KR20050009139A - 기재를 진공실내로 유입하는 로드-락 장치 - Google Patents

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KR20050009139A
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Abstract

기재를 진공실내로 유입하는 로드-락 장치는, 기재를 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역에서부터 로드-락 챔버 안에 위치한 내부 공간안으로 유입시키는 1 이상의 입구측 개구부 및 로드-락 챔버의 내부 공간을 밸브를 통하여 진공실의 내부 공간에 연결시키는 1 이상의 출구측 개구부를 구비하는 로드-락 챔버와, 1 이상의 캐리어 로드를 통하여 구동 장치와 연결되어 있고 구동 장치에 의해 입구측 개구부가 개방된 위치와 입구측 개구부가 밀폐된 위치 사이에서 조절가능한 밀폐 부재를 포함하며 각각의 입구측 개구부에 연결된 1 이상의 진공 도어를 포함하고, 밀폐 부재는 로드-락 챔버의 접촉면과 접촉한다. 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역에서 볼 때, 상기 구동 장치는, 입구측 개구부의 축선에 수직하게 로드-락 챔버의 접촉면을 통하여 연장하는 평면 뒤에 배열된다.

Description

기재를 진공실내로 유입하는 로드-락 장치{LOAD-LOCK DEVICE FOR INTRODUCING SUBSTRATES INTO A VACUUM CHAMBER}
본 발명은 기재를 진공실내로 유입하는 로드-락 장치에 관한 것으로, 이 로드-락 장치는, 기재를 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역에서부터 로드-락 챔버 안에 위치한 내부 공간안으로 유입시키는 1 이상의 입구측 개구부 및 로드-락 챔버의 내부 공간을 밸브를 통하여 진공실의 내부 공간에 연결시키는 1 이상의 출구측 개구부를 구비하는 로드-락 챔버와, 1 이상의 캐리어 로드를 통하여 구동 장치와 연결되어 있고 구동 장치에 의해 입구측 개구부가 개방된 위치와 입구측 개구부가 밀폐되는 위치 사이에서 조절가능한 밀폐 부재를 포함하며 각각의 입구측 개구부에 연결된 1 이상의 진공 도어를 포함하고, 상기 밀폐 부재는 로드-락 챔버의 접촉면과 접촉한다.
전술한 유형의 로드-락 장치는 공지되어 있다. 특히, 이러한 유형의 로드-락 장치는 반도체를 제조하는 생산 공장에서 사용된다. 이러한 로드-락 장치는 기재 (가공물) 를 대기로부터 설비의 진공 영역으로 유입시키는데 사용된다. 반도체 기술에 있어서, 이러한 기재는 특히 웨이퍼, 예를 들어 실리콘 웨이퍼이다.
상이한 유형의 종래의 슬라이드 밸브와 플레이트 밸브는 로드-락 챔버의 출구측 개구부와 진공실 사이에 배열된다.
로드-락 챔버는 이 로드-락 챔버의 입구측 개구부를 밀폐하기 위한 진공 도어를 구비한다. 이러한 유형의 진공 도어는, 예를 들어 US 6,056,266 A 호 또는 DE 196 33 798 A1 호에 개시되어 있다. 전자에 언급한 문헌에 개시된 장치에는, 2 개의 피스톤-실린더 유닛이 있고, 이 피스톤-실린더 유닛에 의해 밸브 플레이트가 L 형으로 연속적으로 이동된다. 후자에 언급한 문헌에 개시된 장치에 있어서, 하우징은 개구부가 배열된 벽부 대하여 회전가능하도록 지지된다. 하우징내에는 제 1 원통형 보어 구멍이 형성되고, 공기압 피스톤의 피스톤 로드는 내장된 밸브 플레이트를 이동가능하게 지지한다. 밸브 플레이트는 상기 피스톤에 의해 개구부가 열리는 개방 위치와 개구부가 덮여져서 벽부로부터 떨어져 있는 위치 사이에서 움직인다. 또한, 하우징에는 제 2 원통형 보어 구멍이 형성되고, 하우징을 회전시키는데 사용되는 공기압 피스톤은 이 제 2 원통형 보어 구멍내에서 변위가능하게 지지된다. 상기 공기압 피스톤을 작동시킴으로써, 하우징이 회전될 수 있고, 따라서 밸브 플레이트는 벽부에 대하여 가압되며 개구부는 진공 기밀되도록 밀폐된다.
미국특허 제 6, 427,973 B1 호에서는, 벽부내의 1 이상의 개구부를 진공 밀폐하는 다른 밀폐 장치를 개시하였다. 또한, 이러한 밀폐 장치는 특히 다수의 슬롯형 개구부를 개폐하는데 적절하다. 밀폐 플레이트는 개방 위치와 밀폐 위치 사이에서 L 형으로 이동한다.
예를 들어, 반도체 기술에 있어서, 기재가 진공실안으로 유입될 때 되도록이면 적은 미립자가 부착될 것이 요구된다. 이를 위해, 입구측 개구부의 전방의 대기 영역은 되도록이면 미립자가 없어야 한다. 이를 위해, 진공 설치물은 클린룸에 위치될 수 있다. 또한, 입구측 개구부의 축선에 수직하게 유동하는 여과된 공기 유동이 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역을 통하여 종종 안내된다.
종래의 로드-락 장치에 있어서, 입구측 개구부의 전방 영역에 배열된 진공 도어의 구성품들은, 특히 기재의 표면을 깨끗하게 유지하면서 공기 유동의 효율을 감소시키는 차단 및/또는 소용돌이를 형성함으로써, 상기 영역을 통하여 안내되는 공기 유동의 층류를 비교적 심하게 방해하는 단점이 있다. 또한, 진공 도어의 구동 장치의 부품을 상기 영역에서 서로 대하여 이동시킴으로써 (두 부분간의 마찰에 의해) 미립자가 발생하게 되고, 이 미립자는 기재에 쌓일 수 있다. 진공 도어의 구동 장치는, 일반적으로 공기압 피스톤-실린더 유닛을 구비한다. 이는 다소 값비쌀 수 있고, 따라서 미립자가 포함된 공기가 빠져나와 기재상에 불리한 미립자가 부착될 수 있다.
본 발명의 주 목적은, 입구측 개구부의 전방 영역을 통하여 안내되는 공기 유동을 덜 간섭하는 로드-락 장치를 제공하는 것이고, 여기서 공기 유동은 되도록이면 층류인 것이 바람직하다. 본 발명의 다른 목적은, 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역에서 되도록이면 미립자가 발생하지 않는 로드-락 장치를 제공하는 것이다.
도 1 은 위에서 비스듬히 볼 때 본 발명에 따른 로드-락 장치의 사시도로서, 로드-락 장치가 밸브를 통하여 진공실에 연결되어 있고,
도 2 는 진공 도어의 밀폐 상태에서 밑에서 비스듬히 볼 때 진공실과 로드-락 장치의 사시도,
도 3 은 로드-락 장치와 진공실의 개략적인 측면도로서, 로드-락 챔버와 진공실의 내벽은 점선으로 표시되었고, 로드-락 챔버의 전방에 배열된 진공 설치물의 부품과 본 발명에 따른 로드-락 장치가 사용되며,
도 4 는 진공 도어의 개방 상태에서 밸브를 통하여 진공실에 연결된 로드-락 장치의 정면도,
도 5 는 도 4 의 AA 선을 따른 부분 단면도,
도 6 은 도 4 의 BB 선을 따른 부분 단면도,
도 7 은 도 4 의 CC 선을 따른 부분 단면도,
도 8 은 도 7 의 대응 단면도로서, 이 위치에서 밀폐 부재는 입구측 개구부의 맞은편에 위치하고 로드-락 챔버로부터 떨어져 있으며,
도 9 는 진공 도어의 완전 밀폐 상태에서의 도 7 의 대응 단면도,
도 10 은 캐리어 로드가 배열된 밀폐 부재와 캐리어 로드와 연결된 구동 장치의 구동 유닛의 사시도,
도 11 은 구동 유닛과 이 구동 유닛에 배열된 캐리어 로드의 도면,
도 12 는 반대측의 도면,
도 13 은 도 11 의 EE 선을 따른 단면도,
도 14 는 밀폐 부재가 로드-락 챔버로부터 떨어져 있는 위치에 대응하는 구동 유닛의 상태에서 도 13 에 대응하는 단면도,
도 15 는 도 11 의 DD 선을 따른 단면도, 및
도 16 은 밀폐 부재의 완전 개방 위치에 대응하는 구동 유닛의 상태에서 도 15 에 대응하는 단면도.
*도면의 주요 부분에 대한 도면 부호의 설명*
1 : 진공실 2 : 로드-락 챔버
3, 7 : 내부 공간 4 : 입구측 개구부
5 : 출구측 개구부 6 : 진공 도어
8 : 밸브 9 : 밀폐 부재
10 : 캐리어 로드 11 : 축선
12 : 접촉면 13, 17 : 피스톤 로드
14 : 제 1 피스톤-실린더 유닛 15 : 구동 유닛
16 : 제 2 피스톤-실린더 유닛 18 : 하우징
19 : 전방 단부 20 : 피스톤
21 : 피스톤 로드 22 : 체결 나사
23 : 대기 영역 24 : 평면
25 : 커버 플레이트 26 : 리세스
27 : 신장된 구멍 28 : 기재
29 : 박스 30 : 조절 로봇
31 : 송풍기 32 : 필터 장치
33 : 화살표 34 : 구멍
기재를 진공실로 유도하는 본 발명에 따른 로드-락 장치는, 기재를 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역에서부터 로드-락 챔버 안에 위치한 내부 공간안으로 유입시키는 1 이상의 입구측 개구부 및 로드-락 챔버의 내부 공간을 밸브를 통하여 진공실의 내부 공간에 연결시키는 1 이상의 출구측 개구부를 구비하는 로드-락 챔버와, 1 이상의 캐리어 로드를 통하여 구동 장치와 연결되어 있고 구동 장치에 의해 입구측 개구부가 개방된 위치와 입구측 개구부가 밀폐되는 위치 사이에서 조절가능한 밀폐 부재를 포함하며 각각의 입구측 개구부에 연결된 1 이상의 진공 도어를 포함하고, 상기 밀폐 부재는 로드-락 챔버의 접촉면과 접촉하며, 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역에서 볼 때, 상기 구동 장치는, 입구측 개구부의 축선에 수직하게 로드-락 챔버의 접촉면을 통하여 연장하는 평면 뒤에 배열된다.
구동 장치의 신규한 구성으로 인하여, 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역에 더 적은 구조물 부품이 배열되어서, 상기 영역을 통하여 안내되는 공기 유동을 덜 간섭한다. 이를 위해, 입구측 개구부의 전방에 배열된 나머지 구조물부품, 특히 1 이상의 밀폐 부재와 이 밀폐 부재를 지지하는 1 이상의 캐리어 로드의 단부는 유리하게 공기역학적으로 배열될 수 있다.
구동 장치의 신규한 구성으로 인하여, 부품 상호간의 접촉 운동으로 유발하는 미립자는 입구측 개구부의 전방에 위치하여 기재가 통과하는 대기 영역으로부터 멀리 있는 영역에서 생성되고, 따라서, 기재상에 미립자가 부착될 위험이 줄어든다.
또한, 이는 에어 컨디셔닝 미립자에 적용되어 구동 유닛을 구성하는 공기압 피스톤-실린더 유닛에서 공기압 누수로 빠져 나온다. 게다가, 본 발명의 유리한 실시형태에 있어서, 1 이상의 커버 플레이트에 의해 적어도 부분적으로 이격된다.
또한, 본 발명의 장점과 상세한 설명은 도면에 도시된 바람직한 실시형태의 예를 참조하여 이후에 기재되어 있고, 본 발명의 다른 목적이 그 이후에 기재되어 있다.
도 1 ~ 도 4 에서는, 밸브에 의해 진공실 (1) 에 연결된 상태의 본 발명에 따른 로드-락 장치를 도시하였다. 로드-락 장치는, 입구측 개구부 (4) 와 출구측 개구부 (5) 를 갖춘 내부 공간 (3) 을 구비하는 로드-락 챔버 (2) 와, 입구측 개구부 (4) 와 상호 작용하는 진공 도어 (6) 를 포함한다.
출구측 개구부 (5) 와 진공실 (1) 의 내부 공간 (7) 의 개구부 사이에는 밸브 (8) 가 배열되어 있다. 밸브 (8) 는 종래의 진공 밸브 형태, 특히 플레이트 밸브나 슬라이드 밸브 형태로 구성될 수 있고, 따라서 본 발명에서는 자세히설명되지 않았다.
진공 도어 (6) 는, 2 개의 측가장자리 영역에 캐리어 로드 (10) 가 배열된 플레이트형 밀폐 부재 (9) 를 구비한다. 캐리어 로드 (10) 는 밀폐 부재 (9) 에서부터 로드-락 챔버 (2) 의 출구측 개구부 (5) 방향으로 또는 진공실 (1) 의 방향으로 연장한다. 본 실시형태의 예에서, 캐리어 로드 (10) 는 입구측 개구부 (4) 의 축선 (11) 에 평행하게 연장한다. 캐리어 로드 (10) 는 플레이트형 밀폐 부재 (9) 로부터 멀리 있는 단부에서 구동 유닛 (15) 의 제 1 피스톤-실린더 유닛 (14) 의 피스톤 로드 (13) 에 연결된다. 2 개의 구동 유닛 (15) 은 함께 진공 도어 (6) 용 구동 장치를 형성한다. 2 개의 구동 유닛 (15) 각각은, 제 1 피스톤-실린더 유닛 (14) 과 2 개의 제 2 피스톤-실린더 유닛 (16) 을 구비한다.
제 2 피스톤-실린더 유닛 (16) 은, 로드-락 챔버 (2) 로부터 밀폐 부재 (9) 가 떨어져있게 하도록 입구측 개구부 (4) 주위의 영역에 배열된 로드-락 챔버 (2) 의 접촉면 (12) 에 대하여 밀폐 부재 (9) 를 가압하는데 사용된다. 제 2 피스톤-실린더 유닛 (16) 의 피스톤 로드 (17) 는, 구동 유닛 (15) 의 하우징 (18) 으로부터 비교적 적은 거리만큼 돌출하고 비교적 큰 직경을 가진 전방 단부 (19) 를 구비한다. 제 2 피스톤-실린더 유닛 (16) 의 피스톤 (20) 은, 피스톤 로드 (7) 와 같이 하우징 (18) 에 대하여 밀봉되는 반대측상에 짧은 피스톤 로드 (21) 를 구비한다. 피스톤 로드 (17, 21) 와 피스톤 (20) 에는 체결 나사 (22) 가 끼워지는 관통구가 천공되어 있다. 구동 유닛 (15) 은 이러한 체결 나사 (22) 에 의해 로드-락 챔버 (2) 에 나사결합되어 있다.
진공 도어 (6) 의 구동 장치는, 입구측 개구부 (4) 의 전방의 대기 영역 (23) 에서 볼 때, 평면 (24) 뒤에 배열되어 있다. 이러한 평면 (24) 은, 밀폐 부재 (9) 가 로드-락 챔버 (2) 와 접촉하는 접촉면 (12) 을 통하여 연장하고, 또한 입구측 개구부 (4) 의 축선 (11) 에 수직하다. 구동 장치의 구동 유닛 (15) 은, 입구측 개구부 (4) 의 전방에 위치한 대기 영역 (23) 에서 볼 때, 커버 플레이트 (25) 에 의해 부분적으로 숨겨져 있다. 이러한 커버 플레이트 (25) 는 도면에 도시된 실시형태의 예에서 로드-락 챔버 (2) 와 일체로 형성된다. 이를 위해서, 로드-락 챔버 (2) 의 적어도 바닥부 및/또는 상부 쪽으로 개방하는 리세스 (26) 가 로드-락 챔버에 형성되어 있다. 구동 유닛 (15) 은 이러한 리세스내에 삽입되어, 피스톤 로드 (13) 의 출구 위치에 인접한 각각의 구동 유닛 (15) 의 하우징 (18) 영역이 이 리세스 (26) 에 있게 된다. 캐리어 로드 (10) 가 돌출되는 신장된 구멍 (27) 이 커버 플레이트 (25) 에 형성되어 있다.
또한, 특히 입구측 개구부 (4) 가 본 실시형태의 예에서와 같이 넓지 않으면, 중앙에 단지 하나의 개별 구동 유닛을 제공하는 것도 원리적으로 가능하다. 이 경우에 있어서, 단지 하나의 개별 캐리어 로드가, 한편으로는 제 1 피스톤-실린더 유닛 (14) 의 피스톤 로드에, 다른 한편으로는 밀폐 부재 (9) 에 제공될 수 있다. 그러면, 이러한 캐리어 로드는, 밀폐 부재 (9) 의 중앙에서 결합할 수 있고, 초기에 평면 (24) 에 평행한 부분과, 이 부분으로부터 멀리 있는 단부에서 피스톤 로드에 체결되며 평면 (24) 에 수직한 부분을 구비한다.
도 7 에 도시된 밀폐 부재 (9) 의 위치에서부터 진공 도어 (6) 를 밀폐하기위해서, 구동 유닛 (15) 의 제 1 피스톤-실린더 유닛 (14) 은, 초기에 압축 공기로 작동되어, 도 16 에 도시된 상태에서 도 15 에 도시된 상태로 전환된다. 그 후, 밀폐 부재는 도 8 에 도시된 위치에 있고, 이 위치에서 밀폐 부재는 입구측 개구부 (4) 의 맞은편에 있지만 로드-락 챔버 (2) 의 접촉면 (12) 으로부터 떨어져 있다. 그 후, 제 2 피스톤-실린더 유닛 (16) 은, 압축 공기로 작동되어, 도 14 에 도시된 상태에서 도 13 에 도시된 상태로 전환된다. 따라서, 밀폐 부재 (9) 는 로드-락 챔버 (2) 의 외부면 (12) 에 접촉하여 배치되고, 입구측 개구부 (4) 는 도 9 에 도시된 바와 같이 진공 기밀되도록 밀폐된다.
커버 플레이트 (25) 에는 신장된 구멍 (27) 옆에 추가 구멍 (34) 이 형성되고, 구동 유닛 (15) 의 체결 나사 (22) 는 이 추가 구멍 (34) 을 통하여 삽입되어 로드-락 챔버 (2) 에 나사결합된다.
또한, 도 3 에서는 웨이퍼 등의 기재 (28) 를 담은 박스 (29) 와, 조작 로봇 (30) 을 개략적으로 도시하였다. 밀폐 부재 (9) 가 개방되었을 때 조작 로봇 (30) 은 박스 (29) 에서 기재 (28) 를 인출하여 이 기재를 로드-락 챔버 (2) 의 입구측 개구부 (4) 안으로 안내한다. 그 후, 진공 도어 (6) 는 밀폐되고, 밸브 (8) 는 개방되며, 그 결과 그리퍼는 진공실 (1) 에서 로드-락 챔버의 내부 공간으로 이동하여 기재 (28) 를 인수할 수 있다.
진공실로 최소한 가능한 공기양이 유입되는 것이 허용될 때, 로드-락 챔버 (2) 에는 펌프-오프 라인이 제공될 수 있고, 이 펌프-오프 라인은 대응 펌프에 연결되어 있다.
필터 장치 (32) 를 갖춘 송풍기 (31) 는 도 3 에 개략적으로 도시되어 있다. 따라서, 입구측 개구부 (4) 의 전방에 위치한 대기 영역 (23) 에서는 화살표 (33) 로 개략적으로 표시된 공기 유동이 형성된다. 공기 유동은 가능한 층류로서, 즉 어떠한 소용돌이도 갖지 않는다. 밀폐 부재 (9) 와 캐리어 로드 (10) 는 적어도 밀폐 부재 (9) 와 평면 (24) 사이에 위치한 부분에서 공기역학적 형상으로 되어 있다. 밀폐 부재 (9) 와 이 밀폐 부재 옆에 있는 캐리어 로드 (10) 의 일부는, 입구측 개구부 (4) 의 전방, 즉 진공실 (1) 로부터 멀리 있는 평면 (24) 측상에 배열된 진공 도어 (6) 의 단지 일부이다.
또한, 신장된 구멍 (27) 은 생략할 수 있는데, 이 경우에, 캐리어 로드 (10) 는 커버 플레이트 (25) 주위에서 안내되어 평면 (24) 을 통하여 커버 플레이트의 측면으로 갈 수 있다. 또한, 리세스 (26) 이외의 로드-락 챔버 (2) 의 측면에 구동 유닛 (15) 을 두는 것도 고려할 수 있다. 이 경우에 있어서, 커버 플레이트는, 다시 제공되는 것이 바람직하고, 입구측 개구부 (4) 의 전방에 위치한 대기 영역 (23) 에서 볼 때, 구동 유닛을 적어도 부분적으로 감출 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 로드-락 장치는 로드-락 챔버 (2) 의 1 이상의 입구측 개구부 (4) 를 구비할 수 있다. 이 경우에는, 출구측 개구부 (5) 가 이에 대응하는 개수로 형성되는 것이 바람직하다. 이 경우에는, 이에 대응하는 개수의 별개의 내부 공간 (7) 이 형성되는 것이 바람직하고 또한 본 실시형태의 예에서와 같이 입구측 개구부 (4) 와 출구측 개구부 (5) 사이에 연속 슬롯으로서 형성될 수 있다. 다수의 입구측 개구부 (4) 가 있는 경우에는, 이 입구측 개구부는 별개의 진공 도어 (6) 로 밀폐되는 것이 바람직하다. 2 개의 입구측 개구부 (4) 가 있는 경우에는, 2 개의 진공 도어 (6) 가 수평면에 대하여 거울상으로 형성될 수 있다. 이 경우에는, 상부 진공 도어는 위에서 비스듬히 본 도 2 에 도시된 바와 같이 나타날 수 있다. 또한, 구동 유닛 (15) 은 축선 (11) 방향으로 차례로 배열될 수 있고, 평면 (24) 으로부터 더 멀리 배열된 구동 유닛 (15) 에 연결된 캐리어 로드 (10) 는 이에 대응하도록 더 길게 구성될 수 있다. 차례로 배열된 구동 유닛과 거울상으로 배열된 구동 유닛을 결합함으로써, 예를 들어, 입구측 개구부 (4) 에 대응되도록 4 또는 6 개의 진공 도어 (6) 가 형성될 수 있다.
공기압 피스톤-실린더 유닛을 갖춘 구동 유닛이 바람직하지만, 원칙적으로 다른 구동 유닛, 예를 들어 전자기계식으로 작동되는 구동 유닛도 사용될 수 있다.
또한, 밀폐 부재 (9) 의 L 형 이동은, 예를 들어 US 6,056,266 A 호의 명세서 도입부에 기재된 바와 같이 피스톤-실린더 유닛 (14, 16) 의 다른 구성에 의해 달성될 수 있다.
또한, 하나의 구동 유닛에 단지 하나의 개별 피스톤-실린더 유닛을 갖춘 밀폐 부재의 L 형 이동을 주로 달성할 수 있음을 생각할 수 있고, 이를 위해, 예를 들어 대응하는 링크 안내부가 사용될 수 있다. 구동 유닛을 갖춘 진공 밸브는 공지된 방식으로 구성된다.
본 실시형태의 예에서, 로드-락 챔버 (2) 는 전체적으로 단일체로 구성된다. 이러한 방식으로 단순하고 유리하게 제조되는 동안, 다중 부분의 구성도 가능하고 고려할 수 있다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 분야는 본원에 도시된 실시형태의 예에만 한정되지 않고 본 발명의 분야를 벗어나지 않는 한 다른 변형이 당업자에게 가능할 수 있다.
전술한 설명과 도면에서 본 발명을 나타내었지만, 본 발명의 진정한 정신과 범위를 벗어나지 않는 한 다양하게 변경될 수 있음을 당업자에게 명백할 것이다.
본 발명에 의하여, 부품을 서로에 대하여 이동시킴으로써 유발하는 미립자는 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역으로부터 멀리 있는 영역에서 생성되고, 기재가 이 영역을 통하여 안내되어, 기재상에 미립자가 부착될 위험이 줄어든다.

Claims (12)

  1. 기재를 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역에서부터 로드-락 챔버 안에 위치한 내부 공간안으로 유입시키는 1 이상의 입구측 개구부와, 로드-락 챔버의 내부 공간을 밸브를 통하여 진공실의 내부 공간에 연결시키는 1 이상의 출구측 개구부를 구비하는 로드-락 챔버와,
    1 이상의 캐리어 로드를 통하여 구동 장치와 연결되어 있고 구동 장치에 의해 입구측 개구부가 개방된 위치와 입구측 개구부가 밀폐된 위치 사이에서 조절가능한 밀폐 부재를 포함하며, 각각의 입구측 개구부 각각에 연결된 1 이상의 진공 도어를 포함하며 기재를 진공실내로 유입하는 로드-락 장치에 있어서,
    상기 밀폐 부재는 로드-락 챔버의 접촉면과 접촉하고,
    입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역에서 볼 때, 상기 구동 장치는, 입구측 개구부의 축선에 수직하게 로드-락 챔버의 접촉면을 통하여 연장하는 평면 뒤에 배열되는 것을 특징으로 하는 로드-락 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 구동 장치는, 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역에서 볼 때, 1 이상의 커버 플레이트에 의해 적어도 부분적으로 덮여지는 것을 특징으로 하는 로드-락 장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 구동 장치는 1 이상의 공기압 피스톤-실린더 유닛을 구비하는 것을 특징으로 하는 로드-락 장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 1 이상의 캐리어 로드는, 밀폐 부재에서 구동 유닛으로 볼 때, 적어도 일부 영역에서 진공실 방향으로 연장하는 것을 특징으로 하는 로드-락 장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 2 개의 캐리어 로드는 밀폐부재의 동일한 측가장자리 영역에서 밀폐 부재에 배열되는 것을 특징으로 하는 로드-락 장치.
  6. 제 2 항에 있어서, 진공실 방향으로 연장하는 캐리어 로드의 일부가 돌출하는 구멍이 1 이상의 커버 플레이트에 배열되는 것을 특징으로 하는 로드-락 장치.
  7. 제 2 항에 있어서, 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역과 대면하는 1 이상의 커버 플레이트의 전방측과 로드-락 챔버의 접촉면은 적어도 실질적으로 동일한 평면에 놓이는 것을 특징으로 하는 로드-락 장치.
  8. 제 2 항에 있어서, 1 이상의 커버 플레이트와 로드-락 챔버는 단일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 로드-락 장치.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 구동 장치는, 로드-락 챔버내에 배열된 1 이상의리세스에 적어도 부분적으로 배열되고, 상기 리세스는 진공실 방향으로 커버 플레이트에 인접하며, 또한 적어도 로드-락 챔버의 바닥 또는 상부 쪽으로 개방되어 있는 것을 특징으로 하는 로드-락 장치.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 구동 장치는 제 1 및 제 2 피스톤-실린더 유닛을 포함하는 1 이상의 구동 유닛을 구비하고, 제 1 피스톤-실린더 유닛의 피스톤은 캐리어 로드 또는 캐리어 로드들 중 하나에 연결되며, 밀폐 부재는, 입구측 개구부가 개방된 위치와 밀폐 부재가 입구측 개구부의 맞은편에서 로드-락 챔버로부터 떨어져 있는 위치 사이에서 제 1 피스톤-실린더 유닛에 의해 조절가능하고, 밀폐부재는, 이 밀폐 부재가 입구측 개구부의 맞은편에서 로드-락 챔버로부터 떨어져 있는 위치와 밀폐 부재가 로드-락 챔버와 접촉하는 완전 밀폐 위치 사이에서 1 이상의 제 2 피스톤-실린더 유닛에 의해 조절가능한 것을 특징으로 하는 로드-락 장치.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 구동 장치가 2 개 제공되는 것을 특징으로 하는 로드-락 장치.
  12. 제 1 항에 있어서, 입구측 개구부의 축선에 수직한 공기 유동이 입구측 개구부의 전방에 위치한 대기 영역에서 안내되는 것을 특징으로 하는 로드-락 장치.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005158926A (ja) * 2003-11-25 2005-06-16 Canon Inc ロードロック装置および方法
US8794896B2 (en) * 2005-12-14 2014-08-05 Tokyo Electron Limited Vacuum processing apparatus and zonal airflow generating unit
US10541157B2 (en) 2007-05-18 2020-01-21 Brooks Automation, Inc. Load lock fast pump vent
WO2008144670A1 (en) 2007-05-18 2008-11-27 Brooks Automation, Inc. Load lock fast pump vent
KR101071955B1 (ko) 2009-05-06 2011-10-11 주식회사 에스알티 게이트 밸브
KR101762984B1 (ko) 2010-01-29 2017-07-28 배트 홀딩 아게 개구부를 폐쇄하기 위한 도어
CN101956861B (zh) * 2010-05-06 2012-02-29 东莞宏威数码机械有限公司 密封腔体阀板驱动机构
AT13194U1 (de) * 2012-03-21 2013-08-15 Vat Holding Ag Ventil
CN104752274B (zh) * 2013-12-29 2017-12-19 北京北方华创微电子装备有限公司 工艺腔室以及半导体加工设备
WO2016096471A1 (de) 2014-12-19 2016-06-23 Vat Holding Ag Tür zum verschliessen einer kammeröffnung in einer kammerwand einer vakuumkammer

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06168999A (ja) * 1992-11-27 1994-06-14 Shinko Electric Co Ltd 縦型半導体製造装置の窒素ガスロードロック室におけるドア開閉装置
DE19633798A1 (de) 1996-08-22 1998-02-26 Vat Holding Ag Einrichtung zum Verschließen einer Öffnung in einem Behälter oder in einer Rohrleitung
US5914493A (en) * 1997-02-21 1999-06-22 Nikon Corporation Charged-particle-beam exposure apparatus and methods with substrate-temperature control
JPH10308427A (ja) * 1997-05-06 1998-11-17 Kokusai Electric Co Ltd ドア開閉機構
JPH11135600A (ja) * 1997-08-25 1999-05-21 Shibaura Mechatronics Corp ロボット装置および処理装置
DE19746241C2 (de) * 1997-10-20 2000-05-31 Vat Holding Ag Haag Einrichtung zum Verschließen einer Öffnung
CH692821A5 (de) * 1998-02-04 2002-11-15 Unaxis Trading Ag Vakuumventilplatte und Vakuumkammeranordnung mit einer solchen.
KR100476391B1 (ko) * 1999-06-02 2005-03-16 동경 엘렉트론 주식회사 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브
JP2001015571A (ja) * 1999-07-02 2001-01-19 Tokyo Electron Ltd ゲートバルブ
JP2003115518A (ja) * 2001-10-02 2003-04-18 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置

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