WO2004058685A1 - アミド化合物及びそれを用いた植物病害の防除方法 - Google Patents

アミド化合物及びそれを用いた植物病害の防除方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2004058685A1
WO2004058685A1 PCT/JP2003/016294 JP0316294W WO2004058685A1 WO 2004058685 A1 WO2004058685 A1 WO 2004058685A1 JP 0316294 W JP0316294 W JP 0316294W WO 2004058685 A1 WO2004058685 A1 WO 2004058685A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
hydrogen atom
amide compound
compound
alkyl
Prior art date
Application number
PCT/JP2003/016294
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Hiroshi Sakaguchi
Original Assignee
Sumitomo Chemical Company, Limited
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Company, Limited filed Critical Sumitomo Chemical Company, Limited
Priority to MXPA05006855A priority Critical patent/MXPA05006855A/es
Priority to AU2003289438A priority patent/AU2003289438A1/en
Priority to BR0317769-6A priority patent/BR0317769A/pt
Priority to EP03780917A priority patent/EP1577290A4/en
Priority to US10/540,502 priority patent/US20060122065A1/en
Publication of WO2004058685A1 publication Critical patent/WO2004058685A1/ja

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/40—Unsaturated compounds
    • C07C59/58—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups
    • C07C59/64—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups containing six-membered aromatic rings
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N37/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most two bonds to halogen, e.g. carboxylic acids
    • A01N37/36—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most two bonds to halogen, e.g. carboxylic acids containing at least one carboxylic group or a thio analogue, or a derivative thereof, and a singly bound oxygen or sulfur atom attached to the same carbon skeleton, this oxygen or sulfur atom not being a member of a carboxylic group or of a thio analogue, or of a derivative thereof, e.g. hydroxy-carboxylic acids
    • A01N37/38—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most two bonds to halogen, e.g. carboxylic acids containing at least one carboxylic group or a thio analogue, or a derivative thereof, and a singly bound oxygen or sulfur atom attached to the same carbon skeleton, this oxygen or sulfur atom not being a member of a carboxylic group or of a thio analogue, or of a derivative thereof, e.g. hydroxy-carboxylic acids having at least one oxygen or sulfur atom attached to an aromatic ring system
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C235/00—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms
    • C07C235/02—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
    • C07C235/32—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton the carbon skeleton containing six-membered aromatic rings
    • C07C235/34—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton the carbon skeleton containing six-membered aromatic rings having the nitrogen atoms of the carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/32—Oximes
    • C07C251/34—Oximes with oxygen atoms of oxyimino groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals
    • C07C251/48—Oximes with oxygen atoms of oxyimino groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals with the carbon atom of at least one of the oxyimino groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/32—Oximes
    • C07C251/62—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
    • C07C251/64—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
    • C07C251/68—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with at least one of the esterifying carboxyl groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/01—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C255/16—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms containing cyano groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon atom of an acyclic carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/49—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C255/58—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing cyano groups and singly-bound nitrogen atoms, not being further bound to other hetero atoms, bound to the carbon skeleton
    • C07C255/60—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing cyano groups and singly-bound nitrogen atoms, not being further bound to other hetero atoms, bound to the carbon skeleton at least one of the singly-bound nitrogen atoms being acylated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
    • C07C309/63—Esters of sulfonic acids
    • C07C309/64—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C309/65—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of a saturated carbon skeleton
    • C07C309/66—Methanesulfonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/39—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton at least one of the nitrogen atoms being part of any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom
    • C07C323/40—Y being a hydrogen or a carbon atom
    • C07C323/41—Y being a hydrogen or an acyclic carbon atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C327/00—Thiocarboxylic acids
    • C07C327/38—Amides of thiocarboxylic acids
    • C07C327/40—Amides of thiocarboxylic acids having carbon atoms of thiocarboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C327/44—Amides of thiocarboxylic acids having carbon atoms of thiocarboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/73—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
    • C07C69/734—Ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/02—Systems containing only non-condensed rings with a three-membered ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
    • C07C2602/02—Systems containing two condensed rings the rings having only two atoms in common
    • C07C2602/04—One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring
    • C07C2602/08—One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring the other ring being five-membered, e.g. indane
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
    • C07C2602/02—Systems containing two condensed rings the rings having only two atoms in common
    • C07C2602/04—One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring
    • C07C2602/10—One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring the other ring being six-membered, e.g. tetraline
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
    • C07C2602/02—Systems containing two condensed rings the rings having only two atoms in common
    • C07C2602/04—One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring
    • C07C2602/12—One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring the other ring being at least seven-membered

Definitions

  • the present invention relates to an amide compound and a method for controlling plant diseases by applying the amide compound to plants or soil where plants grow.
  • the present inventors have conducted intensive studies to find a compound having an excellent plant disease controlling effect, and as a result, have found that the amide compound represented by the following formula (1) has an excellent plant disease controlling effect. Was completed.
  • the present invention provides the following
  • R 51 is a halogen atom, CI—C 6 alkyl group, C 3—C 6 cycloalkyl group, C 1—C 6 haloalkyl group, C 2—C 6 alkenyl group, C 2—C 6 haloalkenyl 00 Hire 6294
  • R 53 represents a hydrogen atom, a halogen atom, (: 1 ⁇ 3 alkyl group or 1 ⁇ 3 alkyl group,
  • R 56 represents a hydrogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, a C 2 -C 4 alkenyl group or a C 2 -C 4 alkynyl group,
  • R 57 represents a hydrogen atom, a 1 to 4 alkyl group, a ⁇ 2-04 alkenyl group or a ⁇ 2 ⁇ 4 alkynyl group,
  • R 58 and R 59 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 -C 3 alkyl group,
  • R 60 represents a C 1 -C 4 alkyl group, a C 1 -C 4 haloalkyl group, a C 3 -C 4 alkenyl group or a C 3 -C 6 alkynyl group,
  • R 61 represents a C 1 -C 4 alkyl group, a C 1 -C 4 haloalkyl group, a C 3 -C 4 alkenyl group or a C 3 -C 6 alkynyl group or a C 2 -C 4 cyanoalkyl group
  • R 62 , R 63 and R 64 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 -C 2 alkyl group
  • X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
  • Amide compound (1) (hereinafter, referred to as the compound of the present invention), and the compound of the present invention as an active ingredient And a method for controlling a plant disease by applying an effective amount of the compound of the present invention to a plant or soil where the plant grows.
  • the present invention further relates to the following intermediates, which are important intermediates in the production of the compound of the present invention.
  • R 1M represents a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butyloxy group, an isobutyloxy group, a tert-butyloxy group, an OH group or a chlorine atom
  • R lfl3 represents a C1-C4 alkyl group
  • R 1114 represents a C3-C6 alkyl group
  • R iM R the Ifl6 and R 1 "7 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or represent a C 1 one C 2 alkyl group.
  • intermediate 1 of the present invention (3) (hereinafter referred to as “intermediate 1 of the present invention”).
  • R is a halogen atom, (: 1-4 alkyl group, C1-C4 haloalkyl group, C1-C4 alkoxy group, C1-C4 haloalkoxy group, di (C1-C4 alkyl) amino group or cyano)
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • C 1 -C 6 alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl and tert-butyl C 1 -C 4 alkyl; pentyl, Examples include C5-C6 alkyl groups such as 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group, and hexyl, and C3-C6 cycloalkyl groups include cyclopropyl group and cyclobutyl group. , Cyclopentyl and cyclohexyl groups;
  • Examples of the C 11 -C 6 haloalkyl group include C 11 -C 4 haloalkyl groups such as a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, and a trifluoromethyl group.
  • Examples of the C 2 -C 6 alkenyl group include a bier group, 1-methylvinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-12-propenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group C2-C4 alkenyl groups such as; 11-pentenyl group, 4-pentenyl group, 11-hexenyl group, and C5-C6 alkenyl group such as 5-hexenyl group;
  • Examples of the C2-C6 haloalkenyl group include a 2-fluorovinyl group, a 2-chlorovinyl group, a 2-bromovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, a 2,2-divinylvinyl group, and a 2,2-dibromovinyl group.
  • Examples of the C2-C6 alkynyl group include C-Cynyl groups such as ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-methyl-2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group and 3-butynyl group.
  • 2-C4 alkynyl group C5-C6 alkenyl group such as 3,3-dimethyl-1-butynyl group, 1-pentynyl group, 4-pentynyl group, 1-hexynyl group, 5-hexynyl group, etc.
  • Examples of the C 2 -C 6 haloalkynyl group include a chlorethynyl group, a bromoethynyl group, and an iodoethyl group.
  • Examples of the C 11 -C 6 alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group and a C 1 -C 4 alkoxy group of a tert-butoxy group; a pentyloxy group And a C 5 -C 6 alkoxy group such as a hexoxy group.
  • Examples of the C 3 -C 6 alkenyloxy group include a 2-propenyloxy group, T / JP2003 / 016294
  • Methyl-2-propenyloxy group 2-methyl-2-propenyloxy group, 2-butenyloxy group, 3-ptenyloxy group, 4-pentenyloxy group, 5-hexenyloxy group,
  • Examples of the C 3 -C 6 alkynyloxy group include a 2-propynyloxy group, a 1-methyl-2-propynyloxy group, a 2-butenyloxy group, a 3-butynyloxy group, a 3-pentynyloxy group, a 4-pentynyloxy group, A 5-hexynyloxy group;
  • Examples of the C 11 -C 6 haloalkoxy group include a fluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a chloromethyl group, a dichloromethyl group, a trichloromethyl group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, and a 1,1.
  • C 1 -C 4 haloalkoxy groups such as, 2,2-tetrafluoroethoxy group and 2-fluoroethoxy group;
  • C 1 -C 6 alkyl groups include methoxymethyl, ethoxymethyl, propyloxymethyl, 1-methoxyethyl, 2-methoxyl, 2-methoxypropyl, 2-methoxypropyl A methoxyisopropyl group;
  • phenoxy C 1 -C 6 alkyl group examples include a phenoxymethyl group, an 11-phenoxyl group, a 2-phenoxetizole group, an 11-phenoxypropyl group, a 3-phenoxypropyl group, and a 4-phenoxybutyl group.
  • hydroxy C 1 -C 6 alkyl group examples include a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 1-hydroxypropyl group, and a 1-hydroxybutyl group.
  • C 1 -C 6 alkylsulfonyloxy examples include methylsulfonyloxymethyl, ethylsulfonyloxymethyl, 1-methylsulfonyloxy, and 2- A sulfonyloxethyl group and a 1-methylsulfonyloxypropyl group,
  • Examples of the C1-C6 alkylthio group include a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, an isopropylthio group, a butylthio group, an isopropylthio group, a sec-butylthio group, a tert-butylthio group, a pentylthio group, and a hexylthio group.
  • Examples of the C 1 -C 6 haloalkylthio group include a fluoromethylthio group, a difluoromethylthio group, and a trifluoromethylthio group.
  • Examples of the C 1 -C 6 alkylamino group include a C 1 -C 4 alkylamino group such as a methylamino group, an ethylamino group, a propylamino group, and an isopropylamino group; a pentylamino group and a hexylamino group;
  • di ((: 1- ⁇ 6alkyl) amino group examples include a C1-C4 dialkylamino group such as a dimethylamino group, a methylamino group and a dipropylamino group; a dipentylamino group and a dihexylamino group.
  • Examples of the (CI—C 6 alkyl) carbonyl group include a methylcarbonyl group, an ethyl carbonyl group, a propyl carbonyl group, and an isopropyl carbonyl group.
  • Benzyl, propoxycarbonyl, and isopropoxycarbonyl groups are examples of the (CI—C 6 alkyl) carbonyl group.
  • C 1 -C 6 alkoxyimino examples include a methoxyiminomethyl group, a 1-methoxyiminoethyl group, a 1-methoxyiminopropyl group, a 1-methoxyiminobutyle group, and an ethoxyiminomethyle.
  • a methoxyiminomethyl group a 1-methoxyiminoethyl group
  • a 1-methoxyiminopropyl group a 1-methoxyiminobutyle group
  • ethoxyiminomethyle examples include a methoxyiminomethyl group, a 1-methoxyiminoethyl group, a 1-methoxyiminopropyl group, a 1-methoxyiminobutyle group, and an ethoxyiminomethyle.
  • 11-ethoxyiminoethyl group propoxyiminomethyl group
  • 11-isopropoxyiminoethyl group butoxyi
  • Benzoxyimino C 1 -C 6 alkyl groups include benzyloxyiminomethyl, 11- (benzyloxyimino) ethyl, 2- (benzyloxyimino) ethyl, and 11- (benzyloxyimino) ethyl.
  • Di (C 1 -C 6 alkyl) aminoimino C 1 -C 6 alkyl groups include dimethylaminoiminomethyl, 11- (dimethylaminoimino) ethyl, getylaminoiminomethyl, 11- (ethyl) Aminoimino) ethyl group.
  • Examples of the tri (C 1 -C 6 alkyl) silyl group include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, and a tert-butyldimethylsilyl group;
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the CI—C 6 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group.
  • 2-methylpentyl group, 3-methylpen C 5 -C 6 alkyl groups such as tyl group, 4-methylpentyl group, and hexyl group;
  • Examples of the C1-C6 octaalkyl group include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, and a trifluoromethyl group.
  • Examples of the C 2 -C 6 alkenyl group include a vinyl group, a 1-methylvinyl group, a 1-propenyl group, a 2-propenyl group, a 1-methyl-2-propenyl group, and a 2-methyl-1 2 —C 1 -C 4 alkenyl groups such as propenyl, 2-butenyl and 3-butenyl; 11-pentenyl, 4-pentenyl, 1-hexenyl, 5-hexenyl and the like A C5-C6 alkyl group,
  • Examples of the C 2 -C 6 alkynyl group include C 2 -C 6 -alkynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 1-methyl-2-propynyl, 1-butynyl, 2-butynyl and 3-butynyl.
  • C 5 -C 6 alkynyl groups such as 1-pentynyl group, 4-pentynyl group, 1-hexynyl group and 5-hexynyl group;
  • the C 3-C 6 alkylene group and R 51 and R 52 has decreased together, for example, trimethylene down group, tetraethylene group, Ru include pentamethylene group and the Kisamechiren group.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the C 1 -C 3 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.
  • Examples of the C 1 -C 3 haloalkyl group include a trifluoromethyl group. Indicated by R 56
  • Examples of the C1-C4 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group.
  • Examples of the C 2 -C 4 alkenyl group include a vinyl group, a 1-methylvinyl group, a 1-propenyl group, a 2-propenyl group, a 1-methyl-2-propyl group, and a 2-methyl-2-propyl group.
  • Examples of the C 2 -C 4 alkynyl group include ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propenyl group, 1-methyl-2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl Groups.
  • the C 1 one C 4 alkyl group represented by R 57 for example a methyl group, Echiru group, flop port propyl group, a butyl group are exemplified
  • Examples of the C3-C4 alkenyl group include a 2-propenyl group, a 1-methyl-2-propenyl group, a 2-methyl-2-propenyl group, a 2-butenyl group, and a 3-butenyl group.
  • Examples of the C 3 -C 4 alkynyl group include a 2-propynyl group, a 1-methyl-2-propynyl group, a 2-butynyl group, and a 3-butenyl group.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.
  • Examples of the C 11 -C 3 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.
  • Examples of the C 1 -C 4 alkyl group include a C 1 -C 2 alkyl group of a methyl group and an ethyl group; a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group;
  • Examples of the C 1 -C 4 haloalkyl group include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group , A 2-fluoroethyl group,
  • Examples of the C3-C4 alkenyl group include a 2-propenyl group, a 1-methyl-2-propenyl group, a 2-methyl-2-propenyl group, a 2-butenyl group, and a 3-butenyl group.
  • Examples of the C 3 -C 6 alkynyl group include a C 3 -C 4 alkynyl group such as a 2-propyl group, a 1-methyl-2-propyl group, a 2-butynyl group, a 3-butenyl group; and a 1,1-dimethyl-2-propynyl group.
  • Examples of the C 1 -C 4 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group.
  • Examples of the C 1 -C 4 haloalkyl group include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group , A 2-fluoroethyl group,
  • Examples of the C 3 -C 4 alkenyl group include a 2-propenyl group, a 1-methyl-2-propenyl group, a 2-methyl-2-propenyl group, a 2-butenyl group, and a 3-butenyl group,
  • Examples of the C 3 -C 6 alkynyl group include a 2-propynyl group, a 1-methyl-2-propenyl group, a 2-butynyl group and a C 3 -C 4 alkynyl group of a 3-butenyl group; a 1,1-dimethyl-2-propynyl group , 1-methyl-2-butenyl, 2-pentynyl, 1-methyl-2-pentynyl, 4-methyl-2-pentynyl, 3-pentynyl, 4-pentynyl, 2-hexyl, 3-hexyl
  • a C 5 -C 6 alkynyl group such as a group,
  • Examples of the C 2 -C 4 cyanoalkyl group include a cyanomethyl group, a cyanoethyl group, a cyanopropyl group, a 1-methylcyanomethyl group, and a 1,1-dimethylcyanomethyl group. .
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the C 1 -C 2 alkyl group include a methyl group and an ethyl group.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the C 11 -C 3 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.
  • Examples of the C 1 -C 3 alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, and an isopropyloxy group.
  • Examples of the C 1 -C 3 haloalkyl group include a trifluoromethyl group.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.
  • Examples of the C 11 -C 3 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.
  • Examples of the C 1 -C 4 alkyl group include a C 1 -C 2 alkyl group of a methyl group and an ethyl group; a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a t-tert monobutyl group.
  • Examples of the C 3 -C 6 alkynyl group include a 2-propynyl group, a 1-methyl-2-propyl group, a 2-butynyl group, and a C 3 -C 4 alkynyl group of a 3-butynyl group; Propynyl group, 1-methyl-2-butynyl group, 2-pentynyl group, 1-methyl-2-pentynyl group, 4-methyl-2-pentynyl group, 3-pentynyl group, 4-pentynyl group, 2-hexyl And C5-C6 alkynyl groups such as a 3-hexyl group.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the C 1 -C 2 alkyl group include a methyl group and an ethyl group.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the C1-C4 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group and a t-tert-butyl group,
  • Examples of the C 1 -C 4 haloalkyl group include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, and a trifluoromethyl group,
  • Examples of the C1-C4 alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, and a tert-butoxy group.
  • C 11 -C 4 haloalkoxy groups include, for example, fluoromethoxy group, difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, 2,2,2-trifluoromethoxy group, 1,1 , 2,2-tetrafluoroethoxy group and 2-fluoroethoxy group.
  • di (C 1 -C 4 alkyl) amino group examples include a dimethylamino group, a methylamino group, and a dipropylamino group;
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the C1-C4 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a ttert-butyl group.
  • Examples of the C 1 -C 6 haloalkyl group include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, and a trifluoromethyl group;
  • the C 3- C 5 alkylene group and R 201 and R M2 has decreased together, for example, trimethylene alkylene group, tetraethylene group and base Ntaechiren group.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.
  • Examples of the C1-C3 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and an isopropyl group.
  • Examples of the C1-C4 alkyl group include a C1-C2 alkyl group of a methyl group and an ethyl group; a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a t-tert monobutyl group.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the C 1 -C 2 alkyl group include a methyl group and an ethyl group.
  • the compounds of the present invention include, for example, compounds of the following embodiments.
  • R 51 is a halogen atom, a 1-4 alkyl group, a C 1 -C 4 A-open alkyl group, a C 2 -C 4 alkenyl group, a C 2 -C 4 alkynyl group, a C 1 -C 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 alkoxy group, A C 4 haloalkoxy group, a C 1 -C 4 alkylamino group, a di (C 1 -C 4 alkyl) amino group or a cyano group, and R 52 is a hydrogen atom, an octogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, 1 C 4 haloalkyl group, C 2 — C 47 JP2003 / 016294
  • R 51 represents a halogen atom, a 01-04 alkyl group, a CI—C4 haloalkyl group, a C 2 —C 4 alkenyl group, a C 2 —C 4 alkynyl group, a C 1—C4 alkoxy group, 1-C4 haloalkoxy group, C1-C4 alkylamino group, di
  • an amide wherein R 52 is a hydrogen atom, a halogen atom, (: 1-4 alkyl group, C 1 -C 4 haloalkyl group, C 2 -C 4 alkenyl group or C 2 -C 4 alkynyl group) Compound;
  • R 6 Is an C 1 -C 4 alkyl group, a C 1 -C 4 haloalkyl group, a C 3 -C 4 alkenyl group or a C 3 -C 4 alkynyl group; wherein, in the formula (1), R 61 is a C 1 -C 4 alkyl group; 11 an amide compound which is a C 4 haloalkyl group, a C 3 -C 4 alkenyl group or a C 3 -C 4 alkynyl group; in the formula (1), R 51 is a halogen atom, a ⁇ 1- ⁇ 4alkyl group, a C 1— C4 Ha port alkyl group, C 1 one C4 alkoxy group, C 1-C 4 haloalkoxy group, a di (C 1-C4 alkyl) amino group or Shiano group, R 52 is a hydrogen atom, halogen atom, ⁇ 1 ⁇ 4 alkyl group, C 1 -
  • R 51 is a halogen atom, a CI—C4 alkyl group, a C—C4, an alkyl group, a C 1-C4 alkoxy group, a C 1-C4 haloalkoxy group, a di (C 1-C4 alkyl) )
  • R 52 is a hydrogen atom, a halogen atom, (1.4 alkyl group, C 1 -C 4 haloalkyl group, C 2 -C 4 alkenyl group or C 2 -C 4 alkynyl group)
  • R 53 is a hydrogen atom
  • R 56 is a hydrogen atom.
  • R 58 and R 59 are a hydrogen atom, a fluorine atom or a methyl group
  • R M is a methyl group or an ethyl group
  • R 61 is a C 3 -C 6 alkynyl group
  • R 62 and R 63 And amide compounds wherein R M is a hydrogen atom;
  • R 51 is a halogen atom; 4-alkyl, C1-C4 haloalkyl, C2-C4 alkenyl, C2-C4 alkynyl, C1-C4 alkoxy, C1-C4 haloalkoxy, C1-C4 alkyl Amino group, di
  • R 53 and R 56 are hydrogen atoms
  • R 57 is a hydrogen atom or a C 1 -C 3 alkyl group
  • R 58 and R 59 are a hydrogen atom
  • the length of 6 ° is (C 1 -C 4 alkyl group, CI—C 4 haloalkyl group, C 3 — C 4 alkenyl or C 3 — C 4 alkynyl
  • R 61 is C
  • R 1 is a halogen atom, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 haloalkyl group, C 2 -C 4 alkenyl group, C 2 -C 4 alkynyl group, C 1 -C 4 alkoxy group, CI - C4 haloalkoxy group, C 1-C4 alkylamino group, a di (CI- C4 ⁇ alkyl) amino group or Shiano group
  • R 3 represents a hydrogen atom or a C 1 -C 3 alkyl group
  • R 4 represents a C 1 -C 4 alkyl group, a C 1 -C 4 haloalkyl group, a C 3 -C 4 alkenyl group or a C 3 -C 4 alkynyl group,
  • R 5 represents a C 1-C4 alkyl group, C 1-C4 haloalkyl group, C 3-C 4 alkenyl group or a C 3-C4 alkynyl group, 2003/016294
  • X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
  • an amide compound in which R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group In the formula (2), an amide compound in which R 1 is a C 1 -C 4 alkylamino group; An amide compound wherein 1 is a di (C 1 -C 4 alkyl) amino group; an amide compound wherein R 1 is a chlorine atom in the formula (2);
  • R 1 is C1 one C4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom, amide compounds wherein R 4 is C 1 one C 4 alkyl group;
  • R 1 is CI- C4 alkyl group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a hydrogen atom, amide compounds wherein R 5 is C 1 one C 2 alkyl radical; in formula (2), R 1 Is a C 1 -C 4 alkyl group, R 2 is a
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 1 is triflate Ruo Russia methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 1 is a halogen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is C 1 -C Amide compounds that are 4 alkyl groups
  • R 1 is a halogen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C An amide compound which is an alkyl group
  • R 1 is a halogen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl
  • R 1 is a halogen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 —C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 3 —C 4 An amide compound which is an alkynyl group
  • R 1 is a nodogen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 2
  • R 1 is a halogen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a 2-propynyl group.
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is CI — Amide compounds that are C2 alkyl groups
  • R 1 is a CI—C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is C 1 An amide compound which is one C2 alkyl group
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl group.
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is C 3 — Amide compounds that are C4 alkynyl groups
  • R 1 is a CI—C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is C 1 An amide compound which is a C2 alkyl group
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is 2- An amide compound which is a propynyl group
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is C 1 C4 6294
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is Amide compounds which are CI—C2 alkyl groups
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 An amide compound wherein is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is An amide compound which is a C3-C4 alkynyl group
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is An amide compound which is a C 1 -C 2 alkyl group
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 An amide compound wherein is a 2-propynyl group
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl An amide compound
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a CI—C 2 alkyl group
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl.
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 3 -C 4 An amide compound that is an alkynyl group
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 2
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom PT / JP2003 / 016294
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 2
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 An amide compound which is an alkyl group
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is C 3 -C 4 An amide compound that is an alkynyl group
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 2 alkyl
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a 2-propynyl group.
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is CI— An amide compound which is a C4 alkyl group
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is CI— An amide compound which is a C2 alkyl group
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is CI— An amide compound which is a C4 alkyl group
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 3 —
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is CI— An amide compound which is a C2 alkyl group
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 —C 4 alkyl group
  • R 5 is 2—
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group, and R 5 is a CI—C 4 alkyl.
  • an amide compound wherein R 2 is a hydrogen atom, R 4 is a C 1 -C 2 alkyl group, and R 4 is a C 3 -C 4 alkynyl group;
  • an amide compound wherein R 2 is a hydrogen atom, R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group, and R 4 is a C 3 -C 4 alkynyl group;
  • an amide compound in which R 1 is a chlorine atom and X is an oxygen atom In the formula (2), an amide compound in which R 1 is a methyl group and X is an oxygen atom; An amide compound wherein R 1 is a trifluoromethyl group and X is an oxygen atom;
  • an amide compound in which R 2 is a hydrogen atom and X is an oxygen atom In the formula (2), an amide compound in which R 2 is a hydrogen atom and X is an oxygen atom; In the formula (2), an amide compound in which R 2 is a halogen atom and X is an oxygen atom; An amide compound wherein R 2 is a C 1 -C 4 haloalkyl group and X is an oxygen atom;
  • R 1 is a halogen atom
  • R 2 is a C 1 -C4 octaalkyl group 3016294
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group, and R 5 is a CI—C 2 alkyl
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 1 is a di (CI—C4 alkyl) amino group, and R 5 is C 1
  • An amide compound in which X is an oxygen atom R 1 is a di (CI—C 4 alkyl) amino group, R 5 is a C 3 —C 4 alkynyl group, An amide compound wherein X is an oxygen atom;
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group, R 2 is a hydrogen atom, R 4 is a C 1 -C 2 alkyl group, and X is an oxygen atom;
  • R 1 is C 1 one C4 alkyl group, R 2 is a hydrogen atom, R 5 is C 1 one C4 alkyl group, amide compounds wherein X is an oxygen atom;
  • R 1 is An amide compound in which R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group, R 2 is a hydrogen atom, R 5 is a C 3 -C 4 alkynyl group, and X is an oxygen atom; —C4 alkyl group, R 2 is a hydrogen atom, An amide compound in which R 5 is a hydrogen atom, An
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 1 is triflate Ruo Russia methyl group, R 2 is a hydrogen atom, R 5 is C 1 one C4 alkyl group, amide compounds wherein X is an oxygen atom; in formula (2), R 1 is triflic An amide compound in which R 2 is a hydrogen atom, R 5 is a C 3 -C 4 alkynyl group, and X is an oxygen atom;
  • R 1 is trifluoromethyl An amide compound wherein R 2 is a hydrogen atom; R 5 is a C 1 -C 2 alkyl group; and
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • X is an oxygen atom
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 2 alkyl group
  • X is an oxygen atom
  • R 1 is a CI—C4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a CI—C4 alkyl group
  • X is an oxygen atom Amide compounds
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a C 3 -C 4 alkynyl group
  • X is oxygen
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a C 1 -C 2 alkyl group
  • X is an oxygen atom
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a 2-propynyl group
  • X is an oxygen atom Amide compounds
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • X Is an oxygen atom
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 2 alkyl group
  • X is An amide compound that is an oxygen atom
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • X is oxygen
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a C 3 -C 4 alkynyl group
  • X is An amide compound which is an oxygen atom
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a C 1 -C 2 alkyl group
  • X is oxygen
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a 2-propynyl group
  • X is an oxygen atom.
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 2 alkyl group
  • X is an oxygen atom
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a C 3 —C 4 alkynyl group
  • X is an oxygen atom
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a C 1 -C 2 alkyl group.
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a 2-propyl group.
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group.
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a CI—C2 alkyl group.
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group.
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 2 alkyl group
  • X is an oxygen atom.
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a C1-C4 alkyl group
  • X is an oxygen atom Amide compounds
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a C 3 -C 4 alkynyl group
  • X is an oxygen atom
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a C 1 -C 2 alkyl group
  • X is an oxygen atom.
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 5 is a 2-propynyl group
  • X is an oxygen atom.
  • R 1 is a halogen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl group.
  • R 1 is a halogen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 2
  • An amide compound which is an alkyl group and X is an oxygen atom
  • R 1 is a rho or logen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1-
  • R 1 is a halogen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 3 -C 4 alkynyl
  • R 1 is a halo
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 1 alkyl group.
  • R 1 is a halogen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a 2-propenyl group.
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl group.
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is CI —
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl group.
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 3 -C 4 alkyl group.
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl group.
  • R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is 2
  • R 1 is a C 1 -C 4 octaalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is CI—C4 PT / JP2003 / 016294
  • R 1 is a CI—C4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl group.
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is An amide compound wherein CI is a C4 alkyl group and X is an oxygen atom;
  • R 1 is a CI—C4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 3 -C 4 alkyl group.
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is An amide compound wherein is a C 1 -C 2 alkyl group and X is an oxygen atom;
  • R 1 is a C 1 -C 4 haloalkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is An amide compound which is a 2-propynyl group and X is an oxygen atom
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C An amide compound in which X is an alkyl group and X is an oxygen atom;
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 An amide compound in which 2 is an alkyl group and X is an oxygen atom;
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 —C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 3 —C 4 An amide compound wherein X is an oxygen atom
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 2
  • R 1 is a chlorine atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C An amide compound in which X is an alkyl group and X is an oxygen atom;
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C An amide compound in which X is an alkyl group and X is an oxygen atom;
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 3 -C 4 An amide compound wherein X is an oxygen atom
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C An amide compound in which 2 is an alkyl group and X is an oxygen atom;
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a 2-propenyl group.
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is CI—
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is C 1
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 1 -C 4 alkyl group.
  • An amide compound which is a C4 alkyl group and X is an oxygen atom;
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is a C 3 —
  • An amide compound which is a C4 alkynyl group and X is an oxygen atom
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is CI—
  • An amide compound which is a C2 alkyl group and X is an oxygen atom
  • R 1 is a trifluoromethyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 5 is 2_ An amide compound in which X is an oxygen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 2 alkyl group
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group and X is an oxygen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 2 alkyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1 -C 2 alkyl group
  • An amide compound in which X is an oxygen atom;
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1-C4 alkyl group
  • R 4 is C 1 one C 4 alkyl group
  • amide compounds wherein X is an oxygen atom
  • formula ( in 2) R 2 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1-C4 alkyl group
  • R 4 is C3- C4 alkynyl group, amide compounds wherein X is an oxygen atom
  • R 2 is a hydrogen atom
  • R 4 is a C 1-C4 alkyl group
  • R 4 is C 1 one C 2 alkyl group
  • amide compounds wherein X is an oxygen atom
  • R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group, is a 2-propynyl group
  • X is an oxygen atom.
  • the compound (111) wherein R "is a hydrogen atom and X is an oxygen atom can be produced by reacting the compound (5) with the compound (6).
  • R 51 , R 52 , R 53 , R 56 R 58 , R 59 R 60 , R 61 , R 62 , R 63 and R 64 represent the same meaning as described above]
  • the reaction is usually performed in the presence of a solvent, usually in the presence of a base.
  • solvent used in the reaction examples include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; toluene; Aromatic hydrocarbons such as xylene, Hachogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, N, N-dimethylformamide and the like Examples thereof include acid amides, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
  • ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether
  • aliphatic hydrocarbons such as he
  • Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, and 1,8-diazapici. 6294
  • Tertiary amines such as black [5.4.0] ndeck-1 7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene and pyridine, 4-dimethylaminopyridine And other nitrogen-containing aromatic compounds.
  • the base is usually used in a proportion of 1 to 10 mol
  • the compound (5) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol, per 1 mol of the compound (6).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0 to 24 hours.
  • the reaction mixture is poured into water and extracted with an organic solvent, and the organic layer is washed with acidic water (dilute hydrochloric acid, etc.) and basic water (sodium hydrogen carbonate aqueous solution, etc.) as necessary. And then drying and concentrating, or (ii) adding a small amount of water to the reaction mixture, concentrating under reduced pressure, and collecting the obtained solid by filtration to obtain the compound (111).
  • acidic water dilute hydrochloric acid, etc.
  • basic water sodium hydrogen carbonate aqueous solution, etc.
  • the compound (111) wherein R 57 is a hydrogen atom and X is an oxygen atom can also be produced by reacting the compound (7) with the compound (8). it can.
  • L 1 represents a halogen atom, a methanesulfonyloxy group, a trifluoromethanesulfonyloxy group or a p-toluenesulfonyloxy group
  • R 51 , R 52 , R 53 , R 56 , R 58 , R 59 , R 60 , R 61 , R 62 , R 63 and R 64 represent the same meaning as described above.
  • the reaction is usually performed in the presence of a solvent, usually in the presence of a base.
  • solvent used in the reaction examples include 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, tert-butyl methyl ether Ethers such as hexane, heptane, and octane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; octacyclic hydrocarbons such as chlorobenzene, ethyl ethyl acetate, and butyl acetate Esters, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethylsulfoxide, and mixtures thereof.
  • Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5] [4.0] pendeck 7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] tertiary amines such as non-5-ene and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine Group compounds.
  • carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate
  • alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride
  • triethylamine diisopropylethylamine
  • 1,8-diazabicyclo [5] [4.0] pendeck 7-ene 1,5-diazabicyclo [4.3.0]
  • tertiary amines such as non-5-ene and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylamin
  • the base is usually used in a proportion of 1 to 10 mol
  • the compound (8) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol, per 1 mol of the compound (7).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 120 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the reaction mixture is poured into water and extracted with an organic solvent.
  • the compound (111) can be isolated by performing post-treatment operations such as drying, concentration and the like.
  • the isolated compound (1-1) can be further purified by an operation such as chromatography, recrystallization and the like.
  • Compound (1-1) can also be produced by reacting compound (7 ′) with compound (11).
  • L 3 is a halogen atom, a methanesulfonyloxy group
  • R represents a p-toluenesulfonyloxy group
  • R 51 , R 52 , R 53 , R 56 , R 58 , R 59 , R 60 , R 6 ⁇ , R 62 , R 63 and R 64 are as defined above. Express the same meaning. The reaction is performed under the same conditions as in the above reaction.
  • the compound (1-2) in which R 57 is a C 1 -C 4 alkyl group, a C 3 -C 4 alkenyl group or a C 3 -C 4 alkynyl group, and X is an oxygen atom is It can be produced by reacting compound (1-1) with compound (9).
  • L 2 represents a halogen atom, a methanesulfonyloxy group, a trifluoromethanesulfonyloxy group or a p-toluenesulfonyloxy group
  • R " -1 is a C1-C4 alkyl group, C3-C4 an alkenyl group or a C 3- C 4 alkynyl group
  • R 51, R 52, R 53, R 56, R 58, R 59, R 60, R 61, R 62, R 63 and R 64 are the same meaning as above Represents taste.
  • the reaction is usually performed in the presence of a solvent, usually in the presence of a base.
  • solvent used in the reaction examples include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane; toluene; Aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated hydrocarbons such as benzene and the like, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and butylonitrile, and acid amides such as N, N-dimethylformamide , Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
  • ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether
  • aliphatic hydrocarbons such as hex
  • Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride; Tertiary grades such as tilamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] ndeck-1 7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-1-5-ene And amine-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
  • the base is usually used in the proportion of 1 to 10 mol
  • the compound (9) is usually used in the proportion of 1 to 5 mol per 1 mol of the compound (1-1).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 100, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound (1-2) can be isolated by performing post-treatment operations such as pouring the reaction mixture into water, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. .
  • the isolated compound (1-2) can be further purified by an operation such as chromatography and recrystallization.
  • the compound (1-14) in which X is a sulfur atom includes the compounds (1-3) of the present compound in which X is an oxygen atom and 2,4-bis (4-methoxyphenyl) 1-11 , 3-Dithia-1,2,4-diphosphethane-1,2,4-disulfide (a compound generally known as Lawesson's reagent).
  • Ethers such as orchid, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; halogenated carbons such as benzene.
  • Examples include hydrogens, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, sulfoxides such as dimethylsulfoxide, and mixtures thereof.
  • the Lawesson's reagent is usually used in the proportion of 1 to 10 mol per 1 mol of the compound (1-3).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 50 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
  • compound (114) can be isolated by performing post-treatment operations such as pouring water into the reaction mixture, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. Wear.
  • the isolated compound (114) can be further purified by a procedure such as chromatography and recrystallization.
  • Compound (6) can be produced, for example, according to the following scheme.
  • R 6 represents a CI-C 6 alkyl group
  • R 7 represents a benzyl group or a methoxymethyl group.
  • R 58 , R 59 , R 60 , R 61 , R 6 ⁇ R 63 , R 6 L 1 and L 3 have the same meaning as described above. ]
  • Compound (12) can be produced by reacting compound (10) with compound (11) ′.
  • reaction is carried out in the presence or absence of a solvent, usually in the presence of a base.
  • Solvents used in the reaction include, for example, ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylenedaricol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; Aromatic hydrocarbons such as benzene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, N, N-dimethylformamide and the like Examples thereof include acid amides, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
  • ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylenedaricol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether
  • Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5 . 4.0] Pendeck 7-ene, 1,5 diazabicyclo [4.3.0] Tertiary amines such as non-5-ene and nitrogen-containing aromatics such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine Compounds.
  • the base is usually used in the proportion of 1 to 50 mol
  • the compound (11) is usually used in the proportion of 1 to 5 mol per 1 mol of the compound (10).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 100, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound (12) can be isolated by pouring the reaction mixture into water, extracting with an organic solvent, and performing a post-treatment operation such as drying and concentration of the organic layer.
  • the isolated compound (12) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization.
  • the compound (10) is, for example, a compound described in Tetrahedron Letters, vo 1.36, No. 51, pp. 9369-9372, 1995, or according to the method described therein. A compound that can be produced by a method.
  • Compound (13) can be produced by reacting compound (12) with hydrogen in the presence of a hydrogenation catalyst and an acid.
  • the reaction is usually carried out under a hydrogen atmosphere, usually in the presence of a solvent.
  • Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol, ethanol, and propanol; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; and mixtures thereof.
  • Examples of the hydrogenation catalyst used for the reaction include transition metal compounds such as palladium carbon, palladium hydroxide, Raney nickel, and platinum oxide.
  • Examples of the acid used for the reaction include hydrochloric acid.
  • the amount of hydrogen is usually 1 mol, and the amount of the hydrogenation catalyst is usually 0.01 to 0.5 mol per 1 mol of the compound (13).
  • the reaction is usually performed under a hydrogen atmosphere at 1 to 100 atm.
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 120 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound (13) can be isolated by performing post-treatment operations such as filtering the reaction mixture, extracting the filtrate with an organic solvent, and drying and concentrating the obtained organic layer. .
  • the isolated compound (13) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization.
  • Compound (11) can be produced by subjecting compound (12) to a hydrolysis reaction in the presence of an acid.
  • the reaction is usually performed in the presence of water and an organic solvent.
  • organic solvent used in the reaction examples include 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane; Aromatic hydrocarbons such as benzene and xylene; halogenated hydrocarbons such as benzene benzene; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; nitriles such as acetonitrile and butylonitrile; N, N-dimethylformamide Acid amides, sulphoxides such as dimethyl sulfoxide, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and the like, and mixtures thereof.
  • 1,4-dioxane tetrahydrofuran
  • ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl
  • Examples of the acid used for the reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, p-toluenes Organic acids such as sulfonic acid, methanesulfonic acid and the like can be mentioned.
  • the acid is usually used in the proportion of 1 to 10 mol per 1 mol of the compound (12).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • compound (13) can be isolated by performing post-treatment operations such as extracting the reaction mixture with an organic solvent and drying and concentrating the organic layer.
  • the isolated compound (13) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization.
  • Compound (14) can be produced by reacting compound (13) with compound (8).
  • reaction is carried out in the presence or absence of a solvent, usually in the presence of a base.
  • solvent used in the reaction examples include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; and toluene.
  • Aromatic hydrocarbons such as benzene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, and acids such as N, N-dimethylformamide Examples include amides, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
  • Bases used in the reaction include, for example, carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] pendec-7-ene, 1,5 —Diazabicyclo [4. 3.
  • tertiary amines such as non-1-ene; and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
  • the base is usually used in a proportion of 1 to 50 mol
  • the compound (8) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol, based on 1 mol of the compound (13).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 100, and the reaction time is usually 0.1.
  • compound (14) can be isolated by performing post-treatment operations such as adding an organic solvent to the reaction mixture, if necessary, followed by filtration and concentration of the filtrate.
  • the isolated compound (14) can be further purified by operations such as distillation, chromatography, and recrystallization. 2003/016294
  • Compound (15) can be produced by subjecting compound (14) to a hydrolysis reaction in the presence of a base.
  • the reaction is usually performed in the presence of water and an organic solvent.
  • organic solvent used for the reaction examples include 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and chlorobenzene. And nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile; alcohols such as methanol, ethanol and propanol; and mixtures thereof.
  • Examples of the base used in the reaction include lithium hydroxide, sodium hydroxide, and alkali metal hydroxides such as hydroxide hydroxide.
  • the base is usually used in the proportion of 1 to 10 mol per 1 mol of the compound (14).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound (15) can be isolated by performing post-treatment operations such as adding acidic water (hydrochloric acid, etc.) to the reaction mixture, extracting the organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. it can.
  • the isolated compound (15) can be further purified by a procedure such as distillation, chromatography, or recrystallization.
  • Compound (6) can be produced by reacting compound (15) with a chlorinating agent.
  • the reaction is performed in the presence or absence of a solvent.
  • solvent used for the reaction examples include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, toluene, xylene and the like. Aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as benzene and the like, and mixtures thereof.
  • chlorinating agent used in the reaction examples include thionyl chloride, oxalyl chloride and phosphorus oxychloride.
  • the chlorinating agent is usually used in the proportion of 1 to 100 mol per 1 mol of the compound (15). 16294
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 30 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • compound (6) After completion of the reaction, compound (6) can be isolated by performing post-treatment operations such as concentration of the reaction mixture as it is. The isolated compound (6) is usually used in the next step reaction without purification.
  • R M is a C 1 -C 4 alkyl group
  • R 61 is a C 3 -C 6 alkynyl group
  • R 6 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group
  • R 6Q is a methyl group or an ethyl group
  • R 61 is a C 3 -C 6 alkynyl group
  • R 58 , R 59 , R 62 , R 63 and R 64 are hydrogen atoms is an intermediate of the present invention. Is one.
  • Compound (13) can also be produced according to the following scheme.
  • R 6 represents a CI—C 6 alkyl group
  • R 7 represents a benzyl group or a methoxymethyl group
  • R 58 , R 59 , R 60 , R 62 , R 63 , R 64 , L 1 and L 3 has the same meaning as described above.
  • Compound (21) can be produced by reacting compound (20) with the following compound (22) and a base.
  • the reaction is performed in the presence of a solvent.
  • Examples of the base used in the reaction include carbonates such as potassium carbonate and the like, and metal hydrides such as sodium hydride and the like.
  • the compound (22) is usually used in a proportion of 1 to 2 mol, and the base is usually used in a proportion of 1 to 2 mol, per 1 mol of the compound (20).
  • the reaction temperature is usually in the range of 0 to 80 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • compound (20) can be isolated by performing post-treatment operations such as pouring the reaction mixture into water, extracting the organic solvent, and drying and concentrating the organic layer.
  • the isolated compound (20) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization.
  • Compound (20) is commercially available or can be produced according to a known method.
  • Compound (13) can be produced by reacting compound (20) with hydrogen in the presence of a hydrogenation catalyst and an acid.
  • Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol, ethanol, and propanol; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; and mixtures thereof.
  • Examples of the hydrogenation catalyst used in the reaction include transition metal compounds such as palladium carbon, palladium hydroxide, nickel nickel, and platinum oxide.
  • Examples of the acid used for the reaction include hydrochloric acid.
  • the hydrogen is usually used in a proportion of 2 mol, and the hydrogenation catalyst is usually used in a proportion of 0.01 to 0.5 mol per 1 mol of the compound (13).
  • the reaction is usually performed under a hydrogen atmosphere at 1 to 100 atm.
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of ⁇ 20 to 100 ° C., and the reaction time is usually in the range of 0:! To 24 hours.
  • the compound (13) can be isolated by performing post-treatment operations such as filtering the reaction mixture, extracting the filtrate with an organic solvent, and drying and concentrating the obtained organic layer.
  • the isolated compound (13) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization.
  • Compound (14) can also be produced according to the following scheme. 6294
  • R 6 represents a CI-C 6 alkyl group
  • R 7 represents a benzyl group or a methoxymethyl group
  • R 58 , R 59 , R 60 , R 61 , R 62 , R 63 , R S4 , L S 1 and L 3 represent the same meaning as above.
  • step (I′-1) is performed under the same conditions as in the above step (1-3).
  • Step (I'-2) is performed under the same conditions as in step (1-2) above.
  • the step (1'-3) conforms to the conditions of the above step (I-1).
  • the compound (10) is, for example, a compound described in Tetrahedron Letters, vo 1.36, No. 51, pp. 9369-9372, 1995, or a method described in the literature. It is a compound that can be produced by an analogous method.
  • Compound (13 ′) can also be produced according to the following scheme.
  • R 6 represents a C 1 -C 6 alkyl group
  • R 7 represents a benzyl group or a methoxymethyl group
  • R 58 , R 59 , R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , L 1 and L 3 represents the same meaning as above.
  • Step (I′- 1) is performed under the same conditions as in step (I, 6).
  • Step ( ⁇ -7) is performed under the same conditions as in step (1-7) above.
  • Compound (20 ′) is commercially available or can be produced according to a known method.
  • Compound (7) can be produced, for example, according to the following scheme.
  • R 51, R 52, R 53, R 56 R 58 R 59 p 60 R 61 R 62, R 63, R 64 are as defined above.
  • Compound (17) can be produced by reacting compound (16) with a chlorinating agent.
  • the reaction is performed in the presence or absence of a solvent.
  • solvent used in the reaction examples include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, toluene, xylene and the like. Aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as benzene and the like, and mixtures thereof.
  • chlorinating agent used in the reaction examples include thionyl chloride, oxalyl chloride and phosphorus oxychloride.
  • the chlorinating agent is usually used in the proportion of 1 to 100 mol per 1 mol of the compound (16). 3016294
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 30 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • compound (17) After completion of the reaction, compound (17) can be isolated by performing post-treatment operations such as concentration of the reaction mixture as it is. The isolated compound (17) is usually used in the next step reaction without purification.
  • Compound (16) is, for example, a compound described in Synthetic Communications, 29 (4), pp. 573-581 (1999), or is produced by a method according to the method described in the literature. Is a compound that can be Process (II-1)
  • Compound (18) can be produced by reacting compound (17) with compound (5).
  • the reaction is usually performed in the presence of a solvent, usually in the presence of a base.
  • solvent used in the reaction examples include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; toluene; Aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, and acids such as N, N-dimethylformamide Examples include amides, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
  • ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether
  • aliphatic hydrocarbons such as hex
  • Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] Tertiary amines such as 5-diazavisigro [4.3.0] non-5-ene and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
  • the base is usually used in a proportion of 1 to 10 mol
  • the compound (5) is usually used in a proportion of 1 to 5 mol, per 1 mol of the compound (17).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0 :! to 24 hours.
  • reaction mixture is poured into water and extracted with an organic solvent, and the organic layer is washed with acidic water (such as dilute hydrochloric acid) and basic water (such as aqueous sodium hydrogen carbonate) as necessary. And drying or concentrating the compound (1), or (ii) adding a small amount of water to the reaction mixture, concentrating the mixture under reduced pressure, and collecting the resulting solid by filtration to obtain the compound (1).
  • acidic water such as dilute hydrochloric acid
  • basic water such as aqueous sodium hydrogen carbonate
  • the isolated compound (18) can be further purified by an operation such as chromatography, recrystallization and the like.
  • Compound (7) can be produced by reacting compound (18) with hydrogen in the presence of a hydrogenation catalyst and an acid.
  • the reaction is usually carried out under a hydrogen atmosphere, usually in the presence of a solvent.
  • Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol, ethanol, and propanol; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; and mixtures thereof.
  • Examples of the hydrogenation catalyst used in the reaction include transition metal compounds such as palladium carbon, palladium hydroxide, Raney nickel, and platinum oxide.
  • Examples of the acid used for the reaction include hydrochloric acid.
  • the hydrogen is usually used in a proportion of 2 mol, and the hydrogenation catalyst is usually used in a proportion of 0.01 to 0.5 mol per 1 mol of the compound (18).
  • the reaction is usually performed under a hydrogen atmosphere at 1 to 100 atm.
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound (7) can be isolated by performing post-treatment operations such as filtering the reaction mixture, extracting the filtrate with an organic solvent, and drying and concentrating the obtained organic layer.
  • the isolated compound (7) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization.
  • R 51 is a halogen atom, a CI—C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group, a CI—C4 alkoxy group, a C1-C4 haloalkoxy group, a di (C1-1C4 alkyl) group.
  • Compound (7 ′) can be produced, for example, according to the following scheme.
  • R 5 , R 56 R 58 R 5 have the same meaning as described above. ]
  • Step (II'1-1) is performed under the same conditions as in the above step (I1-1), and step (II'-2) is performed under the same conditions as the above step (I1-2).
  • step (II′-3) is performed under the same conditions as in the above step (II-13).
  • the compound (16 ′) is, for example, a compound described in Synthetic Computerization s, 29 (4), pp. 573-581 (1999) or a method according to the method described in the literature. It is a compound that can be produced.
  • Compound (5-1) of compound (5) wherein R 56 is a hydrogen atom can be produced, for example, by subjecting compound (19) to a reduction reaction.
  • R 51 , R 52 , and R 53 represent the same meaning as described above.
  • the reaction is usually performed in the presence of a solvent.
  • solvent used in the reaction examples include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane; toluene; Examples include aromatic hydrocarbons such as xylene and mixtures thereof.
  • Examples of the reducing agent used in the reaction include metal hydrides such as lithium aluminum hydride and dibutyl aluminum hydride.
  • the reducing agent is usually used in a proportion of 0.5 to 5 mol per 1 mol of the compound (19), and can be appropriately changed depending on the type of the reducing agent.
  • reaction mixture is poured into water and extracted with an organic solvent, and the organic layer is washed with a basic aqueous sodium bicarbonate solution as necessary, then dried, concentrated, and then subjected to post-treatment such as concentration.
  • compound (5) can be isolated.
  • the isolated compound (5) can be further purified by an operation such as distillation or chromatography.
  • Compound (5) can be produced according to the following scheme.
  • R 51 , R 52 , R 53 , and R 56 represent the same meaning as described above, and L 4 represents a chlorine atom or a bromine atom.
  • Compound (21) can be produced by reacting compound (20) with potassium phthalimide.
  • PC Kasumi 003/016294 PC Kasumi 003/016294
  • the reaction is usually performed in the presence of a solvent.
  • Solvents used in the reaction include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; and toluene.
  • Aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated hydrocarbons such as benzene and the like, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, and acids such as N, N-dimethylformamide
  • Aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated hydrocarbons such as benzene and the like, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, and acids such as N, N-dimethylformamide
  • Aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated hydrocarbons such as benzene and the like, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, and acids such as N, N-dimethyl
  • Potassium phthalimide is generally used in a proportion of 1 to 3 mol per 1 mol of the compound (20).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 120 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound (21) can be isolated by performing post-treatment operations such as pouring the reaction mixture into water, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer.
  • the isolated compound (21) can be further purified by a technique such as chromatography and recrystallization.
  • Compound (5) can be produced by reacting compound (21) with hydrazine.
  • the reaction is usually performed in the presence of a solvent.
  • Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol, ethanol, and propanol, water, and mixtures thereof.
  • the hydrazine used in the reaction may be a hydrate. Hydrazine is usually used in the proportion of 1 to 10 mol per 1 mol of the compound (21).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound (5) can be isolated by performing post-treatment operations such as filtering the reaction mixture, adding water to the filtrate, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. it can.
  • the isolated compound (5) can be further purified by an operation such as distillation or chromatography.
  • Compound (5) can be produced, for example, by subjecting compound (22) to a Leukart reaction. 2003/016294
  • R 5 ′, R 52 , R 53 and R 56 represent the same meaning as described above.
  • reaction is carried out in the presence or absence of a solvent, in the presence of formamide and formic acid.
  • solvent used in the reaction examples include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; toluene; Examples include aromatic hydrocarbons such as xylene and mixtures thereof.
  • Formamide is usually used in a proportion of 1 to 15 mol, and formic acid is usually used in a proportion of 0.1 to 2 mol per 1 mol of the compound (22).
  • the reaction mixture is poured into water and extracted with an organic solvent.
  • the organic layer is washed with basic water (aqueous sodium hydroxide, etc.) if necessary, and then dried and concentrated.
  • the compound (5) can be isolated.
  • the isolated compound (5) can be further purified by an operation such as distillation or chromatography.
  • Compound (5) can be produced according to the following scheme.
  • Compound (23) can be produced by reacting compound (22) with hydroxylamine.
  • the reaction is usually performed in the presence of a solvent.
  • Solvents used in the reaction include 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, toluene and xylene Aromatic hydrocarbons such as benzene, halogenated hydrocarbons such as benzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile and ptyronitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; alcohols such as methanol, ethanol, propanol and isopropanol; water; and mixtures thereof.
  • 1,4-dioxane 1,4-dioxane
  • ethers such as ethylene glycol dimethyl ether
  • Hydroxylamine is usually used in the proportion of 1 to 5 mol per 1 mol of the compound (22).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • the compound (23) can be isolated by performing post-treatment operations such as pouring the reaction mixture into water, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer.
  • the isolated compound (23) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization.
  • Compound (5) can be produced by reacting compound (23) with hydrogen in the presence of a hydrogenation catalyst.
  • the reaction is usually carried out under a hydrogen atmosphere, usually in the presence of a solvent.
  • Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol, ethanol, and propanol; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ethers such as tetradrofuran and 1,4-dioxane; and mixtures thereof.
  • Examples of the hydrogenation catalyst used for the reaction include transition metal compounds such as palladium carbon, palladium hydroxide, Raney nickel, and platinum oxide.
  • the hydrogen is usually used in a proportion of 2 mol, and the hydrogenation catalyst is usually used in a proportion of 0.001 to 0.5 mol per 1 mol of the compound (23).
  • the reaction is usually performed under a hydrogen atmosphere at 1 to 100 atm. Acid (salt if necessary (Acid or the like).
  • the reaction temperature of the reaction is usually in the range of ⁇ 20 to 100 ° C., and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
  • compound (5) After completion of the reaction, compound (5) can be isolated by performing post-treatment operations such as filtering the reaction mixture, extracting the filtrate with an organic solvent, and drying and concentrating the obtained organic layer.
  • the isolated compound (5) can be further purified by operations such as chromatography and recrystallization.
  • Examples of the plant disease having the controlling effect of the compound of the present invention include plant diseases caused by algae, and specific examples include the following diseases.
  • Vegetables downy mildew of radish (Peronospora brass icae), downy mildew of spinach (Peronospora spinaci ae), downy mildew of tapa and moss (Peronospora tabacina), downy mildew of cucumber (Pseudoperonospora cubens is), Budo downy mildew (Plasmopara vi ti cola), 'Phytophthora cactorum (Phytophthora cactorum) plague on apples, strawberries, and ginseng> Gray plague (Pytophora capsici) on tomatoes and cucumber, Phytophthora cinnamomi (Phytophthora cinnamomi), potato plague (Phytophthora infes tans), tobacco, fava bean, and green onion plague (Phytophthora nicot ianae var.
  • the compound of the present invention can also control plant diseases by treating it with plants or soil.However, usually, a composition containing the compound of the present invention and a carrier, that is, a compound of the present invention in an appropriate carrier It is used in the form of a plant disease controlling composition carrying the compound.
  • the plant disease controlling agent of the present invention is obtained by mixing the compound of the present invention with a solid carrier, a liquid carrier, a surfactant and other auxiliary agents for formulation, and preparing emulsions, wettable powders, wettable powders, flowable powders, powders, and granules. Etc. These preparations usually contain 0.1 to 90% by weight of the compound of the present invention.
  • solid carrier used in the formulation examples include, for example, kaolin clay, Atta paljaitocre, bentonite, montmorillonite, acid clay, pyrophyllite, talc, diatomaceous earth, calcite and other minerals, corn cob powder, walnut husk powder and the like. Fine powder or granules of natural organic substances, synthetic organic substances such as urea, salts such as calcium carbonate and ammonium sulfate, synthetic inorganic substances such as synthetic hydrous silicon oxide, etc. 2003/016294
  • liquid carrier examples include aromatic hydrocarbons such as xylene, alkylbenzene, and methylnaphthalene; alcohols such as 2-propanol, ethylene glycol, propylene glycol, and cellosolve; acetone, cyclohexanone, and isophorone.
  • aromatic hydrocarbons such as xylene, alkylbenzene, and methylnaphthalene
  • alcohols such as 2-propanol, ethylene glycol, propylene glycol, and cellosolve
  • acetone cyclohexanone
  • isophorone isophorone.
  • Ketones such as soybean oil, vegetable oils such as soybean oil and cottonseed oil, aliphatic hydrocarbons, esters, dimethyl sulfoxide, acetonitrile and water.
  • surfactant examples include alkyl sulfates, alkyl aryl sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, polyoxyethylene alkyl aryl ether phosphates, lignin sulfonates, and naphthyl sulfonate formaldehyde polycondensates. And the like, and nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl copolymer and sorbitan fatty acid ester.
  • compositions include, for example, water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol and polyvinyl bipyrrolidone, gum arabic, alginic acid and salts thereof, polysaccharides such as CMC (potassium oxymethylcellulose), xanthan gum, aluminum magnesium silicate, and the like. And preservatives, coloring agents, and stabilizers such as PAP (isopropyl isopropyl phosphate) and BHT.
  • the plant disease controlling agent of the present invention is used, for example, for protecting plants from plant diseases by foliar treatment of plants, and for treating plants that grow on the soil by treating the soil with plants. Used to protect against disease.
  • the amount of treatment depends on the type of crop, etc., which is the plant to be controlled, the type of disease to be controlled, about the generation of control target disease, formulation form, treatment period, but may be varied by weather conditions or the like, usually a 1 0 0 0 0 m 2 per the present compound: 5500 g, preferably 5 L; L 000 g.
  • Emulsions, wettable powders, flowables, etc. are usually processed by diluting with water and spraying.
  • the concentration of the compound of the present invention is usually in the range of 0.001 to 3% by weight, preferably in the range of 0.005 to 1% by weight.
  • Dusts, granules, etc. are usually processed without dilution.
  • the plant disease controlling agent of the present invention can be used in a treatment method such as seed disinfection.
  • Seed disinfection methods include, for example, a method of immersing plant seeds in the plant disease control agent of the present invention prepared so that the concentration of the compound of the present invention is 1 to 100 ppm, Original 16294
  • the method for controlling plant diseases of the present invention generally comprises applying an effective amount of the agent for controlling plant diseases of the present invention to a plant in which the occurrence of a disease is predicted or soil in which the plant grows, and confirming the occurrence of Z or the disease. It is carried out by treating the treated plant or the soil where the plant grows.
  • the plant disease controlling agent of the present invention is generally used as a plant disease controlling agent for agricultural and horticultural use, i.e., a plant disease controlling agent for controlling plant diseases such as fields, paddy fields, orchards, tea fields, pastures, and lawns.
  • a plant disease controlling agent for controlling plant diseases such as fields, paddy fields, orchards, tea fields, pastures, and lawns.
  • the plant disease controlling agent of the present invention can be used together with other plant disease controlling agents, insecticides, acaricides, nematicides, herbicides, plant growth regulators, and Z or fertilizers.
  • active ingredients of such plant disease control agents include cloguchironil, fludinam, diclofluanid, Josetyl-A1, cyclic imide derivatives (such as captan, cappuhole, and forpet), and dithiocarbamate derivatives (manneb, Mancozeb, thiram, ziram, zineb, propineb etc.), inorganic or organic copper derivatives (basic copper sulfate, basic copper chloride, copper hydroxide, oxine copper etc.), and acylylalanine derivatives (metalaxyl, flalaxil, offreth) , Cyprofuran, benalaxyl, oxadixyl, etc.), stoline virulin compounds (cresoxime methyl, azoxi
  • Z represents any of the following groups.
  • N- (3,4-dichloromethane) was prepared in the same manner as in Production Example 5 using 30-Omg of 3- ⁇ 3-methoxy-4- (2-propieroxy) phenyl ⁇ propanoic acid chloride and 209 mg of 3,4-dichlorobenzene.
  • Benzyl) 1-3- ⁇ 3-methoxy-41- (2-propieroxy) phenyl ⁇ propanamide (hereinafter referred to as the present compound 7) 43 Omg was obtained.
  • 3- (3,4-Dimethoxyphenyl) propanoic acid chloride 0.3 Og and 0.19 g of 4-cyclobenzylamine were used in the same manner as in Preparation Example 5 to obtain N- (4-chloromethoxybenzyl) propane chloride.
  • 0.32 g of 3- (3,4-dimethoxyphenyl) propanamide (hereinafter referred to as the present compound 21) was obtained.
  • N- (4-methylbenzyl) 1-3- (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) propanamide 30 Omg, methyl iodide 0.075m1, potassium carbonate 0.21 g and ⁇ , ⁇ -dimethylformi
  • the mixture was mixed with 5 ml of amide and stirred at room temperature for 6 hours. Thereafter, water was added to the reaction mixture, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed sequentially with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure.
  • Omg, aryl bromide 0.104m1, potassium carbonate 0.21 g and N, N-dimethyl 5 ml of formamide was mixed and stirred at 60 ° C. for 6 hours. Thereafter, water was added to the reaction mixture, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed successively with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure.
  • the residue is purified by a silica gel column, and N- (4-methylbenzyl) -3- (3-methoxy-41- (2-propieroxy) phenyl ⁇ propanethioamide (hereinafter, referred to as the present compound 32) 0 38 g were obtained.
  • N- (4 —Methoxy-3-methylbenzyl) -1-3- (3,4-dimethoxyphenyl) propanamide (hereinafter referred to as the present compound 34) 90 Omg was obtained.
  • N- (4-methylbenzyl) -1-3- (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) propanamide (0.30 g) and 0.08 ml of chloroacetonitrile were used in the same manner as in Production Example 23 to obtain N- (4 0.19 g of monomethylbenzyl) -3- ⁇ 3-methoxy-4-cyanomethoxyphenyl ⁇ propanamide (hereinafter referred to as the present compound 35) was obtained.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Agronomy & Crop Science (AREA)
  • Pest Control & Pesticides (AREA)
  • Plant Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Dentistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Zoology (AREA)
  • Environmental Sciences (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)

Description

明 細 書
アミド化合物及びそれを用いた植物病害の防除方法 技術分野
本発明は、 アミド化合物、 及びそれを植物または植物の生育する土壌に施用す る植物病害の防除方法に関する。 背景技術
植物病害を防除するための薬剤の開発が行われ、 植物病害防除効果を有する化 合物が数多く見出されているが、 その効果は十分でない場合があり、 新たな化合 物群の探索が鋭意行われている。
一方、 Journal of Chemical Society, Perkin Transact ions I, 6, p. 661 (1976) に、 下記に示すアミド化合物 （A) が記載されているが、 該化合物の具体的な用 途については記載されていない。
Figure imgf000003_0001
発明の開示
本発明者等は優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討し た結果、 下記式 （1 ) で示されるアミド化合物が優れた植物病害防除効力を有す ることを見出し、 本発明を完成した。
すなわち、 本発明は下記の
Figure imgf000003_0002
[式中、
R51はハロゲン原子、 C I— C 6アルキル基、 C 3— C 6シクロアルキル基、 C 1一 C 6ハロアルキル基、 C 2— C 6アルケニル基、 C 2— C 6ハロアルケニル 00雇 6294
2
基、 C 2— C 6アルキニル基、 C 2— C 6ハロアルキニル基、 （ 1ー〇6ァルコ キシ基、 C 3—C 6アルケニルォキシ基、 C 3— C 6アルキニルォキシ基、 C 1 一 C 6ハロアルコキシ基、 （(： 1ー〇6ァルコキシ） C I— C6アルキル基、 フエ ノキシ C 1一 C 6アルキル基、 ヒドロキシ C I— C6アルキル基、 （C 1一 C6ァ. ルキルスルホニルォキシ） C 1— C 6アルキル基、 C 1 -C 6アルキルチオ基、 C 1一 C 6ハロアルキルチオ基、 C 1一 C 6アルキルアミノ基、 ジ （C 1—C6 アルキル） アミノ基、 ホルミル基、 （(： 1ー。6ァルキル） カルボニル基、 (C 1 —C 6アルコキシ） カルポニル基、 （C 1一 C 6アルコキシィミノ） C 1—C6ァ ルキル基、 ベンジルォキシィミノ C 1一 C 6アルキル基、 ジ （(31—〇6ァルキ ル）アミノィミノ C 1一 C 6アルキル基、 トリ （C 1一 C6アルキル）シリル基、 フエニル基、 フエノキシ基、 シァノ基若しくはニトロ基を表し、 R52は水素原子、 ハロゲン原子、 C I— C6アルキル基、 C 1一 C 6ハロアルキル基、 C2—C6 アルケニル基、 C 2— C 6アルキニル基、 シァノ基若しくはニトロ基を表すか、 又は R51と R52とが一緒になつて C 3— C 6アルキレン基若しくは—CR65=CR 66— CR67=CR68—基 (R65、 R66、 R67及び R68は独立して、 水素原乎、 ハロゲン 原子、 C 1一 C 3アルキル基、 C 1一 C 3アルコキシ基又は C 1—C 3ハロアル キル基を表す） を表し、
R53は水素原子、 ハロゲン原子、 （： 1ー〇3ァルキル基又は〇 1ー〇 3ハロァル キル基を表し、
R56は水素原子、 C 1一 C 4アルキル基、 C 2— C 4アルケニル基又は C 2— C 4アルキニル基を表し、
R57は水素原子、 じ 1ーじ4ァルキル基、 〇2— 04ァルケニル基又は〇2—〇 4アルキニル基を表し、
R58及び R59は独立して、水素原子、ハロゲン原子又は C 1—C 3アルキル基を表 し、
R60は C 1一 C4アルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C 3— C 4アルケニ ル基又は C 3— C 6アルキニル基を表し、
R61は C 1— C4アルキル基、 C 1一 C4ハロアルキル基、 C 3— C4アルケニ ル基又は C 3.— C 6アルキニル基又は C 2— C 4シァノアルキル基を表し、 R62、 R63及び R64は水素原子、 ハロゲン原子又は C 1一 C 2アルキル基を表し、 Xは酸素原子又は硫黄原子を表す。 ]
アミド化合物（1) (以下、 本発明化合物と記す。）、 本発明化合物を有効成分とし て含有する植物病害防除組成物、 及び本発明化合物の有効量を植物又は植物の生 育する土壌に施用する植物病害の防除方法を提供する。 本発明は更に本発明化合 物の製造において重要な中間体である下記の
Figure imgf000005_0001
[式中、 R1Mはメトキシ基、 エトキシ基、 プロポキシ基、 イソプロポキシ基、 ブ チルォキシ基、 イソブチルォキシ基、 t e r t一ブチルォキシ基、 OH基又は塩 素原子を表し、 R1(n及び R1(12は独立して、 水素原子、 ハロゲン原子又は C1一 C 3アルキル基を表し、 Rlfl3は C 1—C4アルキル基を表し、 R1114は C3— C6ァ ルキエル基を表し、 RiM、 RIfl6及び R1"7は独立して、 水素原子、 ハロゲン原子又 は C 1一 C 2アルキル基を表す。]
で示される化合物 （3) (以下、 本発明中間体 1と記す。） および下記の
Figure imgf000005_0002
[式中、 R はハロゲン原子、 （：1ー〇4ァルキル基、 C1一 C4ハロアルキル 基、 C1一 C4アルコキシ基、 C 1— C4ハロアルコキシ基、 ジ （C1—C4ァ ルキル） アミ 基若しくはシァノ基を表し、 R2"2は水素原子、 ハロゲン原子、 C 1一 C 4アルキル基若しくは C1一 C4ハロアルキル基を表すか、 又は R と R 202とが一緒になつて C3— C 5アルキレン基若しくは— CH-CH— CH=CH 一基を表し、 R2°3及び R2(Hは独立して、 水素原子、 ハロゲン原子又は C1一 C 3 アルキル基を表し、 RM5は C1一 C4アルキル基を表し、 R2M、 RM7及び R は 独立して、 水素原子、 ハロゲン原子又は C 1一 C 2アルキル基を表す。] アミド化合物 （4) (以下、 本発明中間体 2と記す。） も提供する。 本発明のアミド化合物 （1)、 化合物 （3) 及びアミド化合物 （4) における各 置換基としては、 下記に示す基が具体的に例示される。 R51で示される
ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子が挙げら れ、
C 1一 C 6アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピ ル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c—ブチル基、 t e r t—ブチル基の C 1 一 C 4アルキル基；ペンチル基、 2—メチルペンチル基、 3—メチルペンチル基、 4—メチルペンチル基、 へキシル等の C 5— C 6アルキル基が挙げられ， C 3— C 6シクロアルキル基としては、 シクロプロピル基、 シクロブチル基、 シ クロべンチル基およびシク口へキシル基が挙げられ、
C 1一 C 6ハロアルキル基としては、 例えばフルォロメチル基、 ジフルォロメチ ル基、 トリフルォロメチル基等の C 1一 C 4ハロアルキル基が挙げられ、 C 2— C 6アルケニル基としては、 例えばビエル基、 1—メチルビニル基、 1一 プロぺニル基、 2—プロぺニル基、 1—メチルー 2—プロぺニル基、 2—メチル 一 2—プロぺニル基、 2—ブテュル基、 3—ブテニル基等の C 2— C 4アルケニ ル基； 1一ペンテニル基、 4一ペンテニル基、 1一へキセニル基、 5—へキセニ ル基等の C 5— C 6アルケニル基が挙げられ、
C 2— C 6ハロアルケニル基としては、 例えば 2—フルォロビニル基、 2—クロ ロビニル基、 2—ブロモビニル基、 2 , 2—ジフルォロビニル基、 2， 2—ジク 口ロビニル基、 2， 2—ジブロモビニル基、 1ーメチルー 2 , 2—ジクロロビニ ル基、 1—メチル— 2 , 2—ジブロビニル基が挙げられ、
C 2— C 6アルキニル基としては、 例えばェチニル基、 1一プロピエル基、 2— プロピニル基、 1ーメチルー 2—プロピニル基、 1一プチ二ル基、 2—ブチニル 基、 3—プチニル基等の C 2— C 4アルキニル基； 3、 3—ジメチルー 1—プチ ニル基、 1一ペンチニル基、 4一ペンチニル基、 1一へキシニル基、 5—へキシ ニル基等の C 5 - C 6アルケニル基が挙げられ、
C 2— C 6ハロアルキニル基としては、 例えばクロルェチニル基、 ブロムェチニ ル基、 ヨウドエチェル基が挙げられ、
C 1一 C 6アルコキシ基としては、 例えばメトキシ基、 エトキシ基、 プロポキシ 基、 イソプロポキシ基、 ブトキシ基、 イソブトキシ基、 s e c—ブトキシ基、 t e r t一ブトキシ基の C 1一 C 4アルコキシ基；ペンチルォキシ基、 へキシルォ キシ基等の C 5 - C 6アルコキシ基が挙げられ、
C 3— C 6アルケニルォキシ基としては、 例えば 2—プロぺニルォキシ基、 1一 T/JP2003/016294
5
メチル— 2—プロぺニルォキシ基、 2—メチルー 2—プロぺニルォキシ基、 2— ブテニルォキシ基、 3—プテニルォキシ基、 4—ペンテニルォキシ基、 5—へキ セニルォキシ基が挙げられ、
C 3— C 6アルキニルォキシ基としては、 例えば 2—プロピニルォキシ基、 1— メチルー 2—プロピニルォキシ基、 2—ブチェルォキシ基、 3—プチニルォキシ 基、 3—ペンチニルォキシ基、 4一ペンチニルォキシ基、 5—へキシニルォキシ 基が挙げられ、
C 1一 C 6ハロアルコキシ基としては、 例えばフルォロメトキシ基、 ジフルォロ メトキシ基、 トリフルォロメトキシ基、 クロルメチル基、 ジクロルメチル基、 ト リクロルメチル基、 2， 2 , 2—トリフルォロエトキシ基、 1， 1， 2 , 2—テ トラフルォロエトキシ基、 2—フルォロエトキシ基等の C 1一 C 4ハロアルコキ シ基が挙げられ、
(( 1—。6ァルコキシ） C 1一 C 6アルキル基としては、 メトキシメチル基、 エトキシメチル基、 プロピルォキシメチル基、 1ーメトキシェチル基、 2—メト キシェチル基、 2—メトキシプロピル基、 2—メトキシイソプロピル基が挙げら れ，
フエノキシ C 1—C 6アルキル基としては、 フエノキシメチル基、 1一フエノキ シェチレ基、 2—フヱノキシェチゾレ基、 1一フエノキシプロピレ基、 3—フエノ キシプロピル基、 4一フエノキシブチル基が挙げられ，
ヒドロキシ C 1—C 6アルキル基としては、 ヒドロキシメチル基、 1—ヒドロキ シェチル基、 2—ヒドロキシェチル基、 1—ヒロロキシプロピル基、 1—ヒドロ 口キシブチル基が挙げられ，
(C 1一 C 6アルキルスルホニルォキシ） C 1一 C 6アルキル基としては、 メチ ルスルホニルォキシメチル基、 ェチルスルホニルォキシメチル基、 1—メチルス ルホニルォキシェチル基、 2—スルホニルォキシェチル基、 1ーメチルスルホニ ルォキシプロピル基が挙げられ，
C 1一 C 6アルキルチオ基としては、 例えばメチルチオ基、 ェチルチオ基、 プロ ピルチオ基、 イソプロピルチオ基、 プチルチオ基、 イソプチルチオ基、 s e c— プチルチオ基、 t e r t一プチルチオ基、 ペンチルチオ基、 へキシルチオ基が挙 げられ、 。
C 1一 C 6ハロアルキルチオ基としては、 例えばフルォロメチルチオ基、 ジフル ォロメチルチオ基、 トリフルォロメチルチオ基が挙げられ、 PC漏 003/016294
6
C 1 - C 6アルキルァミノ基としては、例えばメチルァミノ基、ェチルァミノ基、 プロピルアミノ基、 イソプロピルアミノ基等の C 1一 C 4アルキルアミノ基；ぺ ンチルァミノ基、 へキシルァミノが挙げられ、
ジ （(： 1ー〇6ァルキル） アミノ基としては、 例えばジメチルァミノ基、 ジェチ ルァミノ基、 ジプロピルアミノ基等の C 1—C 4ジアルキルァミノ基；ジペンチ ルァミノ基、 ジへキシルァミノ基が挙げられ、
(C I— C 6アルキル） カルポニル基としては、 メチルカルボニル基、 ェチルカ ルポニル基、 プロピルカルポニル基、 イソプロピルカルポニル基が挙げられ、 (C 1—C 6アルコキシ） カルポニル基としては、 メトキシカルポニル基、 エト キシカルボ二ル基、 プロポキシカルポニル基、 イソプロポキシカルポニル基が挙 げられ、
(C 1一 C 6アルコキシィミノ） C 1—C 6アルキル基としては、 メトキシイミ ノメチル基、 1ーメトキシイミノエチル基、 1—メトキシィミノプロピル基、 1 ーメトキシィミノブチレ基、 エトキシイミノメチレ基、 1一エトキシイミノエチ ル基、 プロボキシィミノメチル基、 1一イソプロポキシイミノエチル基、 ブトキ シィミノメチル基、 ペンチルォキシィミノメチル基、 1一へキシルォキシィミノ ェチル基が挙げられ、
ベンジルォキシィミノ C 1一 C 6アルキル基としては、 ベンジルォキシイミノメ チル基、 1一 （ベンジルォキシィミノ） ェチル基、 2— (ベンジルォキシィミノ） ェチル基、 1一 （ベンジルォキシィミノ） プロピル基、 1一 （ベンジルォキシィ ミノ） ブチル基が挙げられ、
ジ （C 1—C 6アルキル） アミノィミノ C 1—C 6アルキル基としては、 ジメチ ルアミノィミノメチル基、 1一 （ジメチルアミノィミノ） ェチル基、 ジェチルァ ミノイミノメチル基、 1一 （ジェチルアミノィミノ） ェチル基が挙げられる。 トリ （C 1一 C 6アルキル） シリル基としては、 トリメチルシリル基、 トリエヂ ルシリル基、 t e r t—プチルジメチルシリル基が挙げられ；
R52で示される
ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子が挙げら れ、
C I— C 6アルキル基としては、 例えばメチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソ プロピル基、 ブチル基、 イソプチル基、 s e c一ブチル基、 t e r t一ブチル基 の C 1— C 4アルキル基；ペンチル基、 2—メチルペンチル基、 3—メチルペン チル基、 4ーメチルペンチル基、 へキシル基等の C 5 - C 6アルキル基が挙げら れ，
C 1一 C 6八口アルキル基としては、 例えばフルォロメチル基、 ジフルォロメチ ル基、 トリフルォロメチル基が挙げられ、
C 2— C 6アルケニル基としては、 例えばビニル基、 1—メチルビニル基、 1一 プロぺニル基、 2—プロぺニル基、 1一メチル— 2—プロぺニル基、 2—メチル 一 2—プロぺニル基、 2—ブテニル基、 3—ブテニル基等の C 1—C 4アルケニ ル基； 1一ペンテニル基、 4一ペンテニル基、 1—へキセニル基、 5—へキセニ ル基等の C 5— C 6アルキル基が挙げられ、
C 2— C 6アルキニル基としては、 例えばェチニル基、 1一プロピニル基、 2— プロピニル基、 1—メチルー 2—プロピニル基、 1ーブチニル基、 2—ブチニル 基、 3—プチニル基等の C 2— C 4アルキニル基； 1—ペンチニル基、 4—ペン チニル基、 1一へキシニル基、 5—へキシニル基等の C 5 - C 6アルキニル基が 挙げられ；
R51と R52とが一緒になつた C 3—C 6アルキレン基としては、例えばトリメチレ ン基、 テトラエチレン基、 ペンタメチレン基およびへキサメチレン基が挙げられ る。
R53で示される
ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子が挙げら れ、
C 1一 C 3アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピ ル基が挙げられ、
C 1一 C 3ハロアルキル基としては、例えばトリフルォロメチル基が挙げられる。 R56で示される
C 1一 C 4アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピ ル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c一ブチル基、 t e r t—プチル基が挙げ られ、
C 2— C 4アルケニル基としては、 例えばビニル基、 1ーメチルビニル基、 1一 プロぺニル基、 2—プロぺニル基、 1—メチルー 2—プロぺニル基、 2—メチル —2—プロぺニル基、 2—ブテニル基、 3—ブテニル基が挙げられ、
C 2— C 4アルキニル基としては、 例えばェチニル基、 1一プロピニル基、 2— プロピエル基、 1一メチル— 2—プロピニル基、 2—ブチニル基、 3—プチニル 基が挙げられる。
R57で示される C 1一 C 4アルキル基としては、 例えばメチル基、 ェチル基、 プ 口ピル基、 ブチル基が挙げられ
C 3— C 4アルケニル基としては、 例えば 2—プロぺニル基、 1—メチルー 2— プロぺニル基、 2—メチル—2—プロぺニル基、 2—ブテニル基、 3—ブテニル 基が挙げられ、
C 3— C 4アルキニル基としては、 2—プロピニル基、 1—メチル—2—プロピ ニル基、 2—プチニル基、 3—ブチェル基が挙げられる。
R58及び R59で示される
ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子が挙げられ、
C 1一 C 3アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピ ル基が挙げられる。
R5Qで示される
C 1— C 4アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基の C 1一 C 2アルキル基； プロピル基、 イソプロピル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c—ブチル基、 t e r t—プチル基が挙げられ、
C 1一 C 4ハロアルキル基としては、 例えばフルォロメチル基、 ジフルォロメチ ル基、 トリフルォロメチル基、 2， 2， 2—トリフルォロェチル基、 1， 1 , 2， 2—テトラフルォロェチル基、 2—フルォロェチル基が挙げられ、
C 3— C 4アルケニル基としては、 例えば 2—プロぺニル基、 1—メチルー 2— プロぺニル基、 2—メチル— 2—プロぺニル基、 2—ブテニル基、 3—ブテニル 基が挙げられ、
C 3— C 6アルキニル基としては、 例えば 2—プロピエル基、 1ーメチルー 2— プロピエル基、 2—ブチニル基、 3—ブチェル基等の C 3— C 4アルキニル基； 1 , 1—ジメチルー 2—プロピニル基、 1ーメチルー 2—プチニル基、 2—ペン チニル基、 1ーメチルー 2—ペンチニル基、 4—メチルー 2—ペンチニル基、 3 一ペンチニル基、 4一ペンチニル基、 2—へキシニル基、 3 _へキシニル基等の C 5 - C 6アルキニル基が挙げられる。
R61で示される
C 1—C 4アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピ ル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c一ブチル基、 t e r t—ブチル基が挙げ られ、 2003/016294
9
C 1一 C 4ハロアルキル基としては、 例えばフルォロメチル基、 ジフルォロメチ ル基、 トリフルォロメチル基、 2 , 2 , 2—トリフルォロェチル基、 1 , 1 , 2 , 2—テトラフルォロェチル基、 2—フルォロェチル基が挙げられ、
C 3— C 4アルケニル基としては、 例えば 2—プロぺニル基、 1ーメチルー 2— プロぺニル基、 2—メチルー 2—プロぺニル基、 2—ブテニル基、 3—ブテニル 基が挙げられ、
C 3— C 6アルキニル基としては、 例えば 2—プロピニル基、 1ーメチルー 2— プロピエル基、 2—プチニル基、 3—ブチェル基の C 3— C 4アルキニル基； 1， 1ージメチル— 2—プロピニル基、 1ーメチルー 2—ブチェル基、 2—ペンチ二 ル基、 1ーメチルー 2—ペンチニル基、 4ーメチルー 2—ペンチニル基、 3—べ ンチニル基、 4一ペンチニル基、 2—へキシュル基、 3—へキシェル基等の C 5 - C 6アルキニル基が挙げられ、
C 2 - C 4シァノアルキル基としては、例えばシァノメチル基、シァノエチル基、 シァノプロピル基、 1—メチルシアノメチル基、 1 , 1—ジメチルシアノメチル 基が挙げられる。 .
R62, R63及び R64で示される
ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子が挙げら れ、
C 1—C 2アルキル基としては、 メチル基およびェチル基が挙げられる。
R65、 R66、 R67及び R68で示される
ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子が挙げら れ、
C 1一 C 3アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピ ル基が挙げられる。
C 1—C 3アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルォキシ基、 ィソプロピルォキシ基が挙げられる。
C 1一 C 3ハロアルキル基としては、例えばトリフルォロメチル基が挙げられる。
R UU及び で示される
ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子が挙げられ、
C 1一 C 3アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピ ル基が挙げられる。
R193で示される 2003/016294
10
C 1一 C 4アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基の C 1一 C 2アルキル基； プロピル基、 イソプロピル基、 ブチル基、 イソプチル基、 s e c—ブチル基、 t e r t一ブチル基が挙げられる。
RlMで示される
C 3—C 6アルキニル基としては、 例えば 2—プロピニル基、 1ーメチルー 2— プロピエル基、 2—プチ二ル基、 3—ブチニル基の C 3— C 4アルキニル基； 1 , 1ージメチル— 2—プロピニル基、 1—メチルー 2—ブチニル基、 2—ペンチ二 ル基、 1一メチル—2—ペンチニル基、 4—メチルー 2—ペンチニル基、 3—べ ンチニル基、 4一ペンチニル基、 2—へキシェル基、 3—へキシェル基等の C 5 一 C 6アルキニル基が挙げられる。
R1Q5、 R1Q6及び R1D7で示される
ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子が挙げら れ、
C 1一 C 2アルキル基としては、 メチル基およびェチル基が挙げられる。
R で示される
ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子が挙げら れ、
C 1— C 4アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピ ル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c一ブチル基、 t e r t一ブチル基が挙げ られ，
C 1一 C 4ハロアルキル基としては、 例えばフルォロメチル基、 ジフルォロメチ ル基、 トリフルォロメチル基が挙げられ、
C 1一 C 4アルコキシ基としては、 例えばメトキシ基、 エトキシ基、 プロポキシ 基、 イソプロポキシ基、 ブトキシ基、 イソブトキシ基、 s e c—ブトキシ基、 t e r t—ブトキシ基が挙げられ、
C 1一 C 4ハロアルコキシ基としては、 例えばフルォロメトキシ基、 ジフルォロ メトキシ基、 トリフルォロメトキシ基、 クロルメチル基、 ジクロルメチル基、 ト リクロルメチル基、 2， 2 , 2—トリフルォロエトキシ基、 1， 1， 2 , 2—テ 卜ラフルォロエトキシ基、 2—フルォロエトキシ基が挙げられ、 '
ジ （C I— C 4アルキル） アミノ基としては、 例えばジメチルァミノ基、 ジェチ ルァミノ基、 ジプロピルアミノ基が挙げられ；
R2D2で示される 03016294
11
ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子が挙げら れ、
C 1—C4アルキル基としては、 例えばメチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソ プロピル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c一ブチル基、 t e r t—ブチル基 が挙げられ，
C 1一 C 6ハロアルキル基としては、 例えばフルォロメチル基、 ジフルォロメチ ル基、 トリフルォロメチル基が挙げられ；
R201と RM2とが一緒になつた C 3— C 5アルキレン基としては、 例えばトリメチ レン基、 テトラエチレン基及びべンタエチレン基があげられる。
R2M及び R2Mで示される
ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子が挙げられ、
C 1一 C 3アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基及びイソプロ ピル基が挙げられる。
R2115で示される
C 1一 C 4アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基の C 1一 C 2アルキル基； プロピル基、 イソプロピル基、 ブチル基、 イソブチル基、 s e c—プチル基、 t e r t一ブチル基が挙げられる。
R 206, RM7及び R2flSで示される
ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子が挙げら れ、
C 1—C 2アルキル基としては、 メチル基およびェチル基が挙げられる。 本発明化合物としては、 例えば以下の態様の化合物が挙げられる。
式 （1) において、 R53が水素原子であるアミド化合物；
式 （1) において、 R62、 R63及び R64が水素原子であるアミド化合物； 式 （1) において、 R58及び R59が水素原子であるアミド化合物；
式 （1) において、 R56が水素原子であるアミド化合物；
式 （1) において、 R51がハロゲン原子、 1ー04ァルキル基、 C 1—C4A 口アルキル基、 C 2— C 4アルケニル基、 C 2— C 4アルキニル基、 C 1 -C4 アルコキシ基、 C 1一 C 4ハロアルコキシ基、 C 1— C4アルキルアミノ基、 ジ (C 1一 C4アルキル） アミノ基若しくはシァノ基であり、 R52が水素原子、 八 ロゲン原子、 C 1—C4アルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C2— C47 JP2003/016294
12
ルケニル基若しくは C 2— C 4アルキニル基であるか、又は R51と R52とが一緒に なって C 3— C 5アルキレン基若しくは— CH-CH— CH=CH—基であるァ ミド化合物；
式 （1) において、 R51がハロゲン原子、 01—04ァルキル基、 C I— C4ハ 口アルキル基、 C 2— C 4アルケニル基、 C 2— C 4アルキニル基、 C 1—C4 アルコキシ基、 C 1—C 4ハロアルコキシ基、 C 1一 C 4アルキルアミノ基、 ジ
(C 1一 C 4アルキル） アミノ基又はシァノ基であるアミド化合物；
式 （1) において、 R52が水素原子、 ハロゲン原子、 （： 1ーじ4ァルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C 2— C 4アルケニル基又は C 2— C 4アルキニル基 であるアミド化合物；
式 （1) において、 R57が水素原子又は C 1一 C 3アルキル基であるアミド化合 物；
式 （1) において、 R6。が C 1一 C4アルキル基、 C 1一 C4ハロアルキル基、 C3-C4アルケニル基又は C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物； 式 （1) において、 R61が C 1— C4アルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C 3— C 4アルケニル基又は C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物； 式 （1) において、 R51がハロゲン原子、 〇 1ー〇4ァルキル基、 C 1—C4ハ 口アルキル基、 C 1一 C4アルコキシ基、 C 1—C 4ハロアルコキシ基、 ジ （C 1— C4アルキル） アミノ基若しくはシァノ基であり、 R52が水素原子、 ハロゲ ン原子、 〇 1ー〇4ァルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C 2— C 4アルケ ニル基若しくは C 2— C 4アルキニル基であるか、又は R51と R52とが一緒になつ て C 3— C 5アルキレン基若しくは一 CH=CH— CH二 CH—基であり、 R53 が水素原子であり、 R56が水素原子であり、 R"が水素原子であり、 Xが酸素原子 であり、 R6。が C 1一 C4アルキル基であり、 R61が C 3— C 6アルキニル基であ るアミド化合物；
式 （1) において、 R51がハロゲン原子、 C I— C4アルキル基、 C l—C4 、 口アルキル基、 C 1一 C4アルコキシ基、 C 1一 C 4ハロアルコキシ基、 ジ （C 1一 C4アルキル） アミノ基若しくはシァノ基であり、 R52が水素原子、 ハロゲ ン原子、 （ 1ー。4ァルキル基、 C 1—C4ハロアルキル基、 C 2— C 4アルケ ニル基若しくは C 2— C 4アルキニル基である力 又は R51と R5Zとが一緒になつ て C 3— C 5アルキレン基若しくは一 CH=CH— CH=CH—基であり、 R53 が水素原子であり、 R56が水素原子であり、 R"が水素原子であり、 Xが酸素原子 であり、 R58及び R59が水素原子、 フッ素原子またはメチル基であり、 RMがメチ ル基又はェチル基であり、 R61が C 3—C 6アルキニル基であり、 R62、 R63及び RMが水素原子であるアミド化合物；
式 （1) において、 R51がハロゲン原子、 〇 1ー。4ァルキル基、 C 1—C4ハ 口アルキル基、 C 2 - C 4アルケニル基、 C 2— C 4アルキニル基、 C 1—C4 アルコキシ基、 C 1一 C 4ハロアルコキシ基、 C 1— C4アルキルアミノ基、 ジ
(C 1—C4アルキル） アミノ基又はシァノ基であり、 R52が水素原子、 ハロゲ ン原子、 〇 1ーじ4ァルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C2— C4アルケ ニル基若しくは C 2— C 4アルキニル基であるか、又は R51と R52とが一緒になつ て C 3— C 6アルキレン基若しくは一 CH=CH— CH = CH—基であり、 R53 及び R56が水素原子であり、 R57が水素原子又は C 1一 C 3アルキル基であり、 R 58及び R59が水素原子であり、 尺6°が( 1一 C4アルキル基、 C I— C4ハロアル キル基、 C 3— C 4アルケニル基又は C 3— C 4アルキニル基であり、 R61が C
1一 C 4アルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C 3—C 4アルケニル基又は C 3— C 4アルキニル基であり、 R62、 R63及び R64が水素原子であるアミド化合 物、 即ち式 (2)
Figure imgf000015_0001
[式中、 R1はハロゲン原子、 C 1一 C 4アルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C 2— C 4アルケニル基、 C 2—C 4アルキニル基、 C 1一 C4アルコキシ基、 C I— C4ハロアルコキシ基、 C 1—C4アルキルアミノ基、 ジ （C I— C4ァ ルキル） アミノ基若しくはシァノ基を表し、 R2は水素原子、 ハロゲン原子、 C 1 一 C 4アルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C 2— C 4アルケニル基若しく は C 2— C 4アルキニル基を表すか、 又は R1と R2とが一緒になつて C 3— C 5 アルキレン基若しくは—CH=CH— CH=CH—基を表し、
R3は水素原子又は C 1一 C 3アルキル基を表し、
R4は C 1— C4アルキル基、 C 1—C4ハロアルキル基、 C 3 - C 4アルケニル 基又は C 3— C 4アルキニル基を表し、
R5は C 1— C4アルキル基、 C 1— C4ハロアルキル基、 C 3—C 4アルケニル 基又は C 3-C4アルキニル基を表し、 2003/016294
14
Xは酸素原子又は硫黄原子を表す。 ]
で示されるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がハロゲン原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1一 C 4アルキルアミノ基であるアミド化合物； 式（2)において、 R1がジ（C 1一 C4アルキル）アミノ基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が塩素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2がハロゲン原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が C 1一 C 4ハロアルキル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R3が水素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物
式 （2) において、 R4が C.1一 C 2アルキル基であるアミド化合物
式 （2) において、 R5が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物
式 （2) において、 R5が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R5が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R5が 2—プロピエル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であるアミド化合 物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2がハロゲン原子であるアミド 化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が C 1— C4ハロアルキル基 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R3が水素原子であるアミド化合 物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であ るアミド化合物； P T/JP2003/016294
, 15
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であ るアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R5が C 1一 C4アルキル基であ るアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R5が C 3—C 4アルキニル基で あるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R5が C 1—C2アルキル基であ るアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R5が 2—プロピニル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1—C4アルキル基であり、 R2が水素原子であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1—C4アルキル基であり、 R2がハロゲン原子であ るアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R2が C 1—C4ハロァ ルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R3が水素原子であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R4が C I— C4アルキ ル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R4が C I— C2アルキ ル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1一 C4アルキ ル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C3— C4アルキ ニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C 1—C2アルキ ル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1—C 4アルキル基であり、 R5が 2—プロピエル基 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ るアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R2がハロゲン原子 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C 4ハロアルキル基であり、 R2が C 1一 C4ハ 口アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R3が水素原子であ るアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R4が C 1—C4ァ ルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R4が C I— C2ァ ルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R5が C 1一 C4ァ ルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R5が C3— C4ァ ルキニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R5が C 1一 C2ァ ルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4八口アルキル基であり、 R5が 2—プロピニ ル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2がハロゲン原子であるアミド化合 物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が C 1一 C 4ハロアルキル基であ るアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R3が水素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R4が C 1—C4アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R5が C 1一 C 4アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基である アミド化合物； 2003/016294
17
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R5が 2—プロピエル基であるアミド 化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2がハロゲン原子であるアミド化合 物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が C 1—C4ハロアルキル基であ るアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R3が水素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R4が C 1— C4アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R4が C 1— C 2アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R5が C 1一 C 4アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基である アミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R5が C I— C2アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R5が 2—プロピエル基であるアミド 化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2がハロゲン原子であ るアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が C I— C4ハロァ ルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R 3が水素原子であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R4が C 1—C4アルキ ル基であるアミド化合物； JP2003/016294
18
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R4が C 1一 C2アルキ ル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R5が C I— C4アルキ ル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R5が C3— C4アルキ ニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R5が C I— C2アルキ ル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R5が 2—プロピニル基 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C 1一 C4アルキル） アミノ基であり、 R2が水素 原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C I— C4アルキル） アミノ基であり、 R2がハロ ゲン原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C 1—C4アルキル） アミノ基であり、 R2が C 1 —C 4ハロアルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C 1一 C4アルキル） アミノ基であり、 R3が水素 原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C 1一 C4アルキル） アミノ基であり、 R4が C 1 一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C 1—C 4アルキル） アミノ基であり、 R4が C 1 一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ (C 1一 C 4アルキル) アミノ基であり、 R5が C1 —C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （< 1—〇4ァルキル） アミノ基であり、 R5が C3 一 C 4アルキニル基であるァミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （CI— C4アルキル） アミノ基であり、 R5が C 1 -C2アルキル基であるァミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C I— C4アルキル） アミノ基であり、 R5が 2— プロピニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1 一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1 一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1 一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が C3 一 C4アルキニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1 一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が八ロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が 2_ プロピニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1—C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C I— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C I— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が 2—プロピニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R4が C 1—C4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R4が C 1—C 2アルキル基であるアミド化合物； 2003/016294
20
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R5が C 1—C4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R5が C 3一 C 4アルキニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R5が C 1—C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R5が 2—プロピエル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であるアミド化合物；
式 （2) において、 1^が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1—C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が C3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が C I— C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が 2—プロ ピニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R4が C I— C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R4が C I— C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C3— C 4アルキニル基であるアミド化合物； T/JP2003/016294
21
式 （2 ) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が 2—プロ ピエル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1—C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が 2—プロピニル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1—C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R5が C 1—C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R5が C 3 - C 4アルキニル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R5が C 1—C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R5が 2—プロピエル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1が C 1— C 4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物； 2003/016294
22
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C I— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が C 1一 C4アルキル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が C 3— C4アルキニル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C I— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が 2 _プロピニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C I— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1一 C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R5が C 1—C4アルキル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1一 C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1一 C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R 2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R5が 2—プロピニル基であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1—C4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が C 1—C4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が C3— C4アルキニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物； T/JP2003/016294
23
式 （2 ) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が 2—プロピニル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が 2—プロピエル基であるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物； 式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1—C 2アルキル基であるアミド化合物； 式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が C 1—C 4アルキル基であるアミド化合物； 式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が C 3—C 4アルキニル基であるアミド化合物； 式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物； 式 （2 ) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が 2—プロピニル基であるァミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1— C 4アルキル基であり、 R5が C 1 - C 4アルキル基で あるアミド化合物；
式 （2 ) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 R5が C 1—C 2アルキル基で あるアミド化合物； TJP2003/016294
24
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1—C4アルキル基で あるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がノヽロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1— C4アルキソレ基であり、 R5が C 1— C2アルキル基で あるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピニル基である アミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C I— C2アル キル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C I— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1一 C2アル キル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1—C4アル キル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C3— C4アル キニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C I— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1—C2アル キル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C1-C4アルキル基であり、 R5が 2 -プロピニル 基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 ； 2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1一 C4 6294
25 アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C I— C2 アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1—C 4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1一 C4 アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C3— C4 アルキニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1—C2 アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピ ニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R5が C 1— C4アルキル基である アミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C I— C2アルキル基である アミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R5が C 1一 C4アルキル基である アミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C 3—C 4アルキニル基であ るアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C 1— C 2アルキル基である アミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 P T/JP2003/016294
26
であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピニル基であるアミ ド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1— C4アルキル基である アミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R5が C 1— C 2アルキル基である アミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり,、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1一 C4アルキル基である アミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であ るアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1一 C2アルキル基である アミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピニル基であるアミ ド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C I— C4アル キル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C I— C2アル キル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C I— C4アル キル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C3—C4アル キニル基であるアミド化合物； 27
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が CI— C2アル キル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピニル 基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C I— C4アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C 4アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基である アミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R5が C 1—C2アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R5が 2—プロピニル基であるアミド 化合物；
式 （2) において、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R3が水素原子であり、 R4が C 1—C2アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R3が水素原子であり、 R5が C 1一 C4アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R3が水素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基である アミド化合物；
式 （2) において、 R3が水素原子であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R3が水素原子であり、 R5が 2—プロピニル基であるアミド 化合物；
式 （2) において、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が CI— C4アルキ ル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C.3— C4アルキ ニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C I— C2アルキ ル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピニル基 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1— C 2アルキル基であり、 R5が C I— C4アルキ ル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1一 C 2アルキル基であり、 R5が C3— C4アルキ ニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1—C 2アルキル基であり、 R5が C I— C2アルキ ル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1—C2アルキル基であり、 R5が 2—プロピニル基 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C2アルキル基であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であり、 R4が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル碁であり、 R4が C 1—C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1—C 2アルキル基であり、 R4が 2 _プロピニル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R4が C 3— C 4アルキニル基であるァミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R4が 2—プロピニル基であるアミド化合物；
式（2)において、 R1がハロゲン原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 3016294
29
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミ ド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1—C 4ハロアルキル基であり、 Xが酸素原子である アミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （( 1ー04ァルキル） アミノ基であり、 Xが酸素原 子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がメチル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 Xが酸素原子であるアミ ド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式（2)において、 R2がハロゲン原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R2が C 1一 C4ハロアルキル基であり、 Xが酸素原子である アミド化合物；
式 （2) において、 R3が水素原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミ ド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1一 C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミ ド化合物；
式 （2) において、 R5が C 1— C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミ ド化合物；
式 （2) において、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるァ ミド化合物；
式 （2) において、 R5が C 1一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミ ド化合物；
式 （2) において、 R5が 2—プロピエル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化 合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 Xが酸素 原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2がハロゲン原子であり、 が 酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が C 1一 C4八口アルキル基 3016294
30 であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； '
式 （2) において、 R1が八ロゲン原子であり、 R3が水素原子であり、 Xが酸素 原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であ り、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R4が C 1一 C2アルキル基であ り、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R5が C 1—C4アルキル基であ り、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基で あり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であ り、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R5が 2—プロピニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1—C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R2がハロゲン原子であ り、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が C 1一 C4ハロァ ルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R3が水素原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R4が C 1一 C4アルキ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R4が C I— C2アルキ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1—C4アルキル基であり、 R5が C I— C4アルキ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C3— C4アルキ ニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C I— C2アルキ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピエル基 であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R2がハロゲン原子 であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R2が C 1一 C4ハ 口アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R3が水素原子であ り、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4ハロアルキル基であり、 R4が C 1一 C4ァ ルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R4が C I— C2ァ ルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R5が C 1一 C4ァ ルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R5が C3— C4ァ ルキエル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R5が C 1—C2ァ ルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R5が 2—プロピニ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 Xが酸素原子 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2がノヽロゲン原子であり、 Xが酸素 原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が C 1一 C 4ハロアルキル基であ り、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R3が水素原子であり、 Xが酸素原子 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R4が C I— C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R5が C I— C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式（2) において、 R1が塩素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R5が C I— C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R5が 2—プロピニル基であり、 が 酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 Xが酸素原子 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2がハロゲン原子であり、 Xが酸素 原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が C 1—C4ハロアルキル基であ り、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R3が水素原子であり、 Xが酸素原子 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R4が C 1— C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R5が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素 M子であるアミド化合物；
式（2) において、 R1がメチル基であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R5が C 1—C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R5が 2—プロピエル基であり、 Xが 酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2がハロゲン原子であ り、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が C 1一 C4ハロァ ルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R3が水素原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R4が C 1一 C4アルキ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R4が C 1一 C2アルキ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R5が C 1—C4アルキ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R5が C3— C4アルキ ニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R5が C 1一 C2アルキ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R5が 2—プロピニル基 であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C 1一 C4アルキル） アミノ基であり、 R2が水素 原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （CI— C4アルキル） アミノ基であり、 R2がハロ ゲン原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C 1一 C4アルキル） アミノ基であり、 R2が C 1 一 C4ハロアルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C1一 C4アルキル） アミノ基であり、 R3が水素 原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C 1一 C4アルキル） アミノ基であり、 R4が C 1 一 C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C I— C4アルキル） アミノ基であり、 R4が C 1 —C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C I— C4アルキル） アミノ基であり、 R5が C 1 一 C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がジ （C I— C4アルキル） アミノ基であり、 R5が C3 —C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （C 1—C4アルキル） アミノ基であり、 R5が C 1 一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がジ （CI— C4アルキル） アミノ基であり、 R5が 2— プロピエル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1 —C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1 —C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1 一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が C3 一 C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1 一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が 2— プロピニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； ·
式 （2) において、 R1が C 1—C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C I— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1—C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1—C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C4—C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が 2—プロピエル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1一 C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R4が C 1一 C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1—C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R5が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1一 C 4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R5が C 1一 C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R5が 2—プロピニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1—C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R4が C I— C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が C I— C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が C3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が C I— C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R5が 2—プロ ピニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C1一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が 2—プロ ピニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり.、 R5が C 1—C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R5が 2—プロピニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合 物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1一 C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合 P T/JP2003/016294
37 物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R5が C1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合 物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化 合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R5が C I— C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合 物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R5が 2—プロピニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が C 1—C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子である アミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C2アルキル基であり、 Xが酸素原子である アミド化合物；
式 （2) において、 R1が C I— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が C I— C4アルキル基であり、 Xが酸素原子である アミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であ るアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1—C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が C 1一 C2アルキル基であり、 Xが酸素原子である アミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が 2—プロピニル基であり、 Xが酸素原子であるアミ ド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1—C 4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子で あるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子で あるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R5が C 1—C4アルキル基であり、 Xが酸素原子で あるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子 であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R5が C 1一 C2アルキル基であり、 Xが酸素原子で あるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R5が 2—プロピニル基であり、 Xが酸素原子である アミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が C 1— C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 あり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が C 1一 C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が 2—プロピエル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C I— C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が C 3—C4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が C 1一 C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R5が 2—プロピエル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子である 'アミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C2アルキル基であり、 Xが酸素原子である アミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が C1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子である アミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であ るアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が C 1一 C2アルキル基であり、 Xが酸素原子である アミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R5が 2—プロピニル基であり、 Xが酸素原子であるアミ ド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C 1—C4アルキル基で あり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C 1—C 2アルキル基で あり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 3016294
40
式 （2) において、 R1がノ、ロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C 1— C4アルキル基で あり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R5が C 3— C4アルキニル基 であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロ ン愿子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基で あり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がハロゲン原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素 原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピエル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C1一 C2アル キル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1—C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C I— C2アル キル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1一 C4アル キル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C3—C4アル キニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C 1—C2アル キル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C4アルキル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピニル 基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1一 C 4八口アルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C I— C4 P T/JP2003/016294
41
アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C I— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1一 C2 アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C I— C4 アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C I— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C3 - C4 アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1—C 4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C 1—C2 アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が C 1— C4ハロアルキル基であり、 R2が水素原子であ り、 R3が水素原子であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピ ニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 R5が C 1—C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R5が C 1—C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であ り、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R5が C 1—C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1が塩素原子であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピニル基であり、 X が酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 R5が C 1—C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 R5が C 1一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 R5が C 1—C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であ り、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 R5が C 1—C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子 であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピエル基であり、 X が酸素原子であるァミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C I— C4アル キル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C 1—C2アル キル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C1一 C4アル キル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C3— C4アル キニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 Rlがトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C I— C2アル キル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R1がトリフルォロメチル基であり、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が 2_プロピエル 基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R3が水素原子であり、 Xが酸素原子 であるアミド化合物； '
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R5が C 1— C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式（2)において、 R2が水素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R5が C 1一 C2アルキル基であり、. Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R5が 2—プロピニル基であり、 が 酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R3が水素原子であり、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R3が水素原子であり、 R4が C 1— C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R3が水素原子であり、 R5が C I— C4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式（2) において、 R3が水素原子であり、 R5が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R3が水素原子であり、 R5が C 1— C2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R3が水素原子であり、 R5が 2—プロピエル基であり、 が 酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R5が C 1一 C4アルキ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が C3— C4アルキ ニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R5が C I— C2アルキ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1一 C4アルキル基であり、 R5が 2—プロピニル基 であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1一 C 2アルキル基であり、 R5が C 1一 C4アルキ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1一 C2アルキル基であり、 R5が C3— C4アルキ ニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1— C2アルキル基であり、 R5が C I— C2アルキ ル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R4が C 1— C 2アルキル基であり、 R5が 2 -プロピニル基 であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C2アルキル基であり、
R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であり、 R4が C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であり、 R4が C 1—C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1—C2アルキル基であり、 R4が 2—プロピエル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物；
式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1—C4アルキル基であり、 R4が C 1一 C 4アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R4が C3— C4アルキニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 R4が C 1一 C 2アルキル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物； 式 （2) において、 R2が水素原子であり、 R4が C 1— C4アルキル基であり、 が 2—プロピニル基であり、 Xが酸素原子であるアミド化合物。 次に、 本発明化合物の製造法について説明する。 本発明化合物は例えば以下の (製造法 A)、 （製造法 B )、 （製造法 C) 又は （製造法 D ) にしたがって製造する ことができる。
(製造法 A)
本発明化合物のうち R"が水素原子であり、 Xが酸素原子である化合物 （1一 1 ) は、 化合物 （5 ) と化合物 （6 ) とを反応させることにより製造することが できる。
Figure imgf000047_0001
( 1 - 1 )
[式中、 R51、 R52、 R53、 R 56 R58、 R 59 R60、 R61、 R62、 R 63及び R 64は前記 と同じ意味を表す]
該反応は、 通常溶媒の存在下、 通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば 1， 4—ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルェ ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口べンゼン等のハ口ゲン化炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 プチロニトリル等の 二トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホキ シド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 トリェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1， 8—ジァザピシ 6294
46
クロ [5. 4. 0] ゥンデック一 7—ェン、 1， 5—ジァザビシクロ [4. 3. 0] ノン一 5—ェン等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4ージメチルァミノピリ ジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
化合物 （6) 1モルに対して、 塩基が通常 1〜 10モルの割合、 化合物 （5) が通常 1〜 5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常一 20〜 100 °Cの範囲であり、反応時間は通常 0 - 1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、 （i)反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を必要 に応じて酸性水 （希塩酸等)、塩基性水 （炭酸水素ナトリウム水溶液等） で洗浄し てから、 乾燥、 濃縮する、 又は （i i) 反応混合物に少量の水を加えてから減圧 下濃縮し、得られた固体を濾集する等の後処理操作を行うことにより、化合物（1 一 1) を単離することができる。 単離された化合物 （1一 1) は、 クロマトダラ フィ一、 再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
(製造法 B)
本発明化合物のうち R57が水素原子であり、 Xが酸素原子である化合物 （1一 1) は、 化合物 （7) と化合物 （8) とを反応させることによつても製造するこ とができる。
Figure imgf000048_0001
[式中、 L1はハロゲン原子、 メタンスルホニルォキシ基、 トリフルォロメタンス ルホニルォキシ基又は p—トルエンスルホニルォキシ基を表し、 R51、 R52、 R53、 R56、 R58、 R59、 R60、 R61、 R62、 R63及び R64は前記と同じ意味を表す。] 該反応は、 通常溶媒の存在下、 通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば 1， 4—ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレングリコ一ルジメチルエーテル、 t e r t—ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルェ ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口べンゼン等の八口ゲン化炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 プチロニトリル等の 二トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホキ シド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、 トリエ チルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1 , 8—ジァザビシクロ [ 5 . 4. 0 ] ゥンデックー 7—ェン、 1， 5—ジァザビシクロ [ 4. 3 . 0 ] ノン一 5— ェン等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン等の含窒素 芳香族化合物が挙げられる。
化合物 （7 ) 1モルに対して、 塩基が通常 1〜1 0モルの割合、 化合物 （8 ) が通常 1〜 5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常一 2 0〜 1 0 0 °Cの範囲であり、反応時間は通常 0 . 1〜2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を必要に応 じて酸性水 （希塩酸等)、 塩基性水 （炭酸水素ナトリウム水溶液等） で洗浄してか ら、 乾燥、 濃縮する等の後処理操作を行うことにより、 化合物 （1一 1 ) を単離 することができる。 単離された化合物 （1— 1 ) は、 クロマ卜グラフィ一、 再結 晶等の操作によりさらに精製することもできる。
また、 化合物 （1— 1 ) は、 化合物 （7 ') と化合物 （1 1 ) とを反応させるこ とによっても製造することができる。
Figure imgf000049_0001
[式中、 L 3はハロゲン原子、 メタンスルホニルォキシ基、 トリフルォロメ夕ンス ルホニルォキシ基 Xは p—トルエンスルホニルォキシ基を表し、 R5l、 R52、 R53、 R56、 R58、 R59、 R60、 R6〖、 R62、 R63及び R64は前記と同じ意味を表す。] 該反応は、 上記の反応と同様の条件にて行う。
(製造法 C)
本発明化合物のうち R57が C 1一 C 4アルキル基、 C 3— C 4アルケニル基又 は C 3— C 4アルキニル基であり、 Xが酸素原子である化合物 （1— 2 ) は、 化 合物（1— 1 ) と化合物（9 ) とを反応させることにより製造することができる。
Figure imgf000050_0001
( 1 - 2)
[式中、 L 2はハロゲン原子、 メタンスルホニルォキシ基、 トリフルォロメ夕ンス ルホニルォキシ基又は p—トルエンスルホニルォキシ基を表し、 R"—1は C 1一 C 4アルキル基、 C 3— C 4アルケニル基若しくは C 3— C 4アルキニル基を表し、 R51、 R52、 R53、 R56、 R58、 R59、 R60、 R61、 R62、 R63及び R64は前記と同じ意 味を表す。]
該反応は、 通常溶媒の存在下、 通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば 1 , 4—ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルェ ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ク口口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、 酢酸エヂル、 酢酸プチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 プチロニトリル等の 二トリル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホキ シド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、 トリエ チルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1， 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0] ゥンデック一 7—ェン、 1， 5—ジァザビシクロ [4. 3. 0] ノン一 5— ェン等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン等の含窒素 芳香族化合物が挙げられる。
化合物（ 1— 1 ) 1モルに対して、塩基が通常 1〜 10モルの割合、化合物 ( 9 ) が通常 1〜 5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、 通常 0〜100 の範囲であり、 反応時間は通常 0. 1 〜 24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を乾燥、 濃縮 する等の後処理操作を行うことにより、 化合物 （1— 2) を単離することができ る。 単離された化合物 （1— 2) は、 クロマトグラフィー、 再結晶等の操作によ りさらに精製することもできる。
(製造法 D)
本発明化合物のうち Xが硫黄原子である化合物 （1一 4) は、 本発明化合物の うち Xが酸素原子である化合物 （1— 3) と 2， 4—ビス （4ーメトキシフエ二 ル） 一 1, 3—ジチア一 2， 4—ジホスフエタン一 2， 4—ジスルフイド （一般 にローソン試薬として知られている化合物。）とを反応させることにより製造する ことができる。
Figure imgf000051_0001
(1 -4) 4
50
ラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t—ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルェ ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、 ァセトニトリル、 プチロニトリル等の二トリル類、 ジメチルスルホキシド等のス ルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
化合物 （1— 3 ) 1モルに対して、 ローソン試薬が通常 1〜1 0モルの割合で 用いられる。
該反応の反応温度は、 通常 5 0〜1 5 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 5〜2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物に水を注加して有機溶媒抽出し、 有機層を乾燥、 濃 縮する等の後処理操作を行うことにより、 化合物 （1一 4 ) を単離することがで きる。 単離された化合物 （1一 4 ) はクロマトグラフィ一、 再結晶等の操作によ りさらに精製することもできる。
次に、 本発明における製造中間体の製造法について説明する。
化合物 （6 ) は、 例えば下記のスキームに従って製造することができる。
Figure imgf000052_0001
[式中、 R6は C I一 C 6アルキル基を表し、 R7はベンジル基又はメトキシメチ P T/JP2003/016294
51
ル基を表し、 R58、 R59、 R60、 R61、 R6\ R63、 R6 L1及び L3は前記と同じ意 味を表す。]
工程 （ I一 1 )
化合物 （12) は、 化合物 （10) と化合物 （11) 'とを反応させることによ り製造することができる。
該反応は、 溶媒の存在下又は非存在下、 通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば 1， 4一ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレンダリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トル工 ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 プチロニトリル等の 二卜リル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホキ シド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム等のアルカリ金属水素物、 トリェチ ルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1, 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0] ゥンデックー 7—ェン、 1, 5ージァザビシクロ [4. 3. 0] ノン一 5—ェン 等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン等の含窒素芳香 族化合物が挙げられる。
化合物 （10) 1モルに対して、 塩基が通常 1〜 50モルの割合、 化合物 （1 1) が通常 1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、 通常 0〜100 の範囲であり、 反応時間は通常 0. 1 〜 24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を乾燥、 濃 縮する等の後処理操作を行うことにより、 化合物 （12) を単離することができ る。 単離された化合物 （12) は、 クロマトグラフィー、 再結晶等の操作により さらに精製することもできる。
なお、 化合物 （10) は例えば T e t r ahed r on Le t t e r s, v o 1. 36， No. 51， pp.9369— 9372， 1995に記載された化合 物であるか又は該文献に記載された方法準ずる方法により製造することができる 化合物である。
工程 （I一 2)： 賺 16294
52
(A) R7がべンジル基の場合
化合物 （1 3 ) は、 水素化触媒及び酸の存在下、 化合物 （1 2 ) と水素とを反 応させることにより製造することができる。
該反応は通常水素雰囲気下、 通常溶媒の存在下ヤ行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えばメタノール、 エタノール、 プロパノー ル等のアルコール類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 テトラヒドロフ ラン、 1， 4一ジォキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。 反応に用いられる水素化触媒としては、 例えばパラジウム炭素、 水酸化パラジ ゥム、 ラネーニッケル、 酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。 反応に用い られる酸としては、 例えば塩酸が挙げられる。
化合物 （1 3 ) 1モルに対して、 水素は通常 1モル、 水素化触媒は通常 0 . 0 0 1〜0 . 5モルの割合で用いられる。
該反応は、 通常 1〜 1 0 0気圧の水素雰囲気下で行われる。
該反応の反応温度は通常一 2 0〜 1 0 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1〜2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を濾過し、 濾液を有機溶媒抽出して、 得られる有機 層を乾燥、 濃縮する等の後処理操作を行うことにより、 化合物 （1 3 ) を単離す ることができる。 単離された化合物 （1 3 ) はクロマトグラフィー、 再結晶等の 操作によりさらに精製することもできる。
(B ) R7がメトキシメチル基の場合
化合物 （1 1 ) は、 化合物 （1 2 ) を酸の存在下で加水分解反応に付すことに より製造することができる。
該反応は通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、 例えば 1， 4一ジォキサン、 テトラヒド 口フラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t—ブチルメチルエー テル等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 ト ルェン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水 素類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 プチロニトリ ル等の二トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルス ルホキシド等のスルホキシド類、 メタノール、 エタノール、 プロパノール等のァ ルコール類及ぴこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、 例えば塩酸、 硫酸等の無機酸、 p—トルエンス ルホン酸、 メタンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
化合物 （12) 1モルに対して、 酸は通常 1〜10モルの割合で用いられる。 該反応の反応温度は、 通常 0〜100°Cの範囲であり、 反応時間は通常 0. 1 〜 24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を有機溶媒抽出し、 有機層を乾燥、 濃縮する等の後 処理操作を行うことにより、 化合物 （13) を単離することができる。 単離され た化合物 （13) はクロマトグラフィー、 再結晶等の操作によりさらに精製する こともできる。
工程 （I一 3)
化合物 （14) は、 化合物 （13) と化合物 （8) とを反応させることにより 製造することができる。
該反応は、 溶媒の存在下又は非存在下、 通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば 1, 4一ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレングリコ一ルジメチルエーテル、 t e r t—ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルェ ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 プチロニトリル等の 二トリル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホキ シド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 トリェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1， 8—ジァザビシ クロ [5. 4. 0] ゥンデックー 7—ェン、 1， 5—ジァザビシクロ [4. 3.
0] ノン一 5—ェン等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4ージメチルァミノピリ ジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
化合物 （13) 1モルに対して、 塩基;^通常 1〜50モルの割合、 化合物 （8) が通常 1〜 5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、 通常 0〜100 の範囲であり、 反応時間は通常 0. 1
〜 24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えてから濾過し、 濾液 を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、 化合物 （14) を単離することが できる。 単離された化合物 （14) は、 蒸留、 クロマトグラフィー、 再結晶等の 操作によりさらに精製することもできる。 2003/016294
54
工程 （I一 4 )
化合物 （1 5 ) は、 化合物 （1 4 ) を塩基の存在下で加水分解反応に付するこ とにより製造することができる。
該反応は通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、 例えば 1 , 4—ジォキサン、 テトラヒド 口フラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエー テル等のエーテル類、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口べンゼ ン等のハロゲン化炭化水素類、ァセトニトリル、プチロニトリル等の二トリル類、 メタノール、 エタノール、 プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が 挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば水酸化リチウム、 水酸化ナトリウム、 水酸化力リゥム等のアル力リ金属水酸化物が挙げられる。
化合物（1 4 ) 1モルに対して、塩基は通常 1〜1 0モルの割合で用いられる。 該反応の反応温度は、 通常 0〜1 5 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1 〜 2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物に酸性水 （塩酸等） を加えて有機溶媒抽出し、 有機 層を乾燥、 濃縮する等の後処理操作を行うことにより、 化合物 （1 5 ) を単離す ることができる。 単離された化合物 （1 5 ) は、 蒸留、 クロマトグラフィー、 再 結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
工程 （I一 5 )
化合物 （6 ) は、 化合物 （1 5 ) と塩素化剤とを反応させることにより製造す ることができる。
該反応は、 溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば 1， 4一ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t—プチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、 トルエン、 キシレ ン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びこれら の混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤としては、 例えば塩化チォニル、 塩化ォキサリル及 びォキシ塩化リンが挙げられる。
化合物 （1 5 ) 1モルに対して、 塩素化剤は通常 1〜1 0 0モルの割合で用い られる。 16294
55
該反応の反応温度は通常 30〜 1 50 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0. 1 〜24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物をそのまま濃縮する等の後処理操作を行うことによ り、 化合物 （6) を単離することができる。 単離された化合物 （6) は通常精製 することなく次の工程の反応に用いられる。
ここで、 化合物 （14) において、 RMが C 1— C4アルキル基であり、 R61 が C 3— C 6アルキニル基であり、 R6がメチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソ プロピル基、 イソブチル基、 t e r t—ブチル基である化合物；化合物 （1 5) において、 R6Qがメチル基又はェチル基であり、 R61が C 3— C 6アルキニル基で ある化合物；及び式 (6) において、 R6°がメチル基又はェチル基であり、 R61 が C 3—C 6アルキニル基であり、 R58、 R59、 R62、 R63および R64が水素原子で ある化合物は本発明中間体 1である。
化合物 （13) は、 下記のスキームに従って製造することもできる。
Figure imgf000057_0001
[式中、 R6は C I— C 6アルキル基を表し、 R7はベンジル基又はメトキシメチ ル基を表し、 R58、 R59、 R60, R62、 R63, R64、 L1及び L3は前記と同じ意味を 表す。]
工程 （I一 6)
化合物 （21) は、 化合物 （20) と下記の化合物 （22) と塩基とを反応さ せることにより製造することができる。
該反応は、 溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えばテトラヒドロフランが挙げられる。 反 2003/016294
56
応に用いられる塩基としては、 炭酸カリウム等の炭酸塩類、 水素化ナトリウム等 のアル力リ金属水素化物が挙げられる。
化合物 （20) 1モルに対して、 化合物 （22) は通常 1〜2モルの割合、 塩 基は通常 1〜 2モルの割合で用いられる。 反応温度は、 通常 0〜80°Cの範囲で あり、 反応時間は通常 0. 1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を乾燥、 濃 縮する等の後処理操作を行うことにより、 化合物 （20) を単離することができ る。 単離された化合物 （20) は、 クロマトグラフィー、 再結晶等の操作により さらに精製することもできる。
なお、 化合物 （20) は市販されているか、 公知の方法に準じて製造すること ができる。
工程 （ I一 7 )
化合物 （13) は、 水素化触媒及び酸の存在下、 化合物 （20) と水素とを反 応させることにより製造することができる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えばメタノール、 エタノール、 プロパノー ル等のアルコール類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 テトラヒドロフ ラン、 1， 4一ジォキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。 反応に用いられる水素化触媒としては、 例えばパラジウム炭素、 水酸化パラジ ゥム、 ラネ一ニッケル、 酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。 反応に用い られる酸としては、 例えば塩酸が挙げられる。
化合物 （13) 1モルに対して、 水素は通常 2モル、 水素化触媒は通常 0. 0 01〜0. 5モルの割合で用いられる。
該反応は、 通常 1〜100気圧の水素雰囲気下で行われる。
該反応の反応温度は通常— 20〜100°Cの範囲であり、 反応時間は通常 0. ：!〜 24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を濾過し、 濾液を有機溶媒抽出して、 得られる有機 層を乾燥、 濃縮する等の後処理操作を行うことにより、 化合物 （13) を単離す ることができる。 単離された化合物 （13) はクロマトグラフィー、 再結晶等の 操作によりさらに精製することもできる。
化合物 （14) は、 下記のスキームに従って製造することもできる。 6294
57
Figure imgf000059_0001
[式中、 R6は C I一 C 6アルキル基を表し、 R7はベンジル基又はメトキシメチ ル基を表し、 R58、 R59、 R60、 R61、 R62、 R63、 RS4、 L1及び L3は前記と同じ意 味を表す。]
尚、工程（ I ' 一 1)は上記の工程 (1 -3) と同様の条件にて行う。工程（ I ' -2) は上記の工程 （1—2) と同様の条件にて行う。 工程 （1 ' —3) は上記 の工程 （I一 1) の条件に準じる。
なお、 化合物 （10，） は例えば T e t r ahe d r on Le t t e r s, v o 1. 36， No. 51， pp.9369-9372, 1995に記載された化合 物であるか又は該文献に記載された方法準ずる方法により製造することができる 化合物である。
化合物 （13') は、 下記のスキームに従って製造することもできる。
6294
58
Figure imgf000060_0001
[式中、 R6は C 1一 C6アルキル基を表し、 R7はベンジル基又はメトキシメチ ル基を表し、 R58、 R59、 R61、 R62、 R63、 R64、 L1及び L3は前記と同じ意味を表, す。]
尚、工程（I ' 一 6) は上記の工程（I，6) と同様の条件にて行う。工程（Γ -7) は上記の工程 （1—7) と同様の条件にて行う。
なお、 化合物 （20') は市販されているか、 公知の方法に準じて製造すること ができる。
化合物 （7) は、 例えば下記のスキームに従って製造することができる。
16294
59
Figure imgf000061_0001
[式中、 R51、 R52、 R53、 R 56 R58 R59 p 60 R61 R62、 R63、 R 64は前記と 同じ意味を表す。]
工程 （ I I一 1 )
化合物 （1 7 ) は、 化合物 （1 6 ) と塩素化剤とを反応させることにより製造 することができる。
該反応は、 溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば 1 , 4—ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、 トルエン、 キシレ ン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びこれら の混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤としては、 例えば塩化チォニル、 塩化ォキサリル及 びォキシ塩化リンが挙げられる。
化合物 （1 6 ) 1モルに対して、 塩素化剤は通常 1〜1 0 0モルの割合で用い られる。 3016294
60 '
該反応の反応温度は、 通常 30〜150°Cの範囲であり、 反応時間は通常 0. 1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物をそのまま濃縮する等の後処理操作を行うことによ り、 化合物 （17) を単離することができる。 単離された化合物 （17) は通常 精製することなく次の工程の反応に用いられる。
化合物 （16) は、 例えば Syn t e t i c Commun i c a t i on s, 29 (4)， pp. 573 - 581 ( 1999 ) に記載された化合物であるか 又は該文献に記載された方法に準じた方法で製造することができる化合物である。 工程 （I I一 2)
化合物 （18) は、 化合物 （17) と化合物 （5) とを反応させることにより 製造することができる。
該反応は、 通常溶媒の存在下、 通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば 1， 4一ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t—ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルェ ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 プチロニ卜リル等の 二トリル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホキ シド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、 例えば炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭 酸塩類、 トリェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 1， 8—ジァザビシ クロ [5. 4. 0] ゥンデック一 7—ェン、 1, 5—ジァザビシグロ [4. 3. 0] ノン—5—ェン等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4ージメチルァミノピリ ジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
化合物 （17) 1モルに対して、 塩基が通常 1〜10モルの割合、 化合物 （5) が通常 1〜 5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常一 20〜 100 °Cの範囲であり、反応時間は通常 0. ：!〜 24時間の範囲である。
反応終了後は、 （i) 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を必要 に応じて酸性水 （希塩酸等)、 塩基性水 （炭酸水素ナトリウム水溶液等） で洗浄し てから、 乾燥、 濃縮する、 又は （i i) 反応混合物に少量の水を加えてから減圧 下濃縮し、得られた固体を濾集する等の後処理操作を行うことにより、化合物（1 2003/016294
61
8) を単離することができる。 単離された化合物 （18) は、 クロマトグラフィ 一、 再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
工程 （I I一 3)
化合物 （7) は、 水素化触媒及び酸の存在下、 化合物 （18) と水素とを反応 させることにより製造することができる。
該反応は通常水素雰囲気下、 通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えばメタノール、 エタノール、 プロパノ一 ル等のアルコール類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 テ卜ラヒドロフ ラン、 1, 4一ジォキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。 反応に用いられる水素化触媒としては、 例えばパラジウム炭素、 水酸化パラジゥ ム、 ラネーニッケル、 酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。 反応に用いら れる酸としては、 例えば塩酸が挙げられる。
化合物 （18) 1モルに対して、 水素は通常 2モル、 水素化触媒は通常 0. 0 01〜0. 5モルの割合で用いられる。
該反応は、 通常 1〜 100気圧の水素雰囲気下で行われる。
該反応の反応温度は通常一 20〜 100 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0. 1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を濾過し、 濾液を有機溶媒抽出して、 得られる有機 層を乾燥、 濃縮する等の後処理操作を行うことにより、 化合物 （7) を単離する ことができる。 単離された化合物 （7) はクロマトグラフィー、 再結晶等の操作 によりさらに精製することもできる。
ここで、 化合物（7) において、 R51がハロゲン原子、 C I— C4アルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C I— C4アルコキシ基、 C 1—C4ハロアルコキ シ基、 ジ （C 1一 C4アルキル） アミノ基若しくはシァノ基であり、 R52が水素 原子、 ハロゲン原子、 （ 1ーじ4ァルキル基若しくは(： 1—。4ハロァルキル基 である力、、又は R51と R52とが一緒になつて C 3—C 5アルキレン基若しくは一 C H二 CH— CH=CH—基であり、 R53が水素原子であり、 R56が水素原子であり、 RMが C 1一 C4アルキル基である化合物は本発明中間体 2である。
化合物 （7') は、 例えば下記のスキームに従って製造することができる。
Figure imgf000064_0001
[式中、 R51 2 R53 9 R60 R61 R62、 R63、 R 64
、 R5、 、 R 56 R58 R5 は前記と 同じ意味を表す。]
工程（I I ' 一 1) は上記の工程.（I 1— 1) と同様の条件にて行い、 工程（I I ' -2) は上記の工程 （I 1—2) と同様の条件にて行い、 工程 （I I ' —3) は上記の工程 （I I一 3) と同様の条件にて行う。
化合物（ 16 ') は、 例えば S y n t h e t i c C ommu n i c a t i on s, 29 (4), pp. 573 - 581 (1999) に記載された化合物であるか 又は該文献に記載された方法に準じた方法で製造することができる化合物である。 化合物（5)のうち R56が水素原子である化合物（5—1) は、例えば化合物（1 9) を還元反応に付することにより製造することができる。
Figure imgf000064_0002
(19) (5-1) T JP2003/016294
63
[式中、 R51、 R52、 及び R53は前記と同じ意味を表す。]
該反応は、 通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば 1， 4一ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルェ ン、 キシレン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤としては、 例えば水素化アルミニウムリチウム、 ジィ ソブチルアルミニウムヒドリド等の金属水素化物が挙げられる。
化合物 （1 9 ) 1モルに対して、 還元剤は通常 0 . 5〜5モルの割合で用いら れるが、 還元剤の種類により適宜変更することができる。
反応終了後は、 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を必要に応 じて塩基性水 冰酸化ナトリウム水溶液等） で洗浄してから、 乾燥、 濃縮する等 の後処理操作を行うことにより、 化合物 （5 ) を単離することができる。 単離さ れた化合物 （5 ) は、 蒸留、 クロマトグラフィー等の操作によりさらに精製する こともできる。
化合物 （5 ) は下記のスキームにしたがって製造することができる。
Figure imgf000065_0001
(5)
[式中、 R51、 R52、 R53、 及び R56は前記と同じ意味を表し、 L4は塩素原子又は 臭素原子を表す。]
工程 （ I I I一 1 )
化合物 （2 1 ) は， 化合物 （2 0 ) とフタルイミドカリウムとを反応させるこ とにより製造することができる。 PC霞 003/016294
64
該反応は、 通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 1 , 4一ジォキサン、 テトラヒドロフラン、 エチレングリコールジメチルェ一テル、 t e r t—プチルメチルエーテル等のェ 一テル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルエン、 キ シレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、 酢酸 ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 プチロニトリル等のニト リル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホキシド 等のスルホキシド類、 水及びこれらの混合物が挙げられる。
化合物 （2 0 ) 1モルに対して、 フタルイミドカリウムは通常 1〜 3モルの割 合で用いられる。
該反応の反応温度は通常一 2 0〜1 0 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1〜2 4時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加してから有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、 濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物 （2 1 ) を単離することができ る。 単離された化合物 （2 1 ) はクロマトグラフィー、 再結晶等の操作によりさ らに精製することもできる。
工程 （I I I— 2 )
化合物 （5 ) は、 化合物 （2 1 ) とヒドラジンとを反応させることにより製造 することができる。
該反応は、 通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としてはメタノール、 エタノール、 プロパノール等のァ ルコール類、 水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるヒドラジンは、 水和物でもよい。 化合物 （2 1 ) 1モルに対 して、 ヒドラジンは通常 1〜1 0モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、 通常 0〜1 5 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1 〜2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を濾過し、 濾液に水を加えて有機溶媒抽出して、 有機 層を乾燥、 濃縮する等の後処理操作を行うことにより、 化合物 （5 ) を単離する ことができる。 単離された化合物 （5 ) は、 蒸留、 クロマトグラフィー等の操作 によりさらに精製することもできる。
化合物 （5 ) は、 例えば化合物 （2 2 ) をロイカルト反応に付することにより 製造することができる。 2003/016294
65
Figure imgf000067_0001
(22) (5)
[式中、 R5'、 R52、 R53及び R56は前記と同じ意味を表す。]
該反応は、 溶媒の存在下若しくは非存在下、 ホルムアミド及び蟻酸の存在下で 行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えば 1， 4—ジォキサン、 テトラヒドロフ ラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル 等のエーテル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルェ ン、 キシレン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
化合物 （2 2 ) 1モルに対して、 ホルムアミドは通常 1〜1 5モルの割合、 蟻 酸は通常 0 . 1〜2モルの割合で用いられる。
反応終了後は、 反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、 有機層を必要に応 じて塩基性水 （水酸化ナトリウム水溶液等） で洗浄してから、 乾燥、 濃縮する等 の後処理操作を行うことにより、 化合物 （5 ) を単離することができる。 単離さ れた化合物 （5 ) は、 蒸留、 クロマトグラフィー等の操作によりさらに精製する こともできる。
化合物 （5 ) は下記のスキームにしたがって製造することができる。
Figure imgf000067_0002
(5)
[式中、 R51、 R52、 R53及び R56は前記と同じ意味を表す。] 工程 （V I— l )
化合物 （2 3 ) は， 化合物 （2 2 ) とヒドロキシルァミンとを反応させること により製造することができる。
該反応は、 通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 1， 4一ジォキサン、 テトラヒドロフラン、 エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t—ブチルメチルエーテル等のェ —テル類、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素類、 トルエン、 キ シレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、 酢酸 ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 ァセトニトリル、 プチロニトリル等のニト リル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、 ジメチルスルホキシド 等のスルホキシド類、 メタノール、 エタノール、 プロパノール、 イソプロパノー ル等のアルコ一ル類、 水及びこれらの混合物が挙げられる。
化合物 （2 2 ) 1モルに対して、 ヒドロキシルァミンは通常 1〜 5モルの割合 で用いられる。
該反応の反応温度は通常 0〜1 5 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1〜 2 4時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加してから有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、 濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物 （2 3 ) を単離することができ る。 単離された化合物 （2 3 ) はクロマトグラフィー、 再結晶等の操作によりさ らに精製することもできる。
工程 （V I - 2 )
化合物 （5 ) は、 水素化触媒の存在下、 化合物 （2 3 ) と水素とを反応させる ことにより製造することができる。
該反応は通常水素雰囲気下、 通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、 例えばメタノール、 エタノール、 プロパノー ル等のアルコール類、 酢酸ェチル、 酢酸ブチル等のエステル類、 テトラ ドロフ ラン、 1， 4一ジォキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。 反応に用いられる水素化触媒としては、 例えばパラジウム炭素、 水酸化パラジ ゥム、 ラネーニッケル、 酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
化合物 （2 3 ) 1モルに対して、 水素は通常 2モル、 水素化触媒は通常 0 . 0 0 1〜0 . 5モルの割合で用いられる。
該反応は、通常 1〜 1 0 0気圧の水素雰囲気下で行われる。必要に応じて酸（塩 酸等） を加えて行うこともできる。
該反応の反応温度は通常— 2 0〜 1 0 0 °Cの範囲であり、 反応時間は通常 0 . 1〜2 4時間の範囲である。
反応終了後は、 反応混合物を濾過し、 濾液を有機溶媒抽出して、 得られる有機 層を乾燥、 濃縮する等の後処理操作を行うことにより、 化合物 （5 ) を単離する ことができる。 単離された化合物 （5 ) はクロマトグラフィー、 再結晶等の操作 によりさらに精製することもできる。
本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、 例えば藻菌類による植物 病害が挙げられ、 具体的には例えば次の病害が挙げられる。
蔬菜類、 ダイコンのベと病 （Peronospora brass icae) , ホウレンソゥのべと病 (Peronospora spinaci ae) , タパ、コのベと病 （Peronospora tabacina)、 ゥリ類の ベと病 (Pseudoperonospora cubens is)、 ブドゥのべと病 (Plasmopara vi t i cola)、' リンゴ、 イチゴ、 ャクヨウニンジンの疫病 (Phytophthora cactorum) > トマト、 キユウリの灰色疫病 (P ytophora capsici) , パイナップルの疫病 (Phytophthora cinnamomi) , ジャガイモ、 トマトの疫病 （Phytophthora infes tans)、 タバコ、 ソ ラマメ、 ネギの疫病 (Phytophthora nicot ianae var. nicot ianae) , ホウレンソ ゥの立枯病 (Pythium sp. ) , キユウリ苗立枯病 (Pythium aphanidermatum) , コム ギ褐色雪腐病 （Pythium sp. )、 タバコ苗立枯病 (Pythium debaryanum), ダイズの Pythium rot (Pythium aphaniderraatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ul t imum)。
本発明化合物は、 そのものを植物または土壌に処理することによつても、 植物 病害を防除することができるが、 通常は本発明化合物と担体を含有する組成物、 即ち適当な担体に本発明化合物を担持させた植物病害防除組成物の形態にて用い られる。 本発明の植物病害防除剤は本発明化合物を固体担体、 液体担体、 界面活 性剤その他の製剤用補助剤と混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、 フロアブル剤、 粉剤、 粒剤等に製剤化される。 これらの製剤は本発明化合物を通常 0 . 1〜9 0 重量％含有する。
製剤化の際に用いられる固体担体としては、 例えば、 カオリンクレー、 アツタ パルジャィトクレ—、 ベントナイト、 モンモリロナイト、 酸性白土、 パイロフィ ライト、 タルク、 珪藻土、 方解石等の鉱物、 トウモロコシ穂軸粉、 クルミ殻粉等 の天然有機物、 尿素等の合成有機物、 炭酸カルシウム、 硫酸アンモニゥム等の塩 類、 合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等が挙げ 2003/016294
68
られ、 液体担体としては、 例えば、 キシレン、 アルキルベンゼン、 メチルナフタ レン等の芳香族炭化水素類、 2—プロパノ一ル、 エチレングリコール、 プロピレ ングリコール、 セロソルブ等のアルコール類、 アセトン、 シクロへキサノン、 ィ ソホロン等のケトン類、 ダイズ油、 綿実油等の植物油、 脂肪族炭化水素類、 エス テル類、 ジメチルスルホキシド、 ァセトニトリル及び水が挙げられる。
界面活性剤としては、 例えば、 アルキル硫酸エステル塩、 アルキルァリ一ルス ルホン酸塩、 ジアルキルスルホコハク酸塩、 ポリオキシエチレンアルキルァリー ルエーテルリン酸エステル塩、 リグニンスルホン酸塩、 ナフ夕レンスルホネート ホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアル ックコポリマ一、 ソルピ夕ン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤が挙げられ る。
その他の製剤用補助剤としては、 例えば、 ポリビニルアルコール、 ポリビエル ピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、 アルギン酸及びその塩、 CMC (力 ルポキシメチルセルロース）、ザンサンガム等の多糖類、 アルミニウムマグネシゥ ムシリケ一ト、 アルミナゾル等の無機物、 防腐剤、 着色剤、 P A P (酸性リン酸 イソプロピル)、 B H T等の安定化剤が挙げられる。
本発明の植物病害防除剤は、 例えば、 植物体に茎葉処理することにより当該植 物を植物病害から保護するために用いられ、 また、 土壌に処理することにより当 該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合又は土 壌に処理することにより用いる場合、 その処理量は、 防除対象植物である作物等 の種類、 防除対象病害の種類、 防除対象病害の発生程度、 製剤形態、 処理時期、 気象条件等によって変化させ得るが、 1 0 0 0 0 m2あたり本発明化合物として通 常：！〜 5 0 0 0 g、 好ましくは 5〜； L 0 0 0 gである。
乳剤、 水和剤、 フロアブル剤等は通常を水で希釈して散布することにより処理 する。 この場合、 本発明化合物の濃度は通常 0 . 0 0 0 1〜3重量％、 好ましく は 0 . 0 0 0 5〜1重量％の範囲である。 粉剤、 粒剤等は通常希釈することなく そのまま処理する。
また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。 種子消毒の方法としては、 例えば、 本発明化合物の濃度が l〜1 0 0 0 p pmと なるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、 植物 賺 16294
69
の種子に本発明化合物の濃度が 1〜1 0 0 0 p p mの本発明の植物病害防除剤を 噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に粉剤に製剤化された本発明の植物病 害防除剤を粉衣する方法があげられる。
本発明の植物病害防除方法は、 通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、 病害 の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、 及び Z又 は病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理すること により行われる。
本発明の植物病害防除剤は通常、 農園芸用植物病害防除剤、 即ち畑地、 水田、 果樹園、 茶園、 牧草地、 芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤と して用いられる。
本発明の植物病害防除剤剤は他の植物病害防除剤剤、 殺虫剤、 殺ダニ剤、 殺線 虫剤、 除草剤、 植物生長調節剤及び Z又は肥料と共に用いることもできる。 かかる植物病害防除剤の有効成分としては、 例えば、 クロ口夕ロニル、 フルァ ジナム、 ジクロフルアニド、 ホセチルー A 1、 環状イミド誘導体 （キヤブタン、 キヤプ夕ホール、 フオルペット等）、 ジチォカーバメート誘導体 （マンネブ、 マン コゼブ、 チラム、 ジラム、 ジネブ、 プロピネブ等)、 無機もしくは有機の銅誘導体 (塩基性硫酸銅、 塩基性塩化銅、 水酸化銅、 ォキシン銅等)、 ァシルァラニン誘導 体 （メタラキシル、 フララキシル、 オフレ一ス、 シプロフラン、 ベナラキシル、 ォキサジキシル等)、 スト口ビルリン系化合物 （クレソキシムメチル、 ァゾキシス トロビン、 トリフロキシストロビン、 ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、 ジモキシストロビン等)、 ァニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、 ピリメタ二 ル、 メパニピリム等）、 フエニルピロ一ル誘導体 （フェンピクロニル、 フルジォキ ソニル等)、 イミド誘導体 （プロシミドン、 ィプロジオン、 ビンクロゾリン等)、 ベンズイミダゾ一ル誘導体 （カルベンダジム、 べノミル、 チアベンダゾール、 チ オファネートメチル等)、 ァミン誘導体 （フェンプロピモルフ、 トリデモルフ、 フ ェンプロビジン、 スピロキサミン等）、 ァゾール誘導体（プロピコナゾール、 トリ アジメノール、 プロクロラズ、 ペンコナゾール、 テブコナゾール、 フルシラゾー ル、 ジニコナゾール、 ブロムコナゾール、 エポキシコナゾール、 ジフエノコナゾ ール、 シプロコナゾ一ル、 メトコナゾール、 トリフルミゾ一ル、 テトラコナゾ一 ル、 マイクロブ夕ニル、 フェンブコナゾール、 へキサコナゾール、 フルキンコナ ゾール、 トリティコナゾール、 ビテル夕ノール、 イマザリル、 フルトリアホール 等)、 シモキサニル、 ジメトモルフ、 ファモキサドン、 フエナミドン、 ィプロヴァ 16294
70
リカルブ、 ベンチアバリカルプ、 シァゾフアミド、 ゾキサミド、 エタポキサム、 ニコビフェン、 フェンへキサミド、 キノキシフェン、 ジエトフェンカルプ及びァ シベンゾラール Sメチルが挙げられる。
本発明化合物の具体例としては、 以下の化合物が挙げられる。
式 （i) 〜 （xxxxxv) アミド化合物
Figure imgf000073_0001
Figure imgf000073_0002
(！ Λ)
Figure imgf000073_0003
U
f6Z9lO/£OOZdT/X3d
Figure imgf000074_0001
(xiii) (xiv)
Figure imgf000074_0002
(xvii) (XVIIリ
Figure imgf000074_0003
(xxiii) (xxiv)
Figure imgf000074_0004
(xxv) (xxvi)
Figure imgf000075_0001
(xxvii) (xxviii)
Figure imgf000075_0002
(xxxi) (xxxii)
Figure imgf000075_0003
(xxxvii) (xxxix)
Figure imgf000076_0001
(xxxxii) (xxxxiii)
Figure imgf000076_0002
(xxxxiv)
Figure imgf000076_0003
(xxxxvi) (xxxxvii)
Figure imgf000076_0004
(xxxxx) (xxxxxi) 2003/016294
75
Figure imgf000077_0001
(xxxxxii) (xxxxxii i)
Figure imgf000077_0002
(xxxxxiv) (xxxxxv)
式 （i) 〜 （xxxxxv) において、 Zは以下のいずれかの基を表す。
4一フルオロフェニル基、 4一クロ口フエ二ル基、 4—ブロモフエニル基、 4— ョウドフエ二ル基、 4—メチルフエニル基、 4一ェチルフエニル基、 4—プロピ ルフエ二ル基、 4一^ Γソプロピルフエニル基、 4一ブチルフエニル基、 4— ( s e c—プチル） フエニル基、 4一イソブチルフエニル基、 4一 （t e r t—プチ ル） フエニル基、 4一ビニルフエニル基、 4— ( 1ーメチルビニル） フエニル基、 4一 （1—プロべニル） フエニル基、 4一 （2—メチルー 1—プロべニル） フエ ニル基、 4一 （1ーブテニル） フエニル基、 4ーェチニルフエニル基、 4一 （1 —プロピエル） フエニル基、 4— ( 1ーブチニル） フエニル基、 4— ( 1一ペン 夕ニル） フエニル基、 4— ( 3—メチルー 1一プチニル） フエニル基、 4一 （3 ,
3—ジメチル— 1一プチニル）フエニル基、、 4一（フルォロメチル）フエニル基、
4 - (ジフルォロメチル） フエニル基、 4— (トリフルォロメチル） フエニル基、 4ーメトキシフエ二ル基、 4—エトキシフエニル基、 4— (フルォロメトキシ） フエニル基、 4一 （ジフルォロメトキシ） フエニル基、 4一 （トリフルォロメト キシ） フエニル基、 4一シァノフエニル基、 4一 (N, N—ジメチルァミノ） フ ェニル基、 4— (N, N—ジェチルァミノ） フエニル基、 4 - (N, N—ジブ口 ピルァミノ） フエニル基、 3 , 4—ジフルオロフェニル基、 4 _クロロー 3—フ ルオロフェニル基、 4—ブロモー 3—フルオロフェニル基、 3—フルオロー 4一 メチルフエニル基、 4—ェチルー 3 _フルオロフェニル基、 3—フルオロー 4一 (トリフルォロメチル） フエニル基、 3—フルオロー 4ーメトキシフエ二ル基、 4ーシァノー 3—フルオロフェニル基、 4一フルオロー 3—クロ口フエ二ル基、 3， 4ージクロロフェニル基、 4一ブロモ— 3—クロ口フエ二ル基、 3—クロ口 一 4—メチルフエニル基、 3—クロロー 4一ェチルフエニル基、 3—クロロー 4 一 （トリフルォロメチル） フエニル基、 3—クロロー 4—メトキシフエ二ル基、 4ーシァノー 3—クロ口フエ二ル基、 3—ブロモー 4一フルオロフェニル基、 3 —ブロモ _ 4一クロ口フエ二ル基、 3， 4—ジブロモフエニル基、 3—ブロモー 4一メチルフエニル基、 3—プロモー 4一ェチルフエニル基、 3—プロモー 4一 (トリフルォロメチル） フエニル基、 3—プロモ一 4ーメトキシフエ二ル基、 3 一プロモー 4—シァノフエニル基、 4—フルオロー 3—メチルフエニル基、 - クロ口— 3—メチルフエニル基、 4—ブロモー 3—メチルフエニル基、 3， 4 - ジメチルフエニル基、 4一ェチル— 3—メチルフエニル基、 3—メチルー 4一（ト リフルォロメチル） フエニル基、 4—メトキシー 3—メチルフエニル基、 4ーシ ァノー 3—メチルフエニル基、 3—ェチルー 4一フルォロメチル基、 4一クロ口 —3—ェチルフエニル基、 4ーブロモー 3—ェチルフエニル基、 3—ェチルー 4 一メチルフエニル基、 3， 4—ジェチルフエニル基、 3—ェチル—4一 （トリフ ルォロメチル） フエニル基、 3—ェチル—4—メトキシフエ二ル基、 4一シァノ 一 3—ェチルフエニル基、 4一フルオロー 3— （トリフルォロメチル） フエニル 基、 4—クロロー 3— (トリフルォロメチル） フエニル基、 4一ブロモ—3— (ト リフルォロメチル） フエニル基、 4—メチルー 3— （トリフルォロメチル） フエ ニル基、 4—ェチル—3— （トリフルォロメチル） フエニル基、 3 , 4—ジー （ト リフルォロメチル） フエニル基、 4—メ卜キシー 3— (トリフルォロメチル) フ ェニル基、 4—シァノ— 3— （トリフルォロメチル） フエニル基、 4ーメトキシ カルポニルフエニル基、 4一エトキシカルポユルフェニル基、 4一フエニルフエ ニル基、 3—フルオロー 4一フエニルフエニル基、 3—クロロー 4一フエニルフ ェニル基、 3—ブロモ—4—フエニルフエニル基、 3—メチル—4—フエニルフ ェニル基、 3—ェチル一4一フエニルフエニル基、 4—フエノキシフエニル基、 3一フルオロー 4—フエノキシフエニル基、 3—クロ口 _ 4一フエノキシフエ二 ル基、 3—ブロモ—4一フエノキシフエニル基、 3—メチルー 4ーフエノキシフ ェニル基、 3—ェチル—4—フエノキシフエニル基、 4一二トロフエニル基、 3 —フルオロー 4一二トロフエニル基、 3—クロ口—4—ニトロフエニル基、 3— ブロモー 4—ニトロフエニル基、 3—メチルー 4一二トロフエニル基、 3—ェチ ルー 4—ニトロフエニル基、 4ーメチルチオフエニル基、 3—フルオロー 4ーメ チルチオフエニル基、 3—クロ口— 4ーメチルチオフエニル基、 3—ブロモ—4 ーメチルチオフエニル基、 3—メチルー 4ーメチルチオフエニル基、 3—ェチル —4ーメチルチオフエニル基、
インダン一 5—ィル基、 5 , 6 , 7 , 8—テトラヒドロナフタレン—2—ィル基、 JP2003/016294
77
6， 7 , 8 , 9ーテトラヒドロ— 5 H—べンゾシクロヘプテン— 2—ィル基、 5， 6 , 7 , 8 , 9 , 1 0—へキサヒドローべンゾシクロォクテン一 2—^ Γル基、 2—ナフチル基、 4一フルォロナフタレン一 2—ィル基、 5—フルォロナフタレ ンー 2—ィル基、 6—フルォロナフ夕レン— 2—ィル基、 7—フルォロナフタレ ン一 2—ィル基、 4一クロロナフタレン一 2—ィル基、 5—クロロナフタレン一 2—ィル基、 6—クロロナフタレン一 2—ィル基、 7—クロ口ナフ夕レン一 2— ィル基、、 4—プロモナフタレン— 2—ィル基、 5—プロモナフタレン— 2—ィル 基、 6—プロモナフタレン一 2—ィル基、 7—プロモナフタレン一 2—ィル基、 4ーメチルナフタレン— 2—ィル基、 5—メチルナフタレン— 2—ィル基、 6— メチルナフ夕レン一 2—ィル基、 7—メチルナフタレン一 2—ィル基、 4ーメト キシナフ夕レン一 2—ィゾレ基、 5—メトキシナフタレン一 2—イ レ基、 6—メト キシナフタレン一 2—ィル基、 7—メトキシナフタレン— 2—ィル基、 4一トリ フルォロメチルナフ夕レン一 2—ィル基、 5—トリフルォロメチルナフタレン一 2—ィル基、 6—トリフルォロメチルナフ夕レン一 2—ィル基、 7—トリフルォ ロメチルナフタレン一 2—ィル基、 5， 6—ジフルォロナフタレン一 2—ィル基、 5 , 6—ジクロルナフタレン一 2—ィル基、 5， 6—ジメチルナフタレン— 2— ィル基、 5—フルオロー 6—メチルナフタレン一 2—ィル基、 6—フルオロー 5 一メチルナフ夕レン一 2—ィル基、 5—クロル— 6 _メチルナフタレン一 2—ィ ル基、 6—クロ口一 5—メチルナフタレン一 2—ィル基、 6—クロロー 5—フル ォロナフタレン一 2—ィル基、 5—クロロー 6—フルォロナフ夕レン一 2—ィル
4— ( 2—フルォロビニル） フエニル基、 4一 （2—クロロビニル） フエニル基、 4— ( 2—ブロモビエル） フエニル基、 4一 （2 , 2—ジフルォロビニル） フエ ニル基、 4一 （2， 2—ジクロロビニル） フエニル基、 4一 （2， 2—ジブロモ ピニル） フエニル基、 4 - ( 1一メチル—2， 2—ジクロロビニル） フエニル基、 4— ( 1—メチル— 2， 2—ジブロビニル） フエニル基、 4一クロルェチニルフ ェニル基、 4一ブロムェチニルフエニル基、 4一ヨウドエチニルフエニル基、 4 ーメトキシメチルフエニル基、 4一エトキシメチルフエニル基、 4—プロピルォ キシメチルフエニル基、 4— ( 1—メトキシェチル） フエニル基、 - ( 2—メ トキシェチル） フエニル基、 4一 （2—メトキシプロピル） フエニル基、 4— ( 2 —メトキシイソプロピル） フエニル基、 4—フエノキシメチルフエニル基、 4— ( 1ーフエノキシェチル） フエニル基、 4一 （2—フエノキシェチル） フエニル 4
78
基、 4一 （1一フエノキシプロピル） フエニル基、 4一 （3—フエノキシプロピ ル） フエニル基、 4一 （4一フエノキシプチル） フエニル基、 4— (ヒドロキシ メチル） フエニル基、 4一 （1ーヒドロキシェチル） フエニル基、 4 - ( 2—ヒ ドロキシェチル） フエニル基、 4一 （1—ヒドロキシプロピル） フエニル基、 4 一 （1一ヒロロキシプチル） フエニル基、 4ーメチルスルホニルォキシメチル） フエニル基、 4ーェチルスルホニルォキシメチル） フエニル基、 4— ( 1—メチ ルスルホニルォキシェチル） フエニル基、 4一 （2—スルホニルォキシェチル） フエニル基、 4一 （1ーメチルスルホニルォキシプロピル） フエニル基、 4一力 ルポニルフエニル基、 4ーメチルカルポニルフエニル基、 4ーェチルカルポニル フエニル基、 4—プロピルカルボニルフエ二ル基、 4一イソプロピルカルボニル フエニル基、 4—メトキシィミノメチルフエニル基、 - ( 1—メトキシィミノ ェチル） フエニル基、 4— ( 1—メトキシィミノプロピル） フエニル基、 4 - ( 1 ーメトキシィミノブチル） フエニル基、 4一エトキシィミノメチルフエニル基、 4 - ( 1一エトキシイミノエチル） フエニル基、 4一プロポキシイミノメチルフ ェニル基、 4一 （1一イソプロポキシイミノエチル） フエニル基、 4一 （ブトキ シィミノメチルフエニル基、 4一ペンチルォキシィミノメチルフエニル基、 4一 ( 1一へキシルォキシイミノエチル） フエニル基、 4一べンジルォキシイミノメ チルフエニル基、 4 - ( 1一べンジルォキシイミノエチル） フエニル基、 4一 （1 —ベンジルォキシィミノプロピル） フエニル基、 4一 （1一べンジルォキシイミ ノブチル） フエニル基フエニル、 4ージメチルアミノィミノメチルフエニル基、 4一 （1ージメチルァミノイミノエチル） フエニル基、 4ージェチルァミノイミ ノメチルフエニル基、 4一 （1ージェチルァミノイミノエチル） フエニル基、 4 一卜リメチルシリルフエニル基、 4—トリェチルシリルフエニル基、 4一 t e r t一ブチルジメチルシリルフエニル基が挙げられる。 以下、 本発明を製造例、 製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、 本発明は、 これらの例のみに限定されるものではない。
まず、 本発明化合物の製造例を示す。
製造例 1
3— { 3—メトキシ一 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 2 0 0 m g、 4一クロ口ベンジルァミン 1 1 2 m g、 トリェチルァミン 0 . 1 7 m l及びテトラヒドロフラン 5 mlを混合し、 室温で 3 0分間攪拌した。 その 16294
79
後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5 %塩酸、 飽和炭 酸水素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥 した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 N— (4—クロ口べンジ ル） 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン アミド （以下、 本発明化合物 1と記す。） 2 1 2mgを得た。
本発明化合物 1
Figure imgf000081_0001
—NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.25-7.27 (2H, m), 7.05 (2H, d, J=8.2 Hz), 6.94 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.71-6.74 (2H, m), 5.59 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.5 Hz), 4.36 (2H, d, J=5.9 Hz)， 3.82 (3H, s), 2.94 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.45-2.52 (3H, m).
製造例 2
3— {3—メトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 2 0 Omgと 4—メチルベンジルァミン 9 9 mgとを用い製造例 1と同様に して N— (4—メチルベンジル） - 3 - {3—メトキシー 4一 (2—プロピニル ォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 2と記す。） 204mg を得た。
本発明化合物 2
Figure imgf000081_0002
Ή一 NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.11 (2H, d, J-8.0 Hz), 7.05 (2H, d, J=8.0 Hz), 6.94 (1H, d， J=8.0Hz), 6.71-6.75 (2H, m), 5.53 (1H， br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.36 (2H, d， J=5.5 Hz), 3.82 (3H, s), 2.94 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.46-2.50 (3H, m)， 2.32 (3H， s)
製造例 3
3— {3—メトキシー 4ー （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 20 Omg、 4一フルォロベンジルァミン 9 9mgとを用い製造例 1と同様 にして N— （4一フルォロベンジル） 一 3— {3—メトキシ— 4— (2—プロピ ニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 3と記す。） 0. 1 4
80
3 gを得た。
本発明化合物 3
Figure imgf000082_0001
lH-NMR (CDC13, TMS) d (ppm)： 7.09-7.23 (2H, m), 6.93-7.00 (3H, m)， 6.71-6.75 (2H, m), 5.57 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, ]=2Λ Hz), 4.36 (2H, d， J=5.8 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.94 (2H, t, J=7.5 Hz), 2: 48 - 2.52 (3H, m)
製造例 4
3 - { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 20 Omgと 4—ブロモベンジルァミン塩酸塩 176mgとトリェチルアミ ン 0.29ml及びテトラヒドロフラン 5mlを混合し、室温で 30分間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽 和炭酸水素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで 乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 N— (4—ブロモベ ンジル） —3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロ パンアミド （以下、 本発明化合物 4と記す。） 177mgを得た。
本発明化合物 4
Figure imgf000082_0002
一 NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.41 (2H, d, J=8 Hz), 7.00 (2H, d, J=8 Hz), 6.94 (1H， d, J=8.0 Hz)， 6.71-6.74 (2H, m), 5.59 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.34 (2H, d, J=5.8 Hz), 3.82 (3H, s), 2.94 (2H, t， J=7.5 Hz), 2.49-2.52 (3H, m)
製造例 5
3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} 一プロパン酸 塩化物 300mg、 4ーメトキシベンジルァミン 163mg、 トリェチルァミン 0. 25ml及びテトラヒドロフラン 10m lを混合し、 室温で 30分間攪拌し た。その後、反応混合物を水に加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を 5%塩酸、 飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウム で乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して N— （4—メトキシ ベンジル） — 3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プ 口パンアミド （以下、 本発明化合物 5と記す。） 28 0mgを得た。
本発明化合物 5
Figure imgf000083_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.08 (2H， d， J=8.5 Hz), 6.93 (1H, d， J=8.0 Hz), 6.83 (2H， d, J=8.5Hz)， 6.71-6.74 (2H, m)， 5.54 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2.5 Hz), 4.33 (2H, d, J=5.6 Hz), 3.82 (3H, s)， 3.79 (3H， s), 2.94 (2H, t, J=7.8 Hz), 2.46-2.49 (3H, m)
製造例 6
3— { 3—メトキシ一 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 300mgと 4一 （トリフルォロメチル） ベンジルァミン 2 0 8mgとを用 い製造例 5と同様にして N— {4- (トリフルォロメチル）ベンジル } - 3 - {3 ーメトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 6と記す。） 208mgを得た。
本発明化合物 6
Figure imgf000083_0002
Ή一 NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.54 (2H, d， J=8.0 Hz), 7.23 (1H, d, J=8.2 Hz)， 6.94 (2H, d, J=8.0Hz)， 6.71-6.75 (2H, m), 5.68 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.51 (2H, d, J=6.1 Hz), 3.81 (3H, s)， 2.96 (2H, t, J=7 Hz), 2.53 (2H, t, J=7 Hz), 2.49 (2H， t, J=2.4 Hz)
製造例 7
3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 3 0 Omgと 3， 4ージクロ口ベンジルァミン 209 mgとを用い製造例 5 と同様にして N— （3， 4ージクロ口ベンジル） 一 3— {3—メトキシー 4一 (2 一プロピエルォキシ）フエ二ル}プロパンアミド（以下、本発明化合物 7と記す。） 43 Omgを得た。
本発明化合物 7
Figure imgf000084_0001
Ή- NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.35 (1H， d, J=8.2 Hz)， 7.28 (1H， d， J=1.9 Hz), 6.93-6.99 (2H, m) , 6.71-6.74 (2H, m), 5.64 (1H， br.s), 4.73 (2H， d, J=2.4 Hz), 4.34 (2H, d, J=6.1 Hz), 3.83 (3H， s), 2.95 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.48-2.54 (3H, m)
製造例 8
3— {3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 30 Omgと 4_ t e r t—ブチルベンジルァミン 194mgとを用い製造 例 5と同様にして N— （4一 t e r t—ブチルベンジル） 一 3— { 3—メトキシ 一 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合 物 8と記す。） 51 lmgを得た。
本発明化合物 8
Figure imgf000084_0002
'H-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm): 7.33 (2H， d, J=8.5 Hz), 7.10 (2H， d, J=8.5 Hz), 6.94 (1H, d, J=8.0Hz), 6.71-6.75 (2H, m), 5.67 (1H, br.s), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.37 (2H， d, J=5.8 Hz), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.46-2.50 (3H, m)， 1.30 (9H, s)
製造例 9
3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 30 Omgと 4一 （トリフルォロメトキシ） ベンジルァミン 227mgとを 用い製造例 5と同様にして N— {4— (トリフルォロメトキシ） ベンジル } -3 ― {3—メトキシ一 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プロパンアミド （以 下、 本発明化合物 9と記す。） 209mgを得た。
本発明化合物 9
Figure imgf000084_0003
Ή - NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.12-7.17 (4H, m)， 6.95 (1H, d， J=8.0 Hz), 6.71-6.76 (2H, m), 5.63 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2. Hz), 4.40 (2H, d J=5.9 Hz), 3.83 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.6 Hz) 2.48-2.53 (3H, m)
製造例 10
3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 0. 20 gと 4—ジメチルァミノベンジルァミン塩酸塩 0. 27 gとトリエ チルァミン 0. 28mlとを用い製造例 5と同様にして N— (4—ジメチルアミ ノベンジル） 一 3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 10と記す。） 0. 40 gを得た。
本発明化合物 10
Figure imgf000085_0001
Ή -腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.03-7.06 (2H, m), 6.93 (1H d J=8.0 Hz), 6.65-6.76 (4H, m)， 5.46 (1H, br.s), 4.72 (2H, d, J=2.4Hz), 4.29 (2H, d J=5.5 Hz), 3.83 (3H, s)， 2.89-2.95 (8H m), 2.43-2.49 (3H m)
製造例 1 1
3 - {3—エトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 0. 81 g 4—クロ口ベンジルァミン 0. 46 g、 トリエヂルァミン 0. 64ml及びテトラヒドロフラン 10ml とを混合し、 室温で 20分間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽 和炭酸水素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで 乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラムで精製して、 N— (4- クロ口ベンジル） 一 3— { 3—エトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二 ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 1 1と記す。） 0. 79 gを得た。 本発明化合物 1 1
Figure imgf000085_0002
Ή_舰 (CDC13, TMS) 8 (ppm)： 7.24-7.26 (2H, m)， 7.04-7.06 (2H, m), 6.95 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.70-6.74 (2H, m), 5.60 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.35 (2H, d J=5.8Hz)， 4.02 (2H, q, J=7Hz), 2.92 (2H, t, J=7.5Hz), 2.27-2.51 (3H, i), 1.42 (3H, t, J=7 Hz) 二 2口 一 S) — ー 一ε} - £-
Figure imgf000086_0001
M ^^ ( ^ ニ3ロ。乙—2) -^-^ ^-ε} 一 ε
τ m
(ω '朗 6ΑΊ-9ΓΪ ' ¾g) -^ '(ω ¾ ) Wl-^'l '(^H 8"Ζ=Γ 'Μ) wz c(s ε) ss's '( 's=i 'p ¾z) εε· '(ZH s'g=r 'p Έζ) ΖΙ '(nq
Ήΐ) ·3 '(ιπ ' Ζ) 9 ·9- ·9 ' 'Η ) 207-68.9 ： (讓) 9 (SW1 <ε10α3) 濯-
Figure imgf000086_0002
つ s i ·ο C^B^^ T ^Wa¾* 、土 ）
^ < n0 ΜΓΤェ （4ψ^ ニ 口/:一 s) _ ー^^4^— ε} — ε— τ
Figure imgf000086_0003
^ {Λ( ^-ζ-ΚΛ^^ ^ ^ -^-^ 'z '9 ' 9 ) ？ s o ε -o ^ si a0 ニエ^ (^^^ (-? — ー^ Ψ4^—ε} — ε ε τ
(in Ή8) 'Ζ-^'Ζ '(ZH 9·Α=ί Ί 'ΗΖ) 96 '（s ¾ε) '(ΖΗ 6"9-Γ 'Ρ ) S9 - '(ΖΗ Ζ'Ζ=ί 'ΗΖ) 69 'f
'(s'Jq 'ΗΪ) Z'S '(ω 'ΗΖ) S6'9— "·9 '(ω Ήΐ) 06 ·9 - 68 ·9 '(ω 'ΗΙ) 6Ζ·Ζ_6Ζ ·Ζ '(«ι 01 'Μ) Ί- Ί '(s Ήΐ) 09· '(in Ή2) Z 'L-9fL ： ( ) S (置 iSI3a3)漏 -H,
Figure imgf000086_0004
ζ τ ^ ^ 口。乙
Figure imgf000086_0005
襯く v口 w-^ {^^(- \ a -z) -^-^Φ4^-ε} 一 ε
ζ τ m η
^i omoldT/lDd S898画 ΟΛ\ 03016294
85
ルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 14と記す。） 0. 4
0 gを得た
本発明化合物 14
Figure imgf000087_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ ( pm)： 7.08-7.15 (4H, m), 6.94 (1H, d, J=8.1 Hz), 6.72-6.75 (2H， m)， 5.55 (1H, br. s), 4.73 (2H, d, J=2.2 Hz), 4.37 (2H， d, J=5.6 Hz), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H， t， J=7.3 Hz), 2.63 (2H, q, J=7 Hz), 2.47-2.50 (3H, m), 1.22 (3H, t, J=7 Hz)
製造例 15
3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 1. 1 gと 4ーョウドベンジルァミン 1. 0 g、 トリェチルァミン 0. 98 m 1及びテトラヒドロフラン 20 mlを混合し、室温で 30分間攪拌した。その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出レた。 有機層を 5%塩酸、 飽和炭酸水 素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した 後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 N— （4ーョウドベンジル） —3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミ ド （以下、 本発明化合物 1 5と記す。） 1. 5 gを得た。
本発明化合物 15
Figure imgf000087_0002
Ή -蘭 R (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.60-7.62 (2H, m), 6.93 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.86-6.89 (2H, m), 6.70-6.74 (2H, m), 5.61 (1H, br.s), 4.77 (2H, d, J=2.5 Hz), 4.32 (2H, d, J=6.1 Hz), 3.82 (3H, s), 2.94 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.48-2.52 (3H, m)
製造例 16
3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 0. 50 gと 4—ブチルベンジルァミン 0. 32 g、 トリェチルァミン 0. 4 lml及びテトラヒドロフラン 1 5mlを混合し、 室温で 30分間攪拌した。 そ の後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽和 P T/JP2003/016294
86
炭酸水素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾 燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 N— （4一ブチルベン ジル） 一 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパ ンアミド （以下、 本発明化合物 1 6と記す。） 0. 6 0 gを得た。
本発明化合物 1 6
Figure imgf000088_0001
¾-N R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.06-7.12 (4H, m)， 6.94 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.71-6.75 (2H, m), 5.59 (1H， br.s), 4.73 (2H, d， J=2.4Hz), 4.36 (2H, d, J=5.5 Hz), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.58 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.46-2.50 (3H, 1), 2.46-2.50 (3H, m), 1.53-1.61 (2H, m), 1.30-1.39 (2H, m)， 0.92 (3H, t, J=7.3 Hz)
製造例 1 7
3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 0. 3 0 gと 3—フルオロー 4—メチルベンジルァミン 0. 1 7 gとトリエ チルァミン 0. 2 5m 1とを用い製造例 1 1と同様にして N— （3—フルオロー 4一メチルベンジル） 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フ ェニル } プロパンアミド （以下、 本発明化合物 1 7と記す。） 0.. 34 gを得た。 本発明化合物 1 7
Figure imgf000088_0002
'H-N R (CDC", TMS) δ (ppm)： 7.09 (1H, t, J=7.8 Hz), 6.94 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.70-6.83 (4H, m)， 5.58 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.2Hz), 4.35 (2H, d, J=5.8 Hz), 3.83 (3H, s)， 2.95 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.48-2.53 (3H, m), 2.24 (3H, s) 製造例 1 8
3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 0. 5 0 g、 3—フルオロー 4一（トリフルォロメチル）ベンジルァミン 0. 50 g、トリェチルァミン 0.41m l及びテトラヒドロフラン 1 0mlを混合し、 室温で 30分間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出し た。 有機層を 5 %塩酸、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗 JP2003/016294
87
浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄 して、 N— { 3—フルオロー 4一 （トリフルォロメチル） ベンジル } 一 3— {3 ーメ卜キシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 18と記す。） 0 · 73 gを得た。
本発明化合物 18 "
Figure imgf000089_0001
lH-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.51 (IH, t, J=7.7 Hz), 6.94-7.01 (3H, m), 6.72-6.74 (2H, m), 5.71 (IH, br.s), 4.73 (2H, d， J=2. Hz), 4.43 (2H， d， J=6.3 Hz), 3.83 (3H, s)， 2.96 (2H, t， J=7.5 Hz), 2.55 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.48 (IH, t, J=2.4 Hz)
製造例 19
3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 0. 5 gと 4—クロロー 3— (トリフルォロメチル） ベンジルァミン 0. 4 2 gとトリエチルァミン 0. 42mlとを用い製造例 18と同様にして N— {4 一クロロー 3— (トリフルォロメチル） ベンジル }} 一 3— {3—メトキシ一 4一 (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 19 と記す。） 0. 76 gを得た。
本発明化合物 19
Figure imgf000089_0002
¾-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.53 (IH, d， J=2.2 Hz), 7.42 (1H， d, J=8.2 Hz), 7.20-7.22 (IH, m) , 6.94 (1H， d， J=7.8 Hz)， 6.71-6.74 (2H， m)， 5.69 (IH, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz)， 4.41 (2H， d， J=5.8 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.95 (2H， t, J=7.5 Hz), 2.53 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.49 (2H, t, J=2.4 Hz)
製造例 20
3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 50 g、 （インダン— 5—ィル） メチルァミン塩酸塩 0. 36 g、 トリエ チルァミン 0. 8ml及ぴテトラヒドロフラン 20mlを混合し、 室温で 20分間 攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を 5 % T/JP2003/016294
88
塩酸、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネ シゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 N— { (イン ダン一 5—ィル） メチル } -3- {3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル}プロパンアミド（以下、本発明化合物 20と記す。） 0. 34 gを得た。 本発明化合物 20
Figure imgf000090_0001
Ή -腿 (CDC13， TMS) 8 (ppm)： 6.71-7.16 (6H， m), 5.54 (1H, br.s), 4.72 (2H, m), 4.36 (2H, d, J=4.6 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.65-2.94 (6H, m), 2.48 (3H, m), 2.04-2.08 (2H， m)
製造例 2 1
3— （3， 4ージメトキシフエ二ル) プロパン酸塩化物 0. 3 O gと 4一クロ 口ベンジルァミン 0. 19 gとを用い製造例 5と同様にして N— (4—クロ口べ ンジル） 一 3—（3， 4ージメトキシフエ二ル）プロパンアミド （以下、 本発明化 合物 21と記す。） 0. 32 gを得た。
本発明化合物 21
Figure imgf000090_0002
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.24-7.27 (2H, m), 7.05-7.07 (2H, m)， 6.70-6.77 (3H, m), 5.61 (1H, br.s), 4.36 (2H, d, J=5.9 Hz), 3.86 (3H, s), 3.84 (3H， s), 2.94 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.50 (2H, t， J=7.6 Hz)
製造例 22
3- (3, 4—ジメトキシフエ二ル） プロパン酸塩化物 0. 30 g、 C— (5, 6, 7， 8—テトラヒドロナフタレンー2—ィル） メチルァミン塩酸塩 0. 25 g、 トリェチルァミン 0. 40ml及びテトラヒドロフラン 1 Omlを混合し、 室 温で 20分間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5 %塩酸、飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 N- {(5, 6， 7, 8テトラヒドロナフタレン一 2—ィル） メチル }一 3— (3, 4—ジメトキシフエ二ル）プロパンアミド（以下、本発明化合物 22と記す。） 0. 35 gを得た。 .
本発明化合物 22
Figure imgf000091_0001
ΐ-NMR (CDC13，.TMS) δ (ppm)： 7.00 (1H, d, J=8.3 Hz), 6.89 (2H, m), 6.72-6.79 (3H, m), 5.51 (1H, br.s), 4.33 (2H, d, J=5.4 Hz)， 3.85 (3H, s), 3.84 (3H, s)， 2.94 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.73 (4H, m), 2.47 (2H, t, J=7.6 Hz), 1.78 (4H, m)
製造例 23
N— (4—メチルベンジル） 一3— (4—ヒドロキシ— 3—メトキシフエニル） プロパンアミド 30 Omg、 ヨウ化メチル 0. 075m 1、 炭酸カリウム 0. 2 1 g及び Ν,Ν—ジメチルホルミアミド 5mlとを混合し、室温で 6時間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽 和炭酸水素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで 乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 N— （4一メチルベ ンジル） _3— （3， 4—ジメトキシフエ二ル） プロパンアミド （以下、 本発明 化合物 23と記す。） 226mgを得た。
本発明化合物 23
Figure imgf000091_0002
¾-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.10 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.05 (2H, d, J=8.0 Hz), 6.70-6.78 (3H, m), 5.53 (1H, br. s), 4.35 (2H, d， J=5.6 Hz), 3.85 (3H, s), 3.83 (3H, s)， 2.94 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.48 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.32 (3H， s) 製造例 24
N— （4一メチルベンジル） —3— （4ーヒドロキシー 3—メトキシフエニル） プロパンアミド 30 Omgとヨウ化工チル 0. 1mlとを用い製造例 23と同様 にして N— (4—メチルベンジル） 一 3— （4一エトキシー 3—メトキシフエ二 ル） プロパンアミド （以下、 本発明化合物 24と記す。） 225mgを得た。 本発明化合物 24
Figure imgf000092_0001
Ή-NMR (CDC", TMS) δ (ppm)： 7.10 (2H, d， J=8.0 Hz), 7.05 (2H, d, J=8.0 Hz), 6.68-6.78 (3H, m), 5.53 (1H, br.s), 4.35 (2H, d, J=5.5 Hz)4.07 (2H, q， J=7.0 Hz), 3.80 (3H, s), 2.93 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.48 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.32 (3H, s)， 1.45 (2H, t, J=7.0 Hz)
製造例 25
N— （4一メチルベンジル） — 3— （4ーヒドロキシー 3—メトキシフエ二ル） プロパンアミド 3 0 Omgとヨウ化プロピル 0. 1 2m lとを用い製造例 2 3と 同様にして N— （4一メチルベンジル） — 3— (3—メトキシー 4一プロポキシ フエニル）プロパンアミド（以下、本発明化合物 2 5と記す。） 26 2mgを得た。 本発明化合物 2 5
Figure imgf000092_0002
Ή—NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.11 (2H， d, J=8.1 Hz), 7.05 (2H， d, J=8.0 Hz), 6.69-6.78 (3H, m)， 5.54 (1H, br.s), 4.35 (2H， d, J=5.6Hz), 3.95 (2H, t, J=6.8 Hz), 3.83 (3H， s), 2.93 (2H， t, J=7.6 Hz), 2.48 (2H, t， J=7.6 Hz)， 2.32 (3H, s), 1.83-1.89 (2H, m)1.03 (2H, t, J=7.6 Hz)
製造例 26
N— （4一メチルベンジル） — 3— (4—ヒドロキシ— 3—メトキシフエ二ル） プロパンアミド 3 0 Omg、 臭化ァリル 0. 1 04m 1、 炭酸カリウム 0. 2 1 g及び N， N—ジメチルホルミアミド 5m lを混合し、 60°Cで 6時間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽 和炭酸水素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで 乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 N— （4—メチルベ ンジル） 一 3 _ { 3—メトキシー 4— (2—プロべニルォキシ） フエ二ル} プロ パンアミド （以下、 本発明化合物 2 6と記す。） 3 6 6mgを得た。
本発明化合物 2 6
Figure imgf000093_0001
lH -腿 (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.10 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.05 (2H, d, J=8.0 Hz), 6.68-6.83 (3H, m), 6.02-6.12 (1H, m), 5.54 (1H, br.s), 5.39 (2H, d， J=17.2 Hz), 5.27 (2H, d， J=10.5Hz), 4.57 (2H, d, J=5.3 Hz), 4.35 (2H, d, J=5.5 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.93 (2H, t, J=7.8 Hz), 2.47 (2H, t, J=7.8 Hz), 2.32 (3H, s) 製造例 27
N- (4一メチルベンジル) —3— （4ーヒドロキシ— 3—メトキシフエニル） プロパンアミド 0. 30 gと 1—ブロモー 2—ブチン 0. 1 1mlとを用い製造 例 23と同様にして N— (4—メチルベンジル） 一 3— {3—メトキシ一 4— (2 一プチニルォキシ） フエ二ル}プロパンアミド（以下、本発明化合物 27と記す。） 0. 31 gを得た。
本発明化合物 27
Figure imgf000093_0002
ー應 R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.04-7.12 (4H, m), 6.92 (1H， d, J=7.8 Hz), 6.71-6.73 (2H, m), 5.53 (1H, br.s), 4.68 (2H, d, J=2.2Hz)， 4.36 (2H, d, J=5.6 Hz), 3.82 (3H, s), 2.94 (2H, t, J=7.8 Hz), 2.48 (2H, t, J=7.8 Hz), 2.33 (3H, s), 1.84 (3H, t, J=2.2 Hz)
製造例 28
1一メチル一 2—プロピノール 0. 1 1 g、 塩ィ匕メタンスルホニル 0. 1 1m 1、 トリェチルァミン 0. 28ml及びテトラヒドロフラン 3mlを混合し、 室 温で 30分攪拌した。 その後、 反応混合物に酢酸ェチルを加えて濾過した。 濾液 を減圧下濃縮して得られた残渣と、 N— （4一メチルベンジル） 一 3— (4—ヒ ドロキシー 3—メトキシフエ二ル）プロパンアミド 0. 30 g、炭酸カリウム 0. 2 1 及び1^, N—ジメチルホルミアミド 5mlを混合し、 60°Cで 6時間攪拌 した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩 酸、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシ ゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラムで精製して、 N— (4一メチルベンジル） —3— { 3—メトキシー 4一 （1一メチル—2—プロピ JP2003/016294
92
ニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 28と記す。） 0 16 gを得た。
本発明化合物 28
Figure imgf000094_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ ( pm)： 6.98-7.12 (4H, i), 6.82 (1H, d, J=7.8 Hz), 6.66-6.74 (2H, m), 5.54 (1H, br.s), 4.84-4.87 (1H， m), 4.35 (2H, d, J=5.5 Hz), 3.83 (3H, s)， 2.92 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.43-2.50 (2H, m), 2.32 (3H, s), 2.17 (3H, s), 1.69 (1H, d, J=6.6 Hz)
製造例 29
N— （4—トリフルォロメチルベンジル） 一 3— {3—メトキシー 4一 (2 - プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 1. 4g、 口一ソン試薬 1. 6 g 及びテトラヒドロフラン 2 Omlを混合し、 65°Cで 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物を冷却し、 水を加え酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 3%水酸化ナ卜 リウム水、 5%塩酸、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄 し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム で精製して、 N— (4—トリフルォロメチルベンジル） —3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピ,ニルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以下、 本発明化 合物 29と記す。） 1. 3 gを得た。
本発明化合物 29
Figure imgf000094_0002
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.56 (2H, d, J=8 Hz), 7.19 (2H， d， J=8 Hz), 7.12 (1H, br.s), 6.93 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.72-6.76 (2H, m), 4.81 (2H, d， J=5.3 Hz), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 3.81 (3H, s), 3.11 (2H, t， J=6.8 Hz), 2.97 (2H, i, J=6.8 Hz), 2.47 (1H, t, J=2. Hz)
製造例 30
N— (4—クロ口ベンジル） —3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォ キシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 59 g、 ローソン試薬 0. 67 g及びテト ラヒドロフラン 1 Omlを混合し、 65°Cで 3時間攪拌した。 その後、 反応混合 03016294
93
物を冷却し、 減圧下濃縮した。 残渣に水を加え酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 3 %水酸化ナトリウム水、 5 %塩酸、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食 塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシ リカゲルカラムで精製して、 N— (4—クロ口ベンジル） 一 3— { 3—メトキシ —4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以下、 本発明 化合物 3 0と記す。） 0. 5 9 gを得た。
本発明化合物 30
Figure imgf000095_0001
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.26-7.29 (2H, m)， 6.99-7.06 (3H, m), 6.92 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.70-6.75 (2H, m), 4.73 (2H, d, 1=2 Hz), 4.70 (2H， d, J=5.3 Hz), 3.82 (3H, s)， 3.09 (2H， t， J=7. Hz), 2.97 (2H, t， J=7.2 Hz), 2.49 (1H, t， J=2 Hz)
製造例 3 1
N- (3， 4ージクロ口ベンジル) — 3— {3—メトキシ一 4一 （2—プロピ ニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 40 g、 ローソン試薬 0. 4 5 g及 びテトラヒドロフラン 1 5m lを混合し、 6 5°Cで 3時間攪拌した。 その後、 反 応混合物を冷却し、 水を加え酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5 %塩酸、 飽和炭 酸水素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥 した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラムで精製して、 N— (3, 4- ジクロロベンジル） 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ 二ル}プロパンチォアミド（以下、本発明化合物 3 1と記す。） 0. 42 gを得た。 本発明化合物 3 1
Figure imgf000095_0002
Ή -蘭 (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.34 (1H, d, 8.2 Hz)， 7.28 (1H, d, J=2.2 Hz), 7.12 (1H, br.s), 6.89-6.99 (2H, m)， 6.71-6.75 (2H, m)4.70-4.73 (4H, 1) , 3.82 (3H， s)， 3.09 (2H， t, J=7.5 Hz), 2.96 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.49 (1H, t, J=2.1 Hz)
製造例 3 2 94
N- (4—メチルベンジル） — 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォ キシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 40 g、 ローソン試薬 0. 53 g及びテト ラヒドロフラン 1 0m lを混合し、 6 5°Cで 3時間攪拌した。 その後、 反応混合 物を冷却し、 減圧下濃縮した。 残渣に水を加え酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5 %塩酸、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マ グネシゥムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムで精製して、 N— (4—メチルベンジル） — 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキ シ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以下、 本発明化合物 32と記す。） 0. 3 8 gを得た。
本発明化合物 3 2
Figure imgf000096_0001
Ή一 MR (CDClj, TMS) δ ( pm)： 7.12 (2H, d, J=7.8 Hz), 6.91-7.02 (3H, m), 6.92 (1H， d, J=8.2 Hz), 6.75 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.72 (1H, dd, J=8.2 Hz, 1.9 Hz), 4.72 (2H, d, J=2 Hz), 4.66 (2H, d, J=4.8Hz)， 3.82 (3H, s), 3.08 (2H， t, J=7.2 Hz), 2.97 (2H, t, 1=1.2 Hz), 2.48 (1H， t, J=2 Hz), 2.33 (3H, s) 製造例 3 3
N— {(ナフ夕レンー2—ィル） メチル } 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プ ロビニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 6 1 gとローソン試薬 745m gとを用い製造例 3 2と同様にして N— { (ナフタレン— 2—ィル） メチル } - 3 一 { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンチォアミ ド （以下、 本発明化合物 33と記す。） 0. 38 gを得た。
本発明化合物 3 3
Figure imgf000096_0002
Ή-腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 8.7—8.9 (3H, m), 7.60 (1H, s), 7.4-7.6 (2H, m)， 7.20 (1H， dd, J=8.5 Hz, 1.7 Hz), 7.15 (1H, br), 6.88 (1H, d， J=8.0 Hz), 6.77 (1H, d， J=1.9 Hz), 6.72 (1H, dd, J=8.2 Hz, 1.8 Hz), 4.88 (2H, d, J=5.1 Hz), 4.67 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.80 (3H, s)， 3.10 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.96 (2H, t, 1=1.2 Hz), 2.44 (1H, t， J=2.4 Hz) 製造例 34
3— （3， 4—ジメトキシフエニル） プロパン酸塩化物 686mgと 4ーメト キシ _ 3—メチルベンジルァミン塩酸塩 563mgとトリエチルァミン 758m gとを用い製造例 4と同様にして N— （4—メトキシー 3—メチルベンジル） 一 3— （3， 4ージメトキシフエ二ル） プロパンアミド （以下、 本発明化合物 34 と記す。） 90 Omgを得た。
本発明化合物 34
Figure imgf000097_0001
¾-N R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.9-7.0 (2H, m), 6.7-6.8 (4H, m), 5.49 (1H， br), 4.30 (2H, d， J=5.6 Hz), 3.84 (3H, s), 3.83 (3H, s)， 3.80 (3H, s)， 2.93 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.46 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.18 (3H, s)
製造例 35
N— （4一メチルベンジル） 一 3— （4—ヒドロキシ— 3—メトキシフエ二ル） プロパンアミド 0. 30 gとクロルァセトニトリル 0. 08mlとを用い製造例 23と同様にして N— （4一メチルベンジル） —3— { 3—メトキシ— 4—シァ ノメトキシフエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 35と記す。） 0. 1 9 gを得た。
本発明化合物 35
Figure imgf000097_0002
lH-NMR (CDCI3, TMS) 6 (ppm): 7.09-7.12 (4H, m), 6.96 (1H， d, J=8.2 Hz), 6.73-6.80 (2H， m)， 5.59 (1H, br.s), 4.78 (2H, s)， 4.47 (2H， d， J=5.5 Hz)， 3.83 (3H, s)， 2.96 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.48 (2H, t)
製造例 36
3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 1. O gと 4ーメトキシカルボ二ルペンジルァミン塩酸塩 0. 90 gを用い 製造例 18と同様にして N— （4ーメトキシカルポ二ルペンジル） 一 3— {3— メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本 発明化合物 36と記す。） 0. 82 gを得た。 本発明化合物 36
Figure imgf000098_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.94-7.97 (2H, m), 7.12-7.21 (2H， m)， 6.94 (1H, d, J=8.0 Hz)， 6.71-6.75 (2H, m)， 5.48 (1H, br.s), 4.73 (2H， d， J=2.4 Hz), 4.46 (2H， d, J=6.0 Hz), 3.91 (3H， s), 3.82 (3H, s)， 2.96 (2H, t, J=7. Hz), 2.47-2.55 (3H, m)
製造例 3 7
3 - { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 ィ匕物 8 84mg、 4—フエニルベンジルァミン 64 lmg、 トリェチルァミン 5 3 Omgおよびテトラヒドロフラン 1 Omlを混合し、 室温で 1時間攪拌した。 そ の後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽和 重曹水および飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下 濃縮した。残渣をへキサンで洗浄して、 N— (4—フエ二ルペンジル) — 3— { 3 ーメトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 37と記す。） 1. 00 gを得た。
本発明化合物 3 7
Figure imgf000098_0002
Ή -腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.50-7.60 (4H, m), 7.40-7.47 (2H， m), 7.31-7.38 (1H, m)， 7.22 (2H, d, J=8.3 Hz), 6.94 (1H, d, J=7.8 Hz), 6.71-6.77 (2H, m), 5.63 (1H, br.s), 4.72 (2H， d, J=2.2 Hz), 4.44 (2H, d, J=5.8 Hz), 3.81 (3H， s), 2.96 (2H, t, J=7.5 Hz)， 2.52 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.45 (1H， t, J=2. Hz) 製造例 3 8
製造例 3 7と同様の方法で 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 8 84mgおよび 3—クロロー 4ーメチルーベンジ ルァミン 544mgから、 N— （3—クロ口一 4—メチルベンジル） 一 3— { 3 ーメトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 38と記す。） 1 0 Omgを得た。
Figure imgf000099_0001
lH -匪 R (CDC13, TMS) d (ppm)： 7.18 (1H, d， J=1.7 Hz), 7.14 (1H, d, J=7.7 Hz), 6.91-6.96 (2H, m), 6.70-6.75 (2H, m), 4.73 (2H, d， J=2. Hz)5.57 (1H, br.s), 4.34 (2H, d, J=5.8 Hz), 3.82 (3H, s), 2.94 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.45-2.53 (3H, m)， 2.34 (3H， s)
製造例 3 9
製造例 3 7と同様の方法で 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 8 84mgおよび 3—クロロー 4一フルォロベンジ ルァミン 5 5 9mgから N— （3—クロロー 4一フルォロベンジル） 一 3— { 3 ーメトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 3 9と記す。） 1. 03 を得た。
本発明化合物 39
Figure imgf000099_0002
≡CH
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.21-7.26 (2H, m), 6.92-7.10 (3H, m), 6.70-6.76 (2H, m), 5.63 (1H, br.s), 4.73 (2H， d, J=2.4 Hz), 4.34 (2H, d, J=5.8 Hz), 3.83 (3H， s), 2.95 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.51 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.48 (1H, t, J=2.2 Hz)
製造例 40
N— （5, 6， 7, 8—テトラヒドロナフタレン一 2—ィルメチル） 一 3— { 3 ーメトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 6 3 7m g、ローソン試薬 76 9mgおよびテトラヒドロフラン 1 Om lを混合し、 6 5V で 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物を冷却し、 減圧下濃縮した。 残渣に水を 加え酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽和重曹水および飽和食塩水で 順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲ ルカラムで精製して、 N— （5， 6， 7, 8—テトラヒドロナフタレン一 2—ィ ルメチル） 一 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プ 口パンチオアミド （以下、 本発明化合物 40と記す。） 3 94mgを得た。 本発明化合物 40
Figure imgf000100_0001
Ή - NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 6.91-7.03 (3H， m)， 6.85 (2H, d, J=7.5 Hz), 6.76 (1H, d， J=2.0 Hz), 6.72 (1H， dd, J=8.1 Hz， 2.0 Hz), 4.72 (2H, d, J=2.2 Hz), 4.62 (2H, d, J=4.6 Hz), 3.82 (3H, s), 3.08 (2H， t, J=7.3 Hz), 2.91 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.69-2.77 (4H, m), 2.48 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.75-1.81 (4H, in) 製造例 41
製造例 3 7と同様の方法で 3— {3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 8 84mgおよび 4ージフルォロメトキシベンジル. ァミン 6 0 6mgから N— （4—ジフルォロメトキシベンジル） 一 3— { 3—メ トキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発 明化合物 4 1と記す。） 70 Omgを得た。
本発明化合物 41
Figure imgf000100_0002
CH Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.12 (2H, d, J=8.4 Hz), 7.03 (2H, d, J=8. Hz), 6.93 (1H, d, J=7.7 Hz), 6.70-6.75 (2H, m)， 6.49 (1H, t， J=73 Hz), 5.59 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.2 Hz), 4.37 (2H, d, J=5.8 Hz), 3.81 (3H, s), 2.94 (2H， t， J=7.5 Hz), 2.46-2.54 (3H, m)
製造例 42
製造例 3 7と同様の方法で、 3— { 3—エトキシー 4一 （2—プロピニルォキ シ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 0. 9 3 g、 4—メチルベンジルァミン 0. 4 2 gからN— （4—メチルベンジル） 一 3— { 3—エトキシー 4一 （2—プロピ ニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 42と記す。） 1. 02 gを得た。
本発明化合物 42
Figure imgf000100_0003
¾-N R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.03-7.12 (4H, m), 6.94 (1H， d, J=8.2 Hz), 6.74 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.70 (1H, dd, J=2.1 Hz, 8.2 Hz), 5.53 (1H, br.s), 4.72 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.35 (2H, d, J=5.5 Hz), 4.03 (2H, q, J=7.0 Hz), 2.92 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.45-2.50 (3H, m), 2.32 (3H, s), 1.42 (3H, t， J=7.0 Hz) 製造例 43
製造例 3 7と同様の方法で、 3— { 3—エトキシー 4一 （2—プロピエルォキ シ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 0. 9 3 g、 3, 4ージクロルベンジルァミン 0. 6 28から ー (3, 4ージクロルベンジル） — 3— { 3—エトキシ一 4一
(2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 43 と記す。） 1. 34 gを得た。
本発明化合物 43
Figure imgf000101_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) 6 (ppm)： 7.27-7.37 (2H， m), 6.92-6.98 (2H， m), 6.68-6.75 (2H, m)， 5.62 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.34 (2H, d, J=6.0 Hz), 4.03 (2H, q, J=7.0 Hz), 2.93 (2H， t， J=7.2 Hz), 2.45-2.55 (3H, m)， 1.42 (3H, t， J=7.0 Hz)
製造例 44
製造例 40と同様の方法で、 N— （インダン— 5—ィルメチル） 一 3— {3 - メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 5 0 Omg およびローソン試薬 6 2 7mgから N— (インダン一 5—ィルメチル）— 3— { 3
—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以 下、 本発明化合物 44と記す。） 3 5 Omgを得た。
本発明化合物 44
Figure imgf000101_0002
¾-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.16 (1H, d, J=7.7 Hz), 6.86-7.10 (4H, m)， 6.75 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.72 (1H, dd, J=8.2 Hz, 1.9 Hz), 4.72 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.65 (2H, d, J=4.8 Hz)， 3.81 (3H, s), 3.08 (2H, t, J=7.4 Hz), 2.84-2.95 (6H， m), 2.47 (1H, t, J=2A Hz), 2.01-2.11 (2H, m) 製造例 45
製造例 40と同様の方法で N— （4一フエ二ルペンジル） 一 3— { 3—メトキ シー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 50 Omgおよび ローソン試薬 57 lmgから N— (4—フエ二ルペンジル） ー3— {3—メトキ シー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以下、 本発 明化合物 45と記す。） 314mgを得た。
本発明化合物 45
Figure imgf000102_0001
Ή -應 R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.52-7.58 (4H, m), 7.40-7.46 (2H, m), 7.33-7.37 (1H, m), 7.15-7.23 (3H， m), 6.92 (1H, d, J=8.1 Hz), 6.71-6.77 (2H, m), 4.76 (2H， d, J=5.1 Hz), 4.70 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.79 (3H, s), 3.09 (2H, t， J=7.2 Hz), 2.94 (2H， t, J=7.2 Hz), 2.44 (1H, t， J=2.4 Hz)
製造例 46
3— {3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 50 g、 4一二トロベンジルァミン 0. 39 g、 トリェチルァミン 0. 69mlおよびテトラヒドロフラン 1 Oml.を混合し、 室温で 1時間攪拌した。 そ の後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽和 重曹水および飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下 濃縮した。 残渣をシリカゲルカラムで精製して、 N— (4—二トロベンジル） 一 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド (以下、 本発明化合物 46と記す。） 0. 32 gを得た。
本発明化合物 46
Figure imgf000102_0002
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm): 8.12-8.15 (2H， m), 7.25-7.28 (2H, m), 6.96 (1H, d, J=7.1 Hz), 6.72-6.75 (2H, m), 5.72 (1H, br.s), 4.75 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.49 (2H, d, J=6.3 Hz), 3.83 (3H, s), 2.96 (2H， t, J=7.5 Hz), 2.56 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.50 (1H, t, J=2.4 Hz)
製造例 47 3— (3， 4ージメトキシフエ二ル） プロパン酸塩化物 0. 50 g、 4一二ト 口ベンジルァミン 0. 43 g、 トリェチルァミン 0. 7 lm lおよぴテトラヒド 口フラン 10mlを混合し、 室温で 1時間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加 え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽和重曹水および飽和食塩水で 順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲ ルカラムで精製して、 N— (4—ニトロベンジル） 一 3— (3， 4ージメトキシ フエニル）プロパンアミド（以下、本発明化合物 47と記す。） 0. 30 gを得た。 本発明化合物 47
Figure imgf000103_0001
¾-NMR (CDC", TMS) δ (ppm)： 8.10-8.12 (2H, m), 7.24-7.26 (2H, m), 6.73-6.78 (3H, m), 5.78 (1H, br.s), 4.49 (2H, d, J=5.8 Hz), 3.86 (3H, s)， 3.84 (3H, s)， 2.96 (2H， t, J=7.2 Hz), 2.55 (2H, t, J=7.2 Hz)
製造例 48
製造例 40と同様の方法で N—（3—クロロー 4 _メチルベンジル）— 3— {3 ーメトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 560m gおよびローソン試薬 683mgから N— （3—クロ口一 4—メチルベンジル） 一 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンチォ アミド （以下、 本発明化合物 48と記す。） 338mgを得た。
本発明化合物 48
Figure imgf000103_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (卿）: 7.13-7.18 (2Η, m), 7.05 (1H, br.s), 6.86-6.95 (2H， m), 6.70-6.76 (2H, m), 4.72 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.67 (2H, d, J=5.3 Hz), 3.82 (3H, s), 3.08 (2H, t, J=7.0 Hz), 2.93 (2H, t， J=7.0 Hz), 2.47 (1H, t, J=2.1 Hz), 2.34 (3H, s)
製造例 49
製造例 40と同様の方法で N— （3—クロロー 4一フルォロベンジル） 一 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 50 Omgおよび口一ソン試薬 384mgから N— ( 3—クロ口一 4—フルォロベン P T/JP2003/016294
102
ジル） 一 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパ ンチオアミド （以下、 本発明化合物 49と記す。） 345mgを得た。
本発明化合物 49
Figure imgf000104_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.23 (IH, dd, J=7.0Hz, 2.0Hz), 7.19 (1H， br.s), 7.07 (IH, t, J=8.6 Hz), 6.90-6.97 (2H, m), 6.75 (1H， d, J=1.7 Hz), 6.72 (IH, dd, J=8.0 Hz, 1.9 Hz), 4.72 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.70 (2H, d, J=5.3 Hz), 3.81 (3H， s)， 3.08 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.94 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.48 (IH, t， J=2.4 Hz)
製造例 50
製造例 40と同様の方法で N—（4ージフルォロメトキシベンジル）— 3— {3 ーメトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 550m gおよびローソン試薬 408mgから N— (4—ジフルォロメトキシベンジル） 一 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチォ アミド （以下、 本発明化合物 50と記す。） 483mgを得た。
本発明化合物 50
Figure imgf000104_0002
■H-NMR (CDC13, TMS) 6 (ppm)： 7.24 (IH, br.s), 7.01-7.12 (4H, m), 6.91 (IH, d, J=8.0 Hz), 6.71-6.74 (2H, ra), 6.52 (IH, t， J=74 Hz), 4.67-4.73 (4H, m), 3.78 (3H, s), 3.07 (2H, t, J=7.0 Hz), 2.93 (2H, t， J=7.0 Hz)， 2.48 (IH, t, J=2.4 Hz)
製造例 51
製造例 40と同様の方法で N— （4一クロ口ベンジル） ー3— { 3—エトキシ 一 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 425mgおよび口 —ソン試薬 33 Omgから N— （4一クロ口ベンジル） ー3— {3—エトキシ一 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以下、 本発明化 合物 51と記す。） 36 Omgを得た。
本発明化合物 51
Figure imgf000105_0001
ΐ-NMR (CDC13, TMS) d (ppm)： 7.41 (1H, br.s), 7.25 (2H, d, J=8. Hz), 7.01 (2H， d, J=8.2 Hz), 6.91 (1H, d, J=8. Hz), 6.73 (1H， d, J=1.9 Hz), 6.69 (1H, dd, J=8.0 Hz, 1.9 Hz), 4.67-4.71 (4H, m), 3.99 (2H, q， J=7.0 Hz), 3.05 (2H, t, J=7.1 Hz), 2.91 (2H, t, J=7.1 Hz), 2.48 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.40 (3H, t, J=6.9 Hz)
製造例 52
製造例 40と同様の方法で N— (4—メチルベンジル） 一 3— { 3—エトキシ -4- (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 5 3 gおよび口 一ソン試薬 0. 44 から？^— (4一メチルベンジル） — 3— { 3—エトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以下、 本発明化 合物 52と記す。 ) 42 3mgを得た。
本発明化合物 52
Figure imgf000105_0002
Ή-N R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.21 (1H, br.s), 7.10 (2H, d， J=7.7 Hz), 7.00 (2H, d， J=7.9 Hz), 6.91 (1H, d, J-7.9 Hz), 6.74 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.69 (1H, dd, J=8.2 Hz, 1.9 Hz), 4.69 (2H, d， J=2.1 Hz), 4.65 (2H， d, J=5.0H)， 4.00 (2H, q, J=7.0 Hz)， 3.04 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.89 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.46 (1H, t, J=2.1 Hz), 2.32 (3H, s), 1.40 (3H, t, J=6.7 Hz)
製造例 5 3
製造例 40と同様の方法で N— （4—ブロモベンジル） 一 3— { 3—メトキシ -4- (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 6 6 Omgおよび口 一ソン試薬 43 5mgから N— （4—ブロモベンジル） — 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以下、 本発明化 合物 5 3と記す。） 46 3m gを得た。
本発明化合物 5 3
Figure imgf000106_0001
lH -腿 (CDC13, TMS) δ (ppra)： 7.39-7.43 (2H, m)， 7.28 (1H, br.s), 6.95 (2H, d， J=8.4 Hz), 6.90 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.74 (1H, d， J=1.7 Hz), 6.70 (1H, dd, J=7.9 Hz, 2.0 Hz), 4.71 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.68 (2H, d, J=5.3 Hz), 3.79 (3H， s)， 3.07 (2H, t， J=7.1 Hz), 2.93 (2H, t， J=7.1 Hz), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz) 製造例 54
製造例 40と同様の方法で N— （4一ョードベンジル） —3— { 3—メトキシ -4- (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 54 lmgおよび口 —ソン試薬 348mgから N— (4—ョ一ドベンジル） 一 3— { 3—メトキシ一 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以下、 本発明化 合物 5 と記す。 ) 36 Om を得た。
本発明化合物 54
Figure imgf000106_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.63 (2H， d, J=7.9 Hz), 7.03 (1H, br.s), 6.92 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.83 (2H, d, J=7.7 Hz), 6.75 (1H， d, J=1.9 Hz), 6.71 (1H, dd, J=7.9 Hz, 1.7 Hz), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.67 (2H, d, J=5.0 Hz), 3.81 (3H, s)， 3.08 (2H, t, J=7.1 Hz), 2.94 (2H, t, J=7.1 Hz), 2.49 (1H, i, 1=2 A Hz)
製造例 55
製造例 37と同様の方法で 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 632mgおよび 4ーメチルチオベンジルァミン 3 83mgから N— (4—メチルチオベンジル） 一 3— { 3—メトキシー 4一 (2 一プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 55と記 す。） 83 Omgを得た。
本発明化合物 55
Figure imgf000106_0003
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ ( pm)： 7.18 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.06 (2H, d, J=8.2 Hz), 6.93 (1H， d, J=8.0Hz), 6.70-6.75 (2H, m)， 5.56 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.35 (2H, d, J=5.8 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.94 (2H, t, J=7.1 Hz), 2.45-2.53 (6H, m)
製造例 56
製造例 37と同様の方法で 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 632mgおよび 3, 4_ジメチルペンジルァミン 338111 から1^— (3, 4一ジメチルペンジル） 一 3— { 3—メトキシー 4一
(2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 56 と記す。） 83 Omgを得た。
本発明化合物 56
Figure imgf000107_0001
-腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.06 (1H， d, J=7.5 Hz), 6.88-7.00 (3H, m), 6.75 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.73 (1H， dd， J-8.0 Hz, 1.9 Hz), 5.51 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.34 (2H, d， J-5.3 Hz), 3.82 (3H, s), 2.94 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.44-2.51 (3H, m), 2.23 (6H， s)
製造例 57
製造例 37と同様の方法で 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 1. 61 gおよび 4一シァノベンジルァミン 0. 8
4^から^[ー （4ーシァノーベンジル） 一3— { 3—メトキシ一 4一 （2—プロ ピニルォキシ）フエ二ル}プロパンアミド（以下、本発明化合物 57と記す。） 1.
44 を得た。
本発明化合物 57
Figure imgf000107_0002
≡CH
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.56 (2H， d, J=7.9 Hz), 7.18 (2H， d， J=7.9 Hz), 6.95 (1H, d, J=7.7Hz), 6.71-6.75 (2H， m), 5.71 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.44 (2H, d, J=6.0 Hz), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.4 Hz), 2.54 (2H, t, 1=1.2 Hz), 2.50 (1H, t， J=2.4 Hz) 製造例 58
製造例 40と同様の方法で N— (4—メチルチオベンジル） —3— {3—メト キシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 52 gおよ びローソン試薬 0. 418から ー （4ーメチルチオベンジル） 一 3— {3—メ トキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド） （以下、 本発明化合物 58と記す。） 39 Omgを得た。
本発明化合物 58
Figure imgf000108_0001
Ή— NMR (CDC 1 3， TTMMSS)) δδ ((pppmm))： 7. 18 (1H, d， J = 8. 2Hz), 6. 99-7. 06 (3H， m)、 6. 91 (1H， d, J = 8. 2Hz), 6. 75 (1H, d, J = 1. 9Hz)、 6. 71 ( 1 H， dd， J = 7. 9Hz, 1. 9Hz)、 4. 72 (2H, d, J = 2. 1Hz), 4. 66 (2H, d, J =5. 0Hz), 3. 81 (3H， s)、 3. 08 (2H， t, J = 7. 2Hz), 2. 93 (2H, t, J = 7. 2Hz)、 2. 49 ( 1 H, t, J = 2. 4Hz), 2. 47 (3H、 s)
製造例 59
製造例 40と同様の方法で N— (3, 4 _ジメチルペンジル） -3- {3—メ トキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 43 gお よびローソン試薬 0. 36 gからN— (3, 4一ジメチルペンジル） 一 3— {3 —メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド） （以 下、 本発明化合物 59と記す。） 345mgを得た。
本発明化合物 59
Figure imgf000108_0002
ΐ-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.08 (1H, d, J=7.8 Hz), 7.01 (1H, br.s), 6.84-6.96 (3H, m)， 6.76 (1H, d， J=1.9 Hz)， 6.72 (1H, dd, J=8.1 Hz， 1.9 Hz), 4.72 (2H， d, J=2.2 Hz), 4.63 (2H， d, J=4.8 Hz), 3.82 (3H, s), 3.08 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.91 (2H， t, J=7.3 Hz), 2.47 (1H, t, J=2.4Hz), 2.43 (3H, s), 2.23 (3H, s) 製造例 60
製造例 37と同様の方法で 3— {3—メトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 0. 76 gおよび 4ーメトキシー 3—メチルベンジ ルァミン塩酸塩 0. 56 gからN— （4—メトキシー 3—メチルベンジル） —3 一 {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プロパンアミド （以 下、 本発明化合物 60と記す。） 83 Omgを得た。
本発明化合物 60
Figure imgf000109_0001
'H-NMR (CDC13， TMS) d (ppm)： 6.91-6.98 (3H, m), 6.70-6.76 (3H, m), 5.49 (1H， br.s), 4.72 (2H， d, 1=2 A Hz), 4.30 (2H, d, J=5.5 Hz), 3.82 (3H, s), 3.81 (3H, s), 2.94 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.47-2.49 (3H, m), 2.18 (3H, s) 製造例 61
製造例 40と同様の方法で N— (4—シァノベンジル） 一 3— {3—メトキシ 一 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 532mgおよび口
—ソン試薬 435mgから N— (4—シァノベンジル） 一 3— {3—メトキシ一
4- (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以下、 本発明化 合物 61と記す。） 449mgを得た。
本発明化合物 6 1
Figure imgf000109_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.55 (2H, d， J=7.9 Hz), 7.33 (1H， br. s), 7.12 (2H， d, J=7.9 Hz), 6.93 (1H， d, J-7.9 Hz), 6.72-6.76 (2H, m), 4.83 (2H， d, J=5.5 Hz), 4.74 (2H, d， J=2. Hz), 3.80 (3H, s), 3.10 (2H， t， J=7.0Hz)， 2.98 (2H, t， J=7.0 Hz), 2.50 (1H, t, J=2.4 Hz)
製造例 62
製造例 40と同様の方法で N— （4—メトキシー 3—メチルベンジル） —3— {3—メトキシ一 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 55 gおよび口一ソン試薬 0. 44 ^から1^ー （4ーメトキシー 3—メチルベン ジル） 一 3— {3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパ ンチォアミド （以下、 本発明化合物 62と記す。） 383mgを得た。
本発明化合物 62
Figure imgf000110_0001
br.s), 6.91-6.96 (3H, m), 6.68-6.78 (3H, m), 4.72 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.59 (2H, d, J=4.6 Hz), 3.82 (3H, s)， 3.81 (3H, s), 3.08 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.91 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.47 (1H, t, J=2.4 Hz), 2.18 (3H, s)
製造例 63
N— （4一クロ口ベンジル） — 3— {3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキ シ） フエ二ル} プロパンアミド 50 Omgおよび N、 N—ジメチルホルムアルデ ヒド 5mlの混合液を 0- 5°Cで攪拌し、水素化ナトリウム 6 lmgを加え、 30 分攪拌した後、 沃化メチル 199mgを滴下し、 0- 5 で 30分、 次いで室温で 2時間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機 層を 5%塩酸、 飽和重曹水および飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで 乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム精製に付し、 N— （4— クロ口ベンジル） —N—メチルー 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォ キシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 63と記す。） 312mg を得た。
本発明化合物 63
Figure imgf000110_0002
Ή-NM (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.26-7.32 (2.2H, m), 7.10-7.15 (1.3H, m), 6.90-7.01 (1.5H, m), 6.66-6.82 (2H， m), 4.70-4.75 (2H, m), 4.54 (2H, s), 4.41 (1H, s), 3.85 (2H, s)， 3.82 (1H， s), 2.94-3.01 (2H, m), 2.93 (1H, s), 2.85 (2H, s)， 2.59-2.69 (2H, m), 2.47-2.50 (1H, m)
製造例 64
製造例 37と同様の方法で 2—メチル—3— {3—メトキシ一 4— (2—プロ ピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 934mgおよび 4—クロ口べンジ ルァミン 496mgから N— （4一クロ口ベンジル） —2—メチルー 3— { 3 - メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本 発明化合物 64と記す。） 7 20mgを得た。
本発明化合物 64
Figure imgf000111_0001
腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.21-7.26 (2H, m)， 6.90-6.96 (3H, m), 6.66-6.71 (2H, m), 5.45 (1H, br.s), 4.74 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.38 (1H， dd, J=15 Hz, 6.3 Hz), 4.21 (1H, dd, J=15Hz， 5.5 Hz), 3.80 (3H, s), 2.87-2.94 (1H, i), 2.64-2.70 (1H, m), 2.49 (1H， t, J=2.4 Hz), 2.42-2.46 (1H, m)， 1.23 (3H, d, J=6.8 Hz) 製造例 6 5
製造例 3 7と同様の方法で 2—メチルー 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロ ピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 9 34mgおよび 4 _メチルベンジ ルァミン 424mgから N— （4一メチルベンジル） 一2—メチル一 3— { 3 - メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本 発明化合物 6 5と記す。） 7 20 mgを得た。
本発明化合物 6 5
Figure imgf000111_0002
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.07 (2H, d, J=7.7 Hz), 6.94 (2H, d, J=7.9 Hz), 6.91 (1H, d， J=7.9Hz)， 6.66-6.71 (2H, m)， 5.40 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.20-4.38 (2H, m), 3.80 (3H， s), 2.88-2.97 (1H, 1), 2.60-2.68 (1H, m)， 2.48 (1H， t, J=2.4 Hz), 2.36-2.45 (1H, m), 2.31 (3H, s)， 1.21 (3H, d, J=7.0 Hz)
製造例 66
製造例 3 7と同様の方法で 2—メチルー 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロ ピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 1. 0 7 gおよび 3， 4ージクロル ベンジルァミン 7 04mgから N— (3, 4—ジクロルベンジル） _ 2—メチル 一 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミ ド （以下、 本発明化合物 6 6と記す。） 1. 0 5 gを得た。
本発明化合物 6 6
Figure imgf000112_0001
CH
¾ -腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.32 (IH, d, J=8.2 Hz), 7.21 (IH, d, J=1.9 Hz), 6.91 (IH, d， J=7.7 Hz), 6.81 (IH, dd, J=8.2 Hz, 2.1 Hz), 6.65-6.72 (2H, m), 5.49 (1H， br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.17-4.38 (2H， m), 3.81 (3H, s), 2.86-2.95 (IH, m), 2.62-2.70 (1H， m), 2.40-2.50 (2H， ) , 1.23 (3H， d， J=6.7 Hz)
製造例 67
製造例 37と同様の方法で 2—メチル—3— {3—メトキシー 4一 （2—プロ ピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 1. 07 gおよび （ナフタレン— 2 一ィル） メチルァミン 628mgから N— {(ナフタレン一 2—ィル） メチル } 一 2—メチル—3— {3—メトキシ一 4— (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} プ 口パンアミド （以下、 本発明化合物 67と記す。） 480mgを得た。
本発明化合物 67
Figure imgf000112_0002
¾-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.71-7.83 (3H， m), 7.53 (IH, s)， 7.41-7.50 (2H, m), 7.15 (IH, dd, J=8.4 Hz， 1.7 Hz), 6.86 (IH, d, J=7.9 Hz), 6.72 (IH, d, J=1.7 Hz)， 6.69 (1H， dd, J=7.9 Hz, 1.9 Hz), 5.52 (IH, br.s), 4.68 (2H, d, J=2.4Hz), 4.40-4.60 (2H， m), 3.78 (3H, s), 2.91-2.99 (IH, m), 2.64-2.71 (IH, in), 2.41-2.53 (1H， m), 2.45 (IH, t, 2.4 Hz), 1.25 (3H， d， J=6.7 Hz) 製造例 68
製造例 40と同様の方法で N— (4—クロ口ベンジル）一 N—メチル— 3— {3 —メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 5 O Om gおよび口一ソン試薬 39 Omgから N— (4—クロローベンジル） 一 N—メチ ルー 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンチ オアミド （以下、 本発明化合物 68と記す。） 242mgを得た。
本発明化合物 68
Figure imgf000113_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.27 (2H, m)， 7.18-7.24 (1.3H, m)， 6.90-7.00 (1.7H, m), 6.66-6.83 (2H, m), 5.29 (1.3H, s), 4.73-4.74 (2H， m)， 4.61 (0.7H, s), 3.85 (2H， s)， 3.82 (1H, s), 3.42 (1H, s), 3.07-3.12 (4H, m), 3.04 (2H, s)， 2.48-2.50 (1H, m)
製造例 6 9
製造例 40と同様の方法で N—（4一クロ口ベンジル）一 2—メチル— 3— { 3 ーメトキシ— 4一 (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} プロパンアミド 420m gおよびローソン試薬 3 2 8mgから N— （4一クロ口ベンジル） 一 2—メチル 一 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチォ アミド （以下、 本発明化合物 6 9と記す。） 45 1mgを得た。
本発明化合物 69
Figure imgf000113_0002
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.23-7.26 (2H， m), 6.96 (1H, br.s), 6.87-6.93 (3H， m)， 6.74 (1H, d， J=1.7 Hz)， 6.69 (1H, dd, J=8.1 Hz, 1.7 Hz), 4.72-4.78 (3H， m), 4.54 (1H， dd, J-15 Hz, 4.8 Hz), 3.79 (3H, s)， 2.97-3.04 (1H， m)， 2.75-2.84 (2H, m)， 2.49 (1H， t, J=2.4 Hz), 1.35 (3H, d, J=6.3 Hz) 製造例 7 0
製造例 3 7と同様の方法で 3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} ブタン酸塩化物 9 34mgおよび 4—クロ口ベンジルァミン 49 6m g力、ら N— （4—クロ口ベンジル） 一3— { 3—メトキシ一 4— (2—プロピニ ルォキシ） フエ二ル} ブタンアミド （以下、 本発明化合物 7 0と記す。） 1. 1 7 gを得た。
本発明化合物 7 0
Figure imgf000113_0003
lH -顏 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.20-7.26 (2H, m), 6.93-6.97 (3H, m)， 6.72-6.77 (2H, m), 5.50 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.36 (1H, dd, J=15 Hz, 6.0 Hz), 4.22 (1H, dd, J=15Hz, 5.5 Hz), 3.82 (3H, s)， 3.20-3.30 (1H， m), 2.42-2.50 (3H, m), 1.31 (3H, d, J=7.0 Hz)
製造例 7 1
製造例 37と同様の方法で 3— {3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} ブタン酸塩化物 934mgおよび 4一メチルベンジルァミン 424m gから N— （4一メチルベンジル） 一 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニ ルォキシ） フエ二ル} ブタンアミド （以下、 本発明化合物 71と記す。） 1. 13 gを得た。
本発明化合物 71
Figure imgf000114_0001
Ή-NMR (CDC13， T S) δ ( pm)： 7.08 (2H, d, J=7.9 Hz), 6.92-6.98 (3H， m), 6.73-6.77 (2H, m), 5.43 (1H, br.s), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.21-4.37 (2H, m)， 3.82 (3H， s)， 3.22-3.34 (1H, m)， 2.48 (1H, t, J=2.4 Hz), 2.38-2.44 (2H, ), 2.31 (3H, s)， 1.30 (3H, d, J=7.0 Hz)
製造例 72
製造例 37と同様の方法で 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} ブタン酸塩化物 934mgおよび 3， 4ージクロ口ベンジルァミン 6 16mgから N— （3, 4—ジクロ口ベンジル） 一 3— { 3—メトキシ一 4— (2 一プロピニルォキシ）フエ二ル}ブタンアミド（以下、本発明化合物 72と記す。） 1. 28 gを得た。
本発明化合物 72
Figure imgf000114_0002
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.32 (1H, d, J=8.3 Hz), 7.21 (1H, d, J=1.7Hz): 6.96 (1H, d, J=8.5 Hz), 6.81 (1H, dd, J=8.3 Hz, 1.6 Hz), 6.72-6.78 (2H, m); 5.53 (1H, br.s), 4.73 (2H， d, J=2.4 Hz), 4.18-4.34 (2H, m), 3.83 (3H, s); 3.20-3.33 (1H, m), 2.40-2.52 (3H, m), 1.31 (3H, d, J=7.1 Hz)
製造例 Ί 3 製造例 37と同様の方法で 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} ブタン酸塩化物 934mgおよび （ナフタレン一 2—ィル） メチルァ ミン 550mgから N— {(ナフタレン一 2—ィル） 一メチル} 一 3— { 3—メト キシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} ブタンアミド （以下、 本発明化 合物 73と記す。） 1. 21 gを得た。
本発明化合物 73
Figure imgf000115_0001
-腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.72-7.84 (3H, m)， 7.54 (1H, s), 7.42-7.50 (2H, m)， 7.15)1H, dd, J=8.5 Hz， 1.7 Hz), 6.91 (1H， d, J=8.1 Hz), 6.70-6.78 (2H, m)， 5.56 (1H, br.s), 4.68 (2H, m)， 4.42-4.59 (2H, m), 3.80 (3H, s)， 3.25-3.36 (1H, m), 2.42-2.49 (3H, m), 1.32 (3H, d, J=6.8 Hz)
製造例 74
製造例 40と同様の方法で N— (4—メチルベンジル）一 2—メチル— 3— {3 ーメトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 420m gおよびローソン試薬 348mgから N_ (4—メチルベンジル） —2—メチル 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチォ アミド （以下、 本発明化合物 74と記す。） 423mgを得た。
本発明化合物 74
Figure imgf000115_0002
三 CH
'H-NMR (CDC13, TMS) 6 (ppm)： 7.09 (2H, d, J=7.7 Hz), 6.87-6.95 (4H, m)， 6.75 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.70 (1H, dd, J=8.1 Hz, 1.9 Hz), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.53-4.69 (2H, m), 3.81 (3H, s), 2.97-3.06 (1H, m), 2.71-2.83 (2H, m)， 2.48 (1H， t, J=2.4 Hz)， 2.32 (3H, s), 1.34 (3H, d, J=6.5 Hz)
製造例 75 '
製造例 40と同様の方法で N— （3， 4—ジクロル—ベンジル） 一 2—メチル —3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミ ド 50 Omgおよびローソン試薬 357mgから N— (3, 4—ジクロルーベン ジル） 一 2—メチルー 3— { 3—メトキシ一 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ 二ル}プロパンチオアミド（以下、本発明化合物 75と記す。） 45 lmgを得た。 本発明化合物 75
Figure imgf000116_0001
-證 (CDC13, TMS) d (ppm)： 7.34 (1H， d, J=8.1 Hz), 7.20 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.99 (1H, br.s), 6.91 (1H， d, J=8.0Hz), 6.68-6.76 (3H, m), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.55-4.77 (2H, m), 3.81 (3H, s), 2.96-3.05 (1H, m), 2.75-2.85 (2H, m), 2.48 (1H， t, 1=2.4 Hz), 1.35 (3H, d, J-6.1 Hz)
製造例 76
製造例 40と同様の方法で N— {(ナフタレン一 2—ィル） メチル } —2—メチ ルー 3— {3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンァ ミド 47 Omgおよびローソン試薬 352mgN- {(ナフ夕レン一 2—ィル） メ チル } —2—メチルー 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ 二ル}プロパンチォアミド（以下、本発明化合物 76と記す。） 1. 17 gを得た。 本発明化合物 76
Figure imgf000116_0002
Ή -腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： .7.74-7.83 (3H, m)， 7.45-7.54 (3H, m), 7.07 (1H， dd, J=8.4 Hz， 1.9 Hz), 6.89 (1H， br.s), 6.88 (1H, d， J=7.9 Hz), 6.77 (1H, d， J=1.9 Hz), 6.71 (1H, dd, J=8.2 Hz， 1.9 Hz)， 4.73-4.92 (2H, m)， 4.69 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.80 (3H, s), 2.99-3.09 (1H, m), 2.74-2.85 (2H， m), 2.44 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.37 (3H, d, J=6.3 Hz)
製造例 77
製造例 40と同様の方法で N— （4—メチルベンジル） 一3— {3—メトキシ 一 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} ブチルアミド 50 Omgおよびロー ソン試薬 413mgから N— （4ーメチルーベンジル） 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} ブタンチオアミド （以下、 本発明化合 物 77と記す。） 395mgを得た。
本発明化合物 77
Figure imgf000117_0001
Ή -腿 (CDC13, TMS) d (ppm)： 7.09 (2H, d， J=7.7 Hz), 6.93 (1H， d, J=7.9 Hz), 6.89 (2H, d, J=7.9H) , 6.84 (1H, br.s), 6.72-6.77 (2H， m), 4.72 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.50-4.63 (2H, m), 3.82 (3H, s), 3.36-3.47 (1H, m), 2.93-3.01 (1H, m), 2.72-2.81 (1H， m)， 2.48 (1H, t， J=2.4 Hz), 2.32 (3H， s), 1.32 (3H, d, J=7.0 Hz)
製造例 78
製造例 40と同様の方法で N— (3， 4ージクロ口ベンジル） 一 3— {3—メ トキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} ブタンアミド 50 Omgおよ びローソン試薬 343mgから N— (3， 4—ジクロロベンジル） —3— { 3 - メ卜キシ— 4一 (2—プロピニルォキシ) フエ二ル} ブタンチォアミド (以下、 本発明化合物 78と記す。） 313mgを得た。
本発明化合物 78
Figure imgf000117_0002
'H-N R (CDCL, TMS) δ (ppm)： 7.34 (1H， d， J=8.3Hz), 7.20 (1H, d, J=L9 Hz),
7.01 (1H， br.s), 6.91-6.96 (1H, m), 6.70-6.77 (3H, m), 4.73 (2H, d， 1=2 A Hz), 4.51-4.72 (2H, m), 3.82 (3H, s), 3.34-3.47 (1H, m), 2.97-3.05 (1H， m), 2.76-2.83 (1H， m)， 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.33 (3H, d, J=7.1 Hz) 製造例 79
製造例 40と同様の方法で N— {(ナフ夕レン一 2—ィル） メチル } — 3— {3 —メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} ブタンアミド 50 Omg およびローソン試薬 388mgから N— {(ナフタレン— 2—ィル） メチル } 一 3 一 { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} ブタンチォアミド (以下、 本発明化合物 79と記す。） 436mgを得た。
本発明化合物 79
Figure imgf000117_0003
Ή -腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.75-7.81 (3H, m), 7.46-7.52 (3H, m)， 7.06 (1H, dd， J=8.3 Hz, 1.8 Hz), 6.93 (1H, br.s), 6.87 (1H, d, J=7.9 Hz)， 6.77 (1H, d， J=1.9 Hz), 6.74 (1H， dd， J=8.1 Hz， 1.9 Hz), 4.71-4.85 (2H, m), 4.64 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.79 (3H, s), 3.36-3.49 (1H， m), 2.98-3.06 (1H, m), 2.76-2.84 (1H， m)， 2.43 (1H， t， J=2.4 Hz), 1.34 (3H, d， J=7.0 Hz)
製造例 80
4—クロ口ベンジルァミン 566mg、 3— {4—メトキシー 3— （2—プロピ ニルォキシ） フエ二ル}プロパン酸 937mg、 1一ェチル—3— （3—ジメチル ァミノプロピル） カルポジイミド塩酸塩 （以下 WSCと記載する） 805mgお よび N， N—ジメチルホルムアルデヒド 1 Om 1を室温で 4時間混合した。その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 および 飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残 渣をシリカゲルカラム精製にふし、 N— （4一クロ口ベンジル） —3— {4—メ トキシー 3— （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発 明化合物 80と記す。 ) 847mgを得た。
本発明化合物 80
Figure imgf000118_0001
¾-NMR (CDC13, TMS) d (ppm)： 7.22-7.27 (2H， m), 7.05 (2H, d, J=7.5 Hz), 6.76-6.89 (3H， m), 5.55 (1H， br.s), 4.72 (2H, d, J=2.4Hz), 4.34 (2H, d, J=5.7 Hz), 3.84 (3H, s), 2.93 (2H, t, J=7.4 Hz), 2.44-2.53 (3H, m) 製造例 81
N— （4—クロルベンジル） 一 3— {4—メトキシー 3— (2—プロピニルォ キシ） フエ二ル} プロパンアミド 5 17mg、 ローソン試薬 419mgおよびテ トラヒドロフラン 1 Omlを混合し、 65でで 5時間攪拌した。 その後、 反応混 合物を冷却し、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラムで精製して、 N— （4 一クロルベンジル） —3— { 4ーメトキシー 3— （2—プロピニルォキシ） フエ 二ル}プロパンチォアミド（以下、本発明化合物 81と記す。） 16 Omgを得た。 本発明化合物 81
Figure imgf000119_0001
Ή - NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.24-7.26 (3H, m), 7.01 (2H， d, J=8.2 Hz), 6.88 (1H， d, J=1.4 Hz), 6.73-6.77 (2H, m)， 4.72 (2H, d, J=2.4 Hz)， 4.67 (2H, d, J=5.3Hz), 3.84 (3H, s)， 3.07 (2H, t, J=7.0Hz)， 2.95 (2H, t, J=7.0Hz), 2.44 (1H， t, 1=2A Hz)
製造例 82
N— （4一クロルベンジル） —3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォ キシ） フエ二ル} プロパンアミド 538mg、 および N, N—ジメチルホルムァ ミド 5mlを混合し、 0°Cまで冷却して、 水素化ナトリウム 72 mgを添加し、 0°Cで 15分程攪拌した。 次いで臭化プロパルギル 1961118を加ぇ0°(で30 分攪拌し， さらに室温で 2時間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸 ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽和重曹水および飽和食塩水で順次洗浄 し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム で精製して、 N— (4—クロルベンジル） —N— （2—プロピニル） — 3— {4 —メトキシー 3— （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド (以下、 本発明化合物 82と記す。） 105mgを得た。
本発明化合物 82
Figure imgf000119_0002
Ή - NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.26-7.30 (2H, m), 7.16 (1H， d， J=8.2 Hz), 7.02 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.91-6.97 (1H, m), 6.67-6.82 (2H, m), 4.73 (2H, d, J=2.1 Hz), 4.64 (1H， s), 4.54 (1H, s)， 4.20 (1H， s), 3.84 (3H, s), 3.82 (1H, s)， 2.90-3.03 (2H, m), 2.75 (1H， t， J=7.6 Hz), 2.62 (1H, t, J=7.5 Hz), 2.49 (1H, t， J=2.1 Hz), 2.26 (0.5H, s)， 2.19 (0.5H, s)
製造例 83
4一フエノキシベンジルァミン塩酸塩 943mg、 3— { 3—メトキシー 4— ( 2 一プロピニルォキシ） フエ二ル}プロパン酸 1. 01 g、 WS C 844mgおよび ピリジン 1 Omlを室温で 4時間混合した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢 酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 および飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム精製 にふし、 N— (4—フエノキシベンジル） 一 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プ ロビニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 8 3と記す。） 1. 3 1 gを得た。
本発明化合物 8 3
Figure imgf000120_0001
= CH
Ή-NMR (CDC13, TMS) d (ppm)： 7.30-7.36 (2H, m)， 7.08-7.15 (3H， m), 6.92-7.01 (5H, m), 6.75 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.73 (1H, dd, J=8.2 Hz, 2.2 Hz), 5.61 (1H, br.s), 4.71 (2H， d, J=2.4 Hz), 4.38 (2H, d, J=5.5 Hz), 3.83 (3H, s)， 2.95 (2H， t， J=7.5 Hz), 2.50 (2H, t, J=7.5 Hz)， 2.46 (1H， t, J=2.4 Hz) 製造例 84
製造例 40と同様の方法で N— （4一フエノキシベンジル） — 3— { 3—メト キシ一 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 1. O gおよび ローソン試薬 6 8 lmgから N— （4—フエノキシベンジル） 一 3— { 3—メト キシ一 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以下、 本 発明化合物 84と記す。） 2 50mgを得た。
本発明化合物 84
Figure imgf000120_0002
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.31-7.37 (2H， m)， 7.03-7.15 (4H, m), 6.90-7.02 (5H, m), 6.70-6.78 (2H, m)， 4.60-4.70 (4H， m)， 3.82 (3H， s), 3.09 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.93 (2H, t， J=7.2 Hz), 2.44 (1H, t, J=2. Hz)
製造例 8 5
3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 3 0 Omgと 2， 4ージクロ口ベンジルァミン 2 0 9 mgとを用い製造例 5 と同様にして N— (2, 4ージクロ口ベンジル） ー3— {3—メトキシ一 4一 (2 一プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 8 5と記 す。） 5 Omgを得た。
本発明化合物 8 5
Figure imgf000121_0001
MR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.34 (1H, d， J=1.9 Hz), 7.11-7.19 (2H, m), 6.92 (1H, d,. J=8.0 Hz), 6.68-6.71 (2H， m), 5.78 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.5 Hz), 4.43 (2H， d, J=6.1 Hz), 3.81 (3H, s)， 2.92 (2H， t, J=7.5 Hz), 2.48-2.52 (3H, m)
製造例 86
N— (4—ヒドロキシベンジル） 一 3— {3—メトキシ一 4— (2—プロピニ ルォキシ） フエ二ル}プロパンアミド 1. 19 g、臭化プロパルギル 418mg、 炭酸カリウム 53 lmg及びァセトニトリル 1 5m lを混合し、 80°Cで 3時間 攪拌した。 その後、 反応混合物を室温まで冷却し、 水を加え、 酢酸ェチルで抽出 した。 有機層を 5%塩酸水、 水、 飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで 乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、、 N— {4- (2—プ ロビニルォキシ） ベンジル } —3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピエルォキ シ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 86と記す。） 1. 12 gを 得た。
本発明化合物 86
Figure imgf000121_0002
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.09 (2H, d, J=8.5 Hz), 6.88-6.95 (3H, m)， 6.70-6.75 (2H， m), 5.61 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4Hz), 4.68 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.33 (2H, d, J-5.6 Hz), 3.81 (3H, s), 2.93 (2H, t, J=7.4 Hz), 2.46-2.53 (4H, m)
製造例 87
製造例 40と同様の方法で N— {4一 （2—プロピニルォキシ） ベンジル } 一 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 793mgおよびローソン試薬 594mgから N— {4— （2—プロピニルォキ シ） ベンジル } 一 3— { 3—メトキシ一 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以下、 本発明化合物 87と記す。） 780mgを得た。 本発明化合物 87
Figure imgf000122_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) d (ppm)： 7.04-7.09 (2H, m), 7.03 (1H, br.s), 6.90-6.94 (3H, m), 6.75 (1H, d， J-1.9 Hz), 6.72 (1H, dd, J=8.0 Hz, 1.9 Hz), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.69 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.64 (2H， d, J=5.1 Hz), 3.81 (3H, s), 3.08 (2H， t， J=7.1 Hz), 2.92 (2H, t， J=7.2), 2.52 (1H， t, J=2.4 Hz), 2.49 (1H, t, J=2.4)
製造例 8 8
N— (4—クロ口ベンジル） 一 3 _ {2—クロル一 5—メトキシ一 4ーヒドロ キシフエ二ル} プロパンアミド 1. 9 g、 臭化プロパルギル 0. 5 7m l、 炭酸 カリウム 1. 0 g及びァセトニトリル 4 Om 1を混合し、 8 0°Cで 1時間攪拌し た。 その後、 反応混合物を室温まで冷却し、 酢酸ェチルを加えて濾過した。 濾液 を減圧下濃縮した。 得られた残渣をへキサンで洗浄して、 N— (4—クロ口ベン ジル） 一 3— { 2—クロル一 5—メトキシ— 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ 二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 88と記す。） 1. 9 gを得た。 本発明化合物 8 8
Figure imgf000122_0002
'H-NMR (CDC13, TMS) d (ppm): 7.26 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.04 (2H, d, J=8.3 Hz)， 7.04 (1H， s), 6.78 (1H, s)， 5.71 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.2 Hz), 4.36 (2H， d, J=5.9 Hz), 3.79 (3H, s)， 3.04 (2H, t, J=7.4 Hz), 2.50-2.54 (3H, m) 製造例 8 9
3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル}プロパン酸 5 8 6 mgと （6—メチルナフ夕レン一 2—ィル） メチルァミン塩酸塩 5 1 9mgとを 用い製造例 8 3と同様にして N—（6—メチルナフタレン— 2—ィル）一 3— { 3 —メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 8 9と記す。 ) 8 5 Omgを得た。
本発明化合物 8 9
Figure imgf000123_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.68 (2H, t， J=9.1 Hz), 7.57 (2H, d， J=5.1 Hz), 7.31 (1H， d, J=8.3 Hz), 7.23 (1H, d， J=8.3 Hz), 6.91 (1H, d， J=8.3 Hz), 6.70-6.77 (2H, m)， 5.63 (1H, br.s), 4.70 (2H, d, J=2. Hz), 4.55 (2H, d, J=5.5 Hz), 3.80 (3H, s), 2.97 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.49-2.56 (5H, m), 2.46 (1H, t， J=2.4 Hz)
製造例 90
3— {3—メトキシー 4一 (2 _プロピニルォキシ) フエ二ル}プロパン酸 8 1 0 mgと （7—メチルナフ夕レン一 2—ィル） メチルァミン塩酸塩 7 2 Omgとを 用い製造例 8 3と同様にして N— (7—メチルナフタレン一 2—ィル）— 3— {3 ーメトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 90と記す。） 7 3 Omgを得た。
本発明化合物 9 0
Figure imgf000123_0002
三 CH
—NMR (CDC13, TMS) <5 (ppm)： 7.68-7.75 (2H， m)， 7.53 (1H， s), 7.52 (1H, s), 7.29 (1H， dd, J-8.4 Hz, 1.7 Hz), 7.19 (1H, dd, J=8.2 Hz, 1.7 Hz), 6.91 (1H， d, J=8.2 Hz), 6.76 (1H， d, J=1.9 Hz), 6.73 (1H, dd, J=8.0 Hz, 1.9 Hz), 5.64 (1H， br.s), 4.70 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.54 (2H, d， J=5.5 Hz), 3.80 (3H, s)， 2.96 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.49-4.56 (5H, m)， 2.46 (1H, t， J=2.4 Hz) 製造例 9 1
製造例 40と同様の方法で N— (7—メチルナフタレン一 2—ィル）— 3— { 3 ーメトキシ一 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 42 0m gおよびローソン試薬 3 1 Omgから N— （7—メチルナフタレン一 2—ィル） 一 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチォ アミド （以下、 本発明化合物 9 1と記す。） 2 9 2mgを得た。
本発明化合物 9 1
Figure imgf000124_0001
Ή -腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.74 (1H, d, J=8.2 Hz), 7.72 (1H, d, J=8.4 Hz), 7.55 (1H, s), 7.51 (1H, s), 7.32 (1H, dd, J-8.3 Hz, 1.5 Hz), 7.13 (1H， dd， J=8.2Hz， 1.7 Hz), 7.10 (1H, br.s)， 6.88 (1H, d， J-8.2Hz), 6.77 (1H, d, J=1.9 Hz), 6.72 (1H, dd, J=8.3 Hz, 1.8 Hz), 4.85 (2H, d， J=5.1 Hz), 4.67 (2H, d, J=2.4Hz), 3.80 (3H, s)， 2.96 (2H， t, J=7.2 Hz), 3.10 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.51 (3H, s)， 2.44 (1H, t, J=2.4 Hz)
製造例 92
3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 2 g、 1— (4一クロ口フエニル） ェチルァミン 0. 1 2 g、 トリェチ ルァミン 0. 2m l及びテトラヒドロフラン 5mlを混合し、 室温で 3 0分間攪拌 した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5 %塩 酸、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシ ゥムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をへキサンで洗浄して、 N— { 1一 （4 —クロ口フエニル） ェチル } 一 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキ シ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 92と記す。） 0. 2 1 gを 得た。
本発明化合物 92
Figure imgf000124_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.25-7.27 (2H， m), 7.09 (2H, d, J=8.0 Hz), 6.93 (1H, d, J=8.0 Hz)， 6.69-6.71 (2H, m), 5.67 (1H, br.d), 5.03-5.06 (1H, in), 4.73-4.74 (2H, m)， 3.80 (3H, s)， 2.91 (2H， t, J=6.8 Hz), 2.41-2.47 (3H, m), 1.38 (3H, d， J=7.0 Hz)
製造例 9 3
3 - {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩 化物 0. 84 と1— (4—クロ口フエ二ル） — 3—プチ二ルァミン 0. 8 5 g とを用い製造例 9 2と同様にして N— { 1一 （4一クロ口フエニル） _ 3—プチ 二ル} 一 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパ ンアミド （以下、 本発明化合物 93と記す。） 0. 40 gを得た。
本発明化合物 93
Figure imgf000125_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.28 (2H, d, J=8.5 Hz), 7.12 (2H, d, J=8.5 Hz), 6.95 (1H， d, J=8.8 Hz)， 6.72-6.74 (2H, m), 5.85 (1H， br. d, J=8.1 Hz), 5.14 (1H, dt， J=8.0 Hz, 5.6 Hz), 4.75 (2H, d, J=2.2 Hz), 3.80 (3H, s), 2.93 (2H， t, J=7. l Hz)， 2.63-2.67 (2H, m)， 2.47-2.57 (3H, m), 1.99 (1H, t, 1=2.7 Hz) 製造例 94
3— {3—メトキシ— 4_ (2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プロパン酸 0. 30 g、 1— (3, 4—ジクロロフエニル） ェチルァミン 0. 24 g、 WS C 0. 26 g及びジメチルホルムアミド 1 Omlを混合し、 室温で 3時間攪拌した。 その 後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽和炭 酸水素ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥 した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 N— {1— (3， 4ージ クロ口フエニル） ェチル } 一 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プロパンアミド（以下、本発明化合物 94と記す。） 0. 25 gを得た。 本発明化合物 94
Figure imgf000125_0002
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.34 (1H, d， J=8.5Hz), 7.30 (1H, d, J=2.2Hz)6.98 (1H, dd， J=8.5 Hz， 2.2 Hz), 6.94 (1H, d， J-8.2 Hz), 6.70-6.72 (2H, m), 5.67 (1H, br.d, J=7.5 Hz), 5.00-5.04 (1H, m)， 4.74 (2H, d， J=2.5 Hz), 3.81 (3H, s), 2.91 (2H, t， J=7.2 Hz), 2.47-2.50 (3H, i), 1.37 (3H, d， J=6.8 Hz) 製造例 95
3— {3—メトキシー 4ー （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸 0. 30 と1ー （ナフタレン一 2—ィル） ェチルァミン 0. 29 gとを用い製造例 94と同様にして N— { 1一 （ナフタレン— 2—ィル） ェチル } 3- {3—メト キシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明 化合物 95と記す。） 0. 23 gを得た。 2003/016294
124
本発明化合物 95
Figure imgf000126_0001
-應 R (CDC13, TMS) d ( pm)： 7.78-7.90 (3H, m)， 7.65 (1H， s)， 7.47-7.48 (2H, m), 7.28-7.30 (1H, m)， 6.90 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.70-6.72 (2H, m), 5.60 (1H， br.d, J=7.0 Hz), 5.31-5.24 (1H, m), 4.70 (2H， m), 3.76 (3H, s)， 2.93 (2H, t, J=7.2 Hz)， 2.46-2.50 (3H, m), 1.51 (3H, d， J=6.8 Hz)
製造例 9 6
3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸 0. 30 gと 1一 （5， 6, 7, 8テトラヒドロナフタレン一 2—ィル） ェチルアミ ン 0. 22 gとを用い製造例 94と同様にして N— { 1— (5， 6， 7, 8テト ラヒドロナフタレン一 2—ィル） ェチル } 一 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プ ロビニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 97と記す。） 0. 22 gを得た。
本発明化合物 9 6
Figure imgf000126_0002
Ή-NMR (CDC13， TMS) 6 (ppm)： 7.01 (1H, d, J=8.5 Hz), 6.92-6.95 (3H, m)， 6.71-6.73 (2H, m), 5.47 (1H, br.d, J=7.2 Hz), 5.00-5.07 (1H, m), 4.73 (2H， d, J=2.4 Hz), 3.81 (3H, s)， 2.92 (2H， i, J=7.5 Hz), 2.70-2.75 (4H, m), 2.48 (1H, t， 1=2.5 Hz), 2.44 (2H, t, J=7.5 Hz), 1.76-1.86 (4H, m), 1.40 (3H, d， J=7.0 Hz)
製造例 9 7
3— {3—フルオロー 5—メトキシ— 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸 0. 3 0 gと 4—クロ口ベンジルァミン 0. 22 gとを用い製造例 9 4と同様にして N— (4—クロ口ベンジル） 一 3— {3—フルオロー 5—メトキ シ— （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 9 7と記す。） 0. 2 3 gを得た。
本発明化合物 9 7
Figure imgf000127_0001
Ή - NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.28 (2H， d, J=8.3 Hz), 7.11 (2H, d, J=8.3 Hz), 6.54-6.58 (2H, m), 5.65 (1H， br.s), 4.73 (2H, d, J=2. Hz), 4.38 (2H, d, J=5.9 Hz), 3.81 (3H, s), 2.93 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.49 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.45 (1H, t, J=2.4 Hz)
製造例 98
3— { 3—メトキシ _ 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸 1 9 6mgと 4一クロロー 3—フルォロベンジルァミン塩酸塩 2 34mgとを用い製 造例 8 3と同様にして N— （.4—クロロー 3—フルォロベンジル） 一 3— { 3 - メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本 発明化合物 98と記す。） 3 1 Omgを得た。
本発明化合物 9 8
Figure imgf000127_0002
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.30 (1H, t, J=7.8 Hz), 6.92-6.98 (2H, m), 6.82-6.86 (1H， m), 6.71-6.76 (2H, m), 5.66 (1H， br.s), 4.74 (2H, d, J-2.4 Hz), 4.36 (2H, d, J=6.1 Hz), 3.83 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.4 Hz), 2.52 (2H, t, J=7.4 Hz), 2.49 (1H， t， J=2.4 Hz)
製造例 99
3 - { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸 1 9 6mgと 4一クロロー 2—フルォロベンジルァミン塩酸塩 2 34mgとを用い製 造例 8 3と同様にして N— （4—クロ口 _ 2—フルォロベンジル） 一 3— { 3 - メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本 発明化合物 9 9と記す。） 3 3 Omgを得た。
本発明化合物 9 9
Figure imgf000127_0003
Ή -蘭 R (CDC13, TMS) d (ppm)： 7.03-7.15 (3H, m), 6.92 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.67-6.72 (2H, m), 5.69 (1H, br.s), 4.73 (2H， d, J=2.4Hz), 4.39 (2H, d, J=6.1 Hz), 3.81 (3H， s)， 2.92 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.46-2.51 (3H, m)
製造例 100
3—{3—メトキシー4ー （2—プロピエルォキシ） フエ二ル}プロパン酸 562 mgと (6—フルォロナフタレン一 2—ィル) メチルァミン塩酸塩 508mgと を用い製造例 83と同様にして N— {(6—フルォロナフ夕レン一 2—ィル） メチ ル} 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン アミド （以下、 本発明化合物 100と記す。） 540mgを得た。
本発明化合物 100
Figure imgf000128_0001
Ή -腿 (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.70-7.78 (2H, in), 7.59 (1H, s)， 7.42 (1H, dd, J=9.8 Hz, 2.2 Hz), 7.22-7.30 (2H, m)， 6.91 (1H, d， J=8.0Hz)， 6.72-6.77 (2H, m), 5.68 (1H， br.s), 4.71 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.55 (2H, d, J=5.6 Hz), 3.79 (3H, s), 2.97 (2H, t， J=7.1 Hz), 2.53 (2H, t, J=7.1 Hz), 2.46 (1H， t, J=2.4 Hz)
製造例 10 1
4一 （2—メチル一 [1, 3] ジォキソランー2—ィル） ベンジルァミン 10. 7 g、 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プロパン酸 1 1. 8 g、 WSC 10. 6 gおよびジメチルホルムアミド 15 Om 1を室温で 2時間混合した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機 層を 5%塩酸、 水、 および飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥し た後、 減圧下濃縮した。 残渣にアセトン約 10 Om lおよび p—トルエンスルホ ン酸約 0. l gを加え、 混合物を 50°Cで 3時間攪拌した。 該混合物を冷却後、 飽和重曹水を加えて濃縮し、 酢酸ェチルを加えて水で洗净し、 硫酸マグネシウム で乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた固体をへキサンで洗浄して、 N— (4 ーメチルカルポエルベンジル） 一 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォ キシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 10 1と記す。） 12. 5 gを得た。
本発明化合物 101
Figure imgf000129_0001
Ή-腹 (CDC13, TMS) δ ( )： 7.87 (2H, d， J=8.3 Hz), 7.20 (2H, d， J=8.3 Hz), 6.94 (1H, d, J=7.5Hz), 6.72-6.74 (2H, m), 5.73 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.50 (2H, d, J=6.3 Hz), 3.81 (3H, s)， 2.59 (3H, s)， 2.53 (2H, i, J=7.5 Hz), 2.96 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.50 (1H, J=2.4 Hz)
製造例 102
N— （4ーメチルカルポニルベンジル） 一 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロ ピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 52 g、 O—メトキシヒドロキシ ルァミン塩酸塩 0. 18 g、 ピリジン 0. 16m 1およびエタノール 1 Om 1を 混合し、 50" で 2時間混合した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチル で抽出した。 有機層を 5%塩酸で 2回、 飽和重曹水および飽和食塩水で順次洗浄 し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた固体をへキサン で洗浄して、 N— (4- (1ーメトキシイミノエチル） ベンジル) ー3— {3- メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本 発明化合物 102と記す。） 0. 49 gを得た。
本発明化合物 102
Figure imgf000129_0002
Ή-腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.58 (2H, d， J-8.0 Hz), 7.40 (2H, d， J=8.0 Hz), 6.94 (1H, d, J=8.0Hz), 6.71-6.75 (2H, m), 5.59 (1H， br.s), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.41 (2H, d, J=6.0 Hz), 3.98 (3H, s)， 3.82 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.49-2.52 (3H, m), 2.20 (3H, s)
製造例 103
N— （4ーメチルカルポ二ルペンジル） 一 3 { 3—メトキシー 4— (2—プロ ピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 0 50 g、 〇一ベンジロキシヒドロ キシルァミン塩酸塩 0. 26 g、 ピリジン 0 12mlおよびエタノール 1 Om
1を混合し、 50 で 2時間混合した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェ チルで抽出した。 有機層を 5%塩酸で 2回、 飽和重曹水および飽和食塩水で順次 洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた固体をへキ サンで洗浄して、 N— （4一 （1一べンジロキシイミノエチル） ベンジル） 一 3 一 {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プロパンアミド （以 下、 本発明化合物 103と記す。） 0. 54 gを得た。
本発明化合物 103
Figure imgf000130_0001
Ή-腹 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.57 (2H, d, J=7.9Hz)， 7.20-7.46 (5H， m), 7.13 (2H, d, J=7.9Hz), 6.93 (1H, d, J=7.5Hz), 6.71-6.74 (2H, m), 5.58 (1H, br.s), 5.53 (2H, s), 4.71-4.72 (2H, m)， 4.39 (2H， d, J=5.5 Hz), 3.81 (3H, s)， 2.94 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.48-2.51 (3H， m), 2.24 (3H, s)
製造例 104
N— （4—メチルカルポ二ルペンジル） —3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロ ピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 50 g、 1， 1—ジメチルヒドラ ジン 21mし 酢酸 lmlおよびメタノール 1 Omlを混合し、 還流条件下 で 1時間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有 機層を 5%塩酸で 2回、 飽和重曹水および飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネ シゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた固体をへキサンで洗浄して、 N 一 （4一 （1—ジメチルアミノィミノ） ェチル） ベンジル） 一3— {3—メトキ シー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化 合物 104と記す。） 0. 46 gを得た。
本発明化合物 104
Figure imgf000130_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.66 (2H, d， J=8.0 Hz), 7.14 (2H, d, J=8.0 Hz), 6.94 (1H, d, J=8.0Hz), 6.72-6.76 (2H, m), 5.58 (1H， br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.41 (2H, d， J=5.6 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.95 (2H， t， J=7.2 Hz), 2.59 (6H， s)， 2.48-2.52 (3H, m), 2.33 (3H, s)
製造例 1 0 5
4一 ([1, 3] ジォキゾラン一 2—ィル） ベンジルァミン 1 3. 0 g、 3-{3 —メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル}プロパン酸 1 5. 5 gとを 用い製造例 1 0 1と同様にして N— （4—ホルミルベンジル） — 3— { 3—メト キシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明 化合物 1 0 5と記す。） 14. 7 gを得た。
本発明化合物 1 0 5
Figure imgf000131_0001
Ή-應 R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 9.98 (1H, s), 7.79-7.81 (2H， m), 7.26-7.28 (2H, m), 6.35 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.71-6.75 (2H, m), 5.74 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.48 (2H, d, J=5.5 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.96 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.55 (2H, t， J=7.5 Hz), 2.50 (2H, t， J=2.4 Hz)
製造例 1 0 6
N— (4—ホルミルベンジル） — 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォ キシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 54 g、 〇—メトキシヒドロキシルァミン 塩酸塩 0. 1 5 gとを用い製造例 1 0 2と同様にして N— （4ーメトキシィミノ メチルベンジル） 一 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二 ル} 一プロパンアミド （以下、 本発明化合物 1 06と記す。） 0. 54 gを得た。 本発明化合物 1 0 6
Figure imgf000131_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) d (ppm): 8.03 (1H, s), 7.51 (2H, d， J=8.0 Hz)， 7.14 (2H, d， J=8.0 Hz), 6.94 (1H, d， J=8.0 Hz)， 6.72-6.76 (2H, m), 5.61 (1H, br.s), 4.74 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.42 (2H， d， J=4.8 Hz), 3.97 (3H, s), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.48-2.53 (3H， m)
製造例 1 0 7 N— （4—ホルミルベンジル） 一 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォ キシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 5 6 g、 O—べンジロキシヒドロキシルァ ミン塩酸塩 0. 3 1 gとを用い製造例 1 0 3と同様にして N— (4—ベンジロキ シィミノメチルベンジル） _ 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 1 0 7と記す。） 0. 64 gを得 た。
本発明化合物 1 07
Figure imgf000132_0001
Ή-腿 (CDC13, TMS) d (ppra)： 8.10 (1H, s), 7.50 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.29-7.42 (5H, m)， 7.13 (2H, d, J=8.1 Hz), 6.93 (1H, d， J=7.9 Hz), 6.71-6.74 (2H, m)， 5.58 (1H, br.s), 5.20 (2H, s)， 4.72 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.40 (2H, d， J=5.5 Hz), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.48-2.53 (3H， m)
製造例 1 0 8
N- (4—ホルミルベンジル） — 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォ キシ）フエ二ル}プロパンアミド 3. 48 gおよびエタノール 5 0m lを混合し、 0 °Cで水素化ホウ素ナトリウム 0. 1 0 gを混合し室温で 3時間攪拌後、 再度水 素化ホウ素ナトリウム 0. 1 0 gを混合し室温で 1時間攪拌した。 その後、 反応 混合物に飽和塩化アンモニゥム水および水を加えて減圧下で濃縮し、 酢酸ェチル で抽出した。有機層を飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた固体をへキサンで洗浄して、 N— （4—ヒドロキシメ チルベンジル） 一 3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 1 0 8と記す。） 3. 7 gを得た。
本発明化合物 1 08
Figure imgf000132_0002
CH
Ή一 NMR (CDC13， TMS) δ ( pm)： 7.29 (2H, d, J=7.9 Hz)， 7.13 (2H, d, J=7.9 Hz), 6.93 (1H, d, J=8.7Hz), 6.70-6.73 (2H, m), 5.58 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.67 (2H, d, J=5.5 Hz)， 4.38 (2H， d, J=5.9 Hz), 3.81 (3H, s), 2.94 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.48-2.51 (3H， m), 1.75 (1H, br. t) 3016294
131
製造例 109
N- (4ーヒドロキシメチルベンジル） 一 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロ ピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 1. 5 g、 トリェチルァミン 0. 71 m 1およびテトラヒドロフラン 5 Omlを混合し、 0°Cで塩化メタンスルホニル 0. 35mlを混合し室温で 30分間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加え て減圧下で濃縮し、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水および飽和食 塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた 固体をへキサンで洗浄して、 メタンスルホン酸 4一 {(3- {3—メトキシー 4一 (2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プロピオニル） アミノメチル}ベンジル（以 下、 本発明化合物 109と記す。） 1. 7 gを得た。
本発明化合物 109
Figure imgf000133_0001
¾-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.34 (2H, d， J=8.1 Hz), 7.16 (2H, d, J=8.1 Hz), 6.95 (1H, d, J=7.9 Hz), 6.72-6.75 (2H, m), 5.61 (1H， br.s), 5.21 (2H， s)， 4.74 (2H, d, J=2.8 Hz), 4.42 (2H， d, J=5.5 Hz), 3.82 (3H, s)， 2.94-2.97 (5H, m), 3.82 (3H, s)， 2.49-2.54 (3H， m)
製造例 1 10
N— (4—ホルミルベンジル） —3— {3—メトキシー 4 _ (2—プロピニルォ キシ）フエ二ル}プロパンアミド 1. 2 gおよび塩化メチレン 30mlを混合し、 氷冷下でトリフエニルフォスフィン 5. 3gおよび四臭化炭素 3. 6gを混合し氷 冷下で 2時間攪拌した。 その後、 反応混合物に酢酸ェチルを加え、 飽和重曹水お よび飽和食塩水で順次洗诤し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。 得られた残渣をシリカゲルカラムで精製して N— (4— (2, 2—ジブ口モビニ ル） ベンジル） —3— {3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 1 10と記す。） 0. 2 gを得た。
本発明化合物 1 10
Figure imgf000133_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.75-7.47 (3H, m), 7.13 (2H, d, J=7.9 Hz), 6.94 (1H， d, J=7.9 Hz), 6.72-6.75 (2H, m), 5.60 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.39 (2H， d, J=5.9 Hz), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H, i, J=7.1 Hz), 2.48-2.53 (3H, m)
製造例 1 1 1
メタンスルホン酸 4一 {(3- {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フ ェニル } プロピオニル） アミノメチル} ベンジル 0. 37 g、 臭化リチウム 2. 0 gおよびアセトン 2 Omlを混合し、 還流条件下で 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物に酢酸ェチルを加え、 水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた固体をへキサンで洗浄して、 N— (4—ブロモメチル ベンジル） 一 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プ 口パンアミド （以下、 本発明化合物 1 1 1と記す。） 0. 34 gを得た。
本発明化合物 1 1 1
Figure imgf000134_0001
lH-腿 (CDC13， T S) d (ppm)： 7.32 (2H, d,. J=8.0 Hz), 7.11 (2H， d, J=8.0 Hz), 6.95 (1H, d, J=8.2Hz), 6.71-6.75 (2H, m)， 5.59 (1H, br.s), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.72 (2H, s)， 4.67 (2H, d, J=5.1 Hz), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.48-2.52 (3H, m)
製造例 1 12
メタンスルホン酸 4一 {(3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フ ェニル } プロピオニル） アミノメチル} ベンジル 0. 23g、 ナトリウムメトキシ ド （28%メタノール溶液） 0. 1 1 gおよびテトラヒドロフラン 5mlを混合 し、 室温で 2時間攪拌した。 その後、 反応混合物に酢酸ェチルを加え、 水および 飽和重曹水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られ た固体をへキサンで洗浄して、 N— （4ーメトキシメチルペンジル） 一 3— {3 ーメトキシ— 4 _ (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 1 12と記す。） 0. 15 gを得た。
本発明化合物 1 12
Figure imgf000134_0002
Ή- R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.27 (2H， d, J=7.9 Hz), 7.14 (2H， d, J=7.9 Hz), 6.93 (1H, d, J=8.3Hz), 6.71-6.75 (2H， m)， 5.58 (1H, br.s), 4.73 (2H, d, 2A Hz), 4.43 (2H, s), 4.40 (2H, d, J=5.5 Hz), 3.82 (3H, s)， 3.37 (3H, s), 2.95 (2H， t, J=7.5 Hz), 2.48-2.53 (3H, m)
製造例 1 13
フエノール 52mg、 ジメチルホルムアミド 5m 1および 55%水素化ナトリウ ム 24mgを混合し室温で 1 5分間攪拌した。 反応混合物にメタンスルホン酸 4 — {(3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロピオ二 ル） アミノメチル} ベンジル 0. 20g を混合し、 室温で 3時間攪拌した。 その 後、 反応混合物に酢酸ェチルを加え、 5%塩酸、 水、 飽和重曹水および飽和食塩 水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた固体を シリカゲルカラムで精製して、 N— （4一フエノキシメチルベンジル）一 3— {3 ーメトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 1 13と記す。） 97mgを得た。
本発明化合物 1 13
Figure imgf000135_0001
Ή-NMR (CDClj, TMS) δ (ppm)： 7.37 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.26-7.30 (2H, m), 7.17 (2H, d， J=8.1 Hz), 6.93-6.99 (4H, m), 6.71-6.75 (2H, m), 5.57 (1H, br.s), 5.04 (2H， s), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.41 (2H, d, J=5.6 Hz), 3.82 (3H, s), 3.37 (3H, s)， 2.95 (2H, t， J=7.5 Hz), 2.47-2.52 (3H, m)
製造例 1 14
N— （4ーメチルカルポ二ルペンジル） —3— {3—メトキシ一 4一 （2—プロ ピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 1. 0 gおよび水素化ホウ素ナトリウ ム 0. 06 gを用いて製造例 108と同様の方法で N— {4— （1ーヒドロキシ ェチル） ベンジル } — 3—. {3—メトキシ— 4_ (2—プロピニルォキシ） フエ 二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 1 14と記す。） 1. O gを得た。 本発明化合物 1 14
Figure imgf000136_0001
Ή-N R (CDC13, TMS) δ ( pm)： 7.29 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.12 (2H, d, J=8.1 Hz), 6.93 (1H, d, J=8.5 Hz), 6.69-6.71 (2H, m)， 5.63 (1H, br.s), 4.87-4.88 (1H, m), 4.72 (2H, d， J=2.5 Hz), 4.37 (2H, d, J=5.8 Hz), 3.80 (3H, s), 2.94 (2H， t, J=7.5 Hz), 2.47-2.53 (3H, m)， 1.63 (1H， br.s), 1.47 (3H, d, J=6.5 Hz) 製造例 1 1 5
C一 （6， 7, 8， 9ーテトラヒドロー 5 H—ベンゾシクロヘプテン一 2—ィル） メチルァミン 0. 30 g、 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フ ェニル }プロパン酸 0. 30 gとを用い製造例 94と同様にして N— {(6， 7,
8, 9—テトラヒドロー 5H—べンゾシクロヘプテン— 2—ィル） メチル } - 3
- { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プロパンアミド （以 下、 本発明化合物 1 15と記す。） 0. 34 gを得た。
本発明化合物 115
Figure imgf000136_0002
— MR (CDCI3, TMS) d (ppm)： 7.03 (1H, d, J=7.6 Hz), 6.93-6.95 (2H, m), 6.88 (1H， dd, J=7.6 Hz, 1.7 Hz), 6.72-6.76 (2H, m), 5.56 (1H, br.s), 4.73 (2H， d, J=2.4 Hz), 4.34 (2H, d, J=5.6 Hz)， 3.83 (3H, s), 2.95 (2H, t， J=7.5 Hz), 2.74-2.77 (4H, m), 2.46-2.50 (3H， m), 1.80-1.85 (2H, m), 1.59-1.65 (4H, m) 製造例 1 16
2—フルオロー 3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル}一 プロピオン酸 0. 3 g、 塩化チォニル 0. 1 5mlおよびトルエン 5mlを混合 し、 80°Cで 1時間攪拌した。 室温まで冷却後、 減圧下で濃縮し、 得られた残渣 を、 4一クロ口ベンジルァミン 0. 22 gと、 トリェチルァミン 0. 5m lおよ びテトラヒドロフランの混合物に 0 で混合し、 室温で 1時間攪拌した。 反応混 合物に水および酢酸ェチルを加え、 有機層を分離し、 5%塩酸、 飽和重曹水およ び飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得ら れた固体をへキサンで洗浄して、 N— （4—クロ口ベンジル） 一 2—フルオロー 3 - { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロピオンアミ ド （以下、 本発明化合物 1 16と記す。） 0. 20 gを得た。
本発明化合物 1 16
Figure imgf000137_0001
¾-NMR (CDC13, TMS) 6 (ppm)： 7.25 (2H, d, J=8.2 Hz), 6.93-6.98 (3H, m), 6.77-6.78 (2H, m), 6.44 (1H, br.s), 5.13 (1H, ddd, J=49 Hz, 6.1 Hz, 3.9 Hz), 4.76 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.48 (1H, dd, J=15 Hz, 6.5 Hz), 4.26 (1H, dd, J=15 Hz, 5.3 Hz), 3.82 (3H, s)， 3.28 (1H, ddd, J=26 Hz, 15 Hz, 3.9 Hz), 3.14 (1H, ddd, J=33 Hz, 15 Hz, 6.0 Hz), 2.50 (1H, t, J=2.4 Hz)
製造例 1 17
4ートリメチルシリルベンジルァミン 0. 65 g、 3— {3—メトキシ— 4ー （2 —プロピニルォキシ） フエ二ル}一プロピオン酸 0. 78 gとを用い製造例 94と 同様にして N— （4—トリメチルシリルベンジル） —3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 1 1 7と記す。） 0. 68 gを得た。
本発明化合物 1 17
Figure imgf000137_0002
Ή-NMR (CDC", TMS) δ (ppm)： 7.46 (2H， d, J=8.0 Hz), 7.16 (2H, d, J=8.0 Hz)， 6.94 (1H, d， J=8.0 Hz), 6.71-6.76 (2H, m)， 5.32 (1H, br.s), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.40 (2H, d, J=5.8Hz), 3.82 (3H, s)， 2.95 (2H, t, J=7.5 Hz)， 2.47-2.51 (3H, m), 0.26 (9H， s)
製造例 1 18
メタンスルホン酸 4— {(3— { 3—メトキシ一 4— (2—プロピエルォキシ） フ ェニル }プロピオニル） アミノメチル}一べンジル 0. 30 g、塩化リチウム 0. 30 gとを用い製造例 109と同様にして N— (4—クロルメチルベンジル） 一 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド (以下、 本発明化合物 118と記す。） 0. 25 gを得た。 本発明化合物 1
Figure imgf000138_0001
Ή -腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.32 (2H, d, J=7.9 Hz), 7.13 (2H, d, J=7.9 Hz), 6.94 (1H， d, J=7.9Hz), 6.71-6.75 (2H, m), 5.59 (1H, br.s), 4.74 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.56 (2H， s), 4.40 (2H， d, J=5.9 Hz), 3.82 (3H， s), 2.95 (2H, t， J=7.3 Hz), 2.48-2.52 (3H, m)
製造例 1 19
3— (3， 4ージメトキシフエニル） プロパン酸塩化物 0. 30 g、 （ナフタレ ンー 2—ィル） メチルァミン 0. 21 g、 トリェチルァミン 0. 50ml及びテ トラヒドロフラン 1 Omlを混合し、 室温で 20分間攪拌した。 その後、 反応混合 物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽和炭酸水素ナトリ ゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧 下濃縮した。残渣をへキサンで洗浄して、 N— { (ナフタレン— 2—ィル）メチル } 一 3— (3, 4—ジメトキシフエ二ル)プロパンアミド （以下、 本発明化合物 1 1 9と記す。） 0. 25 gを得た。
本発明化合物 1 19
Figure imgf000138_0002
Ή -腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.75-7.82 (3H, m)， 7.60 (1H, s)， 7.44-7.48 (2H， m), 7.25-7.28 (1H, m), 6.73-6.74 (3H, m), 5.66 (1H, br.s), 4.56 (2H, d, J=5.8 Hz), 3.82 (3H, s)， 3.82 (3H, s)， 2.96 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.53 (2H, t, J=7.5 Hz)
製造例 120
N- (4一ホルミルベンジル） 一 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォ キシ） フエ二ル} プロパンアミド 0. 65 gおよび塩ィ匕メチレン 10m 1を混合 し、 氷冷下でトリフエニルフォスフィン 1. 5gおよび四塩化炭素 2 mlを混合 し氷冷下で 2時間、 ついで室温で 1 5時間攪拌した。 その後、 反応混合物を減圧 下濃縮した。 得れた残渣をシリカゲルカラムで 2回精製して N— （4一 （2， 2 ージクロロビニル） ベンジル） —3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォ キシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 120と記す。） 0. 15 を得た。
本発明化合物 120
Figure imgf000139_0001
¾-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.49 (0.8H， d, J=8.5 Hz), 7.46 (1.2H, d， J=8.2 Hz), 7.12-7.17 (2H, m), 6.93-6.95 (1H, m), 6.82 (0.6H, s)， 6.71-6.75 (2H, m)， 6.68 (0. H, s)， 5.62 (1H， br.s), 4.73-4.74 (2H, m), 4.39-4.42 (2H, m), 3.82 (3H, s), 2.95 (2H, t， J=7.5 Hz), 2.48-2.53 (3H, m)
製造例 121
4— (トリメチルシリルェチニル） ベンジルァミン酢酸塩 0. 52 g、 3-{3- メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プロパン酸 0. 42 g、 WS C O. 38 gおよびジメチルホルムアミド 10m 1を室温で 4時間混合した。 そ の後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 飽和重曹水および飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減 圧下濃縮した。 得られた残渣とメタノール 10 m 1および炭酸力リウム 0. 5 g を室温で 2時間攪拌した。 反応混合物を減圧下で溶媒を留去し、 水を加え酢酸ェ チルで抽出した。 有機層を水、 飽和重曹水および飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸 マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた残渣とシリカゲルカラム 精製に付し、 N— （4一ェチニルペンジル） —3— {3—メトキシ一 4一 (2 - プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 121と記 す。） 0. 21 gを得た。
本発明化合物 121
Figure imgf000139_0002
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.40-7.42 (2H, in), 7.09 (2H, d， J=8.3 Hz), 6.93 (1H， d, J=8.3 Hz), 6.70-6.75 (2H, m), 5.60 (1H， br.s), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.39 (2H, d， J=5.9 Hz), 3.82 (3H, s), 3.06 (1H, s), 2.95 (1H， t, J=7.5 Hz), 2.47-2.59 (3H, m)
製造例 122
4ーシクロプロピルベンジルァミン 0. 51 g、 3— {3—メトキシ一 4一 （2— プロピニルォキシ） フエ二ル}プロパン酸 0. 74g、 WSC0. 67 gおよびジ メチルホルムアミド 10m 1を室温で 2時間混合した。 その後、 反応混合物に水 を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 飽和重曹水および飽和 食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られ た残渣をシリカゲルカラム精製にふし、 N— （4—シクロプロピルベンジル） ― 3— { 3—メトキシ— 4 _ (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド (以下、 本発明化合物 122と記す。） 0. 47 gを得た。
本発明化合物 122
Figure imgf000140_0001
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.05 (2H， d， J=8.2 Hz), 7.00 (2H, d, J=8.2 Hz), 6.93 (1H, d, J=8. lHz)， 6.70-6.75 (2H, m)， 5.59 (1H, br.s), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.35 (2H, d， J=5.6 Hz), 3.82 (3H, s), 2.94 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.46-2.49 (3H, m)
製造例 123
2 _フルオロー 3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プ 口パン酸 0. 2 g、 C—ナフタレン一 2—ィルメチルァミン塩酸塩 0. 1 5 g、 WS C 0. 19 g、 ピリジン lm 1およびジメチルホルムアミド 5m 1を室温で 2時間混合した。 その後、 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機 層を 5%塩酸、 水、 飽和重曹水および飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシゥ ムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲル力ラム精製に付し、 N— { (ナフタレン一 2—ィル） メチル } —2—フルオロー 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 123と記す。） 0. 13 gを得た。
本発明化合物 123
Figure imgf000140_0002
三 CH Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.76-7.82 (3H， m), 7.57 (1H, br.s), 7.46-7.56 ( 2H, m ), 7.17 (1H, d d, J=8.2 Hz, 1.7 Hz), 6.91 (1H, d, 8.7 Hz), 6.78-6.80 (2H, m), 6.50 (1H, br.s), 5.18 (1H, ddd, J=49 Hz, 6.1 Hz, 3.6 Hz), 6.63-6.70 (3H, m), 4.49 (1H, dd, J=15 Hz, 5.3 Hz), 3.80 (3H, s)， 3.14-3.32 (2H, m)， 2.47 (1H, t, J=2.4 Hz)
製造例 124
2—フルオロー 3— {3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プ 口パン酸塩化物の粗製生物 0. 5 g、 4—ブロムベンジルァミン塩酸塩 0. 49 g、 トリェチルァミン 0. 64ml、 ジメチルァミノピリジン約 1 Omgおよび テトラヒドロフラン 1 Omlを室温で 20分間混合した。 その後、 反応混合物に 水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 飽和重曹水および飽 和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得ら れた残渣をシリカゲルカラム精製にふし N— （4—ブロモベンジル） 一 2—フル オロー 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン アミド （以下、 本発明化合物 124と記す。） 0. 23 gを得た。
本発明化合物 1 24
Figure imgf000141_0001
Ή -丽 (CDC13) TMS) δ (ppm)： 7.40 (2H, d, J=8.6Hz)， 6.94 (2H, d, J=8.6Hz)， 6.91 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.77-6.78 (2H, m), 6.44 (1H, br.s), 5.16 (1H, ddd, J=49 Hz， 5.8 Hz, 3.6 Hz), 4.76 (2H, d, J=2.4Hz), 4.47 (1H, dd, J-15 Hz, 6.8 Hz), 4.24 (1H, dd, J=15 Hz, 5.3 Hz), 3.82 (3H, s), 3.24 (1H， ddd, J=25 Hz, 15 Hz, 3.6 Hz), 3.14 (1H, ddd, J=34 Hz, 15 Hz, 5.8 Hz), 2.50 (1H, t, J=2.4 Hz)
製造例 125
2—フルオロー 3— {3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プ 口パン酸塩ィ匕物の粗製生物 0. 5 gおよび 3， 4ージクロルベンジルァミン 0. 39 gとを用い製造例 124と同様にして N— （3， 4ージクロルベンジル） 一 2—フルオロー 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 125と記す。） 0. 31 gを得た。
本発明化合物 125
Figure imgf000142_0001
Ή -腿 (CDC13, TMS) (5 (ppm)： 7.35 (1H, d， J=8.2 Hz), 7.25-2.26 (1H, m)， 6.94 (1H, d, J=8.7 Hz), 6.83 (1H， dd， J=8.2 Hz, 2.2 Hz), 6.76-6.78 (2H, m), 6.49 (1H， br.s), 5.16 (1H, ddd, J=49 Hz, 6.1 Hz, 3.9 Hz), 4.75 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.44 (1H, dd, J=15 Hz, 6.8 Hz), 4.27 (1H, dd, J=15 Hz, 5.5 Hz), 3.82 (3H, s), 3.28 (1H， ddd, J=26 Hz， 15 Hz, 3.9. Hz), 3.14 (1H， ddd, J=33 Hz, 15 Hz, 6.1 Hz), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz)
製造例 1 26
2—フルオロー 3— { 3—メトキシ— 4一 (2—プロピニルォキシ) フエ二ル}プ 口パン酸塩化物の粗製生物 0. 5 gおよび 4—メチルベンジルァミン 0. 2 7 g とを用い製造例 1 24と同様にして N— (4—メチルベンジル） — 2—フルォロ 一 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンアミ ド （以下、 本発明化合物 1 2 6と記す。） 0. 30 gを得た。
本発明化合物 126
Figure imgf000142_0002
-腿 (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.10 (2H, d, J=7.8 Hz), 6.94-6.98 (3H, m), 6.78-6.79 (2H, m), 6.39 (1H, br.s), 5.13 (1H, ddd, J=49 Hz, 6.4 Hz, 3.4 Hz), 4.75 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.44 (1H, dd, J=15 Hz, 6.5 Hz), 4.24 (1H, dd, J=15 Hz, 5.3 Hz), 3.82 (3H， s), 3.28 (1H, ddd, J=27 Hz, 15 Hz, 3.4 Hz), 3.13 (1H， ddd, J=32 Hz, 15 Hz, 6.4 Hz), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz)
製造例 1 2 7
2—フルオロー 3— {3—メトキシ一 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プ ロパン酸塩化物の粗製生物 0. 5 gおよび 4—トリフルォ口メチルベンジルァミ ン 0. 39 gとを用い製造例 1 24と同様にして N— (4—トリフルォロメチル ベンジル） —2—フルオロー 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド （以下、 本発明化合物 1 2 7と記す。） 0. 2 9 gを得 た。
本発明化合物 1 27
Figure imgf000143_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.54 (2H, d, J=8.2 Hz), 7.13 (2H, d, J=8.2 Hz), 6.95 (1H, d, J=8.7 Hz), 6.78-6.79 (2H, m), 6.52 (1H, br.s), 5.18 (1H, ddd， J=49 Hz, 5.8 Hz, 3.8 Hz), 4.75 (2H, d， J=2.4Hz)， 4.58 (1H， dd, J=15 Hz, 6.8 Hz), 4.34 (1H, dd, J=15 Hz, 5.3 Hz), 3.81 (3H, s)， 3.09-3.35 (2H, 1), 2.48 (1H， t, J=2.4 Hz)
製造例 128
2—フルオロー 3— {3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ) フエ二ル}プ 口パン酸塩化物の粗製生物 0. 5 gおよび （5， 6, 7, 8—テトラヒドロナフ 夕レン一 2—ィル） メチルァミン塩酸塩 0. 44 gとを用い製造例 124と同様 にして N— {(5， 6, 7， 8テトラヒドロナフタレン一 2—ィル） メチル } —2 —フルオロー 3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プ 口パンアミド （以下、 本発明化合物 128と記す。） 0. 33 gを得た。
本発明化合物 128
Figure imgf000143_0002
- R (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.00 (1H， d, J=7.8 Hz), 6.95 (1H, d， J=8.7 Hz), 6.78-6.85 (4H， m), 6.39 (1H， br.s), 5.12 (1H, ddd, J=49 Hz, 6.5 Hz, 3.4 Hz), 4.74 (2H, d, J=2.4 Hz), 4. 8-4.39 (2H, m)， 3.83 (3H, s)， 3.28 (1H, ddd, J=28 Hz, 15 Hz, 3.4 Hz), 3.12 (1H, ddd, J=31 Hz, 15 Hz, 6.5 Hz), 2.75-2.80 (4H, m), 2.49 (1H， t, J=2.4 Hz), 1.74-1.82 (4H, m)
製造例 129
N- (4一クロ口ベンジル） 一2—フルオロー 3— {3—メトキシー 4— (2 一プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 1. l g、 ローソン試薬 0. 8 6 g及びテトラヒドロフラン 3 Omlを混合し、 65 で 3時間攪拌した。 その 後、 反応混合物を冷却し、 減圧下濃縮した。 残渣に水を加え酢酸ェチルで抽出し た。有機層を 5 %塩酸、飽和炭酸ナトリゥム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣を.シリカゲルカラムで精 製して、 N— (4—クロ口ベンジル） 一 2—フルオロー 3— { 3—メトキシー 4 6294
142
一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパンチオアミド （以下、 本発明化合 物 129と記す。） 0. 1 5 gを得た。
本発明化合物 129
Figure imgf000144_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.79 (1H, br.s), 7.24-7.29 (2H, m)， 6.92-6.94
(3H, m), 6.78-6.80 (2H, m), 5.52 (1H, dt, J=50 Hz, 4.5 Hz), 4.83 (1H， dd,
J=15 Hz, 6.1 Hz), 4.76 (2H, d, 2.4 Hz), 4.57 (1H, dd, J=15 Hz, 4.8 Hz) , 3.81
(3H, s), 3.27-3.51 (2H, m), 2.50 (1H, t, J=2.4 Hz) 次に本発明中間体の製造につき参考製造例として記す。
3—（4ーヒドロキシ— 3—メトキシフエニル）プロパン酸ェチル 23. 8 g、 臭化プロパルギル 1 1. 4m 1、 炭酸カリウム 20. 5 g及びァセトニトリル 2 5 Omlを混合し、 80°Cで 2時間攪拌した。 その後、 反応混合物を室温まで冷 却し、 酢酸ェチルを加えて濾過した。 濾液を減圧下濃縮し 3— { 3—メトキシー 4- (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸ェチル 28. 9 gを得た。
Figure imgf000144_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.95 (1H, d, J=7.7 Hz), 6.72-6.75 (2H， m), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.13 (2H, q, J=7.2 Hz), 3.86 (3H, s)， 2.90 (2H， t, J=7.5 Hz), 2.60 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.24 (3H, t, J=7.0 Hz) 参考製造例 2
3— {3—メトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸ェ チル 28. 9 g、 水酸化リチウム 4. 0 g、 テトラヒドロフラン 300m l及び 水 100mlを混合し、 65 で 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物 水を加 えて減圧下濃縮した。 残渣に 5%塩酸を加え、 クロ口ホルムで 3回抽出した。 有 機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗净 して、 3— { 3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン 酸 22. 7 gを得た。
Figure imgf000145_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.96 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.73-6.75 (2H, 4.73 (2H， d, J-2.4 Hz), 3.85 (3H, s), 2.91 (2H, t, J=8 Hz), 2.67 (2H, t， J=8 Hz), 2.49 (1H， t， J=2.4 Hz)
参考製造例 3
3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸 1 2. 7 g、 塩化チォニル 4. 3ml , トルエン 100 m 1及び N， N—ジメチル ホルムアミド約 0. 05 gを混合し、 8 Otで 30分間攪拌した。 その後、 反応 混合物を室温まで放冷してから減圧下濃縮し、 3— {3—メトキシ— 4一 （2— プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 14. 6 gを得た。
Figure imgf000145_0002
Ή -醒 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.97 (1H, d, J=8.8 Hz), 6.72-6.74 (2H, m), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 3.87 (3H, s), 3.19 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.99 (2H, t, J=7.2 Hz), 2.49 (1H, i, J=2A Hz)
参考製造例 4
N- (4一メチルベンジル） 一 3— { 3—メトキシー 4— (ベンジルォキシ） フエ二ル} アクリルアミド 6. 2 g、 5%パラジウム炭素 0. 6 g、 水酸化パラ ジゥム 0. 3 g、 エタノール 100ml、 酢酸ェチル 100ml、 テトラヒドロ フラン 100m 1及び 36 %塩酸 lm 1を水素雰囲気下で攪拌した。 水素ガスの 吸収が停止した後、 濾過し、 濾液を減圧下濃縮した。 残渣に、 酢酸ェチルと水と を加え分液した。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残 渣をへキサンで洗浄して、 N— (4—メチルベンジル） 一 3— (4—ヒドロキシ —3—メトキシフエ二ル） プロパンアミド 4. 5 gを得た。
Figure imgf000145_0003
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.10 (2H, d, J=8 Hz), 7.03 (2H, d, J=8 Hz), 6.81 (1H, d， J=8.0 Hz), 6.66-6.70 (2H, m), 5.78 (1H, br.s), 4.35 (2H, d, J=5.1 T/JP2003/016294
144
Hz), 3.82 (3H, s)， 2.92 (2H, d, J=7 Hz), 2.47 (2H, d, J=7 Hz), 2.32 (3H, s) 参考製造例 5
3 - (4—ヒドロキシー 3—メトキシフエ二ル） プロパン酸 50 g、 臭化プロ パルギル 5 Oml、炭酸カリウム 88 g及びァセトニトリル 50 Omlを混合し、 80°Cで 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物を室温まで冷却し、 酢酸ェチルを 加えて濾過した。 濾液を減圧下濃縮し 3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピニ ルォキシ） フエ二ル} プロパン酸 （2—プロピニル） 67 gを得た。
Figure imgf000146_0001
Ή一 NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.96 (1H, d, J=7.8 Hz), 6.68-6.75 (2H， m), 4.73 (2H, d, J-2.2 Hz), 4.68 (2H, d, ]=2.2 Hz), 3.87 (3H, s), 2.93 (2H, t, J=7.3 Hz), 2.67 (2H， t， J=7.3 Hz), 2.47-2.50 (2H, m)
参考製造例 6
3— {3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル}プロパン酸（2 一プロピエル） 67 g、 水酸化リチウム 8. 08 g、 テトラヒドロフラン 400 m 1及び水 20 Omlを混合し、 65°Cで 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物 に水を加えて減圧下濃縮した。 残渣に 5%塩酸を加え、 クロ口ホルムで 3回抽出 した。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサ ンで洗浄して、 3— { 3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸 51 gを得た。
Figure imgf000146_0002
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 6.96 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.73-6.75 (2H, m), 4.73 (2H, d， J=2.4 Hz), 3.85 (3H, s)， 2.91 (2H， t, J=8 Hz), 2.67 (2H, t， J=8 Hz), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz)
参考製造例 7
3— (4—ヒドロキシ— 3—メトキシフエ二ル） プロパン酸 20. 0 g、 4—ク ロロベンジルァミン 1 5 g、 2—二トロフエ二ルポロン酸 0. 5 l g及びトルェ ン 30 Omlを混合し、 還流条件下でディーンスターク装置を用いて脱水しなが ら 4時間攪拌した。 その後、 反応混合液を室温まで冷却し約 100 Omlの酢酸 ェチルを加え、 5%塩酸、 飽和重曹水、 飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシ ゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をトルエンより再結晶して、 N— (4 一クロ口ベンジル） 一3— {4—ヒドロキシー 3—メトキシフエ二ル} プロパン アミド 28 gを得た。
Figure imgf000147_0001
'H-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.25 (2H, d, J=8.5 Hz), 7.03 (2H, d, J=8.5 Hz), 6.83 (1H， d， J-8.0 Hz), 6.66—6.69 (2H， m)， 5.62 (1H, br.s), 5.53 (1H, s), 4.35 (2H， d， J=5.8 Hz)， 3.82 (3H, s)， 2.92 (2H, d, J=7.5 Hz), 2.49 (2H, d, J=7.5 Hz)
参考製造例 8
3— （4ーヒドロキシー 3—メトキシフエ二ル） プロパン酸 12. 5 g、 （Cーナ フタレン一 2—ィル） メチルァミン 10. 0 g、 WSC 1 3. 4g及び N， N— ジメチルホルムアミド 10 Om 1を混合し、 室温で 2時間攪拌した。 その後、 反 応混合液に水を加え、 クロ口ホルムで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽和食塩水 で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサ ンで洗浄して、 N— (ナフタレン一 2—ィルメチル） 一 3— （4ーヒドロキシー 3—メトキシフエ二ル） プロパンアミド 15. l gを得た。
Figure imgf000147_0002
Ή -腿 (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.73-7.84 (3H, m), 7.58 (1H, s)， 7.43-7.51 (2H, m), 7.23-7.27 (1H, m)， 6.82 (1H, d, J=7.6 Hz), 6.67-6.72 (2H, m), 5.67 (1H, br.s), 5.49 (1H， s), 4.56 (2H, d, J=5.9 Hz), 3.77 (3H, s), 2.94 (2H, d, J=7.5 Hz), 2.51 (2H, d, J=7.5 Hz)
参考製造例 9
3 - (4—ヒドロキシー 3—エトキシフエニル）プロパン酸ェチル 16. 2 g、 臭化プロパルギル 7. 3ml、 炭酸カリウム 13. 2 g及びァセトニトリル 16 Om lを混合し、 80°Cで 2時間攪拌した。 その後、 反応混合物を室温まで冷却 し、 酢酸ェチルを加えて濾過した。 濾液を減圧下濃縮し 3— { 3—エトキシー 4 一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸ェチル 18. 8 gを得た。 JP2003/016294
146
Figure imgf000148_0001
^-NMR (CDC13, TMS) δ (ppi)： 6.96 (1H， d, J=8.0 Hz), 6.74 (1H, d, J=1.9 Hz),
6.72 (1H， dd, J=8.0 Hz, 1.9 Hz), 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.12 (2H, q， J=7.0 Hz), 4.07 (2H, q, J=7.0Hz)， 2.89 (2H, t， J=7.5 Hz), 2.59 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.48 (1H， t, J-2.4 Hz), 1.44 (3H, t, J=7.0 Hz), 1.23 (3H, t， J=7.0 Hz) 参考製造例 10
3— { 3—エトキシー 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸ェ チル 28. 7 g、 水酸化リチウム 2. 3 g、 テトラヒドロフラン 18 Om 1及び 水 6 Omlを混合し、 65°Cで 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加え て減圧下濃縮した。 混合物をメチル = t e r t—プチルェ一テルで洗浄し、 水層 を分液し 5 %塩酸を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— { 3—エトキシ一 4— (2—プロピエルォキシ）フエ二ル}プロパン酸 1 5. 5 gを得た。
Figure imgf000148_0002
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 6.97 (1H, d， J=8.2 Hz), 6.74 (1H, d, J=1.9 Hz),
6.73 (1H， dd, J=8.2 Hz, 1.9 Hz), 4.73 (2H， d, J=2.4 Hz), 4.08 (2H, q, J=7.0 Hz), 2.90 (2H, t， J=7.7 Hz), 2.66 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.48 (1H, t, J=2.4Hz)， 1.44 (3H, t, J=7.0 Hz)
参考製造例 11
3 - { 3一エトキシ— 4一 （2—プロピニルォキシ）フエエル）プロパン酸 6. 7 g、 塩化チォニル 3. 2m l , トルエン 10 Oml及び N, N—ジメチルホル ムアミド約 0. 03 gを混合し、 80°Cで 30分間ついで 100°Cで 30分間攪 拌した。 その後、 反応混合物を室温まで冷却してから減圧下濃縮し、 3— {3— エトキシー4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸塩化物 17. 5 gを得た。 TJP2003/016294
147
Figure imgf000149_0001
一 NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 6.98 (1H, d, J=8.3 Hz), 6.71-6.73 (2H, m), 4.74 (2H, d， J=2.4 Hz), 4.08 (2H， q, J=7.1 Hz), 3.18 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.95 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.49 (1H, i, 1=2 A Hz), 1.45 (3H, t, J=7.1 Hz)
参考製造例 12
3— （4ーヒドロキシー 3—メトキシフエニル） ブタン酸ェチル 7. 14 g、 3—ブロムプロピン 3. 93 g、 炭酸カリウム 4. 98 g及びァセトニトリル 5 Omlを混合し、 80°Cで 4時間攪拌した。 その後、 反応混合物を室温まで冷却 し、水を加えて酢酸ェチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄して、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し、 3— { 3—メトキシ— 4一 (2 一プロピニルォキシ） フエ二ル} ブタン酸ェチル 8. 3 gを得た。
Figure imgf000149_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.96 (1H, d, J=8.9 Hz), 6.73-6.78 (2H, m), 4.72 (2H, d, J=2.4 Hz), 4.08 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.86 (3H, s), 3.18-3.29 (1H, m), 2.47-2.63 (3H, m), 1.28 (3H, d, J=7.0 Hz), 1.19 (3H, t, J=7.1 Hz) 参考製造例 13
3— {3—メトキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} ブタン酸ェチ ル 8. 0 g、 水酸化リチウム 1. 04g、 テトラヒドロフラン 40m 1及び水 1 5mlを混合し、 65°Cで 4時間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加えて減 圧下濃縮した。 残渣に 5%塩酸を加え、 クロ口ホルムで 3回抽出し、 有機層を水 および飽和食塩水で順次洗浄した。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減 圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— { 3—メトキシ— 4一 （2—プ ロビニルォキシ） フエ二ル} ブタン酸 7. O gを得た。
Figure imgf000149_0003
Ή-N R (CDCL, TMS ：)) δδ ((ppppmm))：： 6.97 (1H, d， J=8.8Hz)， 6.74-6.78 (2H, m), 4.73
(2H, d， J=2.4 Hz), 3.86 (3H, s), 3.17-3.30 (1H, m), 2.52-2.70 (2H, m), 2.49 (1H, t， J=2.4 Hz), 1.31 (3H, d， J=7.1 Hz)
参考製造例 14
3— {3—メトキシ— 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} ブタン酸 7. O g、 塩化チォニル 5. 0 gおよびトルエン 100m 1を混合し、 50°Cで 30 分攪拌し、 次いで 80°Cで 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物を室温まで放冷. してから減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— {3—メトキシー 4 一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} ブタン酸塩化物 6. 3 gを得た。
Figure imgf000150_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ρρι)： 6.97 (1H, d, J=7.7 Hz), 6.72-6.78 (2H, m), 4.73 (2H, d, J=2.4Hz)， 3.87 (3H, s)， 3.25-3.35 (1H, in), 3.04-3.21 (2H, m)， 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz)， 1.34 (3H, d, J=7.0 Hz)
参考製造例 15
3 - (3—メトキシー 4—ヒドロキシフエニル） 一 2—メチルプロパン酸ェチ ル 5. 93 gを用い参考製造例 12と同様にして、 3— {3—メトキシ— 4— (2 一プロピエルォキシ） フエ二ル} 一 2—メチルプロパン酸ェチル 6. 84gを得 た。
Figure imgf000150_0002
Ή -腿 (CDC13， TMS) d ( pm)： 6.94 (1H, d, J=8.8 Hz), 6.68-6.74 (2H, m)， 4.73 (2H， d， J=2.4 Hz), 4.09 (2H, q， J=7.0 Hz), 3.85 (3H, s), 2.92-3.01 (1H, m)， 2.58-2.74 (2H, i), 2.48 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.19 (3H， t, J=7.2 Hz), 1.15 (3H, d, J=6.8 Hz)
参考製造例 16
3 - {3—メトキシー 4 _ (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} —2—メチル プロパン酸ェチル 6. 50 gを用い参考製造例 13と同様にして、 3— {3—メ トキシー 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} — 2—メチルプロパン酸 5. 33 gを得た。
Figure imgf000151_0001
¾-NMR (CDClg, TMS) δ (ppm)： 6.95 (1H, d, J=8.7 Hz), 6.70-6.75 (2H, m), 4.73 (2H, d, J=2.2 Hz), 3.84 (3H s), 2.97-3.06 (1H, m), 2.58-2.80 (2H, m), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.19 (3H, d, J=6.7 Hz)
参考製造例 1 7
3 - { 3—メトキシー 4一 (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} - 2—メチル プロパン酸 5. 0 3 gを用い参考製造例 14と同様にして、 3— { 3—メトキシ 一 4一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} — 2—メチルプロパン酸塩化物 5. 0 9 gを得た。
Figure imgf000151_0002
Ή一 NMR (CDC13 TMS) δ (ppm)： 6.96 (1H, d J=8.2 Hz), 6.72-6.75 (2H, m 4.73 (2H, d J=2.4 Hz), 3.85 (3H, s 3.07-3.18 (2H, m), 2.67-2.77 (1H, m), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz), 1.28 (3H, d, J=6.8 Hz)
参考製造例 1 8
3— (3—メトキシ—4—ヒドロキシフエニル） — 2—フルォロプロパン酸ェ チルの粗製生物 2. 0 gと 3—ブロモプロピン 0. 8 6m 1を用い参考製造例 1 2と同様にして、 3— { 3—メトキシ一4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} — 2—フルォロプロパン酸ェチルの粗製生物 2. 3 gを得た。
Figure imgf000151_0003
Ή—NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm) : 6.97 (1H, d, J=8.9 Hz), 6.72-6.79 (2H, m), 5.06 (1H, ddd, J=49 Hz, 7.5 Hz, 4.1 Hz) , 4.74 (1H, d, J=2.4Hz), 4.23 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.86 (3H s 3.08-3.20 (2H, m 2.49-2.50 (1H, m), 1.27 (3H, t J=7.0 Hz)
参考製造例 19
3— { 3—メトキシ— 4 2—プロピニルォキシ） フエ二ル} 2—フルォ 口プロパン酸ェチルの粗製生物 2. 3 gを用い、 参考製造例 1 3と同様にして、 3 - {3—メトキシー 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} 一 2—フルォロ
Figure imgf000152_0001
-職 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.98 (1H, d, J=8.7 Hz), 6.74-6.82 (2H, m), 5.21 (1H, ddd, J=49 Hz, 7.5 Hz, 3.6 Hz), 4.75 (1H, d， J=2.4 Hz), 3.86 (3H, s), 3.08-3.31 (2H, m), 2.49 (1H, t, J=2.4 Hz)
参考製造例 20
3— { 3—メトキシ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} — 2—フルォ 口プロパン酸約 4. 7 gを用い参考製造例 14と同様にして、 3 _ {3—メトキ シ— 4— (2—プロピニルォキシ） フエ二ル} _ 2—フルォロプロパン酸塩ィ匕物
Figure imgf000152_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.99 (1H， d， J=8.2 Hz), 6.79-6.82 (2H, m), 5.20 (1H, ddd, J=49 Hz, 7.3 Hz, 3.9 Hz), 4.75 (2H， d, J=2.4 Hz), 3.87 (3H, s), 3.17-3.37 (2H, m), 2.50 (1H, t, J=2.4 Hz) 次に中間体の製造につき参考例として記す。
参考例 1
4一ベンジルォキシ— 3—メトキシベンズアルデヒド 1 00 g、 ジェチルホス ホノ酢酸ェチル 1 2 0 g、 炭酸カリウム 5 7 0 g及び水 5 7 Om lを混合し、 還 流条件下で 2 0時間攪拌した。 その後、 反応混合物を室温まで放冷してから水を 加えて酢酸ェチルで 2回抽出した。油層を分液し、水ついで飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた残渣をエタノールか ら再結晶して 3— { 3—メトキシー 4— (ベンジルォキシ） フエ二ル} アクリル 酸ェチル 58. 6 gを得た。
Figure imgf000152_0003
Ή-NMR (CDC13, TMS) d (ppm)： 7.60 (1H, d, J=15 Hz), 7.29-7.44 (5H, m), 7.06 (1H, d, J=1.9 Hz), 7.02 (1H, dd, J=8.2 Hz, 1.9 Hz), 6.86 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.29 (1H, d, J=15 Hz), 5.18 (2H, s), 4.25 (2H, q, J=7.3 Hz), 3.91 (3H, s), 1.33 (3H, t， J=7.3 Hz)
参考例 2
3- {3—メトキシ一 4— (ベンジルォキシ） フエ二ル} アクリル酸ェチル 3 3 g、 5%パラジウム炭素 0. 3 g、 3 6 %塩酸約 0. 0 5 gおよびエタノール 200m lを水素雰囲気下で攪拌した。 水素ガスの吸収が停止した後、 濾過し、 濾液を減圧下濃縮した。 残渣に、 酢酸ェチルと水とを加え分液した。 有機層を硫 酸マグネシウムで乾燥した後、 活性炭約 5 gおよび苛性白土約 5 gを加えて濾過 し、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— (4—ヒドロキシ— 3— メトキシフエ二ル） プロパン酸ェチル 2 3 gを得た。
Figure imgf000153_0001
Ή-NM (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 6.82 (1H, d, J=7.7 Hz), 6.67-6.70 (2H, m), 5.47 (1H, s)， 4.19 (2H， q, J=7.2 Hz), 3.87 (3H, s)， 2.88 (2H, t， J-7.5 Hz), 2.58 (2H, t, J=7.5 Hz), 1.24 (3H, t， J=7.2 Hz)
参考例 3
3— {3—メトキシ— 4— (ベンジルォキシ） フエ二ル} アクリル酸ェチル 1 0 g、 20 %水酸化ナトリウム水溶液 1 0 g、 に均一になるまでエタノールを混 合した。 得られた混合物を前還流下で 2時間攪拌した。 反応混合物を冷却し、 減 圧下でエタノールを留去後、 水を加え、 5 %塩酸で PH= 2に調節し酢酸ェチル で抽出した。 有機層を飽和食塩水で 2回洗浄し硫酸マグネシゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— { 3—メトキシー 4— (ベン ジルォキシ） フエ二ル} アクリル酸 9 gを得た。
Figure imgf000153_0002
Ή-NMR (CD3SOCD3, TMS) δ (ppm)： 12.18 (1H, s)， 7.51 (1H, d， J=16Hz), 7.33-7.44 (6H, m)， 7.05 (1H， d, J=8.2 Hz), 6.44 (1H, d， J=16 Hz), 6.66-6.70 (2H, m), 5.13 (2H, s), 3.82 (3H, s) 参考例 4
3— {3—メトキシー 4一 （ベンジルォキシ） フエ二ル}アクリル酸 5. 0 g、 塩化チォニル 2ml、 トルエン 100m 1及び N, N—ジメチルホルムアミド約 0. 05 gを混合し、 80°Cで 30分間攪拌した。 その後、 反応混合物を室温ま で放冷してから 圧下において濃縮し、 3— { 3—メトキシ— 4一 （ベンジルォ キシ） フエ二ル} アクリル酸塩化物を得た。 この 3— {3—メトキシー 4— (ベ ンジルォキシ） フエ二ル} —アクリル酸塩化物、 4一メチルベンジルァミン 2. 1 g、トリェチルァミン 3. 7ml及びテトラヒドロフラン 100mlを混合し、 室温で 1時間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加え減圧下で溶媒を留去し、 得られた固体を濾集した。 この固体をへキサンで洗浄後、 乾燥して、 N— (4- メチルベンジル） 一 3— { 3—メトキシー 4— (ベンジルォキシ） フエ二ル} ァ クリルアミド 6. 5 gを得た。
Figure imgf000154_0001
¾-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.58 (1H， d， J=15 Hz), 7.14-7.43 (9H, m), 6.98-6.99 (2H, m), 6,85 (1H, d, J=8.2 Hz), 6.25 (1H, d, J=15 Hz), 5.75 (1H, br.s), 5.75 (2H, s), 4.52 (2H, d, J=5.6 Hz), 3.90 (3H, s)， 2.34 (3H， s) 参考例 5
3— （4ーヒドロキシ— 3—メトキシフエニル） アクリル酸 50 g、 5%パラ ジゥム炭素 0. 5 g、 36%塩酸約 0. 05 g、 エタノール 25 Om 1およびテ 卜ラヒドロフラン 100mlを水素雰囲気下で攪拌した。 水素ガスの吸収が停止 した後、 濾過し、 濾液を減圧下濃縮して、 3— (4—ヒドロキシ— 3—メトキシ フエニル） プロパン酸 52 gを得た。
Figure imgf000154_0002
¾-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.83 (1H, dd, J=7.3 Hz, 0.8 Hz), 6.81-6.70 (2H, m), 3.86 (3H, s), 2.88 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.65 (2H, t, J=7.6 Hz) 参考例 6
3一エトキシ— 4—ヒドロキシベンズアルデヒド 25 g、臭化べンジル 27 g、 炭酸カリウム 25 g及びァセトニトリル 25 Omlを混合し、 還流条件下で 3時 間攪拌した。 その後、 反応混合物を室温まで冷却し酢酸ェチルを加え、 固体を濾 別した。 得られた有機層を減圧下濃縮し、 残渣をメチル = t e r t一ブチルエー テルとへキサンで洗浄して、 4一ベンジルォキシー 3—ェ卜キシベンズアルデヒ ド 36 gを得た。
Ή -蘭 R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 9.82 (1H, s), 7.28-7.44 (7H, m), 6.98 (1H, d, J=8.2 Hz), 5.24 (2H, s)， 4.18 (2H, q， J=7.0 Hz), 1.49 (3H, t, J=7.0 Hz) 参考例 7
ジェチルホスホノ酢酸ェチル 19 g及びテトラヒドロフラン 40 Omlを混合 し、 氷冷下で水素化ナトリウム （含量 60%) 3. 3 g加え 10分間攪拌した。 ついで 4一ベンジルォキシー 3—エトキシベンズアルデヒド 20 gとテトラヒド 口フラン 50mlの混合物を氷冷下徐々に加え、 室温で 1時間攪拌した。 得られ た混合物に水を加え、 減圧下で有機溶媒を留去後、 酢酸ェチルで抽出した。 油層 を分液し、 水、 PH6. 8緩衝液ついで飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウム で乾燥した後、 減圧下濃縮し、 得られた残渣をへキサンで洗浄して 3— {3—ェ トキシー 4— (ベンジルォキシ） フエ二ル} アクリル酸ェチル 25 gを得た。
Figure imgf000155_0001
¾-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.59 (1H, d, J=16 Hz), 7.28-7.44 (5H， m)， 7.07 (1H, d, J=2.0 Hz), 7.02 (1H， dd, J=8.3 Hz, 2.0 Hz), 6.86 (1H， d, J=8.3 Hz), 6.28 (1H， d, J=16 Hz)， 5.18 (2H, s), 4.28 (2H, q, J=7.1 Hz), 4.31 (2H, q, J=6.8 Hz), 1.47 (3H, t, J=6.8 Hz), 1.33 (3H, t, J=7.1 Hz)
参考例 8
3— {3—エトキシ— 4一 （ベンジルォキシ） フエ二ル} アクリル酸ェチル 2 3g、 5%パラジウム炭素 0. 2g、 36%塩酸約 0. 04 g、 エタノール 12 0mlおよびテトラヒドロフラン 100mlを水素雰囲気下で攪拌した。 水素ガ スの吸収が停止した後、濾過し、濾液を減圧下濃縮し残渣をへキサンで洗浄して、 3— (4—ヒドロキシー 3—エトキシフエニル）プロパン酸ェチル 17 gを得た。
Figure imgf000155_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.83 (1H, d, J=8.0 Hz), 6.66-6.70 (2H， m)， 5.55 (1H, s), 4.01-4.15 (4H, m), 2.86 (2H, t, J=7.8 Hz), 2.57 (2H, t, J=7.8 Hz), 1.43 (3H, t, J=6.9 Hz), 1.23 (3H, t， J=7.2 Hz)
参考例 9
4 _ァセチルー 2—メトキシフエノール 30 g、 臭化べンジル 32 g、 炭酸力 リウム 28 g及びァセトニトリル 30 Omlを混合し、 還流条件下で 4時間攪拌 した。その後、反応混合物を室温まで冷却し酢酸ェチルを加え、固体を濾別した。 得られた有機層を減圧下濃縮し、 残渣をへキサンで洗浄して、 4—ベンジルォキ シー 3—メトキシァセトフエノン 46 gを得た。
Ή-腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.28-7.57 (7H, m)， 6.89 (1H, d， J=8.3 Hz), 5.23 (2H， s)， 3.94 (3H， s)， 2.54 (3H, s)
参考例 10
ジェチルホスホノ酢酸ェチル 18 g及びテトラヒドロフラン 40 Omlを混合 し、 氷冷下で水素化ナトリウム （含量 60%) 3. 2 g加え 10分間攪拌した。 ついで 4一ベンジルォキシー 3—メトキシァセトフエノン 20 gとテトラヒドロ フラン 5 Omlの混合物を氷冷下徐々に加え、 室温で 2時間攪拌した。 得られた 混合物に水を加え、 減圧下で有機溶媒を留去後、 酢酸ェチルで抽出した。 油層を 分液し、 水ついで飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下 濃縮し、 得られた残渣をシリカゲルカラムで精製して 3— (3—メトキシ— 4一 ベンジルォキシフエニル） 一 2—ブテン酸ェチル 1 7 gを得た。
Figure imgf000156_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm): 7.22-7.44 (5H, m), 7.00-7.02 (2H, m), 6.86 (1H, d, J=8.7 Hz), 6.09 (1H, q, J=1.2 Hz), 5.17 (2H， s)， 4.21 (2H， q, J=7.0 Hz), 3.92 (3H, s)， 2.55 (3H, d, J=1.2 Hz), 1.31 (3H, t， J=7.0 Hz)
参考例 11
3— {4—ベンジルォキシー 3—メトキシーフエ二ル} —2—ブテン酸ェチル 10. O g、 10%パラジウム炭素 1. O g、 濃塩酸 1 5ml、 10%白金炭素 0. 5 gおよびエタノール 1 00m lを水素雰囲気下で攪拌した。 水素ガスの吸 収が停止した後、濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残渣を酢酸ェチルで分液して、 3— （4—ヒドロキシー 3—メトキシフエ二ル） ブタン酸ェチル 7. 24 gを得 た。
Figure imgf000157_0001
lH-NMR (CDCI3, TMS) δ (pp )： 6.83 (1H, d, J=8.7 Hz), 6.70-6.75 (2H， m), 5.50 (1H, br.s), 4.07 (2H, q, J=7.0Hz), 3.87 (3H, s)， 3.15-3.26 (1H, m), 2.46-2.63 (2H, m)， 1.27 (3H， d, J=6.7 Hz), 1.19 (3H, t， J=7.0 Hz)
参考例 12
4—ベンジルォキシ一 3—メトキシベンズアルデヒド 30 g、 プロパン酸ナト リウム 12 gおよび無水プロパン酸 24 gを混合し、 150°Cで 6時間攪拌した。 その後、反応混合物を室温まで放冷してから水を加えて酢酸ェチルで回抽出した。 油層を分液し、 5%塩酸ついで飽和食塩水で 2回で洗浄し、 硫酸マグネシウムで 乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた残渣をトルエンおよびへキサンで洗浄し て 3— （3—メトキシー 4一べンジルォキシフエニル） 一 2—メチルアクリル酸 28 gを得た。
Figure imgf000157_0002
¾-NMR (CDC", TMS) δ ( pm)： 7.74 (1H， br.s), 7.29-7.45 (5H, m)， 6.99-7.04 (2H, m), 6.91 (1H, d, J=8.9 Hz), 5.20 (2H, s), 3.91 (3H, s), 2.16 (3H， d, J=1.3 Hz)
参考例 13
エタノール 75mlに塩化ァセチル 9mlを混合し室温で 10分間攪拌した混 合物に 3— （3—メトキシ一 4一べンジルォキシフエニル） —2—メチルァクリ ル酸 8. 3 gを混合し、 還流条件下で 2時間攪拌した。 得られた反応混合物を濾 過後、 減圧下で濃縮し、 残渣と 10%パラジウム炭素 1. 0 g、 10%白金炭素
0. 5 g、 36 %塩酸 15m 1およびエタノール 8 Om 1を水素雰囲気下で攪拌 した。 水素ガスの吸収が停止した後、 濾過し、 濾液を減圧下濃縮し残渣をへキサ ンで洗浄して、 3— （4ーヒドロキシ一 3—メトキシフエ二ル） 一 2—メチルー プロパン酸ェチル 5.4 gを得た。
Figure imgf000157_0003
賺 16294
156
Ή-腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.81 (1H, d， J=8.5 Hz), 6.64-6.66 (2H, m), 5.46 (1H, br.s), 4.09 (3H, q, J=7.1 Hz), 3.86 (3H, s), 2.94 (1H, dd, J=13.3 Hz, 6.8 Hz) , 2.56-2.72 (2H, m), 1.20 (3H, t， J=7.1 Hz), 1.14 (3H, d, J=7.0 Hz) 参考例 14
3—ヒドロキシー 4ーメトキシーベンズアルデヒド 15. 2 g、 臭化べンジル 18. O g、 炭酸カリウム 15. 2 g及びァセトニトリル 20 Omlを混合し、 80°Cで 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物を室温まで冷却し、 酢酸ェチルを 加えて濾過した。 濾液を減圧下濃縮し、 残渣をシリカゲルカラムで精製し （3— ベンジルォキシー 4ーメトキシ） ベンズアルデヒド 23. 3 gを得た。
- NMR (CDC13, TMS) d ( pm)： 9.80 (1H， s)， 7.30-7.48 (7H, m), 6.98 (1H, d, J=8.7 Hz), 5.118 (2H, s)， 3.95 (3H, s)
参考例 15
水素化ナトリウム 2. 1 gおよびテトラヒドロフラン 150mlを 0〜5°Cで 混合し、 ジェチルホスホノ酢酸ェチル 1 1. 2 gを少しずつ滴下した。 滴下後、 30分間攪拌した。 次いで、 （3—べンジルォキシー4ーメトキシ） ベンズアルデ ヒド 12. 1 gのテトラヒドロフラン混合液を滴下し、 0〜5 で15分攪拌し、 室温で 30分間攪拌した。 その後、 水を加えて酢酸ェチルで分液し、 有機層を硫 酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサン洗浄して、 3—
(3—ベンジルォキシ— 4—メトキシフエ二ル） アクリル酸ェチル 14. l gを 得た。
Figure imgf000158_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) 6 (ppm)： 7.56 (1H, d, J=15.7 Hz), 7.42-7.47 (2H, m)， 7.34-7.41 (2H, m), 7.27-7.34 (1H, m), 7.11 (1H， dd, J=8.2 Hz, 1.9 Hz), 7.07 (1H， d, J=1.9 Hz), 6.87 (1H, d， J=8.2 Hz), 6.22 (1H， d, J-15.6 Hz), 5.15 (2H, s), 4.24 (2H, q, J=7.0 Hz), 3.91 (3H, s)， 1.32 (3H, t， J=7.0 Hz) 参考例 16
3— （3—ベンジルォキシ— 4ーメトキシフエ二ル） アクリル酸ェチル 8. 0 g、 10%パラジウム炭素 0. 8 g、 およびエタノール 8 Om 1を水素雰囲気下 で攪拌した。 水素ガスの吸収が停止した後、 濾過し、 濾液を減圧下濃縮した。 残 渣をへキサンで洗浄して、 3— （3—ヒドロキシ— 4ーメトキシフエ二ル） プロ 2003/016294
157
パン酸ェチル 5. 53 gを得た。
Figure imgf000159_0001
^-NMR (CDC13, TMS) δ ( pm)： 6.74-6.78 (2H, i), 6.67 (1H, dd， J=8.1 Hz, 2.0 Hz), 5.55 (1H， br.s), 4.12 (2H, q, J=7.0Hz), 3.86 (3H, s), 2.85 (2H, t, J=7.9 Hz), 2.57 (2H， t, J=7.9 Hz), 1.23 (3H, t, J=7.1 Hz)
参考例 17
参考製造例 12と同様の方法で、 3— (3—ヒドロキシー 4—メトキシフエ二 ル） プロパン酸ェチル 2. 24 gから 3— {4—メトキシー 3— （2—プロピニ ルォキシ） フエ二ル} プロパン酸ェチル 2. 53 gを得た。
Figure imgf000159_0002
Ή -腹 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.79-6.89.(3H, m)， 4.74 (2H, d, J=2.4Hz), 4.12 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.84 (3H, s)， 2.89 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.59 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.49 (1H， t, J=2.4 Hz)， 1.24 (3H, t， J=7.1 Hz)
参考例 18
参考製造例 13と同様の方法で、 3_ {4—メトキシー 3— （2—プロピニ ルォキシ） フエ二ル} プロパン酸ェチル 2. 53 gから 3— { 4ーメトキシー 3 一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル} プロパン酸 1. 93 gを得た。
Figure imgf000159_0003
Ή-NM (CDC13， TMS) δ (ppm)： 6.80-6.90 (3H, m), 4.75 (2H, d, J=2.4Hz), 3.84 (3H, s)， 2.91 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.66 (2H, t, J=7.6 Hz), 2.49 (1H， t, J=2.4 Hz)
参考例 19
4ーヒドロキシ一ベンジルァミン塩酸塩 1. 59 g、 3— {3—メトキシ一 4 一 （2—プロピニルォキシ） フエ二ル}—プロパン酸 2. 34g、 WSC2. 1 1 g及びピリジン 25mlを混合し、 室温で 4時間攪拌した。 その後、 反応混合物 に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 および飽和食塩水 で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカ ゲルカラム精製にふし、 N— （4ーヒドロキシーベンジル） 一 3— {4—メトキ シー 3— (2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパンアミド 2. l gを得た。
Figure imgf000160_0001
一 NMR (CDClj, TMS) δ (ppm)： 6.91-7.02 (3H， m), 6.70-6.77 (4H, m), 5.54 (1H, br.s), 4.73 (2H， d, J=2.0 Hz), 4.31 (2H, d， J=5.6 Hz), 3.81 (3H, s)， 2.94 (2H， t, J=7.6 Hz), 2.45-2.52 (3H, m)
参考例 20
N— （4一クロ口ベンジル） 一 3— {4—ヒドロキシ— 3—メトキシフエ二ル} プロパンアミド 1 O g、 臭化べンジル 5. 6 g、 炭酸カリウム 5. 6 g及びァセ トニトリル 15 Omlを混合し、 還流条件下で 4時間攪拌した。 その後、 反応混 合物を室温まで冷却し酢酸ェチルを加え、 固体を濾別した。 得られた有機層を減 圧下濃縮し、残渣をへキサンで洗浄して、 N— （4一クロ口ベンジル） — 3— {4 一べンジロキシー 3—メトキシフエ二ル} プロパンアミド 1 l gを得た。
Figure imgf000160_0002
¾-丽 (CDC13， TMS) 6 (ppm)： 7, 43-7.45 (2H, m), 7.23-7.38 (5H, m), 7.06 (2H, d, J=8.2 Hz), 6.78 (1H， d, J=8.0 Hz), 6.74 (1H, d， J=1.9 Hz)， 6.64 (1H， dd, J=8.0 Hz， 1.9 Hz), 5.89 (1H, br.s), 5.12 (2H, s), 4.35 (2H, d, J=6.1 Hz), 3.84 (3H, s), 2.99 (2H, t, J=7.5 Hz)， 2.49 (2H， t, J=7.5 Hz)
参考例 21
N— （4—クロ口ベンジル） 一 3— {4一べンジロキシー 3—メトキシフエ二 ル} プロパンアミド 3. 7 g、 モノクロルベンゼン 5 Om 1および塩化スルフリ ル 0. 75 g l 50m lを混合し、 室温で 1時間攪拌した。 その後、 反応混合物 にトルエンを加え、 固体を濾別した。 得られた固体ををトルエンおよびへキサン で洗浄しシルカゲルカラムで精製して、 N— (4—クロ口ベンジル） 一 3— {4 一べンジロキシー 2—クロ口— 5—メトキシフエ二ル} プロパンアミド 3. 3 g を得た。
Figure imgf000161_0001
MR (CD3SOCD3, TMS) 6 (ppm)： 8.40 (1H, t, J=5.9 Hz), 7.13-7.45 (9H, m), 7.07 (1H, s), 6.91 (1H， s), 5.08 (2H, s)， 4.24 (2H, d， J=6.1 Hz), 3.70 (3H, s), 2.81 (2H, t, J=7.5 Hz), 2.44 (2H, t, J=7.5 Hz)
参考例 22
N- (4—クロ口ベンジル） 一 3— {4—べンジロキシー 2—クロロー 5—メ トキシフエ二ル} プロパンアミド 3. 0 g、 酢酸 5 Om 1および 48 %臭化水素 酸 1. 48 gを混合し、 80 で 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物を減圧下 で濃縮しシルカゲルカラムで精製して、 N— （4一クロ口ベンジル） —3— {2 一クロロー 4ーヒドロキシー 5—メトキシフエ二ル} プロパンアミド 2. 2 gを 得た。
Figure imgf000161_0002
¾-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.20-7.25 (2H, m), 7.00-7.04 (2H, m), 6.91 (1H， s), 6.71 (1H， s)， 5.69 (1H, br.s), 5.62 (1H， s), 4.34 (2H， d, J=5.8 Hz), 3.78 (3H, s), 3.01 (2H, t， J=7.2 Hz), 2.51 (2H, t， J=7.2 Hz)
参考例 23
3—フルオロー 4ーヒドロキシー 5—メトキシベンズアルデヒド 1. 1 g、 臭 化べンジル 1· 2 g、 炭酸カリウム 1. 3 g及びァセトニトリル 15mlを混合 し、 還流条件下で 4時間攪拌した。 その後、 反応混合物を室温まで冷却し酢酸ェ チルを加え、 固体を濾別した。 得られた有機層を減圧下濃縮し、 残渣をへキサン で洗浄して、 4一べンジロキシー 3—フルオロー 5—メトキシベンズアルデヒド 1. 8 gを得た。 次にジェチルホスホノ酢酸ェチル 1. 5 g及びテトラヒドロフ ラン 2 Omlを混合し、 氷冷下で水素化ナトリウム （含量 55%) 0. 29 gカロ え 10分間混合した混合物に、 4一べンジロキシ— 3—フルオロー 5—メトキシ ベンズアルデヒド 1. 8 gとテトラヒドロフラン 5mlの混合物を氷冷下徐々に 加え、 室温で 1時間攪拌した。 得られた混合物に水を加え、 減圧下で有機溶媒を 留去後、 酢酸ェチルで抽出した。 油層を分液し、 5%塩酸、 飽和重曹水ついで飽 和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し、 得られた残 渣をへキサンで洗浄して 3— （4一ベンジルォキシ— 3—フルオロー 5—メトキ シフエニル） アクリル酸ェチル 3. 6 gを得た。
Figure imgf000162_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) d (ppm)： 7.54 (1H, d, J=16 Hz), 7.44-7.46 (2H, m)， 7.29-7.40 (3H, m)， 6.89 (1H, dd, J=ll Hz, 1.9 Hz), 6.83 (1H， br.s), 6.32 (1H, d, J=16 Hz), 5.14 (2H, s)， 4.26 (2H， q, J=7.2 Hz), 3.88 (3H, s), 1.33 (3H, t， J-7.2 Hz)
参考例 24
3— （4一ベンジルォキシ一 3—フルオロー 5—メトキシフエニル） アクリル 酸ェチル 3. 6 g、 5%パラジウム炭素 0. l g、 36%塩酸約 0. O l g、 ェ 夕ノール 5 Omlを水素雰囲気下で攪拌した。 水素ガスの吸収が停止した後、 濾 過し、 濾液を減圧下濃縮して、 3— (3—フルオロー 4ーヒドロキシー 5—メト キシフエニル） プロパン酸ェチル 2. 2 gを得た。
Figure imgf000162_0002
Ή—腿 R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.58 (1H, dd, J=ll Hz， 2.0 Hz), 6.51-6.52 (1H, m), 4.13 (2H, q, j=7.1 Hz), 3.89 (3H, s)， 2.86 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.58 (2H, t， J=7.7 Hz), 1.24 (3H, t, J=7.1 Hz)
参考製造例 25
3- (3—フルオロー 4ーヒドロキシ— 5—メトキシフエニル） プロパン酸ェ チル 2. 3 g、 臭化プロパルギル 0. 63m 1、 炭酸カリウム 1. 23 g及びァ セトニトリル 300m lを混合し、 還流条件下で 1時間攪拌した。 その後、 反応 混合物を室温まで冷却し、酢酸ェチルを加えて濾過した。濾液を減圧下濃縮した。 得られた残渣、 水酸化リチウム 0. 54 g、 テトラヒドロフラン 40m 1及び水 2 Om lを混合し、 還流条件下で 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物に水を加 えて減圧下濃縮した。 混合物をメチル = t e r t—プチルェ一テルで洗浄し、 水 層を分液し 5%塩酸を加え、 クロ口ホルムで 3回抽出した。 有機層を硫酸マグネ シゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 3— {3_ フルオロー 5—メトキシ一 4一 （2—プロピエルォキシ） フエ二ル} プロパン酸 1. 5 gを得た。
Figure imgf000163_0001
Ή -腿 (CDC13， TMS) δ (ppm)： 6.59 (1H, dd， J=ll Hz, 2.2 Hz), 6.55-6.56 (1H, m)， 4.73 (2H, d, J=2.4 Hz)， 3.56 (3H， s)， 2.90 (2H, t, J=7.7 Hz), 2.67 (2H, t， J=7.7 Hz), 2.27 (1H, t, J=7.1 Hz)
参考例 26
水素化アルミニウムリチウム 7. 58 gおよびテトラヒドロフラン 100m l を混合して、 2—ナフトニトリル 1 5. 3 gのテトラヒドロフラン溶液を少しず つ滴下し、 室温で 3時間攪拌した。 その後、 反応混合物を 0〜5°Cに冷却し、 苛 性ソーダ水を少しずつ滴下した。 滴下後、 濾過し、 濾液を減圧下濃縮した。 残渣 に
酢酸ェチルと水とを加え分液した。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減 圧下濃縮した。 残渣をへキサンで洗浄して、 C—ナフタレン一 2—ィル一メチル ァミン 12. 5 gを得た。
'H-NMR (CDC13， TMS) <5 (ppm)： 7.80-7.83 (3H, m), 7.74 (1H, s), 7.41-7.49 (3H, m), 4.03 (2H, s)， 1.62 (2H, br. s)
参考例 27
塩化アルミ 31 gおよび塩化メチレン 150mlの混合物を氷冷し、 ェチルォキ ザリルクロライド 30 gを混合し氷冷下で 30分間攪拌した、得られた混合物を、 インダン 22 gおよび塩化メチレン 200mlの混合物に氷冷下で徐々に加え室 温で 1時間攪拌した。 反応混合物を氷水に徐々に混合し、 有機層を分液した。 有 機層を水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮して、
-5ーィルーォキソ—酢酸ェチルの粗製生物 37 gを得た。
Figure imgf000163_0002
Ή-NMR (CDCL, TMS) δ (ppm)： 7.84 (1H， s), 7.78 (1H, d， J=7.8 Hz), 7.34 (1H, d, J=7.8 Hz), 4.44 (2H, q, J=7.1 Hz), 2.95-2.99 (4H, m), 2.09-2.17 (2H， m)， 1.42 (3H, t, J =7.1 Hz)
参考例 28
インダン一 5—ィルーォキソ—酢酸ェチルの粗製生物 25 g、 水素化ホウ素ナト リウム 7. 0 gおよびエタノール 25 Om lの混合物を室温で 1時間ついで 6 0°Cで 2時間攪拌した。 反応混合物に水を加え、 減圧下で有機溶媒を留去したの ち、 36%塩酸で pH= 2に調節し、 クロ口ホルムで抽出した。 有機層を水で洗 浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下有機溶媒を留去して、 残渣をへキ サンで洗浄してインダン一 5—^ Γルーエタン— 1， 2ジオール 1 l gを得た。
Figure imgf000164_0001
¾-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.22 (1H, s), 7.20 (1H， d, J=7.7 Hz), 7.11 (1H, d, J=7.7 Hz), 4.78 (1H, dd， J=8.2 Hz， 3.6 Hz), 3.62-3.75 (2H, m), 2.87-2.91 (4H, m), 2.5 (1H, br.s), 2.3 (1H, br.s), 2.03-2.10 (2H, m)
参考例 29
インダン— 5—ィルーェタン— 1, 2ジオールの粗製生物 1 1 g、 過ヨウ素酸 1 8 g、 水 100 m 1およびエタノール 100 m 1の混合物を室温で 12時間攪拌 した。 反応混合物に水を加え、 酢酸ェチルで抽出し、 水で 2回洗浄後、 減圧下で 有機溶媒を留去したのち、 残渣をシリカゲルカラムで精製してインダン一 5—力 ルポアルデヒド 8. l gを得た。
Figure imgf000164_0002
¾-N R (CDC 13， TMS) δ (ppm): 9.95 (1Η, s)， 7.73 (1H, s)， 7.65 (1H, dd, ]=1.1 Hz, 1.2 Hz), 7.36 (1H， d, J=7.7 Hz), 2.97 (4H, t, J=7.5 Hz), 2.08-2.17 (2H, m)
参考例 30
インダン— 5—力ルポアルデヒド 8. l g、 ヒドロキシルァミン塩酸塩 4. 3g、 酢酸ナトリウム 5. 0 g、 水 25m 1およびエタノール 10 Om 1の混合物を室 温で 1時間攪拌した。 反応混合物に水を加え、 メチル = t e r t—プチルェ一テ ルで抽出し、 水ついで飽和食塩水で洗浄後、 減圧下で有機溶媒を留去した。 得ら れた残渣をへキサンで洗浄してィンダン一 5—カルポアルデヒドォキシム 6. 3 gを得た
Figure imgf000165_0001
Ή-N R (CDC13, TMS) δ (ppm)： 8.11 (1H， s), 7.45 (1H, s), 7.30-7.35 (2H, m): 7.22 (1H, d, J=7.7 Hz), 2.91 (4H, t, J=7.5 Hz), 2.05-2.13 (2H， m) 参考例 31
インダン— 5—力ルポアルデヒドォキシム 3. 0 g、 10%パラジウム炭素 0. 8 g、 36%塩酸約 3. 8ml、エタノール 90 m 1を水素雰囲気下で攪拌した。 水素ガスの吸収が停止した後、 濾過し、 濾液を減圧下濃縮して、 インダン一 5- ィル—メチルァミン塩酸塩 3. 2 gを得た。
Figure imgf000165_0002
Ή-醒 (CD3S0CD3, TMS) δ (ppm)： 8.37 (3H, br.s), 7.34 (1H, s), 7.21-7.34 (2H， m), 3.94 (2H， s)， 2.85 (4H, t, J=7.5 Hz), 1.98-2.05 (2H， m)
参考例 32
参考例 27と同様の方法で、 テトラリン 58 gから 5, 6， 7, 8—テトラヒ ドローナフタレン一 2—ィル—ォキソ—酢酸ェチルの粗製生物 55 gを得た。
Figure imgf000165_0003
Ή-腿 (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.69-7.72 (2H, m), 7.17 (1H, d, J=7.8 Hz), 4.44 (2H, q, 1=1 Λ Hz), 2.75-2.83 (4H, m), 1.17—1.85 (4H, m), 1.42 (3H, t, J=7.2 Hz)
参考例 33
参考例 28と同様の方法で、 5， 6, 7， 8—テトラヒドロ一ナフタレン一 2 ーィルーォキソ一酢酸ェチルの粗製生物 30 gから 5, 6， 7, 8—テトラヒド ローナフタレン— 2—ィルーエタン— 1, 2ジオール 17 gを得た。
Figure imgf000165_0004
lH -藤 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.01-7.04 (3H, m), 4.76 (1H, dd, J=8.1 Hz， 3.7), 3.63-3.77 (2H, m), 2.75-2.76 (4H, m), 2.4 (1H, br.s), 2.0 (1H， br.s), 1.17-1.18 (4H, m)
参考例 34
参考例 29と同様の方法で、 5， 6, 7, 8 テトラヒドロ一ナフタレン一 2 ーィルーエタン一 1， 2ジオール 16 gから 5, 6, 7， 8—テトラヒドローナ フタレン一 2一力ルポアルデヒド 13 gを得た c
Figure imgf000166_0001
¾-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm): 9.92 (1H, s)， 7.57-7.59 (2H, m), 7.20 (1H, d, J=7.5 Hz), 2.82-2.85 (4H, m), 1.81-1.84 (4H, m)
参考例 35
参考例 30と同様の方法で、 5, 6, 7, 8—テトラヒドロ—ナフタレン一 2 一力ルポアルデヒド 2. 6 gから 5， 6， 7, 8—テトラヒドローナフタレン一 2—力ルポアルデヒドォキシム 1. 5 gを得た。
Figure imgf000166_0002
Ή一 NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 8.08 (1H, s)， 7.33 (1H, s), 7.26-7.31 (2H, m), 7.07 (1H, d, J=7.6 Hz), 2.75-2.79 (4H, m)， 1.78-1.82 (4H， m)
参考例 36
参考例 31と同様の方法で、 5， 6， 7, 8—テトラヒドローナフ夕レン一 2 —カルボアルデヒドォキシム 2. 6 gから 5， 6, 7, 8—テトラヒドロ—ナフ タレン— 2—ィルーメチルァミン塩酸塩 1. 5 gを得た。
Figure imgf000166_0003
Ή-腿 (CD3S0CD3， TMS) δ (ppm): 8.43 (3H, br.s), 7.17-7.19 (2H, m), 7.06-7.07 (1H， m), 3.89 (12H, d, J=5.1 Hz), 2.70 (4H, s), 1.72-1.73 (4H， m) 参考例 37
参考例 30と同様の方法で、 4ーメトキシー 3—メチルベンズアルデヒド 5. 40 gから 4ーメトキシー 3—メチルベンズアルデヒドォキシム異性体の混合物 4. 69 gを得た。
Ή-N R (CDCI3, TMS) 6 (ppm)： 8.06 (1H, s), 7.81 (1H, br.s), 7.39 (1H, d, J=1.0 Hz), 7.34 (lH, dd, J=8.4 Hz, 2.0 Hz), 6.81 (1H， d, J=8.4 Hz), 3.84 (3H, s), 2.22 (3H, s) 参考例 38
参考例 31と同様の方法で、 4「メトキシー 3—メチルーベンズアルデヒドォ キシム異性体の混合物 4. 69 gから 4ーメトキシー 3—メチルーベンジルアミ ン塩酸塩 4. 50 gを得た。
'H-NMR (DMS0- d6, T S) δ (ppm)： 8.26 (3H, br.s)， 7.23-7.28 (2H, i), 6.94 (1H, d, J=8.2 Hz), 3.88 (2H, s), 3.77 (3H, s), 2.13 (3H, s)
参考例 39
参考例 30と同様の方法にて、 4—フエノキシ—ベンズアルデヒド 4. 96 g から 4一フエノキシ一べンズアルデヒドォキシム異性体の混合物 5. 00 gを得 た。
Ή -腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 8.11 (1H， s), 7.54 (2H， d, J-8.7 Hz), 7.32-7.40 (3H, m), 7.15 (1H， t, J-7.4 Hz), 7.04 (2H, d, J=7.7 Hz), 6.99 (2H, d， J=8.7 Hz)
参考例 40
参考例 31と同様の方法にて、 4一フエノキシ—ベンズアルデヒドォキシム異 性体の混合物 4. 61 gから 4—フエノキシ—ベンジルァミン塩酸塩 4. 7 1 g を得た。
Ή -腿 (DMS0-d6, TMS) δ (ppm)： 8.32 (3H, br.s), 7.48 (2H, d， J=8.7 Hz), 7.36-7.43 (2H, m), 7.15 (1H, t， J=7.4 Hz), 6.95-7.04 (4H, m), 3.97 (2H， s) 参考例 41
フタルイミドカリ 9. 5 g、 4—シァノベンジルブロマイド 10 gおよびジメ チルホルミ 100mlを混合し 100°Cで 4時間攪拌した。 その後、 反応混合物 を室温まで冷却して水をくわえ、 酢酸ェチルで抽出した。 油層を 5%塩酸、 飽和 重曹水、 飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮 した。 得られた残渣をへキサンで洗浄して N— (4—シァノ—ベンジル） フタル イミド 13 gを得た。
Figure imgf000167_0001
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.87 (2H, dd, J=5.4 Hz, 2.9 Hz), 7.74 (2H， dd, J=5.4 Hz, 2.9 Hz), 7.62 (2H， d， J=8.3 Hz), 7.52 (2H, d, J=8.3 Hz), 4.89 (2H, s)
参考例 42
N— （4ーシァノーベンジル） フタルイミド 4. 00 gおよびメタノール 1 5 m 1の混合物にヒドラジン 1水和物 0. 90 gを滴下し 65 で 2時間半攪拌し た。 その後、 反応混合物を室温まで冷却して水をくわえ、 減圧下濃縮した。 残渣 に 1N—塩酸水を加え、 濾過した。 濾液に酢酸ェチルを加え、 25%苛性ソーダ 水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、 粗 4一シァノベンジルァミン 0. 84 gを得た。
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ ( pm)： 7.61 (2H, d, J=8.2 Hz)， 7.44 (2H, d, J=7.9 Hz), 3.95 (2H, s)， 1.55 (2H, br. s)
参考例 43
参考例 30と同様の方法にて、 4 _ベンジルォキシ—ベンズアルデヒド 6. 3 9 gから 4一べンジルォキシ一べンズアルデヒドォキシム異性体の混合物 6. 4 gを得た。
Ή-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 8.08 (1H, s)， 7.50 (2H, d, J=8.8 Hz), 7.30-7.47 (5H, i), 6.98 (2H, d， J=8.7 Hz), 5.09 (2H, s)
参考例 44
参考例 31と同様の方法にて、 4一べンジルォキシ一べンズアルデヒオキシム 異性体の混合物 6. 4 gから 4ーヒドロキシ—ベンジルァミン塩酸塩 4. 0 gを 得た。
Ή-NMR (DMS0-d6, TMS) 6 (ppm)： 9.68 (1H, br.s), 8.31 (3H, br.s), 7.28 (2H， d, J=7.6 Hz), 6.79 (2H, d, J=7.6 Hz), 3.84-3.88 (2H, m)
参考例 45
2， 6—ジメチルナフタレン 1. 87 g及び 50%酢酸水溶液 20 Om 1を混 合し、 80 にて加熱懸濁状態とした。 この混合液に硝酸二アンモニゥムセリゥ ム （I V) 26. 3 g及び 50%酢酸水溶液 400mlの混合溶液を、 約 1時間 かけて滴下した。 さらに 80°Cで 1時間攪拌した。 その後、 反応液を室温まで冷 却して、 クロ口ホルムで抽出した。 有機層を水、 飽和重曹水、 飽和食塩水で順次 洗浄し、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム精製に付し、 6—メチルー 2 —ナフトアルデヒド 0. 90 gを得た。
Ή-N R (CDC13, TMS) <5 (ppm): 10.1 (1H, s)， 8.29 (1H, s)， 7.80-7.95 (3H, m), 7.68 (1H, s)， 7.42 (1H, dd, J=8.4 Hz, 1.6 Hz), 2.56 (3H, s) 参考例 46
参考例 30と同様の方法にて、 6—メチル—2—ナフトアルデヒド 1. 74g から 6—メチルー 2—ナフトアルデヒドォキシムの異性体混合物 1. 56 gを得 た。
-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 8.27 (1H, s)， 7.83 (1H, s), 7.71-7, 81 (3H, m), 7.60 (1H, s), 7.41 (1H， s), 7.34 (1H， dd， J=8.5 Hz, 1.7 Hz), 2.51 (3H, s) 参考例 47
参考例 31と同様の方法にて、 6—メチルー 2—ナフトアルデヒドォキシム異 性体の混合物 1. 468から〇ー （6—メチル—ナフタレン一 2—ィル） ーメチ ルァミン塩酸塩 1. 60 gを得た。
Ή-NMR (DMS0-d6, TMS) δ (ppm)： 8.64 (3H, br.s), 7.96 (1H, s), 7.86 (1H， d, J=8.7Hz), 7.80 (1H， d, J-8.3 Hz), 7.71 (1H, s)， 7.60-7.64 (1H, in), 7.37-7.43 (1H, m)， 4.10-4.20 (2H, m), 2.48 (3H, s)
参考例 48
参考例 45と同様の方法にて、 2, 7—ジメチルナフタレン 1. 87 gから 7 —メチルー 2—ナフトアルデヒド 0. 85 gを得た。.
'H-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 10.1 (1H, s)， 8.25 (1H, s), 7.89 (2H, d， J=0.8 Hz), 7.81 (1H, d, J=8.3 Hz), 7.77 (1H, s)， 7.48 (1H, dd, J=8.7 Hz, 1.5 Hz), 2.55 (3H, s)
参考例 49
参考例 30と同様の方法にて、 7—メチルー 2—ナフトアルデヒド 1. 32 g から 7—メチル—2—ナフトアルデヒドォキシム異性体の混合物 0. 78 gを得 た。
ΐ-NMR (CDC13， TMS) δ (ppm): 8.27 (1H, s)， 7.70-7, 82 (4H, m), 7.61 (1H, s), 7.50 (1H, br.s), 7.34 (1H, dd, J=8.3 Hz, 1.7 Hz), 2.51 (3H, s)
参考例 50
参考例 31と同様の方法にて、 7—メチルー 2—ナフトアルデヒドォキシム異 性体の混合物 0. 788から（：— （7—メチル—ナフタレン一 2—ィル） ーメチ ルァミン塩酸塩 0. 72 gを得た。
Ή-NMR (DMS0-d6, TMS) 6 (ppm): 8.54 (3H, br.s), 7.89-7.93 (2H, m), 7.84 (1H, d, J=8.3 Hz), 7.66 (1H, s)， 7.56 (1H, dd, J=8.5 Hz, 1.6 Hz), 7.39 (1H， dd, J=8.5 Hz, 1.6 Hz), 4.16 (2H, s)， 2.48 (3H, s) 3016294
168
参考例 5 1
テトラヒドロフラン 50 Om 1と水素化カリウム （流動パラフィン混合物、 含 量 35%) 8. 7 gを混合した。 0 に冷却し 4—クロルフエニル酢酸ェチル 1 5 gを混合し 0 で 30分間攪拌後、 3—ブロモプロピン 5. 7mlを徐々に混 合し、 0°Cで 30分、 ついで室温で 8時間混合した。 反応混合物に水をくわえ、 酢酸ェチルで抽出し、 油層を 5%塩酸、 飽和重曹水、 飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた残渣をシリカゲル力 ラムで精製して 2— （4一クロ口フエニル） 一 4一ペンチン酸ェチル 13 gを得 た。 2— （4一クロ口フエニル） —4一ペンチン酸ェチル 13 g、 20%苛性ソ —ダ水溶液 27m lおよびエタノール約 60 m 1を 0 °Cで混合し、 70 °Cで 1時 間攪拌した、 反応混合物に水をくわえ、 5%塩酸で PH= 2に調節し、 酢酸ェチ ルで抽出した。 油層を PH6. 8緩衝液、 飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネ シゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた残渣をへキサンで洗浄して 2—
(4一クロ口フエニル） 一 4一ペンチン酸 10 gを得た。
lH-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.20-7.35 (4H， m), 3.80 (1H, t， J=7.6 Hz), 2.90 (1H, ddd, J=17 Hz, 7.6 Hz, 2.7 Hz), 2.64 (1H, ddd, J=17 Hz, 7.6 Hz, 2.7 Hz), 1.97 (1H, t, J=2.7 Hz)
参考例 52
2— （4—クロ口フエニル） —4一ペンチン酸 1. O g、 ジフエ二ルホスホリ ルアジド 1. 2m 1、 トリェチルァミン lm 1と t e r t—ブタノール 15m 1 を混合し、 還流条件下で 3時間攪拌した、 反応混合物を冷却し水を加えて酢酸ェ チルで抽出し、 油層を 5%塩酸、 飽和重曹水、 飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マ グネシゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた残渣（{1— (4ークロロフ ェニル） 一 3—ブチニルァミン } カルパミン酸 t e r t—プチル） とトリフルォ 口酢酸 1 m 1、 酢酸 6 m 1および水 3 m 1に混合し、 70 °Cで 3時間攪拌した、 反応混合物を減圧下で濃縮して 1一 （4一クロ口フエニル） 一 3—ブチェルアミ ン酢酸塩の粗製生物 0. 85 gを得た。 得られた 1— (4一クロ口フエニル） 一
3一プチニルァミン酢酸塩は精製せずにそのまま使用した。
Figure imgf000170_0001
Ή- NMR (CDCL, TMS) δ (ppm)： 7.20-7.41 (4H, m), 4.8 (1H， br.s), 3.02-3.18 6294
169
(1H, m)， 2.62-2.76 (2H， m)， 2.02 (1H, t, J=2.7 Hz), 1.43 (9H， s) 参考例 53
4—クロルァセトフエノン 10 g、 ホルムアミド 12 gおよび蟻酸 1. 0 gを 混合し、 170°Cで 6時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却後に水をくわえ、 酢酸ェチルで抽出し、 油層を水で順次洗浄し、 減圧下濃縮した。 得られた残渣を 36%塩酸を混合し 100°Cで 1時間攪拌した、 反応混合物に水をくわえ、 メチ ル = t e r t—ブチルエーテルで洗浄した。 水層を 20%苛性ソーダ水溶液で P H=l 0に調節し、 メチル = t e r t—ブチルエーテルで 2回抽出した。 油層を 水ついで飽和食塩水で順次洗浄し、炭酸力リゥムで乾燥した後、減圧下濃縮した。 得られた残渣をへキサンで洗浄して 1一 （4—クロ口フエニル） ーェチルァミン 8. 4 gを得た。
Ή -霞 (CDC", TMS) δ (ppm)： 7.27-7.30 (4H, m), 4.10 (1H, q, J=6.5 Hz), 1.56
(2H, br.s), 1.36 (3H, d, J=6.5 Hz)
参考例 54 ,
参考例 53と同様の方法で、 3, 4—ジクロルァセトフエノン 9. 5 gから 1
― (3， 4—ジクロロフエニル） ェチルァミン 6. 6 gを得た。
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.46 (1H, d, J=2.2 Hz), 7.38 (1H, d, J=8.2 Hz),
7.18 (1H, dd, J=8.2 Hz, 2.2 Hz), 4.19 (1H, q, J=6.5 Hz), 1.53 (2H， br.s),
1.35 (3H, d, J=6.5 Hz)
参考例 55
参考例 53と同様の方法で、 2—ァセチルナフタレン 5. 3 gから 1—ナフタ レン一 2—ィルェチルァミン 4. l gを得た。
Ή-NMR (CDC13, TMS) 6 (ppm)： 7.76-7.84 (4H， m)， 7.41-7.54 (3H, m), 4.28 (1H, q, J=6.6 Hz), 1.59 (2H, br.s), 1.46 (3H, d, J=6.5 Hz)
参考例 56
2—ァセチルー 5, 6, 7, 8—テトラヒドローナフタレン 3. O g、 ホルムァ ミド 3. l gおよび蟻酸 0. 34 gを混合し、 170°Cで 6時間攪拌した。 反応 混合物を室温まで冷却後に水をくわえ、 酢酸ェチルで抽出し、 油層を水で順次洗 浄し、 減圧下濃縮した。 得られた残渣を 36%塩酸を混合し 100°Cで 1時間攪 拌した、 反応混合物に水をくわえ生成物を濾別して減圧下で乾燥して 1一 （5， 6, 7, 8—テトラヒドロナフタレン— 2ィル） ーェチルァミン塩酸塩 2. 5 g を得た。 JP2003/016294
170
¾-NMR (CD3SOCD3, T S) d (ppm)： 8.51 (3H, br.s), 7.19-7.22 (2H, m), 7.08 (1H, d， J=8.0 Hz), 4.23-4.29 (1H， m), 2.70-2.71 (4H, m) , 1.72-1.74 (4H, m), 1.48 (3H, d, J=6.8 Hz)
参考例 57
4—クロロー 2—フルォロベンズアルデヒド 4. 75 g及びメタノール 3 Oml を混合した。 0°Cに冷却して水素化ホウ素ナトリウム 0. 578を加ぇ0 で3 0分、 次いで室温で 1時間攪拌した。 反応混合液に水を加え、 減圧下濃縮した。 得られた残渣をクロ口ホルムで抽出した。 有機層を 5%塩酸、 飽和食塩水で順次 洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮して、 （4一クロロー 2—フ ルオロフェニル） メタノール 4. 57 gを得た。
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.37 (1H, t， J=8.0 Hz)， 7.12-7.17 (1H， m)， 7.08 (m， dd, J=9.7 Hz, 1.9 Hz), 4.73 (2H, s)， 2.04 (1H, br.s)
参考例 58
(4一クロロー 2—フルオローフエニル） メタノール 4. 75 g、 トリェチルァ ミン 4. 31 g及びテトラヒドロフラン 6 Om 1を混合した。 0°Cに冷却して塩 化メタンスルホン酸 4, 24 gを加え 0°Cで 30分、 次いで室温で 2時間攪拌し た。 反応混合液に水を加え、 減圧下濃縮した。 得られた残渣をクロ口ホルムで抽 出した。 有機層を 5%塩酸、 飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥 した後、 減圧下濃縮して、 メタンスルホン酸 （4—クロロー 2—フルォロベンジ ル） 3. 4gを得た。
一 NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.37-7.43 (1H， m)， 7.14-7.22 (2H, m), 5.25 (2H, s), 3.01 (3H, s)
参考例 59
フタルイミドカリウム 2. 64g、 メタンスルホン酸 （4一クロロー 2—フル オローベンジル） 3. 4gおよび N， N—ジメチルホルムアルデヒド 8 Om 1を 混合し室温で 2時間攪拌した。 その後、 反応混合物に水をくわえ、 クロ口ホルム で抽出した。 有機層を 5%塩酸、 水、 飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシゥ ムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた残渣をへキサンで洗浄して N— (4 一クロ口— 2—フルオローベンジル） フタルイミド 2. 92 gを得た。
Figure imgf000172_0001
3016294
171
Ή—NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.85-7.88 (2H, m), 7.71-7.75 (2H, ), 7.27-7.33 (1H， m), 7.05-7.11 (2H， m)， 4.89 (2H, s)
参考例 60
N— (4—クロロー 2—フルオローベンジル） フタルイミド 2. 7 gおよびメタ ノール 50m 1の混合液にヒドラジン 1水和物 0. 90 gを滴下し 65°Cで 2時 間半攪拌した。 その後、 反応混合物を室温まで冷却して水をくわえ、 減圧下濃縮 した。 残渣に 1N—塩酸水を加え、 濾過した。 濾液にクロ口ホルムを加え、 該混 合液の水層が塩基性になるまで 25 %水酸化ナトリゥム水溶液を加えて分液し、 得られた有機層を飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減 圧下濃縮し、 得られた残渣にァセトニトリル 2 Omlおよび濃塩酸 2mlを加え た。 その後、 減圧下濃縮して得られた残渣をへキサンで洗浄して 4一クロロー 2 一フルォロ—ベンジルァミン塩酸塩 1. 1 3 gを得た。
Ή-NMR (CD3S0CD3, TMS) δ (ppm)： 8.36 (3H, br.s), 7.51-7.68 (2H, m), 7.40 (1H， d, J=8.4 Hz), 4.04 (2H, s)
参考例 61
参考例 57と同様の方法で、 4一クロロー 3—フルォロベンズアルデヒド 3. 96 gから （4一クロロー 3—フルオローフエニル） メタノール 3. 98 gを得 た。
Ή-N R (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.33-7.39 (1H, m), 7.15-7.20 (1H, m), 7.05-7.09 (1H, m), 4.67 (2H, s)， 1.83 (1H， br.s)
参考例 62
参考例 58と同様の方法で、 （4一クロ口— 3—フルオローフエニル） メタノ一 ル 3. 98 gからメタンスルホン酸（4—クロロー 3 _フルオローベンジル） 5. 77 gを得た。
Ή-證 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.42-7.46 (1H, m), 7.20-7.24 (1H, m), 7.12-7.17 (1H， ), 5.19 (2H, s)， 3.00 (3H， s)
参考例 63
参考例 59と同様の方法で、 メタンスルホン酸 （4—クロロー 3—フルオロー ベンジル） 5. 77 gからN— （4一クロロー 3—フルオローベンジル） フ夕ル イミド 6. 23 gを得た。
Figure imgf000174_0001
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.84-7.88 (2H, m)， 7.71-7.75 (2H, m), 7.30-7.36 (1H， m), 7.22 (1H, dd， J=9.5 Hz, 1.9 Hz), 7.14-7.18 (1H, m), 4.80 (2H, s) 参考例 64
参考例 6 0と同様の方法で、 N— （4—クロロー 3—フルオローベンジル） フ タルイミド 6. 23 gから 4一クロロー 3—フルオローベンジルァミン塩酸塩 1. 2 gを得た。
'H-NMR (CD3S0CD3, TMS) δ (ppm)： 8.35 (3H, br.s), 7.56-7.70 (2H, m), 7.33-7.49 (1H， m), 4.05 (2H, s)
参考例 6 5
参考例 45と同様の方法で、 2—フルオロー 6—メチルナフ夕レン 1. 0 gか ら 6—フルオロー 2—ナフトアルデヒド 0. 2 5 gを得た。
'H-NMR (CDC13， TMS) 8 (ppm)： 10.1 (1H, s)， 8.33 (1H， s), 7.95-8.05 (2H, m), 7.88 (1H, d， J=8.4 Hz), 7.52 (1H, dd， J=9.4 Hz, .2.4 Hz), 7.37 (1H, dt, J=8.6 Hz, 2.4 Hz)
参考例 6 6
参考例 3 0と同様の方法にて、 6—フルオロー 2—ナフトアルデヒド 0. 5 5 gから 6—フルオロー 2—ナフトアルデヒドォキシム異性体の混合物 0. 5 3 g を得た。
Ή -腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 8.26 (1H， s), 7.75-7.90 (4H, m)， 7.42-7.47 (2H, m)， 7.28 (1H, dt, J=8.8 Hz, 2.6 Hz)
参考例 6 7
参考例 3 1と同様の方法にて、 6—フルオロー 2—ナフトアルデヒドォキシム 異性体の混合物 0. 5 38から〇— （6—フルオローナフタレン一 2—ィル） ― メチルァミン塩酸塩 0. 5 1 gを得た。
Figure imgf000174_0002
Ή-NMR (CD3SOCD3, TMS) δ (ppm)： 8.57 (3H, br.s), 7.94-8.10 (3H， m), 7.66-7.78 (2H， m), 7.48 (1H, dt, J=8.8 Hz, 2. Hz), 4.17 (2H, s)
参考例 6 8 4ーシァノアセトフエノン 10 g、 エチレングリコ一ル 6. 4g、 p—トルェ ンスルホン酸約 0. 1 gおよびトルエン 150mlを脱水しながら還流条件下で 3時間攪拌した。 ついで再度ェチエングルコール 5mlを混合し脱水しながら還 流条件下で 3時間攪拌した。 反応混合物を室温まで冷却し、 水、 飽和重曹水およ び飽和食塩水で順次洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮した。 得られた残渣をへキサンで洗浄して 4 _ (2—メチルー [1, 3] ジォキソラン 一 2—ィル） ベンゾニトリル 11 gを得た。
Figure imgf000175_0001
Ή-腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.58-7.65 (4H, i), 4.02-4.15 (2H, m)， 3.71-3.86 (2H, m), 1.63 (3H， s)
参考例 69
リチウムアルミニウムハイドライド 4. 4 gをテトラヒドロフラン 15 Oml に混合し、 4— (2—メチル— [1， 3] ジォキソラン一 2—ィル） ベンゾニト リル 10 gとテトラヒドロフラン 30mlの混合物を徐々に混合した。 反応混合 物を還流条件下で 2時間攪拌し、 室温に冷却後、 20%水酸化ナトリウム水溶液 9mlおよび水 1 lmlを徐々に混合しついで室温で 1時間攪拌後濾過し、 固体 を除去した。 得られた溶液を減圧下で濃縮して 4 _ (2—メチル— [1， 3] ジ ォキソラン— 2—ィル） ベンジルァミン 11 gを得た。
Figure imgf000175_0002
NMR (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.44 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.28 (2H, d， J-8.1 Hz), 4.02-4.05 (2H， m), 3.86 (2H, s)， 3.76-3.79 (2H, m), 1.65 (3H, s)1.46 (2H， br. s)
参考例 70
4—シァノベンズアルデヒド 11 g、 エチレングリコール 8. 6 gを用いて参 考例 68と同様の方法にて 4— ([1， 3] ジォキソラン一 2—ィル） ベンゾニト リ レ 13 gを得た。
Figure imgf000175_0003
03016294
174
Ή -腿 (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.67 (2H， d, J=8.4 Hz), 7.59 (2H, d, J=8.4 Hz), 5.85 (1H, s), 4.09-4.11 (2H, m), 4.05-4.07 (2H, m)
参考例 71
リチウムアルミニウムハイドライド 5. 5 gおよび 4— ([1， 3] ジォキソラ ンー 2ィル） 一べンゾニトリル 13 gを用いて参考例 69と同様の方法を用いて 4- ([1, 3] ジォキソラン一 2—ィル） ベンジルァミン 13 gを得た。
Figure imgf000176_0001
¾-NMR (CDC13, TMS) 8 (ppm)： 7.44 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.32 (2H, d, J=8.0 Hz), 5.80 (1H, s)， 4.07-4.16 (2H, m), 4.01-4.05 (2H, m), 3.88 (2H, s)1.43 (2H， br. s)
参考例 72
1一べンゾスベロン 25 g、 エタノール 30 Om 1および水素化ホウ素ナトリウ ム 3. 0 gを室温で 3時間混合した。 混合物に飽和塩化アンモニゥム水溶液を加 え、 減圧下で濃縮し酢酸ェチルを加えて抽出した。 有機層を水、 および飽和食塩 水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮して 6, 7, 8, 9一 テトラヒドロー 5H—ベンゾシクロヘプテン一 5—オール 25 gを得た。
Figure imgf000176_0002
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.43 (1H, d， J-7.1 Hz), 7.01-7.22 (3H, m), 4.93 (1H, d, J=5.5 Hz), 2.91 (1H, dd, J=14 Hz, 8.3 Hz), 2.71 (1H, ddd, J=14 Hz， 11 Hz, 1.7 Hz), 2.02-2.07 (1H, m), 1.93-1.97 (1H, m), 1.75-1.86 (4H, m)， 1.50-1.51 (1H, m)
参考例 Ί 3
6, 7, 8， 9—テトラヒドロー 5 H—ベンゾシクロヘプテン一 5—オール 25 g、 10%パラジウム炭素 2. 4g、エタノ一ル 20 Omlおよび 36%塩酸 0. 5mlを水素気流下で水素ガスの吸収がなくなるまで混合した。 濾過後、 減圧下 で濃縮し、 残渣にへキサンを加えて水、 飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮して 6， 7, 8, 9—テトラヒドロ 一 5 H—べンゾシクロヘプテン 22 gを得た。
Figure imgf000177_0001
Ή-匿 (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.G8 (4H, s)， 2.77-2.80 (4H, m), 1.80-1.86 (2H, m), 1.63-1.69 (4H, m)
参考例 74
6， 7， 8， 9—テトラヒドロ— 5H—べンゾシクロヘプテン 7. 2 g、 ェチル ォキザリルクロライド 6. 2 gおよび塩化アルミ 6. 3 gを用いて参考例 27と 同様の方法で 6， 7, 8， 9ーテトラヒドロ— 5 H—ベンゾシクロヘプテン— 2 ーィルーォキソ—酢酸ェチルの粗生成物 12 gを得た。
Figure imgf000177_0002
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.70-7.73 (1H, m), 7.21 (1H, d, J=4.6 Hz), 7.09 (1H， s), 4.44 (2H， q, J=7.0 Hz), 2.77-2.87 (4H, m), 1.80-1.88 (2H, m), 1.63-1.67 (4H, m), 1.42 (3H, t， J-7.0 Hz)
参考例 75
6, 7, 8， 9—テトラヒドロ— 5H—べンゾシクロヘプテン一 2—ィルーォキ ソ—酢酸ェチル 7. 3 g、 水素化ホウ素ナトリウム 2. 2 gを用いて参考例 28 と同様の方法で 6， 7, 8， 9ーテトラヒドロ— 5 H—べンゾシクロヘプテン—
2—ィルーエタンー 1, 2ジオールの粗製生物 5. l gを得た。
Figure imgf000177_0003
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.07-7.10 (3H, m), 4.76 (1H, dd, J=7.9 Hz, 3.6 Hz), 3.68-3.77 (2H, m), 2.76-2.80 (4H, m), 2.38 (1H, br.s), 2.02 (1H, br.s), 1.65-1.86 (2H, m)， 1.63-1.64 (4H, m)
参考例 76
6, 7， 8， 9ーテトラヒドロー 5H—べンゾシクロヘプテン一 2—ィル—エタ ンー 1, 2ジオール 5. 0 g、 過ヨウ素酸ナトリウム 2. 2 gを用いて参考例 2 9と同様の方法で 6, 7, 8, 9—テトラヒドロー 5H—べンゾシクロヘプテン - 2一力ルポアルデヒドの粗製生物 5. 1 gを得た。
Figure imgf000178_0001
Ή-NMR (CDClg, TMS) δ (ppi)： 9.93 (1H, s)， 7.58-7.60 (2H, m)， 7.24-7.25 (1H， in), 2.85-2.89 (4H, m), 1.83-1.89' (2H, m), 1.65-1.69 (4H, m)
参考例 77
6, 7, 8, 9—テトラヒドロー 5 H—べンゾシクロヘプテン一 2—力ルポアル デヒド 1. 0 g、 ヒドロキシルァミン塩酸塩 0. 52 gを用いて参考例 30と同 様の方法で 6， 7, 8, 9—テトラヒドロ— 5H—ベンゾシクロヘプテン— 2— カルポアルデヒドォキシム 1. 3 gを得た。
Figure imgf000178_0002
¾-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 8.08 (1H, s), 7.27-7.33 (1H， m), 7.07-7.15 (2H， m), 3.33 (1H, s), 2.77-2.82 (4H, m), 1.80-1.84 (2H, m)， 1.60-1.70 (4H, m) 参考例 Ί 8
6， 7, 8, 9ーテトラヒドロ— 5 H—ベンゾシクロヘプテン一 2—力ルポアル デヒドォキシム 1. 2 gを用いて参考例 31と同様の方法で 6， 7, 8, 9—テ トラヒドロ— 5 H—べンゾシクロヘプテン— 2—ィルーメチルァミン塩酸塩を得 た。
Figure imgf000178_0003
Ή-NMR (CD3S0CD3, TMS) δ (ppm)： 8.33 (3H, br.s), 7.12-7.22 (3H， m), 3.92 (2H, q， J=5.9 Hz), 2.75-2.77 (4H， m), 1.77-1.83 (2H, m), 1.50-1.60 (4H, m) 参考例 79
S y n 1 e t t , 2000, No. 12, 1801項〜 1803項記載の方法に 準じて、 4—ブロムべンゾニトリル 10 g、 トリスジベンジリデンアセトンパラ ジゥム （0)、 2— (ジ t e r t—ブチルホスフイノ） ビフエニル 0. 98 gおよ びジメチルイミダゾリノン 20 Omlを室温で 5分間時間混合した。 ついでへキ サメチルジシラン 16. 9mlおよび水 2. 0 gを加え水で 5回洗浄し、 硫酸マ グネシゥムで乾燥した後、 減圧下濃縮しシリカゲルカラムで精製して 4—トリメ 16294
177
チルシリルペンゾニトリル 8. 0 gを得た。
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.60 (4H, s)， 0.29 (9H, s)
参考例 80
4ートリメチルシリルべンゾニトリル 0. 66 g、 リチウムアルミニウムハイド ライド 0. 29 gを用いて参考例 69と同様の方法で 4ートリメチルシリルベン ジルァミン 0. 65 gを得た。
Ή-N (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.48-7.51 (2H, m), 7.31 (2H, d， J=8.0 Hz), 3.86 (2H， s), 1.43 (2H， br.s), 0.25 (9H, s)
参考例 81
2—フルオロー 2—ジェチルホスホノ酢酸ェチル 2. 2 g及びテトラヒドロフ ラン 50mlを混合し、 氷冷下で水素化ナトリウム （含量 55%) 040 g加え 10分間攪拌した。 ついで 4一ベンジルォキシー 3—メトキシベンズアルデヒド 2. O gとテトラヒドロフラン 5mlの混合物を氷冷下徐々に加え、 室温で 3時 間攪拌した。 得られた混合物に水を加え、 減圧下で有機溶媒を留去後、 酢酸ェチ ルで抽出した。 油層を分液し、 水、 5%塩酸、 飽和重曹水ついで飽和食塩水で洗 浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮し、 得られた残渣をシリカゲ ルカラムで精製して 3— (3—メトキシ— 4—ベンジルォキシフエニル） 一 2— フルォロアクリル酸ェチルの粗製生物 （c i s体と t r an s体の混合物） 2.
8 gを得た。
Figure imgf000179_0001
Ή -醒 (CDC13， TMS) δ (ppm)： 7.27-7.44 (6H, m), 7.13 (0.3H, dd, J=8.6 Hz, 1.7 Hz, ), 7.01 (0.6H, dd, J=8.3 Hz, 1.9 Hz, ), 6.79-6.90 (2H, m), 5.20 (0.6H, s), 5.18 (1.4H, s)， 4.25-4.36 (2H, m)， 3.91 (3H, s), 1.27-1.36 (3H, m) 参考例 82
3— （3—メトキシー 4一べンジルォキシフエニル） —2—フルォロアクリル 酸ェチルの粗製生物 2. 6 gを用いて参考例 1 1と同様の方法で 3 _ ( 3—メト キシー 4ーヒドロキシフエニル）一 2—フルォロプロパン酸ェチルの粗製生物 2. 0 gを得た。
Figure imgf000180_0001
'H-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 6.85 (1H, d, J=8.0Hz), 6.70-6.75 (2H, m), 5.52 (1H， br.s), 5.04 (1H, ddd, J=49 Hz, 7.6 Hz, 4.2 Hz), 4.22 (2H, q, J=7.1 Hz), 3.88 (3H, s)， 3.06-3.18 (2H， m), 1.27 (3H, t, J-7.1 Hz)
参考例 83
4ーョウドベンジルァミン 1. 0 g、ジ t e r tプチルジカーボネート 1. 1 g、 トリエチルァミン 0. 9ml、 ジメチルァミノピリジン約 1 Omgおよびテトラ ヒドロフラン 2mlを室温で 4時間混合した。 ついで水を加えて酢酸ェチルで抽 出した。油層を分液し、 5 %塩酸で 2回、飽和重曹水ついで飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮して （4—ョウドベンジル） 力ルバ ミン酸 t e r tブチルの粗製生物 1. 5 gを得た。
Figure imgf000180_0002
Ή-NMR (CDC13, TMS) δ (ppm)： 7.64 (2H, d, J=8.2 Hz), 7.03 (2H, d, J=8. Hz), 4.83 (1H， br.s), 4.25 (2H, d， J=5.6 Hz), 1.45 (9H, s)
参考例 84
(4ーョウドベンジル） 力ルバミン酸 t e r tブチルエステル 1. 5 g、 トリメ チルシリルアセチレン 1. 3m 1、 ビス （トリフエニルホスフィン） パラジウム (H) ジクロライド 97mg、 トリェチルァミン 1. 3ml、 ヨウ化銅 （I) 2 6mgおよびジメチルホルムアミド 3 Omlを 50°Cで 4時間混合した。 ついで 水を加えて酢酸ェチルで抽出した。 油層を分液し、 5%塩酸で、 飽和重曹水つい で飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した後、 減圧下濃縮して残渣を シリカゲルカラムクロマトで精製し、 {(4ートリメチルシリルェチニル） ベンジ ル} カルバミン酸 t e r tブチル 0. 55 gを得た。
Figure imgf000180_0003
Ή-NMR (CDCI3, TMS) 8 (ppm)： 7.42 (2H, d, J=8.1 Hz), 7.20 (2H, d， J=8.1 Hz), 4.82 (1H， br.s), 4.30 (2H, d， J=5.1 Hz), 1.46 (9H, s), 0.24 (9H, s) 参考例 85
{(4ートリメチルシリルェチェル） ベンジル } カルパミン酸 t e r tブチル 0. 55 g、 トリフルォロ酢酸 0. 42m 1、酢酸 20mlおよび水 1 Om 1を 60 で 2時間混合した。 ついで減圧下で濃縮して （4ートリメチルシリルェチニル） ベンジルァミン ·酢酸塩の粗製生物 0. 52 gを得た。
Figure imgf000181_0001
Ή-NMR (CD3S0CD3, TMS) δ (ppm): 8.15 (3H， br.s), 7.52 (2H， d, J=8.4Hz), 7.44 (2H, d, J=8.2 Hz), 4.05 (2H， s)， 0.23 (9H, s)
参考例 86
Te t r ah e d r on Le t t e r s 43， 6987〜 6990記載の方 法に準じて製造した 4—シクロプロピルシアノベンゼン 0. 58 g、 リチウムァ ルミニゥムハイドライド 0. 27 gを用いて、 参考例 69と同様の方法で 4ーシ クロプロピルベンジルァミン 0. 51 gを得た。
Figure imgf000181_0002
Ή-NMR (CDCI3, TMS) δ (ppm)： 7.19 (2H, d， J=8.1 Hz), 7.04 (2H, d, J=8.1 Hz), 3.81 (2H, s)， 1.85-1.91 (1H， m), 1.45 (2H, br.s), 0.92-0.96 (2H， m)， 0.65-0.69 (2H, m) 次に製剤例を示す。 部は重量部を表す。
製剤例 1
本発明化合物 1〜129の各々 50部、 リグニンスルホン酸カルシウム 3部、 ラウリル硫酸マグネシウム 2部及び合成含水酸化珪素 45部をよく粉砕混合する ことにより、 各々の水和剤を得る。
製剤例 2 本発明化合物 1 1 2 9の各々 2 0部とソルビ夕ントリオレエート 1 . 5部と を、 ポリピニルアルコール 2部を含む水溶液 2 8 . 5部と混合し、 湿式粉碎法で 微粉碎した後、 この中に、 キサンタンガム 0 . 0 5部及びアルミニウムマグネシ ゥムシリケ—ト 0 . 1部を含む水溶液 4 0部を加え、 さらにプロピレングリコ— ル 1 0部を加えて攪拌混合し各々のフロアブル製剤を得る。
製剤例 3
本発明化合物 1 1 2 9の各々 2部、 カオ ύンクレー 8 8部及びタルク 1 0部 をよく粉碎混合することにより、 各々の粉剤を得る。
製剤例 4
本発明化合物 1 1 2 9の各々 5部、 ポリオキシエチレンスチリルフエニルェ 一テル 1 4部、 ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム 6部及びキシレン 7 5部 をよく混合することにより、 各々の乳剤を得る。
製剤例 5
本発明化合物 1 1 2 9の各々 2部、 合成含水酸化珪素 1部、 リグニンスルホ ン酸カルシウム 2部、 ベントナイト 3 0部及びカオリンクレー 6 5部をよく粉碎 混合した後、 水を加えてよく練り合せ、 造粒乾燥することにより、 各々の粒剤を 得る。 .
製剤例 6
本発明化合物 1 1 2 9の各々 1 0部、 ポリオキシエチレンアルキルェ一テル サルフェートアンモニゥム塩 5 0部を含むホワイトカーボン 3 5部及び水 5 5部 を混合し、 湿式粉砕法で微粉砕することにより、 各々の製剤を得る。 次に、 本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、 調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し'、 無処理区の 病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積を比較することにより評価した。 また、 Journal of Chemi cal Soc iety, Perkin Transac t ions I 6 p. 661 (1976) に記載の下式の化合物 （A) も試験に供した。
Figure imgf000182_0001
試験例 プラスチックポットに砂壌土を詰め、 トマト （品種：ポンテローザ） を播種し、 温室内で 20日間生育させた。本発明化合物 1〜27、 29〜35、 37〜79、 82〜93、 95、 96、 98〜： 112、 1 15〜 1 18、 120〜 123及び 化合物 （A) の各々を製剤例 6に準じて製剤とした後、 水で所定濃度 （5 O O p pm) に希釈し、 希釈液をトマト葉面に充分付着するように茎葉散布した。 散布 後植物を風乾し、 トマト疫病の遊走子嚢懸濁液 （懸濁液 1 m 1あたり約 1000 0個の遊走子嚢を含有する） を噴霧接種 （植物 1個体あたり約 2mlの割合） し た。 接種後、 23°C、 相対湿度 90%以上の条件下で一日栽培し、 ついで昼間 2 4°C、 夜間 20°Cの温室で 4日間栽培した。 その後、 防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物 1〜27、 29〜35、 37〜79、 82〜93、 95、 96、 98〜 112及び 115〜 118及び 120〜 123を供試した植物上の 病斑面積は、 無処理区の病斑面積の 10%以下であった。 化合物 （A) を供試し た植物上の病斑面積は、 無処理区の病斑面積の 76〜100%であった。
試験例 2
プラスチックポットに砂壌土を詰め、 トマト （品種:ボンテロ一ザ） を播種し、 温室内で 20日間生育させた。 本発明化合物 94、 113、 119及び125〜 129を製剤例 6に準じて製剤とした後、 水で所定濃度 （200 p pm) に希釈 し、 希釈液をトマト葉面に充分付着するように茎葉散布した。 散布後植物を風乾 し、 トマト疫病の遊走子嚢懸濁液 （懸濁液 1mlあたり約 10000個の遊走子 嚢を含有する） を噴霧接種 （植物 1個体あたり約 2mlの割合） した。 接種後、 23°C、 相対湿度 90%以上の条件下で一日栽培し、 ついで昼間 24°C、 夜間 2 0°Cの温室で 4日間栽培した。 その後、 防除効果を調査した。
その結果、 本発明化合物 94、 113、 119及び 125〜129を供試した植 物上の病斑面積は、 無処理区の病斑面積の 10%以下であった。
試験例 3
プラスチックポットに砂壌土を詰め、 ブドウ （品種：ベリ一 A) を播種し、 温 室内で 40日間生育させた。本発明化合物 1〜4、 9〜11、 16〜19、 21、 23、 34〜36、 40、 41、 45、 46、 49、 50、 55、 61、 63、 68、 70〜73、 77〜79、 81、 83、 84、 86〜92、 95〜97、 102、 103、 105-112, 116及び 120〜 129の各々を製剤例 6 に準じて製剤とした後、 水で所定濃度 （200 ppm) に希釈し、 希釈液をブド ゥ葉面に充分付着するように茎葉散布した。 散布後植物を風乾し、 ブドウべと病 の遊走子嚢懸濁液 （懸濁液 lm 1あたり約 10000個の遊走子嚢を含有する） を噴霧接種 （植物 1個体あたり約 2mlの割合） した。 接種後、 23° (、 相対湿 度 90%以上の条件下で一日栽培し、 ついで昼間 24°C、 夜間 20°Cの温室に移 して 6日間栽培した。 その後、 防除効果を調査した。
その結果、 本発明化合物 1〜4、 9〜11、 16〜19、 21、 23、 34〜 3 6、 .40、 41、 45、 46、 49、 50、 55、 61、 63、 68、 70〜 7 3、 77〜79、 81、 83、 84、 86〜92、 95〜97、 102、 103、 105〜112、 116及び 120〜129を供試した植物上の病斑面積は、 無 処理区の病斑面積の 10%以下であった。
試験例 4
プラスチックポットに砂壌土を詰め、 ブドウ （品種：ベリ一 A) を播種し、 温 室内で 40日間生育させた。 本発明化合物 6、 13〜15、 20、 27〜33、 37〜39、 48、 53、 54、 62、 64、 66、 67、 69、 74〜76、 93、 98〜 100、 115及び 118の各々を製剤例 6に準じて製剤とした後、 水で所定濃度 （50ppm) に希釈し、 希釈液をプドウ葉面に充分付着するよう に茎葉散布した。 散布後植物を風乾し、 ブドウべと病の遊走子嚢懸濁液 （懸濁液 lmlあたり約 10000個の遊走子嚢を含有する） を噴霧接種 （植物 1個体あ たり約 2mlの割合） した。 接種後、 23°C、 相対湿度 90%以上の条件下で一 日栽培し、 ついで昼間 24°C、 夜間 20°Cの温室に移して 6日間栽培した。 その 後、 防除効果を調査した。
その結果、 本発明化合物 6、 13〜15、 20、 27〜33、 37〜39、 48、 53、 54、 62、 64、 66、 67、 69、 74〜76、 93、 98〜100、 115及び 118を供試した植物上の病斑面積は、 無処理区の病斑面積の 10 % 以下であった。
試験例 5
プラスチックポットに砂壌土を詰め、 ブドウ （品種：ベリー A) を播種し、 温 室内で 40日間生育させた。 本発明化合物 5、 7、 8、 12、 44、 56、 59 及び 85の各々を製剤例 6に準じて製剤とした後、 水で所定濃度 (12. 5ρρ m) に希釈し、 希釈液をブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。 散布後 植物を風乾し、 ブドウべと病の遊走子嚢懸濁液 （懸濁液 1 m 1あたり約 1000 0個の遊走子嚢を含有する） を噴霧接種 （植物 1個体あたり約 2m 1の割合） し た。 接種後、 23 、 相対湿度 90%以上の条件下で一日栽培し、 ついで昼間 2 4 :、夜間 20°Cの温室に移して 6日間栽培した。その後、防除効果を調査した。 その結果、 本発明化合物 5、 7、 8、 12、 44、 56、 59及び 85を供試し た植物上の病斑面積は、 無処理区の病斑面積の 10%以下であった。 産業上の利用可能性
本発明化合物を用いることにより、 植物病害を防除することができる。

Claims

請求の範囲
式 （1)
Figure imgf000186_0001
ぼ中、
R 51はハロゲン原子、 C I— C6アルキル基、 C 3— C 6シクロアルキル基、 C 1— C6ハロアルキル基、 C 2—C 6アルケニル基、 C 2— C 6ハロアルケニル 基、 C 2—C 6アルキニル基、 C 2— C 6ハロアルキニル基、 C I— C6アルコ キシ基、 C 3— C 6アルケニルォキシ基、 C 3— C 6アルキニルォキシ基、 C 1 一 C 6ハロアルコキシ基、 （C 1—C6アルコキシ） C I— C6アルキル基、 フエ ノキシ C 1—C 6アルキル基、 C I— C6ヒドロキシアルキル基、 （C l—C67 ルキル） スルホニルォキシ C 1—C 6アルキル基、 C 1— C 6アルキルチオ基、 C 1一 C 6ハロアルキルチオ基、 C 1—C 6アルキルアミノ基、 ジ （C 1—C6 アルキル) アミノ基、 ホルミル基、 (〇 1ー〇6ァルキル) カルポニル基、 (C 1 —C 6アルコキシ） カルポニル基、 (C 1—C 6アルコキシ） ィミノ C 1一 C6ァ ルキル基、 ベンジロキシィミノ C 1—C 6アルキル基、 ジ （(31—06ァルキル ァミノ） ィミノ C 1一 C6アルキル基、 トリ （C 1一 C6アルキル） シリル基、 フエニル基、 フエノキシ基、 シァノ基若しくはニトロ基を表し、 R52は水素原子、 ハロゲン原子、 C I— C6アルキル基、 C 1—C 6ハロアルキル基、 C2— C6 アルケニル基、 C 2— C 6アルキニル基、 シァノ基若しくはニトロ基を表すか、 又は R51と R52とが一緒になつて C 3— C 6アルキレン基若しくは—CR65=CR 66_CR67=CR68—基 （R65、 R66、 R67及び R68は独立して、 水素原子、 ハロゲン 原子、 1ー〇3ァルキル基、 C 1一 C 3アルコキシ基又は C 1一 C 3ハロアル キル基を表す） を表し、
R53は水素原子、 ハロゲン原子、 C 1一 C 3アルキル基又は C 1— C 3ハロアル キル基を表し、
R56は水素原子、 〇 1ー〇4ァルキル基、 C2— C4アルケニル基又は C2— C 4アルキニル基を表し、
R"は水素原子、 （： 1ー〇4ァルキル基、 C 2— C 4アルケニル基又は C 2— C 4アルキニル基を表し、
R58及び R59は独立して、水素原子、ハロゲン原子又は C 1一 C 3アルキル基を表 し、
R60は C 1—C4アルキル基、 C 1— C4ハロアルキル基、 C 3—C 4アルケニ ル基又は C 3— C 6アルキニル基を表し、
R61は C 1—C4アルキル基、 C 1— C4ハロアルキル基、 C 3— C 4アルケニ ル基又は C 3— C 6アルキニル基又は C 2— C 4シァノアルキル基を表し、 R62、 R63及び RMは水素原子、 ハロゲン原子又は C 1—C 2アルキル基を表し、 Xは酸素原子又は硫黄原子を表す。 ]
で示されるアミド化合物。
2. R51はハロゲン原子、 C 1—C6アルキル基、 C 3— C 6シクロアルキル 基、 C 1—C 6ハロアルキル基、 C 2— C 6アルケニル基、 C 2—C 6ハロアル ケニル基、 C 2— C 6アルキニル基、 C 2— C 6ハロアルキニル基、 C 1 -C 6 アルコキシ基、 C 3 -C 6アルケニルォキシ基、 C 3 -C 6アルキニルォキシ基、 C 1—C 6ハロアルコキシ基、 （< 1—じ6ァルコキシ） C I— C6アルキル基、 フエノキシ C 1一 C 6アルキル基、 C 1一 C 6ヒドロキシアルキル基、 （C I— C 6アルキル) スルホニルォキシ C 1 -C 6アルキル基、 C 1—C 6アルキルチオ 基、 C 1—C 6ハロアルキルチオ基、 C 1—C 6アルキルアミノ基、 ジ （C 1一 C 6アルキル） アミノ基、ホルミル基、 （( 1—。6ァルキル）カルボ二ル基、 （C 1一 C 6アルコキシ） カルボ二ル基、 （< 1—〇6ァルコキシ） ィミノ（： 1—〇6 アルキル基、 ベンジロキシィミノ C 1—C 6アルキル基、 ジ （(： 1ー〇6ァルキ ルァミノ）ィミノ C 1一 C6アルキル基、、 卜リ（ C 1— C 6アルキル）シリル基、 フエニル基、 フエノキシ基、 シァノ基またはニトロ基を表し、 R52は水素原子、 ハロゲン原子、 C 1—C6アルキル基、 C 1— C 6ハロアルキル基、 C2— C6 アルケニル基、 C 2— C 6アルキニル基、 シァノ基またはニトロ基である請求項 1に記載のアミド化合物。
3. R51と R52とが一緒になつて示される基が一 C R65= C R66_ C R67= C R68 —基 （R65、 R66、 R67及び R68は独立して、 水素原子、 ハロゲン原子、 C 1—C3 アルキル基、 C 1一 C 3アルコキシ基又は C 1一 C 3ハロアルキル基である） で ある請求項 1に記載のアミド化合物。
4. R53が水素原子である請求項 1〜3のいずれかに記載のアミド化合物。
5. R62、 R63及び R64が水素原子である請求項 1〜4のいずれかに記載のアミ ド化合物。
6. R58及び R59が独立して、 水素原子、 フッ素原子又はメチル基である請求 項 1〜 5のいずれかに記載のアミド化合物。
7. R58及び R59が水素原子である請求項 1〜 5のいずれかに記載のアミド化 合物。
8. RMが水素原子である請求項 1〜 7のいずれかに記載のアミド化合物。
9. R 51がハロゲン原子、 C I— C4アルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C 2—C 4アルケニル基、 C 2— C 4アルキニル基、 C 1一 C4アルコキシ基、 C 1一 C 4ハロアルコキシ基、 C 1一 C 4アルキルアミノ基、 ジ （C 1—C4ァ ルキル） アミノ基若しくはシァノ基であり、 R52が水素原子、 ハロゲン原子、 C 1— C4アルキル基、 C 1— C4ハロアルキル基、 C 2— C 4アルケニル基若し くは C 2— C 4アルキニル基であるか、又は R51と R52とが一緒になつて C 3-C 5アルキレン基若しくは— CH=CH— CH=CH—基であり、
R57が水素原子又は C 1—C 3アルキル基であり、
R6°が C 1—C4アルキル基、 C 1— C4ハロアルキル基、 C 3— C 4アルケニ ル基又は C 3— C 4アルキニル基であり、
R61が C 1— C4アルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C 3—C 4アルケニ ル基又は C 3-C4アルキニル基である請求項 1に記載のアミド化合物。
10. R 51がハロゲン原子、 C I— C4アルキル基、 C 1一 C 4ハロアルキル基、 C 2— C 4アルケニル基、 C 2— C 4アルキニル基、 C 1一 C4アルコキシ基、
C 1—C 4ハロアルコキシ基、 C 1一 C 4アルキルアミノ基、 ジ （C 1—C4ァ ルキル） アミノ基またはシァノ基であり、 R52が水素原子、 ハロゲン原子、 C 1 —C 4アルキル基、 C 1— C4八口アルキル基、 C 2— C 4アルケニル基または C 2— C 4アルキニル基である請求項 9に記載のアミド化合物。
1 1. R51と R52とが一緒になつて示される基が C 3— C 5アルキレン基または 一 CH=CH— CH=CH—基である請求項 9に記載のアミド化合物。
12. R 53が水素原子である請求項 9〜 1 1のいずれかに記載のアミド化合物。
13. R6 RM及び R64が水素原子である請求項 9〜 12のいずれかに記載のァ ミド化合物。
14. R58及び R59が水素原子である請求項 9〜 13のいずれかに記載のアミド 化合物。
1 5. R 56が水素原子である請求項 9〜14のいずれかに記載のアミド化合物。
16. R57が水素原子である請求項 1〜 15のいずれかに記載のアミド化合物。
17. Xが酸素原子である請求項 1〜 16のいずれかに記載のアミド化合物。
18. Xが硫黄原子である請求項 1〜 16のいずれかに記載のアミド化合物。
19. R 51がハロゲン原子、。 1ーじ4ァルキル基、 C 1— C4ハロアルキル基、 C 2— C 4アルケニル基、 C 2—C 4アルキニル基、 C 1—C4アルコキシ基、 C 1—C4ハロアルコキシ基若しくはシァノ基であり、 R52が水素原子、 ハロゲ ン原子、 C I— C4アルキル基、 C 1—C4ハロアルキル基、 C2— C4アルケ ニル基若しくは C 2— C 4アルキニル基であるか、又は R51と R52とが一緒になつ て C 3—C 5アルキレン基若しくは—CH=CH— CH=CH—基である請求項 1〜 18のいずれかに記載のアミド化合物。
20. R 52が水素原子、 ハロゲン原子、 C 1— C 4アルキル基又は C 1— C 4ハ 口アルキル基である請求項 1〜 18のいずれかに記載のアミド化合物。
21. R51はハロゲン原子、 C 1— C4アルキル基又は C 1一 C4ハロアルキル 基である請求項 1〜 20のいずれかに記載のアミド化合物。
22. R52が水素原子である請求項 1〜20のいずれかに記載のアミド化合物。
23. R51と R52とが一緒になつて C 3— C 6アルキレン基又は一 CH=CH— CH=CH—基である請求項 1〜18のいずれかに記載のアミド化合物。
24. R6Qが C 1一 C4アルキル基である請求項 1〜23のいずれかに記載の アミド化合物。
25. R6°が C 1一 C 2アルキル基である請求項 1〜23のいずれかに記載の アミド化合物。
26. R61が C 3— C4アルキニル基である請求項 1〜25のいずれかに記載 のアミド化合物。
27. 請求項 1〜26のいずれかに記載のアミド化合物を有効成分として含有 する植物病害防除組成物。
28. 請求項 1〜 26のいずれかに記載のアミド化合物の有効量を、植物又は植 物の生育する土壌に施用する工程を有する植物病害の防除方法。
29. 植物病害防除組成物の有効成分としての、請求項 1〜 26のいずれかに記 載のアミド化合物の使用。
30. 式 （3)
Figure imgf000190_0001
[式中、 R1Mはメトキシ基、 エトキシ基、 プロポキシ基、 イソプロポキシ基、 ブ チルォキシ基、 イソブチルォキシ基、 t e r t—ブチルォキシ基、 〇H基又は塩 素原子を表し、 R1()1及び Rl°2は独立して、 水素原子、 ハロゲン原子又は C 1一 C 3アルキル基を表し、 R1()3は C 1一 C4アルキル基を表し、 R1Mは C3— C6ァ ルキニル基を表し、 R1D5、 R1M及び R1("は独立して、 水素原子、 八ロゲン原子又 は C 1— C 2アルキル基を表す。]
で示される化合物。
31. R1D1及び が水素原子、 フッ素原子又はメチル基であり、 R1Q5、 R106 及び R1D7が水素原子である請求項 30に記載の化合物。
32. R1(n、 R102, R105, R1()6及び R1()7が水素原子である請求項 30に記載の化 合物。
33. Rlfl3がメチル基又はェチル基である請求項 30〜32のいずれかに記載 の化合物。
34. R 1(14が 2—プロピニル基である請求項 30〜33のいずれかに記載の化 合物。
35. 式 （4)
Figure imgf000190_0002
[式中、 R2Q1はハロゲン原子、 C1一 C4アルキル基、 C I— C4ハロアルキル 基、 C 1一 C4アルコキシ基、 C 1一 C 4ハロアルコキシ基、 ジ （C I— C4ァ ルキル） アミノ基若しくはシァノ基を表し、 R2fl2は水素原子、 ハロゲン原子、 C 1—C4アルキル基若しくは C 1一 C4ハロアルキル基を表すか、 又は R2D1と R 202とが一緒になつて C 3— C 5アルキレン基若しくは— CH=CH— CH=CH —基を表し、 R2°3及び R2Mは独立して、 水素原子、 ハロゲン原子又は C 1一 C 3 アルキル基を表し、 R2°5は C I— C 4アルキル基を表し、 RM6、 R2°7及び RM8が 独立して、 水素原子、 ハロゲン原子又は C 1—C 2アルキル基を表す。] で示されるアミド化合物。
3 6 . R2D3及び R2D4が水素原子、 フッ素原子又はメチル基であり、 R2°6、 R207 及び RM8が水素原子である請求項 3 5に記載のアミド化合物。
3 7 . R2°3、 R2D4、 R2M、 R2°7及び R2°8が水素原子である請求項 3 5に記載のァ ミド化合物。 ' 3 8 . R がメチル基又はェチル基である請求項 3 5〜3 7のいずれかに記 の化合物。
PCT/JP2003/016294 2002-12-24 2003-12-19 アミド化合物及びそれを用いた植物病害の防除方法 WO2004058685A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MXPA05006855A MXPA05006855A (es) 2002-12-24 2003-12-19 Compuestos de amida y metodo para controlar enfermedades de plantas con el mismo.
AU2003289438A AU2003289438A1 (en) 2002-12-24 2003-12-19 Amide compound and method of controlling plant disease with the same
BR0317769-6A BR0317769A (pt) 2002-12-24 2003-12-19 Compostos de amida e método para o controle doenças de plantas com os mesmos
EP03780917A EP1577290A4 (en) 2002-12-24 2003-12-19 AMID CONNECTION AND METHOD FOR COMBATING PLANT DISEASES THEREFOR
US10/540,502 US20060122065A1 (en) 2002-12-24 2003-12-19 Amide compound and method of controlling plant disease with the same

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002371737 2002-12-24
JP2002-371737 2002-12-24
JP2003-56810 2003-03-04
JP2003056810 2003-03-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2004058685A1 true WO2004058685A1 (ja) 2004-07-15

Family

ID=32684210

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2003/016294 WO2004058685A1 (ja) 2002-12-24 2003-12-19 アミド化合物及びそれを用いた植物病害の防除方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20060122065A1 (ja)
EP (1) EP1577290A4 (ja)
KR (1) KR20050096100A (ja)
AU (1) AU2003289438A1 (ja)
BR (1) BR0317769A (ja)
CO (1) CO5560604A2 (ja)
MX (1) MXPA05006855A (ja)
WO (1) WO2004058685A1 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1609360A1 (en) * 2004-06-17 2005-12-28 Sumitomo Chemical Company, Limited Fungicidal Composition
WO2005122765A1 (ja) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited 殺菌組成物
WO2005122762A1 (ja) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited 殺菌組成物
WO2005122760A1 (ja) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited 殺菌組成物
WO2005122761A1 (ja) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited 殺菌組成物
WO2005122764A1 (ja) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited 殺菌組成物
WO2005122763A1 (ja) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited 殺菌組成物

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2758041B1 (de) 2011-09-20 2021-01-13 Basf Se Niedermolekulare modulatoren des kälte-menthol-rezeptors trpm8 und deren verwendung

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03240704A (ja) * 1990-02-14 1991-10-28 Sagami Chem Res Center フェニルピルビン酸アミド誘導体を有効成分とする除草剤
JPH04210949A (ja) * 1990-02-14 1992-08-03 Sagami Chem Res Center フェニルピルビン酸アミド誘導体及びその製造方法
WO2000071500A1 (de) * 1999-05-19 2000-11-30 Bayer Aktiengesellschaft Halogenverbindungen
WO2002000607A1 (fr) * 2000-06-29 2002-01-03 Sumitomo Chemical Company, Limited Composes d'amides et utilisation associee
WO2002008196A1 (fr) * 2000-07-25 2002-01-31 Sankyo Company, Limited Derives de 5-(m-cyanobenzylamino) pyrazole

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0011944D0 (en) * 2000-05-17 2000-07-05 Novartis Ag Organic compounds

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03240704A (ja) * 1990-02-14 1991-10-28 Sagami Chem Res Center フェニルピルビン酸アミド誘導体を有効成分とする除草剤
JPH04210949A (ja) * 1990-02-14 1992-08-03 Sagami Chem Res Center フェニルピルビン酸アミド誘導体及びその製造方法
WO2000071500A1 (de) * 1999-05-19 2000-11-30 Bayer Aktiengesellschaft Halogenverbindungen
WO2002000607A1 (fr) * 2000-06-29 2002-01-03 Sumitomo Chemical Company, Limited Composes d'amides et utilisation associee
WO2002008196A1 (fr) * 2000-07-25 2002-01-31 Sankyo Company, Limited Derives de 5-(m-cyanobenzylamino) pyrazole

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
QUIDEAU, S ET AL: "Hypervalent iodine (III)-mediated oxidative acetoxylation of 2-methoxyphenols for regiocontrolled nitrogen benzannulation", TETRAHEDRON LETTERS, vol. 42, no. 42, 2001, pages 7393 - 7396, XP004306056 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1609360A1 (en) * 2004-06-17 2005-12-28 Sumitomo Chemical Company, Limited Fungicidal Composition
WO2005122765A1 (ja) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited 殺菌組成物
WO2005122762A1 (ja) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited 殺菌組成物
WO2005122766A1 (en) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited Fungicidal composition
WO2005122760A1 (ja) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited 殺菌組成物
WO2005122761A1 (ja) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited 殺菌組成物
WO2005122764A1 (ja) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited 殺菌組成物
WO2005122763A1 (ja) * 2004-06-17 2005-12-29 Sumitomo Chemical Company, Limited 殺菌組成物

Also Published As

Publication number Publication date
CO5560604A2 (es) 2005-09-30
KR20050096100A (ko) 2005-10-05
MXPA05006855A (es) 2005-08-16
EP1577290A1 (en) 2005-09-21
BR0317769A (pt) 2005-11-22
EP1577290A4 (en) 2007-03-28
US20060122065A1 (en) 2006-06-08
AU2003289438A1 (en) 2004-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU2001260301B2 (en) Novel phenyl-propargylether derivatives
JP4607332B2 (ja) 新規プロパルギルエーテル誘導体
WO2004058685A1 (ja) アミド化合物及びそれを用いた植物病害の防除方法
US6762321B2 (en) Amide compounds and use thereof
JP2004285051A (ja) アミド化合物及びそれを用いた植物病害の防除方法
WO2005000796A1 (ja) アミド化合物およびそれを用いた植物病害の防除方法
JP2005206571A (ja) Ｎ−（α−シアノベンジル）アミド化合物ならびにその植物病害防除用途
WO2004058724A1 (ja) フェニルピラゾール化合物及びそれを用いた植物病害の防除方法
WO2004016594A1 (ja) フェニルピリジン化合物およびこれを含有する殺菌組成物
WO2005122761A1 (ja) 殺菌組成物
WO2005122764A1 (ja) 殺菌組成物
JP2006008545A (ja) α−（Ｎ−アミド）ベンジルニトリル化合物ならびにその用途
WO2005068416A1 (ja) アミド化合物及びそれを用いた植物病害の防除方法
JP2002356465A (ja) アミド化合物およびその用途
JP2005314352A (ja) アミド化合物及びその用途
WO2005122762A1 (ja) 殺菌組成物
JP2006001855A (ja) アミド化合物及びその用途
WO2005122765A1 (ja) 殺菌組成物
JP2005104954A (ja) フェニルピラゾール化合物及びその植物病害防除用途
WO2005122760A1 (ja) 殺菌組成物
JP2006160671A (ja) アミド化合物及びその用途
JP2006169117A (ja) アミド化合物及びその用途
JP2004307474A (ja) フェニルピラゾール化合物ならびにその用途
WO2005122763A1 (ja) 殺菌組成物
JP2006160689A (ja) アミド化合物及びその用途

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS KE KG KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LU MC NL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
DFPE Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed before 20040101)
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2003780917

Country of ref document: EP

Ref document number: 20038A7170X

Country of ref document: CN

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: PA/a/2005/006855

Country of ref document: MX

Ref document number: 05061118

Country of ref document: CO

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2006122065

Country of ref document: US

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 10540502

Country of ref document: US

Ref document number: 1020057011894

Country of ref document: KR

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2003780917

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1020057011894

Country of ref document: KR

ENP Entry into the national phase

Ref document number: PI0317769

Country of ref document: BR

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 10540502

Country of ref document: US

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Ref document number: 2003780917

Country of ref document: EP