1， 3—プロパンジィル基、 1 , 3—ブタンジィル基、 1 , 4ーブ タンジィル基、 1， 5—ペンタンジィル基、 1， 4—ペンタンジィル基及び 1 , 6—へキサンジィル基が挙げられる。
R1と R2とが一緒になつたハロゲン原子、 CI- C3アルキル基及び C1-C3ハロアルキ ル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい 1 , 3—ブタジエン 一 1 , 4一ジィル基としては、 例えば、 1 , 3—ブタジエン一 1， 4—ジィル基 、 1ーメチルー 1 , 3—ブタジエン一 1， 4一ジィル基、 2—メチルー 1 , 3 _ ブタジエン一 1 , 4一ジィル基、 3ーメチルー 1， 3—ブタジエン一 1， 4ージ ィル基、 4—メチルー 1， 3—ブタジエン一 1 , 4一ジィル基、 2 , 3—ジメチ ルー 1， 3—ブタジエン— 1 , 4一ジィル基、 1ーェチルー 1， 3—ブタジエン 一 1， 4一ジィル基、 2—ェチルー 1 , 3一ブタジエン一 1， 4一ジィル基、 3 一ェチル— 1， 3一ブタジエン一 1 , 4一ジィル基、 4ーェチルー 1 , 3—ブタ ジェン一 1， 4一ジィル基、 1—フルオローブタジエン一 1 , 4一ジィル基、 2 一フルオロー 1， 3—ブタジエン一 1 , 4一ジィル基、 3—フルオロー 1 , 3— ブタジエン一 1， 4―ジィル基、 4一フルオロー 1， 3一ブタジエン一 1， 4— ジィル基、 2， 3—ジフルオロー 1 , 3—ブタジエン一 1 , 4—ジィル基、 1一 クロローブタジエン一 1， 4一ジィル基、 2—クロロー 1， 3—ブタジエン一 1 ， 4 _ジィル基、 3—クロロー 1 , 3—ブタジエン一 1 , 4一ジィル基、 4ーク ロロ一 1， 3—ブタジエン一 1 , 4—ジィル基、 2 , 3—ジクロ口— 1 , 3—ブ 夕ジェン一 1 , 4一ジィル基、 1ーブロモーブタジエン— 1， 4一ジィル基、 2 ーブロモー 1， 3—ブタジエン一 1， 4一ジィル基、 3—ブロモー 1 , 3—ブタ ジェン一 1， 4一ジィル基、 4一プロモ 1一， 3—ブタジエン一 1 , 4—ジィル 基、 2 , 3—ジブロモ— 1 , 3—ブタジエン— 1 , 4—ジィル基、 が挙げられる 。 尚、 ここで示したハロゲン原子、 CI- C3アルキル基及び CI- C3ハロアルキル基か らなる群から選ばれる置換基で置換された 1， 3—ブタジエン一 1， 4一ジィル 基の 1位の炭素原子は、 R2が結合している位置で結合していることを意味する。
R3で示されるハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ 素原子が挙げられる。
R3で示される CI- C3アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピル基が挙げられる。
R4で示される C1-C4アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c一ブチル基、 t e r t—プチ ル基が挙げられる。
R4で示される CI- C4ハロアルキル基としては、 フルォロメチル基、 ジフルォロ メチル基、 トリフルォロメチル基、 2—フルォロェテル基、 1 , 1， 2 , 2—テ トラフルォロェチル基が挙げられる。
R4で示される C3- C4アルケニル基としては、 例えば、 2—プロぺニル基、 1— メチルー 2—プロぺニル基、 2—メチル— 2 _プロぺニル基、 2—ブテニル基、 3—ブテニル基が挙げられる。
R4で示される C3-C4アルキニル基としては、 例えば、 2—プロピニル基、 1一 メチルー 2—プロピニル基、 2—ブチニル基、 3—ブチニル基が挙げられる。
R5で示される CI- C4アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピル基、 プチル基、 イソブチル基、 s e c—ブチル基、 t e r t—プチ ル基が挙げられる。
R5で示される C3- C4アルケニル基としては、 例えば、 2—プロぺニル基、 1一 メチルー 2—プロぺニル基、 2—メチルー 2—プロぺニル基、 2—ブテニル基、 3―ブテュル基が挙げられる。
R5で示される C3-C6アルキニル基としては、 例えば、 2—プロピニル基、 1一 メチルー 2—プロピエル基、 1 , 1一ジメチルー 2—プロピエル基、 2—プチ二 ル基、 3—プチニル基、 1ーメチルー 2—プチ二ル基、 2—ペンチュル基、 1一 メチル— 2—ペンチニル基、 4ーメチルー 2—ペンチニル基、 3—ペンチニル基 、 4一ペンチニル基、 2—へキシニル基、 3—へキシェル基が挙げられる。
R5で示される C1-C4ハロアルキル基としては、 例えば、 フルォロメチル基、 ジ フルォロメチル基、、 トリフルォロメチル基、 2—フルォロェチル基、、 2 , 2 ,
2 _トリフルォロェチル基が挙げられる。
R5で示されるシァノ C卜 C6アルキル基としては、 例えば、 シァノメチル基、 1 ーシァノエチル基、 2—シァノエチル基、 1一シァノプロピル基が挙げられる。
R5で示される （C1-C3アルキル） カルポニル基としては、 例えば、 ァセチル基 、 プロピオニル基、 プチリル基、 イソプチリル基が挙げられる。
で示される CI- C4アルキル基としては、 例えば、 メチル基、 ェチル基、 プロ ピル基、 ブチル基が挙げられる。
R6で示される C3-C4アルケニル基としては、 例えば、 2—プロべ ル基、 1一 メチルー 2—プロぺニル基、 2—メチルー 2—プロぺニル基、 2—ブテニル基、
3—ブテニル基が挙げられる。
Rsで示される C3-C4アルキニル基としては、 例えば、 2—プロピエル基、 1 一 メチルー 2—プロピニル基、 2—プチ二ル基、 3—プチニル基が挙げられる。
R7で示されるハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 沃素 原子が挙げられる。
で示される CI- C3アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 ィソプロピル基が挙げられる。
R8で示されるハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 沃素 原子が挙げられる。
R8で示される C卜 C3アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 ィソプロピル基が挙げられる。
R9で示される CI- C3アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピル基が挙げられる。
R1 11で示されるハロゲン原子としては、 フッ素原子、塩素原子、 臭素原子、沃素 原子が挙げられる。 R1Gで示される C1-C3アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 ィソプロピル基が挙げられる。
R11で示されるハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 沃素 原子が挙げられる。 .
R11で示される アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピル基が挙げられる。
R12で示されるハロゲン原子としては、 フッ素原子、塩素原子、 臭素原子、 沃素 原子が挙げられ、
R12で示される CI- C3アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピル基が挙げられる。 本発明化合物にはアミドの窒素原子が結合する炭素原子に基ずく （R) および (S) の光学異性体が存在するが、 その各々の光学異性体およびその混合物が本 発明に含まれる。 本発明化合物としては、 例えば以下の態様の化合物が挙げられる。
式 （1) において、 R3が水素原子である N— （ 一シァノベンジル） アミド化 合物。
式 （1) において、 R4が CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4アル キニル基である N— （α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （1) において、 R5が CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4アル キニル基である Ν— （α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （1) において、 R6が水素原子である Ν— (α—シァノベンジル） アミド化 合物。 - 式 （1) において、 R7が水素原子である Ν— （α—シァノベンジル） アミド化 合物。
式 （1) において、 Rsが水素原子である Ν— （α—シァノベンジル） アミド化 合物。 '
式 (1) において、 R9が水素原子である Ν— (α—シァノベンジル) アミド化 合物。
式（1) において、 R6及び R9が水素原子である Ν— （α—シァノベンジル） ァ ミド化合物。
式 （1) において、 R7及び R8が水素原子である Ν— （ひ一シァノベンジル） ァ ミド化合物。
式 （1) において、 R1()、 R11及び R12が水素原子である N- (a—シァノベンジ ル） アミド化合物。
式 （1) において、 R3、 R7及び R8が水素原子である N— （ 一シァノベンジ ル） アミド化合物。
式 （1) において、 ； 3、 T, R8、 Rl Ru及び R 12が水素原子である N— ( α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （1) において、 R3、 R7、 Rs及び R9が水素原子である N— (ひ—シァノベ ンジル） アミド化合物。
式 （1) において、 R3、 R7、 R8、 R9、 R10, R11及び R12が水素原子である N 一 （α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （1) において、 R4及び R5が、 各々 CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又 は C3- C4アルキニル基である Ν— （ひ一シァノベンジル） アミド化合物。
式 （1) において、 R6が水素原子又は C3-C4アルキニル基であり、 R3、 R7及び R 8が水素原子である N— (α—シァノベンジル) アミド化合物。
式 （1) において、 R6が水素原子又は C3- C4アルキニル基であり、 R3、 R7、 R 8、 R[ R "及び Ruが水素原子である N— （α—シァノベンジル） アミド化合物 式 （1) において、 R4が CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3-C4アル キニル基であり、 R5が CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4アルキニ ル基であり、 R6が水素原子又は C3- C4アルキニル基であり、 R3、 R 及び Rsが水 素原子である N— （ 一シァノベンジル） アミド化合物。
式 （1) において、 R4が C卜 C4アルキル基、 C3-C4アルケニル基又は C3-C4アル キニル基であり、 R5が Π- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4アルキニ ル基であり、 R6が水素原子又は C3- C4アルキニル基であり、 R3、 R7、 R8、 R10 、 R11及び R12が水素原子である N— （α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （1) において、 R1が水素原子、 ハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 C卜 C6ァ ルコキシ基または C1-C6ハロアルコキシ基で、 R2が水素原子、 ハロゲン原子、 - C6アルキル基、 Π- C6アルコキシ基または Ci- C6八口アルコキシ基であるか、 又は R1と R2と 一緒になつて、 C3-C5アルキレン基若しくは CH=CH- CH=CHであり、 R4 が CI- C4アルキル基、 C3-C4アルケニル基又は C3- C4アルキニル基であり、 R5が C卜 C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4アルキニル基であり、 R6が水素原子 又は C3- C4アルキニル基であり、 R3、 R7、 R8及び R9が水素原子である N— (a 一シァノベンジル) アミド化合物。
式 （1) において、 R1が水素原子、 ハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C卜 C6ァ ルコキシ基または C1-C6ハロアルコキシ基で、 R2が水素原子、 ハロゲン原子、 C1- C6アルキル基、 CI- C6アルコキシ基または C1-C6ノ、口アルコキシ基であるか、 又は R 1と R2とが一緒になつて、 C3- C5アルキレン基または CH=CH- CH=CHであり、 R4が C 1 - C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4アルキニル基であり、 R5が CI- C4 アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4アルキニル基であり、 R6が水素原子又 は C3- C4アルキニル基であり、 ： 3、 R R R9、 R lfl、 R u及び R 12が水素原子 である Ν— (ひ一シァノベンジル） アミド化合物。
式 （1 ) において、 R 1がハロゲン原子；ニトロ基；シァノ基；ハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3-C6シクロアルキル基、 CI- C6アルコキシ基、 C3 - C6 シクロアルコキシ基、 - C6アルキルチオ基、 C3- C6シクロアルキルチオ基及びト リ (CI- C3アルキル) シリル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていても よい CI- C6アルキル基；ハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3-C6シクロ アルキル基、 - C6アルコキシ基、 C3- C6シクロアルコキシ基、 C卜 C6アルキルチオ 基、 C3- C6シクロアルキルチオ基及びトリ （CI- C3アルキル） シリル基からなる群 から選ばれる置換基で置換されていてもよい C2-C6アルケニル基；ハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3-C6シクロアルキル基、 C卜 C6アルコキシ基、 C3- C6 シクロアルコキシ基、 CI- C6アルキルチオ基、 C3- C6シクロアルキルチオ基及びト リ (CI- C3アルキル) シリル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていても よい C2- C6アルキニル基；ハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3-C6シク 口アルキル基、 CI- C6アルコキシ基、 C3- C6シクロアルコキシ基、 C1-C6アルキルチ ォ基、 C3- C6シクロァルキルチオ基及びトリ （C卜 C3アルキル） シリル基からなる 群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6シクロアルキル基；ハロゲン 原子、 （U-C6アルコキシ基及び C1-C6アルキルチオ基からなる群から選ばれる置換 基で置換されていてもよい C1-C6アルコキシ基；ハロゲン原子、 C卜 C6アルコキシ 基及び C1-C6アルキルチオ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていても よい C3- C6シクロアルコキシ基；ハロゲン原子、 C卜 C6アルコキシ基及び C卜 C6アル. キルチオ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C1 - C6アルキ ルチオ基；ハロゲン原子、 CI- C6アルコキシ基及び CI- C6アルキルチオ基からなる 群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6シクロアルキルチオ基；ハロ ゲン原子、 C卜 C6アルコキシ基及び C1-C6アルキルチオ基からなる群から選ばれる 置換基で置換されていてもよいジ （CI- C6アルキル） アミノ基；ハロゲン原子、 C1 -C6アルキル基、 C1-C6ハロアルキル基及び C1 - C6アルコキシ基からなる群から選ば れる置換基で置換されていてもよいフエニル基；ハロゲン原子、 C1-C6アルキル基 、 C1-C6ハロアルキル基及び -C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で 置換されていてもよいフエノキシ基；ハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 C卜 C6ハ 口ァルキル基及び C 1 - C 6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換され ていてもよいフエ二ルチオ基；八ロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C卜 C6ハロアル キル基及び CI- C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていて もよいベンゾィル基；ハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 C卜 C6ハロアルキル基及 び Π - C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいべ ンゾィルォキシ基；ホルミル基； （ -C6アルキル） カルボ二ル基； （C2- C6アル ケニル） 力ルポニル基； (C2- C6アルキニル） 力ルポニル基； (C3- C6シクロアル キル） 力ルポニル基； (C1-C6ハロアルキル） カルポニル基； （C1-C6アルコキシ ) カルポニル基；またはトリ （C1-C6アルキル） シリル基で、 R2が水素原子、 ハロ ゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C3- C6シクロアルキル基、 C2- C6アルケニル基、 C2 - C 6アルキニル基、 C卜 C6ハロアルキル基、 C卜 C6アルコキシ基、 CI- C6ハロアルコキ シ基、 CI- C6アルキルチオ基、 CI- C6ハロアルキルチオ基、 ジ （C卜 C6アルキル） ァ ミノ基、 ニトロ基またはシァノ基であるか、 R1と R2とが一緒になつて、 ハロゲン 原子、 C 1 - C3アルキル基及び C 1 -C3ハ口アルキル基からなる群から選ばれる置換基 で置換されていてもよい C3-C5ポリメチレン基；またはハロゲン原子、 アル キル基及び C1-C3ハロアルキル基からなる群から選ばれる置換基で置換されてい てもよい 1， 3—ブタジエン一 1 , 4—ジィル基である N— ( α—シァノベンジ ル） アミド化合物。 '
式 （1 ) において、 R1がハロゲン原子；ニトロ基；シァノ基；ハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロアルキル基、 CI- C6アルコキシ基、 C3-C6 シクロアルコキシ基、 C卜 C6アルキルチオ基、 C3- C6シクロアルキルチオ基及びト リ (CI- C3アルキル) シリル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていても よい C1-C6アルキル基；ハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロ アルキル基、 C卜 C6アルコキシ基、 C3-C6シクロアルコキシ基、 Π - C6アルキルチオ 基、 C3-C6シクロァルキルチオ基及びトリ （CI- C3アルキル） シリル基からなる群 から選ばれる置換基で置換されていてもよい C2-C6アルケニル基；ハロゲン原子、 . シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロアルキル基、 C卜 C6アルコキシ基、 C3 - C6 シクロアルコキシ基、 C1-C6アルキルチオ基、 C3-C6シクロアルキルチオ基及びト リ （ - C3アルキル） シリル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていても よい C2- C6ァ 'ルキエル基；ハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シク 口アルキル基、 CI- C6アルコキシ基、 C3-C6シクロアルコキシ基、 C1-C6アルキルチ ォ基、 C3-C6シクロァルキルチオ基及びトリ （CI- C3アルキル） シリル基からなる 群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6シクロアルキル基；ハロゲン 原子、 - C6アルコキシ基及び C卜 C6アルキルチオ基からなる群から選ばれる置換 基で置換されていてもよい C1-C6アルコキシ基；ハロゲン原子、 CI- C6アルコキシ 基及び C1-C6アルキルチオ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていても よい C3-C6シクロアルコキシ基；ハロゲン原子、 CI- C6アルコキシ基及び アル キルチオ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい CI- C6アルキ ルチオ基；ハロゲン原子、 CI- C6アルコキシ基及び CI- C6アルキルチオ基からなる 群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6シクロアルキルチオ基；ハロ ゲン原子、 C卜 C6アルコキシ基及び C卜 C6アルキルチオ基からなる群から選ばれる 置換基で置換されていてもよいジ （CI- C6アルキル） アミノ基；ハロゲン原子、 C1 - C6アルキル基、 ハロアルキル基及び C卜 C6アルコキシ基からなる群から選ば れる置換基で置換されていてもよいフエニル基；ハロゲン原子、 C1-C6アルキル基 、 C1-C6ハロアルキル基及び -C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で 置換されていてもよいフエノキシ基；ハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 CI- C6ハ ロアルキル基及び C 1 - C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換され ていてもよいフエ二ルチオ基；ハロゲン原子、 C1-C6アルキル基、 C卜 C6ハロアル キル基及び C1-C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていて もよいベンゾィル基；ハロゲン原子、 C1-C6アルキル基、 C卜 C6ハロアルキル基及 び C1-C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいべ ンゾィルォキシ基；ホルミル基； (CI- C6アルキル） カルボニル基； (C2- C6アル ケニル） カルボ二ル基； (C2- C6アルキニル） カルボニル基； (C3-C6シクロアル キル） カルポニル基； （CI- C6ハロアルキル） カルボニル基； （C1-C6アルコキシ ) カルポニル基；またはトリ （C卜 C6アルキル） シリル基で、 R2が水素原子、 ハロ ゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C3- C6シクロアルキル基、 C2- C6アルケ ル基、 C2-C 6アルキニル基または C1-C6ハロアルキル基であるか、 R1と R2とが一緒になつて、 八ロゲン原子、 CI- C3アルキル基及び CI- C3八口アルキル基からなる群から選ばれ る置換基で置換されていてもよい C3-C5ポリメチレン基；またはハロゲン原子、 C1 - C3アルキル基及び C1-C3ノ 口アルキル基からなる群から選ばれる置換基で置換さ れていてもよい 1 , 3—ブタジエン— 1 , 4一ジィル基である N— （CKーシァノ. ベンジル） アミド化合物。
式 （1 ) において、 R1がハロゲン原子；ニトロ基；シァノ基；ハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロアルキル基、 C1 - C6アルコキシ基、 C3-C6 シクロアルコキシ基、 CI- C6アルキルチオ基、 C3-C6シクロアルキルチオ基及びト リ （ - C3アルキル） シリル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていても よい CI- C6アルキル基； C2- C6アルケニル基； C2- C6アルキニル基； C3- C6シクロア ルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよい C1-C6アルコキシ基；ハロゲン原 子で置換されていてもよい C3-C6シクロアルコキシ基；ハロゲン原子で置換されて いてもよい CI- C6アルキルチオ基；ハロゲン原子で置換されていてもよい C3-C6シ クロアルキルチオ基；ジ （C卜 C6アルキル） アミノ基；ハロゲン原子、 - C6アル キル基、 C1 - C6ハロアルキル基及び C1-C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置 換基で置換されていてもよいフエニル基；ハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 C1 - C 6ハロアルキル基及び C1-C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換さ れていてもよいフエノキシ基；ホルミル基； （C卜 C6アルキル） カルポニル基； ( C卜 C6アルコキシ) カルポニル基；又はトリ （CI- C6アルキル） シリル基で、 が 水素原子、 ハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 C3- C6シクロアルキル基、 C2- C6アル ケニル基、 C2- C6アルキニル基又は CI- C6ハロアルキル基であるか、 R 1と R2とが一 緖になって、 ハロゲン原子、 CI- C3アルキル基及び CI- C3ハロアルキル基からなる 群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C5ポリメチレン基；又はハロゲ ン原子、 C1 - C3アルキル基及び C1-C3ハロアルキル基からなる群から選ばれる置換 基で置換されていてもよい 1 , 3一ブタジエン一 1 , 4—ジィル基である N— ( a—シァノベンジル） アミド化合物。 式 （1 ) において、 R1が水素原子、 ハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C2 C6ァ ルケニル基、 C2- C6アルキニル基、 - C6ハロアルキル基、 C1-C6アルコキシ基、 C1 -C6ハロアルコキシ基、 C卜 C6アルキルチオ基、 CI- C6ハロアルキルチオ基、 ジ （C1 - C6アルキル） アミノ基、 フエニル基、 フエノキシ基又はシァノ基であり、 R 2が 水素原子、 ハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 - C6アルコキシ基又は CI- C6ハロァ ルキル基であるか、 又は R1と R2とが一緒になつて C3- C5アルキレン基又は CH=CH - CH=CH基であり、 R3が水素原子、 ハロゲン原子又は C卜 C3アルキル基であり、 R4 が CI- C4アルキル基、 C3-C4アルケニル基又は C3-C4アルキニル基であり、 R5が C1 - C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基、 C3-C6アルキニル基、 CI- C4ハロアルキル基又 は （Π- C3アルキル） カルボニル基であり、 ： 6が水素原子又は C1-C4アルキル基、 C3 - C4アルケニル基、 C3-C4アルキニル基であり、 R7が水素原子、 ハロゲン原子又 は CI- C3アルキル基であり、 R8が水素原子、 ハロゲン原子又は C1-C3アルキル基で あり、 R9が水素原子又は C卜 C3アルキル基であり、 R18、 R11及び R12が水素原子で ある N— ( α—シァノベンジル) アミド化合物；即ち式 ( 6 0 )
Figure imgf000019_0001
[R61は水素原子、 ハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 C2-C6アルケニル基、 C2-C6 アルキニル基、 CI- C6ハロアルキル基、 CI- C6アルコキシ基、 C卜 C6ハロアルコキシ 基、 C1-C6アルキルチオ基、 C1-C6ハロアルキルチオ基、 ジ (C1-C6アルキル) アミ ノ基、 フエニル基、 フエノキシ基又はシァノ基を表し、 R62は水素原子、 原子、 C1-C6アルキル基、 CI- C6アルコキシ基又は C1-C6ハロアルキル基を表すか、 又は R61と R62とが一緒になつて C3- C5アルキレン基又は CH=CH- CH=CHを表し、 R63 は水素原子、 ハロゲン原子又は C1-C3アルキル基を表し、 ： Mは CI- C4アルキル基、 C3 - C4アルケニル基又は C3- C4アルキニル基を表し、 R65は C卜 C4アルキル基、 C3-C 4アルケニル基、 C3-C6アルキニル基、 CI- C4ハロアルキル基又は （C1-C3アルキル ) カルボ二ル基を表し、 RMは水素原子又は CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基 、 C3- C4アルキニル基を表し、 R67及びは R68は独立して、 水素原子、 ハロゲン原 子又は C1-C3アルキル基を表し、 R69は水素原子又は CI- C3アルキル基を表す。] で示される N— （《—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （60) において、 R63が水素原子である N— （ひ一シァノベンジル） アミド 化合物。
式 （60) において、 RMが CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3-C4ァ ルキエル基である N— （ひ一シァノベンジル） アミド化合物。
式 （60) において、 R65が CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4ァ ルキエル基である N— （0!—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （60) において、 R66が水素原子である N— （α—シァノベンジル） アミド 化合物。
式 （60) において、 R67が水素原子である Ν— （α—シァノベンジル） アミド 化合物。
式 （60) において、 R68が水素原子である N— (α_シァノベンジル） アミド 化合物
式 （60) において、 R69が水素原子である Ν— （α—シァノベンジル） アミド 化合物
式 （60) において、 RM及び R 69が水素原子である Ν— ( - ) アミド化合物。
式 （6 0) において、 R67及び R 68が水素原子である N— （ひ - ) アミド化佥物。
式 （60) において、 R63、 R67及び R68が水素原子である N— （ a—シァノベ ンジル） アミド化合物。
式 （6 0) において、 R63、 R67、 R6S及び R69が水素原子である N— （ひーシ ァノベンジル） アミド化合物。
式 （6 0) において、 R64及び R65が、 各々 CI- C4アルキル基、 C3-C4アルケニル 基又は C3-C4アルキニル基である N— （ 一シァノベンジル） アミド化合物。
式 （6 0) において、 R66が水素原子又は C3- C4アルキニル基であり、 R63、 R6 7及び R 68が水素原子である N— ( 一シァノベンジル） アミ ド化合物。
式 （6 0 ) において、 R64が CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3-C4ァ ルキニル基であり、 R65が CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3-C4アルキ ニル基であり、 R66が水素原子又は C3- C4アルキニル基であり、 R63、 R67及び R68 が水素原子である N— （ひ一シァノベンジル） アミ ド化合物。
式 （6 0 ) において、 R61がハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 C2-C6アルケニル 基、 C2 - C6アルキニル基、 C1-C6ハロアルキル基、 C1 - C6アルコキシ基、 C卜 C6ハロ アルコキシ基、 - C6アルキルチオ基、 C卜 C6ハロアルキルチオ基、 ジ （CI- C6アル キル） アミノ基、 フエニル基、 フエノキシ基又はシァノ基であり、 RMが水素原子 、 ハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又は CI- C6ハロアルキル基 を表すか、 文は R61と R62とが一緒になつて C3- C5アルキレン基又は CH=CH- CH=CHで ある N— ( α—シァノベンジル) アミド化合物。
式 （6 0 ) において、 R61がハロゲン原子、 - C6アルキル基、 C2- C6アルケニル 基、 C2 - C6アルキニル基、 C卜 C6ハロアルキル基、 - C6アルコキシ基、 CI-C6八口 アルコキシ基、 CI- C6アルキルチオ基、 CI- C6ハロアルキルチオ基、 ジ （CI- C6アル キル） アミノ基、 フエニル基、 フエノキシ基又はシァノ基であり、 R62が水素原子 、 ハロゲン原子、 Π- C6アルキル基又は C】- C6ハロアルキル基を表すか、 又は； 61 と R62とが一緒になつて C3- C5アルキレン基又は CH=CH-CH=CHである N—（α〜シァ ノベンジル) アミド化合物。 .
式 （6 0 ) において、 R61及び R62が水素原子、 ハロゲン原子、 CI- C6アルキル 基、 C卜 C6アルコキシ基又は CI- C6八口アルコキシ基であるか、 又は R61と R62とが —緖になって、 C3- C5アルキレン基又は CH=CH- CH=CH基であり、 ： 64が CI- C4アルキ ル基、 C3-C4アルケニル基又は C3- C4アルキニル基であり、 R65が CI- C4アルキル基 、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4アルキニル基であり、 R66が水素原子又は C3 C4ァ ルキニルであり、 R 63、 R67、 R68及び R69が水素原子である Ν— ( α—シァノベ ンジル） アミド化合物。 式 （1 ) こおいて、 R1が水素原子、 ハロゲン原子、 CI- C4アルキル基、 CI- C4ァ ルコキシ基又は C1-C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子、 八ロゲン原子、 C1- C4アルキル基、 C卜 C4アルコキシ基又は C卜 C4ハロアルキル基であるか、 又は R 1と R2とが一緒になつて C3- C5アルキレン基又は CH=CH- CH-CH基であり、 R4が CI- C4ァ ルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4アルキニル基であり、 R5が CI- C4アルキ ル基、 C3- C4アルケニル基又は C3-C4アルキニル基であり、 R6が水素原子又は C3 - C 4アルキル基であり、 R3、 R7、 R8、 ： 9、 R 10, R 11及び R 12が水素原子である N 一 ( α—シァノベンジル) アミド化合物、 即ち式 （5 0 )
Figure imgf000022_0001
[式中、 R 及び R52は、 同一又は相異なり水素原子、 ハロゲン原子、 C卜 C4アル キル基、 アルコキシ基又は CI- C4ハロアルキル基を表すか、 又は R51と R52 とが一緒になつて C3- C5アルキレン基又は CH=CH- CH=CH基を表し、 54は 卜じ4ァル キル基、 C3 - C4アルケニル基又は C3 - C4アルキニル基を表し、 R55は CI- C4アルキル 基、 C3- C4アルケニル基又は C3-C4アルキニル基を表し、 R56は水素原子又は C3-C4 アルキニル基を表す。]
で示される N— （ひ一シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51がハロゲン原子である N— (α_シァノベンジル） ァ ミド化合物。
式 （50) において、 R51が C1-C4アルキル基である Ν— （a—シァノベンジル ) アミド化合物。
式 （50) において、 R51が (】 - C4アルコキシ基である Ν— ( - ル） アミド化合物。
式 （50) において、 R5iが CI- C4八口アルキル基である Ν— (ひ丁
ジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が C1 - C2アルキル基である Ν— （ α—シァノベンジル ) アミド化合物。
式 （50) において、 R51がフッ素原子である Ν— （α—シァノベンジル） アミ ド化合物。
式 （50) において、 R51が水素原子である Ν— （《—シァノベンジル） アミド 化合物。
式（50) において、 R"力 s、塩素原子である Ν— (ひ一シァノベンジル） アミド 化合物。 '
式 （50) において、 R51が臭素原子である Ν— （α—シァノベンジル） アミド 化合物。
式 （50) において、 R51がメチル基である Ν— («—シァノベンジル） アミド 化合物。
式 （50) において、 R51がメトキシ基である Ν— （α—シァノベンジル） アミ ド化合物。
式（50) において、 R51がトリフルォロメチル基である Ν— （ひ一シァノベン ジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R52が水素原子である N_ (α—シァノベンジル） アミド 化合物。
式 （50) において、 R52がハロゲン原子である N— （ 一シァノベンジル） ァ ミド化合物。
式 （50) において、 R52が塩素原子である N— (« _シァノベンジル） アミド 化合物。
式 （50) において、 R54が CI- C4アルキル基である N— （ α—シァノベンジル ) アミド化合物。
式 （50) において、 R54が C1-C2アルキル基である Ν— (α—シァノベンジル ) アミド化合物。
式 （50) において、 R 54が C3 - C4アルキニル基である Ν— (α—シァノベンジ ル） アミド化合物。
式（50) において、 R 54が 2—プロピニル基である Ν— （ _シァノベンジル ) アミド化合物。
式 （50) において、 R55が C1-C4アルキル基である Ν—' （ α—シァノベンジル ) アミド化合物。
式 （50) において、 R 55が C3- C4アルキニル基である Ν— （(¾一シァノベンジ ル） アミド化合物。
式 （50) において、 R55が C1 - C2アルキル基である Ν— （ ο;—シァノベンジル ) アミド化合物。
式（50) において、 R55が 2—プロピニフレ基である Ν— (ひ一シァノベンジレ ) アミド化合物。
式（50) において、 R55が 2—プロぺニル基である Ν— ( 一シァノベンジル ) アミド化合物。
式 （50) において、 R56が水素原子である N— （α—シァノベンジル） アミド 化合物。
式 （50)' において、 R51がハロゲン原子であり、 R52が水素原子である Ν— ( 一シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51がハロゲン原子であり、 R52がハロゲン原子である Ν 一 （《—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が C卜 C4アルキル基であり、 R52が水素原子である Ν 一 （α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が CI- C4ハロアルキル基であり、 R52が水素原子であ る Ν— （α—シァノベンジル） アミド化合物。 式 （50) において、 R51が塩素原子であり、 R52が水素原子である N— (α- シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が塩素原子であり、 R52がハロゲン原子である Ν— ( α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が C卜 C2アルキル基であり、 R52が水素原子である Ν 一 (α—シァノベンジル) アミド化合物。
式（50) において、 R1が C1-C4アルコキシ基であり、 R52が水素原子である Ν ― (α—シァノベンジル） アミド化合物。
式（50) において、 R51がトリフルォロメチル基であり、 R52が水素原子であ る Ν— （α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51がハロゲン原子であり、 R52が水素原子であり、 R5 4が C 1 -C4アルキル基である Ν -- (ひ一シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51がハロゲン原子であり、 R52が水素原子であり、 R5 が CI- C2アルキル基である Ν一 (α—シァノベンジル) アミド化合物。
式 （50) において、 R51がハロゲン原子であり、 R52が水素原子であり、 R5 5が CI- C4アルキル基である Ν— （α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51がハロゲン原子であり、 R52が水素原子であり、 R5 5が C3- C4アルキニル基である Ν— (α—シァノベンジル) アミド化合物。
式 （50) において、 R51がハロゲン原子であり、 R52が水素原子であり、 R5 5が C1-C2アルキル基である Ν— （ひ一シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が CI- C4アルキル基であり、 R52が水素原子であり、 R54が C卜 C4アルキル基である Ν— (ひ一シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が CI- C4アルキル基であり、 R52が水素原子であり、 R5 が CI- C2アルキル基である Ν一 (α—シァノベンジル) アミド化合物。
式 （50) において、 R51が CI- C4アルキル基であり、 R52が水素原子であり、 R55が CI- C4アルキル基である Ν— （α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が - C4アルキル基であり、 R52が水素原子であり、 R55が C3- C4'アルキニル基である Ν— (α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が - C4アルキル基であり、 R52が水素原子であり、 R55が 2 _プロピニル基である Ν— （《—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が CI- C4アルコキシ基であり、 R52が水素原子であり 、 R54が CI- C4アルキル基である Ν— （α_シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が CI- C4アルコキシ基であり、 R52が水素原子であり 、 R54が CI- C2アルキル基である Ν— (α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が CI- C4アルコキシ基であり、 ： 52が水素原子であり 、 R55が CI- C4アルキル基である N— (α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R51が CI- C4アルコキシ基であり、 R52が水素原子であり 、 R55が C3- C4アルキニル基である Ν— (ひ—シァノベンジル） アミド化合物。 式 （50) において、 R51が C卜 C4アルコキシ基であり、 R52が水素原子であり 、 R55が 2—プロピエル基である Ν— （α—シァノベンジル） アミド化合物。 式 （50) において、 R51が CI- C4ハロアルキル基であり、 R52が水素原子であ り、 R54が C卜 C4アルキル基である Ν— (ひ一シァノベンジル） アミド化合物。 式 （50) において、 R51が CI- C4ハロアルキル基であり、 R52が水素原子であ り、 R54が C卜 C2アルキル基である Ν— (ひ—シァノベンジル） アミド化合物。 式 （50) において、 ： 51が C1-C4ハロアルキル基であり、 R52が水素原子であ り、 R55が C3 - C4アルキニル基である Ν— （ひ一シァノベンジル） アミド化合物。 式 （50) において、 ： 51が CI- C4ハロアルキル基であり、 R52が水素原子であ り、 R55が 2—プロピエル基である Ν— （α—シァノベンジル） アミド化合物。 式 （50) において、 R52が水素原子であり、 R54が -C4アルキル基である Ν 一 （《—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R52が水素原子であり、 R54が CI- C2アルキル基である Ν ― (ひ一シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R52が水素原子であり、 R55が CI- C4アルキル基である Ν ― (α—シァノベンジル） アミド化合物。 .
式 （50) において、 R52が水素原子であり、 R55が C3- C4アルキニル基である Ν- ( 一シァノベンジル） アミ ド化合物。
式 （50) において、 R52が水素原子であり、 R55が CI- C2アルキル基である Ν 一 （ひ一シァノベンジル） アミド化合物。
式（50) において、 R52が水素原子であり、 R55が 2—プロピニル基である Ν. 一 (α—シァノベンジル) アミド化合物。
式 （50) において、 R52が水素原子であり、 R54が CI- C2アルキル基であり、 R5が C3-C4アルキニル基である Ν— （《—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50)'において、 R52が水素原子であり、 R54が アルキル基であり、 R55が 2—プロピニル基である Ν— （ 一シァノベンジル） アミド化合物。
式（50) において、 R54が CI- C4アルキル基であり、 R55が CI- C4アルキル基で ある Ν— （ひ一シァノベンジル） アミ ド化合物。
式 （50) において、 R54が - C4アルキル基であり、 R55が C3- C4アルキニル基 である Ν— （ひ一シァノベンジル） アミド化合物。
式（50) において、 R54が CI- C4アルキル基であり、 R55が CI- C2アルキル基で ある Ν— （α—シァノベンジル） アミド化合物。 式 （50) において、 R54が CI- C4アルキル基であり、 R55が 2—プロピニル基 である N— (α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R54が CI- C2アルキル基であり、 R55が CI- C4アルキル基で ある Ν— («—シァノベンジル） アミド化合物。
式（50) において、 R54が CI- C2アルキル基であり、 R55が C3- C4アルキニル基 である Ν— （α—シァノベンジル） アミド化合物。
式（50) において、 R"が CI- C2アルキル基であり、 R55が CI- C2アルキル基で ある Ν— (α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) (こおいて、 R54が Ci- C2アルキル基であり、 R55が 2—プロピニル基 である N— (α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R52が水素原子であり、 R54が C1-C4アルキル基であり、 R55が C3- C4アルキニル基である Ν— (α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R52が水素原子であり、 R54が CI- C4アルキル基であり、 R55が CI- C2アルキル基である Ν— （《—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （50) において、 R52が水素原子であり、 R54が CI- C4アルキル基であり、 R55が 2—プロピニル基である Ν— （α—シァノベンジル)'アミド化合物。
式 （1) において、 R1がハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C2- C6アルケニル基 、 C2- C6アルキニル基、 C1-C6ハロアルキル基、 CI- C6アルコキシ基、 CI- C6 /、ロア ルコキシ基、 CI- C6アルキルチオ基、 C1-C6八ロアルキルチオ基、 ジ ，(C1- C6アルキ ル） アミノ基、 フエニル基、 フエノキシ基又はシァノ基であり、 R2、 R3、 R7、 Rs及び R9が水素原子である N— （α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （1) において、 R1がハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C2- C6アルケニル基 、 C2- C6アルキニル基、 C卜 C6ハロアルキル基、 C1-C6アルコキシ基、 C1 - C6八ロア ルコキシ基、 CI- C6アルキルチオ基、 C1-C6ハロアルキルチオ基、 ジ （C1-C6アルキ ル） アミノ基、 フエニル基、 フエノキシ基又はシァノ基であり、 R3、 R6、 R7、 R8及ぴ R9が水素原子である N— （α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （1) において、 R 'がハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C2- C6アルケニル基 、 C2- C6アルキニル基、 CI- C6ハロアルキル基、 C卜 C6アルコキシ基、 C1-C6ハロァ ルコキシ基、 C卜 C6アルキルチオ基、 ハロアルキルチオ基、 ジ （C卜 C6アルキ ル） アミノ基、 フエニル基、 フエノキシ基又はシァノ基であり、 R2、 R3、 R6、 R7、 R8及び R9が水素原子である N— （α—シァノベンジル） アミド化合物。 式 （1) において、 R1がハロゲン原子、 C1 - C6アルキル基、 C2- C6アルケニル基 、 C2- C6アルキニル基、 C1 - C6ハロアルキル基、 - C6アルコキシ基、 CI- C6ハロァ ルコキシ基、 CI- C6アルキルチオ基又は CI- C6ハロアルキルチオ基であり、 R3、 R 6、 R7、 R 8及び R 9が水素原子である N— （ひ一シァノベンジル） アミド化合物。 式 （1 ) において、 がハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C2- C6アルケニル基 、 C2- C6アルキニル基、 CI - C6ハロアルキル基、 C1-C6アルコキシ基、 C1 - C6八ロア ルコキシ基、 CI- C6アルキルチオ基又は CI- C6ハロアルキルチオ基であり、 R2、 R 3、 R6、 R 7、 1^及び尺9が水素原子でぁる？^— ( —シァノベンジル） アミド化 合物。
式 （1 ) において、 R 1がハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 C2- C6アルケニル基 、 C2- C6アルキニル基、 C卜 C6ハロアルキル基、 C1-C6アルキルチオ基又は CI- C6ハ ロアルキルチオ基であり、 R2、 R3、 R6、 R7、 R8及び R9が水素原子である N— ( α—シァノベンジル） アミド化合物。
式 （1 ) において、 R1がハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 C2-C6アルケニル基、 C2 - C6アルキニル基、 U-C6ハロアルキル基、 Π- C6アルキルチオ基又は CI- C6ハロ アルキルチオ基であり、 ： R 2が水素原子、 ハロゲン原子又は C1-C6アルキル基、 R3 、 R6、 R7、 R8及び R9が水素原子である Ν— —シァノベンジル） アミド化合 物。
式（5 0 ) において、 R5 1がノヽロゲン原子、 C卜 C4アルキル基、 C卜 C4アルコキシ 基又は CI- C4ハロアルキル基であり、 R5 2が水素原子である N— (ひ—シァノベン ジル) アミド化合物。
式 （5 0 ) において、 R5 1及び R5 2が、 同一又は相異なりハロゲン原子、 C1-C4 アルキル基、 CI- C4アルコキシ基又は - C4ハロアルキル基である Ν （《〜シァ ノベンジル） アミド化合物。 次に、 本発明化合物の製造法について説明する。
式 （1 ) で示される本発明化合物は例えば以下の （製造法 Α)、 （製造法 Β) 又 は （製造法 C) にしたがって製造することができる。
(製造法 Α)
本発明化合物は、 式 （2 ) で示される化合物 （又はその塩酸塩等の塩） と式 （
3 ) で示さ ήる化合物とを反応させることにより製造することができる。
Figure imgf000028_0001
〔式中、 R R2、 R3、 R4、 R R6、 \ R8、 R9、 R10, R11及び R12は 前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、 通常溶媒の存在下、 通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば 1， 4一ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレングリコ一ルジメチルエーテル、 t e r t—ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルェ ン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類 、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセ卜二トリル、 プチロニトリル等 の二トリル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホ キシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 トリェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1， 8—ジァザビシ クロ [5. 4. 0] ゥンデックー 7—ェン、 1， 5—ジァザビシクロ [4. 3. 0] ノン一 5—ェン等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4ージメチルァミノピリ ジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に際して、 式 （3) で示される化合物 1モルに対して、 塩基が通常 1〜1 0モルの割 、 式 （2) で示される化合物が通常 1〜 5モルの割合で用いられる 該反応の反応温度は、 通常一 20〜 1 00 Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、
(i) 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を必要に応じて酸性水 (希塩酸等)、 塩基性水 （炭酸水素ナトリウム水溶液等） で洗浄してから、 乾燥、 濃縮する、 又は ( i i ) 反応混合物に少量の水を加えてから減圧下濃縮し、 得られた固体を濾集 する
等の操作を行うことにより、 式 （1 ) で示される化合物を単離することができる 。 単離された式 （1 ) で示される化合物は、 クロマトグラフィー、 再結晶等の操 作によりさらに精製することもできる。
(製造法 B)
本発明化合物のうち R6が CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3-C4アル キニル基である式 （1 一 2 ) で示される化合物は、 式 （4 ) で示される化合物と 式 （5 ) で示される化合物とを反応させることによつても製造することができる
Figure imgf000029_0001
〔式中、 R6- 1は CI- C4アルキル基、 C3-C4アルケニル基又は C3- C4アルキニル基を表 し、 L 1はハロゲン原子、 メタンスルホニルォキシ基、 トリフルォロメタンスルホ. ニルォキシ基又は p—トルエンスルホニルォキシ基を表し、 R K R R4 、 R5、 R7、 Rs、 R9、 R 1 Q、 ； R 1 1及び R1 2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、 通常溶媒の存在下、 通常塩基の存在下で行われる。
反応に用 られる溶媒としては、 例えば 1 , 4一ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレングリコ一ルジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルェ ン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類 、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 プチロニトリル等 の二トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホ キシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、 トリエ チルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1， 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0] ゥンデックー 7—ェン、 1, 5—ジァザビシクロ [4. 3. 0] ノン一 5— ェン等の第 3級アミン類及びピリジン、 4一ジメチルァミノピリジン等の含窒素 芳香族化合物が挙げられる。
反応に際して、 式 （4) で示される化合物 1モルに対して、 塩基が通常 1〜1 0モルの割合、 式 （5) で示される化合物が通常 1~5モルの割合で用いられる 該反応の反応温度は、 通常一 20〜10 の範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を必要に応 じて酸性水 （希塩酸等)、 塩基性水 （炭酸水素ナトリウム水溶液等） で洗浄してか ら、 乾燥、 濃縮する等の操作を行うことにより、 式 （1— 2) で示される化合物 を単離することができる。 単離された式 （1— 2) で示される化合物は、 クロマ トグラフィー、 再結晶等の操作によりさらに精製することもでき
(製造法 C)
本発明化合物は、 式 （2) で示される化合物 （又はその塩酸塩等の塩） と式 （ 6 ) で示される化合物とを反応させることにより製造することもできる。
Figure imgf000030_0001
〔式中、 R R2、 R3、 R4、 R5、 Rs、 R7、 Rs、 R9、 R'fl、 R 及び R'2は 前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、 脱水縮合剤の存在下で、 通常溶媒の存在下に行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば N, N—ジメチルホルムアミド等の酸ァ ミド類、 ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、 ピリジン、 キノリン等の含 窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、 1—ェチルー 3— ( 3—ジメチルアミ ノプロピル） カルポジイミド塩酸塩 （以下、 WS Cと記す。）、 1， 3—ジシクロ へキシルカルポジイミド等のカルポジイミド類があげられる。
反応に際して、 式 （6 ) で示される化合物 1モルに対して、 式 （2 ) で示され る化合物が通常 1〜 3モルの割合であり、 脱水縮合剤が通常 1〜 5モルの割合で 用いられる。
該反応の反応温度は、 通常 0〜 1 4 0 :の範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1 〜 2 4時間の範囲である。
反応終了後は、
( i ) 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を必要に応じて酸性水 (希塩酸等)、 塩基性水 （炭酸水素ナトリウム水溶液等） で洗浄してから、 乾燥、 濃縮する、 又は
( i i ) 反応混合物に少量の水を加えてから減圧下濃縮し、 得られた固体を濾集 する '
等の操作を行うことにより、 式 （1 ) で示される化合物を単離することができる 。 単離された式 （1 ) で示される化合物は、 クロマトグラフィー、 再結晶等の操 作によりさらに精製することもできる。 . 次に、 本発明化合物の中間体の製造法について参考製造法で説明する。
参考製造法
式 （3 ) で示される化合物及び式 （6 ) で示される化合物は、 例えば下記のス キームに従って製造することができる。
Figure imgf000032_0001
〔式中、 R2 °は C卜 C6アルキル基 （メチル基、 ェチル基及びプロピル基等） を表し 、 はベンジル基又はメトキシメチル基を表し、 L3及び L4は各々が独立してハ ロゲン原子、 メタンスルホニルォキシ基、 トリフルォロメタンスルホニルォキシ 基又は p—トルエンスルホニルォキシ基を表し、 R4、 R5、 R7、 R8、 R9、 R1 0 、 Ru及び R1 2は前記と同じ意味を表す。〕 工程 （I 一 1 )
式 （9 ) で示される化合物は、 式 （7 ) で示される化合物と式 （8 ) で示され る化合物と ¾反応させることにより製造することができる。
該反応は、 通常塩基の存在下で行われる。
反応に際し、 溶媒を用いる場合に用いられる溶媒としては、 例えば 1， 4ージ ォキサン、 テトラヒドロフラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t 一ブチルメチルエーテル等のェ一テル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の 脂肪族炭化水素類、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン 等のハロゲン化炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニ トリル、 ブチロニトリル等の二トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸 アミド類、 ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げ られる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム等のアルカリ金属水素物、 トリェチ ルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1, 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0 ] ゥンデック一 7—ェン、 1, 5—ジァザビシクロ [4. 3. 0] ノン一 5—ェ ン等の第 3級アミン類及びピリジン、 4一ジメチルァミノピリジン等の含窒素芳 香族化合物が挙げられる。
反応に際し、 式 （7) で示される化合物 1モルに対して塩基が通常 1〜50モ ルの割合、 式 （8) で示される化合物が通常 1〜 5モルの割合で用いられる。 該反応の反応温度は、 通常 0〜100 の範囲であり、 反応時間は通常 0. 1 〜24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を乾燥、 濃 縮する等の操作を行うことにより、 式 （9) で示される化合物を単離することが できる。 単離された式 （9) で示される化合物は、 クロマトグラフィー、 再結晶 等の操作によりさらに精製することもできる。 '
なお、 式 （ 7) で示される化合物は例えば T e t r a e d r on Le t t e r s， vo l. 36， No. 51， pp.9369— 9372， 1995に記載 された化合物であるか又は該文献に記載された方法に準じて製造することができ る化合物である。 工程 （卜 2 )
(A) R 21がベンジル基である場合
式 （10) で示される化合物は、 水素化触媒の存在下、 式 （9) で示される化. 合物と水素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は水素雰囲気下、 通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えばメタノール、 エタノール、 プロパノ一 ル等のアルコール類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 テトラヒドロフ ラン、 1， 4一ジォキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。 反応に用いられる水素化触媒としては、 例えばパラジウム炭素、 水酸化パラジゥ ム、 ラネ一ニッケル、 酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
反応に際し、 式 （9) で示される化合物 1モルに対して水素化触媒が通常 0. 001〜0. 5モルの割合で用いられる。 反応は、 さらに必要に応じて酸 （塩酸 等） を加えて行うこともできる。 その際、 式 （9) で示される化合物 1モルに対 して、 酸が通常 0. 01モル〜過剰量の割合で用いられる。 4 008397
32
該反応は、 通常 1〜1 0 0気圧の水素雰囲気下で行われる。 該反応の反応温度 は通常一 2 0〜 1 0 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1〜 2 4時間の範囲 である。
反応終了後は、 反応混合物を濾過し、 濾液を有機溶媒抽出して、 得られた有機 層を乾燥、 濃縮する等の操作を行うことにより、 式 （1 0 ) で示される化合物を 単離することができる。 単離された式 （1 0 ) で示される化合物はクロマトダラ フィ一、 再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
(B ) R2 1がメトキシメチル基である場合
式 （1 0 ) で示される化合物は、 式 （9 ) で示される化合物を酸の存在下で水 と反応させることにより製造することができる。
狭反応は通常有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、 例えば 1 , 4一ジォキサン、 テトラヒド 口フラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t —ブチルメチルエー テル等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 ト ルェン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水 素類、 酢酸ェチル、 酢酸プチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 プチロニトリ ル等の二トリル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルス ルホキシド等のスルホキシド類、 メタノール、 エタノール、 プロパノ一ル等のァ ルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、 例えば塩酸、 硫酸等の無機酸、 p—トルエンス ルホン酸、 メタンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
反応に際し、 式 （9 ) で示される化合物 1モルに対して、 酸が通常 0 . 1〜1 0モルの割合、 水は通常 3モル〜過剰量の割合で用いる。
該反応の反応温度は、 通常 0〜1 0 O t:の範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1 〜 2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を有機溶媒抽出し、 有機層を乾燥、 濃縮する等の操 作を行うことにより、 式 （1 0 ) で示される化合物を単離することができる。 単 離された式 （1 0 ) で示される化合物はクロマトグラフィー、 再結晶等の操作に よりさらに精製することもできる。 工程 （ I 一 3 )
式 （1 2 ) で示される化合物は、 式 （1 0 ) で示される化合物と式 （1 1 ) で 示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、 通常塩基の存在下で行われる。 反応に際し、 溶媒を用いる場合に用いられる溶媒としては、 例えば 1， 4ージ ォキサン、 テトラヒドロフラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の 脂肪族炭化水素類、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン 等のハロゲン化炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニ トリル、 プチロニトリル等の二トリル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸 アミド類、 ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げ られる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 トリェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1， 8—ジァザビシ クロ [ 5 . 4. 0 ] ゥンデック一 7—ェン、 1， 5—ジァザビシクロ [ 4. 3 . 0 ] ノン一 5—ェン等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4ージメチルァミノピリ ジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に際し、 式 （1 0 ) で示される化合物 1モルに対して塩基が通常 1〜5 0 モルの割合、 式 （1 1 ) で示される化合物が通常 1〜5モルの割合で用いられる 該反応の反応温度は、 通常 0〜1 0 の範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1 〜 2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えてから濾過し、 濾液 を濃縮する等の操作を行うことにより、 式 （1 2 ) で示される化合物を単離する ことができる。 単離された式 （1 2 ) で示される化合物は、 蒸留、 クロマトダラ フィ一、 再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。 工程 （I 一 4 )
式 （6 ) で示される化合物は式 （1 2 ) で示される化合物を塩基の存在下で、 水と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常、 有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用 られる有機溶媒としては、 例えば 1， 4—ジォキサン、 テトラヒド 口フラン、 エチレンダリコールジメチルエーテル、 t e r t 一ブチルメチルエー テル等のェ一テル類、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口べンゼ ン等のハロゲン化炭化水素類、 ァセ卜二トリル、 プチロニトリル等の二トリル類 、 メタノール、 エタノール、 プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物 が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば水酸化リチウム、 水酸化ナトリウム、 水酸化力リゥム等のアル力リ金属水酸化物が挙げられる。 反応に際し、 式 （1 2 ) で示される化合物 1モルに対して、 塩基が通常 1〜1 0モルの割合、 水は通常 1モル〜過剰量の割合で用いられる。
該反応の反応温度は、 通常 0〜1 5 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1 〜 2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物に酸性水 （塩酸等） を加えて有機溶媒抽出し、 有機 層を乾燥、 濃縮する等の操作を行うことにより、 式 （6 ) で示される化合物を単 離することができる。 単離された式 （6 ) で示される化合物は、 クロマトグラフ ィ一、 再結晶等によりさらに精製することもできるが、 そのまま次の工程に用い ることもできる。 工程 （I 一 5 )
( 3 ) で示される化合物は、 式 （6 ) で示される化合物と塩素化剤とを反応 させることにより製造することができる。
反応に際し、 溶媒を用いる場合に用いられる溶媒としては、 例えば 1 , 4—ジ ォキサン、 テトラヒドロフラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t —ブチルメチルエーテル等のェ一テル類、 へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭化 水素類、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲ ン化炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤としては、 例えば塩化チォニル、 塩化ォキサリル及 びォキシ塩化リンが挙げられる。
反応に際し、 式 （6 ) で示される化合物 1モルに対して、 塩素化剤が通常 1〜 1 0 0モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常 3 0〜 1 5 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1 〜2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物をそのまま濃縮する等の操作を行うことにより、 式 ( 3 ) で示される化合物を単離することができる。 単離された式 （3 ) で示され る化合物は通常精製することなく次の工程の反応に用いられる。 式 （6 ) で示される化合物のうち R7が水素原子である式 （6— 2 ) で示される 化合物及び、 式 （3 ) で示される化合物のうち R7が水素原子である式 （3— 2 ) で示される化合物は、 例えば下記のスキームに従って製造することもできる。
Figure imgf000037_0001
Figure imgf000037_0002
工程 （ I I一 1 )
式 （15) で示される化合物は、 式 （13) で示される化合物と式 （14) で 示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、 通常塩基の存在下で行われる。
反応に際し、 溶媒を用いる場合に用いられる溶媒としては、 例えば 1, 4—ジ ォキサン、 テトラヒドロフラン、 エチレングリコールジメチルェ一テル、 t e r t—ブチルメチルエーテル等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の 脂肪族炭化水素類、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン 等のハロゲン化炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニ トリル、 プチロニトリル等の二トリル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸 アミド類、 ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げ られる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム等のアルカリ金属水素物、 卜リエチ ルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1， 8—ジァザビシクロ [ 5 . 4 . 0 ] ゥンデック一 7—ェン、 1 , 5—ジァザビシクロ [ 4. 3 . 0 ] ノン一 5—ェ ン等の第 3級アミン類及びピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン等の含窒素芳 香族化合物が挙げられる。
反応に際し、 式 （1 3 ) で示される化合物 1モルに対して塩基が通常 1〜5 0 モルの割合、 式 （1 4 ) で示される化合物が通常 1〜 5モルの割合で用いられる 該反応の反応温度は、 通常 0〜ュ 0 0 °Cの範囲であり， 反応時間は通常 0 . 1 〜 2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を乾燥、 濃 縮する等の操作を行うことにより、 式 （1 5 ) で示される化合物を単離すること ができる。 単離された式 （1 5 ) で示される化合物は、 クロ トグラフィー、 再 結晶等の操作によりさらに精製することもできる。 工程 （ I I 一 2 ) . 式 （1 6 ) で示される化合物は、 式 （1 5 ) で示される化合物と式 （1 6 ) で 示される化合物を反応させることにより製造することができる。
該反応は、 溶媒の存在下、 塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば 1 , 4一ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルェ ン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類 、、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホキシド等のス ルホキシド類、 水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム等のアルカリ金属水素物、 ナトリウ ムメトキシド、 ナトリウムエトキシド、 カリウム夕一シャリーブトキシド等の金 属アルコキシドが挙げられる。
反応に際し、 式 （1 5) で示される化合物 1モルに対して塩基が通常 1〜 50 モルの割合、 式 （ 16 ) で示される化合物が通常 1〜 5モルの割合で用いられる 該反応の反応温度は、 通常一 20~100°Cの範囲であり、 反応時間は通常 0. ；!〜 24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を乾燥、 濃 縮する等の操作を行うことにより、 式 （1 7) で示される化合物を単離すること ができる。 単離された式 （17) で示される化合物は、 クロマトグラフィー、 再 結晶等の操作によりさらに精製することもできる。 工程 （I I一 3 )
式 （18) で示される化合物は、 水素化触媒の存在下、 式 （1 7) で示される 化合物と水素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は水素雰囲気下、 通常溶媒の存在下で行われる。 '
反応に用いられる溶媒としては、 例えばメタノール、 エタノール、 プロパノ一 ル等のアルコール類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 テトラヒドロフ ラン、 1， 4—ジォキサン等のェ一テル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒としては、 例えばパラジウム炭素、 水酸化パラジ ゥム、 ラネーニッケル、 酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
反応に際し、 式 （1 7) で示される化合物 1モルに対して水素化触媒が通常 0 . 001〜0. 5モルの割合で用いられる。 反応は、 さらに必要に応じて酸 （塩 酸等） を加えて行うこともできる。 その際、 式 （17) で示される化合物 1モル. に対して、 酸が通常 0. 01モル〜過剰量の割合で用いられる。
該反応は、 通常 1~100気圧の水素雰囲気下で行われる。 該反応の反応温度 は通常一 20〜： L 00 の範囲であり、 反応時間は通常 0. 1〜 24時間の範囲 である。 '
反応終了後は、 反応混合物を濾過し、 濾液を有機溶媒抽出して、 得られた有機 層を乾燥、 濃縮する等の操作を行うことにより、 式 （1 8) で示される化合物を 単離することができる。 単離された式 （18) で示される化合物はクロマトダラ フィ一、 再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。 工程 （ I I—4)
式 （20) で示される化合物は、 式 （18) で示される化合物と式 （1 9) で 示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、 通常塩基の存在下で行われる。
反応に際し、 溶媒を用いる場合の溶媒としては、 例えば 1， 4一ジォキサン、 テトラヒドロフラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t —ブチル メチルエーテル等のェ一テル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化 水素類、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲ ン化炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 ブ チロニトリル等の二トリル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。 反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 トリェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1 , 8—ジァザビシ クロ [ 5 . 4. 0 ] ゥンデックー 7—ェン、 1， 5—ジァザビシクロ [ 4. 3 . 0 ] ノン一 5—ェン等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4—ジメチルァミノピリ ジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、 式 （1 8 ) で示される化合物 1モルに対して塩基 が通常 1〜5 0モルの割合、 式 （1 9 ) で示される化合物が通常 1〜 5モルの割 合である。
該反応の反応温度は、 通常 0〜1 0 0での範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1 〜 2 4時間の範囲である。 ,
反応終了後は、 反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えてから濾過し、 濾液 を濃縮する等の操作を行うことにより、 式 （2 0 ) で示される化合物を単離する ことができる。 単離された式 （2 0 ) で示される化合物は、 蒸留、 クロマトグラ フィ一、 再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。 工程 （I I 一 5 )
式 （6— 2 ) で示される化合物は式 （2 0 ) で示される化合物を塩基の存在下 で、 水と反応させることにより製造することができる。
該反応は 常有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、 例えば 1， 4—ジォキサン、 テトラヒド 口フラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t —ブチルメチルエー テル等のエーテル類、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口べンゼ ン等のハロゲン化炭化水素類、 ァセトニトリル、 プチロニトリル等の二トリル類 、 メタノール、 エタノール、 プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物 が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば水酸化リチウム、 水酸化ナトリウム、 Z酸化力リゥム等のアル力リ金属水酸化物が挙げられる。
反応に際し、 式 （20) で示される化合物 1モルに対して塩基が通常 1〜10 モルの割合、 水が通常 1モル〜過剰量の割合で用いられる。
該反応の反応温度は、 通常 0〜150 の範囲であり、 反応時間は通常 0. 1 〜 24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物に酸性水 （塩酸等） を加えて有機溶媒抽出し、 有機 層を乾燥、 濃縮する等の操作を行うことにより、 式 （6— 2) で示される化合物 を単離することができる。 単離された式 （6— 2) で示される化合物は、 クロマ トグラフィー、 再結晶等によりさらに精製することもできるが、 そのまま次のェ 程に用いることもできる。 工程 （I I一 6)
式 （3— 2) で示される化合物は、 式 （6— 2) で示される化合物と塩素化剤 とを反応させることにより製造することができる。
反応に際し、 溶媒を用いる場合は溶媒としては、 例えば 1， 4一ジォキサン、 テトラヒドロフラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一プチル メチルエーテル等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、 ト ルェン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水 素類及びこれらの混合物が挙げられる。 .
反応に用いられる塩素化剤としては、 例えば塩化チォニル、 塩化ォキサリル及 びォキシ塩化リンが挙げられる。
反応に際し、 式 （6— 2) で示される化合物 1モルに対して、 塩素化剤が通常 1〜100モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常 30〜150°Cの範囲であり、 反応時間は通常 0. 1. 〜24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物をそのまま濃縮する等の操作を行うことにより、 式 (3-2) で示される化合物を単離することができる。 単離された式 （3— 2) で示される 合物は通常精製することなく次の工程の反応に用いられる。 式 （6) で示される化合物のうち R8が水素原子である式 （6-3) で示される 化合物及び、 式 （3) で示される化合物のうち R8が水素原子である式 （3-3) で示される化合物は、 例えば下記のスキームに従って製造することもできる。
Figure imgf000042_0001
〔式中、 R4、 R5、 R7、 R2fl、 R14、 L4、 Rl\ R11及び R12は前記と同じ意味 を表す。〕 工程 （ I I I— 1 )
式 （23) で示される化合物は、 式 （21) で示される化合物と式 (22) で 示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、 酸無水物の存在下で行われる。
反応に用いられる酸無水物としては、
(R7 CH2 CO) 20
〔式中、 R7は前記と同じ意味を表す。〕 で示される酸無水物 （例えば、 無水酢酸、 無水プロピオン酸、 無水酪酸など） が 用いられる。
反応に際し、 式 （2 1 ) で示される化合物 1モルに対して酸無水物が通常 1〜 5モルの割合、 式 （2 2 ) で示される化合物が通常 1 ~ 5モルの割合で用いられ る。
該反応の反応温度は、 通常 1 0 0〜2 0 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 1 〜 2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を乾燥、 濃 縮する等の操作を行うことにより、 式 （2 3 ) で示される化合物を単離すること ができる。 単離された式 （2 3 ) で示される化合物は、 クロマトグラフィー、 再 結晶等の操作によりさらに精製することもできる。 工程 （I I I一 2 )
式 （2 5 ) で示される化合物は、 式 （2 3 ) で示される化合物と式 （2 4 ) で 示される化合物を反応させることにより製造することができる。
該反応は通常、 酸触媒の存在下で行われる。 '
反応に用いられる酸としては、 例えば塩化水素、 臭化水素等のノ、ロゲン化水素 類、 硫酸等の鉱酸類及びメタンスルホン酸、 パラトルエンスルホン酸等のスルホ ン酸類が挙げられる。 .
反応に際し、 式 （2 3 ) .で示される化合物 1モルに対して式 （2 4 ) で示され る化合物が通常 3モル〜過剰量の割合、 酸が通常 0 . 0 0 1〜 0 . 2モルの割合 で用いられる。
該反応の反応温度は、 通常 5 0〜1 5 0 Cの範囲であり、 反応時間は通常 1〜 2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を乾燥、 濃 縮する等の操作を行うことにより、 式 （2 5 ) で示される化合物を単離すること ができる。 単離された式 （2 5 ) で示される化合物は、 クロマトグラフィー、 再 結晶等の操^によりさらに精製することもできる。 又は、 反応混合物を減圧下で 濃縮し粗生成物を得て、 そのまま次の工程で使用することもできる。
なお、 該反応においては酸触媒の代わりに酸塩化物 （塩化ァセチル等） を用い て反応を行うこともできる。 工程 （I I I— 3 )
式 （2 6 ) で示される化合物は、 水素化触媒の存在下、 式 （2 5 ) で示される 化合物と水素とを反応させることにより製造することができる。 該反応は水素雰囲気下、 通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えばメタノール、 エタノール、 プロパノー ル等のアルコール類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 テトラヒドロフ ラン、 1， 4一ジォキサン等のエーテル類及ぴこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒としては、 例えばパラジウム炭素、 水酸化パラジ ゥム、 ラネ一ニッケル、 酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
反応に際し、 式 （2 5 ) で示される化合物 1モルに対して水素化触媒が通常 0 . 0 0 1〜0 . 5モルの割合で用いられる。 反応は、 さらに必要に応じて酸 （塩 酸等） を加えて行うこともできる。 その際、 式 （2 5 ) で示される化合物 1モル に対して、 酸が通常 0 . 0 1モル〜過剰量の割合で用いられる。
該反応は、 通常 1〜1 0 0気圧の水素雰囲気下で行われる。 該反応の反応温度 は通常— 2 0〜1 0 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1〜2 4時間の範囲 である。
反応終了後は、 反応混合物を濾過し、 濾液を有機溶媒抽出して、 得られた有機 層を乾燥、 濃縮する等の操作を行うことにより、 式 （2 6 ) で示される化合物を 単離することができる。 単離された式 （2 6 ) で示される化合物はクロマトダラ フィ一、 再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。 工程 （I I I— 4 ) .
式 （2 8 ) で示される化合物は、 式 （2 6 ) で示される化合物と式 （2 7 ) で 示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、 通常塩基の存在下で行われる。
反応に際し、 溶媒を用いる場合の溶媒としては、 例えば 1 , 4一ジォキサン、 テトラヒドロフラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t -プチル. メチルェ一テル等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化 水素類、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等の八ロゲ ン化炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 ブ チロニトリル等の二トリル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。 反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 トリエヂルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1， 8—ジァザビシ クロ [ 5 . 4. 0 ] ゥンデック一 7—ェン、 1， 5—ジァザビシクロ [ 4. 3 . 0 ] ノン一 5—ェン等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4—ジメチルァミノピリ ジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に際し、 式 （2 6 ) で示される化合物 1モルに対して塩基が通常 1〜5 0 モルの割合、 式 （2 7 ) で示される化合物が通常 1〜5モルの割合で用いられる 該反応の反応温度は、 通常 0〜1 0 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1 〜 2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えてから濾過し、 濾液 を濃縮する等の操作を行うことにより、 式 （2 8 ) で示される化合物を単離する ことができる。 単離された式 （2 8 ) で示される化合物は、 蒸留、 クロマトダラ フィ一、 再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。 工程 （ I I I一 5 )
式 （6— 3 ) で示される化合物は式 （2 8 ) で示される化合物を塩基の存在下 で、 水と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、 例えば 1， 4—ジォキサン、 テトラヒド 口フラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエー テル等のエーテル類、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口べンゼ ン等のハロゲン化炭化水素類、 ァセトニトリル、 プチロニトリル等の二トリル類 、 メタノール、 エタノール、 プロパノ一ル等のアルコール類及びこれらの混合物 が挙げられる。 .
反応に用いられる塩基としては、 例えば水酸化リチウム、 水酸化ナトリウム、 水酸化力リゥム等のアル力リ金属水酸化物が挙げられる。
反応に際し、 式 （2 8 ) で示される化合物 1モルに対して、 塩基が通常 1〜1 0モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、 通常 0〜1 5 0 の範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1. 〜 2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物に酸性水 （塩酸等） を加えて有機溶媒抽出し、 有機 層を乾燥、 濃縮する等の操作を行うことにより、 式 （6— 3 ) で示される化合物 を単離するととができる。 単離された式 （6— 3 ) で示される化合物は、 クロマ トグラフィー、 再結晶等によりさらに精製することもできるが、 そのまま次のェ 程に用いることもできる。 工程 （ I I I一 6 )
式 （3— 3 ) で示される化合物は、 式 （6— 3 ) で示される化合物と塩素化剤 とを反応させることにより製造することができる。
反応に際し、 溶媒を用いる場合の溶媒としては、 例えば 1， 4一ジォキサン、 テ卜ラヒドロフラン、 エチレングリコ一ルジメチルエーテル、 t e r t一プチル メチルエーテル等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、 ト ルェン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水 素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤としては、 例えば塩化チォニル、 塩化ォキサリル及 びォキシ塩化リンが挙げられる。
反応に際し、 式 （6— 3 ) で示される化合物 1モルに対して、 塩素化剤が通常 1〜1 0 0モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常 3 0〜 1 5 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1 〜 2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物をそのまま濃縮する等の操作を行うことにより、 式 ( 3— 3 ) で示される化合物を単離することができる。 単離された式 （3— 3 ) で示される化合物は通常精製することなく次の工程の反応に用いられる。 式 （3 ) で示される化合物は、 例えば式 （3 0 ) で示される化合物をシアン化 物、 アンモニゥム塩及び式 （3 1 ) で示される化合物と反応させることにより製 造することができる。
Figure imgf000046_0001
(30) (3)
〔式中、 R 1 R2、 R3、 R6及び R9は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、 通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えばメタノール、 エタノール、 イソプロパ ノール等のアルコール類、 水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用 られるシアン化合物としては、 例えばシアン化ナトリウム、 シアン 化カリウムが挙げられる。
反応に用いられるアンモニゥム塩としては、 例えば塩化アンモニゥム、 臭化ァ ンモニゥムが挙げられる。
反応に際し、 式 ( 3 0 ) で示される化合物 1モルに対して、 シアン化物が通常 1〜 5モルの割合、 アンモニゥム塩が通常 1〜 5モルの割合、 式 （3 1 ) で示さ れる化合物が通常 1〜 5 0モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常— 1 0〜 1 0 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 1〜 5 0時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えて抽出し、 有機層を 濃縮する等の操作を行うことにより、 式 （3) で示される化合物を単離すること ができるが、 塩酸と混合することで塩酸塩として取り出すこともできる。 また、 式 （3) で示される化合物は、 例えば Te t r a e d r on Le t t e r s, vo l. 25, No. 41， .4583-4586, 1984又は 米国特許 US 4041045号に記載された化合物であるか又はこれらの文献に 記載された方法に準じて製造することもできる。 本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、 例えば藻菌類による植物 病害が挙げられ、 具体的には例えば次の病害が挙げられる。
蔬菜類、 ダイコンのベと病 （Peronospora brassicae), ホウレンソゥのべと病 （P eronospora spinaciae)、 タバコのベと病 (Peronospora tabacina), ゥリ類のベ と炳 (Pseudoperonospora cubensis)¾ フドゥのべと 3丙 (Plasmopara viticola), リンゴ、 イチゴ、 ャクヨウニンジンの疫病 (Phytop thora cactorum), トマト、 キユウリの灰色疫病 (P yiophthora capsici), パイナップルの疫病 (Phytophiho ra cinnamomi)、 ジャガイモ、 トマトの疫病 (Phytophthora infestans), タバコ 、 ゾラマメ、 ネキの投病 (Phytophthora nicotianae var. nicotianae), ホウレ ンソゥの立枯病 (Pythiuin sp.)、 キユウリ苗立枯病 (Pythium aphanidermatum)、 コムギ褐色雪腐病 (Pythium sp.), タバコ苗立枯病 (Pythium defaaryanum), ダイ ズの Pythium rot (Pythium aphani derma turn, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum)。 本発明の植物病害防除組成物は本発明化合物と不活性な担体を含有している。 本発明の植物病害防除組成物は、 本発明化合物、 不活性な担体 （固体担体または 液体担体)、 必要に応じて界面活性剤及び Z又はその他の製剤用補助剤とを混合し 、 乳剤、 水¾剤、 顆粒水和剤、 フロアブル剤、 粉剤、 粒剤等の形態に製剤化され たものである。 これらの製剤は本発明化合物を通常 0. 1〜90重量％含有する 。
製剤化の際に用いられる固体担体としては、 例えば、 カオリンクレー、 アツ夕 パルジャイトクレー、 ベントナイト、 モンモリロナイト、 酸性白土、 パイロフィ ライト、 タルク、 珪藻土、 方解石等の鉱物、 トウモロコシ穂軸粉、 クルミ殻粉等 の天然有機物、 尿素等の合成有機物、 炭酸カルシウム、 硫酸アンモニゥム等の塩 類、 合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等が挙げ られ、 液体担体としては、 例えば、 キシレン、 アルキルベンゼン、 メチルナフタ レン等の芳香族炭化水素類、 2—プロパノ一ル、 エチレングリコール、 プロピレ ングリコール、 セロソルブ等のアルコ一ル類、 アセトン、 シクロへキサノン、 ィ ソホロン等のケトン類、 ダイズ油、 綿実油等の植物油、 脂肪族炭化水素類、 エス テル類、 ジメチルスルホキシド、 ァセトニトリル及び水が挙げられる。
界面活性剤としては、 例えば、 アルキル硫酸エステル塩、 アルキルァリ一ルス ルホン酸塩、 ジアルキルスルホコハク酸塩、 ポリオキシエチレンアルキルァリー ルエーテルリン酸エステル塩、 リグニンスルホン酸塩、 ナフタレンスルホネー卜 ホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアル ックコポリマ一、 ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤が挙げられ る。
その他の製剤用補助剤としては、 例えば、 ポリビニルアルコール、 ポリビエル ピロリドン等の水溶性高分子、 アラビアガム、 アルギン酸及びその塩、 C M C ( 力ルポキシメチルセルロース）、 ザンサンガム等の多糖類、 アルミニウムマグネシ ゥムシリケー卜、 アルミナゾル等の無機物、 防腐剤、 着色剤、 P A P (酸性リン 酸ィソプロピル〉、 B H T等の安定化剤が挙げられる。 本発明の植物病害防除組成物は、 例えば、 植物体に茎葉処理する ίとにより当 該植物を植物病害から保護するために用いられ、 また、 土壌に処理することによ り当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。
本発明の植物病害防除組成物を植物体に茎葉処理することにより用いる場合又 は土壌に処理することにより用いる場合、 その処理量は、 防除対象植物である作 物等の種類、 防除対象病害の種類、 防除対象病害の発生程度、 製剤形態、 処理時. 期、 気象条件等によって変化させ得るが、 1 0 0 0 0 m2あたり本発明化合物とし て通常 l〜5 0 0 0 g、 好ましくは 5〜1 0 0 0 gである。
乳剤、 水和剤、 フロアブル剤等は通常を水で希釈して散布することにより処理 する。 この: ¾合、 本発明化合物の濃度は通常 0 . 0 0 0 1〜3重量％、 好ましく は 0 . 0 0 0 5〜1重量％の範囲である。 粉剤、 粒剤等は通常希釈することなく そのまま処理する。
また、 本発明の植物病害防除組成物は種子消毒等の処理方法で用いることもで きる。 種子消毒の方法としては、 例えば、 本発明化合物の濃度が 1〜1 0 0 0 p p mとなるように調製した本発明の植物病害防除組成物に植物の種子を浸漬する 方法、 植物の種子に本発明化合物の濃度が 1〜 1 0 0 0 p p mの本発明の植物病 害防除組成物を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に粉剤に製剤化された 本発明の植物病害防除組成物を粉衣する方法があげられる。 本発明の植物病害防除方法は、 通常本発明の植物病害防除組成物の有効量を、 病害の発生が予測される植物又はその植物が生育する土壌に処理する、 及びノ又 は病害の発生が確認された植物又はその植物が生育する土壌に処理することによ り行われる。
本発明の植物病害防除組成物は通常、 農園芸用植物病害防除組成物、 即ち畑地 、 水田、 果樹園、 茶園、 牧草地、 芝生地等の植物病害を防除するための植物病害 防除組成物として用いられる。 本発明の植物病害防除組成物は他の殺菌剤、 殺虫剤、 殺ダニ剤、 殺線虫剤、 除 草剤、 植物生長調節剤及び Z又は肥料と共に用いることもできる。
かかる植物病害防除剤の有効成分としては、 例えば、 クロロタロニル、 フルァ ジナム、 ジクロフルアニド、 ホセチルー A 1、 環状イミド誘導体 （キヤブタン、 キヤプタホール、 フオルペット等）、 ジチォカーバメート誘導体 （マンネブ、 マン コゼブ、 チラム、 ジラム、 ジネブ、 プロピネブ等)、 無機もしくは有機の銅誘導体 (塩基性硫酸銅、 塩基性塩化銅、 水酸化銅、 ォキシン銅等)、 ァシルァラニン誘導 体 （メタラキシル、 フララキシル、 オフレース、 シプロフラン、 ベナラキシル、 ォキサジキシル等)、 スト口ビルリン系化合物 （クレソキシムメチル、 ァゾキシス トロピン、 トリフロキシストロピン、 ピコキシストロビン、 ピラク ΰストロビン 、 ジモキシスト口ビン等）、 ァニリノピリミジン誘導体 （シプロジニル、 ピリメタ ニル、 メパニピリム等）、 フエ二ルビロール誘導体 （フェンピクロニル、 フルジォ キソニル等)、 イミド誘導体 （プロシミドン、 ィプロジオン、 ビンクロゾリン等） 、 ベンズイミダゾール誘導体 （カルベンダジム、 べノミル、 チアベンダゾール、 チオファネートメチル等）、 ァミン誘導体 (フェンプロピモルフ、 トリデモルフ、 ' フェンプロビジン、 スピロキサミン等）、 ァゾール誘導体 （プロピコナゾール、 ト リアジメノール、 プロクロラズ、 ペンコナゾール、 テブコナゾ一ル、 フルシラゾ —ル、 ジニコナゾール、 ブロムコナゾール、 エポキシコナゾール、 ジフエノコナ ゾール、 シプロコナゾ一ル、 メトコナゾ一ル、 トリフルミゾ一ル、 テトラコナゾ ール、 マイクロブタニル、 フェンブコナゾール、 へキサコナゾール、 フルキンコ ナゾール、 トリティコナゾ一ル、 ビテル夕ノール、 イマザリル、 フルトリアホー ル等）、 シモキサニル、 ジメトモルフ、 ファモキサドン、 フエナミドン、 ィプロヴ アリカルブ、 ベンチアバリカルブ、 シァゾフアミド、 ゾキサミド、 エタポキサム 、 ボスカリド、 フェンへキサミド、 キノキシフェン、 プロキナジット、 ジェトフ ェンカルプ及びァシベンゾラール Sメチル、 グァザチン、 ペンチォピラドが挙げ られる < 本発明化合物の具体例としては、 以下の化合物が挙げられる。
式 (i) （L ii) で示される N— ( 一シァノベンジル） アミド化合物
Figure imgf000050_0001
Figure imgf000051_0001
(Xvii) (Xviii)
Figure imgf000051_0002
Figure imgf000052_0001
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(XLvii) (XLviii)
Figure imgf000053_0002
(Liii) (Liv)
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(LXXi) (LXXii) なお、 式 （i) 〜 （L i i) において、 Zは下記に示される基のいずれかを表す フエニル基、 4一フルオロフェニル基、 3—フルオロフェニル基、 2—フルォ 口フエニル基、 4一クロ口フエ二ル基、 3—クロ口フエ二ル基、 2—クロロフ ェニル基、 4一ブロモフエニル基、 3—ブロモフエニル基、 2—ブロモフエ二 ル基、 4一ョ一ドフエニル基、 3—ョードフエニル基、 2—ョ一ドフエニル基 、 4一メチルフエニル基、 3—メチルフエニル基、 2—メチルフエ二レ基、 4 一ェチルフエニル基、 3—ェチルフエニル基、 2—ェチルフエニル基、 4—プ 口ピルフエニル基、 3—プロピルフエニル基、 2—プロピルフエニル基、 4— イソプロピルフエニル基、 4一ブチルフエニル基、 3—ブチルフエニル基、 4 一 （s e c—プチル） フエニル基、 4一イソブチルフエニル基、 4一 ( t e r tーブチル） フエニル基、 4ーシクロプロピルフエニル基、 4ーシクロブチル フエニル基、 4—シクロペンチルフエ二ル基、 4—シクロへキシルフェニル基 、 3—フルオロー 4ーシクロプロピルフエニル基、 3—フルオロー 4ーシクロ ブチルフエニル基、 3—フルオロー 4ーシクロペンチルフエ二ル基、 3—フル オロー 4ーシクロへキシルフェニル基、 4一 （フルォロメチル） フエニル基、 4一 （ジフルォロメチル） フエニル基、 4— (トリフルォロメチル） フエニル 基、 4ーメトキシフエ二ル基、 4一エトキシフエニル基、 3 , 4—ジフルォロ フエニル基、 2 , 4—ジフルオロフェニル基、 4一クロロー 3—フルオロフェ ニル基、 4一クロロー 2—フルオロフェニル基、 4ーブロモー 3—フルオロフ ェニル基、 4—ブロモー 2—フルオロフェニル基、 3—フルオロー 4一メチル フエニル基、 2—フルオロー 4一メチルフエニリレ基、 4一ェチル—3—フルォ 口フエニル基、 4一ェチル一 2—フルオロフェニル基、 3—フルオロー 4一 ( トリフルォロメチル） フエニル基、 2—フルオロー 4一 （トリフルォロメチル ) フエニル基、 3—フルオロー 4ーメトキシフエ二ル基、 2—フルオロー 4— メトキシフエ二ル基、 4—フルオロー 3—クロ口フエ二ル基、 4一フルオロー 2—クロ口フエ二ル基、 3， 4—ジクロロフェニル基、 2， 4—ジクロロフエ ニル基、 4—ブロモ— 3—クロ口フエ二ル基、 4ーブロモー 2—クロ口フエ二 ル基、 3—クロ口— 4一メチルフエニル基、 2—クロ口 _ 4一メチルフエニル 基、 3—クロロー 4一ェチルフエニル基、 2—クロロー 4—ェチルフエ二ル¾ 、 3—クロ口一 4— (トリフルォロメチル） フエニル基、 2—クロ口一4— ( トリフルォロメチル） フエニル基、 3—クロ口— 4ーメトキシフエ二ル基、 2 一クロロー 4ーメトキシフエ二ル基、 3—ブロモ—4一フルオロフェニル基、 2—ブロモ— 4一フルオロフェニル基、 3—ブロモ _ 4一クロ口フエニル基、 2—ブロモ—4—クロ口フエ二ル基、 3 , 4—ジブロモフエニル基、 2 , 4一 ジブロモフエニル基、 3—ブロモ—4一メチルフエニル基、 2—ブロモ—4— メチルフエニル基、 3—プロモー 4 _ェチルフエニル基、 2—ブロモ—4ーェ チルフエニル基、 3—プロモー 4一 （トリフルォロメチル） フエニル基、 2— ブロモー 4— (トリフルォロメチル） フエニル基、 3—ブ口モー 4〜メトキシ フエニル基、 2—ブロモー 4—メトキシフエ二ル基、 4—フルォロ〜 3—メチ ルフエ二ル基、 4—フルオロー 2—メチルフエニル基、 4一クロロー 3—メチ ルフエ二ル基、 4一クロロー 2—メチルフエニル基、 4ーブロモー 3—メチル フエニル基、 4ーブロモー 2—メチルフエニル基、 3， 4—ジメチルフエ二ル< 基、 2， 4ージメチルフエニル基、 4ーェチルー 3—メチルフエニル基、 4一 ェチルー 2—メチルフエニル基、 3—メチル—4一 （トリフルォロメチル） フ ェニル基、 2—メチルー 4— (トリフルォロメチル） フエニル基、 4ーメトキ シ— 3—メチルフエニル基、 4ーメトキシー 2—メチルフエニル基、 3—ェチ ル—4一フルオロフェニル基、 2—ェチルー 4一フルオロフェニル基、 4—ク ロロ一 3—ェチルフエニル基、 4一クロロー 2—ェチルフエニル基、 4ーブロ モー 3—ェチルフエニル基、 4—ブロモ— 2—ェチルフエニル基、 3—ェチル —4一メチルフエニル基、 2—ェチル—4一メチルフエニル基、 3， 4—ジェ チルフエニソレ基、 2 , 4ージェチルフエニル基、 3—ェチルー 4一 （トリフル ォロメチル） フエニル基、 2—ェチル—4一 （トリフルォロメチル） フエニル 基、 3—ェチルー 4—メトキシフエニル基、 2—ェチルー 4ーメトキシフエ二 ル基、 2 , 3—ジフルオロフェニル基、 2 , 3—ジクロロフェニル基、 2， 3 一ジブロモフエ二ル基、 2 , 3—ジメチルフエニル基、 2 , 3—ジェチルフエ ニル基、 4一シァノフエニル基、 4—シァノー 3—メチルフエニル基、 4ーシ ァノ— 3—ェチルフエニル基、 4ーシァノー 3—フルオロフェニル基、 4ーシ ァノ一 3—クロ口フエ二ル基、 4—シァノー 3—ブロモフエニル基、 4一トリ フルォロメトキシフエ二ル基、 3—メチルー 4 _トリフルォロメ 'トキシフエ二 ル基、 3—ェチルー 4一トリフルォロメトキシフエ二ル基、 3—フルオロー 4 一トリフルォロメトキシフエ二ル基、 3 _クロロー 4一トリフルォロメトキシ フエニル基、 3—ブロモ—4一トリフルォロメトキシフエ二ル基、 4—ジフル ォロメトキシフエ二ル基、 3—メチルー 4ージフルォロメトキシフエ二ル基、 3—ェチル—4ージフルォロメトキシフエ二ル基、 3—フルオロー 4—ジフル ォロメトキシフエ二ル基、 3—クロロー 4ージフルォロメトキシフエ二ル基、 3—ブロモー 4—ジフルォロメトキシフエ二ル基、 4一フルォロメトキシフエ ニル基、 3—メチルー 4—フルォロメトキシフエ二ル基、 3一ェチル— 4ーフ ルォロメトキシフエ二ル基、 3—フルオロー 4—フルォロメトキシフエニル基 、 3—クロロー 4一フルォロメトキシフエ二ル基、 3—ブロモ一 4一フルォロ メトキシフエ二ル基、 4— ( 2 , 2， 2—トリフルォロエトキシ） フエニル基 、 ― ( 1， 1， 2 , 2—テトラフルォロエトキシ） フエニル基、 4 - ( 2 ~ フルォロエトキシ） フエニル基、 4ーメチルチオフエニル基、 3—メチル—4 ーメチルチオフエニル基、 3ーェチルー 4ーメチルチオフエニル基、 3—フル オロー 4ーメチルチオフエニル基、 3—クロロー 4ーメチルチオフエニル基、 3—ブロモー 4ーメチルチオフエニル基、 4一 （フルォロメチルチオ） フエ二 ル基、 4一 （ジフルォロメチルチオ） フエニル基、 4— (トリフルォロメチル チォ） フエニル基、 4一 ( 2 , 2 , 2—トリフルォロェチルチオ） フエニル基 、 4 - ( 1， 1 , 2 , 2—テトラフルォロェチルチオ) フエニル基、 4— ( 2 一フルォロェチルチオ） フエニル基、 4ージメチルァミノフエニル基、 3—メ チル— 4ージメチルァミノフエニル基、 3—ェチルー 4ージメチルァミノフエ ニル基、 3—フルオロー 4—ジメチルァミノフエニル基、 3—クロ口— 4ージ メチルァミノフエニル基、 3—プロモー 4—ジメチルァミノフエニル基、 4一 フエノキシフエニル基、 3—メチルー 4—フエノキシフエニル基、 3—ェチル 一 4一フエノキシフエニル基、 3—フルオロー 4一フエノキシフエニル基、 3 —クロ口一 4一フエノキシフエニル基、 3—ブロモ一4—フエノキシフエニル 基、 4—フエエルフェニル基、 4一 （2—フルオロフェニル） フエニル基、 4 一 （3—フルオロフェニル） フエニル基、 4一 （4一フルオロフェニル） フエ ニル基、 4— ( 3 , 4—ジフルオロフェニル） フエニル基、 4一 （2—クロル フエニル） フエニル基、 4一 （3—クロルフエニル） フエニル基、 4— ( 4— クロルフエニル） フエニル基、 4一 （3， 4—ジクロルフエニル） フエニル基 、 4 - ( 2—ブロモフエニル） フエニル基、 4 - ( 3—ブロモフエニル） フエ ニル基、 4一 （4一ブロモフエニル） フエニル基、 4一 （2—メチルフエニル ) フエニル基、 4一 （3—メチルフエニル） フエニル基、 4— ( 4〜メチルフ ェニル） フエニル基、 4一 （2—ェチルフエニル） フエニル基、 〜 （3—ェ チルフエニル） フエニル基、 4— ( 4一ェチルフエニル） フエニル基、 4— ( 2〜トリフルォロメチルフエニル） フエニル基、 4一 ( 3—トリフリレオロメチ ルフエニル） フエニル基、 4一 （4一トリフルォロメチルフエニル） フエニル 基、 4一 （2—メトキシフエ二ル） フエニル基、 4一 （3—メトキシフエ二ル ) フエニル基、 4一 （4—メトキシフエニル） フエニル基、 4一フエ二ルチオ フエニル基、 、 4一 （2—フルオロフェニルチオ） フエニル基、 4 - ( 3—フ ルオロフェニルチオ） フエニル基、 4一 （4—フルオロフェニルチオ） フエ二 ル基、 4 （3， 4ージフルオロフェニルチオ） フエニル基、 4一 （2〜クロ ルフエ二ルチオ） フエニル基、 4一 （3 _クロルフエ二ルチオ） フエニル基、 4 - ( 4一クロルフエ二ルチオ） フエニル基、 4— ( 3， 4—ジクロルフェニ ルチオ） フエニル基、 4 - ( 2—ブロモフエ二ルチオ） フエニル基、 4— ( 3 一プロモフエ二ルチオ） フエニル基、 4一 （4一ブロモフエ二ルチオ） フエ二 ル基、 4一 （2 _メチルフエ二ルチオ） フエニル基、 4一 （3—メチルフエ二 ルチオ） フエニル基、 4一 ( 4一メチルフエ二ルチオ) フエニル基、 4— ( 2 一ェチルフエ二ルチオ） フエニル基、 4一 （3—ェチルフエ二ルチオ） フエ二 ル基、 4一 （4一ェチルフエ二ルチオ） フエニル基、 4一 （2—トリフルォロ メチルフエ二ルチオ) フエニル基、 4一 ( 3—トリフルォロメチルフエニルチ ォ） フエニル基、 4一 （4一トリフルォロメチルフエ二ルチオ） フエニル基、 4 - ( 2—メトキシフエ二ルチオ) フエニル基、 4一 （3—メトキシフエ二ル チォ） フエニル基、 4一 （4ーメトキシフエ二ルチオ） フエニル基、 4一ベン ゾィルフエニル基、 4一 （2—フルォロベンゾィル） フエニル基、 4一 （3— フルォロベンゾィル) フエニル基、 4一 ( 4一フルォ口べンゾィル) フエニル 基、 4一 （3， 4ージフルォ口べンゾィル） フエニル基、 4一 （2—クロルべ ンゾィル） フエニル基、 4一 （3—クロルべンゾィル） フエニル基、 4一 （4 一クロルべンゾィル） フエニル基、 4— ( 3， 4ージクロルべンゾィル） フエ ニル基、 4一 （2—ブロモベンゾィル） フエニル基、 4一 （3—ブロモベンゾ ィル） フエニル基、 4一 （4—ブロモベンゾィル） フエニル基、 4一 （2—メ チルベンゾィル） フエニル基、 4一 （3—メチルベンゾィル） フエニル基、 4 ― ( 4—メチルベンゾィル) フエニル基、 4 - ( 2—ェチルベンゾィル) フエ ニル基、 4一 （3—ェチルベンゾィル） フエニル基、 4一 （4一ェチルベンゾ ィル） フエニル基、 4— ( 2—トリフルォロメチルベンゾィル） フエニル基、 4一 ( 3 -トリフルォロメチルベンゾィル) フエニル基、 4— ( 4一トリフル ォロメチルベンゾィル） フエニル基、 4一 （2—メトキシベンゾィル） フエ二 ル基、 4—ベンゾィルォキシフエニル基、 4一 （2—フルォ口べンゾィルォキ シ） フエニル基、 4— ( 3—フルォ口べンゾィルォキシ） フエニル基、 4— ( 4一フルォ口べンゾィルォキシ） フエニル基、 4一 ( 3 , 4ージフルォロベン ゾィルォキシ） フエニル基、 4 - ( 2—クロルべンゾィルォキシ） フエニル基 、 4 - ( 3—クロルべンゾィルォキシ) フエニル基、 4一 ( 4一クロルべンゾ ィルォキシ） フエニル基、 4一 （3 , 4—ジクロルべンゾィルォキシ） フエ二 ル基、 4一 （2—ブロモベンゾィルォキシ） フエニル基、 4一 （3—ブロモベ ンゾィルォキシ） フエニル基、 4一 （4一ブロモベンゾィルォキシ） フエニル 基、 4一 （2—メチルベンゾィルォキシ） フエニル基、 4— ( 3—メチルベン ゾィルォキシ） フエニル基、 4一 ( 4 _メチルベンゾィルォキシ) フエニル基 、 4一 （2—ェチルベンゾィルォキシ） フエニル基、 4— ( 3—ェチルベンゾ ィルォキシ） フエニル基、 4— ( 4一ェチルベンゾィルォキシ） フエニル基、 4一 （2—トリフルォロメチルベンゾィルォキシ） フエニル基、 4一 （3—ト Vフルォロメチルベンゾィルォキシ) フエニル基、 4 - ( 4 -トリフルォロメ チルベンゾィルォキシ) フエニル基、 4 - ( 2 _メトキシベンゾィルォキシ) フエニル基、 4— ( 3—メトキシベンゾィルォキシ） フエニル基、 4一 （4一 メ卜キシベンゾィルォキシ) フエニル基、 3ーメチルー 4一フエエルフェニル 基、 3一ェチル—4—フエニルフエニル基、 3—フルオロー 4一フエニルフエ ニル基、 3—クロロー 4—フエニルフエニル基、 3—ブロモ— 4—フエニルフ ェニル基、 4一 （トリメチルシリルェチェル） フエニル基、 4— (トリェチル シリルェチェル） フエニル基、 4一 （ヒドロキシメチル） フエニル基、 4— ( 1ーヒドロキシェチル） フエニル基、 4— (2—ヒドロキシェチル） フエニル 基、 4一 （3—ヒドロキシプロピル） フエニル基、 4— (ェトキシシァノメチ ル） フエニル基、 - (メトキシシァノメチル） フエニル基、 4一トリメチル シリルフエニル基、 4—トリェチルシリルフエニル基、 4一トリイソプロピル シリルフエニル基、 4一 （t e r t—プチルジメチルシリル） フエニル基、 ィ ンダン一 5—ィル基、 1一メチル—インダン— 5—ィル基、 2—メチルーイン ダン _ 5^ィル基、 3—メチルーインダン一 5 fル基、 1， 1一ジメチルー インダン— 5 Γル基、 2, 2—ジメチル—インダン— 5—ィル基、 3， 3— ジメチル一インダン一 5—ィル基、 1, 2， 3, 4—テトラヒドロナフタレン —6—ィル基、 1一メチル一 1, 2, 3, 4ーテトラヒドロナフタレン一 6— ィル基、 2—メチルー 1， 2， 3, 4ーテトラヒドロナフ夕レン一 6—ィル基 、 3—メチルー 1, 2， 3, 4—テトラヒドロナフタレン一 6—ィル基、 4— メチルー 1, 2, 3, 4ーテトラヒドロナフタレン- - 6ーィル基、 2， 2一 .ン メチルー 1， 2, 3, 4ーテトラヒドロナフタレン - - 6ーィル基、 3， 3 - .ン メチルー 1， 2, 3, 4ーテトラヒドロナフタレン - - 6ーィル基、 2, 3― .ン メチルー 1, 2, 3, 4ーテトラヒドロナフタレン - ― 6ーィル基'、 2, 2, 3
3—テトラメチル— 1, 2, 3, 4—テトラヒドロナフタレン _ 6—ィル基
、 6， 7, 8, 9—テトラヒドロ一 5 H—ベンゾシクロヘプテン— 2 _ィル基 、 5， 6， 7, 8, 9， 10—へキサヒドロ一ベンゾシクロォクテン一 2—ィ ル基、 2—ナフチル基、 5—フルォロナフタレン— 2—ィル基、 6—フルォロ ナフタレン一 2—ィル基、 7—フルォロナフタレン一 2—ィル基、 8—フルォ ロナフタレン一 2—ィル基、 5—クロロナフタレンー2—^ fル基、 6—クロ口 ナフタレン一 2—ィル基、 7—クロロナフタレン一 2—ィル基、 8—クロロナ フタレン一 2—ィル基、 5—プロモナフタレン _ 2—ィル基、 6—ブロモナフ タレン一 2—ィル基、 7—ブロモナフタレン一 2—ィル基、 8—ブロモナフ夕 レン一 2—ィル基、 5—メチルナフタレン一 2ーィル基、 6—メチルナフタレ ンー 2—ィル基、 7—メチルナフタレン一 2—ィル基、 8—メチルナフ夕レン 一 2—ィル基、 5—メトキシナフタレン一 2—ィル基、 6—メトキシナフタレ ンー 2ーィル基、 7—メトキシナフタレン— 2—ィル基、 8一メ卜キシナフタ レン一 2—ィル基、 5—トリフルォロメチルナフタレン一 2—ィル基、 6—ト リフルォロメチルナフタレン一 2—ィル基、 7—トリフルォロメチルナフタレ ンー 2—ィル基、 8—トリフルォロメチルナフタレン— 2—^ Γル基、 5, 6 - ジフルォロナフタレン一 2—ィル基、 5， 6—ジクロルナフタレン一 2—ィル 基、 5， 6—ジメチルナフタレン— 2—ィル基、 5—フルオロー 6—メチルナ フタレン一 2—ィル基、 6—フルオロー 5—メチルナフタレン一 2—ィル基、 5—クロル— 6—メチルナフタレン一 2—ィル基、 6—クロロー 5—メチルナ フタレン一 2—ィル基、 6—クロ口— 5—フルォロナフタレン一 2一^ Tル基及 び 5—クロロー 6—フルォロナフタレン一 2 Γル基。 以下、 本発明を製造例、 製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、 本発明は、 これらの例のみに限定されるものではない。 まず、 本発明化合物の製造例を示す。
製造例 1
2—アミノー 2— （4—クロ口フエ二ル） ァセトニトリル塩酸塩 8. 0 g、 ジ イソプロピルェチルァミン 17ml及びテトラヒドロフラン 1 50mlを混合し、 0 〜5°Cで 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピ オン酸塩化物 8. 3 gとテ卜ラヒドロフラン 30 mlとの混合物を加え、 室温で ί 時間撹拌した。 その後、 反応混合物を減圧下濃縮し、 水を加え、 酢酸ェチルで抽 出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水 で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカ ゲルカラム精製に付し、 Ν— { 1— (4—クロ口フエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン アミド （以下、 本発明化合物 1と記す。） 8. 6 gを得た。
Figure imgf000060_0001
1 H-NMR (CDClg, TMS) d (ppm)： 7.35-7.38 (2H, m)， 7.22-7.24 (2H, m), 6.94 (1H, d, J=7.8 Hz), 6.69-6.72 (2H, m), 6.08 (1H, d, J-8.5 Hz), 5.87 (1H, br.d, J=8.5 Hz), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.95 (2H, t, J=7. 3 Hz), 2.48-2.63 (3H, m)
製造例 2
N— { 1 - (4—クロ口フエニル） 一 1—シァノメチル } 一 3— {3—メトキ シー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド 2 g、 炭酸カリ ゥム 2 g、 プロパルギルブロミド lml及びァセトニトリル 3 Omlを混合し、 80 °Cで 30分間撹拌した。 その後、 室温付近まで放冷した反応混合物を濾過し、 得 られた濾液を減圧下濃縮し、 残渣をシリカゲルカラム精製に付し、 N— { 1— ( 1一 （4一クロ口フエニル） 一 1一シァノ一3—ブチュル } — 3— {3—メトキ シー 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明 化合物 2と記す。） 0. 6 gを得た。
Figure imgf000061_0001
^-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.33-7.35 (2H, m), 7.27-7.29 (2H, m) , 6.99 (1H， d, J=8.3 Hz), 6.72-6.75 (2H, m), 6.03 (1H, s), 4.76 (2H, d, J=2.4 H z)， 3.83 (3H, s), 2.92-2.97 (4H, m), 2.57-2.61 (2H, m), 2.50 (1H, t， J-2 .4 Hz), 2.21 (1H, t， J=2.7 Hz)
製造例 3
2—ァミノ— 2— （4一クロ口フエニル） ァセトニトリル塩酸塩 0. 5 g、 3 一 （3， 4—ジメトキシフエ二ル） プロピオン酸塩化物 0.' 61 g, WS C O. 59 g及びジメチルホルムアミド 10ml'を混合し、 80°Cで 3時間撹拌した。 そ の後、 室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、 水を加え、 酢酸ェチル で抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食 塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し 。 残渣をシ リカゲルカラム精製に付し、 N— { 1— (4—クロ口フエニル) 一 1—シァノメ チル } -3 - (3, 4—ジメトキシフエ二ル） プロピオンアミド （以下、 本発明 化合物 3と記す。） 0. 30 を得た。
Figure imgf000061_0002
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.34-7.37 (2H, m), 7.22-7.24 (2H, m), 6.76 (1H， d, J=8.5 Hz), 6.69-6.71 (2H, m), 6.09 (1H, d, J=8.5 Hz), 5.77 (1H, br.d), 3.85 (3H, s)， 3.84 (3H, s)， 2.95 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.47-2.63 (2H ， m)
製造例 4
2—アミノー 2—フエ二ルァセトニトリル塩酸塩 0. 33 g、 ジイソプロピル ェチルァミン 0. 88ml及びテトラヒドロフラン 10mlとを混合し、 0〜5°Cで 3 - { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸塩 化物 0. 5 0 gとテトラヒドロフラン 3mlの混合液を加え、 次いで室温で 1時間 撹拌した。 その後、 反応混合物を減圧下濃縮し、 水を加え、 酢酸ェチルで抽出し た。 有機層を 5 %塩酸、 水、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順 次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲル カラム精製に付し、 N— （1一フエ二ルー 1—シァノメチル） 一 3— {3—メト キシ— 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発 明化合物 4と記す。） 0. 3 9 gを得た。
Figure imgf000062_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.38-7.41 (3H, ffi), 7.31-7.34 (2H, m)， 6.95 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.70-6.73 (2H, m), 6.10 (1H， d， J=8.5 Hz), 5.80 (1H, br.d), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.83 (3H, s)， 2.96 (2H, t， J=7.3 Hz), 2.4 8-2.62 (3H, m)
製造例 5
2—ァミノ— 2— （4一メチルフエニル） ァセトニトリル塩酸塩 0. 40 g及 び 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 塩化物 50 gを用いて製造例 4と同様の操作を行い、 N— { 1 _ (4—メチ ルフエエル） — 1—シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシー 4— ('2—プロピニ ルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 5と記す。） 0. 5 4 gを得た。
Figure imgf000062_0002
^-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.19-7.23 (4H, m), 6.94 (1H, d, J=7.8 Hz), 6.70-6.72 (2H, m), 6.04 (1H, d, J=8. Hz), 5.75 (1H, br.d, J=8.2 Hz), 4. 73 (2H, d, J=2.2 Hz), 3.83 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.46-2.60 (3 H， m), 2.36 (3H, s)
製造例 6
2—ァミノ— 2— (3, 4ージクロ口フエニル） ァセトニトリル塩酸塩 0. 5 2 g及び 3— { 3—メトキシー 4一 (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} プロピ オン酸塩化物 0. 5 0 gを用いて製造例 4と同様の操作を行い、 N— { 1一 （3 ， 4ージクロ口フエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシ一 4一 ( 2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 6と 記す。） 0. 45 gを得た。
Figure imgf000063_0001
-腿 (CDC13， TMS) δ (卿）: 7.44-7.48 (2Η, m), 7.11 (1H, dd, J=8.5 Hz, 2.2 Hz), 6.94 (1H， d, J=7.8 Hz), 6.70-6.72 (2H, ), 6.10 (1H, d, J=8.7 H z), 5.93 (1H, br.d), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.83 (3H, s)， 2.95 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.49-2.60 (3H, m)
製造例 7
2—ァミノ一 2 _ (3—クロ口フエニル） ァセトニトリル塩酸塩 0. 52 g及 び 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 塩化物 50 gを用いて製造例 4と同様の操作を行い、 N— { 1 - (3—クロ 口フエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシ一 4一 （2—プロピニ ルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 7と記す。） 0. 4 5 gを得た。
Figure imgf000063_0002
1 H-NMR (CDC13, TMS) δ ( ριη)： 7.31-7.39 (3Η, m), 7.19 (IE, d， J=7.6 Hz), 6.95 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.70-6.72 (2H, m), 6.11 (1H， d, J=8.3 Hz), 5.87 (1H, br.d), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.83 (3H, s), 2.96 (2H, t， J=7.3 Hz) ， 2.48-2.63 (3H, i)
製造例 8
2—アミノー 2— (4ーメトキシフエニル) ァセトニトリル塩酸塩 0. 35 g 及び 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン 酸塩化物 0. 30 gを用いて製造例 4と同様の操作を行い、 N— { 1一 （4—メ トキシフエニル） ー 1一シァノメチル } — 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロ ピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 8と記す。） 0 . 24 gを得た。
Figure imgf000064_0001
Ή-NMR (CDClg, TMS) δ (ppm)： 7.28-7.30 (2H, m)， 6.92-6.95 (3H, m), 6.70- 7.00 (2H, 111), 6.00 (1H, d, J=8.0 Hz), 5.74 (1H, br.d), 4.73 (2H, d, J=2. 4 Hz), 3.83 (3H, s), 3.82 (3H, s)， 2.95 (2H, i, J=7. Hz), 2.48-2.50 (3H 製造例 9
2—アミノー 2— （4一ブロモフエニル） ァセトニトリル塩酸塩 0. 73 g及 び 3— { 3 ""メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 塩化物 0. 50 gを用いて製造例 4と同様の操作を行い、 N— { 1 - (4—プロ モフエニル） — 1—シァノメチル } 一 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニ ルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 9と記す。） 0. 6 7 gを得た。
Figure imgf000064_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.50-7.54 (2H， m), 7.15—7.17 (2H， m), 6.94 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.69-6.71 (2H, m)， 6.07 (1H, d， J=8. Hz), 5.92 (1H, br.d), 4.74 (2H, d, J=2.2 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.95 (2H, i， J=7.2 Hz), 2.4 7-2.62 (3H, m)
製造例 10
4一ェチルベンズアルデヒド 0. 53 g、 トリメチルシリルシアニド 0. 55 m 1及びヨウ化亜鉛 0. 03 gを混合し、 室温で 15分間撹拌した後、 ここに 10% アンモニアのメタノール溶液 lmlを加え、 40°Cで 2時間撹拌した。 室温まで放 冷した混合物を減圧下濃縮し、 得られた残渣にジィソプロピルェチルァミン 0. 68ml及びテトラヒドロフラン 1 Omlを加え、 ここに 3— {3—メトキシー 4一 (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸塩化物 0. 50 gとテトラヒ ドロフラン 3mlとの混合溶液を 0~5°Cで加え、 室温で 1時間撹拌した。 その後 、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 飽和 炭酸水素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾 燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム精製に付し、 N— { 1一 （ 4一ェチルフエニル) — 1一シァノメチル } — 3— { 3—メトキシー 4一 （2— プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 1 0と記 す。） 0. 7 3 gを得た。
Figure imgf000065_0001
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.20-7.25 (4H, m)， 6.94 (1H， d, J=7.8 Hz), 6.70-6.72 (2H, m)， 6.04 (1H， d, J=8.3 Hz), 5.83 (1H, br.d), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.96 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.66 (2H, q, J=7.6 Hz) , 2.46-2.58 (3H, m), 1.23 (3H, t, J=7.6 Hz)
製造例 1 1
2—ナフトアルデヒド 1. 24 g及び 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピ ニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸塩化物 1.. 0 gを用いて製造例 1 0と同様 の操作を行い、 N - { 1— (ナフタレン一 2—ィル） 一 1一シァノメチル } 一 3 一 { 3—メ卜キシ— 4一 (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド (以下、 本発明化合物 1 1と記す。） 0. 9 2 gを得た。 '
Figure imgf000065_0002
1 H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.84-7.91 (4H, m), 7.54-7.57 (2H, m), 7.26- 7.28 (1H, m)， 6.90 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.68-6.73 (2H, m), 6.27 (1H, d, J= 8.5 Hz), 5.88 (1H, br.d, J=8.5 Hz), 4.69 (2H， d, J=2.5 Hz), 3.81 (3H, s) , 2.97 (2H， t， J=7.5 Hz), 2.49-2.64 (2H, m), 2.46 (1H, t, J=2. Hz) 製造例 1 2
4一フルォロベンズアルデヒド 0. 49 g及び 3— { 3—メトキシー 4一 (2 一プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸塩化物 0. 5 0 gを用いて製造例 1 0と同様の操作を行い、 N— { 1 _ (4一フルオロフェニル） 一 1ーシァノメ チル } — 3— { 3—メ卜キシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピ オンアミド （以下、 本発明化合物 1 2と記す。） 0. 43 gを得た。
Figure imgf000065_0003
H-NMR (CDCL, TMS) δ (ppm)： 7.26-7.30 (2H, m), 7.06-7.11 (2H, m), 6.94 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.70-6.72 (2H, m), 6.08 (1H， d, J=8.2 Hz), 5.83 (1H, br.d), 4.73 (2H, d, J=2. Hz), 3.83 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.4 8-2.62 (3H， m)
製造例 1 3
4- (トリフルォロメチル） ベンズアルデヒド 0. 6 9 g及び 3— { 3 -メト キシー4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸塩化物 0. 5 0 g を用いて製造例 1 0と同様の操作を行い、 N— { 1 - (4—トリフルォロメチル フエニル） 一 1—シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニル ォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 1 3と記す。） 0. 4 3 gを得た。
Figure imgf000066_0001
-腿 (CDC13， TMS) δ (ppm) : 7.65-7.67 (2H, m), 7.41-7.43 (2H, m), 6.95 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.71-6.73 (2H, m)， 6.20 (ΪΗ, d， 1-8.5 Hz), 5.91 (IE, br.d), 4.74 (2H, d, J=2.2 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.96 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.4 8-2.65 (3H, m)
製造例 14
5， 6, 7, 8—テトラヒドロナフ夕レン一 2—力ルポアルデヒ'ド 0. 6 5 g 及び 3 _ { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン 酸塩化物 0. 5 0 gを用いて製造例 1 0と同様の操作を行い、 N— { 1 - (5, 6, 7, 8—テトラヒドロナフタレン一 2—ィル〉 一 1—シァノメチル } 〜 3— { 3—メ卜キシ一 4一 (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} プロピオンアミド ( 以下、 本発明化合物 14と記す。） 0. 2 7 gを得た。
Figure imgf000066_0002
Ή-N R (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.07—7.09 (2H, m)， 7.02 (IE, άά, J=8.0 Hz, 2.2 Hz), 6.95 (1H, d, J=7.8 Hz), 6.70-6.72 (2H， m), 5.89 (1H, d, J=8.3 z), 5.76 (1H, br.d, J=8.2 Hz), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 3.83 (3H, s), 2. 4 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.50-2.80 (4H, m), 2.49-2.58 (2H, m), 2.48 (1H, t， J=2.5 Hz), 1.77-1.80 (4H, m)
製造例 1 5 5, 6, 7, 8—テトラヒドロナフタレン一 2—力ルポアルデヒド 0. 65 g 及び 3— (3, 4—ジメトキシフエ二ル） プロピオン酸塩化物 0. 45 gを用い て製造例 10と同様の操作を行い、 N— { 1一 （5, 6, 7, 8—テトラヒドロ ナフタレン一 2—ィル） 一 1一シァノメチル } — 3— (3， 4ージメトキシフエ ニル） プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 1 5と記す。） 0. 21 gを得た。
Figure imgf000067_0001
- NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.00-7.08 (3H, m), 6.70-6.79 (3H, m)， 5.98 (1H, d， J=8. Hz), 5.74 (1H, br.d), 3.85 (3H, s), 3.84 (3H, s)， 2.94 (2H ， t, J=7.5 Hz), 2.74-2.75 (4H, m), 2.48-2.56 (2H， m), 1.77-1.81 (4H, m) 製造例 16
2—アミノー 2— (4—クロ口フエ二ル） ァセトニトリル塩酸塩 406mg、 3 - {3、 4一ビス （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 517m g及びピリジン 1 Oralを混合し、 この混合液に WS C 42 Omgを加え、 室温で 1. 5時間撹拌した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥 した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム精製に付し、 N— { 1一 （4 一クロ口フエニル） 一 1一シァノメチル } - 3 - ( 3, 4一ビス 〜プロピニ ルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 16と記す。） 25 4mgを得た。
Figure imgf000067_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.33-7.39 (2H, m), 7.20-7.25 (2H, m)， 6.95 (1H， d, J=8.2 Hz), 6.88 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.77 (1H， dd, J=1.9 Hz, 8.2 H z), 6.07 (1H, d, J=8.4 Hz), 5.84 (1H, br.d), 4.70-4.75 (4H, m), 2.95 (2H , t， 1=1.2 Hz), 2.44-2.65 (4H, m)
製造例 1 Ί
2—ァミノ— 2— (4—クロ口フエ二ル） ァセトニトリル塩酸塩 457mg、 トリェチルァミン 379m g及びテトラヒドロフランを混合し、 この混合液に 0 〜5°Cで 3— { 3一エトキシー 4― (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピ オン酸塩化物 40 Omgを加え、 室温で 1. 5時間撹拌した。 その後、 反応混合 物を減圧下濃縮し、 水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽和 炭酸水素ナトリウム水溶液、 水、 及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシゥ ムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム精製に付し、 N— { 1一 （4—クロ口フエニル） 一 1一シァノメチル } — 3— {3—エトキシー 4一 (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 1 7と記す。） 493mgを得た。
Figure imgf000068_0001
1 H-N R (CDClg, T S) δ ( pm)： 7.34-7.38 (2H, m)， 7.20-7.24 (2H, m), 6.95 (1H, d， J=8.0 Hz), 6.72 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.69 (1H， dd, J=1.9 Hz, 8.0 H z)， 6.08 (1H, d, J=8.4 Hz), 5.80 (1H, br.d), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.0 0-4.08 (2H， m), 2.93 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.46-2.65 (3H, m), 1.42 (3H, t， J=7.0 Hz)
製造例 18 '
製造例 1 6と同様の方法で 2—アミノー 2— (4—クロ口フエニル） ァセトニ トリル塩酸塩 305mg及び 3 _ {4—メトキシ— 3— （2—プロピニルォキシ ) フエ二ル} プロピオン酸 38 Omgから N— { 1 - (4—クロ口フエニル） 一 1一シァノメチル } - 3 - {4ーメトキシー 3— (2—プロピニルォキシ） フエ 二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 18と記す。） 144mgを得た。
Figure imgf000068_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.18-7.35 (4H, in), 6.73-6.85 (3H, in), 6.27 (1H, br.d), 6.04 (1H, d, J=8.3 Hz), 4.70 (2H, d， J=2.2 Hz), 3.81 (3H， s) ， 2.91 (2Η，' t， J=7.3 Hz), 2.44-2.60 (3H, m)
製造例 19
製造例 16と同様の方法で 2—アミノー 2— (4—クロ口フエニル） ァセトニ トリル塩酸塩 406mg及び 3— （ 3—メトキシー 4一エトキシフエニル） プロ ピオン酸 448mgから N— { 1一 （4一クロ口フエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3— （3—メトキシー 4一エトキシフエニル） プロピオンアミド （以下、 本 発明化合物 19と記す。） 30 Omgを得た。
Figure imgf000069_0001
1 H-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.20-7.37 (4H, m), 6.65-6.78 (3H, m), 6.09 (1H, d, J=8.3 Hz), 5.83 (1H, br.d), 4.06 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.83 (3H, s) ， 2.93 (2H， t， J=7.1 Hz), 2.45-2.64 (2H, m), 1.45 (3H, t, J=7.0 Hz) 製造例 20
製造例 16と同様の方法で 2—アミノー 2— （4—クロ口フエニル） ァセトニ トリ Jレ塩酸塩 406 mg及び 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロぺニルォキシ ) フエ二ル} プロピオン酸 476mgから N— { 1 - (4一クロ口フエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロぺニルォキシ） フエ 二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 20と記す。） 247mgを得た。
Figure imgf000069_0002
lH-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.20-7.40 (4H, in), 6.63-6.79 (3H, m), 6.02- 6.14 (2H, m), 5.84 (1H, br.d), 5. 4-5.46 (2H, m)， 4.55-4.60 (2H, m), 3.8 3 (3H, s), 2.93 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.45-2.70 (2H， m) '
製造例 21
製造例 10と同様の方法で 2 _クロ口べンズアルデヒド 0, 56 g及び 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸塩化物 0 . 50 gから N— { 1 - (2—クロ口フエニル） ー 1一シァノメチル } - 3 - { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以 下、 本発明化合物 21と記す。） 0. 33 gを得た。
Figure imgf000069_0003
1 H-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.52 (1H, dd, J=5.6 Hz, 1.9 Hz), 7.30-7.45 (3H, m), 6.93 (1H, d， J=8.9 Hz), 6.69-6.71 (2H, m), 6.24 (1H, d, J=8.0 H z), 5.85 (1H， br.d), 4.72 (2H, d， J=2.4 Hz), 3.81 (3H, s), 2.92-2.95 (2H ， m), 2.51-2.56 (2H, m), 2.49 (1H, t, J=2. Hz)
製造例 22 2—アミノー 2— （4一クロ口フエニル） ァセトニトリル塩酸塩 457mg、 トリェチルァミン 379mg及びテトラヒドロフラン 1 Omiを混合し、 0〜 5 °C で 3— {3—メトキシー 4一 (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} 酪酸塩化物 4 0 Omgとテトラヒドロフラン 5inlとの混合物を加え、 室温で 2時間撹拌した。 その後、 反応混合物を減圧下濃縮し、 水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層 を 5%塩酸、 水、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム精製 に付し、 N— { 1 - (4一クロ口フエ二ル） 一 1一シァノメチル } 一 3— （3— メトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエニル） ブチルアミド （以下、 本発 明化合物 22と記す。） 460mgを得た。
Figure imgf000070_0001
- NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.20-7.40 (3H, m), 6.90-7.04 (2H, m), 6.68- 6.75 (2H， m)， 5.96-6.05 (1H, m)， 5.70-5.82 (1H, m), 4.74 (2H, d, J=2.4 H z), 3.84 (1.5H, s)， 3.80 (1.5H, s), 3.19-3.30 (1H， m)， 2.36-2.62 (3H, m) ， 1.29-1.36 (3H, m)
製造例 23
製造例 22と同様の方法で 2—アミノー 2— （4—クロ口フエニル） ァセトニ トリル塩酸塩 457mg及び 3— {3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ ) フエ二ル} — 2—メチル—プロピオン酸塩化物 40 Omgから N_ { 1- (4 一クロ口フエニル） 一 1一シァノメチル } - 3 - {3—メトキシー 4一 （2—プ ロピニルォキシ） フエ二ル} 一 2—メチルプロピオンアミド （以下、 本発明化合 物 23と記す。） 37 Omgを得た。
Figure imgf000070_0002
1 H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.24-7.38 (3H, m), 6.86-7.02 (2H, m), 6.62- 6.72 (2H, m), 5.91-6.03 (2H, m), 4.72 (2H, d, J=2.1 Hz), 3.83 (1.5H, s)， 3.76 (1.5H, s), 2.53-2.70 (4H, m), 1.20-1.28 (3H, m)
製造例 24
製造例 1 6と同様の方法で 2—アミノー 2— （4一クロ口フエニル） ァセトニ トリル塩酸塩 406 mg及び 3— （3—メトキシー 4一プロポキシフエニル） プ ロピオン酸 476mgから N— { 1 - (4一クロ口フエニル） 一 1ーシァノメチ ル} 一 3— （3—メトキシ— 4一プロポキシフエニル） プロピオンアミド （以下 、 本発明化合物 24と記す。） 380mgを得た。
Figure imgf000071_0001
-腿 (CDC13, TMS) δ (綱）: 7.31-7.37 (2Η, m)， 7.20-7.24 (2H, m), 6.64-
6.75 (3H, m), 6.09 (1H, d, J=8.5 Hz), 5.84 (1H, d, J=8.5 Hz), 3.93 (2H， t, J=6.8 Hz), 3.82 (3H, s), 2.93 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.46-2.63 (2H, m), 1 .81-1.90 (2H, m), 1.04 (3H, t， J=7.3 Hz)
製造例 25
製造例 16と同様の方法で 2—ァミノ— 2— (4—クロ口フエニル） ァセトニ トリル塩酸塩 406mg及び 3— （4—イソプロポキシ一 3—メトキシフエニル ) プロピオン酸 477mgから N— { 1 - (4一クロ口フエニル） — 1一シァノ メチル } 一 3— （4一イソプロポキシ—3—メトキシフエ二ル） プロピオンアミ ド （以下、 本発明化合物 25と記す。） 398mgを得た。
Figure imgf000071_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.33-7.38 (2H, m), 7.20-7.26 (2H, m)， 6.78 (1H, d， J=8.1 Hz), 6.64-6.70 (2H, m), 6.09 (1H， d, J=8.5 Hz), 5.89 (1H， d, J-8.3 Hz), 4.42-4.50 (1H， m)， 3.80 (3H, s) , 2.93 (2H, t, J=7.2 Hz), 2 .46-2.64 (2H, m), 1.35 (6H, d, J=6.3 Hz)
製造例 26
製造例 16と同様の方法で 2—アミノー 2 _ (4—クロ口フエニル） ァセトニ トリル塩酸塩 406mg及び 3— （4ーァセトキシー 3—メトキシフエ二ル） プ ロピオン酸 476mgから N— { 1 - (4一クロ口フエニル） 一 1—シァノメチ ル} 一 3— (4—ァセトキシー 3—メトキシフエ二ル） プロピオンアミド （以下 、 本発明化合物 26と記す。） 420mgを得た。
Figure imgf000071_0003
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.37 (2H, d， J=8.7 Hz), 7.26 (2H, d, J=8.3 Hz), 6.90 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.76 (1H, d， J=L7 Hz), 6.71 (1H, dd, J=8.2 Hz, 1.9 Hz), 6.13 (1H, br.d), 6.05 (1H, d, J=8.2 Hz), 3.77 (3H， s), 2.9 6 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.44-2.61 (2H, m), 2.30 (3H, s)
製造例 27
製造例 1 6と同様の方法で 2—アミノー 2— （4—クロ口フエニル） ァセトニ トリル塩酸塩 20 3mg及び 3— {4- (2—フルォロエトキシ） — 3—メトキ シフエ二ル} プロピオン酸 242mgから N— { 1 - (4一クロ口フエニル） 一 1—シァノメチル } 一 3— {4- (2—フルォロエトキシ） 一 3—メトキシフエ 二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 27と記す。） 1 5 5mgを得た。
Figure imgf000072_0001
lH -賺 (CDC13， TMS) δ (ppm) : 7.36 (2H, d, J=8.7 Hz), 7.24 (2H, d， J=8.3 Hz), 6.81 (1H, d， J=7.9 Hz), 6.72 (1H, d, J=1.9 Hz),' 6.68 (1H, dd, J=7.9 Hz, 1.9 Hz), 6.08 (1H, d, J=8.3 Hz), 5.82 (1H, d， J=8.7 Hz), 4.76 (2H, ddd, J=47.4 Hz, 4.3 Hz, 4.3 Hz), 4.23 (2H, ddd, J=27.7 Hz, 4.3 Hz, 4.3 H z)， 3.82 (3H, s)， 2.94 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.45-2.63 (2H, m)
製造例 28
製造例 1 6と同様の方法で 2—アミノー 2— (4—クロ口フエニル） ァセトニ トリル塩酸塩 20 3mg及び 3— {4- (2—プチニルォキシ） 一 3—メトキシ フエ二ル} プロピオン酸 248mgから N— { 1 - (4一クロ口フエニル） 一 1 —シァノメチル} 一 3— {4- (2—プチニルォキシ） 一 3—メトキシフエ二ル } プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 2 8と記す。） 1 5 5mgを得た。
Figure imgf000072_0002
lH -腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.36 (2H, d, J=8.7 Hz), 7.21 (2H, d, J=8.4 Hz), 6.92 (1H, d, J二 8.7 Hz)， 6.68-6.73 (2H， m), 6.08 (1H, d， J=8,4 Hz)， 5.76 (1H, d, J=8.0 Hz), 4.69 (2H, q, J=2. Hz), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H, t, 1=7.2 Hz), 2.46-2.64 (2H, m), 1.82 (3H, t, J-2.4 Hz)
製造例 2 9
製造例 1 6と同様の方法で 2—アミノー 2— （4一クロ口フエニル） ァセトニ トリル塩酸塩 244mg及び 3— { 3—メトキシー 4一 （1ーメチルー 2—プロ ピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 30 Omgから N— { 1 - (4一クロ口 フエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシー 4— (1—メチルー 2 一プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 29と 記す。） 207mgを得た。
Figure imgf000073_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.36 (2H, d, J=8.5 Hz), 7.22 (2H, dd, J=8.1 Hz, 3.8 Hz), 6.99 (1H, dd, J=7.8 Hz, 1.4 Hz), 6.67-6.73 (2H, m), 6.06-6 .11 (1H, m), 5.76 (1H, d, J=8.5 Hz), 4.82-4.96 (1H, m)， 3.81 (1.5H, s)， 3.80 (1.5H, s)， 2.95 (2H, t, ]=1.2 Hz), 2.47-2.65 (2H, m), 2.43-2.46 (1H , m), 1.70 (3H, d, J=6.6 Hz)
製造例 30
4—イソプロピルべンズアルデヒド 0. 74 g, トリメチルシリルシアニド 0 . 7 lml及びヨウ化亜鉛 53mgを混合し、 室温で 1 5分間撹拌した後、 ここに 10%アンモニアのメタノール溶液 8mlを加え、 4 O で 2時間撹拌した。 室温 付近まで放冷した混合物を減圧下濃縮し、 得られた残渣に 3— {3—メトキシ— 4- (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 7 g及ぴピリジン 5m 1を加え、 ここに WSCO. 7 gを加え、 室温で 4時間撹拌した。 その後、 反応混 合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 飽和炭酸水素 ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後 、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム精製に付し、 N— { 1一 （4一イソ プロピルフエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プ ロビニルォキシ） フエ二ル} プロピオンァミド （以下、 本発明化合物 30と記す 。） 0. 93 gを得た。
Figure imgf000073_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.24 (4H， s), 6.94 (1H, d， J=8.3 Hz), 6.68- 6.75 (2H, m), 6.03 (1H, d， J-8.3 Hz), 5.92 (1H, d, J=8.3 Hz), 4.72 (2H, d， J=2.4 Hz), 3.81 (3H, s)， 2.86-2.98 (3H, in), 2.46-2.58 (2H, m), 2.48 ( 1H， t, J=2.4 Hz), 1.24 (6H, d, J=7.1 Hz) 製造例 31
製造例 30と同様の方法で 4一シァノベンズアルデヒド 656mg及び 3— { 3—メトキシ一 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. マ g から N— { 1 - (4一シァノフエニル） 一 1一シァノメチル } - 3- (3—メト キシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発 明化合物 31と記す。） 480mgを得た。
Figure imgf000074_0001
!H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.68 (2H, d, J=7.5 Hz), 7.38 (2H, d, J=8.3 Hz), 6.96 (1H, d， J=7.5 Hz), 6.65-6.74 (2H, m), 6.21 (1H, d, J=9.1 Hz), 5.92 (1H, d, J=8.7 Hz), 4.75 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.82 (3H, s), 2.96 (2H, t， J=7.1 Hz), 2.48-2.68 (3H, m)
製造例 32
製造例 30と同様の方法で 4一トリフルォロメトキシベンズアルデヒド 95 1 mg及び 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピ オン酸 0. 73から^^ー {1一 （4一トリフルォロメトキシフエニル） 一 1ーシ ァノメチル } 一 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 32と記す。） 0. 93 gを獰た。
Figure imgf000074_0002
1 H-NMR (CDCI3, TMS) δ ( pm)： 7.34 (2H, d, J=8.7 Hz), 7.24 (2H, d, J=7.9 Hz), 6.94 (1H， d， J-7.9 Hz), 6.69-6.75 (2H, m), 6.13 (1H, d， J=8.3 Hz), 5.88 (1H, d, J=8.3 Hz), 4.73 (2H, d， J=2. Hz), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H， t, J=7.1 Hz), 2.48-2.65 (2H, m), 2.48 (1H, t, J=2.4 Hz)
製造例 33
製造例 30と同様の方法で 4ーメチルチオべンズアルデヒド 0. 76 g及び 3 一 {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 7 gから N— { 1 - (4—メチルチオフエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシ一 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以 下、 本発明化合物 33と記す。） 608mgを得た。
Figure imgf000075_0001
^-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.17-7.25 (4H, m), 6.93 (1H, d, . J=7.8 Hz), 6.68-6.74 (2H, m), 6.03 (1H, d, J=8.3 Hz), 5.78 (1H, d， J=8.3 Hz), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.82 (3H, s), 2.94 (2H， t, J=7.3 Hz), 2.47-2.62 (6H, m)
製造例 34
製造例 3 0と同様の方法で 4ージメチルァミノべンズアルデヒド 0. 7 5 g及 び 3— { 3—メ卜キシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 7 gから Ή一 {1 - (4—ジメチルァミノフエニル） 一 1—シァノメチル } — 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンァ ミド （以下、 本発明化合物 34と記す。） 7 5mgを得た。 '
Figure imgf000075_0002
Ή-NM (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.17 (2H, d, J=8.5 Hz), 6.93 (1H, d, J=8.1 Hz), 6.63-6.75 (4H, m)， 5.91 (1H, d, J=7.8 Hz), 5.69 (1H, d, J=8.0 Hz), 4.72 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.82 (3H， s), 2.96 (6H, s)， 2.93 (2H, t, J=7.6 H z), 2.43-2.58 (3H, m)
製造例 3 5
製造例 3 0と同様の方法で 2, 4—ジクロ口べンズアルデヒド 0. 8 8 g及び 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0' . 7 gから N— { 1— (2, 4ージクロ口フエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3 一 { 3ーメトキシ一 4— (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} プロピオンアミド (以下、 本発明化合物 3 5と記す。） 0. 3 9 gを得た。
Figure imgf000075_0003
1 H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.43-7.46 (1H, m), 7.42 (1H, s)， 7.31 (1H, dd, J=8.3 Hz, 2.2 Hz), 6.92 (1H, d, J=8.5 Hz), 6.67-6.71 (2H, m)， 6.18 1H, d, J=7.8 Hz), 5.88 (1H, d, J=8,0 Hz), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.81 3H, s), 2.92 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.48-2.57 (3H, m)
製造例 36
製造例 30と同様の方法で 4一クロロー 2—
Figure imgf000076_0001
951 mg及び 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピ オン酸 0. Ί gから 一 { 1 - (4一クロロー 2—フルオロフェニル） 一 1ーシ ァノメチル } 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 36と記す。） 31 5mgを得た。
本発明化合物 36
Figure imgf000076_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm) ·· 7.31-7.38 (1H, m)， 7.14-7.22 (2H, m), 6.91
(1H， d， J=8.7 Hz), 6.65-6.70 (2H, i), 6.13 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.01 (1H, d, J=8.4 Hz), 4.72 (2H, d， J=2.4 Hz), 3.80 (3H, s)， 2.88-2.95 (2H， m),
.45-2.60 (3H, m) '
製造例 37
製造例 30と同様の方法で 2， 4ージフルォロベンズアルデヒド 0. 7 1 g及 び 3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 7 gからN— { 1 - (2, 4ージフルオロフェニル） 一 1ーシ'ァノメチル } 一 3— {3—メトキシ一 4一 (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} プロピオンァ ミド （以下、 本発明化合物 37と記す。） 0. 72 gを得た。
Figure imgf000076_0003
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.35-7.43 (1H, m), 6.85-6.95 (3H, m)， 6.65- 6.69 (2H, m), 6.13 (1H， d, J=8.2 Hz), 6.06 (1H, d, J=8.2 Hz), 4.71 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.80 (3H, s)， 2.88-2.94 (2H, m), 2.48-2.58 (3H, m) 製造例 38
製造例 30と同様の方法で 4一フエノキシベンズアルデヒド 0. 99 g及び 3 ― {3—メトキシ一 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 73から1^ー { 1 - (4一フエノキシフエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以 下、 本発明化合物 38と記す。） 0. 45 gを得た。
Figure imgf000077_0001
^-NM (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.34-7.40 (2H， m)， 7.26-7.30 (2H, m), 7.14- 7.19 (1H, m)， 6.99-7.03 (4H, m), 6.93 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.69-6.74 (2H， m), 6.05 (1H, d, J=8.2 Hz), 5.87 (1H, d, J=7.7 Hz), 4.70 (2H, d， J=2.4 H z)， 3.82 (3H, s)， 2.95 (2H, t， J=7.4 Hz), 2.48-2.61 (2H, m)， 2.46 (1H， t , J=2.4 Hz)
製造例 39
製造例 30と同様の方法で 4一フエ二ルペンズアルデヒド 0. 91 g及び 3— {3—メトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエエル） プロピオン酸 0. 7 gから N— { 1 - (ビフエニル一 4—ィル） 一 1一シァノメチル } 一 3— {3— メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 39と記す。） 242mgを得た。
Figure imgf000077_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.55-7.63 (4H, m), 7.43-7.49 (2H, m), 7.36- 7.42 (3H, m), 6.95 (1H， d, J=8.4 Hz), 6.70-6.74 (2H, m), 6.14 (1H, d, J=
8.2 Hz), 5.80 (1H, d, J=8.0 Hz), 4.72 (2H， d, J=2.4 Hz), 3.82 (3H, s)， 2 .97 (2H, t, J=7.4 Hz), 2.49-2.65 (2H, m), 2.45 (1H, t, J=2.4 Hz) 製造例 40
製造例 16と同様の方法で 2—アミノー 2— (4—クロ口フエニル） プロピオ 二トリル塩酸塩 0. 50 g、 3 - {3、 4一ビス （2—プロピニルォキシ） フエ 二ル} プロピオン酸 0. 49 gから N— { 1 - (4一クロ口フエニル） 一 1—シ ァノエチル} —3— ί 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 40と記す。） 0. 55 gを得た。
Figure imgf000077_0003
1 H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.31 (2H, d, J=8.6 Hz), 7.25 (2H, d, J=8.6 Hz), 6.96 (1H, d, J=8.7 Hz), 6.69-6.71 (2H, m), 6.02 (1H, s), 4.75 (1H， d, J=2.4 Hz), 3.80 (3H, s), 2.89 (2H, i, J=7.1 Hz), 2.48-2.53 (3H, m)， 1 .78 (3H)
製造例 41
製造例 30と同様の方法でインダン一 5—力ルポアルデヒド 73 lmgおよび 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0 . 7 ^から1^ー { 1 - (インダン— 5—ィル） 一 1—シァノメチル } -3- {3 ーメトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下 、 本発明化合物 41と記す。） 250mgを得た。
Figure imgf000078_0001
CH
1 H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.20-7.25 (2H, m) 7.05-7.10 (1H, ), 6.94 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.68-6.74 (2H, m), 6.01 (IE d, J=8.2 Hz), 5.74 (1H, d, 1=7 A Hz), 4.72 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.82 (3H: s)， 2.85-2.98 (6H, m), 2 .45-2.60 (3H, m), 2.03-2.14 (2H， m)
製造例 42
2—アミノー 2— (4—ブロモフエニル) ァセトニトリル塩酸塩 0. 23 g及 び 2—フルオロー 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピエルォキ ） フエニル } プロピオン酸 0. 20 g、 WSC0. 1 8 g、 ジメチルホルミアミド 1 Oml及 びピリジン: 1mlを混合し、 室温で 3時間撹拌した。 その後、 反応混合物に水を加 え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸で 2回、 水、 飽和炭酸水素ナトリ ゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧 下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム精製に付し N— { 1一 （4一ブロ乇フエ二 ル） 一 1—シァノメチル } 一 2—フルオロー 3— {3—メトキシー 4一 （2—プ ロビニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 42と記す 。） 0. 27' gを得た。
Figure imgf000078_0002
'H-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.56 (1H， d， J=8.5 Hz), 7.49 (1H, d, J=8.5 Hz), 7.29 (1H， d, J=8.5 Hz), 6.88-7.01 (2H, m), 6.71-6.79 (2H, m), 6.54- 6.52 (1H, m), 5.98-6.01 (1H, m), 5.11-5.35 (1H, m), 4.75-4.76 (2H, m)， 3 .87 (1.5H, s)， 3.79 (1.5H, s)， 3.10-3.34 (2H, m), 2.50-2.51 (1H, m) 製造例 43
2—アミノー 2— （4一メチルフエニル） ァセトニトリル塩酸塩 0. 5 9 g及 び 2—フルオロー 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエニル } プロピオン酸塩化物 0. 5 0 gを用いて製造例 4と同様の操作を行い、 N— { 1一 （4一メチルフエニル） 一 1一シァノメチル } — 2—フルオロー 3— {3— メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 43と記す。） 0. 34 gを得た。
Figure imgf000079_0001
Ή-NMR (CDC13， T S) δ (ppm)： 7.19-7.30 (2H, m)， 7.15 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.91-7.02 (2H， m)， 6.73-6.80 (2H, m) , 6.52-6.60 (1H, m), 5.95-5.98 (1H, in), 5.07-5.32 (1H, m), 4.72-4.75 (2H, m), 3.87 (1.5H, s), 3.79 (1.5H, s) ， 3.11-3.34 (2H, m), 2.48-2.50 (1H, m), 2.37 (1.5H, S), 2.35 (1.5H, s) 製造例 44
製造例 30と同様の方法で 4ージフルォロメトキシベンズアルデヒド 0. 5 5 g及び 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオ ン酸 0. 5 08から？^— { 1 - (4ージフルォロメトキシフエ二ル'） 一 1—シァ ノメチル} 一 3— {3—メ卜キシー 4一 (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プ ロピオンアミド （以下、 本発明化合物 44と記す。） 0. 59 gを得た。
Figure imgf000079_0002
1 H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.29 (2H, d, J=8.5 Hz), 7.13 (2H, d, J=8.5 Hz), 6.94 -(1H, d, J=8.8 Hz), 6.70-6.72 (2H, m), 6.55 (1H, t， J=73 Hz), 6 .08 (1H, d, J=8.3 Hz), 5.91 (1H, br.d, J=8.3 Hz), 4.72 (2H, d, J=2.2 Hz) , 3.80 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.47-2.62 (3H, m)
製造例 45
4一ブロムべンズアルデヒド 0. 5 9 g、 トリメチルシリルシアニド 0. 46 m 1及びヨウ化亜鉛 34mgを混合し、 室温で 2 0分間撹拌した後、 ここに 40%メ チルァミンのメタノール溶液 4mlを加え、 40°Cで 2時間撹拌した。 室温付近ま で放冷した混合物を減圧下濃縮し、 得られた残渣に 3— {3—メトキシー 4一 ( 2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 50 g及びジメチルホルム アミド 10mlおよびピリジン 1mlを加え、 ここに WSCO. 45 gを加え、 室温 で 4時間撹拌した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有 機層を 5%塩酸で 3回、 水、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順 次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、' 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲル カラム精製に付し、 N— { 1一 （4一ブロムフエニル） 一 1—シァノメチル } 一 N—メチルー 3一 { 3—メトキシー 4一 (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} プ ロピオンアミド （以下、 本発明化合物 45と記す。） 0. 24 gを得た。
Figure imgf000080_0001
[H-NM (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.54 (2H, d, J8.5 Hz), 7.23 (2H, d, J=8.5 H z), 7.01 (1H, s), 6.97 (1H, d， J=8.2 Hz), 6.78 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.75 ( 1H， dd， J=8.2 Hz, 1.9 Hz), 4.75 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.86 (3H, s), 2.99 (2 H, ΐ, J=7.7 Hz), 2.81 (3H, s)， 2.70 (2H, i, J=7.7 Hz), 2.50 (IE, t, J=2. 4 Hz)
製造例 46
製造例 30と同様の方法で 4一ョードベンズアルデヒド 1. 0 g及び 3— {3 ーメトキシ— 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 50 g から N— { 1 - (4一ョ一ドフエニル） 一 1—シァノメチル } - 3- {3—メト キシ— 4_ (2—プロピニルォキシ） フエエル） プロピオンアミド （以下、 本発 明化合物 46と記す。） 0. 60 gを得た。
Figure imgf000080_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.71 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.02 (2H, d, J=8.4 Hz), 6.93 (1H, d， J=7.7 Hz), 6.68-6.70 (2H, m), 6.02-6.07 (2H, m), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.81 (3H, s), 2.93 (2H, t, 1=1.2 Hz), 2.46-2.61 (3H, m)
製造例 47
製造例 30と同様の方法で 4 _n—ブチルベンズアルデヒド 0. 52 g及び 3 一 {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 50 gから N— { 1一 (4一ブチルフエニル) 一 1一シァノメチル } — 3— { 3 ーメトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド 、 本発明化合物 47と記す。） 0. 28 gを得た。
Figure imgf000081_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.23 (2H, d, J=7.9 Hz), 7.19 (2H, d, J=7.9 Hz), 6.94 (1H, d， J=7.9 Hz), 6.69-6.72 (2H, m), 6.03 (1H, d， J=8.3 Hz), 5.85 (1H, br. d, J=8.3 Hz), 4.72 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.95 (2 H, t， J=7.5 Hz), 2.61 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.46-2.55 (3H, m) , 1.54-1.62 (2 H, m), 1.30-1.39 (2H, m), 0.93 (3H, t, J=7.1 Hz)
製造例 48
製造例 30と同様の方法で 4— (トリメチルシリルェチュル） ベンズアルデヒ ド 2. 1 g及び 3— {3—メトキシー4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 1. O gからN—[lー {4- (トリメチルシリルェチニル） フエ二 ル} 一 1—シァノメチル]一 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 48と記す。） 1, 2 gを得た 。
Figure imgf000081_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.46 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.22 (2H, d, J=8.3 Hz), 6.92 (1H, d, J=8.3 Hz), 6.67-6.72 (2H, m) 5 6.09 (1H, d, J=8.3 Hz), 6.02 (1H， br.d, J=8.3 Hz), 4.72 (2H, d， J=2.8 Hz), 3.81 (3H, s), 2.94 (2 H, t, J=7.1 Hz), 2.47-2.61 (3H, m), 0.26 (9H， s)
製造例 49
N-Cl - {4- (トリメチルシリルェチニル） フエ二ル} 一 1一シァノメチル ]-3- {3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオンァ ミド 0. 77 g、 炭酸カリウム 1. 0 gおよびメタノール 1 Omlを全還流下で 3時間攪拌した。 混合物を冷却後、 濾過し減圧下で溶媒を留去し、 残渣をシリカ ゲルカラムで精製して N— { 1 - (4ーェチニルフエニル） — 1一シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシー 4一 (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン アミド （以下、 本発明化合物 49と記す。） 0. l gを得た。
Figure imgf000082_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.50 (2H, d， J=8.3 Hz), 7.26 (2H, d, J=8.3 Hz), 6.93 (1H， d， 8.3 Hz)， 6.69-6.72 (2H, m), 6.11 (1H, d, J=8.7 Hz), 5.98 (1H, br.d, J=8.3 Hz), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.82 (3H, s)， 3. H (1 H, s)， 2.95 (2H, t, J=7.1 Hz), 2.48-2.62 (3H, m)
製造例 50
4—ジェトキシメチルペンズ T7ルデヒド 2. 66 g、 トリメチルシリルシア二 ド 1. 82 ml及びヨウ化亜鉛 0. 14gを混合し、 室温で 20分間撹拌した後、 ここに 10 %アンモニアのメタノール溶液 2 Omlを加え、 40°Cで 2時間撹拌し た。 室温付近まで放冷した混合物を減圧下濃縮し、 得られた残渣に 3— {3—メ トキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 2. 0 g及びジ メチルホルムアミド 5 Omlおよびピリジン 3mlを加え、 ここに WSC 1. 8 gを 加え、 室温で 4時間撹拌した。 その後、 得られた混合物に 5%塩酸 5mlを加え室 温で 1時間撹拌し、 水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸で 3回 、 水、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、'硫酸マグネ シゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた残渣 1. 8 gに水素化ホウ素ナ トリウム 0. 09 gおよびメタノール 30mlを混合し、 室温で 1時間撹拌した。 その後、 混合物に飽和塩化アンモニゥム水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機 層を飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシ ゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム精製に付し、 N-[ 1— (4— {ヒドロキシメチル } フエニル） 一 1—シァノメチル ]ー3— {3—メ トキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本 発明化合物 50と記す。） 0. 79 gおよび N— [1— 4一 {(エトキシ） シァノメ チル } フエニル]一 1—シァノメチル } 一 3— { 3—メ卜キシー 4— (2—プロピ ニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 5 1と記す。） 0 . 32 gを得た。
本発明化合物 50
Figure imgf000083_0001
'Η- NMR (CDC13, T S) δ (ppm) ·· 7.70 (2H, d， J=8.3 Hz), 7.26 (2H, d， J=8.3 Hz), 6.92 (1H, d, J-8.3 Hz), 6.68-6.71 (2H, m), 6.06 (1H, d， J=8.3 Hz), 5.89 (1H, br.d, J=8.3 Hz), 4.70-4.72 (4H, m), 3.80 (3H, s)， 2.94 (2H， t， J=7.1 Hz), 2.46-2.62 (3H, m)， 1.96 (1H, br. t)
本発明化合物 51
Figure imgf000083_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.53 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.37 (2H, d)， 6.95 (1H， d， J=8.5 Hz), 6.70-6.72 (2H， m)， 6.14 (1H, d, J-8.3 Hz), 5.88 (1H, br.d, J=8.3 Hz), 5.25 (1H, s), 4.73 (2H, d, J=2.8 Hz), 3.82-3.90 (4H, m) ， 3.64-3.71 (1H, m), 2.96 (2H, t， J=7.1 Hz), 2.49-2.60 (3H, m) , 1.32 (3H , t, J=6.7 Hz)
製造例 51
製造例 30と同様の方法で 4ーシクロプロピルべンズアルデヒド 0. 47 g及 び 3— {3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 50 gから N— { 1— (4—シクロプロピルフエニル) 一 1一シァノメチル } 一 3— { 3ーメ卜キシー 4一 (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} プロピオン アミド （以下、 本発明化合物 52と記す。） 0. 49 gを得た。
Figure imgf000083_0003
lH-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.19 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.07 (2H, d, J=8.3 Hz), 6.94 (1H， d， J=7.9 Hz), 6.70-6.72 (2H， m)， 6.02 (1H， d， J-7.9 Hz), 5.78 (1H, br.d, J=8.7 Hz), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.94 (2 H, t， J=7.5 Hz), 2.45-2.59 (3H, m), 1.86-1.93 (1H, m)， 0.98-1.03 (2H, m) , 0.68-0.72 (2H, m)
製造例 52 製造例 30と同様の方法で 4一クロロー 3 - 0. 5 l g及び 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピ オン酸 0. 50 gから N— { 1 - (4—クロロー 3—フルオロフェニル） 一 1一 シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピエルォキシ） フエニル } プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 53と記す。） 0. 29 gを得た。
Figure imgf000084_0001
'H-NMR (CDC13, TMS) <5 (ppm)： 7.43 (1H, t, J=7.9 Hz), 7.15 (1H, dd, J=9.1 Hz, 2.0 Hz), 7.02-7.04 (1H, m), 6.95 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.70-6.72 (2H， m)， 6.12 (1H， d， J=8.7 Hz), 5.91 (1H， br.d, J=8.7 Hz), 4.74 (2H， d, J=2. 4 Hz), 3.83 (3H, s), 2.96 (2H， t， J=7.5 Hz), 2.52-2.64 (2H, m), 2.49 (1H ， t， J=2.4 Hz)
製造例 53
製造例 30と同様の方法で 4— t一ブチルベンズアルデヒド 0. 52 g及び 3 一 {3—メトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 50 gから N— { 1 - (4- t e r t—プチルフエ二ル） ― 1一シァノメチル } - 3- {3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンァ ミド （以下、 本発明化合物 54と記す。） 0. 53 gを得た。 '
Figure imgf000084_0002
1 H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.41 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.26 (2H, d, J=8.3 Hz), 6.95 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.70-6.73 (2H, m), 6.04 (1H, d, J=8.3 Hz), 5.88 (1H, br.d, 1=8.3 Hz), 4.72 (2H, d, J=2.8 Hz), 3.82 (3H, s), 2.95 (2 H, t, J=7.1 Hz), 2.46-2.59 (3H, m)， 1.31 (9H, s)
製造例 54
製造例 30と同様の方法で 4一トリフルォロメチルチオべンズアルデヒド 0. 62 g及び 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロ ピオン酸 0. 50 から 一 { 1 - (4一トリフルォロメチルチオフエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ 二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 55と記す。） 0. 48 gを得た。
Figure imgf000085_0001
iH- NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.68 (2H， d, J=8.3 Hz), 7.36 (2H, d, J=8.3 Hz), 6.96 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.71-6.73 (2H, m)， 6.18 (IE, d, J=8.3 Hz), 5.87 (1H, br.d, J=8.3 Hz), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.83 (3H， s), 2.97 (2 H, t, J=7.1 Hz), 2.50-2.65 (2H, m), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.55 (3H, s) 製造例 55
製造例 30と同様の方法で 3—トリフルォロメチルベンズアルデヒド 0. 56 g及び 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオ ン酸 0. 508から ー { 1 - (3—トリフルォロメチルフエニル） 一 1ーシァ ノメチル} —3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プ ロピオンアミド （以下、 本発明化合物 56と記す。） 0. 48 gを得た。
Figure imgf000085_0002
lH-N R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.67 (2H, m), 7.55 (1H, t， J=8.3 Hz), 7.48 (1H, d, J=7.5 Hz), 6.95 (1H， d， J=7.9 Hz), 6.70-6.73 (2H, m),' 6.21 (1H， d, J=8.3 Hz), 5.90 (1H, br.d, J=8.7 Hz), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.83 (3 H, s)， 2.97 (2H, t， J=7.5 Hz), 2.54-2.64 (2H, m), 2.48 (1H, t， J=2.4 Hz) 製造例 56
製造例 30と同様の方法で 4一 (1, 1, 2, 2—テトラフルォロエトキシ） ベンズアルデヒド 0. 71 g及び 3— {3—メトキシー 4— (2—プロピニルォ キシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 508から^[ー {1— (1, 1， 2, 2—テ トラフルォロエトキシ） フエニル） 一 1—シァノメチル } 一 3— {3—メトキシ 一 4一 （2 ブロピエルォキシ） フヱニル} プロピオンアミド （以下、 本発明化 合物 57と記す。） 0. 43 gを得た。
Figure imgf000085_0003
lH-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.33 (1H, d, J=8.3 Hz), 7.24 (1H, d, J=8. Hz), 6.95 (1H, d， J=8.3 Hz), 6.70-6.73 (2H, m), 6.12 (1H， d, J=8.3 Hz), 5.92 (1H, it, J=15 Hz, 2.4 Hz), 5.85 (1H, br. d, J=8.3 Hz), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.83 (3H, s)， 2.96 (2H, t, J=7.1 Hz), 2.51-2.64 (2H, m), 2.48
(1H, t, J=2.4 Hz)
製造例 57
2—アミノー 2— （4—クロ口フエ二ル） ァセトニトリル塩酸塩 0. 21 g、 WS C 0. 25 g、 3— { 5—フルオロー 3—メトキシ— 4— (2—プロピニル ォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 3 g、 ジメチルホルムアミド 1 Omlおよび ピリジン liiilの混合物を 50°Cでで 4時間撹拌した。 その後、 水を加え、 酢酸ェ チルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽 和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣 をシリカゲルカラム精製に付し、 N— { 1— （4一クロ口フエニル） 一 1ーシァ ノメチル} 一 3— （5—フルオロー 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ ) フエニル） プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 58と記す。） 0. 15 gを 得た。
CH
Figure imgf000086_0001
Ή-NMR (CDClj, TMS) d ( pm)： 7.37-7.40 (2H, πθ, 7.29-7.31 (2Η, m), 6.53- 6.61 (3H, m)， 6.09 (1H, d, 1=8.7 Hz), 5.95 (1H, br. d, J=8.3 Hz), 4.73 (2 H， d, J=2.4 Hz), 3.85 (3H， s)， 2.94 (2H, t, J=7.1 Hz), 2.50-2.69 (3H, m) 製造例 58
製造例 30と同様め方法で 3—フルオロー 4—メチルベンズアルデヒド 0. 6 2 g及び 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピ オン酸 0. 50 gから N— { 1— (3—フルオロー 4—メチルフエニル） 一 1一 シァノメチル } 一 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエニル } プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 59と記す。） 0. 35 gを得た。
Figure imgf000086_0002
1 H-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.20 (1H, t， J-7.5 Hz), 6.99 (2H, d, J=8 , 6.94 (1H, d, J=7.5 Hz), 6.69-6.72 (2H, m), 6.96 (1H, d， J=8.3 Hz), 0 (m， br.d, J=8.3 Hz), 4.72 (2H, d， J=2.4 Hz), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H， t， J=7.5 Hz)， 2.50-2.61 (2H, m)， 2.48 (1H, t, J=2.4 Hz), 2.28 (3H, d, J= 1.6)
製造例 59
製造例 5 7と同様の方法で 2—ァミノ— 2— （4一クロ口フエニル） ァセトニ トリル塩酸塩 0. 1 9 g、 3— { 6—クロル— 3—メトキシー 4一 （2—プロピ ニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸から N— { 1— (6—クロル— 4—メチル フエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3— { 3—メトキシ一 4— (2—プロピエル ォキシ） フエ二ル} プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 6 0と記す。） 0. 1 5 gを得た。
本発明化合物 6 0
Figure imgf000087_0001
-脆 (CDC13, TMS) δ (ppni)： 7.36-7.38 (2H， m), 7.25-7.29 (2H, m)， 7.00 (1H， s)， 6.79 (1H, s)， 6.08 (IE, d, J=7.9 Hz), 5.89 (】H， br. d, J=8.3 Hz) ， 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.82 (3H， s), 3.05 (2H， t, J=7.1 Hz), 2.54-2.6 1 (2H， m), 2.53 (1H, t, J=2.4 Hz)
製造例 60 '
製造例 3 0と同様の方法で 4ートリメチルシリルべンズアルデヒド 0. 5 8 g 及び 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} プロピオン 酸 0. 5 0 ^から — { 1 - (4ートリメチルシリルフエニル） 一 1ーシァノメ チル } —3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピ オンアミド （以下、 本発明化合物 6 1と記す。） 0. 2 5 gを得た。
Figure imgf000087_0002
1 H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.55 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.31 (2H， d, J=8.3 Hz), 6.95 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.70-6.73 (2H, m), 6.08 (1H, d, J=8.3 Hz), 5.78 (1H, br.d, J=7.9 Hz), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.83 (3H， s), 2.96 (2 H, t, J=7.5 Hz), 2.51-2.58 (2H, m), 2.48 (1H, t, }=2.4 Hz), 0.27 (9H, s) 製造例 6 1 N— { 1一 （4—クロ口フエニル） 一 1一シァノメチル } 一 3— （3—メトキ シー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエニル） プロピオンアミド （本発明化合物 1) 0. 64gを高速液体クロマトグラフィー （カラム： CHI RALPAK A D (2 cm X 25 cm), カラム温度：室温、 移動層：へキサン / 2—プロパノ ールノトリフルォロ酢酸 =70Z30Z0. 1、 流速 6ml/分） に付すことで 光学異性体を分離し、 （+) — N— {1— (4—クロ口フエニル） — 1ーシァノメ チル } 一 3— （3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエニル） プロピ オンアミド （以下、 本発明化合物 62と記す。） 0. 27 gおよび （一） 一 N— { 1一 （4—クロ口フエ二ル） 一 1一シァノメチル } 一 3— （3—メトキシ一 4— (2—プロピエルォキシ） フエニル） プロピオンアミド （以下、 本発明化合物 6 3と記す。） 0. 27 gを得た。
Figure imgf000088_0001
本発明化合物 62 '
比旋光度： [ ]D 22 +6. 3度 （C 1. 0、 クロ口ホルム）
1 H-NMR (CDC13， TMS) δ ( ριη)： 7.35-7.38 (2H， m), 7.22-7.24 (2H, m) , 6.94 (1H, d， J=7.8 Hz), 6.69-6.72 (2H, m) , 6.08 (1H, d, J=8.5 Hz), 5.87 (1H， br.d, J=8.5 Hz), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 3.82 (3H， s)， 2.95 (2H, t, J=7. 3 Hz), 2.48-2.63 (3H, m)
本発明化合物 63
比旋光度： 0]D 22 — 6. 4度 （C 1. 0、 クロ口ホルム）
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.35-7.38 (2H, m), 7.22-7.24 (2H, m), 6.94 (1H, d, J=7.8 Hz), 6.69-6.72 (2H, m) , 6.08 (1H， d, J=8.5 Hz), 5.87 (1H, br.d, J=8.5 Hz), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7. 3 Hz), 2.48-2.63 (3H, m)
製造例 62 '
製造例 1 6と同様の方法で 2—アミノー 2— （4一ブロムフエニル） ァセトニ トリル塩酸塩 0. 36 g及び 3— （3—メトキシー 4—エトキシフエニル） プロ ピオン酸 0. 30 から1^— { 1 - (4一ブロムフエニル） — 1一シァノメチル } 一 3— （3—メトキシ— 4一エトキシフエニル） プロピオンアミド （以下、 本 発明化合物 64と記す。） 0. 34 gを得た。
Figure imgf000089_0001
lH-NM (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.51 (2H, d， J=8.7 Hz), 7.15 (2H， d, J=8.7 Hz), 6.75 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.66-6.70 (2H, m), 6.07 (1H, d， J=8.3 Hz), 5.79 (m， br.d J=8.3 Hz), 4.06 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.83 (3H, s), 2.94 (2H ， t, J=7.1 Hz), 2.47-2.63 (2H， m), 1.46 (3H, t, J=7.1 Hz)
製造例 63
製造例 1 6と同様の方法で 2—ァミノ— 2— （4—メチルフエニル） ァセトニ トリル塩酸塩 0. 27 g及び 3— （3—メトキシー 4一エトキシフエニル） プロ ピオン酸 0. 3 08から1^— { 1 - (4一メチルフエニル） — 1一シァノメチル } - 3 - (3—メトキシー 4—エトキシフエニル） プロピオンアミド （以下、 本 発明化合物 6 5と記す。） 0. 24 gを得た。
Figure imgf000089_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm) : 7.17-7.22 (4H, m), 6.77 (1H， d, J=7.9 Hz), 6.67-6.70 (2H, m)， 6.04 (1H, d, J=7.9 Hz)， 5.75 (1H, br.d, J=7.9 Hz), 4. 06 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.83 (3H, s)， 2.94 (2H, t, J=7.1 Hz), 2.46-2.59 (2 H, m), 2.36 (3H, s), 1.45 (3H, t， J=7.1 Hz) 次に中間体の製造につき参考例として記す。
参考例 1
3— （4ーヒドロキシー 3—メトキシフエニル） アクリル酸 50 g、 5 %パラ ジゥム炭素 0. 5 g、 36 %塩酸約 0. 0 5 g、 エタノール 2 5 0ml及びテトラ ヒドロフラン 1 0 Omlを混合し、 水素雰囲気下で撹拌した。 水素ガスの吸収が停 止した後、 反応混合物を濾過し、 濾液を減圧下濃縮して、 3— (4—ヒドロキシ 一 3—メトキシフエニル) プロピオン酸 5 2 gを得た。
Figure imgf000089_0003
1 H-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 6.83 (1H, dd, J=7.3 Hz, 0.8 Hz), 6.81-6.70 (2H, m), 3.86 (3H， s)， 2.88 (2H, t， J=7.6 Hz), 2.65 (2H, t, J=7.6 Hz) 参考例 2
3 - (4ーヒドロキシ一 3—メトキシフエ二ル） プロピオン酸 50 g、 臭ィ匕プ 口パルギル 5 OmI、 炭酸カリウム 88 g及びァセトニトリル 50 Omlを混合し、 80°Cで 3時間撹拌した。 その後、 反応混合物を室温付近まで放冷し、 酢酸ェチ ルを加えて濾過した。 濾液を減圧下濃縮し 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロ ピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 2—プロピニル 67 gを得た。
Figure imgf000090_0001
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 6.96 (1H， d, J=7.8 Hz), 6.68-6.75 (2H, m), 4.73 (2H, d， J=2.2 Hz), 4.68 (2H, d， J=2.2 Hz), 3.87 (3H, s)， 2.93 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.67 (2H， t, J=7.3 Hz), 2.47-2.50 (2H, i)
参考例 3
3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フ： 二ル} プロピオン酸 2—プロピエル 67 g、 水酸化リチウム 8. 08 g、 テトラヒドロフラン 40 Om 1及び水 20 Omlを混合し、 65 °Cで 3時間撹拌した。 その後、 反応混合物を室温 付近まで放冷してから水を加え、 減圧下濃縮した。 残渣に 5%塩酸を加え、 クロ 口ホルムで 3回抽出した。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮 した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— { 3—ストキシ— 4一 （2—プロピエル ォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 51 gを得た。
Figure imgf000090_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm): 6.96 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.73-6.75 (2H, in), 4.73 (2H, d; J=2.4 Hz), 3.85 (3H, s)， 2.91 (2H, ϊ, J=8 Hz), 2.67 (2H, t, J=8 Hz), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz)
参考例 4
3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 12.' 7 g、 塩化チォニル 4. 3ιηΚ トルエン 100 ml及び Ν, N—ジメチルホ ルムアミド約 0. 05 gを混合し、 80°Cで 30分間撹拌した。 その後、 室温付 近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、 3— {3—メトキシ— 4一 （2—プ ロビニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸塩化物 14. 6 gを得た。
Figure imgf000091_0001
1 H-NMR (CDClg, TMS) (ppii)： 6.97 (1H， d, J=8.8 Hz), 6.72-6.74 (2H, m)， 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 3.87 (3H, s)， 3.19 (2H, t, 1=7.2 Hz), 2.99 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz)
参考例 5
3—エトキシー 4ーヒドロキシベンズアルデヒド 25 g、 臭化べンジル 27 g 、 炭酸カリウム 25 g及びァセトニトリル 25 Omlを混合し、 還流下で 3時間撹 拌した。 その後、 反応混合物を室温まで放冷してから酢酸ェチルを加え、 濾過し た。 得られた濾液を減圧下濃縮し、 残渣を t e r t一ブチルメチルエーテルとへ キサンで洗浄して、 4一ベンジルォキシー 3—エトキシベンズアルデヒド 36 g を得た。
Figure imgf000091_0002
1 H-NMR (CDC", TMS) δ (ppm)： 9.82 (1H, s), 7.28-7.44 (7H, m), 6.98 (1H, d, J=8.2 Hz), 5.24 (2H, s), 4.18 (2H, q, J=7.0 Hz), 1.49 (3H， t， J=7.0 H z)
参考例 6
ジェチルホスホノ酢酸ェチル 1 9 g及びテトラヒドロフラン 40 Omlを混合し 、 ここに氷冷下で水素化ナトリウム （含量 60%) 3. 3 g加え、 10分間撹拌 した。 ついで 4一ベンジルォキシー 3—エトキシベンズアルデヒド 20 gとテ卜 ラヒドロフラン 50 mlとの混合物を氷冷下で徐々に加え、 室温で 1時間撹拌した 。 得られた混合物に水を加え、 減圧下濃縮した後、 酢酸ェチルで抽出した。 得ら れた有機層を水、 PH6. 8緩衝液ついで飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシゥ ムで乾燥した後、 減圧下濃縮し、 得られた残渣をへキサンで洗浄して 3— {3- エトキシー 4一 （ベンジルォキシ） フエ二ル} アクリル酸ェチル 25 gを得た。
Figure imgf000091_0003
Ή-NMR (CDCI3, TMS) 6 (ppm)： 7.59 (1H, d, J=16 Hz), 7.28-7.44 (5H, m), .07 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.02 (1H, dd, J=8.3 Hz, 2.0 Hz), 6.86 (1H, d， J .3 Hz), 6.28 (lH, d， J=16 Hz), 5.18 (2H, s), 4.28 (2H, q, J=7.1 Hz), 4.3 1 (2H, q， J=6.8 Hz), 1.47 (3H， t, J=6.8 Hz), 1.33 (3H, t, J=7.1 Hz) 参考例 7
3 - { 3—エトキシー 4一 （ベンジルォキシ） フエ二ル} アクリル酸ェチル 2 3 g、 5%パラジウム炭素 0. 2 g、 36%塩酸約 0. 04 g、 エタノール 12 Oml及びテトラヒドロフラン 10 Omlを混合し、 水素雰囲気下で撹拌した。 水素 ガスの吸収が停止した後、 反応混合物を濾過し、 得られた濾液を減圧下濃縮し残 渣をへキサンで洗浄して、 3— （4ーヒドロキシー 3—エトキシフエニル） プロ ピオン酸ェチル 17 gを得た。
3— （4ーヒドロキシ一 3—エトキシフエニル） プロピオン酸ェチル
Figure imgf000092_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.83 (1H， d, J=8.0 Hz), 6.66-6.70 (2H, m), 5.55 (1H, s)， 4.01-4.15 (4H, m)， 2.86 (2H, t, J=7.8 Hz), 2.57 (2H, t， J= 7.8 Hz), 1.43 (3H, t, J=6.9 Hz), 1.23 (3H, t, J=7.2 Hz)
参考例 8
3- (4ーヒドロキシー 3—エトキシフエニル） プロピオン酸ェチル 16. 2 g、 臭化プロパルギル 7. 3ml、 炭酸カリウム 13. 2 g及びァセトニトリル 1 60mlを混合し、 80°Cで 2時間撹拌した。 その後、 反応混合物を室温付近まで 放冷し、 酢酸ェチルを加えて濾過した。 得られた濾液を減圧下濃縮し、 3— {3 —エトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸ェチル 18 . 8 gを得た。
Figure imgf000092_0002
1 H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm): 6.96 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.74 (1H, d, 1=1.9 Hz), 6.72 (1H, dd, J=8.0 Hz, 1.9 Hz), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.12 (2H， q, J=7.0 Hz), 4.07 (2H, q, J=7.0 Hz), 2.89 (2H， t， J=7.5 Hz), 2.59 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.48 (1H, t， 1=2 A Hz), 1.44 (3H, t, 1=7.0 Hz), 1.23 (3H, t， J=7.0 Hz)
参考例 9
3— {3—エトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 ェチル 28. 7 g、 水酸化リチウム 2. 3 g、 テトラヒドロフラン 180ml及び 水 60mlを混合し、 65°Cで 3時間撹拌した。 その後、 室温付近まで放冷した反 応混合物に水を加えて減圧下濃縮した。 混合物を t e r t—ブチルメチルエーテ ルで洗浄し、 得られた水層に 5%塩酸を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 飽和食塩水で洗浄後、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣を へキサンで洗浄して、 3— { 3—エトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ 二ル} プロピオン酸 1 5. 5 gを得た。
Figure imgf000093_0001
-賺 (CDC13， TMS) δ (ppm)： 6.97 (1H， d, J=8.2 Hz), 6.74 (1H， d, J=1.9 Hz), 6.73 (1H, dd， J=8.2 Hz, 1.9 Hz), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.08 (2H， Q, J=7.0 Hz), 2.90 (2H, t， J=7.7 Hz), 2.66 (2H, i, J=7.7 Hz), 2.48 (1H, i, J=2.4 Hz), 1.44 (3H, t， J=7.0 Hz)
参考例 10
3— { 3—エトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸
6. 7 g、 塩化チォニル 3. 2mK トルエン 10 Omi及び N， N—ジメチルホル ムアミド約 0. 03 gを混合し、 80°Cで 30分間ついで 1 0 Ot:で 30分間撹 拌した。 その後、 反応混合物を室温付近まで放冷してから減圧下濃縮し、 3— { 3—エトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸塩化物 1
7. 5 gを得た。
Figure imgf000093_0002
Ή-NM (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.98 (1H, d, J=8.3 Hz), 6.71-6.73 (2H, m)， 4.74 (2H, d; J=2.4 Hz), 4.08 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.18 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.95 (2H, i, J=7.6 Hz), 2.49 (1H， t, J=2.4 Hz), 1.45 (3H, t, J=7.1 Hz) 参考例 1 1
4—ァセチルー 2—メトキシフエノール 30 g、 臭化べンジル 32 g、 炭酸力 リウム 28 g及びァセトニトリル 30 Oinlを混合し、 還流下で 4時間撹拌した。 その後、 反応混合物を室温付近まで放冷してから酢酸ェチルを加え、 濾過した。 得られた濾液を減圧下濃縮し、 残渣をへキサンで洗浄して、 4- -べンジルォキシ 一 3—メトキシァセトフエノン 46 gを得た。
Figure imgf000094_0001
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.28-7.57 (7H, m), 6.89 (1H， d, J=8.3 Hz), 5.23 (2H, s), 3.94 (3H, s)， 2.54 (3H, s)
参考例 12
ジェチルホスホノ酢酸ェチル 18 g及びテトラヒドロフラン 40 Omlを混合し 、 氷冷下で水素化ナトリウム （含量 60%) 3. 2 g加え 1 0分間撹拌した。 つ いで 4—ベンジルォキシ一 3—メトキシァセトフエノン 20 gとテトラヒドロフ ラン 5 Omlの混合物を氷冷下徐々に加え、 室温で 2時間撹拌した。 得られた混合 物に水を加え、 減圧下濃縮した後、 酢酸ェチルで抽出した。 得られた有機層を水 ついで飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し、 得 られた残渣をシリカゲルカラムで精製して、 3— (3—メトキシー 4一べンジル ォキシフエニル） ブテン酸ェチル 17 gを得た。
Figure imgf000094_0002
-醒 (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.22-7.44 (5H, m)， 7.00-7.02 (2H, m)， 6.86 (1H, d, J=8.7 Hz), 6.09 (1H, q, J=1.2 Hz), 5.17 (2H， s), 4.21 (2H, q, J= 7.0 Hz), 3.92 (3H, s), 2.55 (3H， d, J=1.2 Hz), 1.31 (3H, t, J=7.0 Hz) 参考例 13
3— （3—メ卜キシー 4一べンジルォキシフエニル） プテン酸ェチル 1 0. 0 g、 10%パラジウム炭素 1. O g、 濃塩酸 1 5πιΙ、 10%白金炭素 0. 5 g及 びエタノール 10 Omlを混合し、 水素雰囲気下で撹拌した。 水素ガスの吸収が停 止した後、 反応混合物を濾過し、 濾液を減圧下濃縮した。 残渣を酢酸ェチルで洗 浄して、 3 _ (4—ヒドロキシ一 3—メトキシフエ二ル） 酪酸ェチル 7. 24 g を得た。
Figure imgf000094_0003
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.83 (1H, d， J=8.7 Hz), 6.70-6.75 (2H, m)， 5.50 (1H, br.s), 4.07 (2H, q， J=7.0 Hz), 3.87 (3H， s), 3.15-3.26 (1H， m) , 2.46-2.63 (2H, m), 1.27 (3H, d, J=6.7 Hz), 1.19 (3H, t, J=7.0 Hz) 参考例 14
3— （4—ヒドロキシ— 3—メトキシフエ二ル） 酪酸ェチル 7. 14g、 臭ィ匕 ベンジル 3. 93 g、 炭酸カリウム 4. 98 g及ぴァセトニトリル 5 Omlを混合 し、 8 Otで 4時間撹拌した。 その後、 反応混合物を室温付近まで放冷し、 水を 加えて酢酸ェチルで抽出した。 得られた有機層を水、 飽和食塩水で順次洗浄して 、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し、 3— { 3—メトキシー 4一 ( 2—プロピエルォキシ） フエ二ル} 酪酸ェチル 8. 3 gを得た。
Figure imgf000095_0001
-腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.96 (1H, d, J=8.9 Hz), 6.73-6.78 (2H, m)， 4.72 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.08 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.86 (3H, s), 3.18-3.29 (1H, m), 2.47-2.63 (3H, m)， 1.28 (3H, d, J=7.0 Hz), 1.19 (3H, t, J=7.1 H z) '
参考例 15
3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} 酪酸ェチル 8 . 0 g、 水酸化リチウム 1. 04 g、 テトラヒドロフラン 40ml及び水 1 5mlを 混合し、 65 で 4時間撹拌した。 その後、 室温付近まで放冷した反応混合物に 水を加えて減圧下濃縮した。 残渣に 5%塩酸を加え、 クロ口ホルムで 3回抽出し 、 有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄した。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥 した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— { 3—メトキシー 4 - (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} 酪酸 7. 0 gを得た。
Figure imgf000095_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.97 (1H, d, J=8.8 Hz), 6.74-6.78 (2H, m)， 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 3.86 (3H, s), 3.17-3.30 (1H, m), 2.52-2.70 (2H, m)， 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.31 (3H, d， J=7.1 Hz)
参考例 16
3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} 酪酸 7. 0 g 、 塩化チォニル 5. 0 g及びトルエン 10 Omlを混合し、 50°Cで 30分間撹拌 し、 次いで 80°Cで 3時間撹拌した。 その後、 反応混合物を室温まで放冷してか ら減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— {3—メトキシ— 4— (2 一プロピニルォキシ〉 フエ二ル} 酪酸塩化物 6. 3 gを得た。
Figure imgf000096_0001
!H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.97 (1H， d, J=7.7 Hz), 6.72-6.78 (2H， m), 4.73 (2H， d， J=2.4 Hz), 3.87 (3H, s)， 3.25-3.35 (1H, m)， 3.04-3.21 (2H, m), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.34 (3H, d， J=7.0 Hz)
参考例 17
4一ベンジルォキシ— 3—メトキシベンズアルデヒド 30 g、 プロピオン酸ナ トリウム 1 2 g及び無水プロピオン酸 24 gを混合し、 1 50°Cで 6時間撹拌し た。 その後、 反応混合物を室温まで放冷してから水を加えて酢酸ェチルで抽出し た。 得られた有機層を 5%塩酸ついで飽和食塩水で 2回で洗浄し、 硫酸マグネシ ゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた残渣をトルエン及びへキサンで洗 净して 3— (3—メトキシー 4一べンジルォキシフエニル） 一 2—メチルァクリ ル酸 28 gを得た。
Figure imgf000096_0002
1 H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.74 (1H， br.s), 7.29-7.45 (5H, m)， 6.99-7. 04 (2H, m), 6.91 (1H, d, J=8.9 Hz), 5.20 (2H, s), 3.91 (3H, s)， 2.16 (3H ， d, J=1.3 Hz)
参考例 18
エタノール 75 mlと塩化ァセチル 9 mlとを混合し、 室温で 10分間撹拌した混 合物に、 3— （3—メトキシ— 4—ベンジルォキシフエニル） 一 2—メチルァク リル酸 8. 3 gを加え、 還流下で 2時間撹拌した。 反応混合物を室温付近まで放 冷してから濾過し、 得られた濾液を減圧下濃縮した。 得られた残渣に、 10%パ ラジウム炭素 1. 0 g、 10%白金炭素 0. 5 g、 36%塩酸 1 5 ml'及びェ夕ノ —ル 80mlを混合し、 水素雰囲気下で撹拌した。 水素ガスの吸収が停止した後、 反応混合液を濾過し、 得られた濾液を減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄し て、 3— （4ーヒドロキシ一 3—メトキシフエニル） 一 2—メチルプロピオン酸 ェチル 5.4 gを得た。
Figure imgf000097_0001
【H - NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm) : 6.81 (1H, d, J=8.5 Hz), 6.64-6.66 (2H, m)， 5.46 (1H, br.s), 4.09 (3H, q, J=7.1 Hz), 3.86 (3H, s)， 2.94 (1H, dd， J=l 3.3 Hz, 6.8 Hz), 2.56-2.72 (2H, in), 1.20 (3H, t， J=7.1 Hz), 1.14 (3H, d, J=7.0 Hz)
参考例 1 9
参考例 1 4と同様の方法で、 3— （3—ヒドロキシ— 4—メトキシフエ二ル） — 2—メチルプロピオン酸ェチル 5. 4 gから 3— {3—メトキシー 4一 (2 - プロピニルォキシ） フエ二ル} 一 2—メチルプロピオン酸ェチル 6. 8 gを得た
Figure imgf000097_0002
Ή-NMR (CDC13， TMS) d (ppm)： 6.94 (1H, d, J=8.8 Hz), 6.68-6.74 (2H, m),
4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 4. 09 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.85 (3H, s)， 2.92-3.01
(1H, m), 2.58-2.74 (2H， m), 2.48 (1H， t, J-2. Hz), 1.19 (3H, t， J=7.2 H z), 1.15 (3H, d, J=6.8 Hz)
参考例 20
参考例 1 5と同様の方法で、 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキ シ） フエ二ル} 一 2—メチルプロピオン酸ェチル 6. 5 0 gから 3— { 3—メト キシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} — 2—メチルプロピオン酸 5. 3 3 を得た。
Figure imgf000097_0003
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 6.95 (1H, d， J=8.7 Hz), 6.70-6.75 (2H, m)， 4.73 (2H, d, 1=2.2 Hz), 3.84 (3H, s), 2.97-3.06 (1H, m), 2.58-2.80 (2H, m), 2.49 (1H, t, 1=2Λ Hz), 1.19 (3H， d, J=6.7 Hz)
参考例 2 1
6と同様の方法で、 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキ シ） フエエル） 一 2—メチルプロピオン酸 5. 03 gから 3— {3—メトキシ一 4- (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} 一 2—メチルプロピオン酸塩ィ匕物 5. 09 gを得た。
Figure imgf000098_0001
(H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.96 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.72-6.75 (2H, m), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.85 (3H, s)， 3.07-3.18 (2H, m), 2.67-2.77 (1H， m), 2.49 (1H， t, J=2.4 Hz), 1.28 (3H, d, J=6.8 Hz)
参考例 22 ·
4ーヒドロキシ— 3—メトキシベンズアルデヒド 20 g、 酢酸ナトリウム 2 1 g及び無水酢酸 40 gを混合し、 1 50°C (バス温） で 6時間撹拌した。 その後 、 反応混合物を室温まで放冷してから水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 得られ た有機層を水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得ら れた残渣にトルエンを加えて濾過した。 得られた固体をトルエン及びへキサンで 洗浄後、 乾燥して、 3— (3—メトキシー 4ーァセトキシフエ二ル） アクリル酸 14gを得た。
Figure imgf000098_0002
Ή-NMR (CD3 S0CD3 , TMS) δ (ppm)： 12.4 (1H, br.s), 7.60 (1H, d， J=15 Hz), 7.60 (1H, s)， 7.25 (1H, d， J=8.0 Hz), 7.11 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.58 (1H, d， J=15 Hz), 3.82 (3H, s), 2.26 (3H, s)
参考例 23
参考例 1 8と同様の方法で、 3— （3—メトキシー 4ーァセトキシフエ二ル） アクリル酸 10 gから 3— （3—メトキシー 4ーァセトキシフエニル） プロピオ ン酸 9. 7 gを得た。
Figure imgf000098_0003
1 H-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 6.94 (1H， d, J=8.0 Hz), 6.76—6.81 (2H, m) , 3.81 (3H, s), 2.95 (2H, i， J=7.5 Hz), 2.69 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.30 (3H, s)
参考例 24
4一ベンジルォキシー 3—メトキシベンズアルデヒド 100 g、 ジェチルホス ホノ酢酸ェチル 120 g、 炭酸カリウム 57 Og及び水 57 Omlを混合し、 還流 下で 20時間撹拌した。 その後、 反応混合物を室温まで放冷してから水を加えて 酢酸ェチルで 2回抽出した。 得られた有機層を水ついで飽和食塩水で洗浄し、 硫 酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた残渣をエタノールから 再結晶して、 3— { 3—メトキシー 4— (ベンジルォキシ） フエ二ル} アクリル 酸ェチル 58. 6 gを得た。
Figure imgf000099_0001
Ή- MR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.60 (1H, d， J=15 Hz), 7.29-7.44 (5H， m), .06 (1H, d, J=1.9 Hz), 7.02 (1H, dd, J=8. Hz, 1.9 Hz), 6.86 (1H, d, J .2 Hz), 6.29 (1H, d, J=15 Hz), 5.18 (2H， s), 4.25 (2H, q, J=7.3 Hz), 3 1 (3H, s)， 1.33 (3H, t, J=7.3 Hz)
参考例 25
3- {3—メトキシー 4一 （ベンジルォキシ） フエ二ル} アクリル酸ェチル 3 3 g、 5%パラジウム炭素 0. 3 g、 36%塩酸約 0. 05 g及びエタノール 2 00mlを混合し、 水素雰囲気下で撹拌した。 水素ガスの吸収が停止した後、 反応 混合物を濾過し、 濾液を減圧下濃縮した。 残渣に、 酢酸ェチルと水とを加え分液 した。 得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 活性炭約 5 g及び苛性 白土約 5 gを加えて濾過し、 濾液を減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して 、 3— （4—ヒドロキシー 3—メトキシフエニル） プロピオン酸ェチル 23 gを 得た。
Figure imgf000099_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.82 (1H, d， J=7.7 Hz), 6.67-6.70 (2H, m)， 5.47 (1H, s), 4.19 (2H, q, J=7.2 Hz), 3.87 (3H, s), 2.88 (2H， t， J=7.5 H z), 2.58 (2H, t, J=7.5 Hz), 1.24 (3H, 1, J=7.2 Hz) 参考例 26
3—ヒドロキシー 4ーメトキシベンズアルデヒド 15. 2 g、 臭化べンジル 1 8. 0 g、 炭酸カリウム 15. 2 g及びァセトニトリル 200mlを混合し、 80 °Cで 3時間撹拌した。 その後、 反応混合物を室温付近まで放冷し、 酢酸ェチルを 加えて濾過した。 濾液を減圧下濃縮し、 残渣をシリカゲルカラムで精製して、 （3 —ベンジルォキシー 4ーメトキシ） ベンズアルデヒド 23. 3 gを得た。
Figure imgf000100_0001
Ή-NMR (CDC13, T S) δ (卿）: 9.80 (1H, s), 7.30-7.48 (7H, m)， 6.98 (1H, d, J=8.7 Hz) , 5.118 (2H, s)， 3.95 (3H, s)
参考例 27
水素化ナトリウム 2. 1 g及びテトラヒドロフラン 150mlを 0〜5 °Cで混合 し、 ジェチルホスホノ酢酸ェチル 11. 2 gを少しずつ滴下した。 滴下後、 室温 で 30分間撹拌した。 次いで、 （3—ベンジルォキシー 4—メトキシ） ベンズアル デヒド 12. 1 gのテトラヒドロフラン混合液を滴下し、 0〜5°Cで 15分間撹 拌し、 室温で 30分間撹拌した。 その後、 水を加えて酢酸ェチルで分液し、 有機 層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサン洗浄して 、 3— （3—ベンジルォキシー 4—メトキシフエ二ル） アクリル酸ェチル 14. 1 gを得た。
Figure imgf000100_0002
Ή-NMR (CDC"， TMS) δ (ppm)： 7.56 (1H, d, J=15.7 Hz), 7.42-7.47 (2H, m), 7.34-7.41 (2H, m)， 7.27-7.34 (1H， m)， 7.11 (1H, dd, J=8.2 Hz, 1.9 Hz),
7.07 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.87 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.22 (1H, d, J=15.6 Hz), 5.15 (2H， 's)， 4.24 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.91 (3H, s), 1.32 (3H, t, J=7.0
Hz)
参考例 28
3— （3—ベンジルォキシ— 4ーメトキシフエニル） アクリル酸ェチル 8. 0 g、 10%パラジウム炭素 0. 8 g及びエタノール 8 Omlを混合し、 水素雰囲気 下で撹拌した。 水素ガスの吸収が停止した後、 反応混合物を濾過し、 濾液を減圧 下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— （3—ヒドロキシー 4ーメトキシ フエニル） プロピオン酸ェチル 5. 53 gを得た。 HCHCQ
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (摩）: 6.74-6.78 (2H， m)， 6.67 (1H, dd， J=8.1 Hz, 2.0 Hz), 5.55 (1H， br.s), 4.12 (2H， q, J=7.0 Hz), 3.86 (3H, s), 2.85 (2H ， t, J=7.9 Hz), 2.57 (2H, t, J=7.9 Hz), 1.23 (3H, t, J=7.1 Hz)
参考例 29
参考例 14と同様の方法で、 3— （3—ヒドロキシー 4ーメトキシフエ二ル） プロピオン酸ェチル 2. 24 gから 3— { 4ーメトキシー 3— （2—プロピニル ォキシ） フエ二ル} プロピオン酸ェチル 2. 53 gを得た。
Figure imgf000101_0001
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 6.79-6.89 (3H, m), 4.74' (2H, d, J=2.4 Hz), 4.12 (2H， q, J=7.1 Hz), 3.84 (3H, s), 2.89 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.59 (2H， t, J=7.6 Hz), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.24 (3H, t, J=7.1 Hz)
参考例 30
参考例 1 5と同様の方法で、 3— { 4—メトキシー 3— （2—プロピエルォキ シ） フエ二ル} プロピオン酸ェチル 2, 53 gから 3— {4ーメトキシー 3— ( 2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 1. 93 gを得た。
Figure imgf000101_0002
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm): 6.80-6.90 (3H, m)， 4.75 (2H, d， 1=2 A Hz), 3.84 (3H, s ， 2.91 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.66 (2H， t, J=7.6 Hz), 2.49 (1H, t， J-2.4 Hz)
参考例 31
3， 4—ジヒドロキシベンズアルデヒド 1 0. 36 g、 臭化べンジル 25. 6 5、 炭酸カリウム 22. 8 ^及び^^， N—ジメチルホルムアルデヒド 200mlを 混合し、 室温で 3時間撹拌した。 その後、 反応混合物に水を加え酢酸ェチルで抽 出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 飽和食塩水で順次洗浄して、 硫酸マグネシウム で乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3， 4一ビス （ベ ンジルォキシ） ベンズアルデヒド 23. 27 gを得た。
Figure imgf000102_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ ( )： 9.80 (1Η, s)， 7.27-7.49 (12H, m), 7.01 (1H, d, J=8.1 Hz), 5.25 (2H, s), 5.21 (2H, s)
参考例 32
水素化ナトリウム 1. 88 g及びテトラヒドロフラン 1501111を0〜5°(で混 合し、 ジェチルホスホノ酢酸ェチル 1 0. 0 gを少しずつ滴下した。
滴下後、 室温で 30分間撹拌した。 次いで、 3, 4—ビス （ベンジルォキシ） ベ ンズアルデヒド 1 14. 3 gのテトラヒドロフラン混合波を滴下し、 0~5°Cで 1 5分間撹拌し、 室温で 30分間撹拌した。 その後、 水を加えて酢酸ェチルで分 液し、 有機層を 5%塩酸、 水、 飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾 燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサン洗浄して、 3— {3, 4一ビス （ベ ンジルォキシ） フエ二ル} アクリル酸ェチル 16. 54 gを得た。
Figure imgf000102_0002
Ή-NMR (CDC1 TMS) δ (ppm)： 7.55 (1H, d, 】=15.6 Hz), 7.26-7.47 (10H, m)
, 7.11 (1H, d， J=1.9 Hz), 7.05 (1H, dd, J=8.3 Hz, 2.0 Hz), 6.90 (1H, d，
J=8.4 Hz), 6.23 (1H， d, J=15.9 Hz), 5.18 (2H， s), 5.16 (2H， s), 4.23 (2H , q, J=7.0 Hz), 1.33 (3H, t， J=7.1 Hz)
参考例 33
3 - {3, 4一ビス （ベンジルォキシ） フエ二ル} アクリル酸ェチル 10. 0 g、 10%パラジウム炭素 0. 5 g及びエタノール 150mlを混合し、 水素雰囲 気下で撹拌した。 水素ガスの吸収が停止した後、 反応混合物を濾過し、 濾液を減 圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— (3, 4ージヒドロキシフエ二 ル） プロピオン酸ェチル 5. 17 gを得た。
Figure imgf000102_0003
'Η -画 R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.76 (1H, d， J=8.0 Hz), 6.70 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.61 (1H, dd, J=8.0 Hz, 1.7 Hz), 5.31 (2H, br.s), 4.13 (2H, q, J=7. 0 Hz), 2.83 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.58 (2H， t, J-7.7 Hz), 1.23 (3H, t， J=7. 0 Hz)
参考例 34
3— （3， 4ージヒドロキシフエニル） プロピオン酸ェチル 5. 1 7 g、 臭化 プロパルギル 5. 8 5 g、 炭酸カリウム 7. 48 g及びァセトニトリル 6 Omlを 混合し、 8 0°Cで 3時間撹拌した。 その後、 反応混合物を室温付近まで放冷し、 水を加え酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5 %塩酸、 水、 飽和食塩水で順次洗浄 して、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮して、 3— {3, 4一ビス （ 2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸ェチル 6. 49 gを得た。
Figure imgf000103_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.97 (1H， d, J=8.2 Hz), 6.90 (1H, d, J=2.1 Hz), 6.80 (1H, dd, J=8.0 Hz, 1.9 Hz), 4.73 (2H, d, 1=2 A Hz), 4.72 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.12 (2H, q, J=7.0 Hz), 2.90 (2H, t, J^7.8 Hz), 2.59 (2H, t, J=7.8 Hz), 2.50 (1H, t， J=2.4 Hz), 2.49 (1H, t， 1=2 A Hz), 1.23 (3H, t, J=7.1 Hz)
参考例 3 5
3— { 3， 4一ビス （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸ェチル 6. 1 7 g、 水酸化リチウム 0. 7 7 g、 テトラヒドロフラン 3 0ml及び水 1 5m 1を混合し、 6 5でで 3時間撹拌した。 その後、 反応混合液を室温付近まで放冷し てから減圧下濃縮した。 残渣に 5 %塩酸を加え、 クロ口ホルムで 3回抽出した。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗. 浄して、 3— { 3， 4一ビス （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 4. 5 9 gを得た。
Figure imgf000103_0002
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.98 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.92 (1H, d， J=1.9 Hz), 6.81 (1H, dd, J=8.2 Hz, 1.9 Hz), 4.74 (2H， d, 1=2 A Hz), 4.73 (2H, d, ]=2 A Hz), 2.92 (2H， t, J=7.6 Hz), 2.67 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.50 (1H, t, J=2.4 Hz), 2.49 (1H, t, J=2. Hz)
参考例 3 6 3— (4—ヒドロキシー 3—メトキシフエ二ル） プロピオン酸ェチル 2. 24 g、 ヨウ化工チル 1. 72 g、 炭酸カリウム 1. 66 及び1^， N—ジメチルホ ルムアルデヒド 50mlを混合し、 室温で 4時間撹拌した。 その後、 反応混合物に 水を加えて t e r t一プチルメチルェ一テルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水 、 飽和食塩水で順次洗浄して、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し、 3- {4—エトキシー 3—メトキシフエ二ル} プロピオン酸ェチル 2. 52 gを 得た。
Figure imgf000104_0001
Ή-NMR (COClz, TMS) δ (ppm)： 6.79 (IE, ά, J=7.7 Hz), 6.69-6.74 (2H, ), 4.12 (2H， q, J=7.0 Hz), 4.07 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.85 (3H, s)， 2.89 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.59 (2H, t, J=7.5 Hz), 1.44 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.23 (3H, t, J=7.0 Hz)
参考例 37
3 - { 4一エトキシ一 3—メトキシフエ二ル} プロピオン酸ェチル 2. 52 g 、 25%水酸化ナトリウム水溶液 3. 2 mlを混合し、 エタノールを混合液が均一 になるまで加え、 78°Cで 2時間撹拌した。 その後、 反応混合液を減圧下濃縮し た。 残渣に 5%塩酸を加え、 クロ口ホルムで 3回抽出した。 有機層を硫酸マグネ シゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— {4一 エトキシ一 3—メトキシフエ二ル} プロピオン酸 1. 80 gを得た。
Figure imgf000104_0002
1 H-NMR (CDC"， TMS) <5 ( pm)： 6.79 (1H， d, J=8.0 Hz), 6.70-6.75 (2H, m)， 4.07 (2H, q', J=7.0 Hz), 3.85 (3H, s)， 2.90 (2H, t, J=7.8 Hz), 2.66 (2H, t, J=7.7 Hz), 1.44 (3H, t, J=7.0 Hz)
参考例 38
3— (4—ヒドロキシ一 3—メトキシフエ二ル） プロピオン酸ェチル 2. 24 g、 ヨウ化プロピル 1. 87 g、 炭酸カリウム 1. 66 及び1^, N—ジメチル ホルムアルデヒド 5 Omlを混合し、 室温で 2時間撹拌し、 次いで 80°Cで 1時間 撹拌した。 その後、 反応混合物に水を加えて醉酸ェチルで抽出した。 有機層を 5 %塩酸、 水、 飽和食塩水で順次洗浄して、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧 プロポキシフエニル） プロピオン酸ェチル
Figure imgf000105_0001
'H-NMR (CDCI3, TMS) d (ppm)： 6.79 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.69-6.73 (2H, m), 4.12 (2H， q， J=7.1 Hz), 3.94 (2H, t, J=6.8 Hz), 3.84 (3H, s), 2.85-2.92 (2H， m), 2.59 (2H， t, J=7.8 Hz), 1.78-1.90 (2H, m), 1.23 (3H, i, J=7.1 H z)， 1.02 (3H, t， J=7.3 Hz)
参考例 39
3— （3—メトキシー 4—プロポキシフエニル） プロピオン酸ェチル 2. 33 g、 25%水酸化ナトリウム水溶液 2. 8mlを混合し、 エタノールを混合液がほ ぼ均一になるまで加え、 78°Cで 2時間撹拌した。 その後、 反応混合液を室温付 近まで放冷してから減圧下濃縮した。 残渣に 5%塩酸を加え、 クロ口ホルムで 3 回抽出した。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣を へキサンで洗浄して、 3— （3—メトキシー 4一プロポキシフエニル） プロピオ ン酸 1. 72 gを得た。
Figure imgf000105_0002
^-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.80 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.70-6.74 (2H, m), 3.95 (2H， t, J=6.7 Hz), 3.85 (3H， s)， 2.90 (2H, t, J=7.8 Hz), 2.66 (2H, t, J=7.7 Hz), 1.79-1.91 (2H, m), 1.02 (3H, t， J=7.3 Hz)
参考例 40
3— （4ーヒドロキシー 3—メトキシフエニル） プロピオン酸ェチル 2. 24 g、 臭化ァリル 1. 33 g、 炭酸カリウム 1. 668及び1^, N—ジメチルホル ムアルデヒド 5 Omlを混合し、 室温で 2時間撹拌し、 次いで 80°Cで 4時間撹拌 した。 室温付近まで放冷した反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有 機層を 5%塩酸、 水、 飽和食塩水で順次洗浄して、 硫酸マグネシウムで乾燥した 後、 減圧下濃縮し、 3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロべニルォキシ） フエ二 ル} プロピオン酸ェチル 2. 40 gを得た。
Figure imgf000106_0001
1 H-NMR (CDClg, TMS) δ (ppin)： 6.77-6.85 (1H, m), 6.67-6.75 (2H, m), 6.01- 6.15 (1H, m), 5.33-5.43 (1H, m), 5.23-5.29 (1H, m), 4.55-4.59 (2H, m)， 4 .08-4.17 (2H， m)， 3.85 (3H, s), 2.84-2.92 (2H, m), 2.59 (2H， t, J=7.7 Hz ), 1.23 (3H, t, J=7.3 Hz)
参考例 41
3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロぺニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 ェチル 2. 40 g、 2 5 %水酸化ナトリウム水溶液 2. 9 mlを混合し、 エタノー ルを混合液がほぼ均一になるまで加え、 還流下で 2時間撹拌した。 その後、 室温 付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮した。 残渣に 5 %塩酸を加え、 クロ口 ホルムで 3回抽出した。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し た。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロべニルォ キシ） フエ二ル} プロピオン酸 1. 6 0 gを得た。
Figure imgf000106_0002
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 6.80 (1H, d， J=8.0 Hz), 6.70-6.75 (2H， m), 6.01-6.13 (1H， ), 5.25-5.42 (2H, m), 4.57-4.60 (2H, m), 3.85 (3H, s), 2 .90 (2H， t, J=7.6 Hz), 2.66 (2H, t, J=7.6 Hz)
参考例 42
3 - (4ーヒドロキシー 3—メトキシフエ二ル） プロピオン酸ェチル 2. 24 g、 臭化イソプロピル 1. 3 5 g、 炭酸カリウム 1. 6 6 g及びN， N—ジメチ ルホルムアルデヒド 5 Omlを混合し、 室温で 2時間、 次いで 8 0°Cで 4時間撹拌 した。 室温付近まで放冷した反応混合物に水を加えて酢酸ェチルで抽出した。 有 機層を 5%塩酸、 水、 飽和食塩水で順次洗浄して、 硫酸マグネシウムで乾燥した 後、 減圧下濃縮し、 3— (4—イソプロポキシ一 3—メトキシフエニル） プロピ オン酸ェチル 1. 1 9 gを得た。
Figure imgf000106_0003
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.81 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.73 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.70 (1H， dd， J=8.0 Hz, 1.9 Hz), 4.41-4.52 (1H, m)4.12 (2H， q, J=7. 0 Hz), 3.83 (3H, s)2.88 (2H, t, J=7.8 Hz), 2.59 (2H, t, J=7.8 Hz), 1.34 (6H， d， J=6.1 Hz), 1.23 (3H, t, J=7.2 Hz)
参考例 43
3— （4—イソプロポキシ一 3—メトキシフエ二ル） プロピオン酸ェチル 1.
1 9 g、 2 5 %水酸化ナトリウム水溶液 1. 1mlを混合し、 エタノールを混合液 がほぼ均一になるまで加え、 7 8°Cで 2時間撹拌した。 その後、 反応混合液を減 圧下濃縮した。 残渣に 5 %塩酸を加え、 クロ口ホルムで 3回抽出した。 有機層を 硫^マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、
3- (4—イソプロポキシ— 3—メトキシフエ二ル） 一プロピオン酸 0. 9 8 g を得た。
Figure imgf000107_0001
1 H-NMR (CDC13-, TMS) δ (ppm) : 6.82 (1H, d， J=8.0 Hz), 6.73 (1H, d, J=1.7 Hz), 6.71 (1H, dd, J=8.0 Hz, 1.9 Hz), 4.43-4.51 (1H, m)， 3.83 (3H， s)， 2 .90 (2H， t， J=7.8 Hz), 2.66 (2H, t, J=7.8 Hz)， 1.35 (6H， d, J=6.0 Hz) 参考例 44
2—フルォロエタノール 3. 2 g、 卜リエチルァミン 6. 5 6 g及びテトラヒ ドロフラン 5 Omlを混合し、 ここに Ot:で塩化メタンスルホン酸 6. 3 gを滴下 し、 0°Cで 3 0分間、 次いで室温で 2時間撹拌した。 その後、 反応混合液を減圧 下濃縮した。 残渣に水を加えて酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5 %塩酸、 水、 . 飽和食塩水で順次洗浄して、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し、 メ タンスルホン酸 （2—フルォロェチル） 4. 5 0 gを得た。
Figure imgf000107_0002
-醒 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 4.67 (2H, ddd, J=47 Hz, 4.0 Hz, 4.0 Hz), 4. 47 (2H, ddd, J-27 Hz, 4.1 Hz, 4.1 Hz), 3.19 (3H, s)
参考例 45
3— （4ーヒドロキシ— 3—メトキシフエ二ル） プロピオン酸ェチル 1. 1 2 g、 メタンスルホン酸 （2—フルォロェチル） 0. 8 5 g、 炭酸カリウム 1. 0 3 g及びァセトニトリル 2 5mlを混合し、 8 0°Cで 4時間撹拌した。 室温付近ま で放冷した反応混合物に水を加えて酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5 %塩酸、 水、 飽和食塩水で順次洗浄して、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し 、 3— {4一 （2—フルォロエトキシ） 一 3—メトキシ一フエ二ル} プロピオン 酸ェチル 1. 08 gを得た。
Figure imgf000108_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.83 (1H， d, J=8.0 Hz), 6.70-6.77 (2H, m), 4.75 (2H, ddd, J=4.2 Hz, 4.2 Hz, 47 Hz), 4.24 (2H， ddd, J=4. Hz, 4.2 Hz , 27 Hz), 4: 12 (2H, a, J=7.2 Hz), 3.85 (3H, s), 3.85 (2H, t， J=7.6 Hz), 2.59 (2H, t, J=7.6 Hz), 1.23 (3H, t, J=7.2 Hz)
参考例 46
3- {4- (2—フルォロエトキシ） 一 3—メトキシフエ二ル} プロピオン酸 ェチル 1. 00 g、 25%水酸化ナトリウム水溶液 0. 9mlを混合し、 エタノー ルを混合液がほぼ均一になるまで加え、 78 Cで 2時間撹拌した。 その後、 反応 混合液を減圧下濃縮した。 残渣に 5%塩酸を加え、 クロ口ホルムで 3回抽出した 。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで 洗浄して、 3— {4— (2—フルォロエトキシ） 一 3—メトキシフエ二ル} プロ ピオン酸 0. 79 gを得た。
Figure imgf000108_0002
Ή-NM (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.85 (1H， d, J=8.3 Hz), 6.71-6.77 (2H, m), 4.87 (2H, ddd, J=4.3 Hz, 4.32 Hz, 47 Hz), 4.24 (2H， ddd, J=4.3 Hz, 4.3 H z, 27 Hz), 3.85 (3H, s)， 2.91 (2H, t， J=7.7 Hz), 2.67 (2H, i, J=7.7 Hz) 参考例 47 '
3— （4ーヒドロキシ— 3—メトキシフエ二ル） プロピオン酸ェチル 1. 12 g 、 1一ブロモ— 2—ブチン 0. 80 g、 炭酸カリウム 1. 03 g及びァセトニト リル 25mlを混合し、 8 で 4時間撹拌した。 室温付近まで放冷した反応混合 物に水を加えて酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 飽和食塩水で順 次洗浄して、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し、 3— {4- (2— プチニルォキシ） 一 3—メトキシフエ二ル} プロピオン酸ェチル 1. 10 gを得 た。
Figure imgf000109_0001
^- MR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 6.92 (1H d, J=8.8 Hz), 6.70-6.75 (2H, m)， 4.68 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.13 (2H q, J=7.0 Hz), 3.85 (3H, s)， 2.90 (2H t, J=7.8 Hz), 2.60 (2H t, J=7.8 Hz), 1.83 (3H, t, J=2.4 Hz)， 1.24 (3H, t, J=7.2 Hz)
参考例 48
3 - {4- (2—プチニルォキシ） 一 3—メトキシフエ二ル} プロピオン酸ェ チル 1. 1 0 g 2 5 %水酸化ナトリウム水溶液 1. Omlを混合し、 エタノール を混合液がほぼ均一になるまで加え、 7 8°Cで 2時間撹拌した。 その後、 反応混 合液を減圧下濃縮した。 残渣に 5 %塩酸を加え、 クロ口ホルムで 3回抽出した。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗 浄して、 3— {4一 （2—プチニルォキシ） 一 3—メトキシフエ二ル} プロピオ ン酸 0. 84 gを得た。
Figure imgf000109_0002
'Η -應 R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.94 (1H, d J=8.7 Hz), 6.72-6.76 (2H m), 4.66-4.70 (2H, m), 3.85 (3H, s)， 2.91 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.67 (2H, t, J= 7.7 Hz), 1.83 (3H, t, J=2.3 Hz)
参考例 49
3—ブチン一 2一オール 3. 5 g、 トリェチルァミン 6. 5 6 g及びテトラヒ ドロフラン 5 Omlを混合し、 ここに 0°Cで塩化メタンスルホン酸 6. 3 gを滴下 して加え、 0°Cで 3 0分間、 次いで室温で 4時間撹拌した。 その後、 反応混合液 を減圧下濃縮した。 残渣に水を加えて酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5 %塩酸 、 水、 飽和食塩水で順次洗浄して、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮 し、 メタンスルホン酸 （1ーメチルー 2—プロピニル） 4. 8 gを得た。
Figure imgf000109_0003
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 5.29 (1H, dq, J=6.8 Hz, 2.2 Hz), 3.12 (3H, s)， 2.71 (1H d, J=1.9 Hz), 1.66 (3H, d, J=6.6 Hz) 参考例 50
3— （4ーヒドロキシ— 3—メトキシフエ二ル） プロピオン酸ェチル 1. 12 g> メタンスルホン酸 （1ーメチルー 2—プロピエル） 0. 89 g、 炭酸力リウ ム 1. 03 g及びァセトニトリル 25mlを混合し、 801：で 4時間撹拌した。 室 温付近まで放冷した反応混合物に水を加えて酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5 %塩酸、 水、 飽和食塩水で順次洗浄して、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧 下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム精製に付し、 3— {3—メトキシー 4一 ( 1—メチルー 2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸ェチル 0. 53 g を得た。
Figure imgf000110_0001
'H-N R (CDC13, TMS) 6 (ppm)： 7.00 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.70-6.76 (2H, m), 4.82-4.90 (1H, m)4.12 (2H, q, 1=1.2 Hz), 3.84 (3H, s), 2.90 (2H, t, J=7. 8 Hz), 2.60 (2H, t， J=7.8 Hz), 2.44 (1H, d, J=2.4 Hz), 1.69 (3H, d, J-6. 4 Hz), 1.25 (3H, t, J=7.2 Hz)
参考例 51
3- { 3—メトキシー 4— (1ーメチルー 2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸ェチル 0. 37 g及び 25%水酸化ナトリウム水溶液 0. 3mlを混 合し、 エタノールを混合液がほぼ均一になるまで加え、 78°Cで 2時間撹拌した 。 その後、 室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮した。 残渣に 5%塩酸 を加え、 クロ口ホルムで 3回抽出した。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後 、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— {3—メトキシー 4一 (1 —メチルー 2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオン酸 0. 3 gを得た。
Figure imgf000110_0002
1 H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.01 (1H, d, J=7.5 Hz), 6.71-6.78 (2H, m), 4.83-4.91 (1H, m)， 3.84 (3H, s), 2.91 (2H， t, J=7.7 Hz), 2.67 (2H, t, J = 7.7 Hz), 2.43-2.46 (1H, m), 1.68 (3H, d, J=6.3 Hz)
参考例 52
- 30 g , 卜リメチルシリルシアニド 34ml及びョ ゥ化亜鉛 1. 4gを混合し、 室温で 15分間撹拌した後、 ここに 10%アンモニ ァのメタノール溶液 3 0mlを加え、 40°Cで 2時間撹拌した。 室温付近まで放冷 した反応混合物を減圧下濃縮し、 得られた残渣に酢酸ェチルを加え、 硫酸マグネ シゥムで乾燥後、 濾過した濾液を減圧下濃縮した。 得られた残渣をァセトニトリ ル 3 00mlに溶解し、 0°Cで 3 6 %塩酸 2 5ffllを徐々に混合した。 該混合物を濾 過して、 得られた固体をァセトニトリル及びへキサンで洗浄後、 減圧下で乾燥し て、 2—アミノー 2— (4—クロ口フエニル） ァセトニトリル塩酸塩 2 2 gを得 た。
Figure imgf000111_0001
1 H-N R (CD3S0CD3, TMS) δ (ppm)： 9.54 (3H, br.s), 7.68-7.72 (2H, m), 7. -7.64 (2H， m), 5.98 (1H, s)
参考例 5 3
参考例 5 2と同様の方法で、 3一クロ口べンズアルデヒド 5. O gから 2— ミノ一 2— (3—クロ口フエニル) ァセトニトリル塩酸塩 1. 5 gを得た。
Figure imgf000111_0002
Ή-N R (CD3 S0CD3 , TMS) δ (ppm)： 9.44 (3H, br.s), 7.76 (1H, d, J=1.7 Hz)
7.55-7.66 (3H, m), 5.97 (1H, s)
参考例 54
参考例 5 2と同様の方法で、 4一メチルベンズアルデヒド 5. 0 gから 2—ァ ミノー 2— (4—メチルフエニル） ァセトニトリル塩酸塩 2. 2 gを得た。
Figure imgf000111_0003
Ή-NMR (CD3S0CD3, TMS) <5 (ppm)： 9.51 (3H, br.s), 7.54 (2H, d, J=8.2 Hz), 7.35 (2H， a, J=8.2 Hz), 5.90 (1H， s)， 2.35 (3H, s)
参考例 5 5
参考例 5 2と同様の方法で、 4一ブロムべンズアルデヒド 5. O gから 2—ァ ミノー 2— （4—ブロムフエニル） ァセトニトリル塩酸塩 1. 5 gを得た。
Figure imgf000111_0004
1 H-NMR (CD3S0CD3, TMS) δ (ppm)： 9.49 (3H, br.s), 7.75-7.77 (2H, m), 7.61 -7.64 (2H, m), 5.96 (1H， s)
参考例 56
参考例 52と同様の方法で、
Figure imgf000112_0001
5. 0 g力 ら
2—アミノー 2— (3, 4ージクロ口フエ二ル） ァセトニトリル塩酸塩 2. 2 g を得た。
Figure imgf000112_0002
Ή-NMR (CD3 S0CD3 , TMS) <5 (ppm)： 9.31 (3H, br.s), 7.95 (1H, d, J=2.1 Hz), 7.85 (1H, d, J=8.2 Hz), 7.66 (1H， dd, J=8.2 Hz, 2.1 Hz), 5.96 (1H, s) 参考例 57
塩化アンモニゥム 5. 2 g、 シアン化ナトリウム 4. O g及び 28%アンモニ ァ水溶液 10 Omlを混合し、 0°Cで 4一クロロアセトフエノン 10 gを徐々に加 えた。 反応混合物を室温で 24時間撹拌した後、 水を加え、 クロ口ホルムで抽出 した。 有機層を水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥し、 減圧下濃縮した。 得ら れた残渣をァセトニトリル 10 Omlに溶解し、 0°Cで 36%塩酸を徐々に混合し た。 該混合液を減圧下濃縮し、 生成した固体をァセトニトリル、 t e r t一プチ ルメチルェ一テル及びへキサンで洗浄後、 減圧下で乾燥して、 2—アミノー 2— (4一クロ口フエ二ル） プロピオ二トリル塩酸塩 5. 0 gを得た。
Figure imgf000112_0003
lH-NMR (CD3 SOCD3 , TMS) 6 (ppm)： 9.77 (3H, br.s), 7.76 (2H, d, J=9.1 Hz), 7.64 (2H, d, J=9.1 Hz), 2.05 (3H， s)
参考例 58
塩化アンモニゥム 22 g、 シアン化ナトリウム 12 g及び 28%アンモニア水 溶液 30 Omlを混合し、 0°Cで 4一クロ口べンズアルデヒド 30 gを徐々に加え た。 反応混合物を 0°Cで 1時間、 室温で 8時間撹拌した後、 水を加え、 クロロホ ルムで抽出した。 有機層を水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥し、 減圧下濃縮 した。 得られた残渣をァセトニトリル 300mlに溶解し、 0°Cで 36%塩酸 25 m 1を徐々に混合した。 生成した固体を濾別し、 ァセトニトリル、 t e r t一ブチル メチルエーテル及びへキサンで洗浄後、 減圧下で乾燥して、 2—アミノー 2— ( 4一クロ口フエニル） ァセトニトリル塩酸塩 23 gを得た。
Figure imgf000113_0001
Ή-NMR (CD3S0CD3， TMS) δ (ppm)： 9.54 (3H, br.s), 7.68-7.72 (2H, ra), 7.61 -7.64 (2H, m), 5.98 (1H， s)
参考例 59
塩化アルミニウム 31 gおよび塩化メチレン 1 5 Omlの混合物を氷冷し、 ェチ ルォキザリルクロライド 30 gを混合し氷冷下で 30分間撹拌した、 得られた混 合物を、 インダン 22 gおよび塩化メチレン 20 Omlの混合物に氷冷下で徐々に 加え室温で 1時間撹拌した。 反応混合物を氷水に徐々に混合し、 有機層を分液し た。 有機層を水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮して、 ィ ンダン一 5—ィルーォキソ酢酸ェチルの粗生成物 37 gを得た。
Figure imgf000113_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ ( pm)： 7.84 (1H, s)， 7.78 (1H， d， J=7.8 Hz), 7.34 (1H， d, J-7.8 Hz), 4.44 (2H, q, J=7.1 Hz), 2.95-2.99 (4H, m), 2.09-2.17 (2H， m), 1.42 (3H, t, J=7.1 Hz)
参考例 60
インダン— 5—ィルォキソ酢酸ェチルエステルの粗生成物 25 g、 水素化ホウ素 ナトリウム 7. 0 gおよびエタノール 25 Omlの混合物を室温で 1時間ついで 6 0°Cで 2時間撹拌した。 反応混合物に水を加え、 減圧下で有機溶媒を留去したの ち、 36%塩酸で PH= 2に調節し、 クロ口ホルムで抽出した。 有機層を水で洗. 浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下有機溶媒を留去して、 残渣をへキ サンで洗 してインダン一 5—ィルェタン— 1, 2—ジオール 1 l gを得た。
Figure imgf000113_0003
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.22 (1H, s), 7.20 (1H, d, J=7.7 Hz), 7.11 (1H， d, J=7.7 Hz), 4.78 (1H， dd, J=8.2 Hz, 3.6 Hz), 3.62-3.75 (2H， m), 2 .87-2.91 (4H, m), 2.5 (1H， br.s), 2.3 (1H, br.s), 2.03-2.10 (2H, m) 参考例 61
インダン— 5—ィルェタン一 1， 2—ジオールの粗生成物 1 1 g、 過ヨウ素酸 1 8 g、 水 1 00mlおよびエタノール 100 mlの混合物を室温で 1 2時間撹拌した 。 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出し、 水で 2回洗浄後、 減圧下で有機 溶媒を留去したのち、 残渣をシリカゲルカラムで精製してインダン— 5—力ルポ アルデヒド 8. l gを得た。
Figure imgf000114_0001
'H-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 9.95 (1H, s), 7.73 (1H, s)， 7.65 (1H, dd, J =7.7 Hz, 1.2 Hz), 7.36 (1H, d, J=7.7 Hz), 2.97 (4H, t, J=7.5 Hz), 2.08-2 .17 (2H, m)
参考例 62 ■
参考例 59と同様の方法で、 テトラリン 58 gから 5， 6, 7, 8—テトラヒ ドロナフタレン一 2—ィルォキソ酢酸ェチルの粗生成物 55 gを得た。
Figure imgf000114_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.69-7.72 (2H， m)， 7.17 (1H， d, J=7.8 Hz),
4.44 (2H， q, J=7.2 Hz), 2.75-2.83 (4H, m), 1.17-1.85 (4H, m), 1.42 (3H, t, 1=7.2 Hz)
参考例 63
参考例 60と同様の方法で、 5, 6, 7, 8
Figure imgf000114_0003
ィルォキソ酢酸ェチルエステルの粗生成物 30 gから 5， 6， 7, 8—テトラヒ ドロナフ夕レン一 2—ィルェタン一 1， 2—ジォ一ル 17 gを得た。
Figure imgf000114_0004
一 NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.01-7.04 (3H, m)， 4.76 (1H, dd, J=8.1 Hz,
3.7), 3.63-3.77 (2H, m), 2.75-2.76 (4H, in), 2.4 (1H, br.s), 2.0 (1H， br. s)， 1.17-1.18 (4H, m)
参考例 64
参考例 61と同様の方法で、 5, 6， 7， 8—テトラヒドロナフタレン一 2—ィ ルェタン一 1， 2—ジオール 16 gから 5， 6， 7， 8—テトラヒドロナフタレ ン— 2〜カルポアルデヒド 13 gを得た。
Figure imgf000115_0001
!H-NMR (CDCI3, TMS) 6 (ppm)： 9.92 (1H, s), 7.57-7.59 (2H, m), 7.20 (1H， d, J=7.5 Hz), 2.82-2.85 (4H, m)， 1.81-1.84 (4H, m)
参考例 65
2—フルオロー 2—ジェチルホスホノ酢酸ェチルエステル 2. 2 g及びテトラ ヒドロフラン 50mlを混合し、 氷冷下で水素化ナトリウム （含量 55%) 040 g加え 10分間撹拌した。 ついで 4一ベンジルォキシ— 3—メトキシベンズアル デヒド 2. 0 gとテトラヒドロフラン 5mlの混合物を氷冷下徐々に加え、 室温で 3時間撹拌した。 得られた混合物に水を加え、 減圧下で有機溶媒を留去後、 酢酸 ェチルで抽出した。 有機層を水、 5%塩酸、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液つい で飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し、 得られ た残渣をシリカゲル力ラムで精製して 3— （3—メ卜キシー 4一ベンジルォキシ フエニル） 一 2—フルォロアクリル酸ェチル （c i s体と t r an s体の混合物 ) の粗生成物 2. 8 gを得た。 '
Figure imgf000115_0002
lH -腿 (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.27-7.44 (6H, m)， 7.13 (0.3H, dd, J=8.6 Hz , 1.7 Hz), 7.01 (0.6H, dd, J=8.3 Hz, 1.9 Hz), 6.79-6.90 (2H, m), 5.20 (0 .6H, s), 5.18 (1.4H, s)， 4.25-4.36 (2H, m), 3.91 (3H, s), 1.27-1.36 (3H， ffl)
参考例 66
3 - (3—メトキシー 4一べンジルォキシフエニル） 一 2—フルォロアクリル 酸ェチルの粗生成物 2. 6 gを用いて参考例 1 1と同様の方法で 3— （3—メト キシー 4ーヒドロキシフエニル） 一 2—フルォロプロピオン酸ェチルの粗生成物 2. 0 gを得た。
Figure imgf000115_0003
Ή-NMR (CDC13, TMS) d (ppm)： 6.85 (1H, d, J-8.0 Hz), 6.70-6.75 (2H, 5.52 (1H, br. s), 5.04 (1H, ddd, J=49 Hz, 7.6 Hz, 4.2 Hz), 4.22 (2H, =7.1 Hz), 3.88 (3H, s), 3.06-3.18 (2H, m), 1.27 (3H, t， J=7.1 Hz) 参考例 6 7
3— （3—メトキシー 4ーヒドロキシフエニル） 一 2—フルォロプロピオン酸ェ チルの粗生成物 2. 0 g、 3—ブロモプロピン 0. 8 6mlを用いて参考例 1 2と 同様の方法で 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} 一 2—フルォロプロピオン酸ェチルの粗生成物 2. 3 gを得た。
Figure imgf000116_0001
'H-N R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.97 (1H, d， J=8.9 Hz), 6.72-6.79 (2H, m), 5.06 (1H， ddd, J=49 Hz, 7.5 Hz, 4.1 Hz), 4.74 (1H, d， J=2.4 Hz), 4.23 (2 H, q， J=7.0 Hz), 3.86 (3H, s)， 3.08-3.20 (2H, m), 2.49-2.50 (1H, m)， 1.2 7 (3H, t， J=7.0 Hz)
参考例 6 8
3 - { 3—メ卜キシー 4一 (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} 一 2—フルォロ プロピオン酸ェチルの粗生成物 2. 3 gを用いて参考例 1 3と同様の方法で 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} 一 2—フルォロプロ ピオン酸 1. 8 gを得た。
Figure imgf000116_0002
(H-腿 (CDC13, TMS) δ (ppm): 6.98 (1H, d, J=8.7 Hz), 6.74-6.82 (2H, m)， 5.21 (1H, ddd, J=49 Hz, 7.5 Hz, 3.6 Hz), 4.75 (1H, d， J=2.4 Hz), 3.86 (3 H, s)， 3.08-3.31 (2H, m)， 2.49 (1H, t, J=2. Hz)
参考例 6 9
参考例 4と同様の方法で、 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ ) フエ二ル} 一 2—フルォロプロピオン酸約 4. 78から3 _ { 3—メトキシー 4- (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} 一 2—フルォロプロピオン酸塩化物の 粗生成物 5. O gを得た。
Figure imgf000116_0003
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.99 (1H， d, J=8.2 Hz), 6.79-6.82 (2H, m), 5.20 (1H， ddd, J=49 Hz, 7.3 Hz, 3.9 Hz), 4.75 (1H， d, J=2.4 Hz), 3.87 (3 H, s), 3.17-3.37 (2H, m), 2.50 (1H, t, J=2.4 Hz)
参考例 70
4一ブロモベンズアルデヒド 1. 7 g、 シクロプロピルボロン酸 1. O g、 トリ フエニルホスフィン 0. 26 g、 リン酸三カリウム n水和物 7. 9 g、 トルエン 20mlおよび水 1 m 1の混合物に酢酸パラジウム 0. 10 gを混合し 100 °C で 3時間撹拌した。 室温付近まで放冷した反応混合物に水を加えて不溶物を濾別 し、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を飽和食塩水で洗浄して、 硫酸マグネシウム で乾燥した後、 減圧下濃縮し、 シリカゲルカラム精製に付し 4ーシクロプロピル ベンズアルデヒド 1. 1 gを得た。
Figure imgf000117_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) 6 (ppm)： 9.94 (1H, s), 7.76 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.18 (2H, d, J=7.9 Hz), 1.93-2.00 (1H, i), 1.02-1.15 (2H, m), 0.75-0.86 (2H， m)
参考例 71 '
3—フルオロー 4ーヒドロキシー 5—メトキシベンズアルデヒド 1. l g、 臭 化べンジル 1. 2 g、 炭酸カリウム 1. 3 g及びァセトニトリル 15m 1を混合 し、 還流条件下で 4時間攪拌した。 その後、 反応混合物を室温まで冷却し酢酸ェ チルを加え、 固体を濾別した。 得られた有機層を減圧下濃縮し、 残渣をへキサン で洗浄して、 4一ベンジルォキシー 3—フルオロー 5—メトキシベンズアルデヒ ド 1. 8 gを得た。 次にジェチルホスホノ酢酸ェチル 1. 5 g及びテトラヒドロ フラン 20mlを混合し、 氷冷下で水素化ナトリウム （含量 55%) 0. 29 g 加え 10分間混合した混合物に、 4一べンジロキシー 3—フルオロー 5—メトキ シベンズアルデヒド 1. 8 gとテトラヒドロフラン 5mlの混合物を氷冷下徐々 に加え、 室温で 1時間攪拌した。 得られた混合物に水を加え、 減圧下で有機溶媒 を留去後、 酢酸ェチルで抽出した。 油層を分液し、 5%塩酸、 飽和炭酸水素ナト リウム水ついで飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃 縮し、 得られた残渣をへキサンで洗浄して 3— （4—ベンジルォキシー 3—フル オロー 5—メトキシフエ二ル） アクリル酸ェチル 3. 6 gを得た。
Figure imgf000117_0002
[H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.54 (1H， d， J=16 Hz), 7.44-7.46 (2H, m)， 7 .29-7.40 (3H, m)， 6.89 (1H, dd, J=ll Hz, 1.9 Hz), 6.83 (1H, br.s), 6.32 (1H， d， J=16 Hz), 5.14 (2H, s), 4.26 (2H， q, J=7.2 Hz), 3.88 (3H, s), 1. 33 (3H, t, J=7.2 Hz)
参考例 Ί 2
3— （4一ベンジルォキシー 3—フルオロー 5—メトキシフエ二ル） アクリル 酸ェチル 3. 6 g、 5 %パラジウム炭素 0. l g、 36%塩酸約 0. O l g、 ェ 夕ノール 5 Omlを水素雰囲気下で攪拌した。 水素ガスの吸収が停止した後、 濾 過し、 濾液を減圧下濃縮して、 3— （3—フルオロー 4ーヒドロキシ— 5—メト キシフエニル） プロパン酸ェチル 2. 2 gを得た。
Figure imgf000118_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.58 (1H, dd, J=ll Hz, 2.0 Hz), 6.51-6.52 ( 1H, m), 4.13 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.89 (3H, s), 2.86 (2H, t, J=7.7 Hz), 2. 58 (2H, t, J=7.7 Hz), 1.24 (3H， t， J=7.1 Hz)
参考製造例 73
3— （3—フルオロー 4ーヒドロキシー 5—メトキシフエニル） プロパン酸ェ チル 2. 3 g、 臭ィ匕プロパルギル 0. 63nU、 炭酸カリウム 1. 23 g及びァ セトニトリル 300m lを混合し、 還流条件下で 1時間攪拌した。 その後、 反応 混合物を室温まで冷却し、 酢酸ェチルを加えて濾過した。 濾液を減圧下濃縮した 。 得られた残渣、 水酸化リチウム 0. 54 g、 テトラヒドロフラン 40m 1及び 水 2 Om lを混合し、 還流条件下で 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を 加えて減圧下濃縮した。 混合物を t e r t一ブチルメチルエーテルで洗浄し、 水 層を分液し 5%塩酸を加え、 クロ口ホルムで 3回抽出した。 有機層を硫酸マグネ シゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗 して、 3— {3— フルオロー 5—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸 1. 5 gを得た。
Figure imgf000118_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.59 (1H, dd, J=ll Hz, 2.2 Hz), 6.55-6.56 ( 1H, m)， 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.56 (3H， s)， 2.90 (2H, t, J=7.7 Hz), 2. 67 (2H， t, J=7.7 Hz), 2.27 (1H, t, J=7.1 Hz) 参考例 74
3— （4ーヒドロキシ— 3—メトキシフエ二ル） プロピオン酸 20 g、 臭化べ ンジル 55 g、 炭酸カリウム 45 g及びァセトニトリル 30 Oralを混合し、 80 °Cで 6時間撹拌した。 その後、 反応混合物を室温付近まで放冷し、 酢酸ェチルを 加えて濾過し、 濾液を減圧下濃縮した。 得られた残渣を 20%水酸化ナトリウム 水溶液 46 gを混合し、 均一になるまでエタノールを加え、 全還流下で 1時間攙 拌した。 その後、 反応混合物を室温付近まで放冷してから水を加え、 減圧下濃縮 し、 t e r t—ブチルメチルエーテルで洗浄した。 残渣に 5 %塩酸を加え PH = 2に調節後、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、 硫 酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄後乾燥し て、 3— （3—メトキシー 4一べンジルォキシフエニル） プロピオン酸 62 gを 得た。
Figure imgf000119_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.42-7.44 (1H， m), 7.26-7.37 (4H, m), 6.80 (1H, d, J=8.4 Hz), 6.75 (1H, d, J=2.0 Hz), 6.67 (1H, dd, J=8.4 Hz, 2.0 H z)， 5.12 (2H, s)， 3.87 (3H, s), 2.89 (2H， t, J=7.2 Hz), 2.65 (2H, t, J=7 .2 Hz)
参考例 75
メタノール 10 Omlと塩ィヒアセチル 1 Omlを室温で 15分間混合した混合物に 3— （3—メトキシ一 4一べンジルォキシフエニル） プロピオン酸 4. O gを混 合し、 全還流下で 6時間撹拌した。 その後、 反応混合物を室温付近まで放冷し減 圧下濃縮後、 t e r t一プチルメチルェ一テルを加え、 水、 飽和炭酸水素ナトリ ゥム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下 濃縮した。 得られた残渣 3. 0g、 モノクロルベンゼン 100mlに混合し、 塩化ス ルフリル 1. 7ml を徐々に混合し、 室温で 1時間攪拌した。 その後、 反応混合物 を水、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシ ゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄後乾燥して、 3— ( 6—クロル一 3—メトキシー 4—ベンジルォキシフエニル) プロピオン酸メチル 2. 3 gを得た。
Figure imgf000120_0001
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.29-7.43 (5H, m), 6.88 (1H, s)， 6.77 (1H, s)， 5.09 (2H, s), 3.85 (3H, s), 3.68 (3H, s)， 2.98 (2H, t, J=7.6 Hz), 2. 61 (2H, t， J=7.6 Hz)
参考例 76
3 - (6—クロル一 3—メトキシー 4一べンジルォキシフエニル) プロピオン 酸メチル 2.' 2 g、 47%臭化水素酸水溶液 1. 4 gおよび酢酸 30m 1を混合 し、 80°Cで 3時間混合した。 反応混合物を室温付近まで放冷しトルエンを加え て、 減圧下で溶媒を留去後残渣をへキサンで洗浄して、 3— （6—クロル一 4— ヒドロキシー 3—メトキシフエ二ル） プロピオン酸 1. 4gを得た。
Figure imgf000120_0002
!H-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 6.93 (1H, s), 6.74 (1H, s), 3.86 (3H, s), 2
.98 (2H, t， J-7.9 Hz), 2.68 (2H, ί, J=7.9 Hz)
参考例 77
3— （6—クロル一 4ーヒドロキシ一 3—メトキシフエ二ル） プロピオン酸 1 . 3 g、 臭化プロパルギル 1. 6ml、 炭酸カリウム 4. 5 g及びァセトニトリル 3 Omlを混合し、 全還流下で 1時間撹拌した。 その後、 反応混合物を室温付近ま で放冷し、 酢酸ェチルを加えて濾過した。 得られた濾液を減圧下濃縮した。 得ら れた残渣に水酸化リチウム 1水和物 0. 55 g、 テトラヒドロフラン 40 ml及び 水 2 Omlを混合し、 全還流下で 3時間撹拌した。 その後、 室温付近まで放冷した 反応混合物に水を加えて減圧下濃縮した。 混合物を t e r t—プチルメチルェ一 テルで洗浄し、 得られた水層に 5%塩酸を加え、 クロ口ホルムで 2回抽出した。 有機層を水で洗浄後、 硫酸マグネシウムで乾燥し、 減圧下濃縮した。 残渣をへキ サンで洗浄して、 3— { 6—クロル一 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキ シ） フエ二ル} プロピオン酸 1. 2 gを得た。
Figure imgf000121_0001
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.03 (1H, s)， 6.78 (1H, s), 4.73 (2H， d, J= 2.4 Hz), 3.84 (3H, s), 3.00 (2H, t, J=7.9 Hz), 2.69 (2H, t， J=7.9 Hz), 2 .54 (1H, t, ]=2A Hz)
参考例 79
S y n 1 e t t, 2000， No. 12， 1801項〜 1803項記載の方法 に準じて、 4一ブロムべンゾニトリル 10 g、 トリスジベンジリデンアセトンパ ラジウム （0)、 2 - (ジ t e r t—プチルホスフイノ） ビフエ二ル 0. 98 gお よびジメチルイミダゾリノン 200mlを室温で 5分間時間混合した。 ついでへ キサメチルジシラン 16. 9mlおよび水 2. 0 gを加え水で 5回洗浄し、 硫酸 マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮しシリカゲルカラムで精製して 4一トリ メチルシリルベンゾニトリル 8. 0 gを得た。
Figure imgf000121_0002
Ή-N R (CDC 13, TMS) δ (ppm)： 7.60 (4H, s), 0.29 (9H, s)
参考例 80 '
4一トリメチルシリルべンゾニトリル 1. 5 gとトルエン 30m lの混合物に ジイソブチルアルミニウムハイドライドの 1Mトルエン溶液 8. 6m lを徐々に 加え、 45°Cで 2時間混合した。 ついで反応混合物を室温まで放冷後、 飽和塩化 アンモニゥム水溶液に徐々に混合し、 室温で 1時間攪拌し、 セライトを加え不溶 物を濾別した。 得られた有機層を 5%塩酸、 飽和炭酸水素ナトリウム水ついで飽 和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し、 得られた残 渣をへキサンで洗浄して 4ートリメチルシリルべンズアルデヒド 1. 2 gを得た
Figure imgf000121_0003
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 10.0 (1H, s)， 7.84 (2H， d, J-8.0 Hz), 7.69 (2H， d, J=7,9 Hz), 0.31 (9H, s)， 次に製剤例を示す。 部は重量部を表す。 製剤例 1
本発明化合物 1〜46の各々 50部、 リグニンスルホン酸カルシウム 3部、 ラ ゥリル硫酸マグネシゥム 2部及び合成含水酸化珪素 45部をよく粉碎混合するこ とにより、 各々の水和剤を得る。
製剤例 2
本発明化合物 1〜46の各々 20部とソルビタントリオレエ一ト 1. 5部とを 、 ポリビュルアルコール 2部を含む水溶液 28. 5部と混合し、 湿式粉碎法で微 粉碎した後、 この中に、 キサンタンガム 0. 05部及びアルミニウムマグネシゥ ムシリケート 0. 1部を含む水溶液 40部を加え、 さらにプロピレングリコール 10部を加えて撹拌混合し各々のフロアブル製剤を得る。
製剤例 3
本発明化合物 1〜46の各々 2部、 カオリンクレ一 88部及びタルク 10部を よく粉砕混合することにより、 各々の粉剤を得る。
製剤例 4
本発明化合物 1~46の各々 5部、 ポリオキシエチレンスチリルフエニルエー テル 14部、 ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム 6部及びキシレン 75部を よく混合することにより、 各々の乳剤を得る。
製剤例 5
本発明化合物 1〜46の各々 2部、 合成含水酸化珪素 1部、 リグニンスルホン 酸カルシウム 2部、 ベントナイト 30部及びカオリンクレー 65部をよく粉碎混 合した後、 水を加えてよく練り合せ、 造粒乾燥することにより、 各々の粒剤を得 る。
製剤例 6
本発明化合物 1〜46の各々 10部、 ポリオキシエチレンアルキルエーテルサ ルフエ一トアンモニゥム塩 50部を含むホワイトカ一ボン 35部及び水 55部を 混合し、 湿式粉砕法で微粉砕することにより、 各々の製剤を得る。 次に、 本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、 調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、 無処理区の 病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積を比較することにより評価した。 ま,こ、 J ou r n a l o f Ch emi c a l and Eng i ne e r i n g Da t a, 10 (2), pp. 188 ( 1965) 1965年、 第 10巻、 第 2号、 18 8頁に記載の化合物 Aも試験に供した。
Figure imgf000123_0001
試験例 1
プラスチックポットに砂壌土を詰め、 トマト （品種:ボンテロ一ザ） を播種し、 温室内で 20日間生育させた。 本発明化合物 1、 3〜6、 8〜23、 26〜28 、 30〜34、 36、 38、 39、 41〜50、 52〜57、 59及び 61を製 剤例 6に準じて製剤とした後、 水で所定濃度 （500 ppm) に希釈し、 希釈液 をトマト葉面に充分付着するように茎葉散布した。 散布後、 葉面上の該希釈液が 乾く程度に風乾し、 トマト疫病の遊走子嚢懸濁液 （懸濁液 lmlあたり約 100 00個の遊走子嚢を含有する） を噴霧接種 （植物 1個体あたり約 2mlの割合） した。 接種後、 23°C、 相対湿度 90%以上の条件下で 1日間栽培し、 次いで昼 間 24°C、 夜間 20°Cの温室で 4日間栽培した。 その後、 防除効果を調査した。 その結果、 本発明化合物を供試した植物上の病斑面積は、 無処理区の病斑面積の 10%以下であった。 化合物 Aを供試した植物上の病斑面積は、 無処理区の病斑 面積の 76〜100%であった。
試験例 2
プラスチックポットに砂壌土を詰め、 ブドウ （品種：ベリー A) を播種し、 温 室内で 40日間生育させた。 本発明化合物 1〜5、 8-10, 12〜15、 17 、 19、 20、 22、 23、 25、 27〜34、 37、 38、 39、 41〜46 、 50〜54、 59、 61〜64及び 65の各々を製剤例 6に準じて製剤とした 後、 水で所定濃度 (200 ppm) に希釈し、 希釈液をブドウ葉面に充分付着す るように茎葉散布した。 散布後、 葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、 ブドウ ベと病の遊走子嚢懸濁液 （懸濁液 lm 1あたり約 10000個の遊走子嚢を含有 する） を噴霧接種 （植物 1個体あたり約 2m 1の割合） した。 接種後、 23°C、 相対湿度 90%以上の条件下で 1日間栽培し、 次いで昼間 24°C、 夜間 20°Cの 温室に移して 6日間栽培した。 その後、 防除効果を調査した。
その結果、 本発明化合物を供試した植物上の病斑面積は、 無処理区の病斑面積の 10%以下であった。 産業上の利用可能性
本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、 植物病害防除組成 物の有効成分として有用である。

Claims

請求の範囲
Figure imgf000124_0001
[式中、 R1は水素原子；ハロゲン原子；ニトロ基；シァノ基；ハロゲン原子、 シ ァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロアルキル基、 C卜 C6アルコキシ基、 C3- C6シ クロアルコキシ基、 C卜 C6アルキルチオ基、 C3-C6シクロアルキルチオ基及びトリ (C卜 C3アルキル） シリル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよ い -C6アルキル基；ハロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3-C6シクロア ルキル基、 C卜 C6アルコキシ基、 C3- C6シクロアルコキシ基、 C1-C6アルキルチオ基 、 C3- C6シクロアルキルチオ基及びトリ （CI- C3アルキル） シリル基からなる群か ら選ばれる置換基で置換されていてもよい C2 - C6アルケニル基；ハロゲン原子、 シ ァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロアルキル基、 CI- C6アルコキシ基、 C3-C6シ クロアルコキシ基、 CI- C6アルキルチオ基、 C3- C6シクロアルキルチオ基及びトリ (C卜 C3アルキル) シリル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよ い C2- C6アルキニル基；八ロゲン原子、 シァノ基、 ヒドロキシル基、 C3- C6シクロ アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、 C3 - C6シクロアルコキシ基、 C卜 C6アルキルチオ 基、 C3-C6シクロアルキルチオ基及びトリ （C1-C3アルキル） シリル基からなる群 から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6シクロアルキル基；ハロゲン原 子、 C1 - C6アルコキシ基及び C卜 C6アルキルチオ基からなる群から選ばれる置換基 で置換されていてもよい C1-C6アルコキシ基；ハロゲン原子、 CI- C6アルコキシ基 及び C1-C6アルキルチオ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよ い C3-C6シグロアルコキシ基；ハロゲン原子、 C卜 C6アルコキシ基及び Π- C6アルキ ルチオ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C1-C6アルキル チォ基；ハロゲン原子、 -C6アルコキシ基及び CI- C6アルキルチオ基からなる群 から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6シクロアルキルチオ基；ハロゲ ン原子、 C卜 C6アルコキシ基及び -C6アルキルチオ基からなる群から選ばれる置 換基で置換されていてもよいジ （CI- C6アルキル） アミノ基；ハロゲン原子、 C1-C 6アルキル基、 C1 - C6ハロアルキル基及び CI- C6アルコキシ基からなる群から選ばれ る置換基で置換されていてもよいフエニル基；ハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C卜 C6ハロアルキル基及び CI- C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置 換されていてもよいフエノキシ基；ハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 CI- C6ハロ アルキル基及び Π - C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されて いてもよいフエ二ルチオ基；ハロゲン原子、 Π- C6アルキル基、 C卜 C6ハロアルキ ル基及び C1-C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていても よいベンゾィル基；ハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 CI- C6ハロアルキル基及び C 1-C6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいべンゾ ィルォキシ基；ホルミル基； （C1-C6アルキル） カルポニル基； （C2- C6アルケニ ル） カルボ二ル基； （C2- C6アルキニル） カルボニル基； （C3-C6シクロアルキル ) カルボニル基； （CI- C6ハロアルキル） カルポニル基； （CI- C6アルコキシ） 力 ルポニル基;またはトリ （C卜 C6アルキル） シリル基を表し、
R2は水素原子、 ハロゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C3- C6シクロアルキル基、 C2-C 6アルケニル基、 C2- C6アルキニル基、 CI- C6ハロアルキル基、 CI- C6アルコキシ基 、 C卜 C6ハロアルコキシ基、 C卜 C6アルキルチオ基、 C卜 C6ハロアルキルチオ基、 ジ (C卜 C6アルキル） アミノ基、 ニトロ基またはシァノ基を表すか、
R1と R2とが一緒になつて、 ハロゲン原子、 C卜 C3アルキル基及び C卜 C3ハロアルキ ル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい C3-C6ポリメチレン 基；またはハロゲン原子、 CI- C3アルキル基及び CI- C3ハロアルキル基からなる群 から選ばれる置換基で置換されていてもよい 1， 3—ブタジエン一 1， 4ージィ ル基を表し、
R3は水素原子、 ハロゲン原子又は C1-C3アルキル基を表し、
R4は C卜 C4アルキル基、 C卜 C4ハロアルキル基、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4アル キニル基を表し、
R5は CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基、 C3- C6アルキニル基、 C卜 C4ハロアル. キル基、 シァノ CI- C6アルキル基、 又は （CI- C3アルキル） 力ルポ二ル基を表し、 R6は水素原子又は CI- C4アルキル基、 C3- C4アルケニル基、 C3- C4アルキニル基を 表し、
R 7は水素原子、 ハロゲン原子又は C卜 C3アルキル基を表し、
R8は水素原子、 ハロゲン原子又は C1-C3アルキル基を表し、
R9は水素原子又は -C3アルキル基を表し、
R1 Dは水素原子、 ハロゲン原子又は C1-C3アルキル基を表し、
R1 1は水素原子、 ハロゲン原子又は C卜 C3アルキル基を表し、
R1 2は水素原子、 ハロゲン原子又は C卜 C3アルキル基を表す。]
で示される N— （ひ一シァノベンジル） アミド化合物。
2 . R1が水素原子、 ハロゲン原子、 CI- C6アルキル基、 C2- C6アルケニル基、 C 2- C6アルキニル基、 C1 - C6ハロアルキル基、 C1 - C6アルコキシ基、 C卜 C6ハロアルコ キシ基、 C1 - C6アルキルチオ基、 CI- C6ハロアルキルチオ基、 ジ (C1-C6アルキル) アミノ基、 フエニル基、 フエノキシ基又はシァノ基であり、 R2が水素原子、 ハロ ゲン原子、 C卜 C6アルキル基、 C卜 C6アルコキシ基又は C卜 C6ハロアルキル基である か、 又は R 1と R2とが一緒になつて C3- C5アルキレン基又は CH=CH_CH=CH基であり、 R3が水素原子、ハロゲン原子又は C1-C3アルキル基であり、 R4が CI- C4アルキル基 、 C3- C4アルケニル基又は C3- C4アルキニル基であり、 R5が C1-C4アルキル基、 C3 - C4アルケニル基、 C3-C6アルキニル基、 C卜 C4ハロアルキル基又は （C卜 C3アルキル ) カルポニル基であり、 R6が水素原子又は CI- C4アルキル基、 C3-C4アルケニル基 、 C3- C4アレキニル基であり、 R7が水素原子、 ハロゲン原子又は C卜 C3アルキル基 であり、 R8が水素原子、 ハロゲン原子又は C1-C3アルキル基であり、 R9が水素原 子又は CI- C3アルキル基であり、 R1D、 R11及び R12が水素原子である請求項 1に記 載の N— (ひ一シァノベンジル） アミ ド化合物。
3 . R1が水素原子、 ハロゲン原子、 C卜 C4アルキル基、 -C4アルコキシ基又 は CI- C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子、 ハロゲン原子、 C卜 C4アルキル基 、 C1-C4アルコキシ基又は C卜 C4ハロアルキル基であるか、又は R1と R2とが一緒に なって C3- C5アルキレン基又は CH=CH- CH=CH基であり、 R4が C卜 C4アルキル基、 C3 - C4アルケニル基又は C3-C4アルキニル基であり、 R5が C1-C4アルキル基、 C3- C4ァ ルケニル基又は C3-C4アルキニル基であり、 R6が水素原子又は C3- C4アルキル基で あり、 R3、 R7、 R8、 R9、 R 1D、 R 11及び R 12が水素原子である請求項 1に記載の N— （α—シァノベンジル） アミド化合物。
4. 請求項 1〜3のいずれかに記載の Ν— （ひ一シァノベンジル） アミド化合 物と不活性な担体を含有する植物病害防除組成物。
5 . 請求項 1〜3のいずれかに記載の Ν— ( α—シァノベンジル) アミド化合 物の有効量を植物又は植物を栽培する土壌に処理することを含む植物病害の防除 方法。
6 . 請求項 1〜3のいずれかに記載の Ν— （α—シァノベンジル） アミド化合 物の植物病害防除組成物の有効成分としての用途。
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