KR20040051544A

KR20040051544A - 전기 광학 장치용 기판, 전기 광학 장치용 기판의 제조방법, 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전자기기 및 마스크

Info

Publication number: KR20040051544A
Application number: KR1020030090042A
Authority: KR
Inventors: 오타케도시히로; 미즈타마코토; 마츠오무츠미
Original assignee: 세이코 엡슨 가부시키가이샤
Priority date: 2002-12-12
Filing date: 2003-12-11
Publication date: 2004-06-18
Also published as: CN1506758A; KR100589801B1; US20040160553A1; US7088404B2; CN1331007C; TWI250332B; TW200424612A

Abstract

본 발명은, 기판과, 기판 상에 형성되어, 표면에 복수의 오목부 혹은 볼록부를 갖는 하지층과, 하지층의 위에 형성되어, 광반사성을 갖는 반사층을 갖고, 복수의 오목부 혹은 볼록부는, 하지층의 가장자리 단부와 교차하지 않도록 형성되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판을 제공한다. 이 전기 광학 장치용 기판에 의하면, 요철면이, 하지층의 가장자리 단부로부터 이간(離間)되도록 노광되어 있기 때문에, 가장자리 단부를 형성하는 측벽면은 거의 평탄해진다. 따라서, 감광성 재료의 현상 처리 시에, 하지층이 되는 감광성 재료의 일부가 박리, 재부착된다는 문제를 회피할 수 있다.

Description

전기 광학 장치용 기판, 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법, 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전자 기기 및 마스크{SUBSTRATE FOR ELECTRO-OPTICAL DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE FOR ELECTRO-OPTICAL DEVICE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS, AND MASK}

본 발명은, 표면에 요철 형상을 갖는 광반사층을 갖는 전기 광학 장치용 기판, 그 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법, 그 전기 광학 장치용 기판을 이용한 전기 광학 장치, 그 전기 광학 장치를 이용한 전자 기기, 및 표면에 요철 형상을 갖는 하지층을 형성하기 위한 마스크에 관한 것이다.

휴대 전화기, 휴대 정보 단말기, 그 외의 전자 기기에 있어서, 액정 장치, 그 외의 전기 광학 장치가 널리 이용되고 있다. 예컨대, 전자 기기에 관한 각종 정보를 시각적으로 표시하기 위한 표시부로서 전기 광학 장치가 이용되고 있다.

이 전기 광학 장치는, 예컨대 반사층을 갖는 전기 광학 장치용 기판과, 그 반사층에 면형상으로 접촉하는 전기 광학 물질의 층, 예컨대 액정의 층을 갖는다. 이 반사층은, 태양광, 실내광 등의 외부광을 반사함으로써, 그 외부광을 액정층 등에 공급한다.

이와 같이 외부광을 반사층으로 반사시키는 경우, 이 반사층의 표면이 매끄러운 평면이고, 외부에 표시되는 문자, 숫자, 도형 등의 상(像)의 배경이 거울 형상이 되어, 표시면 전체가 보기 어렵게 된다고 하는 문제가 있었다. 이 문제를 해소하기 위해서, 반사층의 표면에 다수의 요철, 즉 산 형상 부분 및 계곡 형상 부분, 즉 오목부 및 볼록부(비오목부)를 형성하여, 반사광을 산란시킨다는 기술이 제안되어 있다.

이와 같이 반사층의 표면에 요철을 형성하기 위해서, 종래, 기판 상에 수지층을 형성하고, 그 수지층의 표면에 오목부 또는 볼록부를 평면적으로 불규칙한 배열로 형성하며, 그 수지층 상에 반사층을 형성함으로써, 반사층의 표면에 요철을 갖도록 한 기판이 제안되어 있다.

상기 종래의 기판을 제조할 때에는, 예컨대 도 30(a) 및 도 30(b)에 도시하는 것과 같은 마스크(포토 마스크(photo-mask))(106)를 이용하고 있었다. 이 때, 도 30(c)에 도시하는 기판 구조, 즉, 기판(101) 상에 수지층(하지층)(102)을 형성하고, 또한 그 수지층(102)의 표면에 오목부(103)를 형성하는 것과 같은 기판 구조를 제조하기로 하면, 마스크(106)는 오목부(103)에 대응되는 구멍(104)과, 볼록부에 대응되는 차광부(109)로 이루어지는 차광막(108)을 투명 기판(107) 상에 마련하는 것에 따라 형성된다.

이 마스크(106)를 통해서 감광성 수지 재료의 층을 노광하고, 또한, 노광된 수지 재료의 층을 현상함으로써, 수지층(102)의 표면에 오목부(103)가 형성되어, 즉 요철이 형성된다. 그리고 또한, 그 수지층(102) 위에 반사층(118)을 형성하면, 수지층(102)의 요철에 따라서 반사층(118)의 표면에 요철을 형성할 수 있다.

여기서, 종래의 마스크(106)의 차광막(108)에 관해서는, 차광부(109)에 대한 구멍(104)의 형성 위치는 특별한 위치로 정해져 있지 않았다. 따라서, 복수의 구멍(104) 중의 가장 바깥 둘레 영역에 존재하지만 몇 개는, 차광부(109)의 가장자리 단부, 즉 차광막(108)의 가장자리 단부(108a)에 교차하는 것이 존재하고 있었다.

이러한 종래의 마스크(106)를 이용한 경우에는, 차광막(108)의 가장자리 단부(108a)에 교차하도록 존재하는 구멍(104)에 대응하여 기판(101) 상의 수지층(102)의 가장자리 단부(102a)에 오목부(103)의 일부가 형성되고, 그 가장자리 단부 부분에서는 수지 재료(102)의 두께가 얇아지고 있었다. 이러한 부분적인 얇은 가장자리 단부 부분은 현상 시에 기판(101)으로부터 박리될 우려가 있다. 그 박리편은 현상 처리 후에 기판(101) 또는 수지층(102)에 재부착되어, 이물(異物)의 불량이 되는 경우가 있다. 이와 같이 수지층(102)에 박리나 재부착이 발생하면, 그 위의 반사층의 형상에 흐트러짐이 발생하게 된다. 그 때문에, 반사 특성에 흐트러짐이 발생하여, 이 반사광을 이용하여 표시를 하는 경우에는, 표시가 흐트러질 우려가 있었다.

또한, 이른바 반투과반사형의 액정 장치는, 액정층과 백 라이트 유닛 사이에, 광을 투과시키고 또한, 외광을 반사시키는 반투과반사층을 갖는 구성이 일반적이다. 이 반투과반사층의 한 형태로서, 개구부를 거쳐서 광을 투과시키는 한편으로, 요철 형상의 반사면(광반사부)에 의해, 외광을 산란시키는 구성이 알려져 있다. 여기서, 반투과반사층에 산란 특성을 부여하는 것은, 전술과 같이, 반투과반사층에 있어서 외광의 경면(鏡面) 반사를 방지하여, 관찰자가 시인하는 화면에 배경이나 실내 조명 등의 비쳐서 들어가는 것을 막기 위한 것이다.

이러한 종류의 반투과반사층을 형성하기 위한 기술의 하나로서, 감광성 수지 등의 조형 재료를 이용한 수법이 제안되어 있다. 구체적으로는, 도 31 및 도 32에 도시하는 바와 같이, 유리 등의 기판(500) 상에, 광투과용의 개구부(512)를 갖고 또한, 표면이 요철 형상인 수지층(하지층)(510)을 감광성 수지에 의해 형성한다. 그 후, 수지층(510) 중 요철면에만, Al(알루미늄) 등의 광반사성을 갖는 재료를 적층하여, 수지층(510)의 요철 형상이 반영된 반사층(520)을 형성한다. 또, 수지층(510)이 광투과성을 갖고 있으면, 수지층(510)에 대해서는 개구부(512)를 형성하지 않더라도, 투과형 표시는 실현 가능하다. 그러나, 광손실을 저감하기 위해서, 수지층(510)에 대해서도 개구부(512)를 형성하는 것이 바람직하다.

이러한 개구부(512)를 갖는 수지층(510)은, 예컨대 다음과 같이 하여 제조된다. 우선, 기판(500) 상에, 포지티브형의 감광성 수지를 도포하여, 도 33에 도시하는 것과 같은 마스크(550)로 노광한다. 이 마스크(550) 내의 거의 중앙에 위치하는 투광부(552)는, 수지층(510)의 개구부(512)를 형성하기 위한 것으로, 그 주변에 랜덤 배치된 미소한 투광부(554)는, 수지층(510)의 요철면을 형성하기 위한 것이다. 이러한 마스크(550)로 감광성 수지를 노광한 후, 현상 처리를 실시하면, 전술한 도 31에 도시하는 것과 같은 개구부(512) 및 요철면을 갖는 수지층(510)이 형성된다.

그런데, 마스크(550)에 있어서는, 개구부(512)용의 투광부(552)의 둘레에, 요철면용의 투광부(554)가 근접 배치되어 있었다. 도 33 중의 확대 도면에 도시하는 바와 같이, 그들 중에는 투광부(552)와 나란히 늘어선 상태로 광을 투과시키는 것도 포함되어 있었다. 이것 때문에 수지층(510) 중 개구부(512)의 측벽면(510e)은, 도 31의 평면도에 도시하는 바와 같이 주름 형상이 되도록 형성되게 된다.

그러나, 이와 같이 측벽면(510e)이 주름 형상이 되도록 감광성 재료가 노광되면, 그 현상 공정에서, 측벽면(510e)으로부터 수지편이 박리될 우려가 있었다. 그 결과, 현상액 내에 혼합된 수지 조각이 수지층에 재부착되게 되어, 액정 패널에 품질 저하나 문제를 발생시키는 요인이 되어있었다.

본 발명은, 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로서, 특히 노광·현상 시에 박리 없이 수지층을 형성할 수 있는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법, 표면에 요철 형상을 갖는 광반사층을 갖는 전기 광학 장치용 기판, 그 전기 광학 장치용 기판을 이용한 전기 광학 장치, 그 전기 광학 장치를 이용한 전자 기기, 및 표면에 요철 형상을 갖는 하지층을 형성하기 위한 마스크를 제공한다.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정 장치를 도시하는 단면도,

도 2는 동 액정 장치의 요부를 확대하여 도시하는 단면도,

도 3은 동 액정 장치의 주요부의 평면 구조를 도시하는 평면도,

도 4는 동 액정 장치의 단면도,

도 5는 동 액정 장치에서 이용되는 스위칭 소자의 일례를 도시하는 사시도,

도 6은 동 액정 장치의 구성 요소인 수지층의 평면도,

도 7은 동 실시예에 따른 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법의 일실시예를 도시하는 공정도,

도 8은 동 제조 방법의 주요 공정인 수지 산란층의 형성 공정의 일실시예를 도시하는 공정도,

도 9(a) 내지 도 9(e)는 동 제조 방법의 공정도에 대응하는 기판 구조의 변화 양상을 도시하는 도면,

도 10(a)은 동 실시예에 따른 마스크를 도시하는 평면도,

도 10(b)은 동 마스크의 일부의 확대도,

도 10(c)은 동 마스크를 이용하여 제조되는 기판 구조를 도시하는 단면도,

도 11은 수지 산란층의 형성 공정의 변형예를 도시하는 공정도,

도 12(a) 내지 도 12(c)는 동 변형예의 공정도에 대응하는 기판 구조의 변화 양상을 도시하는 도면,

도 13은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정 장치의 단면도,

도 14는 동 액정 장치의 분해사시도,

도 15는 동 액정 장치에 포함되는 반투과반사 기판의 평면을 도시하는 도면,

도 16은 동 액정 장치에 포함되는 반투과반사 기판의 단면을 도시하는 도면,

도 17은 동 반투과반사 기판의 제조 방법을 도시하는 공정도,

도 18(a) 내지 도 18(f)은 동 제조 방법에 있어서의 각 공정의 양상을 도시하는 도면,

도 19는 동 반투과반사 기판의 제조에 이용되는 마스크를 도시하는 평면도,

도 20은 동 실시예의 변형예에 따른 수지층의 형상을 도시하는 평면도,

도 21은 동 수지층의 형상을 도시하는 단면도,

도 22는 동 실시예의 별도의 변형예에 따른 수지층의 형상을 도시하는 평면도,

도 23은 동 수지층의 형상을 도시하는 단면도,

도 24는 동 변형예에 따른 반투과반사 기판의 부분단면도,

도 25는 동 변형예에 따른 반투과반사 기판의 부분단면도,

도 26은 동 변형예와의 대비예를 도시하는 단면도,

도 27은 본 발명에 따른 전자 기기의 일실시예를 도시하는 블럭도,

도 28은 본 발명에 따른 전자 기기의 다른 실시예인 휴대 전화기를 도시하는 사시도,

도 29는 본 발명에 따른 전자 기기의 다른 실시예인 휴대 정보 단말기를 도시하는 사시도,

도 30(a)은 종래의 마스크의 일례의 평면도,

도 30(b)은 동 마스크의 일부의 확대도,

도 30(c)은 동 마스크를 이용하여 제조되는 종래의 기판 구조를 도시하는 단면도,

도 31은 종래의 반투과반사층의 평면도,

도 32는 종래의 반투과반사층의 단면도,

도 33은 종래의 반투과반사층의 수지층의 형성에 이용되는 마스크를 도시하는 평면도.

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

1 : 액정 장치2 : 액정 패널

3 : 구동용 IC4 : 조명 장치

6 : 광원7 : 도광체

8 : 반사층9 : 확산층

11, 12 : 기판13 : 밀봉재

14 : 액정층

본 발명은, 표면에 요철부를 갖는 하지층과, 하지층의 위에 마련되어, 광반사성을 갖는 반사층을 갖는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법으로서, 기판에 감광성 재료를 도포하는 도포 공정과, 감광성 재료의 표면에서, 폐영역(閉領域) 내이면서, 그 폐영역의 윤곽선과 교차하지 않도록 그 폐영역 내에 분산 배치된 복수의고립 패턴의 외측에 있는 영역이 노광부 또는 비노광부의 한쪽이 되고, 다른 영역이 노광부 또는 비노광부의 다른쪽이 되도록 감광성 재료의 노광을 하는 노광 공정과, 노광 공정에 의해 노광되는 감광성 재료를 현상함으로써 하지층을 형성하는 현상 공정과, 하지층의 위에 광반사성을 갖는 반사층을 형성하는 반사층 형성 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법을 제공한다. 이것을 본 발명의 제 1 형태라고 한다.

이 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법에 의하면, 노광 공정에서, 요철면이 하지층의 가장자리 단부로부터 이간(離間)되도록 노광되어 있기 때문에, 하지층의 가장자리 단부를 형성하는 측벽면은, 거의 평탄하게 되도록 노광된다. 이 결과, 감광성 재료의 현상 처리 시에, 하지층(수지층)이 되는 감광성 재료의 일부가 박리, 재부착된다는 문제가 해소된다.

여기서, 제 1 형태에 있어서, 폐영역이 그 폐영역을 둘러싸는 제 1 윤곽선과 그 제 1 윤곽선의 내측에 있는 제 2 윤곽선 사이에 끼워진 폐영역이더라도 좋다. 이것을 본 발명의 제 2 형태라고 한다.

이 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법에 의하면, 노광 공정에서, 요철면이 제 2 윤곽선, 즉 개구부의 가장자리 단부로부터 이간되도록 노광되어 있기 때문에, 개구부를 형성하는 측벽면은, 거의 평탄하게 되도록 노광된다. 이 결과, 감광성 재료의 현상 처리 시에, 하지층(수지층)이 되는 감광성 재료의 일부가 박리, 재부착된다는 문제가 해소된다.

또한, 노광 공정에서, 복수의 고립 패턴의 각각과 제 2 윤곽선과의 거리의최소값이, 4㎛ 이상이 되도록 노광되더라도 좋다. 이것을 본 발명의 제 3 형태라고 한다. 이와 같이, 개구부의 가장자리 단부와, 요철면의 가장자리 단부를 4㎛ 이상 거리를 두는 것에 의해, 개구부를 형성하는 측벽면의 평탄성을 충분히 확보할 수 있다.

또한, 노광 공정에서, 복수의 고립 패턴의 각각과 제 2 윤곽선의 거리의 최소값이, 12㎛ 이하가 되도록 노광하더라도 좋다. 이것을 본 발명의 제 4 형태라고 한다. 이와 같이, 개구부의 가장자리 단부와, 요철면의 가장자리 단부의 간격을 12㎛ 이하로 하는 것에 의해, 전기 광학 장치용 기판에 있어서 산란 특성을 충분히 확보할 수 있다.

또한, 제 2 형태, 제 3 형태, 제 4 형태에 있어서, 반사층 형성 공정은, 하지층의 위에, 그 하지층의 표면에 형성된 요철 형상의 일부를 흡수하는 요철 흡수층을 형성하는 요철 흡수층 형성 공정을 더 갖고, 반사층은, 요철 흡수층 형성 공정에서 형성된 요철 흡수층의 위에 형성되더라도 좋다. 이들을 각각 본 발명의 제 5 형태, 제 6 형태, 제 7 형태라고 한다. 이와 같이, 요철면의 요철 형상을 흡수하는 요철 흡수층을 형성함으로써, 반사층의 요철 형상을 매끄러운 모양으로 할 수 있다.

또한, 제 1 형태에 있어서, 노광 공정에서는, 복수의 고립 패턴의 각각과 폐영역을 둘러싸는 윤곽선의 거리의 최소값이 미리 결정된 범위 내에 있더라도 좋다. 이것을 본 발명의 제 8 형태라고 한다.

여기서, 미리 결정된 범위는, 4㎛ 이상 12㎛ 이하이더라도 좋다. 이것을 본발명의 제 9 형태라고 한다. 또한, 미리 결정된 범위는, 4㎛ 이상 7㎛ 이하이더라도 좋다. 이것을 본 발명의 제 10 형태라고 한다.

이상과 같이 하지층을 노광하면, 그리고 이 하지층을 더 현상하면, 완성된 하지층의 가장자리 단부에는 요철면의 일부분, 즉 두께가 얇은 부분은 형성되지 않는다. 이 때문에, 하지층의 가장자리 단부 영역은 확실히 기판에 고착되어 박리되기 어렵게 된다.

또한, 제 1 내지 제 10 형태에 있어서, 현상 공정에서는, 현상액이 하지층에 샤워 형상으로 공급되더라도 좋다. 이것을 본 발명의 제 11 형태라고 한다. 여기서, 현상의 방법으로서는, 현상 대상물, 본 발명에서 말하면 하지층을 갖는 기판에 현상액을 샤워 형상으로 공급하는 방법 이외에, 그와 같은 기판을 현상액에 침지(浸漬)시키는 방법도 생각된다. 그러나, 컨베이어 시스템(conveyor system), 즉 대상물을 반송 벨트에 실어 반송하면서 현상 처리를 하는 것과 같은 경우에는, 침지 방법보다도 샤워법쪽이 작업성이 높다. 이 경우, 샤워법의 경우에는 침지법의 경우에 비해서, 현상 대상인 하지층에, 보다 큰 응력이 발생하는 것이 생각된다. 따라서, 하지층이 박리되는 위험성이 크다고 생각된다. 그러나, 본 발명과 같이 하지층의 가장자리 단부 영역을 확실히 기판에 고착하면, 샤워법에 근거하는 현상 처리를 채용한 경우에도, 하지층의 박리를 확실히 방지할 수 있다.

또한, 본 발명은, 제 1 내지 제 11 형태에 따른 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법을 포함하는 전기 광학 장치의 제조 방법을 제공한다. 이것을 본 발명의 제 12 형태라고 한다.

또한, 본 발명은, 기판과, 기판 상에 형성되어, 표면에 복수의 오목부 혹은 볼록부를 갖는 하지층과, 하지층의 위에 형성되어, 광반사성을 갖는 반사층을 갖고, 복수의 오목부 혹은 볼록부는, 하지층의 가장자리 단부와 교차하지 않도록 형성되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판을 제공한다. 이것을 본 발명의 제 13 형태라고 한다.

이 전기 광학 장치용 기판에 의하면, 요철면이, 하지층의 가장자리 단부로부터 이간되도록 노광되어 있기 때문에, 가장자리 단부를 형성하는 측벽면은 거의 평탄해진다. 따라서, 감광성 재료의 현상 처리 시에, 하지층이 되는 감광성 재료의 일부가 박리, 재부착된다는 문제가 발생하지 않는다.

여기서, 하지층은, 또한, 광을 투과시키기 위한 투광부가 되는 개구부를 갖고, 복수의 오목부 혹은 볼록부는, 개구부의 가장자리 단부와 교차하지 않도록 형성되며, 반사층은, 하지층의 표면 상의 개구부이외의 부분에 마련되더라도 좋다. 이것을 본 발명의 제 14 형태라고 한다.

또한, 제 13 형태에 있어서, 하지층의 가장자리 단부와, 그 내부에 복수의 오목부 혹은 볼록부를 모두 포함하는 포락선(包絡線)과의 거리가 미리 결정된 범위 내에 있더라도 좋다. 이것을 본 발명의 제 15 형태라고 한다.

이 하지층의 가장자리 단부에 오목부 혹은 볼록부가 형성되어 있으면, 그 가장자리 단부 부분에, 두께가 얇은 부분과 두꺼운 부분이 발생한다. 이에 따라, 두께가 두꺼운 부분과의 사이에서 응력차가 발생한다. 특히, 현상 처리 시에 응력차가 발생하기 쉽다고 생각된다. 이 응력차가 발생하면, 하지층이 기판 상에서 박리될 가능성이 높게 된다. 이것에 대하여, 본 발명과 같이 하지층의 가장자리 단부 영역, 즉 외주 영역에는 오목부가 없는 영역, 즉 볼록부 영역을 배치하도록 하면, 하지층의 박리를 확실히 방지할 수 있다.

또한, 제 15 형태에 있어서, 미리 결정된 범위는, 4㎛ 이상 12㎛ 이하이더라도 좋다. 이것을 본 발명의 제 16 형태라고 한다. 이렇게 하면, 하지층의 박리를 확실히 방지할 수 있다.

또한, 본 발명은, 제 13 형태 내지 제 16 형태에 따른 전기 광학 장치용 기판과, 그 전기 광학 장치용 기판에 대향하는 대향 기판과, 전기 광학 장치용 기판과 대향 기판 사이에 마련된 전기 광학 물질을 갖는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치를 제공한다. 이것을 본 발명의 제 17 형태라고 한다.

이 전기 광학 장치에 의하면, 전기 광학 장치용 기판에 포함되는 반사층의 작용에 의해, 전기 광학 장치의 내부에서 광을 반사할 수 있고, 이 반사광을 이용하여 표시를 할 수 있다. 그리고, 하지층의 표면에 마련된 오목부 혹은 볼록부에 대응되어 반사층에 요철이 형성되기 때문에, 상기 반사광은 산란광이 되고, 표시의 배경이 경면이 되는 경우가 없어져서, 표시를 보기 쉽게 된다.

또한, 전기 광학 장치용 기판에 포함되는 하지층의 가장자리 단부 영역, 즉 외주 영역에는 오목부, 즉 홈이 없기 때문에, 가장자리 단부 영역에서의 하지층의 박리, 따라서 반사층의 박리를 방지할 수 있고, 그 때문에, 흐트러짐이 없는 안정된 표시를 할 수 있다.

여기서, 전기 광학 장치는, 그 전기 광학 장치용 기판 상에 마련된 제 1 전극과, 대향 기판 상에 마련된 제 2 전극을 갖더라도 좋다. 또한, 전기 광학 물질은 액정이더라도 좋고, 그 액정은, 제 1 전극과 제 2 전극 사이에 마련되더라도 좋다. 이것을 본 발명의 제 18 형태라고 한다.

이 액정 장치에서는, 전기 광학 장치용 기판에 포함되는 반사층으로 반사하는 광을 이용하여 표시를 할 수 있다. 그리고, 본 발명에 있어서의 반사층은 그 가장자리 단부에 박리가 발생하기 어렵고, 박리편의 재부착에 의한 이물의 혼입도 억제되고, 항상 안정한 광반사 특성을 유지할 수 있고, 따라서, 항상 안정한 고품질의 표시를 할 수 있다.

또한, 본 발명은, 제 17 형태, 제 18 형태에 따른 전기 광학 장치를, 표시부로서 갖는 것을 특징으로 하는 전자 기기를 제공한다. 이것을 본 발명의 제 19 형태라고 한다. 전기 광학 장치용 기판은, 그 제조 공정에 있어서 하지층의 일부가 박리, 재부착된다는 불량이 발생하지 않기 때문에, 전기 광학 장치용 기판을 구비한 전기 광학 장치 및 전자 기기의 품질이 개선된다.

또한, 본 발명은, 표면에 오목부 및 볼록부를 갖는 하지층을 기판 상에 형성하기 위한 마스크로서, 볼록부에 대응하는 볼록부용 패턴과, 오목부에 대응하는 오목부용 패턴을 갖고, 하지층의 가장자리 단부는 볼록부용 패턴의 가장자리 단부에 대응하며, 오목부용 패턴은 그 가장자리 단부에 교차하지 않는 것을 특징으로 하는 마스크를 제공한다. 이것을 본 발명의 제 20 형태라고 한다.

여기서, 상기 「오목부」는 상기 「볼록부」보다는 우묵하게 들어가 있다는 의미이며, 상기 「볼록부」는 상기 「오목부」보다는 돌출하고 있다는 의미이다.따라서, 어떤 부재의 표면에「오목부」가 형성되면, 그 이웃에 필연적으로 「볼록부」가 형성된다는 것이고, 또한, 어떤 부재의 표면에 「볼록부」가 형성되면, 그 옆에 필연적으로 「오목부」가 형성된다는 것이다.

상기 오목부용 패턴 및 상기 볼록부용 패턴은, 한쪽을 투광 영역, 예컨대 구멍에 의해서 형성하고, 다른쪽을 차광 영역에 의해서 형성할 수 있다. 이 경우, 어느 쪽을 투광 영역으로 하고, 어느 쪽을 차광 영역으로 하는지는, 노광 대상인 수지 재료가 네거티브형인지, 혹은 포지티브형인지에 의해서 결정할 수 있다.

본 발명의 마스크를 이용하여 기판 상에 하지층을 형성하면, 그 하지층의 가장자리 단부에는 오목부, 즉 홈이 형성되지 않기 때문에, 가장자리 단부에는 얇은 부분이 형성되지 않는다. 그 때문에, 가장자리 단부 부분의 밀착성이 늘어나고, 하지층에 대한 현상 처리 시에 그 하지층의 가장자리 단부에 박리나 재부착이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 본 발명은, 표면에 오목부 및 볼록부를 갖는 하지층을 기판 상에 형성하기 위한 마스크로서, 볼록부에 대응하는 볼록부용 패턴과, 오목부에 대응하는 오목부용 패턴을 갖고, 볼록부용 패턴은 그 가장자리 단부가 오목부용 패턴의 외측에 위치하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크를 제공한다. 이것을 본 발명의 제 21 형태라고 한다.

예컨대 오목부용 패턴이 구멍이며, 볼록부용 패턴이 차광 영역이라고 하면, 상기 구성에 의하면 차광 영역의 가장자리 단부는 항상 구멍의 외측에 위치하게 된다. 이 구성에 의하면, 마스크를 이용한 노광에 의해서 형성되는 하지층의 가장자리 단부에 얇은 부분이 형성되는 경우가 없게 되고, 하지층의 가장자리 단부는 균일한 두께로 유지되기 때문에, 하지층의 가장자리 단부에 박리나 재부착이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 본 발명은, 표면에 오목부 및 볼록부를 갖는 하지층을 기판 상에 형성하기 위한 마스크로서, 볼록부에 대응하는 볼록부용 패턴과, 오목부에 대응하는 오목부용 패턴을 갖고, 볼록부용 패턴은 오목부용 패턴을 둘러싸는 테두리 형상의 영역을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크를 제공한다. 이것을 본 발명의 제 22 형태라고 한다.

볼록부용 패턴의 테두리 형상의 영역은, 하지층의 테두리 형상의 외주 부분에 상당한다. 이렇게 하면, 하지층의 외주 부분에 얇은 부분이 형성되는 경우가 없게 되기 때문에, 하지층의 박리나 재부착을 방지할 수 있다.

여기서, 제 20 형태 내지 제 22 형태에 있어서, 볼록부용 패턴의 가장자리 단부는, 오목부용 패턴의 가장 외측에 위치하지만 외주로부터 4∼7㎛의 외측에 있더라도 좋다. 이들을 각각 본 발명의 제 23 형태 내지 제 25 형태라고 한다. 이렇게 하면, 마스크를 이용한 노광에 의해서 형성되는 하지층의 가장자리 단부 영역을 확실히 기판 상에 고착할 수 있어, 그 영역의 박리를 방지할 수 있다.

(실시예)

A. 제 1 실시예

<A-1 전기 광학 장치>

이하, 본 발명을 전기 광학 장치의 일례인 액정 장치에 적용한 경우를 예로 들어 설명한다. 또, 이것 이후에 설명하는 실시예는 본 발명의 일례로서, 본 발명을 한정하는 것이 아니다. 또한, 앞으로의 설명에서는 필요에 따라서 도면을 참조하지만, 이 도면에서는, 복수의 구성 요소로 이루어지는 구조 중 중요한 구성 요소를 이해하기 쉽게 나타내기 위해서, 각 요소를 실제와는 다른 상대적인 치수로 도시하고 있다.

도 1은, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정 장치의 구조를 도시하는 단면도이다. 여기에 예를 든 액정 장치(1)는, 2 단자형의 스위칭 소자인 TFD(Thin Film Diode)을 이용한 액티브 매트릭스 방식으로서, 전기 광학 장치용 기판(반투과반사 기판)으로서 컬러 필터 기판을 이용한, 반투과반사형의 액정 장치로이다.

도 1에 있어서, 액정 장치(1)는, 액정 패널(2)과, 이 액정 패널(2)에 실장된 구동용 IC(3)와, 조명 장치(4)를 갖는다. 조명 장치(4)는, 관찰측(도면 내의 화살표 A 방향, 즉, 도의 상측)에서 보아 액정 패널(2)의 배면측에 배치되어 백 라이트로서 기능한다. 또, 조명 장치(4)는, 액정 패널(2)의 관찰측에 배치되어 전면광(front light)으로서 기능하게 하더라도 좋다.

조명 장치(4)는, LED(Light Emitting Diode) 등의 점형상 광원이나, 냉음극관 등의 선형상 광원 등에 의해서 구성되는 광원(6)과, 투광성의 수지에 의해서 형성되는 도광체(7)를 갖는다. 관찰측에서 보아 도광체(7)의 배면측에는, 필요에 따라서, 반사층(8)이 마련되더라도 좋다. 또한, 도광체(7)의 관찰측에는, 필요에 따라서, 확산층(9)이 마련되더라도 좋다. 도광체(7)의 광도입구(7a)는 도 1의 지면수직 방향으로 연장되어 있고, 광원(6)으로부터 발생한 광은 이 광도입구(7a)를 통해서 도광체(7)의 내부에 도입된다.

액정 패널(2)은, 전기 광학 장치용 기판인 컬러 필터 기판(11)과, 그것에 대향하는 대향 기판으로서의 소자 기판(12)과, 그들의 기판을 접합하고 있는 화살표 A 방향에서 보아 정방형 또는 직사각형의 테두리 형상의 밀봉재(13)를 갖는다. 기판(11)과, 기판(12)과, 밀봉재(13)에 따라서 둘러싸이는 간극, 이른바 셀갭 내에 액정(14)이 봉입되어 액정층이 구성되어 있다.

컬러 필터 기판(11)은, 화살표 A 방향에서 보아 직사각형 또는 정방형의 제 1 기판(16a)을 갖는다. 그 제 1 기판(16a)의 내측 표면에는, 요철, 즉 오목부와 볼록부(비오목부)의 조합을 갖는 하지층인 수지층(17)이 형성되어 있다. 그 위에 반사층(18)이 형성되고, 그 위에 착색층(19) 및 차광층(21)이 형성되고, 그 위에 오버코팅층(22)이 형성되고, 그 위에 지면 수직 방향으로 직선적으로 연장되는 전극(데이터선)(23a)이 형성되고, 또한, 그 위에 배향막(24a)이 형성된다.

배향막(24a)에는 배향 처리, 예컨대 연마 처리가 실시되고, 이에 따라, 제 1 기판(16a) 근방의 액정 분자의 배향을 결정할 수 있다. 또한, 제 1 기판(16a)의 외측 표면에는, 위상차판(26a) 및 편광판(27a)이 접착 등의 방법에 의해서 장착된다.

제 1 기판(16a)은, 예컨대, 투광성의 유리, 투광성의 플라스틱 등에 의해서 형성된다. 수지층(17)은, 도 2에 도시하는 바와 같이, 제 1 층(17a) 및 제 2 층(17b)으로 이루어지는 2층 구조에 의해서 형성되어 있다. 제 2 층(17b)의 표면에는, 미세한 요철, 즉 미세한 오목부 및 볼록부가 형성되어 있다. 반사층(18)은, 예컨대, Al(알루미늄) 혹은 Al 합금 등에 의해서 형성된다. 이 반사층(18)의 표면은, 그 수지층인 수지층(17)에 붙여진 요철에 대응하여 요철 형상으로 되어있다. 이 요철 형상에 의해, 반사층(18)에서 반사하는 광은 확산된다.

착색층(19)은, 예컨대 도 3에 도시하는 바와 같이, 하나 하나가 직사각형의 돗트 형상으로 형성되고, 하나의 착색층(19)은, R(적색), G(녹색), B(청색)의 3원색 중 어느 하나를 나타낸다. 이들 각 색의 착색층(19)은, 스트라이프 배열, 델타 배열, 모자이크 배열, 그 외의 적절한 배열이 되도록 정렬되어 있다. 도 3에서는, 스트라이프 배열이 예시되어 있다. 또, 착색층(19)은, C(청록색(cyan)), M(진홍색(magenta)), Y(황색)의 3원색에 의해서 형성할 수도 있다. 또, 도 2는 도 3에 있어서 Ⅱ-Ⅱ선에 따른 단면도이다.

도 1에 있어서 차광층(21)은, 예컨대 카본 블랙이 분산된 흑색 수지 재료 혹은 Cr(chrome) 등의 차광성의 재료에 의해서, 복수의 착색층(19) 사이를 채우는 상태로 형성된다. 차광층(21)은, 블랙 매트릭스로서 기능하여 착색층(19)을 투과한 광에 의해서 표시되는 상의 콘트라스트를 향상시킨다. 또, 차광층(21)은, Cr 등의 특정한 재료에 의해서 형성되는 것에 한정되지 않고, 예컨대, 착색층(19)을 구성하는 R, G, B의 각 착색층을 2색 또는 3색 중첩시키는 것, 즉 적층하는 것에 의해서도 형성할 수 있다.

오버코팅층(22)은, 예컨대, 아크릴 수지(acrylic resin), 폴리이미드 수지 등의 감광성의 수지에 의해서 형성된다. 또한, 이 오버코팅층(22)의 적소(適所)에는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 착색층(19)의 표면에 도달하는 개구부(28)가 형성되어 있다. 또, 이 개구부(28)대신에, 착색층(19)의 표면에 도달하지 않고 오버코팅층(22)의 도중까지의 깊이의 유저혈(有底穴), 즉 오목부를 오버코팅층(22)에 형성하더라도 좋다.

도 2의 지면 수직 방향에 선 형상으로 연장되는 데이터선(23a)은, 예컨대 ITO(Indium Tin Oxide) 등의 금속 산화물에 의해서 형성되고, 그 중앙의 일부가 개구부(28)의 내에 우묵하게 들어가 있다. 또한, 그 위에 형성된 배향막(24a)은, 예컨대 폴리이미드 등에 의해서 형성된다. 이 배향막(24a)에 관해서도, 개구부(28)에 대응하는 부분이, 그 개구부(28) 내에 우묵하게 들어가 있다. 즉, 화살표 A 방향에서 평면적으로 보아, 데이터선(23a) 및 배향막(24a)에는 복수의 홈이 형성되어 있다.

도 1에 있어서, 컬러 필터 기판(11)에 대향하는 소자 기판(12)은 제 2 기판(16b)을 갖는다. 이 제 2 기판(16b)은, 연장부(29)가 형성되는 한변이 제 1 기판(16a)의 외측으로 연장되어 있다. 이 제 2 기판(16b)의 내측 표면에는, 스위칭 소자인 TFD(31)가 복수 형성되고, 그들의 TFD(31)에 접속하도록 복수의 화소 전극(23b)이 형성된다. 또한, 화소 전극(23b)의 위에 배향막(24b)이 형성된다. 배향막(24b)에는 배향 처리, 예컨대 연마 처리가 실시되고, 이에 따라, 제 2 기판(16b) 근방의 액정 분자의 배향을 결정할 수 있다. 제 2 기판(16b)의 외측 표면에는, 위상차판(26b) 및 편광판(27b)이 접착 등의 방법에 의해서 장착된다.

제 2 기판(16b)은, 예컨대, 투광성의 유리, 투광성의 플라스틱 등에 의해서형성된다. 또한, 화소 전극(23b)은 ITO 등의 금속 산화물에 의해서 형성된다. 또한, 배향막(24b)은, 예컨대 폴리이미드 등에 의해서 형성된다.

각각의 TFD(31)는, 도 4에 도시하는 바와 같이, 컬러 필터 기판(11)측의 차광층(21)에 대응하는 위치에 마련되고, 또한, 도 5에 도시하는 바와 같이, 제 1 TFD 요소(32a)와 제 2 TFD 요소(32b)를 직렬로 접속함으로써 형성되어 있다. 또, 도 4는 도 3의 Ⅳ-Ⅳ선에 따른 단면도이며, 따라서, 도 2의 단면도이기도 하다.

도 5에 있어서, TFD(31)는, 예컨대, 다음과 같이 하여 형성된다. 즉, 우선, TaW(탄탈 텅스텐)에 의해서 주사선(33)의 제 1 층(34a) 및 TFD(31)의 제 1 금속층(36)을 형성한다. 다음에, 양극 산화 처리에 의해서 주사선(33)의 제 2 층(34b) 및 TFD(31)의 절연막(37)을 형성한다. 다음에, 예컨대 Cr(chrome)에 의해서 주사선(33)의 제 3 층(34c) 및 TFD(31)의 제 2 금속층(38)을 형성한다.

도 4에 있어서, 컬러 필터 기판(11) 상에 형성된 데이터선(23a)은, 지면의 좌우 방향으로 연장되어 있다. 소자 기판(12) 상에 형성된 상기 주사선(33)은, 데이터선(23a)에 대하여 직각 방향, 즉 도면의 지면 수직 방향으로 연장되어 있다.

도 5에 있어서, 제 1 TFD 요소(32a)의 제 2 금속층(38)은 주사선(33)의 제 3 층(34c)에서 연장되어 있다. 또한, 제 2 TFD 요소(32b)의 제 2 금속층(38)의 선단에 중첩되도록, 화소 전극(23b)이 형성된다. 주사선(33)으로부터 화소 전극(23b)을 향해서 전기 신호가 흐르는 것을 생각하면, 그 전류 방향에 따라서, 제 1 TFD 요소(32a)에서는 제 2 전극(38)→절연막(37)→제 1 금속층(36)의 순서대로 전기 신호가 흐르고, 한편, 제 2 TFD 요소(32b)에서는 제 1 금속층(36)→절연막(37)→제 2금속층(38)의 순서대로 전기 신호가 흐른다.

즉, 제 1 TFD 요소(32a)와 제 2 TFD 요소(32b)는, 전기적으로 반대 방향인 한 쌍의 TFD 요소가 서로 직렬로 접속되어 있는 구조로 되어있다. 이러한 구조는, 일반적으로, 백투백(Back-to-Back) 구조로 지칭되고 있다. 이 구조의 TFD 소자는, TFD 소자를 단지 1개의 TFD 요소에 의해 구성하는 경우에 비해서, 안정한 특성을 얻을 수 있는 것이 알려져 있다. 또, 제 1 금속층(36) 등의 제 2 기판(16b)에서의 박리를 방지하거나, 제 2 기판(16b)에서 제 1 금속층(36) 등으로 불순물이 확산되지 않도록 하는 것 등을 위해서, TFD(31)와 기판(16b) 사이 및 주사선(33)과 기판(16b) 사이에 수지층(도시하지 않음)을 마련하더라도 좋다.

도 1에 있어서, 제 2 기판(16b)의 연장부(29) 상에 배선(39)이, 예컨대 TFD(31)나 화소 전극(23b)의 형성 시에 동시에 형성된다. 또한, 제 1 기판(16a) 상에 배선(41)이, 예컨대 반사층(18)이나 데이터선(23a)의 형성 시에 동시에 형성된다. 밀봉재(13)의 내부에는, 구형 또는 원통형의 도전재(42)가 분산 상태로 포함되어 있다. 제 1 기판(16a) 상의 배선(41)과 제 2 기판(16b) 상의 배선(39)은, 그 도전재(42)에 의해서 서로 도통하고 있고, 이에 따라, 컬러 필터 기판(11)측의 데이터선(23a)이 소자 기판(12)측의 배선(39)에 도통되어 있다.

소자 기판(12)의 연장부(29) 상에는, ACF(Anisotropic Conductive Film : 이방성 도전막)(43)에 의해서 구동용 IC(3)가 실장되어 있다. 자세하게는, ACF(43)를 구성하는 수지에 의해서 구동용 IC(3)가 연장부(29) 상에 고착되고, 또한, ACF(43)에 포함되는 도전 입자에 의해서 구동용 IC(3)의 범프(bump), 즉 단자와 배선(39)이 도전 접속된다.

또한, 연장부(29)의 가장자리 단부에는 외부 접속용 단자(44)가 형성되고, 이외에 부 접속용 단자(44)가 ACF(43)에 의해서 구동용 IC(3)의 범프에 도전 접속되어 있다. 외부 접속용 단자(44)에는, 도시하지 않는 배선 기판, 예컨대 가요성 배선 기판이, 납땜, ACF, 열 봉합(heat seal) 등의 도전 접속 수법에 의해서 접속된다. 이 배선 기판을 거쳐서, 예컨대 휴대 전화기, 휴대 정보 단말기 등의 전자 기기로부터 액정 장치(1)에 신호, 전력 등이 공급된다.

도 1에 있어서, 컬러 필터 기판(11)측의 데이터선(23a)과 소자 기판(12)측의 화소 전극(23b)은, 화살표 A 방향에서 보아 평면적으로 서로 중첩되어 있다. 이 중첩 영역이, 표시의 최소 단위(서브 화소)인 표시 돗트 D를 구성한다. 그리고, 화살표 A 방향에서 보아 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 표시 돗트 D에 의해서 표시 영역 V가 구성된다. 이 표시 영역 V 내에, 문자, 숫자, 도형 등의 상이 표시된다.

각각의 표시 돗트 D는, 도 3에 도시하는 바와 같이 거의, 화소 전극(23b)과 동일한 크기의 면적으로 되어있다. 또, 도 3에서는, 쇄선으로 도시하는 화소 전극(23b)이 실선으로 도시하는 착색층(19)보다도 조금 크게 그려져 있지만, 이것은 구조를 이해하기 쉽게 나타내기 위한 것이며, 그들의 평면 형상은, 실제로는, 거의 동일한 형상으로, 서로 중첩되어 있다.

또한, 도 3에 있어서, 돗트 형상의 각각의 착색층(19)은, 각각의 표시 돗트 D에 대응하여 형성된다. 또한, 도 2 및 도 4에 있어서, 반사층(18)에는 각각의 표시 돗트 D에 대응하여 개구부(46)가 마련된다. 이들의 개구부(46)는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 평면적으로 보아 직사각형 형상으로 형성되어 있다. 또, 도 3에서는, 파선으로 도시되는 개구부(46)가, 실선으로 도시되는 오버코팅층(22)의 개구부(28)보다도 조금 크게 그려져 있지만, 평면적으로 보았을 때의 양자의 주연(周緣)은, 거의 일치한다.

본 실시예와 같이, R, G, B의 3색으로 이루어지는 착색층(19)을 이용하여 컬러 표시를 하는 경우는, R, G, B의 3색에 대응되는 3개의 착색층(19)에 대응되는 3개의 표시 돗트 D에 의해서 하나의 화소가 형성된다. 한편, 착색층을 이용하지 않고 흑백 등의 모노 컬러 표시를 하는 경우는, 하나의 표시 돗트 D에 의해서 하나의 화소가 형성된다.

도 2 및 도 4에 있어서, 각각의 표시 돗트 D 중에서 반사층(18)이 마련된 부분 R이 반사부이며, 개구부(46)가 형성된 부분 T가 투과부이다. 관찰측(화살표 A 방향)으로부터 입사한 외부광, 즉 소자 기판(12)측에서 입사한 외부광 L0(도 2 참조)은, 반사부 R에서 반사된다. 한편, 도 1의 조명 장치(4)의 도광체(7)로부터 방사된 광 L1(도 2 참조)은, 투과부 T를 투과한다.

이상의 구성으로 이루어지는 액정 장치에 의하면, 태양광, 실내광 등의 외부광이 강한 경우는, 외부광 L0이 반사부 R에서 반사하여 액정층(14)에 공급된다. 한편, 도 1의 조명 장치(4)가 점등한 경우는, 도광체(7)로부터 출사하는 평면 형상의 광이, 도 2의 투과부 T를 통해서 액정층(14)에 공급된다. 이렇게 해서, 반투과반사형의 표시가 행해진다.

액정층(14)을 사이에 유지하는 데이터선(23a) 및 화소 전극(23b)의 한쪽에는 주사 전압이 인가되고, 다른쪽에는 데이터 전압이 인가된다. 주사 전압과 데이터 전압이 인가된 표시 돗트 D에 부속하는 TFD(31)는 ON 상태가 되고, 표시 돗트 D에서의 액정 분자의 배향 상태가 표시 돗트 D를 통과하는 광을 변조하도록 유지된다. 그리고, 이 변조된 광이 도 1의 편광판(27b)을 통과할지 여부에 따라서, 소자 기판(12)의 외측에, 문자, 숫자, 도형 등의 희망하는 상이 표시된다. 외부광 L0을 이용하여 표시가 행하여지는 경우가 반사형 표시이며, 투과광 L1을 이용하여 표시가 행하여지는 경우가 투과형 표시이다.

반사형 표시가 행하여질 때, 반사광 L0은 액정층(14)을 2회 통과한다. 또한, 투과형 표시가 행하여질 때, 투과광 L1은 액정층(14)을 1회만 통과한다. 이 때문에, 액정층(14)의 층두께가 반사부 R과 투과부 T에 걸쳐 균일한 경우, 반사광 L0을 이용한 반사형 표시와 투과광 L1을 이용한 투과형 표시의 사이에서, 액정층(14)을 통과하는 거리에 차이가 발생하여, 반사형 표시와 투과형 표시의 사이에서 표시 품질이 상이하다 문제가 발생할 우려가 있다.

이것에 관하여, 본 실시예에서는, 오버코팅층(22)에 개구부(28)를 마련하는 것에 의해, 투과부 T에서의 액정층(14)의 층두께 E를 두껍게 하고, 반사부 R에서의 층두께 F를 얇게 하고 있기 때문에, 반사형 표시와 투과형 표시의 사이에서 균일한 표시 품질을 얻을 수 있게 되어 있다.

도 1에 도시하는 액정 장치(1)의 컬러 필터 기판(11)에 있어서, 제 1 기판(16a)의 내측 표면에 마련되는 반사층(18)에, 도 2 및 도 4에 도시하는 것과같은 요철을 붙이기 위해서, 그 반사층(18)의 수지층인 수지층(17)의 표면에 요철, 즉 오목부 및 볼록부를 형성하는 것은 상술한 바와 같다.

이 수지층(17)의 평면 형상은, 예컨대 도 6에 도시하는 바와 같이, 정방형, 직사각형 등으로 설정된다. 그리고, 이 수지층(17)의 크기는, 도 1에 도시한 표시 영역 V와 거의 동일하고, 제 1 기판(16a), 즉 액정 패널(2)의 외형선에 대하여, 한쪽의 변이 거리 d1=50∼300㎛ 정도 거리를 두고, 다른 쪽의 변이 거리 d2=20∼100㎛ 정도 거리를 두고 있다.

또한, 수지층(17)의 외주 영역에는, 오목부(20)가 존재하지 않는 영역(47)이 테두리 형상으로 마련된다. 이와 같이, 오목부(20)가 존재하지 않는 테두리 형상 영역(47)을 수지층(17)의 외주 영역에 마련한 것에 의해, 수지층(17)의 가장자리 단부(51)에는 오목부(20)가 교차하지 않는다. 또한, 수지층(17)의 가장자리 단부(51)는, 어느 쪽의 오목부(20)보다도 외측에 위치하고 있다.

도 30(c)에 도시한 종래의 수지층(102)에 있어서는, 그 수지층(102)의 가장자리 단부(102a)에 오목부(103)가 존재하는 경우가 있고, 그 경우에는, 그 부분의 수지층(102)의 두께는 국소적으로 얇아진다. 일반적으로, 수지층(102)은, 감광성 수지 재료를 기판(101) 상에 균일한 두께로 도포하고, 오목부(103)에 대응하는 패턴을 가진 마스크(포토 마스크)를 통해서 상기 감광성 수지 재료를 노광하고, 또한 노광 후의 감광성 수지 재료를 현상하는 등의, 일련의 처리에 의해서 형성된다.

이렇게 하여 형성되는 수지층(102)의 가장자리 단부(102a)에 오목부(103)가 존재하여 그 부분의 두께가 얇아져 있으면, 상기 현상 처리 시에 그 얇아진 부분에박리가 발생하여 쉽고, 또한, 그 박리편은 현상 처리의 후에 기판에 재부착된다. 이러한 박리와 재부착이 발생하면, 이 수지층(102)의 위에 적층되는 반사층(118)의 표면 형상에 흐트러짐이 발생하고, 그 때문에, 반사광, 더 나아가서는 표시 상에 흐트러짐이 발생하여, 표시를 보기 어렵게 될 우려가 있다.

이것에 대하여, 본 실시예에서는, 도 6에 도시한 바와 같이, 수지층(17)의 외주 영역에 오목부(20)가 존재하지 않는 영역(47)을 마련했기 때문에, 도 10(c)에 도시하는 바와 같이, 수지층(17)의 가장자리 단부(17c)에 가까운 영역은 두께가 두꺼운 부분에 의해서 확실히 기판(16a)에 고착된다. 이 때문에, 수지층(17)에 박리가 발생하는 것을 확실히 방지할 수 있다. 또, 도 6에 도시하는 수지층(17)에 있어서 오목부(20)가 존재하지 않는 영역(47), 즉 볼록부 영역(47)의 폭 W1이 4∼12㎛ 정도이면, 수지층(17)에 관하여 박리 없는 안정한 고착을 얻을 수 있다.

<A-2 전기 광학 장치의 제조 방법>

이하에, 본 실시예에 따른 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법 및 그 제조 방법에서 이용하는 마스크에 대하여 설명한다.

도 7은 본 실시예에 따른 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법의 일실시예를 도시하고 있다. 본 실시예에서는, 도 1의 컬러 필터 기판(11)을 제조하기 위해서 이 제조 방법이 적용된다. 이 제조 방법에서는, 도 7의 공정 P1에 있어서, 도 1의 수지층(17)을 형성한다. 이 수지층(17)은, 도 2 및 도 4에 도시하는 바와 같이, 제 1 층(17a)의 위에 제 2 층(17b)을 적층함으로써 형성된다. 제 1 층(17a)의 표면에는 거친 오목부 및 거친 볼록부가 형성되고, 그 위에 동일한 재료로 두께가 얇은 제 2 층(17b)을 적층함으로써, 표면이 매끄러운 모양으로 되어 있다. 이 수지층의 형성 공정에 있어서는, 후에 자세히 설명한다.

다음에, 도 7의 공정 P2에 있어서, 도 2 및 도 4의 반사층(18)을 형성한다. 구체적으로는, 예컨대, 광반사성의 재료, 예컨대 Al 또는 Al 합금을 균일한 두께로 도포하고, 또한, 포토리소그래피 처리 및 에칭 처리에 의해, 표시 돗트 D 마다 개구부(46)를 형성한다.

다음에, 도 7의 공정 P3에 있어서, 도 2 및 도 4의 차광층(21)을 형성한다. 구체적으로는, 예컨대 Cr(chrome) 등의 차광성 재료를 균일한 두께로 도포하고, 또한, 포토리소그래피 처리 및 에칭 처리에 의해, 표시 돗트 D의 주변 영역에, 즉 화살표 A 방향에서 보아 격자 형상의 영역에 차광층(21)을 형성한다.

다음에, 도 7의 공정 P4에 있어서, 도 2 및 도 4의 착색층(19)을 형성한다. 구체적으로는, 예컨대 R, G, B의 3색 중의 1색을 나타내는 안료 또는 염료를 감광성의 고분자 재료에 분산하여 착색층 재료를 형성하고, 이 착색층 재료를 포토리소그래피 처리에 의해서 희망하는 배열 패턴으로 형성한다. 그 후, R, G, B의 다른 2색에 대하여, 1색씩 마찬가지의 처리를 반복하는 것에 의해, 차광층(21)의 사이에 R, G, B의 각 색의 착색층(19)을 희망하는 배열 패턴, 예컨대 스트라이프 패턴으로 형성한다.

다음에, 도 7의 공정 P5에 있어서, 도 2 및 도 4의 오버코팅층(22)을 형성한다. 구체적으로는, 예컨대 아크릴 수지, 폴리이미드 수지 등의 감광성의 수지를균일한 두께로 도포하고, 또한, 포토리소그래피 처리에 의해, 표시 돗트 D마다 개구부(28)를 형성한다.

다음에, 도 7의 공정 P6에 있어서, 도 2 및 도 4의 데이터선(23a)을 형성한다. 구체적으로는, 예컨대 ITO(Indium Tin Oxide) 등의 금속 산화물을 재료로 하여, 포토리소그래피 처리 및 에칭 처리에 의해 복수의 직선 형상의 데이터선(23a)이 서로 평행하게 나란히 늘어선 상태, 즉 도 1의 화살표 A 방향에서 보아 스트라이프 형상으로 형성된다.

다음에, 도 7의 공정 P7에 있어서, 도 2 및 도 4의 배향막(24a)을 형성한다. 구체적으로는, 예컨대, 폴리이미드 용액을 도포한 후에, 그것을 더 포스트베이크함으로써 배향막(24a)을 형성한다. 또한, 도 7의 공정 P8에 있어서, 배향막(24a)에 배향 처리, 예컨대 연마 처리를 실시한다. 이 연마 처리에 의해, 컬러 필터 기판(11) 근방의 액정층(14)의 액정 분자의 배향을 결정할 수 있다.

이상의 방법에 의해, 도 1의 컬러 필터 기판(11)을 제조할 수 있다. 또, 제 1 기판(16a)의 외측에 마련되는 위상차판(26a)이나 편광판(27a)은, 밀봉재(13)에 의해서 대향 기판(12)을 컬러 필터 기판(11)에 접합한 후에, 그 제 1 기판(16a)의 외측에 접착된다.

이상으로 설명한 컬러 필터 기판의 제조 방법에 있어서, 공정 P1의 수지층의 형성 공정을 더 자세히 설명하면 다음과 같다. 도 8의 공정 P11에 있어서, 도 9(a)에 도시하는 바와 같이, 감광성의 수지 재료(17a'), 예컨대 PC405G를 제 1 기판(16a)의 위에 균일한 두께로 형성한다. 다음에, 공정 P12에 있어서, 예컨대 100℃, 155초간으로 프리베이크하여 용제를 증발시킨다.

다음에, 공정 P13에 있어서, 도 9(b)에 도시하는 바와 같이, 마스크(56)를 이용하여 노광 처리를 한다. 마스크(56)는, 도 10(a)에 도시하는 바와 같이, 투명유리, 투명 플라스틱 등에 의해서 직사각형 형상, 정방형 형상, 그 외의 희망하는 형상으로 형성된 투명 기판(57) 상에 차광층(58)을 마련하는 것에 따라 형성된다. 이 차광층(58)은, Cr 등의 차광 재료에 의해서 형성된 볼록부용 패턴(59)과, 그 볼록부용 패턴(59)의 적소에 불규칙하게 형성된 복수의 구멍, 예컨대 정다각형 형상의 구멍에 의해서 형성된 오목부용 패턴(54)에 따라서 형성되어 있다.

오목부용 패턴(54)은 도 10(c)의 수지층(17)의 표면에 오목부(20)를 형성하기 위한 패턴이다. 또한, 볼록부용 패턴(59)은 수지층(17)에 오목부(20)를 형성하지 않기 위한 패턴이다. 도 10(a), 도 10(b), 도 10(c)에 있어서, 오목부용 패턴(54) 및 오목부(20)는 그 구조를 이해하기 쉽게 나타내기 위해서, 실제의 크기보다도 크고, 또한 모식적으로 그려져 있다. 또한, 도 10(a)에서, 차광층(58)의 중앙 부분의 오목부용 패턴(54)은 생략되어 있다.

차광층(58)의 가장자리 단부(58a)는 볼록부용 패턴(59)의 가장자리 단부로서 형성되어 있고, 이 가장자리 단부(58a)에 따른 차광층(58)의 외주 영역에는, 오목부용 패턴(54)이 존재하지 않는 테두리 형상 영역(53)이 마련된다. 이에 따라, 오목부용 패턴(54)은 모두 볼록부용 패턴(59)의 가장자리 단부(58a)에 교차하지 않도록 되어 있다. 또한, 볼록부용 패턴(59)의 가장자리 단부(58a)는 모든 오목부용 패턴(54)의 외측에 위치하고 있다. 또한, 테두리 형상 영역(53)의 폭 W2는, 예컨대 4∼7㎛로 설정된다.

도 8의 공정 P13의 노광 공정에서는, 도 9(b)에 도시하는 바와 같이, 마스크(56)가 노광 대상인 수지 재료(17a')에 대하여 거리 d3=60∼100㎛과 같이 비교적 좁은 간격으로 배치되고, 이 마스크(56)의 오목부용 패턴(54)을 통해서 수지 재료(17a')에 노광 광을 조사한다. 본 실시예에서는 수지 재료(17a')로서 포지티브형의 감광성 재료를 사용한다. 따라서, 노광된 부분은 현상 용액에 대하여 가용성이 된다.

다음에, 도 8의 공정 P14에 있어서, 현상 용액을 수지 재료(17a')에 샤워 형상으로 공급한다. 이에 따라, 도 9(c)에 도시하는 바와 같이, 노광된 부분이 녹아 오목부(20)가 형성되고, 수지층(17)의 제 1 층(17a)이 형성된다. 여기서 형성된 오목부(20)는, 모서리부가 각이 져 있어서, 표면의 요철 형상이 거친 상태가 되어 있다. 또한, 본 실시예에서 이용하는 마스크(56)의 외주 영역에는 오목부용 패턴(54)이 존재하지 않는 테두리 형상 영역(53)이 마련되어 있기 때문에, 현상에 의해서 형성된 제 1 층(17a)의 외주 영역에는, 오목부(20)가 존재하지 않는 두께가 두꺼운 영역(47)이 형성된다. 이와 같이 제 1 층(17a)의 외주 영역에 국소적으로 두께가 얇은 부분을 형성하지 않도록 하면, 현상 공정 P14에 있어서 수지 재료(17a')에 현상 용액이 샤워 형상으로 공급되어 외력이 가해지더라도 제 1 층(17a)의 가장자리 단부 부분에 박리가 발생하는 것을 방지할 수 있다.

다음에, 도 8의 공정 P15에 있어서, 220℃, 50분으로 포스트베이크를 행하여 제 1 층(17a)을 안정화한다. 이에 따라, 수지층(17)의 제 1 층(17a)이 완성된다.

다음에, 공정 P16에 있어서, 도 9(d)에 도시하는 바와 같이, 제 1 층(17a)과 동일한 수지 재료(17b')를 제 1 층(17a)보다도 얇게 도포하고, 또한, 공정 P17에 있어서, 100℃, 155초로 프리베이크한다. 다음에, 공정 P18에 있어서, 도 9(e)에 도시하는 바와 같이, 마스크(61)를 이용하여 노광 처리를 한다. 이 마스크(61)는, 수지층(17)의 크기에 대응되는 차광층(62)을 투명 기판(63) 상에 마련하는 것에 의해 형성되어 있다.

공정 P18에 있어서, 차광층(62)의 외주 영역에서 노광 광을 수지 재료(17b')에 조사하고, 또한, 공정 P19에 있어서 현상 처리를 하는 것에 의해, 도 9(e)에 도시하는 바와 같이, 외주 영역의 불필요한 수지 재료(17b')를 제거하여 가장자리 단부(51)를 형성함으로써, 제 2 층(17b)을 형성한다. 또한, 공정 P20에 있어서, 220℃, 50분으로 포스트베이크를 하고, 이에 의해서, 수지층(17)이 완성된다. 제 2 층(17b)을 적층함으로써, 수지층(17)의 표면의 요철을 희망하는 매끄러움으로 조절할 수 있다. 또, 제 2 층(17b)의 형성 시에 공정 P19에 있어서 현상 처리가 행하여질 때에도, 제 1 층(17a)의 외주의 테두리 형상 영역(47)에는 얇은 부분이 존재하지 않기 때문에, 제 1 층(17a)이 박리되는 경우가 없다.

<A-3 전기 광학 장치의 제조 방법의 다른 실시예>

도 11은, 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법의 다른 실시예에 있어서 수지층의 형성 공정을 도시하고 있다. 이 공정은, 도 8에 도시한 수지층의 형성 공정대신에, 도 7에 나타낸 기판의 제조 방법에 있어서의 공정 P1에 적용된다.

도 8에 도시한 이전의 방법에서는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 수지층(17)을 제 1 층(17a)과 제 2 층(17b)의 2층에 의해서 형성했다. 이것에 대하여, 도 11에 도시하는 본 실시예의 방법에서는, 도 12(c)에 도시하는 바와 같이, 수지층(17)은 1개의 층에 의해서만 형성된다. 이와 같이, 수지층(17)을 단층 구조로 한 경우에도 그 수지층(17)의 표면이 매끄럽게 되도록 하기 위해서, 본 실시예에서는, 도 11의 공정 P33의 노광 공정에서 이하와 같은 개변(改變)을 추가하고 있다.

도 8에 도시한 이전의 방법에서는, 공정 P13의 노광 공정에서, 도 9(c)에 도시하는 바와 같이 마스크(56)와 수지 재료(17a') 사이의 거리를 d3=60∼100㎛와 같이 좁게 설정했다. 이것에 대하여, 도 11에 도시하는 노광 공정 P33에서는, 도 12(b)에 도시하는 바와 같이, 마스크(56)와 수지 재료(17') 사이의 거리를 d4=150∼200㎛와 같이 비교적 넓게 설정한다.

도 11에 있어서의 그 밖의 공정, 즉 수지 재료의 도포 공정 P31, 프리베이크공정 P32, 현상 공정 P34, 그리고 포스트베이크 공정 P35는, 도 8에 있어서 제 1 층의 형성 공정을 실현하기 위한 대응되는 각 공정이 동일하기 때문에, 그들의 공정에 대한 설명은 생략한다.

이 실시예에 있어서도, 도 12(b)에 도시하는 바와 같이, 마스크(56)의 외주 영역에 오목부용 패턴(54)이 존재하지 않는 테두리 형상 영역(53)이 마련되어 있고, 따라서, 수지층(17)의 가장자리 단부(51)에 따른 외주 영역에는, 오목부(20)가 존재하지 않는 테두리 형상 영역(47)을 형성할 수 있기 때문에, 수지층(17)의 박리를 방지할 수 있다.

B. 제 2 실시예

계속해서, 본 발명의 제 2 실시예에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 이하의 설명에 있어서는, 본 실시예에 따른 전기 광학 장치의 일례로서, 액티브 매트릭스 방식의 컬러 표시형 액정 장치에 대하여 설명한다.

<B-1 전기 광학 장치>

우선, 본 실시예에 따른 액정 장치의 구성에 대하여 설명한다. 도 13은 본 실시예에 따른 액정 장치의 단면도이며, 도 14는 동 액정 장치의 대략 구성을 도시하는 분해사시도이다. 또, 도 13은 도 14에 있어서의 XⅢ-XⅢ선에서 본 단면도에 상당한다.

이들의 도면에 도시한 바와 같이, 액정 장치(100)는, 전기 광학 물질의 일종인 액정(14)(도 14에서는 도시 생략)을, 제 2 기판(16b) 및 제 1 기판(16a)에 의해 사이에 유지하는 액정 패널(2b)을 갖는다. 액정 패널(2b)의 제 1 기판(16a)측에는, 조명 장치(4)가 배치되어 있다. 이하에서는, 액정(14)에 대하여 제 2 기판(16b)측(즉, 도면 상측)을 「관찰측」이라고 표기한다. 즉, 액정 장치(100)에 의한 표시 화상을 시인하는 관찰자가 위치하는 쪽이라는 의미이다. 이것에 대하여, 액정(14)에서 보아 제 1 기판(16a)측(즉, 도면 하측)을 「배면측」이라고 표기한다.

조명 장치(4), 광원(6), 도광체(7)는, 제 1 실시예에 설명한 것과 동일하다. 또, 도 2에서는 특히 도시는 하지 않지만, 제 1 실시예와 마찬가지로, 도광체(7) 중 액정 패널(2b)과 대향하는 면에는, 도광체(7)부터의 광을 액정 패널(2b)에 대하여 균일하게 확산시키는 확산판 등이 접착되는 한편, 이것과 반대측의 면에는, 도광체(7)로부터 배면측에 출사한 광을 액정 패널(2b)측에 반사시키기 위한 반사판이 접착된다.

액정 패널(2b)에서, 제 2 기판(16b)은, 유리 등의 광투과성 재료로 이루어지는 판형상 부재이다. 제 2 기판(16b)의 관찰측의 면에는, 콘트라스트를 개선하기 위한 위상차판(26b)(도 14에서는 도시 생략)과, 입사광을 편광시키기 위한 편광판(27b)(도 14에서는 도시 생략)이, 제 2 기판(16b)측에서부터 이 순서로 적층되어 있다. 한편, 제 2 기판(16b)의 액정(14)측(배면측)의 면에는, ITO(Indium Tin Oxide)막 등으로 구성되는 화소 전극(23b)이 매트릭스 형상으로 배치되어 있고, 각 화소 전극(23b)의 간극에는, 일 방향(도 14에 도시하는 Y 방향)으로 연장되는 복수의 주사선(33)이 형성되어 있다.

도 14에 도시하는 바와 같이 각 화소 전극(23b)과, 화소 전극(23b)에 인접하는 주사선(33)은, TFD(31)을 거쳐서 접속되어 있다. 이 TFD(31)는, 비선형의 전류-전압 특성을 갖는 2단자형 스위칭 소자이다. 도 13에 도시하는 바와 같이, 화소 전극(23b), 주사선(33) 및 TFD(31)이 형성된 제 2 기판(16b)의 표면은, 배향막(24b)(도 14에서는 도시 생략)에 의해 덮여 있다. 이 배향막(24b)은, 예컨대 폴리이미드 등의 유기 재료로 구성된다. 배향막(24b)에는, 전압이 인가되어 있을 때의 액정(14)의 배향 상태를 규정하기 위한 연마 처리가 실시되어 있다.

한편, 제 1 기판(16a)은, 유리 등의 광투과성 재료로 이루어지는 판형상 부재이며, 그 배면측의 면에는, 제 2 기판(16b)과 같이, 위상차판(26a)(도 14에서는 도시 생략) 및 편광판(27a)(도 14에서는 도시 생략)이, 제 1 기판(16a)측에서 이 순서로 적층되어 있다. 제 1 기판(16a)의 액정(14)측(관찰측)의 면에는, 하지층인 수지층(17), 반사층(18)과, 3색의 컬러 필터(150R, 150G, 150B) 중 어느 하나와, 데이터선(23a)과, 배향막(24a)(도 14에서는 도시 생략)이 기판측에서부터 이 순서로 적층되어 있다.

이 중 배향막(24a)은, 예컨대 폴리이미드 등에 의해서 형성된 유기 박막이며, 전압이 인가되어 있을 때의 액정(14)의 배향 방향을 규정하기 위한 연마 처리가 실시되어 있다. 또한, 복수의 데이터선(23a)의 각각은, ITO 등의 광투과성 도전 재료에 의해 형성된 띠형의 전극이며, 컬러 필터(150R, 150G, 150B)의 면 상에 형성되어 있다. 도 14에 도시하는 바와 같이, 데이터선(23a)은, 상술한 주사선(33)과 교차하는 방향(도 14중 X 방향)으로 연장되고, 제 2 기판(16b) 상에 열을 이루는 복수의 화소 전극(23b)과 대향하도록 위치된다. 이러한 구성 하에서, 제 2 기판(16b)과 제 1 기판(16a)에 의해 사이에 유지된 액정(14)은, 화소 전극(23b)과 이것에 대향하는 데이터선(23a) 사이에 전압이 인가되는 것에 의해, 그 배향 방향이 변화한다. 도 14에 도시하는 바와 같이, 이 인가 전압에 따라 액정(14)의 배향 방향이 변화하는 영역의 최소 단위인 돗트 D는 매트릭스 형상으로 배열되어 있고, 그 각각이 서브 화소로서 기능한다.

컬러 필터(150R, 150G, 150B)는, 제 1 실시예에서 설명한 바와 같이, 각 돗트 D에 대응하여 마련된 수지층이며, 안료 등에 의해 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)중 어느 하나로 각각 착색되어 있고, 그 색에 대응하는 파장의 광을 선택적으로 투과시킨다. 또, 도 14에 있어서의 「R」, 「G」 및「B」는, 돗트 D의 각각이, 어느 컬러 필터(150R, 150G, 150B)가 배치되는 돗트 D인지를 도시하고 있다. 또한, 차광층(21)은, 각 컬러 필터(150R, 150G, 150B)의 간극을 채우도록 격자 형상으로 형성되어 있고, 인접하는 컬러 필터(150R, 150G, 150B)의 측쪽을 차광한다. 이 차광층(21)은, 제 1 실시예에서 설명한 그대로이다.

여기서, 도 15는, 한 개의 돗트 D에 대응하는 반사층(18)의 평면도이며, 도 16은, 그 부분에 대응하는 제 1 기판(16a), 수지층(17) 및 반사층(18)의 부분 단면도이다. 도 16에 있어서, 수지층(17)은, 감광성 재료의 노광·현상 처리에 의해 조형된 것으로, 돗트 D의 중앙 부근에 위치하는 광투과용의 개구부(125)와, 관찰측에 마련된 매끄러운 요철 형상의 면(17c)(이하, 「요철면」이라고 지칭함)을 갖고 있다. 여기서, 요철면(17c)은, 개구부(125)의 가장자리 단부(측벽면(17e))로부터 일정한 거리 d21(예컨대 「4㎛」)만큼 거리를 두도록 형성되어 있고, 개구부(125)와 요철면(17c) 사이에는, 평탄성을 갖는 평탄면(17d)이 마련되어 있다. 또, 수지층(17)에 있어서, 개구부(125)를 형성하는 측벽면(17e)은 평탄성을 갖고 있지만, 이 점에 있어서는 나중에 상술한다.

도 15 및 도 16에 표시된 바와 같이, 반사층(18)은, 예컨대 Al 등의 광반사성을 갖는 재료가, 수지층(17)중 관찰측의 면 상에 거의 일정한 막두께로 박막 형성된 것이다. 반사층(18)의 표면 형상은 수지층(17)의 표면 형상을 반영한 것으로 되어 있다. 구체적으로, 반사층(18)은, 매끄러운 요철 형상의 광반사부(18b)(이하 「산란 반사면」이라고 지칭함)와, 이 산란 반사면(18b)과, 개구부(125)의 가장자리 단부 사이에 끼워지도록 위치하는 평탄한 부분(18a)(이하 「경면 반사면」이라고 지칭함)을 갖고 있다.

이상의 구성 하에서, 반사층(18)에 있어서, 조명 장치(4)(도 13참조)로부터 출사된 광은, 수지층(17) 및 반사층(18)의 개구부(125)를 투과하여 관찰측에 출사한다. 한편, 관찰측에서 입사한 외광은, 경면 반사면(18a) 및 산란 반사면(18b)의 각각으로 반사하지만, 이 중 산란 반사면(18b)에서는, 외광을 산란시키면서 반사한다. 또, 설명의 편의상, 이후의 설명에 있어서는, 제 1 기판(16a)과, 수지층(17)과, 반사층(18)을 포함하여, 반투과반사성을 갖는 전기 광학 장치용 기판을 「반투과반사 기판(124)」이라고 지칭한다.

이상 설명한 제 2 기판(16b) 및 제 1 기판(16a)은, 도 13에 도시하는 바와 같이, 밀봉재(13)를 거쳐서 접합될 수 있다. 그리고, 양 기판 상의 구조물과, 밀봉재(13)에 의해서 둘러싸인 영역에, 예컨대 TN(Twisted Nematic)형 등의 액정(14)이 봉지된다. 이러한 구성 하에서, 관찰측에서부터 액정 패널(2b)에 외광이 입사하면, 외광은, 반투과반사 기판(124)에 의해 관찰측에 향해서 산란 반사되고, 이에 따라 반사형 표시가 실현된다. 한편, 액정 패널(2b)의 배면측에서 입사한 조명 장치(4)의 광은, 수지층(17) 및 반사층(18)의 개구부(125)를 통과하여 관찰측에 방사된다. 이에 따라 투과형 표시가 실현된다.

<B-2 전기 광학 장치의 제조 방법>

다음에, 본 실시예에 따른 액정 장치(100)의 제조 방법에 대하여 설명한다. 이하에서는, 액정 장치(100) 중, 특히 반투과반사 기판(124)의 제조 방법에 대하여 중점적으로 설명한다. 또, 액정 장치(100) 중 반투과반사 기판(124)이외의 구성의 제조 방법에 있어서는, 본건의 발명과 직접 관계되지 않기 때문에, 그 설명은 생략하는 것으로 한다.

도 17은, 반투과반사 기판(124)의 제조 공정을 도시하는 흐름도이다. 또한, 도 18은, 동 제조 공정에 있어서의 처리 내용을 도시하는 제 1 기판(16a)의 부분단면도이다. 또, 도 18에 있어서는 제 1 기판(16a) 중 하나의 돗트 D에 대응하는 부분이 표시되어 있다. 이 제조 공정은, 대강, 제 1 기판(16a) 상에 감광성 재료에 의해 수지층(17)을 형성하고, 그 수지층(17)의 표면 상에 반사층(18)을 형성하는 공정으로 이루어진다. 상세하게는 이하와 같다.

처음에, 제 1 기판(16a)을 세정한 후, 건조한다(도 17 : 프로세스 P51). 다음에, 도 18(a)에 도시하는 바와 같이, 제 1 기판(16a) 중 관찰측이 되는 면에, 예컨대 스핀코트법 등에 의해, 감광성 재료의 일종인 포지티브형의 감광성 수지(17')를 도포한다(도 17 : 프로세스 P52). 이 감광성 수지(17')로서는, 예컨대 PC405G(JSR 주식 회사 제품) 등이 바람직하다. 그 후, 제 1 기판(16a)에 도포한 감광성 수지(17')를 감압 환경 하에서 건조시킨다(도 17 : 프로세스 P53). 계속해서, 건조한 감광성 수지(17')를 100℃로부터 105℃의 범위로써 프리베이크한다(도 17 : 프로세스 P54).

다음에, 프리베이크한 감광성 수지(17')를, 마스크를 이용하여 노광한다(도 17 : 프로세스 P55). 여기서, 도 19는 노광에 이용되는 마스크(145)의 패턴을 도시하는 도면이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 마스크(145)는, 유리 등의 광투과성을 갖는 기판(146)에, 도면 중 사선으로 도시하는 Cr 등의 차광층(147)이 패터닝된 것이다. 마스크(145)에 있어서는, 액정 패널(2b)에서의 돗트 D의 각각에 대응하여, 동일한 패턴이 매트릭스 형상으로 마련되어 있다. 따라서, 이하, 마스크(145) 중 하나의 돗트 D에 대응하는 영역에 착안하여 설명한다.

도 19의 확대 도면에 표시되도록, 마스크(145) 중 하나의 돗트 D에 대응하는 영역에는, 수지층(17)을 형성하기 위한 두 가지의 투광부(차광층(147)이 마련되어 있지 않은 부분)가 포함된다. 즉, 중앙에 마련된 거의 직사각형의 개구용 투광부(146a)와, 그 주변에 마련되는 복수의 요철용 투광부(146b)이다. 이 중 개구용 투광부(146a)는, 수지층(17)의 개구부(125)를 형성하기 위한 것으로, 프리베이크된 감광성 수지(17') 중 개구부(125)에 대응하는 부분에 광을 조사시키기 위한 투과 영역이다. 또, 감광성 수지(17')는 포지티브형이기 때문에, 광이 조사되면, 그 부분은, 후술의 현상 공정에서 현상액에 용해되어 제거된다.

한편, 복수의 요철용 투광부(146b)의 각각은, 수지층(17)의 요철면(17c)을 형성하기 위한 미소한 투과 영역이며, 개구용 투광부(146a)의 둘레에서 거리 「d22」 이상 거리를 둔 영역에서 분산하도록 마련되어 있다. 바꿔 말하면, 마스크(145)에 있어서는, 개구용 투광부(146a)의 둘레에서 거리 「d22」만큼 외측으로 거리를 둔 경계선(145a)을 경계로 하여, 경계선(145a)에 둘러싸이는 영역 중,개구용 투광부(146a)를 제외하는 영역은 완전히 차광되어 있다. 이 완전히 차광된 영역(145b)은, 수지층(17)의 평탄면(17d)을 확보하기 위해서 마련되어 있고, 이것 이후, 편의적으로 「평탄면 형성용 영역」이라고 지칭하기로 한다.

이러한 마스크(145)로 노광하면, 도 18(b)에 도시하는 바와 같이, 마스크(145)의 각 요철용 투광부(146b)를 투과한 광은, 그 강도에 얼룩이 발생한 상태로, 감광성 수지(17') 상면 중 수지층(17)의 요철면(17c)에 대응되는 영역까지 도달한다. 이에 따라, 감광성 수지(17')에 있어서는, 도면 중 쇄선으로 표시되는 것 같은 매끄러운 요철면까지 광이 작용한다. 또, 요철용 투광부(146b)의 투과광에 의한 강도 얼룩은, 마스크(145)와 감광성 수지(17')의 갭(간극)이나, 요철용 투광부(146b)의 형상(크기), 또한, 그 개수 등을 조정함으로써 제어할 수 있다.

한편, 개구용 투광부(146a)를 투과한 광은, 감광성 수지(17') 중 개구부(125)에 대응하는 부분에 도달하고, 그 광은 감광성 수지(17')의 최하부까지 작용한다. 여기서, 마스크(145)에는, 평탄면 형성용 영역(145b)이 마련되어 있다. 이 때문에, 개구용 투광부(146a)를 투과한 광과, 요철용 투광부(146b)를 투과한 광은, 서로 간섭하는 일 없이, 감광성 수지(17')까지 도달하고, 감광성 수지(17') 중 수지층(17)의 평탄면(17d)에 대응하는 부분에는 광이 조사되지 않는다. 이에 따라, 감광성 수지(17')에 있어서는, 개구용 투광부(146a)에 의한 투과광이 작용하는 부분과, 작용하지 않는 부분의 경계면(132f)이 거의 평탄하게 되도록 노광된다.

이상과 같은 마스크(145)를 이용한 노광 처리의 후, 감광성 수지(17')에 현상 처리를 실시하면(도 17 : 프로세스 P56), 도 18(c)에 도시하는 것과 같은 감광성 수지(17')가 형성된다. 구체적으로는, 개구부(125) 외에, 평탄성을 갖는 평탄면(17d')과, 요철을 갖는 요철면(17c')을 포함하는 감광성 수지(17')가 형성된다. 여기서, 노광 공정에서 사용한 마스크(145)에는, 평탄면(17d')을 형성하기 위한 평탄면 형성용 영역(145b)이 마련되어 있다. 따라서, 현상된 감광성 수지(17')에 있어서는, 요철면(17c')은, 개구부(125)를 형성하는 측벽면(17e')으로부터 이간되도록 위치하고 있어, 측벽면(17e')은 평탄성을 갖고 있다.

이와 같이 본 실시예에 의하면, 감광성 수지(17') 중 개구부(125)의 측벽면(17e')이 거의 평탄하게 되도록 노광되어 있기 때문에, 종래 기술과 비교하여, 현상 시에 측벽면(17e')의 일부가 박리된다는 문제가 발생하지 않는다. 따라서, 반투과반사 기판(124)의 품질이 향상되고, 나아가서는 액정 장치(100)의 품질을 향상시키는 것이 가능해진다.

여기서, 감광성 수지(17')(수지층(17))에 있어서, 측벽면(17e')으로부터 요철면(17c')을 어느 정도 이간시켜야 하는지에 대하여 설명한다. 측벽면(17e')과 요철면(17c') 사이의 거리 d21은, 측벽면(17e')의 평탄성을 확보한다는 관점에서 보면 거리를 두고 있는 쪽이 바람직하지만, 반대로, 반사층(18)에 있어서의 산란 반사성을 확보한다는 관점에서 보면 가까운 쪽이 바람직하다. 본 발명자에 의하면, 거리 d21이 대략 「4㎛」 이상이면, 측벽면(17e')의 평탄성을 충분히 확보할 수 있는 것이 확인되어 있고, 또한, 거리 d21이 대략 「12㎛」 이하이면, 반사층(18)의 산란 반사성을 충분히 확보할 수 있는 것이 확인되어 있다. 따라서, 반사층(18)의 산란 반사성과, 측벽면(17e')의 평탄성의 양쪽을 확보한다는 관점에서 말하면, 거리 d21은 대략 「4∼12㎛」의 범위 내인 것이 바람직하다. 또, 거리 d21은, 마스크(145)(도 19 참조)에 있어서의 개구용 투광부(146a)의 둘레에서 경계선(145a)까지의 거리 d22를 조정함으로써 변경할 수 있다.

이렇게 하여, 감광성 수지(17')의 현상 공정이 종료하면, 이어서, 감광성 수지(17')에 UV를 조사한다. 본 실시예에서 이용한 감광성 수지(17')(PC405G)는, 황색을 띠고 있고, UV를 조사함으로써 황색이 제거되어 광투과성이 향상된다. 이것은, 혹시 가령 수지층(17)이 착색되어 있었다고 하면, 반투과반사 기판(124)에 있어서의 외광의 반사 시에, 그 색이 반사광에 반영되어 버리기 때문에, 그 개선을 목적으로 하고있다. 또, 이 공정은, 본 실시예에서 이용한 감광성 수지(17')에 대한 특유의 공정이며, 반투과반사 기판(124)의 제조에 있어서 필수적인 공정이 아니다.

이 다음, 감광성 수지(17')를, 예컨대 「220℃」로 50분간 포스트베이크한다(도 17 : 프로세스 P57). 이에 따라, 개구부(125)와, 요철면(17c)을 갖는 수지층(17)이 형성된다.

이어서, 도 18(d)에 도시하는 바와 같이, 제 1 기판(16a) 중 수지층(17)이 형성된 면에, 예컨대 스퍼터링(sputtering) 등에 의해, 반사층(18)이 되는 Al 또는 Al 합금을 거의 일정한 두께로, 수지층(17)을 덮도록 형성한다(도 17 : 프로세스 P58). 다음에, 도 18(e)에 도시하는 바와 같이, Al층 중 개구 부분을 제거할, 마스크(142)를 형성한다. 구체적으로는, 수지층(17)의 개구부(125)에 대응하는 부분이외의 영역을 마스크(142)로 덮는다. 그리고, Al층 중 마스크(142)로 덮여 있지않은 부분을 에칭한 후, 마스크(142)를 제거하면, 도 18(f)에 도시하는 바와 같이 개구부(125)와, 요철 형상의 산란 반사면(18b)을 갖는 산란 반사형의 반투과반사 기판(124)이 제조된다.

계속해서, 반사층(18)이 형성된 제 1 기판(16a) 상에 구조물을 형성하는 방법에 대하여 전술한 도 13을 참조하여 설명한다. 이상과 같이 하여 반사층(18)이 형성되면, 계속해서, 제 1 기판(16a)의 반사면측(관찰측)에, 예컨대 Cr로 이루어지는 박막을, 예컨대 스퍼터링법 등에 의해 형성한다. 이 다음, 포토리소그래피 기술 및 에칭 기술을 이용하여 박막을 패터닝함으로써, 격자 형상의 차광층(21)을 얻는다.

계속해서, 제 1 기판(16a)에서의 반사층(18) 상에 적색, 녹색 및 청색의 컬러 필터(150R, 150G, 150B)의 각각을, 매트릭스 형상으로 형성한다. 이들의 컬러 필터(150R, 150G, 150B)의 형성 방법에서는, 제 1 실시예에 있어서 설명한 바와 같이, 안료에 의해 착색된 감광성 수지에 의해 형성할 수 있다.

이어서, 컬러 필터(150R, 150G, 150B) 및 차광층(21)을 덮도록 ITO로 이루어지는 박막을 형성하고, 이것을 패터닝함으로써 데이터선(23a)을 형성한다. 그리고, 이들의 데이터선(23a)을 덮도록 배향막(24a)을 형성하여, 배향막(24a)의 표면에 연마 처리를 실시한다.

이상이 제 1 기판(16a) 상에 마련되는 각 구조물의 제조 방법이다. 이 제조 방법에 의해 획득된 제 1 기판(16a)과, 화소 전극(23b), 주사선(33), TFD(31) 및 배향막(24b)이 형성된 제 2 기판(16b)을, 서로 배향막(24b, 154)를 대향시킨 상태로 밀봉재(13)를 거쳐서 접합한다. 이어서, 양 기판(16a, 16b)과 밀봉재(13)에 의해서 둘러싸인 공간에 액정(14)을 주입하고, 그 후, 도시하지 않은 봉지재에 의해 액정(14)이 주입된 공간을 봉지한다. 그리고, 일체화된 제 2 기판(16b) 및 제 1 기판(16a) 각각의 외측의 면에, 위상차판(26a, 26b)과 편광판(27a, 27b)을 접착함으로써, 액정 표시 패널을 완성한다.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시예에 따른 제조 방법에 의하면, 수지층(17)(감광성 수지(17'))의 현상 처리 시에 수지편이 박리될 우려가 없기 때문에, 현상 공정에서, 감광성 수지(17')의 측벽면(17e')의 일부가 박리된다는 문제나, 일단 박리한 수지편이 감광성 수지(17')에 재부착된다는 문제 등의 불량을 해소할 수 있다. 이 결과, 수지층(17)의 박리에 기인하는, 액정 장치(100)의 품질 저하나, 불량 등이 발생하지 않는다.

또, 상술한 실시예는 어디까지나 예시이며, 상기 실시예에 여러 가지의 변형을 가하는 것이 가능하다. 변형예에서는, 예컨대 이하와 같은 것을 생각할 수 있다.

상술한 실시예에 있어서, 수지층(17)(반사층(18))에 형성된 개구부(125)는, 각 돗트 D의 거의 중앙에 위치하도록 형성되어 있지만, 이것에 한정되지 않는다. 예컨대, 도 20 및 도 21에 도시하는 바와 같이, 돗트 D의 네 모서리에, 개구부(125)를 하나씩 형성하더라도 좋고, 또한, 도 22 및 도 23에 도시하는 바와 같이, 돗트 D의 양측에 따라 개구부(125)를 1열씩 형성하더라도 좋다. 이와 같이 개구부(125)가 어느 쪽의 위치에 형성된 경우이더라도, 개구부(125)의 가장자리 단부에 따라 평탄면(17d)이 형성되도록 노광함으로써, 수지층(17)은, 그 측벽면(17e)이 거의 평탄하게 되도록 불용화(不溶化)된다. 이에 따라, 상기 실시예와 같이, 현상 공정에서, 수지층(17)(감광성 재료)의 박리가 발생할 우려가 없다.

또한, 상기 실시예에 따른 반투과반사 기판(124)은, 제 1 기판(16a), 수지층(17) 및 반사층(18)의 3층 구조인 것을 도시했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예컨대, 도 24는, 4층 구조의 반투과반사 기판(126)을 도시하는 부분단면도이다. 이 도면에 있어서, 수지층(17)과, 반사층(18) 사이에 마련된 중간층(135)은, 수지층(17)의 요철면(17c)의 경사 변화를 흡수하는 역할을 한다. 이러한 중간층(135)을 마련하는 것에 의해, 수지층(17)의 요철면(17c)이 가파른 경우에, 그 요철 형상을 완만한 모양으로 하면서, 수지층(17)의 요철 형상을 반사층(18)의 산란 반사면(18b)에 반영시킬 수 있다. 이에 따라, 반투과반사 기판(126)에 있어서 산란 반사면의 형상을, 산란 특성에 따라 형성할 수 있다.

추가하여, 상기 실시예에 있어서는, 노광에 의해 용해하는 포지티브형의 감광성 재료를 이용하여 반투과반사 기판(124)을 제조했지만, 노광에 의해 불용화하는 네거티브형의 감광성 재료를 이용하는 것으로도 가능하다. 도 25는 네거티브형의 감광성 수지를 이용하여 형성된 반투과반사 기판(128)의 단면도이다. 이 도면에 도시하는 바와 같이, 반투과반사 기판(128)은, 제 1 기판(16a)과, 복수의 수지층(수지층)(134)과, 중간층(136)과, 반사층(18)을 갖는다. 이 중, 각각의 수지층(134)은, 네거티브형의 감광성 수지에 의해 형성된 것으로, 기판(16a) 상에 있어서, 서로 이간된 위치로 돌출하도록 마련되어 있다. 중간층(136)은, 감광성재료 등이며, 개구부(125)를 제외한 영역에, 제 1 기판(16a)과 수지층(134)을 덮도록 박막 형성되어 있다. 이 중간층(136)의 표면은, 제 1 기판(16a)의 면과, 수지층(134)의 표면에 의한 요철이 반영된 요철 형상으로 되어 있고, 또한 그 위쪽에, 반사층(18)이 적층되어 있다.

여기서, 수지층(134)의 각각은, 그 제조 공정에 있어서, 기판(16a)면 중, 개구부(125)의 단부 근방에는 형성되지 않도록 노광 처리된 것이다. 따라서, 개구부(125)와, 수지층(134)이 형성되어 있는 영역 사이에는, 평탄면(120a)이 마련되어 있다고 할 수 있다. 여기서 가령, 평탄면(120a)을 고려하지 않고서 노광했다고 하면, 도 26에 도시하는 바와 같이, 수지층(512)이, 개구부(125)의 단부에 근접 배치되거나, 수지층(512)이, 개구부(125)의 단부를 초과하여 형성되거나 하기 때문에, 중간층(514)의 측벽면(514e) 근방과, 기판(16a)의 밀착성이 저하될 우려가 있다. 따라서, 중간층(514)의 형성 공정에서, 개구부(125)를 제거하기 위한 현상 시에, 측벽면(514e)의 일부가 박리될 가능성이 있다.

이것에 대하여, 도 25에 도시하는 반투과반사 기판(128)에 있어서, 평탄면(120a)에는, 수지층(134)이 형성되어 있지 않기 때문에, 그 중간층(136)의 현상 시에, 측벽면(136e)의 일부가 박리된다는 문제가 발생되지 않는다.

또한, 이상의 제 1 및 제 2 실시예에서는, TFD를 이용한 액정 장치에 본 발명을 적용했지만, 본 발명은, TFD 이외의 2 단자형 스위칭 소자를 이용한 액티브 매트릭스 방식의 액정 장치에도 적용할 수 있다. 또한, 본 발명은, TFT(Thin Film Transistor) 등의 3 단자형 스위칭 소자를 이용한 액티브 매트릭스 방식의 액정 장치에도 적용할 수 있다. 또한, 본 발명은, 스위칭 소자를 이용하지 않는 단순 매트릭스 방식의 액정 장치에도 적용할 수 있다.

또한, 상술한 실시예에서는, 전기 광학 장치로서, 액정 장치에 적용한 경우에 대하여 설명했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 전계 발광 장치, 특히, 유기 전계 발광 장치, 무기 전계 발광 장치 등이나, 플라즈마 디스플레이 장치, FED(field emission display) 장치, LED(light emission diode) 표시 장치, 전기 영동 표시 장치, 박형의 브라운 관, 액정 셔터(liquid crystal shutter) 등을 이용한 소형 텔레비전, 디지털 마이크로 미러 장치(digital micro-mirror devices : DMD)를 이용한 장치 등의 각종의 전기 광학 장치에 적용할 수 있다.

C. 제 3 실시예

다음에, 본 발명에 따른 전자 기기의 실시예를 도면을 이용하여 설명한다. 도 27은 전자 기기의 일실시예의 블럭도를 도시하고 있다. 여기에 도시하는 전자 기기는, 액정 장치(88)와, 이것을 제어하는 제어 수단(80)을 갖는다. 액정 장치(88)는, 제 1 실시예 혹은 제 2 실시예로 설명한 것과 같은 구조를 갖는 액정 패널(81)과, 반도체 IC 등으로 구성되는 구동 회로(82)를 갖는다. 또한, 제어 수단(80)은, 표시 정보 출력원(83)과, 표시 정보 처리 회로(84)와, 전원 회로(86)와, 타이밍 제너레이터(timing generator)(87)를 갖는다.

표시 정보 출력원(83)은, ROM(Read Only Memory)나 RAM(Random Access Memory) 등으로 이루어지는 메모리와, 자기 기록 디스크나 광 기록 디스크 등으로이루어지는 스토리지 유닛(storage unit)과, 디지털 화상 신호를 동조 출력하는 동조 회로를 갖는다.

타이밍 제너레이터(87)에 의해서 생성된 각종의 클럭 신호에 근거하여, 소정 포맷의 화상 신호 등의 형태로 표시 정보를 표시 정보 처리 회로(84)에 공급하도록 구성되어 있다.

표시 정보 처리 회로(84)는, 시리얼-패러랠 변환 회로, 증폭·반전 회로, 로테이션 회로, 감마 보정 회로, 클램프(clamp) 회로 등의 주지의 각종 회로를 구비하고, 입력한 표시 정보의 처리를 실행하여, 그 화상 정보를 클럭 신호 CLK와 함께 구동 회로(82)에 공급한다. 구동 회로(82)는, 주사선 구동 회로, 데이터선 구동 회로 및 검사 회로를 포함한다. 또한, 전원 회로(86)는, 상기 각 구성 요소에 각각 소정의 전압을 공급한다.

도 28은, 본 발명을 전자 기기의 일례인 휴대 전화기에 적용한 경우의 일실시예를 도시하고 있다. 여기에 도시하는 휴대 전화기(70)는, 본체부(71)와, 이것에 개폐 가능하게 마련된 표시체부(72)를 갖는다. 제 1 실시예 혹은 제 2 실시예로 설명한 것과 같은 구조를 갖는 액정 장치 등의 전기 광학 장치에 의해서 구성된 표시 장치(73)는, 표시체부(72)의 내부에 배치되고, 전화 통신에 따른 각종 표시는, 표시체부(72)로써 표시 화면(74)에 의해서 시인할 수 있다. 본체부(71)의 전면에는 조작 버튼(76)을 배열하여 마련할 수 있다.

표시체부(72)의 한쪽 단부에서 안테나(77)를 출몰하기 자유롭게 장착되어 있다. 수화부(78)의 내부에는 확성기(loudspeaker)가 배치되고, 송화부(79)의 내부에는 마이크가 내장되어 있다. 표시 장치(73)의 동작을 제어하기 위한 제어부는, 휴대 전화기의 전체의 제어를 담당하는 제어부의 일부로서, 또는 그 제어부와는 별도로, 본체부(71)또는 표시체부(72)의 내부에 저장된다.

도 29는, 전자 기기의 일례인 휴대 정보 기기에 본 발명을 적용한 경우의 실시예를 도시하고 있다. 여기에 도시하는 휴대 정보 기기(90)는, 터치 패널(touch panel)을 구비한 정보 기기이며, 전기 광학 장치로서, 제 1 실시예 혹은 제 2 실시예로 설명한 것과 같은 구조를 갖는 액정 장치(91)를 탑재하고 있다. 이 휴대 정보 기기(90)는, 액정 장치(91)의 표시면에 의해서 구성되는 표시 영역 V와, 그 표시 영역 V의 아래쪽으로 위치하는 제 1 입력 영역 WA1을 갖는다. 제 1 입력 영역 WA1에는 입력용 시트(92)가 배치되어 있다.

액정 장치(91)는, 직사각형 형상 또는 정방형 형상의 액정 패널과, 동일한 직사각형 형상 또는 정방형 형상의 터치 패널이 평면적으로 중첩되는 구조를 갖는다. 터치 패널은 입력용 패널로서 기능한다. 터치 패널은, 액정 패널보다도 크고, 이 액정 패널의 한쪽 단부에서 돌출된 형상으로 되어있다.

표시 영역 V 및 제 1 입력 영역 WA1에는 터치 패널이 배치되어 있고, 표시 영역 V에 대응하는 영역도, 제 1 입력 영역 WA1과 마찬가지로 입력 조작 가능한 제 2 입력 영역 WA2로서 기능한다. 터치 패널은, 액정 패널측에 위치하는 제 2 면과 이것에 대향하는 제 1 면을 갖고 있고, 제 1 면의 제 1 입력 영역 WA1에 상당하는 위치에 입력용 시트(92)가 접착되어 있다.

입력용 시트(92)에는 아이콘(93) 및 손으로 쓴 문자 인식 영역 WA3을 식별하기 위한 테두리가 인쇄되어 있다. 제 1 입력 영역 WA1에 있어서는, 입력용 시트(92)를 거쳐서 터치 패널의 제 1 면에 손가락이나 펜 등의 입력 수단으로 하중을 거는 것에 의해, 아이콘(93)의 선택이나 문자 인식 영역 WA3에서의 문자 입력 등의 데이터 입력을 할 수 있다.

한편, 제 2 입력 영역 WA2에 있어서는, 액정 패널의 상을 관찰할 수 있는 것 외에 액정 패널에 예컨대 입력 모드 화면을 표시하게 하여, 터치 패널의 제 1 면에 손가락이나 펜으로 하중을 거는 것에 의해, 그 입력 모드 화면 내의 적절한 위치를 지정할 수 있어, 이에 따라, 데이터 입력 등을 할 수 있다.

(그 밖의 실시예)

이상, 바람직한 실시예를 들어 본 발명을 설명했지만, 본 발명은 그 실시예에 한정되는 것이 아니고, 청구의 범위에 기재한 발명의 범위 내에서 여러가지로 개변할 수 있다.

예컨대, 본 발명에 따른 전자 기기로서는, 이상으로 설명한 휴대 전화기나 휴대 정보 기기 외에도, 컴퓨터, 프로젝터, 액정 텔레비젼, 디지털 스틸 카메라, 손목 시계, 차량 탑재 기기, 복사기, 오디오 기기, 기타 각종의 전자 기기의 표시부로서 이용할 수 있다.

본 발명에 의하면, 노광·현상 시에 박리 없이 수지층을 형성할 수 있는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법, 표면에 요철 형상을 갖는 광반사층을 갖는 전기 광학 장치용 기판, 그 전기 광학 장치용 기판을 이용한 전기 광학 장치, 그 전기 광학 장치를 이용한 전자 기기, 및 표면에 요철 형상을 갖는 하지층을 형성하기 위한 마스크를 제공한다.

Claims

표면에 요철부를 갖는 하지층과, 상기 하지층의 위에 마련되어, 광 반사성을 갖는 반사층을 갖는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법으로서,

기판에 감광성 재료를 도포하는 도포 공정과,

상기 감광성 재료의 표면에서, 폐영역(閉領域) 내이면서, 해당 폐영역의 윤곽선과 교차하지 않도록 해당 폐영역 내에 분산 배치된 복수의 고립 패턴의 외측에 있는 영역이 노광부 또는 비노광부의 한쪽이 되고, 다른 영역이 노광부 또는 비노광부의 다른 쪽이 되도록 상기 감광성 재료의 노광을 하는 노광 공정과,

상기 노광 공정에 의해 노광된 감광성 재료를 현상함으로써 상기 하지층을 형성하는 현상 공정과,

상기 하지층의 위에 광 반사성을 갖는 반사층을 형성하는 반사층 형성 공정

을 갖는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 폐영역이 해당 폐영역을 둘러싸는 제 1 윤곽선과 해당 제 1 윤곽선의 내측에 있는 제 2 윤곽선 사이에 끼인 폐영역인 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
제 2 항에 있어서,

상기 노광 공정에서, 상기 복수의 고립 패턴의 각각과 상기 제 2 윤곽선과의 거리의 최소값이, 4㎛ 이상이 되도록 노광하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
제 3 항에 있어서,

상기 노광 공정에서, 상기 복수의 고립 패턴의 각각과 상기 제 2 윤곽선과의 거리의 최소값이, 12㎛ 이하가 되도록 노광하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
제 2 항에 있어서,

상기 하지층의 위에, 해당 하지층의 표면에 형성된 요철 형상의 일부를 흡수하는 요철 흡수층을 형성하는 요철 흡수층 형성 공정을 더 갖고,

상기 반사층은, 상기 요철 흡수층 형성 공정에서 형성된 요철 흡수층의 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
제 3 항에 있어서,

상기 하지층의 위에, 해당 하지층의 표면에 형성된 요철 형상의 일부를 흡수하는 요철 흡수층을 형성하는 요철 흡수층 형성 공정을 더 갖고,

상기 반사층은, 상기 요철 흡수층 형성 공정에서 형성된 요철 흡수층의 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
제 4 항에 있어서,

상기 하지층의 위에, 해당 하지층의 표면에 형성된 요철 형상의 일부를 흡수하는 요철 흡수층을 형성하는 요철 흡수층 형성 공정을 더 갖고,

상기 반사층은, 상기 요철 흡수층 형성 공정에서 형성된 요철 흡수층의 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 노광 공정에서, 상기 복수의 고립 패턴의 각각과 상기 폐영역을 둘러싸는 윤곽선과의 거리의 최소값이 미리 결정된 범위 내에 있는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
제 8 항에 있어서,

상기 미리 결정된 범위는, 4㎛ 이상 12㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
제 8 항에 있어서,

상기 미리 결정된 범위는, 4㎛ 이상 7㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 현상 공정에서, 현상액이 상기 하지층에 샤워 형상으로 공급되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
청구항 1에 기재된 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
기판과,

상기 기판 상에 형성되어, 표면에 복수의 오목부 혹은 볼록부를 갖는 하지층과,

상기 하지층의 위에 형성되어, 광 반사성을 갖는 반사층

을 갖고,

상기 복수의 오목부 혹은 볼록부는, 상기 하지층의 가장자리 단부와 교차하지 않도록 형성되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판.
제 13 항에 있어서,

상기 하지층은, 광을 투과시키기 위한 투광부가 되는 개구부를 더 갖고,

상기 복수의 오목부 혹은 볼록부는, 상기 개구부의 가장자리 단부와 교차하지 않도록 형성되며,

상기 반사층은, 상기 하지층의 표면 상의 상기 개구부이외의 부분에 마련되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판.
제 13 항에 있어서,

상기 하지층의 가장자리 단부와, 그 내부에 상기 복수의 오목부 혹은 볼록부를 모두 포함하는 포락선(包絡線)과의 거리가 미리 결정된 범위 내에 있는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판.
제 15 항에 있어서,

상기 미리 결정된 범위는, 4㎛ 이상 12㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판.
청구항 13에 기재된 전기 광학 장치용 기판과,

상기 전기 광학 장치용 기판에 대향하는 대향 기판과,

상기 전기 광학 장치용 기판과 상기 대향 기판 사이에 마련된 전기 광학 물질을 갖는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
제 17 항에 있어서,

상기 전기 광학 장치용 기판 상에 마련된 제 1 전극과,

상기 대향 기판 상에 마련된 제 2 전극을 갖고,

상기 전기 광학 물질은 액정이며, 해당 액정은, 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 마련되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
청구항 17에 기재된 전기 광학 장치를, 표시부로서 갖는 것을 특징으로 하는 전자 기기.
표면에 오목부 및 볼록부를 갖는 하지층을 기판 상에 형성하기 위한 마스크에 있어서,

상기 볼록부에 대응하는 볼록부용 패턴과,

상기 오목부에 대응하는 오목부용 패턴을 갖고,

상기 하지층의 가장자리 단부는 상기 볼록부용 패턴의 가장자리 단부에 대응하고,

상기 오목부용 패턴은 해당 가장자리 단부에 교차하지 않는 것을 특징으로 하는 마스크.
표면에 오목부 및 볼록부를 갖는 하지층을 기판 상에 형성하기 위한 마스크에 있어서,

상기 볼록부에 대응하는 볼록부용 패턴과,

상기 오목부에 대응하는 오목부용 패턴을 갖고,

상기 볼록부용 패턴은 그 가장자리 단부가 상기 오목부용 패턴의 외측에 위치하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크.
표면에 오목부 및 볼록부를 갖는 하지층을 기판 상에 형성하기 위한 마스크에 있어서,

상기 볼록부에 대응하는 볼록부용 패턴과,

상기 오목부에 대응하는 오목부용 패턴을 갖고,

상기 볼록부용 패턴은 상기 오목부용 패턴을 둘러싸는 테두리 형상의 영역을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크.
제 20 항에 있어서,

상기 볼록부용 패턴의 가장자리 단부는, 상기 오목부용 패턴의 가장 외측에 위치하지만 외주로부터 4∼7㎛의 외측에 있는 것을 특징으로 하는 마스크.
제 21 항에 있어서,

상기 볼록부용 패턴의 가장자리 단부는, 상기 오목부용 패턴의 가장 외측에 위치하지만 외주로부터 4∼7㎛의 외측에 있는 것을 특징으로 하는 마스크.
제 22 항에 있어서,

상기 볼록부용 패턴의 가장자리 단부는, 상기 오목부용 패턴의 가장 외측에 위치하지만 외주로부터 4∼7㎛의 외측에 있는 것을 특징으로 하는 마스크.