KR20040079072A - 자외선을 이용하는 기판세정장치 및 이의 구동방법 - Google Patents
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Abstract
Description
자외선조사량 | 기판과 자외선소스사이의 간격 | 자외선조사시간 |
조절가능 | 고정 | 조절가능 |
자외선조사량 | 기판과 자외선소스사이의 간격 | 자외선조사시간 |
조절가능 | 조절가능 | 조절가능 |
Claims (10)
- 자외선을 사용하여 기판을 세정하는 기판세정장치로서,자외선을 발생시켜 일 방향으로 조사하는 자외선소스와;상기 자외선소스를 상기 일 방향으로 직선 운동시키는 구동수단과;상기 기판 표면을 노출시킨 상태로 슬라이딩시키고, 상기 자외선이 상기 기판 표면에 조사되도록 상기 일 방향에 수직하게 교차되는 경로를 가지는 트랙을 포함하는 기판세정장치
- 청구항 1에 있어서,상기 자외선소스는 직하방으로 자외선을 조사하고,상기 트랙은 상기 자외선소스의 직하단에 수직하게 교차되는 경로를 가지는 기판세정장치
- 청구항 2항에 있어서,상기 자외선소스는적어도 하나 이상의 저압수은램프 또는 유전체배리어방전램프 중 선택된 한 종류의 광원과;상기 광원이 발하는 자외선을 직하방으로 집중시키는 반사판과;상기 광원을 내부로 수용하며 저면이 개구된 하우징과;상기 하우징 저면을 막는 투명절연판을 포함하는 기판세정장치
- 청구항 2에 있어서,상기 트랙은,상기 경로에 수직한 방향으로 각각 나란하게 배열되고, 길이방향을 축으로 회전하는 다수의 롤러를 포함하여, 상기 다수의 롤러 상에 상기 기판을 안착시켜 슬라이딩되도록 하는 기판세정장치
- 청구항 2에 있어서,상기 구동수단은,동력을 발생시키는 동력발생수단과;상기 동력을 상하 직선운동으로 변환하는 동력변환수단과;상기 동력변환수단과 상기 자외선소스를 연결하여 상기 자외선소스가 상하로 연동하여 승강되도록 하는 연결부재를 포함하는 기판세정장치
- 청구항 5에 있어서,상기 구동수단은 전동기 또는 유압모터 중 선택된 하나를 포함하고,상기 동력전환수단은 볼스크류 또는 실린더를 포함하며,상기 연결부재는 적어도 하나 이상의 작동축을 포함하는 기판세정장치
- 청구항 1에 있어서,상기 기판세정장치는 상기 트랙의 회전속도와, 상기 자외선소스가 발하는 자외선의 조도와, 상기 자외선소스와 기판사이 간격을 조절하여 상기 기판을 세정하는 기판세정장치
- 청구항 7에 있어서,상기 자외선소스와 상기 기판사이 간격은 0.1mm 단위로 조절되는 기판세정장치
- 자외선을 발생시켜 일 방향으로 조사하는 자외선소스와, 상기 자외선소스를 상기 일 방향으로 직선 운동시키는 구동수단과, 상기 기판 표면을 노출시킨 상태로 슬라이딩시키고, 상기 자외선이 상기 기판 표면에 조사되도록 상기 일 방향에 수직하게 교차되는 경로를 가지는 트랙을 포함하는 기판세정장치에 있어서, 상기 기판세정장치를 통해 기판을 세정하는 방법으로서,상기 자외선소스가 발생하는 자외선의 조도값과, 상기 트랙의 기판 슬라이딩 속도를 고정하는 단계와;상기 조도값과 상기 기판 슬라이딩 속도를 통해 상기 자외선소스와 상기 기판 사이의 거리를 조절하는 단계와;상기 트랙을 따라 상기 기판을 이동시키는 단계를 포함하는 기판세정방법
- 청구항 9에 있어서,상기 조도값과 상기 기판 슬라이딩 속도를 통해 상기 자외선소스와 상기 기판 사이의 거리를 조절하는 단계에 있어서,상기 기판에 조사되는 상기 자외선의 총 에너지량은,상기 조도값(mW)과, 상기 기판이 상기 자외선에 노출되는 시간과, 상기 기판과 상기 자외선 소스 사이의 간격에 따른 상기 자외선 세기의 감쇄특성계수의 곱으로 정의되는 기판세정방법
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030013988A KR100935401B1 (ko) | 2003-03-06 | 2003-03-06 | 자외선을 이용하는 기판세정장치 및 이의 구동방법 |
US10/792,829 US20040173237A1 (en) | 2003-03-06 | 2004-03-05 | System for cleaning substrates of flat panel display devices and method of cleaning using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030013988A KR100935401B1 (ko) | 2003-03-06 | 2003-03-06 | 자외선을 이용하는 기판세정장치 및 이의 구동방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040079072A true KR20040079072A (ko) | 2004-09-14 |
KR100935401B1 KR100935401B1 (ko) | 2010-01-06 |
Family
ID=32923802
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020030013988A KR100935401B1 (ko) | 2003-03-06 | 2003-03-06 | 자외선을 이용하는 기판세정장치 및 이의 구동방법 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20040173237A1 (ko) |
KR (1) | KR100935401B1 (ko) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2003
- 2003-03-06 KR KR1020030013988A patent/KR100935401B1/ko active IP Right Grant
-
2004
- 2004-03-05 US US10/792,829 patent/US20040173237A1/en not_active Abandoned
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040173237A1 (en) | 2004-09-09 |
KR100935401B1 (ko) | 2010-01-06 |
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FPAY | Annual fee payment |
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