KR100476391B1 - 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브 - Google Patents
반도체 처리 시스템의 게이트 밸브 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100476391B1 KR100476391B1 KR10-2001-7015308A KR20017015308A KR100476391B1 KR 100476391 B1 KR100476391 B1 KR 100476391B1 KR 20017015308 A KR20017015308 A KR 20017015308A KR 100476391 B1 KR100476391 B1 KR 100476391B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- base frame
- frame
- valve
- processing system
- semiconductor processing
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
- F16K3/02—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
- F16K3/16—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together
- F16K3/18—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together by movement of the closure members
- F16K3/182—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together by movement of the closure members by means of toggle links
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
- F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Sliding Valves (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
Abstract
반도체 처리 시스템의 게이트 밸브(20)는 개구부(14)를 둘러싸는 밸브 시트(22)에 대하여 접근 및 이격되도록 가이드(26)를 따라서 이동 가능한 베이스 프레임(28)을 포함한다. 가이드(26)의 상단에는 베이스 프레임(28)의 밸브 시트(22)측에서의 이동 한계를 규정하는 제 1 스토퍼(56)가 설치된다. 베이스 프레임(28)에는 선회 가능하게 요동 프레임(34)이 부착되고, 그 상단부에 밸브 시트(24)가 부착된다. 베이스 프레임(28) 및 요동 프레임(34)은 중간 부분에서 구부러짐으로써 굴신이 가능한 링크 기구(36)와, 스프링 겸 댐퍼 부재(46)에 의해 서로 접속된다. 에어 액추에이터(52)의 왕복 로드(54)가 링크 기구(36)의 중간 부분의 중개 부재(38)에 접속된다.
Description
본 발명은 반도체 웨이퍼 등의 피처리 기판에 대하여 처리를 실시하기 위한 반도체 처리 시스템에 있어서, 로드록실이나 처리실에 대하여 사용되는 게이트 밸브에 관한 것이다. 또한, 여기에서, 반도체 처리란, 반도체 웨이퍼나 LCD 기판 등의 피처리 기판상에 반도체층, 절연층, 도전층 등을 소정의 패턴으로 형성함으로써, 상기 피처리 기판상에 반도체 디바이스나, 반도체 디바이스에 접속되는 배선, 전극 등을 포함하는 구조물을 제조하기 위해서 실시되는 각종의 처리를 의미한다.
종래의 게이트 밸브의 구동 기구로서, 링크 기구를 사용한 것이나 캠 기구를 사용한 것이 공지되어 있다. 예컨대, 일본 특허 공개 공보 제 1993-196450 호에서는 링크 기구를 사용한 도 10에 도시된 게이트 밸브가 개시된다. 일본 특허 공개 공보 제 1998-159999 호에서는 캠 기구를 사용한 도 11a 및 도 11b에 도시된 게이트 밸브가 개시된다.
일본 특허 공개 공보 제 1993-196450 호의 도 10에 도시된 게이트 밸브(100)는 로드록실(110)과 처리실(120) 사이에 설치된다. 게이트 밸브(100)는 게이트실(106)에 수용된 기판(102) 및 밸브체(105)를 포함한다. 기판(102)은 액추에이터(101)에 접속된다. 게이트실(106)의 로드록실(110)측의 벽면을 따라 가이드레일(107)이 설치되고, 기판(102)이 승강 안내된다. 기판(102)의 상하에서 링크(103, 104)를 거쳐 밸브체(105)가 연결된다. 기판(102)과 밸브체(105)는 다시 스프링(108)에 의해 연결된다. 밸브체(105)에 의해 처리실(120)의 개구부(121)가 개폐된다.
처리실(120)의 개구부(121)를 폐쇄할 때에는, 액추에이터(101)가 구동하여 기판(102) 및 밸브체(105)가 일체적으로 가이드레일(107)을 따라서 상승한다. 밸브체(105) 상단의 롤러(109)가 게이트실(106)의 천정에 접촉한 후에도, 계속해서 기판(102)은 상승한다. 이 때문에, 밸브체(105)는 그 이상 상승하지 않지만, 스프링(108)에 대항해서 롤러(109)를 회전시키면서 처리실(120)의 개구부(121)에 근접한다. 기판(102)이 상승단에 도달하면 기판(102) 및 밸브체(105)의 높이가 동일하게 된다. 이때, 상하의 링크(103, 104)를 통해 밸브체(105)가 처리실(120)의 개구부(121)에 강하게 가압되어 개구부(121)를 폐쇄한다.
개구부(121)를 개방할 때에는 액추에이터(101)가 역방향으로 구동하고, 기판(102)이 하강한다. 이에 따라, 밸브체(105)는 스프링(108)을 통해 기판(102)측으로 끌어 당겨지고, 개구부(108)를 개방한다. 기판(102)이 더 하강하면, 스프링(108)의 작용하에서 밸브체(105)가 초기 상태로 돌아간다.
도 10에 도시된, 즉 일본 특허 공개 공보 제 1993-196450 호에 개시된 게이트 밸브(100)는, 밸브체(105)의 근방에서 링크 기구 외에 가이드레일(107) 또는 스프링(108) 등의 부품을 사용하여 기판(102) 및 밸브체(105)의 슬라이드 동작 및 개구부와의 접근 및 이격 동작을 실현하고 있다. 이 때문에, 롤러(109)가 게이트실(106)의 내벽에 부딪쳐서 입자를 발생시키기 쉽다는 문제점이 있다.
한편, 일본 특허 공개 공보 제 1998-159999 호의 도 11a 및 도 11b에 도시된 게이트 밸브(200)는 개구부(210)를 개폐하는 밸브체(201)를 포함한다. 밸브체(201)의 상하에 각각 좌우 한쌍의 측판(202)이 고정된다. 각 측판(202)에 특수 형상의 제 1 가이드 홈(203)이 형성된다.
또한, 게이트 밸브(200)는 각 제 1 가이드 홈(203)에 각각 대응하는 특수 형상의 제 2 가이드 홈(204)이 형성된 밸브체 구동 로드(205)를 포함한다. 밸브체(201)와 밸브체 구동 로드(205)는 제 1 및 제 2 가이드 홈(203, 204)에 삽입된 샤프트 형상의 롤러(206)에 의해 연결된다. 각 측판(202)과 밸브 구동 로드(205)는 또한 스프링(207)에 의해 연결된다.
도 11b는 제 1 및 제 2 가이드 홈(203, 204)과 롤러(206)와의 관계를 확대하여 도시한다. 도 11b로부터도 명백히 알 수 있듯이, 개구부(210)가 개방된 상태에서는, 양 가이드 홈(203, 204)은 측면에서 보면 서로 한쪽으로 치우쳐 있다.
개구부(210)를 폐쇄할 때는 밸브체 구동 로드(205)가 구동되고, 밸브체(201)가 밸브 시트(211)와의 사이에 간극을 개재시킨 상태로 하강한다. 밸브체(201)의 하방의 스토퍼(212)에 접촉하면 밸브체 구동 로드(205)가 스프링(207)에 대항해서 하강한다. 이때, 롤러(206)가 제 1 가이드 홈(203)을 통해 측판(202)을 약간이지만 개구부(210)측으로 이동시키고, 최종적으로는 밸브체(201)를 밸브 시트(211)에 대해서 가압한다.
개구부(210)를 개방할 때는 밸브체 구동 로드(205)가 상승한다. 이 때 롤러(206)는 스프링(207)을 통해 제 1 가이드 홈(203)을 상승시키고, 밸브체(201)를 밸브 시트(212)로부터 분리시킨다. 또한, 밸브체 구동 로드(205)가 상승하면, 롤러(206)는 도 11b에 도시된 상태를 유지하는 동시에, 밸브체(201)와 개구부(210)의 간극을 유지하면서 밸브체(201)를 상승시켜, 초기상태로 돌아간다.
도 11a 및 도 11b에 도시된, 즉 일본 특허 공개 공보 제 1998-159999 호에 개시된 게이트 밸브(200)는 제 1 및 제 2 가이드 홈(203, 204)을 통해 밸브체(201)의 상하 동작 및 개구부와의 접근 및 이격 동작을 실현하고 있다. 이 때문에, 가이드 홈을 고정밀도로 가공해야만 하고, 또한 밸브체(201) 및 개구부(210)의 근방에서 입자를 발생하기 쉽다는 문제점이 있다.
발명의 요약
본 발명의 목적은 밸브 시트(valve seat)(개구부) 및 밸브체의 근방에서 입자를 발생하기 어려운 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브를 제공하는데 있다.
본 발명의 제 1 관점은, 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브에 있어서,
개구부를 둘러싸는 밸브 시트에 대하여 접근 및 이격되도록 제 1 방향으로 이동 가능한 베이스 프레임으로서, 상기 밸브 시트는 제 1 기준면에 면하여 배치된 제 1 밀봉면을 갖는, 상기 베이스 프레임과,
상기 베이스 프레임의 상기 밸브 시트측에서의 이동 한계를 규정하는 제 1 스토퍼와,
상기 제 1 기준면과 직교하는 제 2 기준면상에서 선회 가능하도록 상기 베이스 프레임에 부착된 요동 프레임과,
상기 요동 프레임에 부착되는 밸브체로서, 상기 밸브체는 상기 제 1 밀봉면과 결합하여 상기 개구부를 폐쇄하기 위한 제 2 밀봉면을 갖는, 상기 밸브체와,
상기 베이스 프레임과 상기 요동 프레임을 접속하는 링크 기구로서, 상기 링크 기구는, 중간 부분에서 구부러짐으로써 굴신(屈伸)이 가능한, 상기 링크 기구와,
상기 중간 부분을 상기 제 1 방향으로 이동시키기 위해 상기 중간 부분에 접속된 구동 기구와,
상기 베이스 프레임에 대한 상기 요동 프레임의 선회 동작에 대하여 저항력을 부여하기 위한 가압 부재를 포함하며,
상기 개구부가 폐쇄될 때, 상기 구동 기구에 의해 상기 중간 부분이 상기 밸브 시트측으로 구동됨으로써, 우선 상기 베이스 프레임이 상기 제 1 스토퍼에 접촉할 때까지 이동되고, 다음에 상기 링크 기구가 굴신됨으로써 상기 요동 프레임이 선회하여, 상기 밸브체가 상기 밸브 시트상에 부착하여 상기 제 1 및 제 2 밀봉면이 결합하도록 설정된다.
본 발명의 제 2 관점은, 제 1 관점의 밸브에 있어서, 상기 밸브 시트에 대하여 상대적으로 고정된 가이드를 더 포함하며, 상기 베이스 프레임은 상기 가이드를 따라서 이동한다.
본 발명의 제 3 관점은, 제 1 관점의 밸브에 있어서, 상기 가압 부재의 작용하에서 상기 베이스 프레임에 대하여 상기 요동 프레임이 선회될 때에 발생하는 충격을 흡수하기 위해 상기 베이스 프레임과 상기 요동 프레임 사이에 설치된 댐퍼를 더 포함한다.
본 발명의 제 4 관점은, 제 1 관점의 밸브에 있어서, 상기 구동 기구는 상기 중간 부분에 접속된 왕복 로드를 구비한다.
본 발명의 제 5 관점은, 상기 제 4 관점의 밸브에 있어서, 상기 왕복 로드는 상기 중간 부분에 형성된 긴 구멍을 관통하고, 상기 왕복 로드와 상기 중간 부분은 상기 긴 구멍이 허용하는 범위에서 상대적으로 이동 가능하다.
본 발명의 제 6 관점은, 제 4 관점의 밸브에 있어서, 상기 왕복 로드는 상기 중간 부분에 대하여 위치 조정 기구를 거쳐 접속되고, 상기 왕복 로드와 상기 중간 부분의 접속 위치는 상기 위치 조정 기구에 의해 조정 가능하다.
본 발명의 제 7 관점은, 제 4 관점의 밸브에 있어서, 상기 밸브체가 상기 밸브 시트상에 부착될 때의 상기 링크 기구의 굴신 상태에 대응하여, 상기 왕복 로드의 스트로크의 한 쪽의 한계가 설정된다.
본 발명의 제 8 관점은, 제 1 관점의 밸브에 있어서, 상기 밸브체가 상기 밸브 시트상에 부착될 때의 상기 링크 기구의 굴신 상태에 대응하여, 상기 중간 부분의 상기 밸브 시트측의 이동 한계를 규정하는 제 2 스토퍼를 더 포함한다.
본 발명의 제 9 관점은, 제 8 관점의 밸브에 있어서, 상기 제 2 스토퍼는 상기 베이스 프레임에 고정된다.
본 발명의 제 10 관점은, 제 1 관점의 밸브에 있어서, 상기 가압 부재는 상기 베이스 프레임과 상기 요동 프레임을 접속시킨다.
본 발명의 제 11 관점은, 제 1 관점의 밸브에 있어서, 상기 링크 기구는 상기 제 2 기준면상에서 선회 가능하게 상기 베이스 프레임 및 상기 요동 프레임에 각각 부착된 제 1 및 제 2 레버를 구비하며, 상기 중간 부분은 상기 제 1 및 제 2 레버를 상기 제 2 기준면상에서 선회 가능하게 서로 접속시킨다.
본 발명의 제 12 관점은, 제 1 관점의 밸브에 있어서, 상기 제 1 방향은 상기 제 1 기준면과 실질적으로 평행하다.
본 발명의 제 13 관점은, 제 1 관점의 밸브에 있어서, 상기 밸브체와 상기 링크 기구는, 상기 요동 프레임이 상기 베이스 프레임에 부착된 위치를 사이에 둔 제 1 및 제 2 위치에서 상기 요동 프레임에 접속된다.
본 발명의 제 14 관점은, 제 1 관점의 밸브에 있어서, 상기 개구부는 피처리 기판이 수납되는 기밀실(氣密室)의 측벽에 형성되며, 상기 개구부는 상기 피처리 기판이 통과하기 위한 개구부이다.
본 발명의 제 15 관점은, 제 14 관점의 밸브에 있어서, 상기 밸브 시트와 상기 밸브체는 상기 기밀실 내측의 진공 분위기와 상기 기밀실 외측의 대기 분위기를 분리하도록 설정된다.
본 발명의 제 16 관점은, 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브에 있어서,
개구부를 둘러싸는 밸브 시트에 대하여 접근 및 이격되도록 제 1 방향으로 이동 가능한 베이스 프레임으로서, 상기 밸브 시트는 제 1 기준면에 면하여 배치된 제 1 밀봉면을 갖는, 상기 베이스 프레임과,
상기 베이스 프레임의 상기 밸브 시트측에서의 이동 한계를 규정하는 제 1 스토퍼와,
상기 제 1 기준면과 직교하는 제 2 기준면상에서 선회 가능하도록 상기 베이스 프레임에 부착된 요동 프레임과,
상기 요동 프레임에 부착된 밸브체로서, 상기 밸브체는 상기 제 1 밀봉면과 결합하여 상기 개구부를 폐쇄하기 위한 제 2 밀봉면을 갖는, 상기 밸브체와,
상기 베이스 프레임과 상기 요동 프레임을 접속시키는 링크 기구로서, 상기 링크 기구는 중간 부분에서 구부러짐으로써 굴신이 가능하고, 상기 링크 기구는 상기 베이스 프레임 및 상기 요동 프레임에 각각 상기 제 2 기준면상에서 선회 가능하게 부착된 제 1 및 제 2 레버를 구비하고, 상기 중간 부분은 상기 제 1 및 제 2 레버를 상기 제 2 기준면에서 선회 가능하게 서로 접속시키는, 상기 링크 기구와,
상기 중간 부분을 상기 제 1 방향으로 이동시키기 위해 상기 중간 부분에 접속된 왕복 로드를 구비하는 구동 기구와,
상기 베이스 프레임에 대한 상기 요동 프레임의 선회 동작에 대하여 저항력을 부여하기 위해 상기 베이스 프레임과 상기 요동 프레임을 접속시키는 가압 부재를 포함하며,
상기 개구부가 폐쇄될 때, 상기 구동 기구에 의해 상기 중간 부분이 상기 밸브 시트측으로 구동됨으로써, 우선 상기 베이스 프레임이 상기 제 1 스토퍼에 접촉할 때까지 이동되고, 다음에 상기 링크 기구가 굴신됨으로써 상기 요동 프레임이 선회하여, 상기 밸브체가 상기 밸브 시트상에 부착하여 상기 제 1 및 제 2 밀봉면이 접촉되도록 설정된다.
도 1a 내지 도 1c는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브의 개략적 구성을 도시한 종단 측면도,
도 2는 제 1 실시예에 따른 게이트 밸브의 내부 구조를, 개구부를 개방한 상태로 상방에서 도시한 사시도,
도 3은 도 2에 도시된 내부 구조를, 도 2에 도시된 상태로 하방에서 도시한 사시도,
도 4는 도 2에 도시된 내부 구조를, 개구부를 폐쇄한 상태로 상방에서 도시한 사시도,
도 5는 도 2에 도시된 내부 구조를, 도 4에 도시된 상태로 하방에서 도시한 사시도,
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브의 개략적 구성을 도시한 종단 측면도,
도 7a 및 도 7b는 각각 제 2 실시예에 따른 게이트 밸브에 있어서 에어 액추에이터의 왕복 로드와 링크 기구의 중개 부재의 관계를 개략적으로 도시한 평면도 및 종단 정면도,
도 8a 내지 도 8c는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브의 개략적 구성을 도시한 종단 측면도,
도 9a 내지 도 9c는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브의 개략적 구성을 도시한 종단 측면도,
도 10은 종래의 게이트 밸브의 일례의 개략적 구성을 도시한 단면도,
도 11a 및 도 11b는 종래의 게이트 밸브의 다른 예의 개략적 구성을 도시한 도면.
이하에 본 발명의 실시예에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 이하의 설명에서 대략 동일한 기능 및 구성을 갖는 구성요소에 대해서는 동일 참조부호를 부여하고 중복 설명은 필요에 따라서만 한다.
도 1a 내지 도 1c는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브의 개략적 구성을 도시한 종단 측면도이다. 또한 도 2 및 도 3은 제 1 실시예에 따른 게이트 밸브의 내부 구조를, 개구부가 개방된 상태로 상방 및 하방에서 각각 도시한 사시도이다. 도 4 및 도 5는 도 2에 도시된 내부 구조를 개구부가 폐쇄된 상태로 상방 및 하방에서 각각 도시한 사시도이다.
이 실시예에 있어서, 게이트 밸브(20)는, 예컨대 기밀한 로드록실(12)의 측벽에 형성된 개구부(14)에 대하여 설치된다. 로드록실(12)은 개구부(14)의 반대측에서 성막 장치나 에칭 장치 등의 처리실에 접속된다. 전형적으로, 개구부(14)는 반도체 웨이퍼, LCD용 기판 등의 피처리 기판(W)을 통과시키기 위해 사용된다.
로드록실(12)의 측벽상에는 개구부(14)를 둘러싸는 동시에 후술하는 밸브체(24)와 협동하여 개구부(14)를 기밀하게 개폐하기 위한 밸브 시트(22)가 부착된다. 즉, 밸브체(24) 및 밸브 시트(22)는 로드록실(12) 내측의 진공 분위기와, 로드록실(12) 외측의 대기 분위기를 분리하도록 설정된다. 밸브 시트(22)는 밸브체(24)와 결합하기 위한 수직한 제 1 밀봉면(22a)을 갖는다. 여기에서, 게이트 밸브(20)의 구성을 명확히 하기 위해 제 1 밀봉면(22a)은 수직한 제 1 기준면(RP1)(도 2 참조)에 면하고, 이것과 평행하게 설치되는 것으로 한다.
개구부(14)의 하측에서, 로드록실(12)에는 게이트 밸브(20)의 주요 부품을 수납하기 위한 하우징(16)이 착탈 가능하게 고정된다. 도 2 내지 도 5에서는 게이트 밸브(20)의 내부 구조를 도시하기 위해서, 하우징(16)의 일부만이 도시되어 있지만, 실제로는 하우징(16)은 내부 구조를 감추도록 구성된다. 하우징(16)의 로드록실(12)측의 측벽(도 1a 내지 도 1c중의 좌측)에는 제 1 기준면(RP1)과 평행하게 수직 하방으로 연장되도록 가이드(26)가 설치된다. 즉, 가이드(26)는 밸브 시트(22)에 대하여 상대적으로 고정된다.
가이드(26)에는 이것을 따라서 수직 방향으로 이동함으로써 밸브 시트(22)에 대하여 접근 및 이격 가능한 베이스 프레임(28)이 부착된다. 베이스 프레임(28)은 상단부에 로드록실(12)과는 반대측을 향하여 수평으로 연장되는 한 쌍의 아암(32)을 갖고, 그 선단에 요동 프레임(34)이 축지지된다. 즉, 요동 프레임(34)은 제 1 기준면(RP1)과 직교하는 수직 제 2 기준면(RP2)(도 2 참조)상에서 선회 가능하도록, 예컨대 핀 결합에 의해 베이스 프레임(28)에 부착된다.
요동 프레임(34)은 하우징(16)에 형성된 개구부(17)를 관통하여 상방으로 연장되고, 그 상단부에 밸브체(24)가 부착된다. 밸브체(24)는 밸브 시트(22)의 제 1 밀봉면(22a)과 결합하여 개구부(14)를 폐쇄하기 위한 제 2 밀봉면(24a)을 구비한다. 밸브체(24)의 밀봉면(24a)에는 개구부(14)를 기밀하게 유지하기 위한 O링(24b)이 설치된다.
베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34)은 하단부에서 한쌍의 링크 기구(36)에 의해 접속된다. 링크 기구(36)는 그 중간 부분에서 구부러짐으로써 굴신(屈伸)이 가능해진다. 구체적으로는, 각 링크 기구(36)는, 예컨대 핀 결합에 의해 베이스 프레임(28) 및 요동 프레임(34)에 각각 제 2 기준면(RP2)상에서 선회 가능하게 부착된 제 1 및 제 2 레버(42, 44)를 포함한다. 제 1 및 제 2 레버(42, 44)는 링크 기구(36)가 구부러지는 중간 부분을 구성하기 위한 중개 부재(38)에 의해, 예컨대 핀 결합에 의해 제 2 기준면(RP2)상에서 선회 가능하게 서로 접속된다.
베이스 프레임(28)의 아암(32)과 링크 기구(36) 사이에서, 베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34)은 스프링 겸 댐퍼 부재(46)에 의해 접속된다. 부재(46)는 한편으로는 베이스 프레임(28)에 대한 요동 프레임(34)의 선회 동작에 대하여 저항력을 부여하기 위한 인장 스프링(가압 부재)으로서 기능한다. 또한, 부재(46)는 다른 한편으로는 부재(46)의 인장 스프링의 작용하에서 베이스 프레임(28)에 대하여 요동 프레임(34)이 선회될 때에 발생하는 충격을 흡수하기 위한 댐퍼로서 기능한다.
베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34) 사이에 위치하도록, 하우징(16)에는 밸브체(24)를 구동하기 위한 구동 기구로서 기능하는 에어 액추에이터(52)가 고정된다. 에어 액추에이터(52)는 하방으로 연장되고 또한 베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34) 사이의 공간에서 수직방향으로 왕복 운동하는 로드(54)를 구비한다. 로드(54)의 하단부는 링크 기구(36)의 중개 부재(38)에, 예컨대 나사 및 너트 결합에 의해 접속된다.
가이드(26)의 상단부에는 가이드(26)를 따라 베이스 프레임(28)의 밸브 시트(22)측에서의 이동 한계를 규정하는 한 쌍의 제 1 스토퍼(56)가 설치된다. 또한, 링크 기구(36)의 약간 상방에서 베이스 프레임(28)에는 중개 부재(38)의 밸브 시트(22)측에서의 이동 한계를 규정하는 한 쌍의 제 2 스토퍼(58)가 설치된다.
다음으로, 게이트 밸브(20)의 동작에 대해서 설명한다. 또한, 이하의 에어 액추에이터(52)의 구동은 제어 장치(도시하지 않음)의 제어하에서 실시된다.
도 1a에 도시된 바와 같이, 로드록실(14)의 개구부(14)가 개방될 때, 에어 액추에이터(52)의 로드(54)는 최대 연장된 상태가 된다. 따라서, 베이스 프레임(28)은 가이드(26)의 하단부에 배치되고, 또한 링크 기구(36)는 동작 범위내에서 가장 굴절된 상태가 된다. 이 때문에, 요동 프레임(34)은 하우징(16)내에서 수직 상태 보다도 아암(32)의 선단부의 지지점을 중심으로 시계방향으로 약간 선회되어 경사진 상태가 된다.
다음으로, 개구부(14)가 폐쇄될 때, 에어 액추에이터(52)의 로드(54)가 끌려 들어가고, 링크 기구(36)의 중개 부재(38)가 밸브 시트(22)측으로 잡아 당겨진다. 이때, 스프링 겸 댐퍼 부재(46)에 의해 베이스 프레임(28)에 대한 요동 프레임(34)의 선회 동작에 대하여 저항력을 부여하기 위해서, 링크 기구(36)가 신장하는[제 1 및 제 2 레버(42, 44) 사이의 내각(θ)이 커짐] 일 없이, 가이드(26)를 따라 베이스 프레임(28)의 상승이 선행하여 시작된다. 가이드(26)를 따르는 베이스 프레임(28)의 상승은, 도 1b에 도시된 바와 같이 베이스 프레임(28)이 제 1 스토퍼(56)에 접촉할 때까지 계속된다. 또한, 베이스 프레임(28)이 제 1 스토퍼(56)에 접촉할 때, 밸브체(24)는 약간의 갭을 두고 밸브 시트(22)에 대향하는 위치에 정확히 도달하도록 미리 설정된다.
베이스 프레임(28)이 제 1 스토퍼(56)에 접촉한 후, 에어 액추에이터(52)의 로드(54)가 더 끌려 들어가면, 베이스 프레임(28)이 정지한 상태에서 중개 부재(38)가 밸브 시트(22)측으로 잡아 당겨진다. 이 때문에, 링크 기구(36)가 신장하여[제 1 및 제 2 레버(42, 44) 사이의 내각(θ)이 커짐], 요동 프레임(34)이 아암(32)의 선단부의 지지점을 중심으로 반시계 방향으로 선회된다. 그 결과, 도 1c에 도시된 바와 같이, 밸브체(24)가 밸브 시트(22)측으로 이동하여 그 위에 부착됨으로써, 제 1 및 제 2 밀봉면(22a, 24a)이 결합하여 개구부(14)가 폐쇄된다.
즉, 개구부(14)를 폐쇄할 때의 게이트 밸브(20)의 동작은 두 단계로 나뉜다. 제 1 단계는 로드(54)가 끌려 들어감으로써 베이스 프레임(28) 및 요동 프레임(34) 전체가 상승하여, 베이스 프레임(28)이 제 1 스토퍼(56)에서 정지하기까지의 단계이다. 제 2 단계는 베이스 프레임(28)이 정지한 후, 로드(54)가 끌려 들어감으로써 중개 부재(38)만이 상승하여 제 2 스토퍼(58)에서 정지하기 까지의 단계이다.
밸브체(24)는, 상기 제 2 단계에서, 중개 부재(38)의 상승에 따라 링크 기구(36)가 신장됨으로써, 요동 프레임(34)을 통해 전방으로 이동하여, 상승단(上昇端)에서 도 1c 및 도 4에 도시된 바와 같이 개구부(14)를 폐쇄한다. 따라서, 밸브체(24)가 밸브 시트(22)상에 부착될 때의 링크 기구(36)의 굴신된 상태와, 제 2 스토퍼(58)에 의해 규정되고 링크 기구(36)의 중개 부재(38)의 밸브 시트(22)측에서의 이동 한계는 서로 일치하도록 미리 설정된다.
또한, 개구부(14)를 개방할 때의 게이트 밸브(20)의 동작은 이것과 역의 경로를 거쳐 두 단계로 실시된다. 즉, 우선 로드(54)의 신장에 의해 스프링 겸 댐퍼 부재(46)의 작용하에서 링크 기구(36)가 선행하여 수축한다. 이에 따라, 밸브체(24)가 요동 프레임(34)을 통해 후방으로 이동하고, 상승단에서 도 1b에 도시된 바와 같이 개구부(14)로부터 떨어진다. 이때, 베이스 프레임(28)은 제 1 스토퍼(56)에서 정지된 상태로 둔다. 다음으로, 로드(54)의 신장에 의해 베이스 프레임(28) 및 요동 프레임(34) 전체가 하강하고, 도 1a 및 도 2에 도시된 바와 같이 개구부(14)를 완전히 개방한다.
제 1 실시예의 게이트 밸브(20)에서는 밸브체(24)는 구동부에서 격리되고, 밸브 시트(22) 이외의 부분에 접촉되는 경우가 없다. 이 때문에, 밸브 시트(22) 및 밸브체(24)의 근방에서 입자를 발생시키는 경우가 없게 되어, 로드록실(12) 내부를 입자에 의해 오염시킬 가능성이 낮아진다. 또한, 하우징(16)의 하방에는 팬(도시하지 않음)이 설치되고, 하우징(16)의 상방의 개구부(17)로부터 유입된 공기는 이 팬에 의해서 하우징(16)의 하방으로 유출된다. 따라서, 구동부에서 발생한 입자는 밸브 시트(22) 및 밸브체(24) 쪽으로는 유동하지 않는다.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브의 개략적 구성을 도시한 종단 측면도이다. 이 실시예의 게이트 밸브(70)는 제 1 실시예의 게이트 밸브(20)에 비교하여 주요 구성 부품의 배치에 대해서는 실질적으로 동일하지만, 세부적으로는 약간 다른 점이 있다.
구체적으로는, 이 실시예의 게이트 밸브(70)에서는 링크 기구(36)의 중개 부재(38)의 밸브 시트(22)측에서의 이동 한계를 규정하기 위한 제 2 스토퍼(58)가 사용되지 않는다. 대신에, 밸브체(24)가 밸브 시트(22)상에 부착될 때의 링크 기구(36)의 굴신 상태에 대응하여, 에어 액추에이터(52)의 왕복 로드(54)의 스트로크의 한쪽의 한계가 설정된다. 즉, 로드(54)가 최대한 끌려 들어갔을 때 밸브체(24)가 밸브 시트(22)상에 정확하게 부착되도록 설정된다.
또한, 도 7a에 도시된 바와 같이, 링크 기구(36)의 중개 부재(38)에는 제 2기준면(RP2)(도 2 참조)과 평행한 방향[링크 기구(36)의 굴신 방향]으로 기다란 긴 구멍(72)이 형성되고, 로드(54)의 선단은 이 긴 구멍(72)을 관통한다. 또한, 도 7b에 도시된 바와 같이 긴 구멍(72)을 관통하는 로드(54)의 선단에는 수나사부(74)가 충분히 긴 범위에 걸쳐 형성된다.
수나사부(74)에는 중개 부재(38)의 상측으로부터 슬리브부(75a)와 플랜지부(75b)를 갖는 슬리브 너트(75)가 결합된다. 수나사부(74)에는 또한 중개 부재(38)의 하측으로부터 긴 구멍(72)의 폭보다도 큰 외경을 갖는 관통 너트(76)가 결합된다. 슬리브부(75a)는 긴 구멍(72)을 관통하고, 하측 너트(76)는 슬리브부(75a)에 접촉할 때까지 수나사부(74)에 돌려 삽입한다. 또한, 조립한 상태에서, 슬리브부(75a), 플랜지부(75b) 및 너트(76)와, 중개 부재(38)의 대응하는 부분과의 사이에는 약간의 갭이 형성되도록 설정된다. 따라서, 로드(54)는 슬리브 너트(75) 및 관통 너트(76)와 함께 긴 구멍(72)을 따라 이동 가능해진다.
이러한 구성에 의해, 로드(54)와 중개 부재(38)는 로드(54)의 길이방향을 따라 실질적으로 일체로 이동하는 한편 긴 구멍(72)이 허용하는 범위에서 제 2 기준면(RP2)상[링크 기구(36)의 굴신 방향]에서 상대적으로 이동 가능해진다. 밸브의 개폐 동작 중, 링크 기구(36)의 굴신에 의해 중개 부재(38)의 위치는 긴 구멍(72)을 따라서 약간 이동한다. 따라서, 긴 구멍(72)을 형성함으로써, 링크 기구(36)의 굴신에 따라서 로드(54)에 걸리는 횡방향의 부하를 경감할 수 있다.
또한, 로드(54)의 선단의 수나사부(74)와 슬리브 너트(75) 및 관통 너트(76)는 위치 조정 기구로서 기능한다. 즉, 로드(54)와 중개 부재(38)의 접속 위치는 이 위치 조정 기구에 의해 조정 가능해진다. 따라서, 에어 액추에이터(52)의 왕복 로드(54)의 스트로크가 고정되더라도, 이 위치 조정 기구를 사용함으로써, 실질적으로 로드(54)의 스트로크 길이를 조정할 수가 있다. 즉, 이 위치 조정 기구에 의해, 밸브체(24)가 밸브 시트(22)상에 부착될 때의 링크 기구(36)의 굴신 상태와, 에어 액추에이터(52)의 왕복 로드(54)의 스트로크의 한쪽의 한계를 용이하게 대응시킬 수 있다.
또한, 게이트 밸브(70)에서는 상술한 스프링 겸 댐퍼 부재(46) 대신에, 인장 스프링(47)과 댐퍼(48)가 별개로 설치된다. 스프링(47)은 그 양단이 베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34)에 직접 접속된다. 또한, 댐퍼(48)는 베이스 프레임(28)에 부착된 우레탄 범프(48a)와, 우레탄 범프(48a)에 대응하여 요동 프레임(34)에 부착된 핀(48b)으로 이루어진다. 댐퍼(48)에 의해 링크 기구(36)의 굴곡 한계가 규정되는 동시에 링크 기구(36)가 굴곡하여 요동 프레임(34)이 선회할 때에 발생되는 충격이 흡수된다.
게이트 밸브(70)의 동작 원리는 게이트 밸브(20)의 동작 원리와 기본적으로 같다. 즉, 게이트 밸브(70)에서도 밸브체(24)는 구동부에서 격리되어 밸브 시트(22) 이외의 부분에 접촉하는 경우가 없다. 이 때문에, 밸브 시트(22) 및 밸브체(24)의 근방에서 입자를 발생하는 경우가 없게 되어, 로드록실(12) 내부가 입자에 의해 오염될 가능성이 낮아진다.
도 8a 내지 도 8c는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브의 개략적 구성을 도시한 종단 측면도이다. 이 실시예의 게이트 밸브(80)에서는 제 1 실시예의 게이트 밸브(20)와 비교하여 베이스 프레임(28) 및 요동 프레임(34)의 배치나, 에어 액추에이터(52)의 방향 등이 반대로 되어 있다.
구체적으로는, 이 실시예의 게이트 밸브(80)에서는 하우징(16)의 로드록실(12)과는 반대측의 측벽(도 8a 내지 도 8c중의 오른쪽)에 수직 하방으로 연장하도록 가이드(26)가 설치된다. 가이드(26)에는 이 가이드를 따라서 수직방향으로 이동 가능한 베이스 프레임(28)이 부착된다. 베이스 프레임(28)은 하단부에 로드록실(12)측을 향하여 수평으로 연장되는 한쌍의 아암(32)을 갖고, 그 선단에 요동 프레임(34)이 지지된다.
요동 프레임(34)의 상단부에 밸브체(24)가 부착된다. 베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34)은 상단부 근방에서 한 쌍의 링크 기구(36)에 의해 접속된다. 링크 기구(36)는 그 중간 부분에서 구부러짐으로써 굴신이 가능해진다. 구체적으로는, 각 링크 기구(36)는 베이스 프레임(28) 및 요동 프레임(34)에 각각 선회 가능하게 부착된 제 1 및 제 2 레버(42, 44)를 포함한다. 제 1 및 제 2 레버(42, 44)는 중개 부재(38)에 의해서 서로 선회 가능하게 접속된다.
베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34)은 또한 상단부 근방에서 스프링 겸 댐퍼 부재(46)에 의해 접속된다. 베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34) 사이에 위치하도록 하우징(16)에는 에어 액추에이터(52)가 고정된다. 에어 액추에이터(52)는 상방으로 연장되고 또한 베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34) 사이의 공간에서 수직방향으로 왕복 운동하는 로드(54)를 구비한다. 로드(54)의 상단부는 링크 기구(36)의 중개 부재(38)에 접속된다.
가이드(26)의 상단부에는, 가이드(26)를 따르는 베이스 프레임(28)의 밸브 시트(22)측에서의 이동 한계를 규정하는 한 쌍의 제 1 스토퍼(56)가 설치된다. 또한, 중개 부재(38)의 밸브 시트(22)측에서의 이동 한계는 에어 액추에이터(52)의 왕복 로드(54)의 스트로크의 한 쪽의 한계에 의해 규정된다.
게이트 밸브(80)에서는, 요동 프레임(34)이 그 하단부를 중심으로 선회한다. 이에 따라, 요동 프레임(34)의 선회 각도가 제 1 실시예의 게이트 밸브(20)와 동일하더라도, 밸브체(24)의 전후의 이동 거리를 크게 취할 수 있다. 또한, 게이트 밸브(80)에서는 에어 액추에이터(52)의 로드(54)가 최대로 끌려 들어갔을 때에 개구부(14)가 개방되고(도 8a), 최대로 연장될 때 개구부(14)가 폐쇄된다(도 8c).
이 밖에, 몇 가지 다른 점이 있지만, 게이트 밸브(80)의 동작 원리는 게이트 밸브(20)의 동작 원리와 기본적으로 동일하다. 즉, 게이트 밸브(80)에서도 밸브체(24)는 구동부에서 격리되어, 밸브 시트(22) 이외의 부분에 접촉하는 경우가 없다. 이 때문에, 밸브 시트(22) 및 밸브체(24)의 근방에서 입자를 발생시키지 않게 되어, 로드록실(12) 내부가 입자에 의해 오염될 가능성이 작아진다.
도 9a 내지 도 9c는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브의 개략적 구성을 도시한 종단 측면도이다. 이 실시예의 게이트 밸브(90)에서는 제 1 실시예의 게이트 밸브(20)와 비교하여, 요동 프레임(34)의 선회동작에 대하여 저항력을 부여하기 때문에, 인장 스프링 대신에 압축 스프링이 사용되고, 또한 링크 기구(36)의 굴신과 개구부(14)의 개폐의 관계가 반대로 되어 있다.
구체적으로는, 이 실시예의 게이트 밸브(90)에서는 하우징(16)의 로드록실(12)과는 반대측의 측벽(도 9a 내지 도 9c의 좌측)에 수직하방으로 연장하도록 가이드(26)가 설치된다. 가이드(26)에는 이것을 따라서 수직방향으로 이동 가능한 베이스 프레임(28)이 부착된다. 베이스 프레임(28)은 상단부에 로드록실(12)측을 향하여 수평하게 연장되는 한 쌍의 아암(32)을 갖고, 그 선단에 요동 프레임(34)이 지지된다.
요동 프레임(34)의 상단부에 밸브체(24)가 부착된다. 베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34)은 하단부 근방에서 한 쌍의 링크 기구(36)에 의해 접속된다. 링크 기구(36)는 그 중간 부분에서 구부러짐으로써 굴신이 가능해진다. 구체적으로, 각 링크 기구(36)는 베이스 프레임(28) 및 요동 프레임(34)에 각각 선회 가능하게 부착된 제 1 및 제 2 레버(42, 44)를 포함한다. 제 1 및 제 2 레버(42, 44)는 중개 부재(38)에 의해서 서로 선회 가능하게 접속된다.
베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34)은 또한 하단부에서 압축 스프링(49)에 의해 접속된다. 베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34) 사이에 위치하도록, 하우징(16)에는 에어 액추에이터(52)가 고정된다. 에어 액추에이터(52)는 하방으로 연장되고 또한 베이스 프레임(28)과 요동 프레임(34) 사이의 공간에서 수직방향으로 왕복 운동하는 로드(54)를 구비한다. 로드(54)의 하단부는 링크 기구(36)의 중개 부재(38)에 접속된다.
가이드(26)의 상단부에는 가이드(26)를 따르는 베이스 프레임(28)의 밸브 시트(22)측에서의 이동 한계를 규정하는 한 쌍의 제 1 스토퍼(56)가 설치된다. 또한, 중개 부재(38)의 밸브 시트(22)측에서의 이동 한계는 에어 액추에이터(52)의 왕복 로드(54)의 스트로크의 한 쪽의 한계에 의해 규정된다.
게이트 밸브(90)에서는 요동 프레임(34)은 압축 스프링(49)에 의해 도 9a 내지 도 9c중의 반시계방향으로 가압력이 부여된다. 개구부(14)가 개방될 때(도 9a), 에어 액추에이터(52)의 로드(54)가 최대로 연장되고, 링크 기구(36)는 최대로 신장된다. 이 때문에 요동 프레임(34)은 하우징(16)내에서 수직 상태 보다도 반시계방향으로 약간 선회하여 경사된 상태가 된다. 한편, 개구부(14)가 폐쇄될 때(도 9c), 에어 액추에이터(52)의 로드(54)가 최대로 끌려 들어가고, 링크 기구(36)는 굴곡한다. 이 때문에, 요동 프레임(34)은 압축 스프링(49)의 가압력에 저항하여, 시계방향으로 선회하고, 그 결과 밸브체(24)가 밸브 시트(22)상에 부착된다.
이 밖에, 몇 가지 다른 점이 있지만, 게이트 밸브(90)의 동작 원리는 게이트 밸브(20)의 동작 원리와 기본적으로 동일하다. 즉, 게이트 밸브(90)에서도 밸브체(24)는 구동부에서 격리되어, 밸브 시트(22) 이외의 부분에 접촉하는 일이 없다. 이 때문에, 밸브 시트(22) 및 밸브체(24)의 근방에서 입자를 발생시키지 않게 되어, 로드록실(12) 내부가 입자에 의해 오염될 가능성이 작아진다.
또한, 상기 각 실시예에서, 구동 기구로서 에어 액추에이터(52)가 사용되지만, 이것 대신에 유압 실린더 등의 다른 구동 부재를 사용할 수 있다. 또한, 상기 각 실시예에서, 요동 프레임(34)의 선회 동작에 대하여 저항력을 부여하기 위한 가압 부재로서 스프링이 사용되지만, 이것 대신에, 고무 등의 탄성체로 이루어지는 부재를 사용할 수가 있다. 또한, 상기 각 실시예에서 밸브 시트(22)의 제 1 밀봉면(22a)은 수직으로 되어 있지만, 본 발명은 제 1 밀봉면(22a)이 수직면에 대하여 경사하고 있는 경우에도 적용할 수가 있다. 이 경우, 요동 프레임(34)의 지지점의 위치와 밸브체(24)의 거리나, 밸브체(24)의 밀봉면(24a)의 경사량은 적당히 조정된다.
본원 발명은 상기 각 실시예에 한정되는 것이 아니고, 실시단계에서는 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 다양하게 변경할 수 있다. 또한, 각 실시예는 가능한 한 적절히 조합시켜 실시해도 좋고, 그 경우 조합된 효과를 얻을 수 있다.
Claims (16)
- 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브에 있어서,개구부를 둘러싸는 밸브 시트에 대하여 접근 및 이격되도록 제 1 방향으로 이동 가능한 베이스 프레임으로서, 상기 밸브 시트는 제 1 기준면에 면하여 배치된 제 1 밀봉면을 갖는, 상기 베이스 프레임과,상기 베이스 프레임의 상기 밸브 시트측에서의 이동 한계를 규정하는 제 1 스토퍼와,상기 제 1 기준면과 직교하는 제 2 기준면상에서 선회 가능하도록 상기 베이스 프레임에 부착된 요동 프레임과,상기 요동 프레임에 부착되는 밸브체로서, 상기 밸브체는 상기 제 1 밀봉면과 결합하여 상기 개구부를 폐쇄하기 위한 제 2 밀봉면을 갖는, 상기 밸브체와,상기 베이스 프레임과 상기 요동 프레임을 접속하는 링크 기구로서, 상기 링크 기구는 중간 부분에서 구부러짐으로써 굴신이 가능한, 상기 링크 기구와,상기 중간 부분을 상기 제 1 방향으로 이동시키기 위해, 상기 중간 부분에 접속된 구동 기구와,상기 베이스 프레임에 대한 상기 요동 프레임의 선회 동작에 대하여 저항력을 부여하기 위한 가압 부재를 포함하며,상기 개구부가 폐쇄될 때, 상기 구동 기구에 의해 상기 중간 부분이 상기 밸브 시트측으로 구동됨으로써, 우선 상기 베이스 프레임이 상기 제 1 스토퍼에 접촉할 때까지 이동되고, 다음에 상기 링크 기구가 굴신됨으로써 상기 요동 프레임이 선회하여, 상기 밸브체가 상기 밸브 시트상에 부착하여 상기 제 1 및 제 2 밀봉면이 결합하도록 설정되는반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서,상기 밸브 시트에 대하여 상대적으로 고정된 가이드를 더 포함하며, 상기 베이스 프레임은 상기 가이드를 따라서 이동하는반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서,상기 가압 부재의 작용하에서 상기 베이스 프레임에 대하여 상기 요동 프레임이 선회될 때에 발생하는 충격을 흡수하기 위해 상기 베이스 프레임과 상기 요동 프레임 사이에 설치된 댐퍼를 더 포함하는반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서,상기 구동 기구는 상기 중간 부분에 접속된 왕복 로드를 구비하는반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 4 항에 있어서,상기 왕복 로드는 상기 중간 부분에 형성된 긴 구멍을 관통하고, 상기 왕복 로드와 상기 중간 부분은 상기 긴 구멍이 허용하는 범위에서 상대적으로 이동 가능한반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 4 항에 있어서,상기 왕복 로드는 상기 중간 부분에 대하여 위치 조정 기구를 거쳐 접속되고, 상기 왕복 로드와 상기 중간 부분의 접속 위치는 상기 위치 조정 기구에 의해 조정 가능한반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 4 항에 있어서,상기 밸브체가 상기 밸브 시트상에 부착될 때의 상기 링크 기구의 굴신 상태에 대응하여, 상기 왕복 로드의 스트로크의 한쪽의 한계가 설정되는반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서,상기 밸브체가 상기 밸브 시트상에 부착될 때의 상기 링크 기구의 굴신 상태에 대응하여, 상기 중간 부분의 상기 밸브 시트측의 이동 한계를 규정하는 제 2 스토퍼를 더 포함하는반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 8 항에 있어서,상기 제 2 스토퍼는 상기 베이스 프레임에 고정되는반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서,상기 가압 부재는 상기 베이스 프레임과 상기 요동 프레임을 접속시키는반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서,상기 링크 기구는 상기 제 2 기준면상에서 선회 가능하게 상기 베이스 프레임 및 상기 요동 프레임에 각각 부착된 제 1 및 제 2 레버를 구비하며, 상기 중간 부분은 상기 제 1 및 제 2 레버를 상기 제 2 기준면상에서 선회 가능하게 서로 접속시키는반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 방향은 상기 제 1 기준면과 실질적으로 평행한반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서,상기 밸브체와 상기 링크 기구는, 상기 요동 프레임이 상기 베이스 프레임에 부착된 위치를 사이에 둔 제 1 및 제 2 위치에서 상기 요동 프레임에 접속되는반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서,상기 개구부는 피처리 기판이 수납되는 기밀실의 측벽에 형성되며, 상기 개구부는 상기 피처리 기판이 통과하기 위한 개구부인반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 제 14 항에 있어서,상기 밸브 시트와 상기 밸브체는 상기 기밀실 내측의 진공 분위기와 상기 기밀실 외측의 대기 분위기를 분리하도록 설정되는반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
- 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브에 있어서,개구부를 둘러싸는 밸브 시트에 대하여 접근 및 이격되도록 제 1 방향으로 이동 가능한 베이스 프레임으로서, 상기 밸브 시트는 제 1 기준면에 면하여 배치된 제 1 밀봉면을 갖는, 상기 베이스 프레임과,상기 베이스 프레임의 상기 밸브 시트측에서의 이동 한계를 규정하는 제 1 스토퍼와,상기 제 1 기준면과 직교하는 제 2 기준면상에서 선회 가능하도록 상기 베이스 프레임에 부착된 요동 프레임과,상기 요동 프레임에 부착된 밸브체로서, 상기 밸브체는 상기 제 1 밀봉면과 결합하여 상기 개구부를 폐쇄하기 위한 제 2 밀봉면을 갖는, 상기 밸브체와,상기 베이스 프레임과 상기 요동 프레임을 접속시키는 링크 기구로서, 상기 링크 기구는 중간 부분에서 구부러짐으로써 굴신이 가능하고, 상기 링크 기구는 상기 베이스 프레임 및 상기 요동 프레임에 각각 상기 제 2 기준면상에 있어서 선회 가능하게 부착된 제 1 및 제 2 레버를 구비하고, 상기 중간 부분은 상기 제 1 및 제 2 레버를 상기 제 2 기준면에서 선회 가능하게 서로 접속시키는, 상기 링크 기구와,상기 중간 부분을 상기 제 1 방향으로 이동시키기 위해 상기 중간 부분에 접속된 왕복 로드를 구비하는 구동 기구와,상기 베이스 프레임에 대한 상기 요동 프레임의 선회 동작에 대하여 저항력을 부여하기 위해 상기 베이스 프레임과 상기 요동 프레임을 접속시키는 가압 부재를 포함하며,상기 개구부가 폐쇄될 때, 상기 구동 기구에 의해 상기 중간 부분이 상기 밸브 시트측으로 구동됨으로써, 우선 상기 베이스 프레임이 상기 제 1 스토퍼에 접촉할 때까지 이동되고, 다음에 상기 링크 기구가 굴신됨으로써 상기 요동 프레임이 선회하여, 상기 밸브체가 상기 밸브 시트상에 부착하여 상기 제 1 및 제 2 밀봉면이 접촉되도록 설정되는반도체 처리 시스템의 게이트 밸브.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15553899 | 1999-06-02 | ||
JPJP-P-1999-00155538 | 1999-06-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020010678A KR20020010678A (ko) | 2002-02-04 |
KR100476391B1 true KR100476391B1 (ko) | 2005-03-16 |
Family
ID=15608258
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2001-7015308A KR100476391B1 (ko) | 1999-06-02 | 2000-05-30 | 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6488262B1 (ko) |
EP (1) | EP1182387B1 (ko) |
JP (1) | JP4331430B2 (ko) |
KR (1) | KR100476391B1 (ko) |
DE (1) | DE60030559T2 (ko) |
TW (1) | TW495595B (ko) |
WO (1) | WO2000075542A1 (ko) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002004774A2 (en) * | 2000-07-07 | 2002-01-17 | Applied Materials, Inc. | Automatic door opener |
US6916009B2 (en) * | 2003-07-14 | 2005-07-12 | Vat Holding Ag | Load-lock device for introducing substrates into a vacuum chamber |
CN1309978C (zh) * | 2003-12-03 | 2007-04-11 | 中国科学院电工研究所 | 矩形真空插板阀 |
US7198251B2 (en) * | 2004-12-21 | 2007-04-03 | Tokyo Electron Limited | Opening/closing mechanism for vacuum processing apparatus and vacuum processing apparatus using the same |
JP4437743B2 (ja) * | 2004-12-21 | 2010-03-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置用開閉機構及び真空処理装置 |
JP4642488B2 (ja) * | 2005-01-24 | 2011-03-02 | 京セラ株式会社 | ゲートバルブ |
US7441747B2 (en) * | 2005-07-18 | 2008-10-28 | G-Light Display Corp. | Vacuum gate |
US20070012894A1 (en) * | 2005-07-18 | 2007-01-18 | G-Light Display Corp. | Vacuum gate valve |
DE102005037410A1 (de) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | G-Light Display Corp. | Ventilkonstruktion |
KR100772019B1 (ko) * | 2007-02-05 | 2007-10-31 | 주식회사 에스티에스 | 사각형 게이트 밸브 |
KR101522324B1 (ko) * | 2007-05-18 | 2015-05-21 | 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 | 로드 락 빠른 펌프 벤트 |
US10541157B2 (en) | 2007-05-18 | 2020-01-21 | Brooks Automation, Inc. | Load lock fast pump vent |
DE102008049353A1 (de) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Vat Holding Ag | Vakuumventil |
JP2011054928A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-03-17 | Tokyo Electron Ltd | ゲートバルブ及びそれを用いた基板処理システム |
KR101375280B1 (ko) * | 2012-04-06 | 2014-03-17 | 프리시스 주식회사 | 게이트 밸브 |
US9470319B2 (en) * | 2015-01-26 | 2016-10-18 | King Lai Hygienic Materials Co., Ltd. | Gate valve with linkage structure |
JP6388182B1 (ja) * | 2017-07-25 | 2018-09-12 | Smc株式会社 | ゲートバルブの取付構造 |
DE102019001115A1 (de) * | 2019-02-15 | 2020-08-20 | Vat Holding Ag | Torventil mit Kulissenführung |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1707125A (en) * | 1925-08-19 | 1929-03-26 | Loffler Stephan | High-pressure slide valve |
US2841361A (en) * | 1953-01-23 | 1958-07-01 | Charles E Palmer | Valve |
GB1089272A (en) * | 1964-06-08 | 1967-11-01 | Edwards High Vacuum Int Ltd | Improvements in or relating to gate valves |
JPS5888270A (ja) * | 1981-11-18 | 1983-05-26 | Hoxan Corp | ゲ−トバルブ |
JPS61103066A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-05-21 | Tokuda Seisakusho Ltd | 真空仕切弁 |
US4721282A (en) * | 1986-12-16 | 1988-01-26 | Lam Research Corporation | Vacuum chamber gate valve |
JPS6417024A (en) | 1987-07-10 | 1989-01-20 | Seiko Epson Corp | Active device |
US5120019A (en) * | 1989-08-03 | 1992-06-09 | Brooks Automation, Inc. | Valve |
JPH0478377A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-03-12 | Tokyo Electron Ltd | トグル式ゲート |
DE4123081C2 (de) | 1991-07-12 | 2001-05-17 | Zeiss Carl | Tastkopf vom schaltenden Typ |
US5275303A (en) | 1992-02-03 | 1994-01-04 | Applied Materials, Inc. | Valve closure mechanism for semiconductor deposition apparatus |
US5269491A (en) * | 1992-03-10 | 1993-12-14 | Reynolds Calvin E | High vacuum valve |
CA2096282A1 (en) * | 1992-05-18 | 1993-11-19 | Jacques Gaboriault | Closing system for controlling a flow with precision |
DE4418019A1 (de) * | 1994-05-24 | 1995-11-30 | Vse Vakuumtechn Gmbh | Ventilmechanik für ein Vakuumventil |
KR960002534A (ko) * | 1994-06-07 | 1996-01-26 | 이노우에 아키라 | 감압·상압 처리장치 |
JP2990062B2 (ja) | 1996-05-22 | 1999-12-13 | 入江工研株式会社 | 無しゅう動真空ゲートバルブ |
JP2864234B2 (ja) | 1996-11-22 | 1999-03-03 | 株式会社ブイテックス | 摩擦の無い動力伝達装置 |
JP3310578B2 (ja) | 1996-12-13 | 2002-08-05 | エヌオーケー株式会社 | ゲートバルブ |
-
2000
- 2000-05-30 US US09/926,379 patent/US6488262B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-30 KR KR10-2001-7015308A patent/KR100476391B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-05-30 EP EP00929917A patent/EP1182387B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-05-30 JP JP2001501784A patent/JP4331430B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-30 WO PCT/JP2000/003466 patent/WO2000075542A1/ja active IP Right Grant
- 2000-05-30 DE DE60030559T patent/DE60030559T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-06-01 TW TW089110717A patent/TW495595B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW495595B (en) | 2002-07-21 |
EP1182387A4 (en) | 2005-09-07 |
EP1182387A1 (en) | 2002-02-27 |
KR20020010678A (ko) | 2002-02-04 |
EP1182387B1 (en) | 2006-09-06 |
JP4331430B2 (ja) | 2009-09-16 |
DE60030559T2 (de) | 2007-08-30 |
WO2000075542A1 (fr) | 2000-12-14 |
DE60030559D1 (de) | 2006-10-19 |
US6488262B1 (en) | 2002-12-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100476391B1 (ko) | 반도체 처리 시스템의 게이트 밸브 | |
US5626324A (en) | Non-sliding vacuum gate valve | |
US5415376A (en) | Gate valve | |
KR100714249B1 (ko) | 구동이 개선된 사각형 진공 게이트 밸브 | |
JP6115628B2 (ja) | ゲートバルブ | |
KR101568454B1 (ko) | 밸브 로드 상에의 밸브 플레이트의 현가 장치 | |
KR930004680B1 (ko) | 무슬라이딩 고진공 게이트 밸브 | |
US11118693B2 (en) | Gate valve | |
US20140033475A1 (en) | Assist device for movable body | |
WO2001048773A1 (fr) | Actionneur de commutateur de securite | |
CN113874646B (zh) | 用于阀的致动器单元、阀、阀组件、以及调节装置 | |
JP2000084883A (ja) | チャッキング装置 | |
US4743159A (en) | Device for pivoting pivotable member between closed and open positions | |
US6676356B2 (en) | Device for attaching target substrate transfer container to semiconductor processing apparatus | |
JP3323459B2 (ja) | ゲートバルブ | |
CN113423981B (zh) | 具有滑动导向机构的闸阀 | |
JP2001021048A (ja) | ランプアクチュエータ機構を有するゲートバルブ | |
KR20220131163A (ko) | 흔들림 방지 기구 부착 게이트 밸브 | |
JP2002039401A (ja) | ゲートバルブの弁板駆動装置 | |
JP2019135969A (ja) | 薬剤散布機 | |
CN1809699B (zh) | 用于固定发射器的装置和方法 | |
KR100338164B1 (ko) | 게이트밸브 | |
JP2000337546A (ja) | ゲートバルブ | |
WO2024053507A1 (ja) | ゲートバルブ | |
JPH11315939A (ja) | ゲート式真空遮断弁 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120223 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130227 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |