KR20040079072A - 자외선을 이용하는 기판세정장치 및 이의 구동방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 자외선을 사용하여 기판을 세정하는 기판세정장치로서, 자외선을 발생시켜 일 방향으로 조사하는 자외선소스와; 상기 자외선소스를 상기 일 방향으로 직선 운동시키는 구동수단과; 상기 기판 표면을 노출시킨 상태로 슬라이딩시키고, 상기 자외선이 상기 기판 표면에 조사되도록 상기 일 방향에 수직하게 교차되는 경로를 가지는 트랙을 포함하는 기판세정장치 및 이를 이용한 기판세정방법을 제공한다.

Description

자외선을 이용하는 기판세정장치 및 이의 구동방법{substrate cleaning module using ultraviolet rays and operating method the same}
본 발명은, 예를 들면 평판표시장치(plat panel display device)의 제조장비에 관한 것으로, 좀더 자세하게는 기판(substrate)을 대상으로 진행되는 포토리소그라피(photolithography) 공정에 있어서, 포토레지스트(photoresist)의 도포 전(前), 자외선을 사용하여 기판의 유기물을 세정하는 기판세정장치에 관한 것이다.
유리등의 절연기판을 대상으로 진행되는 평판표시장치 제조공정 또는 웨이퍼(wafer)를 대상으로 진행되는 반도체소자 제조공정에는, 상기 절연기판이나 웨이퍼 등의 대상물(이하, 기판이라 한다.) 상에 박막 패턴(thin film pattern)을 형성하는 공정이 다수 반복하여 포함된다.
이들 박막 패턴은 전도체, 유전체 또는 반도체 물질로 이루어질 수 있는데, 단층으로서 회로배선이나 전계생성전극을 구성하기도 하고, 다층으로 적층하여 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : TFT) 등의 스위칭소자를 구성하기도 한다.
일반적인 박막 패턴의 형성방법으로는 특히 미세구조를 구현할 수 있는 포토리소그라피(photolithography) 방법이 널리 이용되는데, 이는 기판 상에 적절한 물질의 박막층을 형성하는 박막증착공정과, 상기 박막층 상부로 포토레지스트(photoresist)를 도포하여 포토레지스트막을 형성하는 공정과, 이 포토레지스트 막의 선택된 부분을 제거함으로서 박막층의 일부를 노출 또는 은폐시키는 노광 및 현상공정과, 상기 노출 또는 은폐된 박막층 부분을 제거하는 식각 공정을 포함한다.
한편, 평판표시장치 또는 반도체소자는 불순물에 매우 민감한 특성을 갖는 바, 대상물인 기판은 제조공정 중에 높은 청정도를 유지하여야 하고, 이에 각 개별공정을 전후로 기판을 세정하는 과정이 필수적으로 진행된다. 일례로 포토레지스트를 도포하기 전(前), 기판 표면에 잔류하는 유기물을 제거함으로서 기판의 청정도 유지는 물론 포토레지스트의 접착력 향상을 기대할 수 있다.
이와 같이 포토레지스트 도포 전 단계에 진행되는 기판의 세정은 O2기체로 기판 표면의 유기물을 에쉬(ash)하여 제거하거나 또는 소정 파장의 자외선으로 O2를 여기시켜 오존 또는 라디칼을 생성하고, 이들로 유기물을 산화 및 기화시켜 제거하는 방법이 사용된다.
도 1은 이중 자외선을 사용하는 일반적인 기판세정시스템의 일부를 간략하게 도시한 평면도로서, 기판세정장치(10)와, 이 기판세정장치(10)로 기판을 반입 및 반출하는 트랜스퍼모듈(transfer module : 90a, 90b)을 포함한다.
상기 트랜스퍼모듈(90a, 90b)은 일례로 외부의 타 장비(미도시)로부터 기판(1)을 운반해 오는 제 1 트랙(92a) 및 이 기판(1)을 기판세정장치(10)로 반입시키는 제 1 로봇(94a)과, 세정이 완료된 기판(1)을 반출시키는 제 2 로봇(94b) 및 이 기판(1)을 외부의 타 장비(미도시)로 운반해 나가는 제 2 트랙(92b)을 포함할 수 있다.
따라서 기판세정장치(10)는 외부에서 기판(1)이 반입되면 이를 세정하여 다시 반출되도록 하는 부분으로, 도 2는 이 기판세정장치(10)의 내부구조를 도시한 단면도이다.
일반적인 기판세정장치(10)는 대향하는 상, 하면(12, 14), 그리고 이들을 연결하는 측벽(16)을 포함하는 챔버(chamber) 형상을 이룬다.
또한 그 내부는 자외선을 발생시키는 상단의 자외선발생영역(S1), 그리고 세정대상물인 기판(1)이 위치되는 하단의 세정영역(S2)으로 구분될 수 있고, 이들 사이로 석영 등의 재질로 이루어진 투명절연판(20)이 횡단하여 서로의 영역을 구분한다.
이때 자외선발생영역(S1)에는 세정영역(S2)으로 자외선을 발하는 자외선소스(22)가 구비되는데, 이는 185, 254nm 파장의 자외선을 발하는 적어도 하나 이상의 저압수은램프 또는 172nm 파장의 자외선을 발하는 적어도 하나 이상의 유전체배리어방전램프 등의 광원(24)과, 이들 광원(24)으로부터 발생된 자외선을 세정영역(S2)으로 집중시키는 반사판(26)을 포함한다.
그리고 세정영역(S2)은 기판(1)이 존재되는 부분으로, 상기 세정영역(S2)을 정의하는 측벽(16) 소정의 위치에는 기판(1)이 반입 및 반출될 수 있도록 개폐 가능한 입구 역할의 슬롯(slot : 30)이 형성되어 있다.
또한 세정영역(S2) 내부로는 투명절연판(20)과 대향하여 자신의 상면에 기판(1)이 안착되도록 지지하는 판(plate) 상의 무빙플레이트(32)가 설치되고, 이 무빙플레이트(32)는 일례로 모터 등의 구동수단(M)에 의해 승강가능한 구성을 갖는다.
그리고 기판세정장치(10) 외부로는 광원(24) 및 구동수단(M)으로 전력을 공급하는 전원공급장치(40a, 40b)가 구비된다.
이상에서 설명한 일반적인 기판세정장치(10)를 통해 진행되는 기판(1)의 세정 과정을 설명하면, 최초 구동수단(M)에 의해 무빙플레이트(32)가 슬롯(30)에 대응되는 홈 포지션(home position)에 위치된다.
이어, 슬롯(30)이 개방되면 외부에서 기판(1)이 반입되어 무빙플레이트(32) 상에 안착되고, 다시 슬롯(30)이 닫히면 구동수단(M)이 무빙플레이트(32)를 승강 시킴으로서 기판(1)과 투명절연기판(20)을 소정 간격으로 근접시킨다.
다음으로 광원(24)이 자외선을 발생하여 투명절연판(20) 이면의 기판(1) 표면으로 조사되도록 하고, 이로서 기판(1) 표면의 유기물이 제거된다.
이후 무빙플레이트(32)가 다시 홈 포지션으로 하강하면 슬롯(30)이 개방되고, 기판(1)은 외부로 반출되는데, 이와 같은 일련의 과정을 되풀이함으로서 각각 낱장 단위로 다수의 기판(1)을 세정한다.
한편, 일반적인 기판세정장치(10)에 있어서 기판(1)의 세정 정도를 결정짓는 요소는 첫째, 광원(24)의 자외선 조사량, 둘째, 광원(24)과 기판(1)사이의 간격, 그리고 셋째 광원(24)의 자외선 조사시간이다.
이중 자외선 조사량은 단위시간 당 광원(24)으로부터 발생된 자외선의 세기를 의미하는데, 이는 광원(24)으로 공급되는 전력량을 조절하여 제어할 수 있고, 광원(24)의 조도를 측정함으로서 용이하게 확인할 수 있다.그리고 광원(24)과기판(1) 사이의 간격, 엄밀하게는 투명절연판(20)과 기판(1) 사이의 간격은 무빙플레이트(32)의 승강 높이로 결정되며, 자외선 조사시간은 광원(24)이 발생시킨 자외선에 기판(1)이 노출되는 시간이다.
이때 통상 기판(1)과 투명절연판(20) 사이의 간격은 목적에 따라 미리 설정된 값으로 고정되는 것이 일반적인 바, 실질적으로 조절 가능한 변수는 자외선 조사량과, 자외선 조사시간 두 가지이다.
이를 간단히 표로 정리하면 표 1과 같다.
<표 1>
자외선조사량 기판과 자외선소스사이의 간격 자외선조사시간
조절가능 고정 조절가능
따라서, 이 경우 기판(1)으로 조사된 자외선 에너지의 총량은 아래의 식 1과 같이 구해질 수 있다.
<식 1>
자외선 에너지 총량(mJ)=광원의 조도값(mW)×자외선 조사시간(sec)
이에 현재의 일반적인 기판세정방식은 기판(1)의 상태 및 목적에 적절한 자외선 에너지 총량을 계산한 후, 통상 0.1 초 단위로 광원(24)의 조도값을 측정하면서 이에 따른 기판(1)의 자외선 노출시간을 조절하는 방식이 사용되고 있다.
하지만, 상기와 같은 기판세정장치는 몇 가지 문제점을 나타내는데, 그 중 하나는 종래의 기판세정장치가 기판을 내부로 수용하여 세정하는 챔버 타입을 가짐에 따라, 다양한 크기의 기판에 적용되기 어렵다는 것이다.
특히 근래에 들어 평판표시장치의 대면적화 추세에 따라 기판 사이즈(size) 역시 점차로 커지는 경향이 있는데, 일반적인 기판세정장치는 내부 세정영역의 크기가 고정된 챔버 타입이므로 수용 가능한 기판의 최대 사이즈는 한정된다. 따라서 더 큰 기판을 세정하기 위해서는 새로운 기판세정장치가 필요하다.
또 다른 문제점으로는 공정시간을 단축하는데 한계가 있다.
공정진행 중 기판과 자외선소스 사이의 간격이 고정되는 현재의 방식으로는 광원의 조도값을 높여 공정시간을 단축할 수밖에 없는데, 소자 특성에 따라 이 역시 한계가 존재하므로 결국 공정시간을 일정시간 이하로 단축하는 것이 불가능하다.
또한 광원이 온(on) 되어 목적하는 조도의 자외선을 출력하기까지는 필연적으로 일정 정도의 지연시간이 필요하므로, 위의 식 1로 산출되는 자외선 에너지의 총 량을 구현하기에는 일정정도의 오차가 발생할 가능성을 내재한다.
도 1은 일반적인 기판세정장치를 포함하는 기판세정시스템의 평면도
도 2는 일반적인 기판세정장치의 단면도
도 3은 본 발명에 따른 기판세정장치를 포함하는 기판세정시스템의 평면도
도 4는 본 발명에 따른 기판세정장치의 단면도
도 5는 기판과 자외선소스의 간격에 따른 자외선 조도값의 변화를 나타낸 그래프
도 6은 본 발명에 따른 기판세정장치의 구동방법을 도시한 순서도
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1 : 기판 120 : 자외선소스
122 : 하우징 124 : 광원
126 : 절연판 128 : 반사판
140a, 140b : 전원공급장치 190 : 트랙
192 : 구동롤러 M : 구동수단
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 자외선을 사용하여 기판을 세정하는 기판세정장치로서, 자외선을 발생시켜 일 방향으로 조사하는 자외선소스와; 상기 자외선소스를 상기 일 방향으로 직선 운동시키는 구동수단과; 상기 기판 표면을 노출시킨 상태로 슬라이딩시키고, 상기 자외선이 상기 기판 표면에 조사되도록 상기 일 방향에 수직하게 교차되는 경로를 가지는 트랙을 포함하는 기판세정장치를 제공한다. 이때 상기 자외선소스는 직하방으로 자외선을 조사하고, 상기 트랙은 상기 자외선소스의 직하단에 수직하게 교차되는 경로를 가지는 것을 특징으로 한다. 또한 상기 자외선소스는 적어도 하나 이상의 저압수은램프 또는 유전체배리어방전램프 중 선택된 한 종류의 광원과; 상기 광원이 발하는 자외선을 직하방으로 집중시키는 반사판과; 상기 광원을 내부로 수용하며 저면이 개구된 하우징과; 상기 하우징 저면을 막는 투명절연판을 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한 상기 트랙은, 상기 경로에 수직한 방향으로 각각 나란하게 배열되고, 길이방향을 축으로 회전하는 다수의 롤러를 포함하여, 상기 다수의 롤러 상에 상기 기판을 안착시켜 슬라이딩되도록 하는 것을 특징으로 한다. 또한 상기 구동수단은, 동력을 발생시키는 동력발생수단과; 상기 동력을 상하 직선운동으로 변환하는 동력변환수단과; 상기 동력변환수단과 상기 자외선소스를 연결하여 상기 자외선소스가 상하로 연동하여 승강되도록 하는 연결부재를 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한 상기 구동수단은 전동기 또는 유압모터 중 선택된 하나를 포함하고, 상기 동력전환수단은 볼스크류 또는 실린더를 포함하며, 상기 연결부재는 적어도 하나 이상의 작동축을 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한 상기 기판세정장치는 상기 트랙의 회전속도와, 상기 자외선소스가 발하는 자외선의 조도와, 상기 자외선소스와 기판사이 간격을 조절하여 상기 기판을 세정하는 것을 특징으로 한다. 또한 상기 자외선소스와 상기 기판사이 간격은 0.1mm 단위로 조절되는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명은 자외선을 발생시켜 일 방향으로 조사하는 자외선소스와, 상기 자외선소스를 상기 일 방향으로 직선 운동시키는 구동수단과, 상기 기판 표면을노출시킨 상태로 슬라이딩시키고, 상기 자외선이 상기 기판 표면에 조사되도록 상기 일 방향에 수직하게 교차되는 경로를 가지는 트랙을 포함하는 기판세정장치에 있어서, 상기 기판세정장치를 통해 기판을 세정하는 방법으로서, 상기 자외선소스가 발생하는 자외선의 조도값과, 상기 트랙의 기판 슬라이딩 속도를 고정하는 단계와; 상기 조도값과 상기 기판 슬라이딩 속도를 통해 상기 자외선소스와 상기 기판 사이의 거리를 조절하는 단계와; 상기 트랙을 따라 상기 기판을 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이때 상기 조도값과 상기 기판 슬라이딩 속도를 통해 상기 자외선소스와 상기 기판 사이의 거리를 조절하는 단계에 있어서, 상기 기판에 조사되는 상기 자외선의 총 에너지량은, 상기 조도값(mW)과, 상기 기판이 상기 자외선에 노출되는 시간과, 상기 기판과 상기 자외선 소스 사이의 간격에 따른 상기 자외선 세기의 감쇄특성계수의 곱으로 정의되는 것을 특징으로 하는 바, 이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 올바른 실시예를 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 기판세정장치(100)를 포함하는 기판세정시스템의 간략한 평면도로서, 기판세정장치(100)와, 외부에서 기판(1)을 운반하여 기판세정장치(100)로 반입하고, 세정이 완료된 기판(1)을 외부로 반출하는 트랙(190)을 포함한다.
이때 트랙(190)은 트랜스퍼모듈 역할을 함과 동시에 본 발명에 따른 기판세정장치(100)의 일부분이기도 한데, 단지 기판(1) 표면을 노출시킨 상태로 운반하여 기판세정장치(100)를 경유하는 경로를 가지면 족한 바, 일반적인 경우와 달리 로봇 등의 별도의 추가적인 요소를 필요로 하지 않는 것을 특징으로 한다.
따라서 기판(1)의 관점에서 보면 트랙(190)을 따라 기판세정장치(100)를 통과하면서 세정이 완료되는 것으로, 간단히 인라인 방식이라 할 수 있다.
이하 본 발명에 따른 기판세정장치(100)의 단면을 도시한 도 4를 참조하여 좀더 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 기판세정장치(100)는 크게 일 방향으로 자외선을 조사하는 자외선소스(120)와, 이와 같이 자외선이 조사되는 영역을 지나는 경로를 가지고 기판(1) 표면을 노출시킨 상태로 운반되도록 하는 트랙(190)과, 자외선소스(120)를 일 방향, 즉 자외선의 조사 방향으로 직선 운동시키는 구동수단(M)을 포함한다.
이때 바람직하게는 자외선의 조사방향과 기판(1)의 이동방향은 실질적으로 직교하는 것이 유리한 바, 일례로 자외선소스(120)는 직 하방으로 자외선을 조사할 수 있고, 기판(1)의 이동경로인 트랙(190)은 자외선소스(120) 하단을 지날 수 있다.
또 자외선소스(120)는 일례로 저면이 개구된 하우징(122)과, 그 내부로 수용되어 자외선을 발하는 광원(124)과, 하우징(122) 저면을 막는 투명절연판(126)과, 광원(124)이 발하는 자외선을 투명절연판(126) 방향으로 집중시키는 반사판(128)을 포함할 수 있다.
이때 광원(124)으로는 185, 254nm 파장의 자외선을 발하는 적어도 하나 이상의 저압수은램프 또는 172nm 파장의 자외선을 발하는 적어도 하나 이상의 유전체배리어방전램프가 될 수 있다.
그리고 트랙(190)은 기판(1) 상면을 노출시킨 상태로 자외선소스(120) 하단을 지나는 어떠한 수단도 가능한데, 일례로 기판(1)의 이동방향과 각각 수직하게 다수가 나란히 배열된 롤러(192)를 포함할 수 있고, 이들은 임의의 일 방향으로 회전한다.
따라서 기판(1)은 다수의 롤러(192) 상에 안착된 상태로 슬라이딩 방식으로 운반된다.
이때 본 발명에 따른 기판세정장치(100)는 특히 자외선소스(120)가 상, 하로 승강하는 것을 특징으로 하는데, 이를 위한 구동수단(M)의 구성 또한 여러 가지가 될 수 있을 것이다.
이에 별도의 도면을 제시하지는 않았지만, 일례로 회전력을 발생시키는 모터 또는 유압모터 등의 동력발생수단과, 이 회전력을 상, 하 직선운동으로 변환하는 볼 나사 또는 실린더 등의 동력변환수단과, 상기 동력변환수단과 자외선소스를 연결하여 자외선소스를 상하 연동시키는 적어도 하나 이상의 구동축을 포함할 수 있다.
그리고 광원(124)과 구동수단(M)에 구동전력을 공급하는 전원공급장치(140a, 140b)를 포함한다. 이는 하나의 전원공급수단을 공유할 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 기판세정장치를 통한 세정에 있어서, 기판(1)의 세정 정도를 결정짓는 세 가지 요소는 자외선소스(120)의 자외선조사량, 자외선 조사시간, 그리고 자외선소스(120)와 기판(1) 사이의 간격이다.
따라서 이들 세 가지 요소를 적절히 조절함으로서 최상의 세정력을 기대할 수 있는데, 이중 자외선조사량은 광원(124)의 조도값을 측정하면서 이에 공급되는전력을 제어함으로서 용이하게 조절 가능하다.
또한 자외선 조사시간은 구동롤러(192)의 회전속도를 통해 조절이 가능한 바, 구동롤러(192)의 회전속도가 빠를 경우 기판(1)이 자외선에 노출되는 시간, 즉 조사시간은 짧고, 반대의 경우 자외선조사시간이 길어진다.
그리고 특히 본 발명은 자외선소스(120)와 기판(1) 사이의 간격 조절을 통해 보다 개선된 세정효과를 얻는 것을 특징으로 하는 바, 이와 같은 관계를 간단히 표로 정리하면 이하의 표 2와 같다.
<표 2>
자외선조사량 기판과 자외선소스사이의 간격 자외선조사시간
조절가능 조절가능 조절가능
한편, 도 5는 기판(1)과 광원(124)의 거리에 따른 자외선 조도값의 변화를 도시한 그래프로서, 자외선은 산소에 흡수되기 매우 쉬운 특성을 갖고 있으므로, 광원(124)으로부터 기판(1) 사이의 간격이 늘어남에 따라 지수 함수적으로 감쇄되는 특징을 갖는다.
따라서 본 발명에 따른 기판세정장치(100)를 통해 기판으로 조사되는 자외선 에너지 총량은 이하의 식 2와 같이 구해진다.
<식 2>
자외선 에너지 총량(mJ)=광원의 조도값(mW)×자외선 조사시간(sec)×기판과 광원의 간격에 따른 감쇄특성계수
따라서 본 발명에 따른 기판세정장치는 이들 세 가지 요소를 모두 고려하여 최상의 세정력을 얻는 것을 특징으로 하는 바, 바람직한 구동방법의 일례를 도시한순서도 도 6을 참조하여 설명한다.
먼저 세정의 전 단계로 임의로 적절한 광원(124)의 조도값과 구동롤러(192)의 회전속도를 결정한다. 그리고 이들 값을 고정시킨 상태로 식 2를 통해 구해질 수 있는 광원(124)과 기판 사이의 간격을 결정한다.
이어 일정한 시간 단위로 광원(124)의 조도값을 측정하면서 광원(124)과 기판(1) 사이의 간격을 수시로 조절하고, 동시에 다수의 구동롤러 (192)상에 안착된 기판(1)이 슬라이딩되어 자외선소스(120) 하단을 지나도록 한다.
이때 자외선소스(120)의 이동간격은 바람직하게는 0.1mm 단위로 조절되는 것이 바람직하며, 상기의 과정을 통해 기판(1)이 세정되어 외부로 반출된다.
이상에서 설명한 본 발명에 따른 기판세정장치는, 먼저 공정시간을 단축할 수 있는 장점이 있다.
이는 본 발명에 따른 기판세정장치의 구성 및 그 구동방법에 따른 두 가지 측면에서 고려될 수 있는데, 전자에 대해 설명하면, 본 발명에 따른 기판세정장치는 기판의 운반과 동시에 세정이 진행되는 인라인 방식을 채택하고 있다.
따라서 일반적인 경우와 비교할 경우, 기판이 이동되는 트랙으로부터 기판세정장치로 로딩 및 언로딩 동작을 하는 로봇 등의 별도의 장비가 불필요하고, 상기 동작에 소요되는 시간을 줄일 수 있는 장점이 있다.
또한 후자의 경우 본 발명에 따른 기판세정장치는 그 구동방법에 있어서 기판의 세정정도를 결정하는 가장 중요한 변수로 광원과 기판 사이의 간격 조절이 용이한 것을 특징으로 하는 바, 광원과 기판사이의 간격에 따라 지수 함수적으로 변화되는 자외선의 조도값을 감안하면 보다 짧은 시간에 효과적인 세정을 가능하게 하는 잇점이 있다.
더욱이 본 발명에 따른 기판세정장치는 광원을 임의의 조도값으로 온(on) 한 상태에서 기판과 자외선소스 간격으로 자외선 조사량을 조절할 수 있는 바, 광원의 조도값이 불필요하게 변화될 필요가 없다. 따라서 실질적으로 목적하는 정도의 자외선조도가 나타날 때까지의 지연시간을 줄일 수 있고, 이에 목적하는 자외선 에너지 총량과 실제 구현되는 자외선 에너지 총량 간의 오차를 최소한으로 줄일 수 있는 장점이 있다.

Claims (10)

  1. 자외선을 사용하여 기판을 세정하는 기판세정장치로서,
    자외선을 발생시켜 일 방향으로 조사하는 자외선소스와;
    상기 자외선소스를 상기 일 방향으로 직선 운동시키는 구동수단과;
    상기 기판 표면을 노출시킨 상태로 슬라이딩시키고, 상기 자외선이 상기 기판 표면에 조사되도록 상기 일 방향에 수직하게 교차되는 경로를 가지는 트랙
    을 포함하는 기판세정장치
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 자외선소스는 직하방으로 자외선을 조사하고,
    상기 트랙은 상기 자외선소스의 직하단에 수직하게 교차되는 경로를 가지는 기판세정장치
  3. 청구항 2항에 있어서,
    상기 자외선소스는
    적어도 하나 이상의 저압수은램프 또는 유전체배리어방전램프 중 선택된 한 종류의 광원과;
    상기 광원이 발하는 자외선을 직하방으로 집중시키는 반사판과;
    상기 광원을 내부로 수용하며 저면이 개구된 하우징과;
    상기 하우징 저면을 막는 투명절연판
    을 포함하는 기판세정장치
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 트랙은,
    상기 경로에 수직한 방향으로 각각 나란하게 배열되고, 길이방향을 축으로 회전하는 다수의 롤러
    를 포함하여, 상기 다수의 롤러 상에 상기 기판을 안착시켜 슬라이딩되도록 하는 기판세정장치
  5. 청구항 2에 있어서,
    상기 구동수단은,
    동력을 발생시키는 동력발생수단과;
    상기 동력을 상하 직선운동으로 변환하는 동력변환수단과;
    상기 동력변환수단과 상기 자외선소스를 연결하여 상기 자외선소스가 상하로 연동하여 승강되도록 하는 연결부재
    를 포함하는 기판세정장치
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 구동수단은 전동기 또는 유압모터 중 선택된 하나를 포함하고,
    상기 동력전환수단은 볼스크류 또는 실린더를 포함하며,
    상기 연결부재는 적어도 하나 이상의 작동축을 포함하는 기판세정장치
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 기판세정장치는 상기 트랙의 회전속도와, 상기 자외선소스가 발하는 자외선의 조도와, 상기 자외선소스와 기판사이 간격을 조절하여 상기 기판을 세정하는 기판세정장치
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 자외선소스와 상기 기판사이 간격은 0.1mm 단위로 조절되는 기판세정장치
  9. 자외선을 발생시켜 일 방향으로 조사하는 자외선소스와, 상기 자외선소스를 상기 일 방향으로 직선 운동시키는 구동수단과, 상기 기판 표면을 노출시킨 상태로 슬라이딩시키고, 상기 자외선이 상기 기판 표면에 조사되도록 상기 일 방향에 수직하게 교차되는 경로를 가지는 트랙을 포함하는 기판세정장치에 있어서, 상기 기판세정장치를 통해 기판을 세정하는 방법으로서,
    상기 자외선소스가 발생하는 자외선의 조도값과, 상기 트랙의 기판 슬라이딩 속도를 고정하는 단계와;
    상기 조도값과 상기 기판 슬라이딩 속도를 통해 상기 자외선소스와 상기 기판 사이의 거리를 조절하는 단계와;
    상기 트랙을 따라 상기 기판을 이동시키는 단계
    를 포함하는 기판세정방법
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 조도값과 상기 기판 슬라이딩 속도를 통해 상기 자외선소스와 상기 기판 사이의 거리를 조절하는 단계에 있어서,
    상기 기판에 조사되는 상기 자외선의 총 에너지량은,
    상기 조도값(mW)과, 상기 기판이 상기 자외선에 노출되는 시간과, 상기 기판과 상기 자외선 소스 사이의 간격에 따른 상기 자외선 세기의 감쇄특성계수의 곱으로 정의되는 기판세정방법
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