KR20040073380A

KR20040073380A - 랩핑 장치 및 랩핑 방법

Info

Publication number: KR20040073380A
Application number: KR1020040009257A
Authority: KR
Inventors: 오마타마사히로; 이이즈미마사히코; 하세가와기요시; 오기노다카시; 곤도도모히로; 다케다가즈오; 와타나베다카후미; 치다요시유키; 마츠시타야스시
Original assignee: 닛산 지도우샤 가부시키가이샤
Priority date: 2003-02-12
Filing date: 2004-02-12
Publication date: 2004-08-19
Also published as: KR100547640B1; US20040157530A1; EP1447172B1; EP1447172A1; DE602004007418T2; CN1520961A; CN100450715C; US7413498B2; DE602004007418D1

Abstract

필름 피더(FF1)는 필름(1)을 공급하고, 제1 구동 장치(20)는 워크(W)를 회전시키며, 제2 구동 장치(30)는 필름(1)에 대해 워크(W)를 이동시키고, 슈 세트 핸들러(40)는 워크(W)에 필름(1)을 가압하게 슈 세트(2)를 조종하며, 악화 지연 장치(C)는 필름(1)의 연마성 악화를 지연하게 구성된다.

Description

랩핑 장치 및 랩핑 방법{LAPPING APPARATUS AND LAPPING METHOD}

본 발명은 랩핑 장치 및 랩핑 방법에 관한 것이며, 특히 공구로서 랩핑 연마 필름(이하, "랩핑 필름" 또는 "필름"으로 언급함)을 사용하는 랩핑 장치 및 랩핑 방법에 관한 것이다.

최근, 고 정밀 워크에 대한 요구는 랩핑 필름을 사용한 연속된 울트라 피니시(ultra finish)에 주목하고 있다.

일본국 특개평 제7-237116호 공보에서 울트라 피니시를 위해, 랩핑 필름의 연마 면이 반대측의 푸싱 슈에 의해 워크상에 가압되며, 워크는 랩(lap)되도록 회전되고 진동된다.

랩핑 필름의 연마면은 연마면에 부착된 다양한 연마 입자를 가지며, 금방 차단되는 경향이 있으며, 그 결과 연마성이 악화된다.

본 발명은 이러한 점을 고려하여 이루어졌다. 그러므로 본 발명의 목적은이러한 악화를 극복할 수 있는 랩핑 장치 및 랩핑 방법을 제공하는 데에 있다.

상기 목적을 이루기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따라, 랩핑 장치는 랩핑 필름, 필름을 공급하게 구성된 필름 피더, 워크를 회전시키게 구성된 제1 구동 장치, 필름에 대해 워크를 이동시키게 구성된 제2 구동 장치, 슈 세트, 워크에 필름을 가압하도록 슈 세트를 조정하게 구성된 슈 세트 핸들러, 및 필름의 연마성 악화를 지연하게 구성된 악화 지연 장치를 구비한다.

본 발명의 다른 실시예에 따라, 랩핑 방법은 랩핑 필름을 공급하는 단계, 워크를 회전시키는 단계, 필름에 대해 워크를 이동시키는 단계, 워크에 필름을 가압하게 슈 세트를 핸들링하는 단계, 및 필름의 연마성 악화를 지연시키는 단계를 구비한다.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 랩핑 장치의 좌측면도이다.

도 2는 도 1의 장치의 랩의 폐쇄 상태의 배면도이다.

도 3은 도 2의 랩의 개방 상태의 배면도이다.

도 4는 도 2의 "A"의 상세도이다.

도 5는 도 2의 랩의 필름 공급 타이밍 차트이다.

도 6은 제1 실시예의 제1 변형예에 따른 랩핑 장치의 랩의 필름 공급 타이밍 차트이다.

도 7은 제1 실시예의 제2 변형예에 따른 랩핑 장치의 랩의 필름 공급 타이밍 차트이다.

도 8은 제1 실시예의 제3 변형예에 따른 랩핑 장치의 랩 제어 시스템의 도면이다.

도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 랩핑 장치의 랩의 폐쇄 상태의 배면도이다.

도 10은 도 9의 랩의 개방 상태의 배면도이다.

도 11은 제2 실시예의 제1 변형예에 따른 랩핑 장치의 필름 클리너의 단면도이다.

도 12는 제2 실시예의 제2 변형예에 따른 랩핑 장치의 필름 클리너의 단면도이다.

도 13은 제2 실시예의 제3 변형예에 따른 랩핑 장치의 필름 클리너의 단면도이다.

도 14는 본 발명의 제3 실시예에 따른 랩핑 장치의 좌측면도이다.

도 15는 도 14의 장치의 랩의 폐쇄 상태의 배면도이다.

도 16은 도 15의 랩의 개방 상태의 배면도이다.

도 17은 도 15의 랩의 상부 또는 하부 랩의 단면도이다.

도 18은 도 17의 "C1"-"C1"선을 따라 취한 단면도이다.

도 19는 제3 실시예의 변형예에 따른 랩핑 장치의 랩의 상부 랩의 슈 케이스의 단면도이다.

도 20은 도 19의 "C2"-"C2"선을 따라 취한 단면도이다.

도 21은 본 발명의 제4 실시예에 따른 랩핑 장치의 랩의 폐쇄 상태의 배면도이다.

도 22는 도 21의 랩의 개방 상태의 배면도이다.

도 23은 도 21의 "D"의 상세도이다.

도 24는 본 발명의 제5 실시예에 따른 랩핑 장치의 랩의 폐쇄 상태의 배면도이다.

도 25는 도 24의 "E"의 상세도이다.

도 26은 도 24의 랩의 필름의 단면도이다.

도 27은 제5 실시예의 제1 변형예에 따른 랩핑 장치의 랩의 폐쇄 상태의 측면도이다.

도 28은 도 27의 랩의 특성 곡선의 그래프이다.

도 29는 제5 실시예의 제2 변형예에 따른 랩핑 장치의 랩의 폐쇄 상태의 측면도이다.

도 30은 본 발명의 제6 실시예에 따른 랩핑 장치의 좌측면도이다.

도 31은 도 30의 장치의 랩의 폐쇄 상태의 배면도이다.

도 32는 도 31의 랩의 개방 상태의 배면도이다.

도 33은 도 31의 "F"의 상세도이다.

도 34는 도 31의 랩의 상부 랩 부재의 배면도이며, 부재는 시계방향(CW)으로 스윙된다.

도 35는 반시계방향(CCW)으로 스윙되는 상부 랩 부재의 배면도이다.

도 36은 도 30의 장치의 워크의 사시도이다.

도 37은 도 31의 랩의 워크의 단면도이다.

도 38은 도 31의 랩의 제어 시스템의 도면이다.

도 39는 제6 실시예의 변형예에 따른 랩핑 장치의 랩의 배면도이다.

도 40a 내지 도 40d는 도 39의 상부 랩의 배면도이며, 상부 랩은 워크를 트레이스하도록 플로팅한다.

〈도면의 주요부품에 대한 부호의 설명〉

1 : 랩핑 필름 2 : 슈 세트

2a, 2b, 2c, 2d : 슈 3 : 슈 케이스

5 : 필름 공급 릴 6 : 필름 권취 릴

7 : 록킹 장치

11 : 상부 푸시 아암 12 : 하부 푸시 아암

15 : 푸싱력 조절 장치 17 : 필름 영역

30 : 진동 기구 40 : 회전 구동 유니트

100, 200, 300, 400, 500, 600 : 랩핑 장치

110, 310, 410 : 상하부 랩

180 : 카메라 181 : 화상 처리 장치

207 : 초음파 브러시 208 : 초음파 바스

209 : 고압 분사 노즐

436 : 수직 필름 드로어 437 : 수평 필름 드로어

443 : 상하부 탄성 부재 507 : 트루어

630 : 플로팅 유니트 631 : 구동 수단

660 : 캠샤프트 661 : 캠 루브

AP : 연마 입자 C : 제어 장치

CL1, CL2, CL3, CL4 : 클리너

FF1, FF2, FF3, FF4, FF5, FF6 : 필름 피드 시스템

FR : 가공 장치 프레임

LD1 : 윤활유 분배 공급 시스템

M1, M2, M3, M4 : 모터

R1, R2, R3, R4, R5 : 롤러

RD : 거칠기 검출 장치

S1, S2, S3 : 엔코더 S4 : 센서

W : 워크

이하, 본 발명의 6개의 바람직한 실시예뿐만 아니라 실시예의 다수의 변형예에 대해 첨부 도면을 참조로 설명한다. 동일 부재 또는 구성요소는 동일 참조 부호로 나타낸다.

(제1 실시예)

본 발명의 제1 실시예에 관하여 도 1 내지 도 5를 참조로 설명한다.

도 1은 제1 실시예에 따른 공작 기계로서의 랩핑 장치(100)를 X-Y-Z 직교 좌표계로 정의된 3차원 공간에 도시하며, 랩핑 장치(100)는 X축에 평행한 가공 장치 길이방향, Y축에 평행한 가공 장치 횡방향, 및 Z축을 따라 가공 장치 높이를 갖는다.

랩핑 장치(100)는 기대(도시하지 않음)에 고정된 가공 장치 프레임(FR), 가공 장치 프레임(FR)에 장착되며, 가공 장치 프레임(FR)에 대해 슬라이딩 방식으로 길이방향으로 배치되게 구성된 하부 테이블(27), 하부 테이블(27)에 각각 장착되며 하부 테이블(27)에 대해 슬라이딩 방식으로 횡방향으로 배치되게 구성된 한 쌍의 전후 상부 테이블(26)을 포함한다. 테이블(26, 27)은 NC(수치 제어) 제어 장치(C)(연마성 악화 지연 장치의 중추부로서 작용함)로부터 제어된 스크류-피드 시스템(도시하지 않음)을 갖는다.

전방 상부 테이블(26)은, 이에 장착되며 척(chuck)(23)과 함께 회전할 수 있는 스핀들(21)이 설치된 주축대(22)를 갖는다. 후방 상부 테이블(26)은, 이에 장착되며 센터(25a)가 설치된 심압대(25)를 갖는다. 척(23)은 랩핑을 위해 적소에 워크(W)를 설정하기 위해 워크(W)의 길이방향 타단부를 지지하는 센터(25a)와 연관된 워크(W)(예컨대, 도 1의 크랭크샤프트)의 길이방향 일단부를 척에 적용한다.

스핀들(21)은 구동 벨트(24)를 통해 스핀들 구동 모터(M1)로부터 회전하도록 구동된다. 스핀들(21)의 회전은 엔코더(S1)에 의해 (각변위 및/또는 각속도 또는 rpm(분당회전수)으로) 검출되고, 검출 신호가 제어 장치(C)에 입력된다. 모터(M1)가 명령 라인(La)을 통해 제어 장치(C)로부터 제어되며, 워크(W)는 척(23)과 센터(25a) 사이에서 그 길이방향 축을 중심으로 회전하도록 제어된다.

따라서, 워크(W)는, 엔코더(S1)를 포함하고 워크 홀더를 구성하도록 척(23)과 센터(25a)를 내포할 수 있는 NC로 제어되는 횡방향 로터리 구동 기구(20)를 구성하는 "작동하게 연결된 모터(M1), 벨트(24), 및 스핀들(21)의 조합"에 의해 회전구동된다.

하부 테이블(27)은 테이블(27)의 후방 엣지와 가공 장치 프레임(FR)의 반대측 부재 사이에서 압축되는 평행 탄성 부재로서의 스프링(34) 세트에 의해 전방으로 항시 편향되므로, 테이블(27)의 전방 가장자리는 편심 구동 샤프트(33a)에 들어맞거나 고정된 원형 캠(33)의 원주에 접촉된다. 이 샤프트(33a)는 기어세트(33b)를 통해 구동 모터(M2)로부터 회전 구동된다. 샤프트(33a)의 회전은 엔코더(S2)에 의해 (각변위 및/또는 각속도 또는 rpm으로) 검출되고, 엔코더의 검출 신호는 제어 장치(C)에 입력된다. 모터(M2)는 명령 라인(Lb)을 통해 제어 장치(C)로부터 제어된다. 캠(33)이 샤프트(33a)를 중심으로 편심 회전함에 따라, 하부 테이블(27)은 상부 테이블(26)과 테이블 위의 주축대 및 심압대(22, 25)와 함께 길이방향 왕복 운동으로 구동된다.

따라서, 척(23)과 센터(25a) 사이에 유지된 워크(W)에는, 엔코더(S2), 상하부 테이블(26, 27), 및 주축대와 심압대(22, 25)를 포함할 수도 있는 NC 제어 길이방향 왕복 또는 진동 구동 기구(30)를 구성하는 "모터(M2), 기어세트(33b), 샤프트(33a), 캠(33), 및 스프링(34)의 상호작용 조합"에 의해 길이방향으로 진동하게된다.

워크(W)의 진동은 편심 샤프트(33a)의 오프셋량에 따른 진폭(amplitude), 즉 캠(33)의 지리학적 중심과 샤프트(33a)의 회전 축 사이의 거리를 갖는다. 단위 시간당 진동수는 모터(M2)의 rpm을 따르며, 진동의 순간 속도는 오프셋량 ×모터 rpm의 코사인을 따른다. 오프셋량은 샤프트(33a)와 루즈-핏(loose-fit) 캠(33)의 장착 구멍 사이에 조정 플레이트 또는 거리 피스를 삽입하거나 제어가능한 유체 압력에 의해 팽창되는 거리 요소를 사용함으로써 잘 조정될 수 있다.

워크(W)는 랩핑 장치(100)에서 가공되게(예컨대, 슈퍼 표면 피니시(super surfacial finish)를 위해 파인-스무드(fine-smoothed) 또는 폴리싱) 필요에 따라 성형, 롤링, 프레스, 변형 및/또는 용접, 및 절단, 압연, 드릴 및/또는 그라인딩될 수 있다. 워크(W)는 (랩핑 장치(100)에서) 가공되는 총 I(= 소정의 정수)개의 부품{W1(예컨대, 저널(journal)), W2(예컨대, 핀), W3, …, Wi(i= 임의의 정수; 1≤i≤I), …, WI}인 것으로, 부품들(Wi)은 예컨대, 재료, 작업성, 공간 위치, 곡선(curvilinear)으로 할 주변 구성 및/또는 표면 거칠기가 서로 다른 기계가공 조건을 가질 수 있다. 이 실시예에서, 주변 구성은 이해를 위해 원형으로 가정한다.

워크(W)로의 랩핑은 세로로 연장하는 한 쌍의 상하부 랩(110)으로 각각 개별적으로 구성되는 총 J(=소정의 정수; J≤I)개의 선택적이며 제거가능하거나 교체가능한 랩들{100-1, 100-2, 100-3, …, 100-j(j= 임의의 정수;1≤j≤J), …, 100-J}의 길이방향 배열에 의해 이루어진다. J랩들(100-j)은 필요에 따라 분기되는 (예컨대, 분기(Lc1, Lc2, Lc3, …, Lcj, …, LcJ)로) 명령 라인(Lc)을 통해 제어 장치(C)로부터 동기적(synchronously) 또는 비동기적으로 제어될 수 있다. 이 실시예에서, 이해를 위해 J=I이고, 제어는 동기적인 것으로 가정한다.

도 2는 랩핑 장치(100)의 랩(100-j)의 폐쇄 상태를 도시하며, 도 3은 랩(100-j)의 개방 상태를 도시한다. 도 4는 도 2의 "A"의 상세도이다.

랩(100-j)은 랩핑 필름(1)의 공급된 길이를 사용함으로써 워크 부품(Wi)을 공동으로 랩하게 적용된 상하부 랩(110), 필름(1)의 제어된 피드에 적용된 필름 피드 시스템(FF1), 및 랩(100-j)의 개폐 작동을 위해 각각 가공 장치 길이방향으로 연장하는 상하부 지지 핀(14)을 중심으로 시계방향(CW) 및 반시계방향(CCW)으로 스윙되게 상하부 랩(110)을 수직 구동을 한 제어 장치(C)로부터의 제어하에 작동할 수 있는 유체 압력(예컨대, 유압 또는 공압) 실린더(13)로 구성된다. 지지 핀(14)이 가공 장치 프레임(FR)의 적절한 부재에 고정된다.

상하부 랩(110)은 각각 가공 장치 횡방향으로 연장하는 상하부 푸싱 아암(11, 12)으로 구성된다. 상하부 푸싱 아암(11, 12)은 이들의 상호 접근하는 팽창된(bulged) 중앙 부품(11a, 12a)에서 상하부 지지 핀(14)상에 선회된다. 푸싱 아암(11, 12)은 유체 압력 실린더(13)의 피스톤 로드(13d)의 말단 단부와 실린더 헤드(13a)에 고정되는 횡단으로 연장하는 핀(13a, 13b)상에 Z-벤트(Z-bent) 또는 직선의 우측 연장체(11b, 12b)의 말단 단부에서 더 선회된다.

필름 가압 요소(2)의 홀더(2)용 푸셔로서 작용하기 위해, 아암(11, 12)은 스핀들(21)(도 1)의 축중심선을 지나 연장하고, 평면도의 워크 부품(Wi)과 중심선을 수직으로 가로지르는 상하부 좌측 연장체(11c, 12c)를 갖는다. 상하부 좌측 연장체(11c, 12c)에는 거기에 수직으로 슬라이딩 가능하게 들어맞는 (가압 요소 홀더로서) 상하부 슈 케이스(3)를 수용하는 상하부 좌측 리세스(11d, 12d), 및 거기에 고정되는 상하부 필름 롤러(R3)를 수용하는 상하부 우측 리세스(11e, 12e)가 그 반대측에 각각 형성된다. 좌측 연장체(11c, 12c)에는 그것에 수직한 외부 측면에 상하부 타원형 캠(16)이 설치되며, 상하부 캠(16)의 움직임을 따르기 위해 그것을 따라 슬라이딩하게 수직으로 편향된 상하부 푸시 로드(11g, 12g)의 삽입을 위해 상하부 리세스(11d, 12d)의 수직한 외부 측면과 저부 사이에 각각 형성된 상하부 관통 구멍(11f, 12f)을 갖는다.

캠(16)은 제어 장치(C)의 NC 제어 또는 수동 조작에 의해 슈 케이스(3)를 내측으로 수직하게 푸시하도록 회전을 제어할 수 있는 제어 장치(C)와 좌측 연장체(11c, 12c)에 고정된 지지 샤프트(도시되지 않음)에 회전 가능하게 들어맞는다. 각각의 캠(16)의 회전은 검출되어 제어 장치(C)에 입력될 수도 있다.

상하부 슈 케이스(3)에는 횡방향으로 연장하는 상하부 아치형 리세스(3a, 3b)(도 3)가 그 반대측에 형성되고, 이들 케이스(3)에 의해서 뿐만 아니라 아암(11, 12)에 의해서 유지되게 아치 거리(T)(도 4)로 단면에 대략 사다리꼴 형상이고 슈 케이스(3)에 매립된 (필름 가압 요소로서) 횡방향으로 연장되는 제1, 제2, 제3 슈(2a, 2b, 2c)와 한 쌍의 상하부 세트(2)를 갖는다. 슈(2a, 2b, 2c)는 랩되는 워크 부품(Wi)의 해당하는 표면 영역에 등각(conformal)이 되게 아치형 폭 또는 아크 길이(L)(도 4)를 갖는 단면이 아치형 형상인 노출 측면을 갖는다. 이들 슈(2a, 2b, 2c)는 랩핑에 충분한 강성을 갖는 고무, 합성 수지, 금속(예컨대, 알루미늄) 또는 금속 합금으로 만들어진다.

따라서, 랩(100-j)에서, 각각의 슈 세트(2)는 워크 부품(Wi)에 등각으로 푸시되며, 푸싱력 조절 장치 또는 조정 장치(15)로서 작용하는 "로드(11g 또는 12g)와 캠(16)의 조합"을 포함하는 슈 푸싱 기구(40)로서 슈 세트 핸들러를 구성하는 "슈 케이스(3), 로드(11g 또는 12g), 캠(16), 아암(11 또는 12), 실린더(13), 및 핀(14)의 조합"에 의해 그 사이에 필름(1)이 가압된다. 조정 장치(15)는 제어 장치(C)로부터 제어된 유압 또는 공압 실린더에 의해 대체될 수 있다.

슈(2)가 슈 케이스(3)에 의해서 뿐만 아니라 아암(11, 12)에 의해서 푸시됨에 따라, 랩핑 필름(1)(도 26 참조)이 랩되는 워크 부품(Wi)에 가압되게 연마 정면 또는 우측 면으로서의 표면(Sf), 슈(2)에 의해 가압되게 매끄러운 후면 또는 반대측면으로서 후면(Sb)을 갖는 테이프 형상의 가요성이 좋지만 저렴한 얇은 층 또는 적층물("기판"으로 부름)(SB)의 권선된 길이로서 제공된다. 기판(SB)은 적어도 표면(Sf)이 폴리에스터(예컨대, 도 26의 1a)로 만들어지며, 약 25㎛ 내지 약 130㎛ 범위 내의 두께를 갖는다. 필름(1)의 거리에 길이 또는 간헐적인 길이들을 따라, 기판(SB)의 표면(Sf)은 거기에 매립되거나 접착제에 의해 거기에 접착되어 부착되는 균일하게 분포된 연마 입자(AP)(도 26의 1c)를 갖는다. 연마 입자(AP)는 연마재(예컨대, 산화알루미늄, 탄화규소, 다이아몬드)로 만들어지며, 수㎛ 내지 약 200㎛ 범위 내의 입자 크기를 갖는다. 후면(Sb)(도 26의 1b)에서, 기판(SB)은 거칠게 되거나 그렇지 않으면 슬립 방지용으로 가공되거나 처리될 수 있는 슬립 방지 재료(예컨대, 고무, 합성 수지)로 만들어진다.

필름 피드 시스템(FF1)은 랩핑용으로 공급되게 필름(1)의 길이를 해제하는 필름 공급 릴(5), 랩핑 후에 권취(taken-up)되게 필름(1)의 길이를 권선하는 필름 권취 릴(6), 및 필름 피드를 보조하고 및/또는 바인딩 또는 간섭없이 필름 피드 방향을 변화시키는 필요한 수의 필름 피드 롤러(Rk)(k=1, 2, 3, 4, 5)로 구성된다.공급 릴(5), 권취 릴(6), 및 피드 롤러(Rk)는 프레임(FR)(도 1), 상부 아암(11), 또는 하부 아암(12)에 의해 지지된다. 프레임(FR)은 공급 릴(5), 권취 릴(6), 공급 보조 롤러(R4), 및 권취 보조 롤러(R5)를 지지한다.

상하부 아암(11, 12)은 좌측 연장체(11c, 12c)의 좌측 단부에 고정된 수직으로 연장하며 비교적 긴 한 쌍의 상하부 롤러 지지 부재(11h, 12h), 좌측 연장체(11c, 12c)의 상하부 우측 리세스(11e, 12e)에 설치된 한 쌍의 비교적 짧은 상하부 롤러 지지 부분(11i, 12i)을 갖는다. 상부 지지 부재(11h)는 아암(11)의 상부 좌측 연장체(11c) 주위를 우회하고, 상하부 좌측 연장체(11c, 12c) 사이의 공간(Sp)에 진입하여, 공간(Sp) 또는 연관된 간극에 우측 전방으로 전진하며, 필름(1)의 공급 길이를 보조하는 한 쌍의 공급측 방향 변환 상하부 롤러(R1)를 지지하도록 구성된다. 하부 지지 부재(12h)는 공간(Sp) 또는 연관된 간극에 좌측 후방으로 후퇴하고, 공간(Sp)을 나가며, 하부 좌측 연장체(12c) 둘레를 우회하게 필름(1)의 공급 길이를 보조하기 위해 한 쌍의 권취 측면 방향 변환 상하부 롤러(R2)를 지지하도록 구성된다. 상하부 지지 부분(11i, 12i)은 공간(Sp)으로 복귀하도록 필름(1)의 공급 길이를 보조하기 위해 한 쌍의 공급 방향 변환 상하부 롤러(R3)를 지지하도록 구성된다.

필름 공급 시스템(FF1)은 필름(1)을 감거나 또는 권취하도록 회전되게(공급 릴(5)이 공급되는 필름(1)의 길이를 해제하게 함) 권취 릴(6)을 구동하는 구동 모터(M3)를 포함하고, 모터(M3)의 회전을 검출하는 로터리 엔코더(S3)를 포함한다. 모터(M3)는 그 사이 명령 라인(Ljc)을 통해 제어 장치(C)로부터 제어된다(도 8 참조). 엔코더(S3)의 검출 신호가 제어 장치(C)에 입력된다. 공급 릴(5)은 로터리 엔코더에 설치되어 제어 장치(C)로부터 제어되는 다른 구동 모터에 의해 모터(M3)와 동기적으로 회전 구동될 수도 있다.

필름 공급 시스템(FF1)은 각각 공급 측(릴(5)과 롤러(R4, R1 또는 R3) 사이)과 권취 측(롤러(R3, R2 또는 R5)와 릴(6) 사이)에 필름(1)의 공급을 잠금하는 한 쌍의 상하부 록킹 장치(7)(도 4)를 더 포함한다. 록킹 장치(7)가 제어 장치(C)(도 1)로부터 제어되므로, 필름(1)이 공급 측과 권취 측에 필요에 따라 인장된다. 록킹 장치와 같은 것이 릴(5)과 롤러(R4 또는 R1) 또는 롤러(R1, R3) 사이, 롤러(R3, R2) 또는 롤러(R2 또는 R5)와 릴(6) 사이에 설치될 수 있다.

롤러(R1-R3)와 롤러(R3-R2) 사이에서 인장됨에 따라, 도 3에서 수축된 유압 실린더(13)에 의해 랩(100-j)이 개방됨에 따라, 필름(1)이 직선으로 잡아당겨진다. 랩이 도 2와 같이 팽창된 실린더(13)에 의해 폐쇄될 때, 워크(W)가 구동 기구(30)(도 1)에 의해 가공 장치 길이방향으로 진동됨에 따라, 필름(1)은 슈(2a, 2b, 2c)의 어느 하나의 세트(2)와 워크 부품(Wi) 사이에 가압되어 상하부 랩(110)에 의해 랩되는 워크 부품(Wi)의 표면 영역에 의해 등각으로 구부러진다.

이 실시예에서, 필름 공급 시스템(FF1)에는 필름(1)에 의해 각각의 슈 세트(2)에 랩핑 서비스를 위해 그 사이 거리를 간섭하게 이용하도록 필름(1)의 간헐적인 공급 시퀀스가 적용된다. 필름(1)의 효과적인 랩핑과 효율적인 사용을 위해, 랩(100-j)은 공급(f)에 대한 슈 폭(L)과 슈 거리(T)의 비를 설정함으로써 각각의 서비스에서 필름 영역의 반복된 사용을 방지하도록 구성된다;

T : L : f = n : 1 : n,

단, n은 서비스에 관련된 슈, 즉 슈 세트(2)중 어느 하나의 수.

도 5는 랩(100-j)에서 필름 공급 타이밍을 도시한다. n=3에 대해, T=3xL과 f=3xL(=f1)이다.

제1 서비스에서, 워크(W)가 진동함에 따라, 제1, 제2, 제3 슈(2a, 2b, 2c)는 필름(1)이 표면(Sf)(도 26 참조)에서 랩핑 서비스를 위해 사용되는 폭(L)의 쉐도우 영역을 갖는 곳 아래에, 아치형 노출 측면을 따라 폭(L)의 제1, 제2, 제3 점선의 작업 존(working zone)(Wp)(2a에 대해 p=1, 2b에 대해 p=2, 2c에 대해 p=3)을 갖는다. 제1 슈(2a)는 제1 작업 존(Wp)(p=1)을 덮으며, 지금부터 고려되는 해당하는 필름 영역(17)을 사용한다.

제1 서비스 후에, 필름(1)은 제1 피드에 의해 거리(f1=3xL)로 이동하며, 이에 의해 필름 영역(17)의 우측이 제2 작업 존(Wp)(p=2)의 좌측에 인접한 위치로 배치되므로, 필름 영역(17)은 제2 작업 존(Wp)(r=2) 바로 뒤를 트레일링하는 L폭 존을 중첩한다.

제2 서비스에서, 상기 언급된 트레일링 존의 바로 앞, 제2 슈(2b)는 랩핑을 위해 해당하는 새로운 필름 영역을 사용한다.

제2 서비스 후에, 필름(1)은 제2 피드에 의해 다른 거리(f1)로 이동하며, 이에 의해 필름 영역(17)의 우측이 제3 작업 존(Wp)(p=3)의 바로 뒤 트레일링 존의 좌측에 인접한 위치로 배치되므로, 필름 영역(17)은 제3 작업 존(Wp)(p=3) 뒤 또다른 트레일링 후에 트레일링하는 L폭 존을 중첩한다.

제3 서비스에서, 다른 트레일링 존의 바로 앞, 제3 슈(2c)는 랩핑을 위해 해당하는 새로운 필름 영역을 사용한다.

제3 서비스 후에, 필름(1)은 제3 피드에 의해 또 다른 거리(f1)로 이동하며, 이에 의해 필름 영역(17)의 우측이 제3 작업 존(Wp)(p=3)의 바로 앞 선행하는 존의 우측의 위치로 배치되므로, 필름 영역(17)은 선행 존을 중첩한다.

제4 서비스에서, 상기 언급된 선행 존의 바로 뒤, 제3 슈(2c)는 랩핑을 위해 해당하는 새로운 필름 영역을 사용한다.

제4 서비스 후에, 필름(1)은 제4 피드에 의해 또 다른 거리(f1)로 이동하며, 이에 의해 필름 영역(17)의 우측은 그사이에 3개의 L폭 존이 연결되어 제3 작업 존(Wp)(p=3) 앞의 익시딩(exceeding) 존의 우측의 위치로 배치되므로, 필름 영역(17)은 익시딩 존을 중첩한다.

제5 서비스에서, 상기 언급된 3개의 존 바로 뒤, 제3 슈(2c)는 랩핑을 위해 해당하는 새로운 필름 영역을 사용한다. 이는 마지막 워킹 존(Wp)(p=3)을 지나서, 전체 필름 영역이 그사이 사용되지 않는 영역 없이 연결되므로, 필름(1)의 기판 표면(Sf)이 완전하게 한번에 사용되어 균일한 랩핑 서비스와 필름(1)의 효율적인 사용을 허용한다.

(제1 실시예의 제1 변형예)

도 6은 제1 실시예의 제1 변형예에 따른 랩핑 장치의 랩(100-j)에서의 필름 피드 타이밍을 도시하며, 여기서 n=4, T=4xL이고 f=4xL(=f2)이다.

이 랩(100-j)에서, 4개의 슈(2a, 2b, 2c, 2d)를 갖는 각각의 슈 세트(2)는필름(1)이 표면(Sf)에서 랩핑 서비스를 위해 사용되는 폭(L)의 쉐도우 영역을 갖는 곳 아래에, 아치형 노출 측면을 따라 폭(L)의 제1, 제2, 제3 , 제4 점선의 작업 존(Wq)(2a에 대해 q=1, 2b에 대해 q=2, 2c에 대해 q=3, 2d에 대해 q=4)을 포함한다. 제1 서비스에서, 제1 슈(2a)는 제1 작업 존(Wq)(q=1)을 덮으며, 지금 고려되며 제5 피드에 후속하는 제6 서비스가 트레이스 업되는 해당하는 필름 영역(18)을 사용한다.

이 변형예에서, 마지막 작업 존(Wq)(q=4) 후에, 전체 필름 영역이 그사이 사용되지 않는 영역 없이 연결되므로, 필름(1)의 기판 표면(Sf)이 완전하게 한번에 사용되어 균일한 랩핑 서비스와 필름(1)의 효율적인 사용을 허용한다.

(제1 실시예의 제2 변형예)

도 7은 제1 실시예의 제2 변형예에 따른 랩핑 장치의 랩(100-j)의 필름 공급 타이밍을 도시하며, 여기서 n=2, T=2xL, 및 f=2xL(=f3)이다.

이 랩(100-j)에서, 2개의 슈(2a, 2b)를 갖는 각각의 슈 세트(2)는, 필름(1)이 표면(Sf)에서 랩핑 서비스를 위해 사용되는 폭(L)의 쉐도우 영역을 갖는 곳 아래에, 아치형 노출 측면을 따라 폭(L)의 제1, 제2 점선의 작업 존(Wr)(2a에 대해 r=1, 2b에 대해 r=2)을 포함한다. 제1 서비스에서, 제1 슈(2a)는 제1 작업 존(Wr)(r=1)을 덮으며, 지금 고려되며 제3 피드에 후속하는 제4 서비스가 트레이스 업되는 해당하는 필름 영역(19)을 사용한다.

이 변형예에서, 마지막 작업 존(Wr)(r=4) 후에, 전체 필름 영역이 그사이 사용되지 않는 영역 없이 연결되므로, 필름(1)의 기판 표면(Sf)이 완전하게 한번에사용되어 균일한 랩핑 서비스와 필름(1)의 효율적인 사용을 허용한다.

(제1 실시예의 제3 변형예)

도 8은 제1 실시예의 제3 변형예에 따른 랩핑 장치의 랩(101-j)용 제어 시스템을 도시한다.

이 변형예는 필름(1)의 기판 표면(Sf)이 상하부 슈 케이스(3) 사이 필름 통로의 우회로 근처에 배치된 카메라(180)에 의해 랩(101-j)의 하부 랩(111)의 슈 세트(2)에서 랩핑 서비스를 위해 사용되지 않거나 재사용될 수 있는 영역을 검출하고, 카메라(180)로부터 사진 데이터가 제어 장치(C)에 입력되는 화상 처리 장치(181)에 의해 처리되는 점이 제1 실시예(100)와 상이하다.

제어 장치(C)에서, 입력 데이터는, 필요에 따라 필름 피드(f)(도 4)의 보정을 유효화하고, 랩(101-j)의 상부 랩(111)의 슈 세트(2)에 기준 서비스 후 보다 더 막힌(clogged) 영역을 (하부 랩(111)의 슈 세트(2) 서비스에서) 사용하는 것을 회피하기 의해, 권취 릴(6)뿐만 아니라 록킹 장치(들)(7)의 구동 모터(M3)에 분기 라인(Lcj)을 통해 출력되는 명령의 발생을 처리한다.

워크(W)(도 1)는 캠샤프트일 수도 있으며, 워크 부품(Wi)(도 4)은 캠 루브(cam lobe)일 수도 있다. 이러한 경우에, 필름 피드는 하부 랩(111)의 슈 세트(2)에서 조차 한번 사용된 영역을 재사용하지 않도록 제어된다.

(제2 실시예)

본 발명의 제2 실시예에 대해 도 9 및 도 10을 참조로 설명한다. 도 9는 제2 실시예에 따른 랩핑 장치(200)의 랩(200-j)의 폐쇄 상태를 도시하며, 도 10은랩(200-j)의 개방 상태를 도시한다.

이 실시예(200)는 필름 피드 시스템(FF2)이 상하부 랩(110) 사이에 정렬되고 랩(110) 또는 프레임(FR)(도 1) 중 하나에 의해 지지되는 필름 클리너(CL1)를 구비하여 필름(1)의 재사용과 균일한 랩핑을 허용하는 것이 제1 실시예(100)와 상이하다.

클리너(CL1)는 상부 랩(110)의 슈 세트(2)에서 랩핑 서비스 후 또는 랩(200-j)이 랩핑 서비스 밖에 있는 동안 랩핑 필름(1)의 기판 표면(Sf)(도 26 참조)을 클리닝하게 구성된다. 클리너(CL1)의 온-오프 타이밍뿐만 아니라 작업 상태가 관련된 장치의 작동 상태를 스캔(scan)한 후 제어 장치(C)(도 1)로부터 제어된다. 상기 스캔은 화상 처리 장치(181)(도 8)의 화상 데이터를 포함하며, 클리닝에 의해 클로그(clog) 또는 외래 물질이 필름(1)에서 제거되는지를 조사한다.

(제2 실시예의 제1 변형예)

도 11은 제2 실시예의 제1 변형예에 따른 랩핑 장치(210)의 랩(210-j)의 필름 클리너(CL2)를 도시하며, 도 9의 "B"의 상세도에 해당한다.

이 변형예는 필름 피드 시스템(FF21)이 초음파 브러시(ultrasonic brush)(207)로 구성된 필름 클리너(CL2), 롤러(R3) 사이에 추가 필름 롤러(R31, R32)가 설치된 필름(1)의 우회로를 갖는 점이 제2 실시예(200)와 상이하다. 롤러(R31)는 필름(1)이 초음파 브러시(207)에 의해 용이하게 클리닝되게 기판 표면(Sf) 외부에 노출되게 만곡되거나 또는 상승되도록 위치된다. 클리너(들)(CL2)는 롤러(들)(R3, R31, 및/또는 R32)에서 필름(1)을 클리닝하게 위치될 수 있다.

(제2 실시예의 제2 변형예)

도 12는 제2 실시예의 제2 변형예에 따른 랩핑 장치(211)의 랩(211-j)의 필름 클리너(CL3)를 도시한다.

이 변형예는 필름 피드 시스템(FF22)이 초음파 바스(ultrasonic bath)(208)로 구성된 필름 클리너(CL3), 롤러(R3) 사이에 추가 필름 롤러(R31, R32)가 설치된 필름(1)의 우회로를 갖는 점이 제2 실시예(200)와 상이하다. 롤러(R31)는 필름(1)이 초음파 바스(208)에 의해 용이하게 클리닝되게 기판 표면(Sf) 외부에 담궈지게 만곡되거나 또는 상승되도록 위치된다. 클리닝 액체는 랩핑용 냉매일 수 있으며, 냉매 저장 탱크로부터 공급될 수 있다. 클리너(들)(CL3)는 롤러(들)(R3, R31, 및/또는 R32)에서 필름(1)을 클리닝하게 위치되거나 연장될 수 있다.

(제2 실시예의 제3 변형예)

도 13은 제2 실시예의 제3 변형예에 따른 랩핑 장치(211)의 랩(212-j)의 필름 클리너(CL4)를 도시한다.

이 변형예는 필름 피드 시스템(FF23)이 고압 분사 노즐(209)로 구성된 필름 클리너(CL4), 롤러(R3) 사이에 추가 필름 롤러(R31, R32)가 설치된 필름(1)의 우회로를 갖는 점이 제2 실시예(200)와 상이하다. 롤러(R31)는 필름(1)이 고압 분사 노즐(209)로부터의 분사에 의해 용이하게 클리닝되게 기판 표면(Sf) 외부에 노출되게 만곡되거나 또는 상승되도록 위치된다. 분사로 분무되는 클리닝 액체는 랩핑용 냉매일 수 있으며, 냉매 저장 탱크로부터 공급될 수 있다. 클리너(들)(CL4)는 롤러(들)(R3, R31, 및/또는 R32)에서 필름(1)을 클리닝하게 위치되거나 연장될 수 있다.

(제3 실시예)

본 발명의 제3 실시예를 도 14 내지 도 18을 참조하여 설명한다. 도 14는 제3 실시예에 따른 랩핑 장치(300)를 도시하며, 도 15는 장치(300)의 랩(300-j)의 폐쇄 상태를 도시하고, 도 16은 랩(300-j)의 개방 상태를 도시한다. 도 17은 랩(300-j)의 상하부 랩(310)의 푸시 아암(11 또는 12)의 단면도이며, 도 18은 도 17의 "C1"-"C1"선을 따라 취한 단면도이다.

이 실시예는 랩(300-j)이 푸시력 조절 장치(315)와 외부 윤활유 펌프(P)에 연결된 내부 윤활유 분배 공급 시스템(LD)을 포함하는 슈 푸싱 기구(340)가 각각 설치된 상하부 랩(310)을 가지며, 필름 피드 시스템(FF3)이 그것과 협력 구조를 갖는 것이 이전의 실시예와 상이하다. 구동 모터(M1, M2)의 로터리 엔코더(S1, S2)로부터 검출 신호가 제1 실시예(100)에서 설명된 바와 같이 신호 라인(L1, L2)을 통해 제어 장치(C)에 입력된다.

상부 푸시 아암(11)(또는 하부 푸시 아암(12))이 슈 케이스(3)를 수용하기 위해 상부(또는 하부) 좌측 직사각형 리세스(11a)(또는 12a)에 형성된다. 이 케이스(3)는, 슈 케이스 푸싱 스프링과 스프링력 조절 스크류의 조합인 조절 장치(315)에 의해 푸시력의 조정을 위해 리세스(11a)(또는 12a)를 따라 수직으로 슬라이딩 가능하다.

슈 케이스(3)에는 슈 지지체로서 그사이에 사다리꼴 돌기(344)를 형성하며,가공 장치의 길이방향으로 연장하는 다수의 절단된 방사상 슬롯(345)을 갖는, 가공 장치의 길이방향으로 연장하는 반원형 리세스가 형성된다. 이들 돌기(344)는 슈 세트(2)의 각각의 슈가 부착되는 반원형 리세스의 나머지 부품으로서 아치형 최상부(343)를 가지며, 방사상 공간(342)이 좌우측 벽상에 필름(1)의 길이 사이에 형성되도록 돌기 최상부(343)와 방사상 슬롯(345)의 좌우측 벽을 따라 웨이빙(waving) 방식으로 랩핑 필름(1)이 안내된다.

돌기 최상부(343)가 슈를 푸시함에 따라, 슈 세트(2)는 워크(W)(또는 워크 부품(Wi))의 해당 표면 영역에 등각으로 가압되고, 워크(W)의 잔류 표면 영역은 방사상 공간(343)의 개방 단부로 연장한다. 각각의 슬롯(345)의 깊이로의 필름(1)의 드로잉(drawing)을 위해, 슬롯(345)의 좌우측 벽에 고정된 한 쌍의 스프링(349)으로 구성된 필름 우회 공급 장치(341)가, 스프링(349)에 의해 회전 가능하게 현수되며 스프링(349)의 탄성에 의해 외측으로 수직하게 방사상으로 편향되어 그 방향으로 필름(1)을 인장하는 인장 롤러(350)를 슬롯 바닥에 제공한다. 회전 가능하게 현수된 롤러(350)는 필름(1)에 의해 닳게되도록 감소되는 경향이 있으며, 우회 공급 장치(341)의 연장된 수명을 부여하며, 필름(1)의 매끄러운 공급과 필름 피드 시스템(FF3)의 단순한 구조를 허용한다.

장착시, 필름(1)의 충분한 길이는 워크(W)와 관련된 슈 사이를 통과하는 복귀 이전에 거기에 만들어진 방사상 우회로를 가지도록 슬롯(345)으로 삽입되며, 사다리꼴 돌기(344)의 인접하는(proximal) 단부로 인장 롤러(350)를 인계한다. 슬롯(345)을 이용한 필름(1)의 웨이브가 있는 설계는 각각의 방사상 공간(342)이전후 단부(342a, 342b) 양쪽으로 개방되고, 인장 롤러(350) 둘레 필름 우회로, 좌우측 양쪽에 필름(1)의 대향 길이, 랩되는 워크(W)의 원주의 노출 영역에 의해 형성되는 것을 허용한다. 워크(W)의 원주는 선택적으로 필름(1)에 의해 덮여지지 않는 노출된 영역과 필름(1)에 의해 덮여지는 영역을 갖는다.

내부 윤활유 공급 시스템(LD)은 슈 케이스(3)에서 윤활유 통로(346)의 네트워크로서 형성되며, 커플링(348)과 접속 튜브(347)를 통해 외부 윤활유 펌프(P)로 접속되며, 튜브(347)는 슈 세트(2) 또는 슈 케이스(3)상에 과도한 동적 부하가 부과되는 것을 회피하기 위해 탄성이 있으며 고가인 것으로 만들어진다.

각각의 방사상 공간(342)은 그것으로부터 윤활유가 유입하는 것을 허용하는 윤활유 통로(346)와 함께 전후방 단부(342a, 342b)의 양쪽과 연통하며, 워크(W)의 랩핑 표면 영역과 필름(1) 사이뿐만 아니라 랩되는 워크 표면 영역으로 유도시키는 것을 보장하기 위해 필름(1)의 표면(Sf)을 따라 윤활유를 안내하며, 워크 표면을 따라 직접 접촉, 또는 기계가공되는 워크(W)의 지점에 윤활유가 흐르는 것 허용하며, 그 결과 윤활유와 워크(W) 사이 접촉 영역에 퍼진다.

펌프된 윤활유는 가공 장치 길이방향에서 방사상 공간(342)으로 윤활유 통로(346)로부터 전달되며, 공간(342)의 내측에 노출된 필름 표면(Sf)에 직접 쏟아져나오며, 그 결과 필름 표면(Sf)으로부터 연마된 먼지를 씻어내는 것을 주목한다.

또한 파형으로 우회된 필름(1)은 워크(W)가 열 손실에 의한 마찰로 랩되는 슈와 진동 워크(W) 사이 가압된 영역과, 워크(W)가 노출되는 방사상 공간(342)을 형성하는 우회로 영역을 선택적으로 갖는 것을 주목한다. 각각의 방사상공간(342)의 윤활유의 플럭스(flux)가 노출된 워크 표면을 향해 노출된 (필름(1)의 우회로 영역의) 표면(Sf)에 의해 안내됨에 따라, 워크로부터 열을 빼앗는 연마된 먼지와 함께 외부로 연통하는 전후 중앙 공간(342c, 342d)을 통해 대부품 유출되며, 나머지는 워크(W)와 필름(1)의 가압 영역 사이에 공급되어, 그 사이 간극을 통과하며, 그로부터 열을 빼앗고 다음 방사상 공간(342)으로 유출한다. 따라서 윤활유가 랩되는 워크 표면, 필름과 슈 사이 또는 워크 표면과 필름 사이로 인도되어, 냉각과 연마된 먼지 제거에 유효하지만, 윤활유의 이러한 침입은 그렇지 않다면 어렵게된다.

전술한 효과는 필름 우회 공급 장치(341)의 각각의 위치를 개설하며, 윤활유와 워크(W) 사이의 접촉 영역의 퍼짐의 적당한 증가에 의해 기계가공되는 워크의 복수 개의 지점에 윤활유의 용이한 공급을 허용하며, 연마된 먼지의 매끄러운 제거를 가능하게 하며, 필름(11)과 워크(W)의 냉각을 향상시킨다.

(제3 실시예의 변형예)

도 19는 제3 실시예의 변형예에 따른 랩핑 장치의 임의의 랩의 상부 랩의 슈 케이스(303)를 도시하며, 도 20은 도 19의 "C2"-"C2" 선을 따라 취한 단면도이다.

이 변형예는 외부 윤활유 펌프(P)(도 17)로부터 공급된 윤활유가 서비스의 랩핑 필름(1)의 영역의 후면측(Sb)(도 26 참조)에 퍼붓도록 분배되어 분무되거나, 배출되며, 슈 케이스(303)뿐만 아니라 내부 윤활유 공급 시스템(LD1)은 변형된 구조를 가지며, 필름 피드 시스템(FF31)은 협조적인 구조를 갖는다.

중공의 슈 케이스(303)는 반원통형 정상부(361a), 전후방 수직부(361b), 및좌우측부(361c)를 포함하는 가공 장치의 길이방향으로 연장하는 중공의 슈 케이스 부재(361), 슈 케이스 부재(361) 내측에 각이 있게 등간격으로 방사상으로 정렬된 다수개의 가공 장치 길이방향으로 연장된 평면 지지부재(344)로 구성된다.

슈 케이스 부재(361)는 내측 벽(363b) 전체에 공급된 윤활유를 분배하는 반원통형 또는 배럴형 아치천장(vault) 형상의 중공(362)을 상호작용적으로 형성하는 내외부 벽(363a, 363b)으로 구성된 재킷(jacketed) 구조를 갖는다. 내부 벽(363b)은 평면 지지 부재(344) 사이에 형성된 다수의 가공 장치 길이방향으로 연장하는 사다리꼴 슬롯(345)으로 분배된 윤활유를 쏟아붇게 분무하거나 방출하는 다수의 균일하게 분배된 관통 구멍(364)으로 형성된다. 지지부재(344)는 그 방사상 내부 인접 말단에 부착된 슈 세트(2)를 가지며, 내부 벽(363b)의 그 방사상 외부 말단에 고정된다.

필름 피드 시스템(FF31)은 내부 벽(363b)에 고정된 한 쌍의 전후방 스프링(349), 스프링(349)의 탄성에 의해 수직하게 외방으로 방사상으로 편향되며, 스프링(349)에 의해 회전 가능하게 현수된 가공 장치 길이방향으로 연장하는 인장 롤러(350)로 구성된 필름 우회 공급 장치(341)를 각각의 사다리꼴 슬롯(345)에 갖는다. 랩핑 필름(1)은 슈 케이스(303)와 워크(W)(또는 워크 부품(Wi)) 사이에 통과되며, 선택적으로 우회된 파동은 랩되는 워크(W)의 표면 영역과 슈 사이 가압 영역과 랩되는 워크(W)의 표면 영역이 노출되는 방사상 공간(342)을 형성하는 인장 롤러(350)에 걸쳐 스트래칭되는 우회로의 길이를 갖는다.

윤활유 공급 시스템(LD1)은 중공(362), 구멍(364), 전후 말단(345a, 345b)을내포하여 연결된 우회 필름(1)의 후면(Sb)에 의해 형성된 외부 방사상 공간(345), 우회 필름(1)의 표면(Sf)에 의해 형성된 내부 방사상 공간(342), 및 외부로 연통하는 전후 중앙 공간(342c, 342d)으로 구성된다.

최상부(361a)로부터의 워터 샤워는 각각의 외부 방사상 공간(345)으로 쏟아지며, 내부 방사상 공간(342)으로 다소 유입되고, 중앙 공간(342c, 342d)으로 대부품이 유입되어, 냉각되는 필름(1)과 워크(W)의 영역으로부터 마찰열을 빼앗는다. 전후부(361b)로부터 각각의 내부 방사상 공간(342)으로의 워터 샤워는 필름(1)에 의해 안내되며 제3 실시예와 같은 효과를 나타낸다.

물은 필름 우회 공급 장치(341)의 위치와 관계없이 전체 공간 영역에 쏟아지며, 전체 필름의 냉각을 이루게 되며, 기계가공되거나 기계가공될 워크의 전체 지점에 윤활유의 공급과 연마된 먼지와 낙하된 연마 입자의 효율적인 제거를 보장하며, 워크가 향상된 균일한 표면 거칠기로 마무리되고, 기계가공의 질이 개선되는 것을 허용한다.

(제4 실시예)

본 발명의 제4 실시예에 대해 도 21 내지 도 23을 참조하여 설명한다. 도 21은 본 발명의 제4 실시예에 따른 랩핑 장치(400)의 랩(400-j)의 폐쇄 상태를 도시하며, 도 22는 랩(400-j)의 개방 상태를 도시한다. 도 23은 도 21의 "D"의 상세도이다.

이 실시예는 장치(400)가 상하부 가공 장치 횡방향으로 왕복운동 또는 진동 기구(432)(도 23)의 조합으로서 "필름 진동 장치"를 포함하며, 또한 가공 장치 길이방향 왕복운동 또는 진동 기구(30)(도 1)로서 "워크 진동 장치"를 포함하는 것이 이전의 실시예와 상이하다. 각각의 진동 기구(432)는 워크 회전 속도의 영향에 관계없이 충분히 빠르게 필름(1)의 진동을 가능하게 한다. 필름(1)의 공급 방향으로 필름 진동 장치가 유효하도록, 진동 기구(432)는 진동-배향 수직 필름 드로어(drawer)(436)와 인장-배향 수평 필름 드로어(437)를 채용한다. 이 드로어(437)는 진동에 동기적으로 드로어(436)에 필름을 공급할 수 있으며, 상하부 진동 기구(432) 사이에 공유된다.

랩(400-j)(도 21- 22)은 필름(1)의 NG-제어된 피드를 위해 구성된 필름 피드 시스템(FF4), 그 사이에서 필름(1)이 가압되어 랩되는 워크(W)(또는 워크 부품(Wi))의 표면 영역에 슈 세트(402)를 푸싱하는 슈 케이스(403)를 갖는 슈 푸셔(440)가 각각 설치된 한 쌍의 상하부 랩(410)을 포함한다.

수직 필름 드로어(436)는 슈 세트(402) 중 일측 슈를 통해 그 둘레에 우회되는 필름(1)에 적용된 방사상 인장 롤러(R44), 방사 방향으로 롤러(R44)를 진동시키도록 구성된 모터로 구동된 진동 장치(M44)를 포함한다. 이 진동은 예컨대 다른 유체 압력 실린더에 의해 유효화될 수 있다.

수평 필름 드로어(437)는 슈 세트(402)를 통해 그 둘레에 우회된 필름(1)에 적용된 방사상 인장 롤러(R3), 방사상 외부 방향에 롤러(R3)를 수직으로 편향하게 적용된 탄성 부재(438), 예컨대 스프링을 포함하며, 드로어(436)에 필름 진동에 대한 필름(1)의 필요 길이의 공급을 허용한다. 로드에 의해 지지된 롤러(R3)는 랩(400-j)이 폐쇄될 때, 당겨진 위치로 설정된 로드 가이드(439)(도 21, 도22)에의해 안내된다.

필름 피드 시스템(FF4)은 가공 장치 프레임(FR)(도 1)에 고정된 스프링과 같은 상하부 탄성 부재(443)(도 23)에 의해 그 필름 인장 방향에 수직으로 편향되는 상하부 인장 롤러(R4, R5)를 각각 사용하는 상하부 인장 제어 장치(441)를 포함한다. 제어 장치(441)는 슈 세트(402)중 하나와 잠금 장치 사이의 인장 공차를 제공하여, 피드 방향의 매끄러운 필름 진동과 필름 공급을 용이하게 한다. 필름 피더(FF4)의 권취 측 또는 공급 측에서, 인장 롤러(R4 또는 R5)는 필름 록커(locker)(7)의 작용점과 슈 세트(2) 사이에 위치된 필름(1)의 작용점을 갖는다.

미세한 진동을 위해, 슈 세트(402)는 진동 배향 필름 드로어와 인장 배향 필름 드로어의 선택적인 정렬을 반복하도록 다중 분할될 수 있다.

워크(W)는 회전에 편심된 오프셋 저널 부품(Wi)을 가질 수 있으며, 이는 스윙가능한 아암(11, 12)의 상호작용에 의해 랩핑에 후속될 수 있다.

롤러(R44)의 양자 또는 그 중 하나의 방사상 외향 이동을 따라, 필름 드로어(437)의 스프링(438)이 필름(1)의 필요 길이를 공급하게 팽창하며, 롤러(들)(R44)의 매끄러운 이동을 허용한다. 필름(1)은 얇지만 잡아당김을 견딜 수 있을 정도로 충분히 강하다.

필름 진동 장치와 워크 진동 장치의 협조에 의해, 워크(W)는 필름(1)과 지그재그 접촉되며, 증가된 수의 연마 입자에 의해 랩되어, 더 짧고 충분한 기계가공을 허용한다. 지그재그 워크는 연마된 먼지를 미세하고 더욱 제거가능하게 만들며,블록킹 경향을 감소시킨다. 크랭크샤프트의 60mm 직경의 저널 부품에 대해, 랩핑이 0.5 내지 2.0mm 범위 내에서 롤러(R44)의 진동 진폭에 의해 적절하게 될 수 있지만, 약 1mm가 바람직하다. 롤러(R44)의 진동 주파수에 대해, 랩핑은 10Hz 내지 수KHz 범위 내에서 적절하게 될 수 있지만, 80Hz 이상이 바람직하다.

(제5 실시예)

본 발명의 제5 실시예에 대해 도 24 내지 도 26을 참조로 설명한다. 도 24는 제5 실시예에 따른 랩핑 장치(500)의 랩(500-j)의 폐쇄 상태를 도시한다. 도 25는 도 24의 "E"의 상세도이며, 도 26은 필름(1)의 단면도이다.

이 실시예는 랩(500-j)이 데이터 라인(L51)을 통해 거기에 접속된 카메라(504)를 갖는 거칠기 검출 장치(RD), 검출 장치(RD)로부터 검출 데이터로서의 화상 데이터를 처리하는 제어 장치(C)를 포함하는 제어 시스템을 갖는 것이 이전 실시예와 상이하다.

검출 장치(RD)는 필름 피드 시스템(FF5)의 롤러(R1) 사이 필름의 사용되지 않은 영역의 표면(Sf)(도 26)의 표면 거칠기에 관한 연마 상태를 검출하기 위해 적용된다.

제어 장치(C)는 명령 라인(L52)을 통해 권취 릴(6)의 구동 모터(M3); 명령 라인(L53)을 통해 각각의 슈 푸셔(540)의 푸싱력 조절 장치(15); 명령 라인(L50)을 통해 카메라(504)의 상류와 롤러(R1) 사이 필름(1)의 표면(Sf)상에 연마 입자(AP)의 (기판(1b)상의 접착층 위, 도 26) 돌출 높이(h)를 트루잉(truing)하는 트루어(truer)(507)의 제어에 적용된다.

거칠기 검출 장치(RD)는 울트라 깊이 구조 측정 현미경(VK-8500, Keyence), 비접촉 3차원 표면 구조 거칠기 측정 장치(New View 5000; Zaigo Co., Ltd.,) 또는 다른 시판중인 거칠기 검출 장치일 수 있다.

트루어(507)(도 25)는 제어 장치(C)로부터 제어된 트루어 본체(570)와, 트루어 본체(570)에 의해 회전 구동된 원통형 트루어 공구(571)로 구성된다. 공구(571)는 거기에 부착된 연마 다이아몬드 입자를 갖는다. 공구(571)는 공급된(F) 필름(1)의 표면(Sf)과 접촉된다. 공구(571)가 회전 구동됨에 따라, 표면(Sf)상의 연마 입자(AP)(도 26)는 카메라(504)에 의해 검출되기 이전에 높이로 연마된다.

검출 장치(RD)는 카메라(504)로부터 화상 데이터를 분석하며, 제어 장치(C)로 입력된 연마 입자(AP)의 돌출 높이를 연산하며, 필름(1)의 블록킹 조건과 연마성을 결정하게 처리된다. 그 결과로 결정된 데이터가 제어 장치(C)로 저장된다. 필름(1)이 서비스에 진입함에 따라, 제어 장치(C)는 소망하는 랩핑을 위해 각각의 푸싱력 조절 장치(15) 또는 낮은 연마성의 필름 영역을 사용하는 것을 회피하기 위해 필름 피드 제어용 모터(M3)를 제어하도록 저장된 데이터를 따른다. 트루잉 후 정상적인 서비스에서, 필름 피드뿐만 아니라 슈 푸싱력은 일정하다.

(제5 실시예의 제1 변형예)

도 27은 제5 실시예의 제1 변형예에 따른 랩핑 장치(501)의 랩(501-j)의 폐쇄 상태를 도시하며, 도 28은 랩(501-j)의 P-h 특성 곡선을 도시한다.

이 변형예는 카메라(504)가 슈 세트(2) 사이에서 필름(1)을 검출하기 위해정렬되는 것이 제5 실시예와 상이하다. 카메라(504)는 거칠기 검출 장치(RD)에 데이터 라인(L54)을 통해 연결되며, 검출 장치(RD)에 연결된 제어 장치(C)는 필름 피드 시스템(FF51)의 권취 릴 구동 모터(M3)에 연결된 명령 라인(L55), 각각의 슈 푸셔(541)의 푸싱력 조절 장치(15)에 연결된 명령 라인(L56)을 갖는다.

카메라(504)는 랩핑 필름(1)의 연마 입자의 상태를 촬영하며, 거칠기 검출 장치(RD)로 화상을 전송한다. 거칠기 검출 장치(RD)는 상기 화상으로부터 연마 입자의 돌출 높이를 연산한다. 돌출 높이의 연산 결과는 거칠기 검출 장치(RD)로부터 제어 장치(C)로 전송된다. 제어 장치(C)는 연마 입자의 블록킹 정도를 판정하며, 블록킹이 검출되는 위치와 판정의 결과를 저장하며, 이후, 제어 장치(C)는 랩핑 장치의 각각의 구성의 이동을 제어한다.

연마 입자의 돌출 높이에 기초하여, 안정한 랩핑을 보장하기 위해 제어 장치(C)는 모터(M3)와 푸싱력 조절 장치(15)를 제어한다.

랩핑 필름(1)의 블록킹 위치에 의해 워크를 랩핑할 때, 랩핑이 불충분해지며, 이에 의해 소망하는 표면 거칠기를 얻을 수 없다. 따라서, 제어 장치(C)는 돌출 높이가 적절한 랩핑 실행 상태에 있는지의 여부를 연마 입자의 블록킹 정도로 판정한다. 연마 입자가 막혀 블록킹 정도가 높다면, 제어 장치(C)는 연마 입자가 막힌 위치를 사용하지 않게 랩핑 필름을 전송하도록 모터(M3)를 제어한다.

연마 입자가 막혀 블록킹 정도가 높다면, 제어 장치(C)는 슈 푸싱력을 증가시키게 푸싱력 조절 장치(15)를 제어한다. 따라서, 연마 입자의 블록킹의 경우에, 워크의 소망하는 표면 거칠기가 얻어질 수 있다.

연마 입자의 돌출 높이(h)와 슈 푸싱력(P) 사이의 관계는 도 28에 설명된다.

연마 입자의 돌출 높이(h)가 100%이면, 워크의 소망하는 표면 거칠기는 슈 푸싱력(P)이 100%일 때 얻어질 수 있다. 그러나, 연마 입자의 돌출 높이가 60%이면, 워크의 소망하는 표면 거칠기는 슈 푸싱력(P)이 100%일 때 얻어질 수 없으며, 즉 슈 푸싱력(P)은 110%를 필요로 한다.

제어 장치(C)는 연마 입자의 돌출 높이에 기초하여 안정적인 랩핑을 보장하도록 모터(M3)와 푸싱력 조절 장치(15)를 제어한다. 따라서, 랩핑 장치는 워크의 표면의 안정적인 랩핑 량과 워크의 소망하는 표면 거칠기를 얻을 수 있는 그러한 효과를 나타낸다.

(제5 실시예의 제2 변형예)

도 29는 제5 실시예의 제2 변형예에 따른 랩핑 장치(502)의 랩(502-j)의 폐쇄 상태를 도시한다.

이 변형예는 카메라(504)가 슈 세트(2)를 지난 필름(1)을 검출하기 위해 정렬되는 것이 제5 실시예와 상이하다. 카메라(504)는 거칠기 검출 장치(RD)에 데이터 라인(L57)을 통해 연결되며, 검출 장치(RD)에 연결된 제어 장치(C)는 필름 피드 시스템(FF52)의 권취 릴 구동 모터(M3)에 연결된 명령 라인(L58), 각각의 슈 푸셔(542)의 푸싱력 조절 장치(15)에 연결된 명령 라인(L59)을 갖는다.

카메라(504)는 랩핑 장치(1)의 연마 입자의 상태를 촬영하며, 거칠기 검출 장치(RD)로 화상을 전송한다. 거칠기 검출 장치(RD)는 상기 화상에 기초하여 연마 입자의 돌출 높이를 연산한다. 돌출 높이의 연산 결과는 거칠기 검출 장치(RD)로부터 제어 장치(C)로 전송된다. 제어 장치(C)는 연마 입자의 블록킹 정도를 판정하며, 블록킹이 검출되는 위치와 판정의 결과를 저장하며, 이후, 제어 장치(C)는 랩핑 장치의 각각의 구성의 이동을 제어한다.

연마 입자가 막혀 블록킹 정도가 높은 경우에, 제어 장치(C)는 나중을 위한 판정을 피드 백한다. 제어 장치(C)는 연마 입자의 블록킹 정도와 연마 입자의 연산된 돌출 높이에 기초하여 랩핑 필름(1)의 블록킹 위치를 판정하며, 워크로의 랩핑 필름(1)의 전송량과 워크로의 슈 푸싱력을 최적화하게 판정을 피드 백한다. 제어 장치(C)에 의해 피드 백된 내용이 나중의 사용을 위해 저장 유니트에 저장된다.

(제6 실시예)

본 발명의 제6 실시예에 대해 도 30 내지 도 37을 참조하여 설명한다. 도 30은 제6 실시예에 따른 랩핑 장치(600)를 도시하며, 도 31은 장치(600)의 랩(600-j)의 폐쇄 상태를 도시하며, 도 32는 랩(600-j)의 개방 상태를 도시한다. 도 33은 도 31의 "F"의 상세도이다. 도 34는 시계 방향(CW)으로 스윙되는 상부 랩 부재(671)를 도시하며, 도 35는 반시계 방향(CCW)으로 스윙되는 상부 랩 부재(671)를 도시한다. 도 36, 도 37은 워크(W)로서의 캠샤프트(660)를 도시한다. 도 38은 랩(600-j)의 제어 시스템을 도시한다.

도 30 내지 도 33에 대해 언급하면, 특히, 본 실시예의 랩핑 장치(600)에는 볼록 슈(671, 671)가 설치되며, 이는 워크에 대향하며, 가요성이 있지만 저렴한 랩핑 필름(1)의 연마 표면을 푸시하게 유지되고, 워크(W)의 회전에 해당하여 슈(671, 671)가 플로팅 이동되게 하는 플로팅 유니트(630)(플로팅 수단)와 헤드를 스윙하는플로팅 이동이 나타나게 작동하며, 이에 의해 랩되는 워크(W)의 표면(665)에 랩핑 필름(1)을 가압하면서 랩핑 처리를 시행한다. 플로팅 유니트(630)는 슈(671, 671)에 연결된 구동 수단(631)을 포함하며, 슈(671, 671)가 플로팅 이동을 강제로 발생시키게 한다.

도 36에 도시된 워크(W)와 같이, 캠샤프트(660)가 적용가능하며, 각각의 캠 루브(661)의 외주면은 랩되는 표면(665)이다. 도 37에 도시된 바와 같이, 캠 루브(661)는 랩되는 부품(Ca, Cb1, Cb2, Cc1, Cc2, Cd)으로 구성되며, 베이스부(Cd)는 일정한 곡면 반경을 가지며, 이벤트부(Cb1, Cb2)는 선형 외주를 가지며, 최상부(Ca)는 비교적 작은 곡면 직경을 갖는다. 즉, 캠 루브(661)의 표면(665)은 회전 중심으로부터 반경이 변화하는 아웃-오브-라운드(out-of-round) 형상으로 형성된다.

도 31과 도 32에 도시된 바와 같이, 상부 아암(11)과 하부 아암(12) 쌍은 슈(671, 671)가 부착되는 그 말단부가 Z방향을 따라 상대적으로 개방 및 폐쇄 작동되도록 핀(14)을 통해 회전 가능하게 설치된다. 즉, 상부 아암(11)과 하부 아암(12)의 선회 이동은 랩핑 필름(1)에 의해 실행되며, 상부 아암(11)과 하부 아암(12)이 개방 이동일 때, 슈(671, 671)는 랩핑 필름(1)을 간섭하는 캠 루브(661)에 인접되며, 반대로 상부 아암(11)과 하부 아암(12)이 폐쇄 이동일 때, 슈(671, 671)와 랩핑 필름(1)을 간섭하는 캠 루브(661) 사이의 인접이 해제된다.

도 34와 도 35에 도시된 바와 같이, 슈(671, 671)는 워크(W)에 랩핑 필름(1)의 연마 표면을 푸싱하는 볼록 원형 형상 단면을 갖는 볼록 말단부를 갖는다. 본원의 실시예에서, 슈(671, 671)는 접촉 지점에 의해 플로팅 이동을 나타내게 작동되거나 랩되는 캠 루브(661)의 표면(665)에 의해 랩핑 필름(1)을 통해 접촉되는 단편이 변형 가능하다. 부가적으로, 여기서 용어" 접촉"은 슈(671, 671)가 랩핑 필름(1)을 개재하는 워크(W)의 외주 표면에 인접한 것을 의미한다.

슈(671, 671)는 캠샤프트(660)의 중심 축(O)을 통과하는 라인에 배치된 스윙잉 핀(지지 축)(672, 672)에 의해 헤드를 스윙잉하는 플로팅 이동을 나타내게 작동되는 슈 케이스(673, 673)에 각각 유지된다. 슈 케이스(673, 673)는 워크(W)에 대향하여 후퇴될 수 있는 상부 아암(11)과 하부 아암(12)에 형성된 오목부(627, 627)에 각각 포함된다. 슈 케이스(673, 673)는 오목부(627, 627)의 내부 표면에 의해 그 외부 표면을 안내하면서 각각 이동 가능하다. 슈 케이스(673, 673)의 표면을 지지하기 위해서, 워크 클램핑용 압축 코일 스프링으로 각각 구성된 스프링(674, 674)이 랩핑 필름(1)을 통해 랩되는 표면(665)에 슈(671, 671)를 가압하게 각각 설치된다.

도 33에 도시된 바와 같이, 플로팅 유니트(630)에는 작동 로드(632)와 모터(M4)에 연결된 링크 기구(633)가 설치된다. 센서(S4)가 각각의 슈(671)의 플로팅 위치를 검출하기 위해 작동 로드(632)의 이동 위치를 감지하도록 설치된다. 작동 로드(632), 링크 기구(633) 및 모터(M4)에 의해, 구동 기구(631)가 구성된다. 부가적으로, 슈(671, 671)의 초기 위치는 도 33에 도시된 위치로 정의된다.

슈(671, 671)의 플로팅 이동의 방향은 서로 임의적으로 결합된다. 예컨대, 상부 슈(671)가 그 초기 위치로부터 스윙잉 핀(672)을 중심으로 시계방향으로의 플로팅 이동을 나타낸다면, 하부 슈(671)는 그 초기 위치로부터 스윙잉 핀(672)을 중심으로 시계방향 또는 반시계방향으로의 플로팅 이동을 나타낼 수도 있다.

도 34 및 도 35에 대해 언급하면, 헤드를 스윙잉하면서 플로팅 이동으로 작동되는 각각의 슈(671)의 기능을 상세히 설명한다. 도 34에서, 초기 위치로부터 시계방향으로 최대 플로팅 이동을 나타내는 슈(671)가 도시되어 있으며, 도 35에서, 초기 위치로부터 반시계방향으로 최대 플로팅 이동을 나타내는 슈(671)가 도시되어 있다. 부가적으로, 도 34 및 도 35에서, 연마 입자는 부호(612)로 도시된다.

도 34에 도시된 바와 같이, 슈(671)가 초기 위치로부터 시계방향으로 최대 플로팅 이동을 나타낼 때, 푸시된 슈(671)와 랩핑 필름(1)의 뒷면은 지점(A1)에 서로 압력 접촉되며, 랩핑 필름(1)과 워크(W)의 연마 표면은 지점(A2)에서 서로 압력 접촉된다. 다른 한편으로, 도 35에 도시된 바와 같이, 슈(671)가 초기 위치로부터 반시계방향으로 최대 플로팅 이동을 나타낼 때, 슈(671)와 랩핑 필름(1)은 서로 슬립되지 않으므로, 푸시된 슈(671)와 랩핑 필름(1)의 뒷면은 지점(B1)에서 서로 압력 접촉되며, 랩핑 필름(1)과 워크(W)의 연마 표면은 지점(B2)에서 서로 압력 접촉된다.

따라서, 슈(671)와 랩핑 필름(1) 사이의 접촉 지점은 접촉 지점(A1, B1) 사이의 범위 내에서 분산된다. 또한, 랩핑 필름(1)과 워크(W) 사이의 접촉 지점은 접촉 지점(A2, B2) 사이의 범위 내에서 분산된다. 초기 위치로부터 시계방향과 반시계방향 각각의 헤드 스윙잉 각이 각(α)으로 설정된다면, 중심으로서의 스윙잉 핀(72)을 중심으로 각(θ)으로 정의된 이 범위는 θ= 2α로 나타낸다.

이러한 방법에서, 랩핑 처리중, 각각의 슈(671)와 랩핑 필름(1) 사이의 접촉 지점이 일정 범위에서 분산되기 때문에, 슈 푸싱력은 슈(671)의 일 지점으로 집중되지 않으며, 따라서, 슈(671)는 국부적으로 심하게 파괴되지 않는다. 또한, 랩핑 필름(1)과 워크(W) 사이 접촉 지점이 일정 범위에서 분산되므로, 슈 푸싱력은 랩핑 필름(1)의 일 지점으로 집중되지 않으며, 따라서, 랩핑 필름(1)의 블록킹과 연마 입자(612)의 중단은 국부적으로 심하게 전개되지 않는다.

도 38은 랩핑 장치(600)의 제어 시스템을 도시하는 개략적인 블록도이다.

도 38에 대해 언급하면, 로터리 엔코더(S1 내지 S3), 센서(S4)가 제어 장치(제어 수단)(C)에 연결되며, 슈(671, 671)의 플로팅 위치를 정의하게 작동 로드(632)의 이동위치와 랩핑 처리중 캠 루브(661)의 회전 위치에 관한 검출 신호가 제어 장치(C)에 입력된다. 또한, 워크 회전 속도(Vw)를 정의하게 모터(M1)의 회전 속도와 진동 속도(Vo)를 정의하게 모터(M2)의 회전 속도에 관한 검출 신호들이 제어 장치(C)에 입력된다. 제어 장치(C)는 로터리 엔코더(S1)에 의해 검출된 캠 루브(661)의 회전 위치에 해당하여 슈(671, 671)가 플로팅 이동을 나타내는 것을 허용하게 제어한다.

슈(671, 671)의 플로팅 이동을 변형하는 제어는 슈(671, 671)와 랩핑 필름(1) 사이의 접촉 지점, 랩핑 필름(1)과 워크(W) 사이의 접촉 지점이 랩핑 처리 동안 캠 루브(661)의 회전 위치에 해당하여 변형되는 방법으로 플로팅 유니트(630)의 구동 수단(631)의 작동을 제어함으로서 실행된다.

더욱 구체적으로, 제어 장치(C)는 랩핑 처리중 캠 루브(661)의 회전 위치에해당하여 작동 로드(632)를 후퇴 가능하게 이동시키도록 제어하고, 이 효과에 해당하여, 슈(671, 671)가 스윙잉 핀(672, 672)을 중심으로 플로팅 이동을 각각 나타내게 링크 기구(633)를 작동시키도록 모터(M4)의 회전을 제어하는 제어 신호를 전송한다. 이에 기인하여, 각각의 슈(671)와 랩핑 필름(1) 사이의 접촉 지점은 일정 범위(즉, 도 34에 도시된 접촉 지점(A1, B1) 사이의 범위) 내에서 분산되며, 또한 랩핑 필름(1)과 워크(W) 사이의 접촉 지점은 일정 범위(즉, 도 35에 도시된 접촉 지점(A2, B2) 사이의 범위) 내에서 분산된다.

다음으로, 본 실시예의 전술한 랩핑 장치(600)의 작동에 대해 상세히 설명한다.

우선, 이전에 기술된 실시예와 동일한 방법으로, 캠샤프트(660)는 주축대(22)와 심압대(25) 사이에 설정되며, 이후 상부 아암(11)과 하부 아암(12) 쌍은 캠 루브(661)의 표면(665) 상에 랩핑 필름(1)을 설정하면서 각각의 캠 루브(661)에 정렬하여 폐쇄된다.

다음으로, 바람직하게 랩핑 필름(1)에 인장을 적용하고, 캠샤프트(660)를 클램핑하면서, 슈(671, 671)가 스프링(74)의 가압력에 의해 캠 루브(661)를 푸시하고, 랩핑 필름(1)의 연마 표면이 랩되는 표면(665)을 푸시한다.

다음으로, 진동 유니트(30)를 작동시킴으로써 축방향으로 캠샤프트(660)에 진동을 적용하고, 회전 구동 유니트(20)를 작동시킴으로서 중심 축을 중심으로 캠샤프트(660)를 회전시키면서, 슈(671, 671)를 각각 파지하는 슈 케이스(673, 673)는 캠 루브(661)의 회전에 일치하여 후퇴 가능하게 이동되며, 따라서 각각의 캠 루브(661)의 표면(665)이 랩된다.

이러한 랩핑 처리중, 로터리 엔코더(S1)가 각각의 캠 루브(661)의 회전 위치를 검출하며, 제어 장치(C)는 캠 루브(661)의 검출된 회전 위치에 해당하여 플로팅 이동을 나타내게 슈(671, 671)를 제어한다. 즉, 제어 장치(C)는 작동 로드(632)를 후퇴하도록 모터(M4)를 제어하며, 이에 해당하여 링크 기구(633)를 구동시키며, 중심으로서 스윙잉 핀(672, 672)을 중심으로 슈(671, 671)가 플로팅 이동을 나타내게 한다.

그 결과, 각각의 슈(671)와 랩핑 필름(1) 사이의 접촉 지점은 일정 범위 내에 분산되며, 랩핑 필름(1)과 워크(W) 사이의 접촉 지점은 일정 범위 내에 분산된다.

랩핑 처리중, 캠샤프트(660)는 미리 설정된 회수(예컨대, 5회)로 정회전되며, 이후 동일 회수로 역회전된다. 캠샤프트(660)의 회전 방향을 변화시킴으로써, 랩핑 필름(1)의 블록킹이 제거되며 그 성능이 유지된다.

이러한 방법에서, 랩핑 처리중, 각각의 슈(671)와 랩핑 필름(1) 사이의 접촉 지점이 일정 범위에서 분산되므로, 슈 푸싱력은 슈(671)의 일 지점에 집중되지 않으며, 따라서 슈(671)는 국부적으로 심하게 파괴되지 않는다.

또한, 랩핑 필름(1)과 워크(W) 사이의 접촉 지점이 일정 범위에서 분산되므로, 슈 푸싱력이 랩핑 필름(1)의 일 지점에 집중되지 않으며, 따라서, 랩핑 필름(1)의 블록킹과 연마 입자(612)의 중단이 국부적으로 심하게 전개되지 않는다. 이는 랩핑 필름(1)의 워크 부피의 관점에서, 워크 표면이 분산되기 때문에, 워크부피가 증가되는 것을 의미한다. 그러므로, 랩핑 필름(1)의 워크 부피의 증가에 기인하여, 랩되는 표면(665)은 개선된 마무리 거칠기를 가지며, 처리 시간이 감소될 수 있다.

캠샤프트(660)가 복수 개의 캠 루브(661)를 가질지라도, 랩핑 처리는 복수 개의 캠 루브(661) 전체에 동시에 실행된다. 랩핑 처리가 완료한 후, 상부 아암(11)과 하부 아암(12) 쌍이 개방되며, 캠샤프트(660)가 꺼내진다. 이어서, 원한다면, 워크(W)로서 다음 캠샤프트(660)가 동일한 방법으로 랩핑 장치(600)에 설정된다.

전술한 바와 같이, 본 실시예의 랩핑 장치(600)에서, 랩핑 필름(1), 워크(W)에 랩핑 필름(1)의 연마 표면을 푸싱하기 위해 볼록 원 형상 단면을 갖는 볼록 말단부를 포함하고, 스윙잉 핀(672, 672)에 의해 헤드를 스윙잉하는 플로팅 이동을 나타내게 작동하도록 슈 케이스(673, 673)가 유지되는 슈(671, 671), 각각의 슈(671)와 랩핑 필름(1) 사이의 접촉 지점이 일정 범위에서 분산되고, 랩핑 필름(1)과 워크(W) 사이의 접촉 지점이 일정 범위에서 분산되도록 워크(W)의 회전에 해당하여 슈(671, 671)를 회전시키는 플로팅 유니트(630)가 설치된다. 그러므로, 슈(671, 671)는 국부적으로 심하게 파괴되지 않고, 랩핑 필름(1)의 블록킹과 연마 입자(612)의 중단이 국부적으로 심하게 개설되지 않을 수 있다. 또한, 랩핑 필름(1)의 워크 부피의 증가에 기인하여, 랩된 표면(665)은 개선된 마무리 거칠기를 가지며, 처리 시간이 감소될 수 있다.

또한, 플로팅 유니트(630)는 슈(671, 671)가 플로팅 이동을 강제로 발생시키도록 슈(671, 671)에 연결된 구동 수단(631)을 포함하며, 또한, 슈(671, 671)와 랩핑 필름(1) 사이의 접촉 지점과 랩핑 필름(1)과 워크(W) 사이의 접촉 지점이 랩핑 처리중 캠 루브(661)의 회전 위치에 해당하여 변경되는 방법으로 슈(671, 671)의 플로팅 이동을 변경하도록 구동 수단(631)을 제어하는 제어 장치(C)가 설치된다. 그러므로, 부가적으로, 접촉 지점이 분산되는 범위는 임의로 이롭게 설정될 수 있다.

부가적으로, 랩핑 필름(1)은 가요적이지만 저렴하므로, 바람직한 랩핑 처리가 워크(W)에 의해 실행될 수 있다.

(제6 실시예의 변형예)

도 39는 제6 실시예의 변형예에 따른 랩핑 장치의 랩(601-j)의 상하부 플로팅 유니트를 도시하며, 도 40a 내지 도 40d는 워크(W)를 트레이스하게 플로팅하는 상부 플로팅 유니트(631)를 도시한다.

이 랩핑은 단지 일 방향을 따라 회전되는 워크의 랩핑에 적당하다. 이 랩핑 장치는 볼록 슈(671)와 플로팅 유니트(631)를 포함한다. 볼록 슈(671)는 볼록한 것으로 형성되며, 워크에 랩핑 필름의 연마 입자 표면을 푸시하기 위해 볼록 팁 단부를 가지며, 플로팅 이동을 실행하기 위해 유지된다. 플로팅 유니트(631)는 워크의 회전에 따라 볼록 슈(671)가 플로팅 이동을 실행하게 한다.

도 39에 도시된 바와 같이, 플로팅 유니트(631)는 플로팅 방향으로 볼록 슈(671)에 반응 탄성력을 적용하는 한 쌍의 스프링 부재(675, 676)를 포함한다. 한 쌍의 스프링 부재(675, 676)에 의해 적용된 힘은 워크의 회전 방향과 반대 방향으로 볼록 슈(671)를 플로트하게 작용한다. 즉, 워크가 화살표로 지시된 바와 같이 시계방향으로 회전하는 경우, 한 쌍의 스프링 부재(675, 676)에 의해 적용된 힘은 좌측으로 상부 볼록 슈(671)를 플로트하게 작용하고, 우측으로 하부 볼록 슈(671)를 플로트하게 작용한다.

스프링 부재(675, 676)는 볼록 슈(671)에 상기 언급한 힘을 적용하기 위해 상이한 스프링 정수를 갖는다. 예컨대, 스프링 부재(675, 676)가 코일 스프링으로 구성된 경우, 스프링 부재(675)의 스프링 정수는 스프링 부재(676)의 스프링 정수보다 크다. 스프링 부재(675, 676)가 압축 코일 스프링으로 구성된 경우, 스프링 부재(676)의 스프링 정수는 스프링 부재(675)의 스프링 정수보다 크다.

캠샤프트(660)는 진동 유니트(30)를 작동시키면서 축방향을 따라 캠샤프트(660)에 진동을 적용하면서 회전 구동 유니트(40)를 작동시킴으로써 그 축 주위를 회전하므로, 슈(671)를 유지하는 슈 케이스(673)는 적용 가능한 캠 루브 부품(661)의 회전을 각각 허용하게 오목부(27) 내를 전진 및 후진하며, 이에 의해 캠 루브 부품(661)의 미리 기계가공된 표면(665)을 랩핑한다.

도 40a 내지 도 40d에 도시된 바와 같이, 워크(W)가 랩될 때, 워크(W)는 화살표로 지시된 바와 같이 단지 시계방향으로만 회전한다. 한 쌍의 스프링 부재(675, 676)에 의해 적용된 힘은 워크의 회전 방향과 반대 방향으로 볼록 슈(671)를 플로트하게 작용한다.

워크(W)의 회전에 따라서, 볼록 슈(671)는 도 40a 내지 도 40d의 우측 방향을 향해 플로트한다. 워크(W)의 기계가공된 부품이 최상부 영역으로부터 이벤트영역으로 이동될 때, 볼록 슈(671)는 스프링 부재(675)의 작용(도 40d 참조)에 의해 도 40a 내지 도 40d의 좌측 방향을 향해 플로트한다.

따라서, 볼록 슈(671)와 랩핑 필름(1) 사이의 접촉 지점은 일정 영역으로 분산되고, 랩핑 필름(1)과 워크(W) 사이의 접촉 지점은 일정 영역으로 분산되며, 이에 의해 볼록 슈(671)의 국부적인 파손, 랩핑 필름(1)의 블록킹, 및 연마 입자의 분리를 감소시킨다.

전술한 실시예에서, 플로팅 유니트(630)의 구동 기구(631)가 플로팅 방식으로 볼록 슈(671)를 강제로 스윙하게 하므로, 볼록 슈(671)의 스윙 이동은 기계가공중 워크(W)의 다양한 회전 위치에 대해 정교하게 제어될 수 있다. 예컨대, 최상부 영역(Ca)과 이벤트 영역(Cb1, Cb2)을 마무리하기 위한 매우 미세한 표면 거칠기를 필요로 하는 캠 루브 부품(661)을 위해, 볼록 슈(671)는 최상부 영역(Ca) 또는 이벤트 영역(Cb1, Cb2)이 기계가공되는 회전 위치에 워크(W)를 머무르게 하면서 단지 플로팅 방식으로 스윙하게 제어될 수 있다. 볼록 슈(671)는 워크(W)를 일회전 시키거나, 워크(W)를 소정의 회전 각도 범위로 회전시키면서 제한된 시간 동안 플로팅 방식으로 스윙하게 제어될 수 있다.

기술된 플로팅 유니트(630)의 구동 기구(631)가 로드(632), 링크 기구(663), 모터(M4) 등으로 구성될지라도, 구동 기구(631)는 다른 성분으로 구성될 수도 있다. 예컨대, 유압 실린더 또는 공압 실린더와 같은 유체 압력 실린더가 플로팅 방식으로 강제로 스윙되는 볼록 슈(671)를 갖게 이용될 수도 있다. 복수 개의 볼록 슈(671)(도시된 예에서 상부 슈와 하부 슈)는 구동 기구(631)에 독립적으로 연결될수도 있다.

플로팅 유니트(630)에 포함된 탄성 부재(675, 676)가 코일 스프링으로 구성될지라도, 탄성 부재가 워크(W)의 회전 방향과 반대 방향으로 플로팅 방식으로 스윙되는 볼록 슈(671)를 갖게 볼록 슈(671)위에 강제로 힘을 부과할 수 있는 한, 탄성 부재(675, 676)는 립 스프링(leaf spring), 판 스프링, 및 탄성 고무 재료 등과 같은 다른 재료로 구성될 수도 있다.

일본국 특허 출원 제2003-058954호, 제2003-034088호, 제2003-066595호, 제2003-036701호, 제2003-058964호, 및 제2003-034064호가 참조로 본 명세서에 내재되어 있다.

본 발명의 바람직한 실시예가 특정 용어를 사용하여 설명되었지만, 이러한 설명은 예시를 위한 것이며, 첨부된 청구범위의 정신 또는 범주를 벗어나지 않고 숙련공에 의해 변형 및 변경이 가능한 것을 알 수 있다.

본 발명의 랩핑 장치 및 랩핑 방법에 의해 연마성의 악화를 회피할 수 있다.

Claims

랩핑 필름;

상기 필름을 공급하게 구성된 필름 피더;

워크를 회전시키게 구성된 제1 구동 장치;

상기 필름에 대해 상기 워크를 이동시키게 구성된 제2 구동 장치;

슈 세트(shoe set);

상기 워크에 상기 필름을 가압하게 슈 세트를 조종하도록 구성된 슈 세트 핸들러(handler); 및

상기 필름의 연마 악화를 지연시키게 구성된 악화 지연 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제1항에 있어서,

상기 슈 세트는 소정 폭의 제1 슈, 상기 제1 슈로부터 정수 배의 폭 거리에 상기 폭의 제2 슈를 구비하며,

상기 악화 지연 장치는 상기 폭의 거리에 상기 필름을 공급하기 위해 필름 피더를 제어하게 구성된 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제2항에 있어서,

상기 슈 세트는 정수개의 다수의 슈들을 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑장치.
제2항에 있어서,

상기 슈 세트는 제1 슈 세트, 제2 슈 세트를 구비하며,

상기 악화 지연 장치는 제1 슈 세트와 제2 슈 세트 사이의 필름의 연마면의 상태를 검출하게 구성된 검출 장치를 구비하며,

상기 제어 장치는 검출 장치에 의해 검출된 상태에 따라 상기 필름 피더를 제어하게 구성된 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제1항에 있어서.

상기 슈 세트는 제1 슈 세트, 제2 슈 세트를 구비하며,

상기 악화 지연 장치는 제1 슈 세트와 제2 슈 세트 사이의 필름의 연마면을 클리닝하기 위해 구성된 클리너(cleaner)를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제5항에 있어서,

상기 악화 지연 장치는 연마면 외부에 필름을 권선하게 구성된 필름 래퍼(wraper)를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제5항에 있어서,

상기 클리너는 초음파 브러시(ultrasonic brush)를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제5항에 있어서,

상기 클리너는 초음파 바스(ultrasonic bath)를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제5항에 있어서,

상기 클리너는 분사 노즐(jet nozzle)을 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제5항에 있어서,

상기 필름은 가요성 있는 저렴한 기판을 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제1항에 있어서,

상기 슈 세트는 제1 슈 세트, 제2 슈 세트를 구비하며,

상기 악화 지연 장치는 제1 슈 세트와 제2 슈 세트 사이에 제1 공간을 형성하는 제1 우회로를 필름에 제공하게 구성된 제1 우회로 공급 장치, 및 상기 제1 공간에 윤활유를 공급하게 구성된 윤활유 공급 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는랩핑 장치.
제11항에 있어서,

상기 필름은 가요성있는 저렴한 기판을 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제11항에 있어서,

상기 슈 세트는 제3 슈를 구비하며,

상기 악화 지연 장치는 제2 슈와 제3 슈 사이에 제2 공간을 형성하는 제2 우회로를 필름에 제공하게 구성된 제2 우회로 공급 장치를 구비하며,

상기 윤활유 공급 장치는 상기 제2 공간에 윤활유를 공급하게 구성된 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제11항에 있어서,

상기 제1 우회로 공급 장치는 상기 제1 우회로가 주위를 우회하게 구성된 상기 인장 롤러, 상기 제1 우회로의 우회 방향으로 인장 롤러를 편향시키게 구성된 편향 요소를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제14항에 있어서,

상기 인장 롤러는 회전 가능한 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제11항에 있어서,

상기 악화 지연 장치는, 슈 케이스를 포함하고, 상기 슈 케이스는 제1 슈를 지지하게 구성된 제1 지지 부분, 및 제2 슈를 지지하게 구성된 제2 지지 부분을 구비하며, 상기 제1 및 제2 지지 부분은 상기 슈 케이스로부터 탄성적으로 현가된 제1 우회로와 제1 우회로 공급 장치를 수용하게 구성된 슬롯 사이로 정의하는 워크의 방사상 방향으로 연장하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제16항에 있어서,

상기 윤활유 공급 장치는 상기 슈 케이스에 형성되어 상기 제1 공간과 연통하는 윤활유 통로망을 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제11항에 있어서,

상기 윤활유 공급 장치는 상기 제1 우회로 공급 장치 둘레로부터 윤활유를 전달하게 구성된 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제1항에 있어서,

상기 악화 지연 장치는 워크의 회전 속도보다 필름의 공급 방향으로 더 높은 속도로 필름을 진동시키게 구성된 필름 진동 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제19항에 있어서,

상기 제2 구동 장치는 상기 워크의 회전 축의 방향으로 필름에 대해 워크를 진동시키게 구성된 워크 진동 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제19항에 있어서,

상기 필름 진동 장치는 슈 세트를 통해 필름이 둘레로 우회되는 필름 롤러와, 워크의 제1 방사 방향으로 상기 필름 롤러를 진동시키게 구성된 방사상 진동 장치로 구성된 진동 필름 드로어(drawer), 및

슈 세트를 통해 필름이 둘레로 우회되는 인장 롤러와, 상기 제1 방사 방향과 상이한 워크의 제2 방사 방향으로 상기 인장 롤러를 탄성적으로 편향시키게 구성된 편향 요소로 구성된 인장 필름 드로어를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제21항에 있어서,

상기 필름 진동 장치는 진동 필름 드로어, 또다른 진동 필름 드로어, 및 이들 사이에 배치된 인장 필름 드로어를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제19항에 있어서,

상기 필름 피더는 상기 필름상의 제1 작용점에 필름을 잠금하기 위해 구성된 필름 로커, 및

상기 필름 진동 장치는 상기 제1 작용점과 상기 슈 세트 사이에 상기 필름상의 제2 작용점에 필름의 인장을 제어하기 위해 구성된 인장 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제19항에 있어서,

상기 필름은 가요성있는 저렴한 기판을 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제1항에 있어서,

상기 악화 지연 장치는 필름의 연마면의 상태를 검출하게 구성된 필름 검출 장치, 및 상기 검출된 상태에 따라 필름 피더와 슈 세트 핸들러 중 하나를 제어하게 구성된 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제25항에 있어서,

상기 검출 상태는 연마면의 연마 입자의 돌기를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제25항에 있어서,

상기 악화 지연 장치는 검출 상태에 따라 연마면을 트루잉(truing)하게 구성된 트루어(truer)를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제25항에 있어서,

상기 필름 검출 장치는 랩핑 서비스 이전에 연마면의 상태를 검출하게 구성된 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제25항에 있어서,

상기 필름 검출 장치는 랩핑 서비스 이후에 연마면의 상태를 검출하게 구성된 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제1항에 있어서,

상기 슈 세트는 볼록 슈를 구비하며,

상기 슈 세트 핸들러는 슈를 플로트하게 구성된 슈 플로터(floater)를 구비하며,

상기 악화 지연 장치는 슈와 필름과 워크 간의 접촉 위치를 제어하게 구성된 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제30항에 있어서,

상기 제어 장치는 상기 워크의 위치를 검출하게 구성된 검출 장치, 및 검출된 위치에 따라 접촉 위치를 변경하도록 상기 슈를 구동하게 구성된 구동 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제30항에 있어서,

상기 플로터는 슈를 현가(suspending)하는 한 쌍의 스프링을 구비하며,

상기 제어 장치는 상기 슈의 위치를 변경하도록 상기 한 쌍의 스프링의 위치를 제어하게 구성된 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제32항에 있어서,

상기 한 쌍의 스프링들은 서로 상이한 스프링 정수들을 갖는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제30항에 있어서,

상기 필름은 가요성있는 저렴한 기판을 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
제1항에 있어서,

상기 악화 지연 장치는 필름의 블록킹을 지연하게 구성된 블록킹 지연 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
랩핑 필름;

상기 필름을 공급하게 구성된 필름 공급 수단;

워크를 회전시키기 위해 구성된 제1 구동 수단;

필름에 대해 워크를 이동시키게 구성된 제2 구동 수단;

슈 세트;

워크에 필름을 가압하게 슈 세트를 조종하기 위해 구성된 슈 세트 핸들링 수단; 및

필름의 연마 악화를 지연시키기 위해 구성된 악화 지연 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 장치.
랩핑 필름을 공급하는 단계;

워크를 회전시키는 단계;

상기 필름에 대해 상기 워크를 이동시키는 단계;

상기 워크에 상기 필름을 가압하게 슈 세트를 핸들링하는 단계; 및

상기 필름의 연마 악화를 지연시키는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 방법.
제37항에 있어서,

상기 슈 세트는 소정 폭의 제1 슈, 상기 제1 슈로부터 정수 배의 폭 거리에 상기 폭의 제2 슈를 구비하며,

상기 지연 단계는 상기 폭의 거리에 필름을 공급하기 위해 필름 피더를 제어하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 방법.
제38항에 있어서,

상기 슈 세트는 정수개의 다수의 슈들을 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 방법.
제37항에 있어서,

상기 슈 세트는 제1 슈 세트, 제2 슈 세트를 구비하며,

상기 지연 단계는 제1 슈 세트와 제2 슈 세트 사이에 필름의 연마면의 상태를 검출하는 단계를 구비하며,

상기 제어 단계는 검출된 상태에 따르는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 방법.
제37항에 있어서.

상기 슈 세트는 제1 슈 세트, 제2 슈 세트를 구비하며,

상기 지연 단계는 제1 슈 세트와 제2 슈 세트 사이에 필름의 연마면을 클리닝하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 방법.
제37항에 있어서,

상기 슈 세트는 제1 슈 세트, 제2 슈 세트를 구비하며,

상기 지연 단계는 제1 슈 세트와 제2 슈 세트 사이에 공간을 형성하는 우회로를 갖는 필름을 제공하는 단계, 및 공간에 윤활유를 공급하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 방법.
제37항에 있어서,

상기 지연 단계는 워크의 회전 속도보다 필름의 공급 방향으로 더 높은 속도로 필름을 진동시키는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 방법.
제37항에 있어서,

상기 지연 단계는 필름의 연마면의 상태를 검출하는 단계, 및 검출된 상태에 따라 공급 단계와 핸들링 단계 중 하나를 제어하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 방법.
제37항에 있어서,

상기 슈 세트는 볼록 슈를 구비하며,

상기 핸들링 단계는 상기 슈를 플로팅하는 단계를 구비하며,

상기 지연 단계는 슈와 필름과 워크 간의 접촉 위치를 제어하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 랩핑 방법.