JPH06168999A - 縦型半導体製造装置の窒素ガスロードロック室におけるドア開閉装置 - Google Patents

縦型半導体製造装置の窒素ガスロードロック室におけるドア開閉装置

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Publication number
JPH06168999A
JPH06168999A JP4341544A JP34154492A JPH06168999A JP H06168999 A JPH06168999 A JP H06168999A JP 4341544 A JP4341544 A JP 4341544A JP 34154492 A JP34154492 A JP 34154492A JP H06168999 A JPH06168999 A JP H06168999A
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JP
Japan
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door
opening
load lock
lock chamber
closing
Prior art date
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Pending
Application number
JP4341544A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Yamashita
隆士 山下
Hitoshi Kono
等 河野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Electric Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Shinko Electric Co Ltd filed Critical Shinko Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】ロードロック室の内外の各開口を密閉するため
のドアの開閉装置において、ドア閉止時における密閉性
を高めると同時に、周辺の装置類との干渉を避けるため
に、ドアの開閉に要する面積を極力小さくすることであ
る。 【構成】ロードロック室Aの内外の各開口3a,3bの
周縁部に方形枠4を取付けて、この方形枠4のドア密着
面に方形状のシール材5を埋設して、ドア15の本体板
15aの周縁部に前記シール材5の全体形状に対応する
方形状の密着リブ15bを形成して、この密着リブ15
bが前記シール材5に喰い込んで密閉するようにする。
この薄型構造のドア15は、昇降シリンダ11と第1及
び第2の各開閉シリンダ13,17の作用により、大き
く昇降すると共に、僅かに水平移動するように構成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、縦型半導体製造装置を
構成している窒素ガスロードロック室の内外の各開口を
密閉するためのドアの開閉装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】縦型半導体製造装置は、ウェハキャリア
に水平となって支持されているウェハをウェハボートと
称されるウェハ保持具に多段状に移載して、反応釜内に
おいて化学処理を行う装置であって、図1に示されるよ
うに、窒素ガスロードロック室(以下、単に「ロードロ
ック室」という)Aと、パージボックスBとから成って
いて、これらの天井部の上方は、反応釜などを設置する
ための収容室Cとなっている。そして、ロードロック室
Aは、装置外に通じていて、基準用切欠(オリエンテー
ション・フラット)を有するウェハの位置合わせを行う
ための装置類が設置されており、パージボックスBに
は、多数のウェハキャリアを載せるためのキャリアステ
ージ装置、ウェハ移載用のロボットなどが設置されてい
る。
【0003】また、このロードロック室A、及びパージ
ボックスBの内部は、いずれもウェハの酸化防止のため
に窒素ガスが充満されて、ほぼ無酸素状態になってい
る。そして、装置に対するウェハの搬入、及び搬出は、
この多数枚のウェハをウェハキャリアに載せて、ロード
ロック室Aを通って行われる。このため、ロードロック
室Aには、外部に通じる外側の開口と、パージボックス
Bに通じる内側の開口とが設けられ、各開口にはそれぞ
れドアが取付けられる構造となる。このため、ドア閉止
時における確実な密閉が必要になると共に、ドアの開閉
に要する面積を極力小さくする必要がある(内部に装置
類が設置されているパージボックスBに通じる内側のド
アにおいては、特にその必要性が高い)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、ロー
ドロック室の内外の各開口を密閉するためのドアの開閉
装置において、ドア閉止時における密閉性を高めると同
時に、周辺の装置類との干渉を避けるために、ドアの開
閉に要する面積を極力小さくすることである。
【0005】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の採用した手段は、縦型半導体製造装置を構成
している窒素ガスロードロック室の内外の各開口を密閉
するためのドアの開閉装置において、筐体により前記ロ
ードロック室を形成し、該筐体におけるロードロック室
の内外の開口の周縁部にそれぞれ方形枠を取付けて、該
方形枠のドア密着面にシール材を方形状にして埋設し、
該ロードロック室の内外の開口を密閉するためのドアの
内面側に、前記シール材の形状に対応した方形状の密着
リブを形成し、前記筐体の一方の側面における前記各開
口に近接した部分に昇降シリンダの作用により昇降可能
に装着された昇降板に複数本の第1開閉シリンダを上下
方向に配置して取付け、複数本の第1開閉シリンダの各
ロッドの先端部に前記ドアの一方の側端部を取付けて、
該ドアを片持ち状にして支持し、前記筐体の他方の側面
における前記各開口に近接した部分に、それぞれ複数本
の第2開閉シリンダを上下方向に配置して取付け、該第
2開閉シリンダのロッドの先端部に、自由端となってい
る前記ドアの他方の側端部に引っ掛けて、該ドアを前記
方形枠の側に引き寄せるための引寄せ板を取付けたこと
である。
【0006】
【発明の作用】ドアによりロードロック室の開口を閉止
するには、昇降シリンダによりロードロック室の開口の
直前部分までドアを上昇させた後に、第1及び第2の各
開閉シリンダの各ロッドを引っ込めて、ロードロック室
の開口の周縁部に取付けられた方形枠まで該ドアを引き
寄せて、ドアに設けられた密着リブを方形枠に埋設され
たシール材に喰い込ませる。これで、ドアによりロード
ロック室の開口が閉塞されると同時に、気密が保持され
て密閉される。一方、ドアにより閉塞されているロード
ロック室の開口を開くには、上記と逆の操作を行う。ま
ず、第2開閉シリンダのロッドを突出させておいて、第
1開閉シリンダのロッドを突出させて、前記方形枠から
ドアを僅かに離隔させた後に、昇降シリンダを上記と逆
方向に作動させて、ドアを下降させればよい。
【0007】
【実施例】以下、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に
説明する。図1は、縦型半導体製造装置の各部の配置を
示す概略側面図であり、図2は、ロードロック室Aを形
成しているロードロック室ユニットUの正面図であり、
図3は、同じく左側面図であり、図4は、同じく右側面
図であり、図5は、ドア15の非密閉状態における図2
のX−X線拡大断面図であり、図6は、ドア15の密閉
状態における図2のX−X線拡大断面図である。図2な
いし図5において、このロードロック室ユニットUは、
ロードロック室Aを形成している筐体1の底面に4本の
脚体2が設けられた構成であって、縦型半導体製造装置
のユニット格納部に、前記パージボックスBとの気密を
保持して格納される。筐体1の内部がロードロック室A
となって、基準用切欠を有するウェハの位置合せを行う
ための装置類Dが設置される。この筐体1は、四角筒状
をしていて、各開口がそれぞれ外開口3a及び内開口3
bとなっていて、その周縁部には、それぞれ方形枠4が
取付けられている。図7は、この方形枠4の拡大正面図
であって、その前面であるドア密着面4aの全周には、
後述のドア15が密着した際にシール作用を果たすシー
ル材5が方形状となって埋設されている。
【0008】筐体1の一方の側面における各開口3a,
3bに近接した部分には、それぞれガイドレール6が上
下方向に沿って取付けられていて、その下端は、前記脚
体2の下端まで達している。昇降板7の裏面には、上下
方向に所定の間隔をおいて一対のガイド体8が取付けら
れて、このガイド体8は、前記ガイドレール6に嵌め込
まれ、脚体2の下端部に固設したブラケット9に昇降シ
リンダ11の下端部が枢着されて、そのロッド12の先
端部が前記昇降板7の上端部に連結されている。よっ
て、昇降シリンダ11のロッド12を出入りさせると、
昇降板7はガイドレール6に案内されて昇降する。この
昇降板7には、2本の第1開閉シリンダ13が上下方向
に所定の間隔をおいて水平に取付けられている。各々の
第1開閉シリンダ13は、2本のロッド14を有してい
るために、実質的には、4本のシリンダが上下方向に所
定の間隔をおいて水平に取付けられた状態と同一であ
る。筐体1の内部に形成されたロードロック室Aの各開
口3a,3bを密閉するためのドア15は、このロード
ロック室Aの各開口3a,3bの大きさに対応した方形
状の本体板15aの内面側の全周に密着リブ15bが設
けられた薄型構造となっている。ドア15の内面側に設
けられた前記密着リブ15bの全体形状は、前記方形枠
4のドア密着面4aに埋設されたシール材5と同形状で
あって、方形状をしている。このドア15の一方の側端
部の密着リブ15bの外側には、支持板16が側方に突
出して一体に取付けられていて、各々の第1開閉シリン
ダ13の各ロッド14の先端部に前記支持板16が一体
に連結されている。このため、ドア15は、一方の側端
部において2本の第1開閉シリンダ13の4本のロッド
14に片持ち状となって支持された構造となる。
【0009】また、筐体1の一方の側面における各開口
3a,3bに近接した部分には、それぞれ2本の第2開
閉シリンダ17が上下方向に所定間隔をおいて水平に取
付けられていて、そのロッド18の先端部には、引寄せ
板19が取付けられている。一方、ドア15の他方の側
端部は、自由端となっていて、この部分の密着リブ15
bの外側には、前記引寄せ板19に引っ掛けられる引掛
け板21が取付けられている。よって、各々の第2開閉
シリンダ17のロッド18を引っ込めると、その先端に
取付けられた引寄せ板19がドア15の引掛け板21に
引っ掛かって、ドア15の自由端部が方形枠4の側に引
き寄せられる。
【0010】そして、外部からロードロック室Aにウェ
ハを収納したウェハキャリアを搬入したり、化学処理を
終えたウェハを収納したウェハキャリアを外部に搬出し
たりするには、ロードロック室Aの外側の開口3aのド
ア15を開閉する。また、ロードロック室Aからパージ
ボックスBにウェハを収納したウェハキャリアを搬入し
たり、化学処理を終えたウェハを収納したウェハキャリ
アをパージボックスBからロードロック室Aに移すに
は、ロードロック室Aの内側の開口3bのドア15を開
閉する。
【0011】次に、上記のような場合に必要となるドア
15の開閉について説明する。ロードロック室Aの各開
口3a,3bが開いている状態では、昇降シリンダ11
のロッド12が引っ込んで、ドア15は、図2ないし図
4で二点鎖線で示される下降端に位置している。この状
態で、昇降シリンダ11のロッド12を突出させて、ド
アを上昇端まで上昇させると、図5及び図8に示される
ように、ロードロック室Aの各開口3a,3bは、ドア
15により覆われるが、その密着リブ15bと、筐体1
の周縁部に取付けられた方形枠4のドア密着面4aとの
間には、僅かの隙間が形成されている。その後に、第1
及び第2の各開閉シリンダ13,17を作動させて、そ
のロッド14,18を引っ込めると、ドア15の支持端
側は、第1開閉シリンダ13のロッド14に直接に取付
けられているために、方形枠4の側に引き寄せられると
共に、ドア15の自由端側は、第2開閉シリンダ17の
ロッド18に取付けられた引寄せ板19がドア15の引
掛け板21を引っ掛けて、方形枠4の側に引き寄せられ
る。このようにして、第1及び第2の各開閉シリンダ1
3,17の作動圧によって、ドア15が方形枠4の側に
引き寄せられると、図6及び図9に示されるように、ド
ア15の密着リブ15bが、方形枠4に埋設されたシー
ル材5に喰い込んで、ロードロック室Aの各開口3a,
3bがドア15により閉塞されると同時に、気密が保持
されて密閉される。
【0012】また、ドア15により閉塞されているロー
ドロック室Aの各開口3a,3bを開くには、上記と逆
の操作を行う。まず、第2開閉シリンダ17のロッド1
8を突出させておいて、第1開閉シリンダ13のロッド
14を突出させると、方形枠4のドア密着面4aからド
ア15の密着リブ15bが離れる。その後に、昇降シリ
ンダ11のロッド12を引っ込めて、方形枠4のドア密
着面4aから離れているドア15を下降させる。
【0013】
【発明の効果】本発明は、縦型半導体製造装置のロード
ロック室の内外の各開口を開閉するためのドアの開閉装
置において、ドア自体が薄型構造であって、しかも水平
方向への移動量が僅少であるために、開閉のための専有
面積が極めて小さくできて、周辺の装置類との干渉を避
けて小スペースの部分に設置できると共に、ドアによっ
てロードロック室の開口を閉塞すると、同時に密閉が図
られる構造となっているので、窒素ガスが充満されてほ
ぼ無酸素状態となっているロードロック室の雰囲気が崩
されなくなるという優れた効果が奏される。
【図面の簡単な説明】
【図1】縦型半導体製造装置の各部の配置を示す概略側
面図である。
【図2】ロードロック室Aを形成しているロードロック
室ユニットUの正面図である。
【図3】同じく左側面図である。
【図4】同じく右側面図である。
【図5】ドア15の非密閉状態における図2のX−X線
拡大断面図である。
【図6】ドア15の密閉状態における図2のX−X線拡
大断面図である。
【図7】方形枠4の拡大正面図である。
【図8】図5におけるドア15と筐体1との密閉部の部
分拡大断面図である。
【図9】図6におけるドア15と筐体1との密閉部の部
分拡大断面図である。
【符号の説明】
A:窒素ガスロードロック室 1:筐体 3a:ロードロック室の外開口 3b:ロードロック室の内開口 4:方形枠 4a:方形枠のドア密着面 5:シール材 7:昇降板 11:昇降シリンダ 13:第1開閉シリンダ 15:ドア 15b:ドアの密着リブ 17:第2開閉シリンダ 19:引寄せ板

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 縦型半導体製造装置を構成している窒素
    ガスロードロック室の内外の各開口を密閉するためのド
    アの開閉装置であって、前記ロードロック室は筐体によ
    り形成され、該筐体におけるロードロック室の内外の開
    口の周縁部分にそれぞれ方形枠が取付けられて、該方形
    枠のドア密着面にシール材が方形状となって埋設され、
    該ロードロック室の内外の開口を密閉するためのドアの
    内面側には、前記シール材の形状に対応した方形状の密
    着リブが形成されていて、前記筐体の一方の側面におけ
    る前記各開口に近接した部分に昇降シリンダの作用によ
    り昇降可能に装着された昇降板に複数本の第1開閉シリ
    ンダが上下方向に所定間隔をおいて水平に取付けられ、
    複数本の第1開閉シリンダの各ロッドの先端部に前記ド
    アの一方の側端部が取付けられて、該ドアは片持ち状と
    なって支持され、前記筐体の他方の側面における前記各
    開口に近接した部分には、それぞれ複数本の第2開閉シ
    リンダが上下方向に所定間隔をおいて水平に取付けら
    れ、該第2開閉シリンダのロッドの先端部には、自由端
    となっている前記ドアの他方の側端部に引っ掛けて、該
    ドアを前記方形枠の側に引き寄せるための引寄せ板が取
    付けられていて、前記昇降シリンダにより各ドアをロー
    ドロック室の各開口の直前部分まで上昇させた後に、前
    記第1及び第2の各開閉シリンダの作用により、各ドア
    を前記各方形枠まで引き寄せて、ドアに設けられた前記
    密着リブを該方形枠に埋設されたシール材に喰い込ませ
    て、ロードロック室の各開口を密閉するように構成され
    ていることを特徴とする縦型半導体製造装置の窒素ガス
    ロードロック室におけるドア開閉装置。
JP4341544A 1992-11-27 1992-11-27 縦型半導体製造装置の窒素ガスロードロック室におけるドア開閉装置 Pending JPH06168999A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005039265A (ja) * 2003-07-14 2005-02-10 Vat Holding Ag 真空室に基板を装填するためのロードロック装置
KR100562487B1 (ko) * 1999-06-15 2006-03-21 삼성전자주식회사 카세트를 놓기 위한 로드포트를 갖는 반도체 웨이퍼 제조시스템
CN116936419A (zh) * 2023-09-13 2023-10-24 上海普达特半导体设备有限公司 半导体工艺设备及其升降密封门机构

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