KR20040024477A - 배선 구조의 제조 방법, 전기 광학 장치의 제조 방법,전기 광학 장치 및 전자 기기 - Google Patents
배선 구조의 제조 방법, 전기 광학 장치의 제조 방법,전기 광학 장치 및 전자 기기 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20040024477A KR20040024477A KR1020030062448A KR20030062448A KR20040024477A KR 20040024477 A KR20040024477 A KR 20040024477A KR 1020030062448 A KR1020030062448 A KR 1020030062448A KR 20030062448 A KR20030062448 A KR 20030062448A KR 20040024477 A KR20040024477 A KR 20040024477A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- layer
- electro
- wiring
- optical device
- connection terminal
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
- G02F1/133555—Transflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1345—Conductors connecting electrodes to cell terminals
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
Description
Claims (18)
- 제 1 층과 상기 제 1 층의 위에 적층된 제 2 층을 갖는 배선을 형성하는 공정과,상기 배선의 측벽을 적어도 덮고, 또한, 상기 제 2 층의 상면의 일부를 노출시키도록 상기 배선의 위에서부터 제 3 층을 에칭에 의해 패터닝하는 공정과,적어도 상기 제 2 층이 노출되어 있는 부분에 제 4 층을 형성하는 공정을 구비하되,상기 제 2 층은 상기 제 3 층의 에칭에 이용하는 에천트에 대하여 내식성(耐蝕性)을 갖는 한편, 상기 제 1 층은 상기 에천트에 대하여 침식성(侵蝕性)을 갖는 것을 특징으로 하는 배선 구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 층 및 상기 제 3 층은, 동일한 재료에 의해서 구성되는 것을 특징으로 하는 배선 구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 4 층을 형성하는 공정의 일부는, 산소를 포함하는 분위기 속에서 행해지고,상기 제 3 층과 상기 제 4 층의 계면에는, 상기 제 2 층의 단위 면적당 저항치와 비교하여 단위 면적당 저항치가 높은 산화막이 형성되며,상기 제 2 층의 재료는, 상기 제 3 층의 재료와 비교하여 산화되기 어려운 도전 재료를 이용하는 것을 특징으로 하는 배선 구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 배선은,상기 제 1 층의 아래에 하층을 갖는 3층 구조이고,상기 배선을 형성하는 공정은, 상기 하층, 상기 제 1 층 및 상기 제 2 층을 순서대로 패터닝하는 것을 특징으로 하는 배선 구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 층은 알루미늄을 포함하고,상기 제 2 층은 질화 티탄을 포함하며,상기 제 4 층은 산화 인듐 주석을 포함하는 것을 특징으로 하는 배선 구조의 제조 방법.
- 밀봉의 내측에 전기 광학 물질을 봉입하여 구성되는 전기 광학 장치의 제조 방법으로서,기판 상에 복수의 전극을 갖는 반도체 소자를 매트릭스 형상으로 형성하는 공정과,상기 밀봉의 외측에 형성되는 접속 단자와 접속되어, 제 1 층과 상기 제 1 층의 위에 적층된 제 2 층을 갖는 배선을 형성하는 공정과,상기 밀봉의 내측에 있어서, 상기 각 반도체 소자의 위에서부터 절연층을 형성하는 공정과,제 1 재료를 이용하여, 상기 각 반도체 소자에 대응하여 상기 절연층 위에 복수의 반사 전극을 형성하고 또한, 상기 배선의 측벽을 적어도 덮으며, 또, 상기 접속 단자의 일부에서는 상기 제 2 층을 노출시키도록 상기 배선의 위에서부터 제 3 층을 형성하는 공정과,제 2 재료를 이용하여, 상기 반사 전극을 덮도록 투명 전극을 형성하고 또한, 상기 밀봉의 외측에 위치하는 상기 배선 중, 적어도 상기 제 2 층이 노출되어 있는 부분의 위에서부터 제 4 층을 형성하는 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 제 1 층은 상기 제 1 재료에 의해서 구성되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,상기 투명 전극 및 상기 제 4 층을 형성하는 공정의 일부는, 산소를 포함하는 분위기 속에서 행해지고,상기 제 3 층과 상기 제 4 층의 계면에는, 상기 제 2 층의 단위 면적당 저항치와 비교하여 단위 면적당 저항치가 높은 산화막이 형성되며,상기 제 2 층의 재료는, 상기 제 3 층의 재료와 비교하여 산화되기 어려운 도전 재료를 이용하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,상기 배선은, 상기 제 1 층의 아래에 하층을 갖는 3층 구조이고,상기 배선을 형성하는 공정은, 상기 하층, 상기 제 1 층 및 상기 제 2 층을 순서대로 패터닝하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,상기 제 1 층은 알루미늄을 포함하고,상기 제 2 층은 질화 티탄을 포함하고,상기 제 1 재료는 알루미늄을 포함하고,상기 제 2 재료는 산화 인듐 주석을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 밀봉의 내측에, 전기 광학 물질이 봉입되고, 상기 밀봉의 외측에 접속 단자가 배치되어 구성되는 전기 광학 장치로서,상기 접속 단자는,제 1 층과,상기 제 1 층의 위에 적층된 제 2 층과,상기 제 1 층 및 상기 제 2 층의 측벽을 적어도 덮고, 또한, 상기 접속 단자의 일부에서 상기 제 2 층을 노출시키도록 형성된 제 3 층과,상기 제 2 층이 노출되어 있는 부분에 형성된 제 4 층을 구비한 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
- 제 11 항에 있어서,상기 전기 광학 장치는, 반사 도전성 재료에 의해서 구성된 반사 전극 및 투명 도전성 재료에 의해서 구성된 투명 전극에 의해 형성되는 화소를 구비하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 반사 전극과 상기 제 3 층은 동일한 반사 도전성 재료에 의해서 구성되고, 또한, 상기 투명 전극과 상기 제 4 층은 동일한 투명 도전성 재료에 의해서 구성되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
- 밀봉의 내측에, 전기 광학 물질이 봉입되고, 상기 밀봉의 외측에 접속 단자와 접속되는 배선이 배치되어 구성되는 전기 광학 장치로서,상기 배선은,제 1 층과,상기 제 1 층의 위에 적층된 제 2 층과,상기 제 1 층 및 상기 제 2 층의 측벽을 적어도 덮도록 형성된 제 3 층을 구비한 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
- 밀봉의 내측에 전기 광학 물질을 봉입하여 구성되는 전기 광학 장치로서,상기 밀봉의 내측에 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 반도체 소자와, 상기 각 반도체 소자에 대응하여, 반사 도전성 재료에 의해서 구성된 반사 전극 및 투명 도전성 재료에 의해서 구성된 투명 전극에 의해 형성되는 화소가 배치되고,상기 밀봉의 외측에 형성되는 접속 단자와, 제 1 층과 상기 제 1 층의 위에 적층된 제 2 층을 갖는 배선이 접속되어 배치되며,상기 접속 단자는,상기 제 1 층 및 상기 제 2 층의 측벽을 적어도 덮고, 또한, 적어도 상기 접속 단자의 일부에서는 상기 제 2 층을 노출시키도록 형성된 제 3 층과,상기 제 2 층이 노출되어 있는 부분에 형성된 상기 제 4 층을 구비하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 밀봉의 내측에 있어서,상기 반도체 소자의 위에 요철 형상을 갖는 유기 절연막을 구비하고,상기 반사 전극은, 상기 유기 절연막의 위에 형성되는 것에 의해 요철 형상을 갖고,상기 투명 전극은 상기 반사 전극을 덮도록 형성되고,상기 반사 전극과 상기 제 3 층은 동일한 반사 도전성 재료에 의해서 구성되고,상기 투명 전극과 상기 제 4 층은 동일한 투명 도전성 재료에 의해서 구성되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
- 제 16 항에 있어서,상기 배선은 상기 제 1 층의 아래에 하층을 구비하는 3층 구조로 구성되고,상기 하층은 티탄을 포함하고,상기 제 1 층은 알루미늄을 포함하고,상기 제 2 층은 질화 티탄을 포함하고,상기 반사 전극 및 상기 제 3 층은 알루미늄을 포함하고,상기 투명 전극과 상기 제 4 층은 산화 인듐 주석을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
- 청구항 16 또는 청구항 17에 기재된 상기 전기 광학 장치를 구비한 것을 특징으로 하는 전자 기기.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2002-00266973 | 2002-09-12 | ||
JP2002266973 | 2002-09-12 | ||
JPJP-P-2003-00200471 | 2003-07-23 | ||
JP2003200471A JP4036154B2 (ja) | 2002-09-12 | 2003-07-23 | 配線構造の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040024477A true KR20040024477A (ko) | 2004-03-20 |
KR100538858B1 KR100538858B1 (ko) | 2005-12-23 |
Family
ID=32109438
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2003-0062448A KR100538858B1 (ko) | 2002-09-12 | 2003-09-08 | 배선 구조의 제조 방법, 전기 광학 장치의 제조 방법,전기 광학 장치 및 전자 기기 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7098985B2 (ko) |
JP (1) | JP4036154B2 (ko) |
KR (1) | KR100538858B1 (ko) |
CN (1) | CN100489629C (ko) |
TW (1) | TWI250341B (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160141175A (ko) * | 2015-05-28 | 2016-12-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR20160141178A (ko) * | 2015-05-28 | 2016-12-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4036154B2 (ja) * | 2002-09-12 | 2008-01-23 | セイコーエプソン株式会社 | 配線構造の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
JP4610552B2 (ja) * | 2003-06-04 | 2011-01-12 | ティーピーオー、ホンコン、ホールディング、リミテッド | 液晶表示装置の製造方法 |
DE602004014000D1 (de) * | 2003-09-19 | 2008-07-03 | Tpo Hong Kong Holding Ltd | Transflektives display mit verbessertem kontrast |
US7309922B2 (en) * | 2003-10-20 | 2007-12-18 | Samsun Electronics Co., Ltd. | Lower substrate, display apparatus having the same and method of manufacturing the same |
JP2006047827A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示装置およびその製造方法 |
KR100686345B1 (ko) * | 2004-10-27 | 2007-02-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판표시소자 및 그 제조방법 |
JP4662350B2 (ja) * | 2005-07-21 | 2011-03-30 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
KR100730151B1 (ko) | 2005-09-30 | 2007-06-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판 표시 장치 |
TWI339442B (en) * | 2005-12-09 | 2011-03-21 | Samsung Mobile Display Co Ltd | Flat panel display and method of fabricating the same |
JP4544293B2 (ja) | 2007-11-28 | 2010-09-15 | ソニー株式会社 | 表示装置 |
KR20100024710A (ko) * | 2008-08-26 | 2010-03-08 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
TWI529949B (zh) * | 2008-11-28 | 2016-04-11 | 半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置和其製造方法 |
WO2010122689A1 (ja) * | 2009-04-23 | 2010-10-28 | シャープ株式会社 | 表示装置 |
US8964018B2 (en) * | 2009-10-30 | 2015-02-24 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Video display systems |
TWI424233B (zh) * | 2010-12-23 | 2014-01-21 | Au Optronics Corp | 陣列基板、基板模組以及顯示面板 |
WO2013105537A1 (ja) * | 2012-01-11 | 2013-07-18 | シャープ株式会社 | 半導体装置、表示装置、ならびに半導体装置の製造方法 |
KR102000209B1 (ko) * | 2012-11-16 | 2019-07-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치 및 표시장치의 제조방법 |
KR102169013B1 (ko) | 2013-12-17 | 2020-10-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막트랜지스터 어레이 기판, 유기 발광 표시 장치 및 박막트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법 |
JP2016095991A (ja) * | 2014-11-13 | 2016-05-26 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
US10032844B2 (en) | 2014-12-29 | 2018-07-24 | Lg Display Co., Ltd. | Organic light emitting display device and method of manufacturing the same |
KR102473631B1 (ko) * | 2016-03-02 | 2022-12-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 폴더블 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
KR101859484B1 (ko) * | 2016-05-30 | 2018-05-21 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그 제조 방법 |
CN109273483B (zh) | 2017-07-17 | 2021-04-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制备方法和显示装置 |
CN111972043B (zh) * | 2018-03-29 | 2023-08-01 | 夏普株式会社 | 显示装置及其制造方法 |
KR20220065949A (ko) * | 2020-11-13 | 2022-05-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06289414A (ja) | 1993-04-06 | 1994-10-18 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
KR100255591B1 (ko) * | 1997-03-06 | 2000-05-01 | 구본준 | 박막 트랜지스터 어레이의 배선 연결 구조 및 그 제조 방법 |
US5896359A (en) * | 1997-03-18 | 1999-04-20 | Northrop Grumman Corporation | Spinning disc volume holographic memory |
JP3805470B2 (ja) | 1997-03-24 | 2006-08-02 | 三菱電機株式会社 | 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置用tftアレイ基板の製造方法 |
JPH10335303A (ja) | 1997-05-28 | 1998-12-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
TW460599B (en) * | 1998-01-14 | 2001-10-21 | Toshiba Corp | Method for forming fine wiring pattern |
JP4240424B2 (ja) * | 1998-10-23 | 2009-03-18 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | エッチング剤及びこれを用いた電子機器用基板の製造方法 |
JP2000243834A (ja) | 1999-02-23 | 2000-09-08 | Seiko Epson Corp | 半導体装置及びその製造方法並びに電気光学装置 |
JP3362008B2 (ja) | 1999-02-23 | 2003-01-07 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
KR100312328B1 (ko) * | 1999-08-06 | 2001-11-03 | 구본준, 론 위라하디락사 | 반사투과형 액정 표시장치 |
JP2001188240A (ja) | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Sharp Corp | 透明導電膜を有する電子装置 |
JP2002162645A (ja) * | 2000-09-14 | 2002-06-07 | Sony Corp | 半透過型液晶表示装置 |
JP4036154B2 (ja) * | 2002-09-12 | 2008-01-23 | セイコーエプソン株式会社 | 配線構造の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
-
2003
- 2003-07-23 JP JP2003200471A patent/JP4036154B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-02 US US10/652,511 patent/US7098985B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-08 TW TW092124771A patent/TWI250341B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-09-08 KR KR10-2003-0062448A patent/KR100538858B1/ko active IP Right Grant
- 2003-09-12 CN CNB031570909A patent/CN100489629C/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160141175A (ko) * | 2015-05-28 | 2016-12-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR20160141178A (ko) * | 2015-05-28 | 2016-12-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040080688A1 (en) | 2004-04-29 |
JP4036154B2 (ja) | 2008-01-23 |
TWI250341B (en) | 2006-03-01 |
JP2004158826A (ja) | 2004-06-03 |
TW200408866A (en) | 2004-06-01 |
KR100538858B1 (ko) | 2005-12-23 |
CN100489629C (zh) | 2009-05-20 |
CN1488976A (zh) | 2004-04-14 |
US7098985B2 (en) | 2006-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100538858B1 (ko) | 배선 구조의 제조 방법, 전기 광학 장치의 제조 방법,전기 광학 장치 및 전자 기기 | |
US8149365B2 (en) | Upper substrate and liquid crystal display device having the same | |
US7570340B2 (en) | Transflective LCD device and fabrication method thereof | |
US7528917B2 (en) | Liquid crystal display device having structure of color filter on TFT and using in plane switching mode | |
US8115894B2 (en) | Transflective liquid crystal display device and method for manufacturing the same | |
JP5467565B2 (ja) | 電気光学装置、電子機器、カラーフィルタ基板及び製造方法 | |
JP4045878B2 (ja) | カラーフィルタ基板、電気光学装置及び電子機器 | |
JP4525011B2 (ja) | 電気光学装置の製造方法 | |
US20040189905A1 (en) | Display | |
JP4052293B2 (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
US20050124087A1 (en) | Method for manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic equipment | |
JP5121488B2 (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP2004069826A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP4511248B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP4528531B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2004109597A (ja) | 電気光学装置および電子機器 | |
KR100862075B1 (ko) | 액정 표시 장치 | |
KR100995581B1 (ko) | 컬러필터기판, 이를 갖는 액정표시장치 및 이의 제조방법 | |
JP2008268412A (ja) | 液晶装置、液晶装置の製造方法並びに電子機器 | |
JP2004333754A (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器 | |
JP2006058633A (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
KR20040110386A (ko) | 액정표시장치 | |
JP2005241696A (ja) | 液晶装置、液晶装置の製造方法、電子機器 | |
JP2003005196A (ja) | 液晶装置、その製造方法および電子機器 | |
JP2002207210A (ja) | 液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置および電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121121 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131119 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141120 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151118 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161123 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171114 Year of fee payment: 13 |