KR20020017997A - 반사방지막을 갖는 광학부재 - Google Patents

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Abstract

플라스틱 재질 및 이 재질상에 제공된 λ/4-λ/2-λ/4 또는 λ/4-λ/4-λ/2-λ/4형(λ-500nm)의 반사방지막을 포함하는 광학부재로, 상기 λ/2층이 적어도 3개의 층을 함유하고 1.80 내지 2.40의 굴절률을 갖는 고굴절 등가막이며, 상기 등가막의 짝수층이 SiO2층이다. 플라스틱 재질 상에 반사방지막을 갖는 광학부재는 탁월한 열저항성을 갖는다.

Description

반사방지막을 갖는 광학부재{OPTICAL ELEMENT HAVING ANTIREFLECTION FILM}
본 발명은 반사방지막을 갖는 광학부재에 관한 것으로, 보다 상세하게는 탁월한 열저항성을 갖는 플라스틱 재질상에 반사방지막을 갖는 광학부재에 관한 것이다.
종래에 플라스틱 재질상에 형성된 반사방지막을 갖는 광학부재는 공지되어 있다. 예를 들면, 일본특허 공개번호 291501/1990가 반사방지막으로 형성된 광학부재를 기술한 것으로, 이는 주성분로 티타늄(titanium) 이산화물을 함유하는 λ/2의 고굴절층을 갖는다.
그러나, 일반적으로 플라스틱 재질상에 제공된 반사방지막을 갖는 상기 광학부재의 열저항성은, 유리 재질상에 제공된 반사방지막을 갖는 광학부재와 비교하여, 탁월하지 않은 것으로, 상기 형성물이 증착하는 동안 열처리 될 수 없기 때문이다. 그러므로, 플라스틱 재질상에 제공된 반사방지막을 구비하며 향상된 열저항성을 갖는 광학부재가 요구된다.
본 발명은 플라스틱 재질에 반사방지막을 구비하며 탁월한 열저항성을 갖는광학부재를 제공할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 상기에 기술한 바와 같은 종래 요구사항을 감안하여 제안된 것으로서, 결과적으로 고굴절층 및 실리콘 이산화물과 같은 저반사기질로 제조된 층을 이용하여, 상기 광학부재의 열저항성이 적어도 3개층의 등가막에 대한 새로운 수단을 통해 현저히 향상된다.
보다 상세하게, 본 발명은 반사방지막을 갖는 광학부재를 제공하는 것으로, 이는 플라스틱 재질상에 λ/4-λ/2-λ/4 또는 λ/4-λ/4-λ/2-λ/4형(λ-500nm)이 제공된 반사방지막과 플라스틱 재질을 포함하는데, 이때 상기 λ/2층은 적어도 3개의 층을 함유하며 1.80 내지 2.40의 굴절률을 갖는 등가막이며, 상기 등가막의 짝수층은 실리콘 이산화물층이다.
등가막은 색다른 안정성 물질에서 유도된 다수의 층을 포함하는 막이다. 단일층만을 사용해서는 획득될 수 없다하더라도, 등가막을 이용하면 원하는 광학특성(예컨대 굴절률)을 얻을 수 있다.
본 발명에서, 상기 λ/2의 고굴절층이 3층 등가막이면, 탁월한 열저항성 및 반사방지성을 갖는 광학부재가 수득된다. 또한 열저항성 및 반사방지성을 향상시키기 위하여, 상기 λ/2의 고굴절층은 3개층 이상의 등가막으로 제조된다.
탁월한 열저항성 및 반사방지성을 획득함으로써, 상기 λ/2 등가막의 홀수층은 티타늄 산화물, 지르코늄 산화물, 탄탈륨 산화물, 니오븀 산화물과 같은 공지된고굴절성 증착물을 함유하는 층이 바람직하고, TiO2, Ta2O5및 Nb2O5에서 선택된 적어도 하나의 증착물로 제조된 층이 보다 더 바람직하며, 증착물로는 Nb2O5층이 가장 바람직하다. 생산효율면에서, 상기 모든 홀수층이 동일한 막성분을 갖는 것이 바람직하다.
최종 λ/2 고굴절층의 굴절률은 1.80 내지 2.40의 범위이며, 보다 나은 물리적 특성을 위해서는 1.85 내지 2.25의 범위가 바람직하다. λ/2 고굴절층의 막 구성은 한정된 범위의 굴절률을 만족하도록 제조된다.
본 발명에서, λ/2 고굴절층 위에 형성되는 λ/4층은 실리콘 이산화물층인 것이 바람직하다. λ/2 고굴절층 아래에 형성되는 λ/4층은 탁월한 반사방지성 및 열저항성을 위해 적어도 2층의 등가막인 것이 바람직하다. 상기 막은 티타늄 산화물, 지르코늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물과 같은 고굴절 증착물층 및 실리콘 이산화물층으로 제조된 2층형 등가막 또는 실리콘 이산화물층 및 니오븀 산화물층으로 제조된 2층형 등가막으로 구성되는 것이 바람직하다.
생산 효율면에서 바람직하게는, λ/4 등가막을 형성하는 증착물의 원료가 λ/2 등가막을 형성하는 증착물의 원료와 같다.
바람직한 니오븀 산화물층을 형성하는 데 있어서, 이온-어시스트공정에 따라 층을 형성하도록 증착물에 대해 100% 니오븀 산화물을 이용하는 방법, 또는 니오븀 산화물, 지르코늄 산화물 및 이트륨 산화물을 함유하며 선택적으로 알루미늄 산화물을 함유하는 파우더를 소결하고, 소결된 물질에서 산화 혼합물의 증기를 발생시키고, 재질상에 이를 증착시키는 방법이 사용되는 것이 바람직하다.
재질에 증착시키는 방법에서, 막의 탁월한 물리적 특성을 확보하기 위해서는, 상기 소결된 물질의 혼합 비율은 니오븀 산화물이 증착 성분 전체량의 60 내지 90%이고, 이트륨이 5 내지 35%인 것이 바람직하다. 알류미늅 산화물이 첨가되는 경우, 상기 총량이 지르코늄 산화물 및 이트륨 산화물 전체량의 0.3 내지 7.5가 되는 것이 바람직하다.
바람직하게, 본 발명의 광학부재는 플라스틱 재질과 반사방지막 사이에 제공된 기본층을 갖는다. 실리콘 이산화물 또는 금속 니오븀이 상기 기본층에 적절하며, 금속 니오븀이 보다더 적절한다. 실리콘 이산화물층의 경우, 이의 막 두께가 막 강도측면에서 0.1 내지 5λ인 것이 바람직하다; 금속 니오븀의 경우, 이의 막 두께가 막 투명도를 확보하기 위해서는 0.005 내지 0.015인 것이 바람직하다.
금속 니오븀의 바람직한 기본층은 플라스틱 재질과 반사방지막 사이에 우수한 접착성을 확보하는 잇점이 있어, 열 저항성, 충격 저항성 및 마모 저항성을 가지게되며, 금속에 대한 흡수성이 낮다. 바람직하게는, 상기 금속 니오븀(Nb)층이 이온-어시스트공정에서 형성된다.
상기 이온-어시스트공정에서, 아르곤(Ar)이 형성된 막의 산화를 간섭하는 이온화 가스로 적절하다. 이는 광학막 두께 미터을 사용하여 상기 막의 두께를 용이하게 조절 가능하게 하고 형성된 막의 성질을 안정화시킨다.
상기 플라스틱 재질과 기본층간의 우수한 접착성을 확보하며, 이온-어시스트공정에서 증착의 초기막 구조에 대한 탁월한 균일성을 확보하기 위해, 플라스틱 재질은 기본층이 형성되기전에 이온 건(gun) 예비처리된다. 상기 이온 건 예비처리에서 이온화된 가스는 산소 또는 Ar이 되기도한다. 바람직한 전력 범위에 있어서, 가속전압이 50 내지 200V이며, 가속전류가 50 내지 150mA이다.
일반적인 증착법, 이온-어시스트공정 또는 그와 유사한 방법은 본 발명의 광학부재에서 반사방지막을 형성하기 위해 사용된다.
본 발명의 광학 재질에 사용되는 플라스틱 재질은 특별히 제한되지는 않으나, 예컨대 메틸 메타크릴레이트 호모폴리머, 메틸 메타크릴레이트와 다수의 그외 모노머의 코폴리머, 디에틸렌 글리콜 비살릴 카르보네이트 호모폴리머, 디에틸렌 글리콜 비스알릴 카르보네이트와 다수의 그외 모노머의 코폴리머, 할로겐 함유 코폴리머, 폴리카르보네이트, 폴리스티렌, 폴리비닐 클로라이드, 불포화 폴리에스테르, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 및 폴리우레탄을 포함한다.
요구된 경우, 본 발명의 광학부재는 플라스틱 재질과 기본층 사이에 경화된 필름을 구비하기도한다.
상기 경화된 필름에 있어서, 일반적으로 금속 산화물 콜로이드 입자 및 오르가노실리콘 화합물을 포함하는 코팅성분을 경화함으로써 제조된다.
상기 금속 산화물 콜로이드 입자는, 예를들어 텅스텐 산화물(WO3), 징크 산화물(ZnO), 실리콘 산화물(SiO2), 알루미늄 산화물(Al2O3), 티타늄 산화물(TiO2), 지르코늄 산화물(ZrO2), 틴 산화물(SnO2), 베릴륨 산화물(BeO) 또는 안티모니 산화물(Sb2O5)의 콜로이드 입자이다. 단일 또는 다수의 메탈 산화물은 단독으로 또는 둘이상으로 혼합되어 사용된다.
또한 본 발명은 반사방지막을 갖는 광학부재를 제공하는 것으로, 이는 제공된 λ/4-λ/2-λ/4 형의 반사방지막 및 기본층을 갖는 플라스틱 재질을 포함하는데, 여기서
상기 기본층 및 반사방지막은 기본층(제 1층) 및 λ/4(제 2 및 제 3층) - λ/2(제 4 내지 제 6층) - λ/4(제 7층)의 제 1 내지 제 7층 구조이며, 하기에 기술된 조건 a) 내지 j) 중 적어도 하나를 만족한다.
a) 제 1층이 1.43 내지 1.47의 굴절률을 갖는 실리콘 이산화물층이다.
b) 제 2층이 2.04 내지 2.37의 굴절률을 갖는 고굴절층이다.
c) 제 3층은 1.43 내지 1.47의 굴절률을 갖는 실리콘 이산화물층이다.
d) 제 4층은 2.04 내지 2.37의 굴절률을 갖는 고굴절층이다.
e) 제 5층은 1.43 내지 1.47의 굴절률을 갖는 실리콘 이산화물층이다.
f) 제 6층은 2.04 내지 2.37의 굴절률을 갖는 고굴절층이다.
g) 제 7층은 1.43 내지 1.47의 굴절률을 갖는 실리콘 이산화물층이다.
h) λ/4(제 2 및 제 3층)의 최종 굴절률이 1.65 내지 1.80이다.
i) λ/2(제 4 내지 제 6층)의 최종 굴절률이 1.85 내지 2.25이거나, 또는
j) 고굴절층(제 2, 제 4 및 제 6층)들이 티타늄 산화물, 니오븀 산화물 및 탄탈륨 산화물에서 선택된 적어도 하나의 금속 산화물로 각각 구성된다.
본 발명의 광학부재에 대한 바람직한 실시예는 아래의 구조 (a) 내지 (c)을 참조하여 상세히 설명한다.
표 1
구조 (a)
플라스틱 재질 굴절률 범위
제 1층(SiO2층) 기본층 1.43 내지 1.47
제 2층(고굴절층) λ/4 2.04 내지 2.37 최종 굴절률1.65 내지 1.80
제 3층(SiO2층) 1.43 내지 1.47
제 4층(고굴절층) λ/2 2.04 내지 2.37 최종 굴절률1.85 내지 2.25
제 5층(SiO2층) 1.43 내지 1.47
제 6층(고굴절층) 2.04 내지 2.37
제 7층(SiO2층) λ/4 1.40 내지 1.47
구조 (b)
플라스틱 재질 굴절률 범위
제 1층(SiO2층) 기본층 1.43 내지 1.47
제 2층(고굴절층) λ/4 2.04 내지 2.37 최종 굴절률1.65 내지 1.80
제 3층(SiO2층) 1.43 내지 1.47
제 4층(고굴절층) λ/2 2.04 내지 2.37 최종 굴절률1.85 내지 2.25
제 5층(SiO2층) 1.43 내지 1.47
제 6층(고굴절층) 2.04 내지 2.37
제 7층(SiO2층) 1.43 내지 1.47
제 8층(고굴절층) 2.04 내지 2.37
제 9층(SiO2층) λ/4 1.43 내지 1.47
구조 (c)
플라스틱 재질 굴절률 범위
제 1층(금속 니오븀층) 기본층막 두께: 0.005λ 내지0.015λ 1.40 내지 1.47
제 2층(SiO2층) λ/4 1.43 내지 1.47 최종 굴절률1.65 내지 1.80
제 3층(고굴절층) 2.04 내지 2.37
제 4층(SiO2층) 1.43 내지 1.47
제 5층(고굴절층) λ/2 2.04 내지 2.37 최종 굴절률1.85 내지 2.25
제 6층(SiO2층) 1.43 내지 1.47
제 7층(고굴절층) 2.04 내지 2.37
제 8층(SiO2층) λ/4 1.43 내지 1.47
실시예
본 발명은 다음의 실시예를 참조하여 보다 상세히 기술되며, 이는 본 발명의 특허청구 범위를특별히 제한하기 위한 것은 아니다.
다음의 실시예 1 내지 6에서 광학부재의 물리적 특성은 하기에 기술된 방법에 따라 측정된다.
(1) 시감 투과율:
Hitachi,Ltd.,사의 U-3410, 분광 광도계를 이용하여, 양면상에 반사방지막을 갖는 플라스틱 렌즈 샘플로서의 시감투과율 Y를 측정한다.
(2) 시감 반사율:
Hitachi,Ltd.,사의 U-3410, 분광 광도계를 이용하여, 양면상에 반사방지막을 갖는 플라스틱 렌즈 샘플로서의 시감반사율 Z를 측정한다.
(3) 접착도:
절삭기를 이용하여, 플라스틱 렌즈면을 각각 1mm*1mm인 100절단면이 되도록 절삭한다. 접착테이프인 셀로테이프를 상기 절단면에 붙이고, 타격을 가하여 벗겨낸다. 잔류된 다수의 절단면은 접착도를 나타내는 (잔류된 다수의 절단면)/100으로 계산하여 다음 표에 나타낸다.
(4) 내마모도:
플라스틱 렌즈면은 제공된 1 kgf/cm2무게의 스틸 울로 마모시킨다. 20번의 마찰 후, 상기 플라스틱 렌즈면의 상태를 다음 기준에 따라 분석한다.
UA : 약간 긁힘.
A : 얇은 긁힌 자국이 소수 발견됨.
B : 다수의 얇은 긁힌 자국과 소수의 두꺼운 긁힌 자국이 발견됨.
C : 다수의 얇은 및 두꺼운 긁힌 자국이 발견됨.
D : 거의 완전히 벗겨짐.
(5) 열저항도:
플라스틱 렌즈를 건조 오븐기에 1시간동안 열처리하며, 여기서 열분해된 온도를 관찰한다. 특히, 50℃에서 최초 열처리하고, 5℃ 간격으로 온도를 상승시키면서 열분해된 온도를 관찰한다.
(6) 알칼리 저항도:
플라스틱 렌즈를 수성 10% NaOH 용액에 1시간동안 침염시키고, 상기 표면 상태을 다음 기준에 따라 분석한다.
A : 벗겨진 점이 소수 발견됨.
B : 표면 전반에 벗겨진 점이 다수 발견됨.
C : 표면 전반에 벗겨진 점이 다수 발견되고, 벗겨진 정방형부분이 다소 발견됨.
D : 거의 완전히 벗겨짐.
(7) 충격저항도:
중앙두께가 2.0 mm이고 렌즈 파워가 0.00인 플라스틱 렌즈를 준비하여 FDA라 하는 방울 볼 테스트를 수행한다. "O"은 우수한 샘플을 나타내며; "X"는 불량 샘플을 나타낸다.
실시예 1 내지 6
재질 A 및 경질 피막층 A의 조합
콜로이드 실리카의 90 중량부(Nissan Chemical Industries, Ltd.에서 제조된 Snowtex-40), 메틸트림에톡시실란의 81.6 중량부 및 γ-글리시드옥시프로필트림에톡시실란의 176 중량부로 된 오르가노실리콘 화합물, 0.5 N 염산의 2.0 중량부, 아세트산의 20 중량부 및 물 90 중량부를 유리 용기에 채우고, 상기 용액을 실온에서 8시간동안 휘젓는다. 그 후, 가수분해된 용액을 얻기 위해 최종 용액을 실온에서 16시간동안 방치한다. 상기 용액에 이소프로필 알콜의 120 중량부, n-부틸 알콜의 120 중량부, 알루미늄 아세틸아세톤의 16 중량부, 실리콘 계면 활성제의 0.2 중량부, UV 흡수제의 0.1 중량부를 첨가한다. 상기 혼합물에 실온에서 8시간동안 휘젓은 후, 코팅액을 얻기 위해 실온에서 24시간동안 경시변화시킨다.
수성 알칼린 용액으로 예비처리된 플라스틱 렌즈 재질(디에틸렌 글리콜 비스알릴 카르보네이트에서 제조되며, 1.50의 굴절률을 가짐, 중앙 두께가 2.0mm이고, 렌즈 파워가 0.00임-이는 하기 재질 A를 참조함)은 코팅액에 침염시킨다. 상기 침염이 완료되면, 플라스틱 렌즈를 20cm/min의 풀링율로 꺼낸다. 그 후, 상기 플라스틱 렌즈가 경화된 막을 형성하도록 120℃에서 2시간동안 열처리한다. 그 다음, 최종 플라스틱 렌즈를 표 1 내지 6에 나타난 바와 같은 이온 가속 전압 및 노출 시간 조건하에 Ar 가스를 이용하여 이온-어시스트공정에 따른 이온 건 처리에 적용시키고, 경화된 경질 피낙층(A 층 참조)을 구비하도록 한다.
기본층 및 반사방지막의 형성
그 다음, 표 1 내지 3에 나타난 바와 같이 제 1 내지 제 8층으로 구성된 기능막은, 표 1 내지 3에 나타난 바와 같은 조건하에서 이온-어시스트공정에 따라, 경질 피막층 A상에 형성됨으로써, 플라스틱 렌즈를 획득하게 된다.
상기 플라스틱 렌즈는 상술된 테스트방법 (1) 내지 (7)에 따라 분석되며, 그 결과는 테이브 1 내지 6에 나타나있다. 상기 표에서, λ는 제공된 광원의 파장을 나타내는 것으로, λ = 500nm이다. 실시예 1 내지 6에서의 λ/4 및 λ/2의 최종 굴절률은 표 8에 나타나있다.
표 1
실시예 1 실시예 2
플라스틱 렌즈 재질 디에틸렌 글리콜 비스알릴카르보네이트 (재질 A) 디에틸렌 글리콜 비스알릴카르보네이트 (재질 B)
경질 피막층 A 층 A 층
예비처리에 대한 이온 가속 전압 150 V 150 V
전류 100 mA 100 mA
노출시간 60 sec 60 sec
사용된 가스 Ar Ar
막 타입 막 두께 이온 건의설정량 막 타입 막 두께 이온 건의설정량
제 1층 기본층 Nb 0.008 λ 150 V 100 mA Nb 0.008λ 150 V 100 mA
제 2층 λ/4 SiO2 0.0157 λ 450 V 160 mA SiO2 0.044λ 450 V 160 mA
제 3층 TiO2 0.0567 λ 360 V 105 mA TiO2 0.058λ 360 V 105 mA
제 4층 SiO2 0.098 λ 450 V 160 mA SiO2 0.097λ 450 V 160 mA
제 5층 λ/2 TiO2 0.2329 λ 360 V 105 mA TiO2 0.196λ 360 V 105 mA
제 6층 SiO2 0.0218 λ 450 V 160 mA SiO2 0.047λ 450 V 160 mA
제 7층 TiO2 0.2215 λ 360 V 105 mA TiO2 0.176λ 360 V 105 mA
제 8층 λ/4 SiO2 0.2509 λ 450 V 160 mA SiO2 0.260λ 450 V 160 mA
이온-어시스트공정용 가스 TiO2에 O2/Ar(1/1)가스가 혼합된 Nb 및 SiO2의 Ar가스 TiO2에 O2/Ar(1/1)가스가 혼합된 Nb 및 SiO2의 Ar가스
플라스틱 렌즈의 분석 결과
시감 반사율, Y% 0.68 % 0.82 %
시감 투과율, Z% 99.3 % 99.0 %
접착도 100/100 100/100
내마모도 UA 내지 A UA 내지 A
열저항도 100 ℃ 100 ℃
알칼리 저항도 UA 내지 A UA 내지 A
충격 저항도 O O
표 2
실시예 3 실시예 4
플라스틱 렌즈 재질 디에틸렌 글리콜 비스알릴카르보네이트 (재질 A) 디에틸렌 글리콜 비스알릴카르보네이트 (재질 B)
경질 피막층 A 층 A 층
예비처리에 대한 이온 가속 전압 150 V 150 V
전류 100 mA 100 mA
노출시간 60 sec 60 sec
사용된 가스 Ar Ar
막 타입 막 두께 이온 건의설정량 막 타입 막 두께 이온 건의설정량
제 1층 기본층 Nb 0.008 λ 150 V 100 mA Nb 0.008λ 150 V 100 mA
제 2층 λ/4 SiO2 0.0292 λ 450 V 160 mA SiO2 0.0209λ 450 V 160 mA
제 3층 Ta2O5 0.0189 λ 420 V 120 mA Ta2O5 0.052λ 420 V 120 mA
제 4층 SiO2 0.5840λ 450 V 160 mA SiO2 0.1084λ 450 V 160 mA
제 5층 λ/2 Ta2O5 0.1336 λ 420 V 120 mA Ta2O5 0.1880λ 420 V 120 mA
제 6층 SiO2 0.0593λ 450 V 160 mA SiO2 0.0484λ 450 V 160 mA
제 7층 Ta2O5 0.2498λ 420 V 120 mA Ta2O5 0.1820λ 420 V 120 mA
제 8층 λ/4 SiO2 0.2623 λ 450 V 160 mA SiO2 0.2681λ 450 V 160 mA
이온-어시스트공정용 가스 Ta2O5에 O2/Ar(9/1)가스가 혼합된 Nb 및 SiO2의 Ar가스 Ta2O5에 O2/Ar(9/1)가스가 혼합된 Nb 및 SiO2의 Ar가스
플라스틱 렌즈의 분석 결과
시감 반사율, Y% 0.80 % 0.80 %
시감 투과율, Z% 99.1 % 99.1 %
접착도 100/100 100/100
내마모도 UA UA
열저항도 95 ℃ 95 ℃
알칼리 저항도 UA UA
충격 저항도 O O
표 3
실시예 5 실시예 6
플라스틱 렌즈 재질 디에틸렌 글리콜 비스알릴카르보네이트 (재질 A) 디에틸렌 글리콜 비스알릴카르보네이트 (재질 B)
경질 피막층 A 층 A 층
예비처리에 대한 이온 가속 전압 150 V 150 V
전류 100 mA 100 mA
노출시간 60 sec 60 sec
사용된 가스 Ar Ar
막 타입 막 두께 이온 건의설정량 막 타입 막 두께 이온 건의설정량
제 1층 기본층 Nb 0.008 λ 150 V 100 mA Nb 0.008λ 150 V 100 mA
제 2층 λ/4 SiO2 0.0209 λ 450 V 160 mA SiO2 0.0209λ 450 V 160 mA
제 3층 Nb2O5 0.0527 λ 360 V 105 mA Nb2O5 0.0527λ 360 V 105 mA
제 4층 SiO2 0.1084 λ 450 V 160 mA SiO2 0.1084λ 450 V 160 mA
제 5층 λ/2 Nb2O5 0.1880 λ 360 V 105 mA Nb2O5 0.1880λ 360 V 105 mA
제 6층 SiO2 0.0484 λ 450 V 160 mA SiO2 0.0484λ 450 V 160 mA
제 7층 Nb2O5 0.1820 λ 360 V 105 mA Nb2O5 0.1820λ 360 V 105 mA
제 8층 λ/4 SiO2 0.2681 λ 450 V 160 mA SiO2 0.2681λ 450 V 160 mA
이온-어시스트공정용 가스 Nb2O5에 O2/Ar(9/1)가스가 혼합된 Nb 및 SiO2의 Ar가스 Nb2O5에 O2/Ar(9/1)가스가 혼합된 Nb 및 SiO2의 Ar가스
플라스틱 렌즈의 분석 결과
시감 반사율, Y% 0.68 % 0.68 %
시감 투과율, Z% 99.3 % 99.0 %
접착도 100/100 100/100
내마모도 UA 내지 A UA 내지 A
열저항도 100 ℃ 100 ℃
알칼리 저항도 UA 내지 A UA 내지 A
충격 저항도 O O
실시예 7 내지 24, 및 비교실시예 1 내지 6
실시예 7 내지 24 및 비교실시예 1 내지 6에서 얻어진 광학부재의 불리한 특성은 하기에 기술된 방법에 따라 분석된다.
(1) 증착조성물의 용해 상태
상기 용해 상태는 다음의 기준에 따라 측정된다.
UA : 전혀 스플래시(splash)되지않음.
A : 약간 스플래시됨.
B : 종종 스플래시됨.
C : 항상 스플래시됨.
(2) 밀입자의 부착상태
스플래시에 의한 렌즈면상의 밀입자 부착상태로 다음의 기준에 따라 측정된다.
UA : 밀입자가 발견되지 않음.
A : 1 내지 5 군데에서 밀입자가 발견됨.
B : 6 내지 10 군데에서 밀입자가 발견됨.
C : 11 또는 그 이상 군데에서 밀입자가 발견됨.
(3) 알칼리 저항성 테스트
플라스틱 렌즈를 수성 10% NaOH 용액에 침염시킨다. 30분 및 60분이 경과하면, 상기 렌즈는 코팅막이 벗겨지는 것과는 상관없이, 또한 렌즈면이 거칠어지는 것과는 상관없이 측정된다.
UA : 벗겨진 점이 거의 발견되지않음.
A : 크기가 0.1mm에 지나지않는 작은 벗겨진 점들이 전체 표면상에 발견되거나, 또는 지름이 0.3mm인 몇개의 벗겨진 점들이 발견됨.
B : 벗겨진 점들이 A열보다 높은 곳에 밀집되어 있고, 큰 벗겨진 점들의 부분이 A열보다 높음.
C : 크기가 0.3mm인 원형의 벗겨진 점들이 상기 표면 전반에서 발견되거나, 또는 작은 벗겨진 점들의 밀도가 높음.
D : 벗겨진 점들이 상기 표면 전반에 다수 발견되고, 표면이 백색으로 보임. 상기 샘플 외에 모든 하위 점들이 D열에 있음.
(4) 내마모성 테스트
플라스틱 렌즈면은 #0000의 스틸 울로 문지른다. 10회 문지른 후, 상기 플라스틱 렌즈면의 상태는 다음의 기준에 따라 측정된다.
UA : 약간 긁힘.
A : 조금 긁힘.
B : 많이 긁힘.
C : 코팅막이 부풀어오름.
(5) 접착성 테스트
JIS-Z-1522에 따라, 플라스틱 렌즈면은 10*10 절단면이 되도록 절삭되며, 접착 테이프, 셀로테이프로 절단 필링으로 3번 실험한다. 잔류된 절단면의 수를 센다.
(6) 시감 반사율
Hitachi, Ltd,.사에서 제조된 U-3410, 분광 광도계를 사용하여, 플라스틱렌즈의 시감 반사율인, Y를 측정한다.
(7) 시감 투과율
Hitachi, Ltd,.사에서 제조된 U-3410, 분광 광도계를 사용하여, 플라스틱렌즈의 시감 투과율인, Z를 측정한다.
(8) 흡수도
플라스틱 렌즈의 흡수도는 100%에서 시감 반사율 및 시감 투과율을 빼서 얻는다.
(9) 열저항도 테스트
증착막을 형성한 후 즉시 반사방지막을 갖게 광학부재는 오븐에서 1시간동안 열처리하고, 열분해여부를 관찰한다. 특히, 50℃에서 최초 열처리하며, 상기 온도는 5℃ 간격으로 높힌고, 열분해된 온도를 측정한다.
시간 경과에 따른 열저항도 테스트에 있어서, 증착막을 형성한 후 즉시 반사방지막을 갖게되는 광학부재는 2달동안 공기에 노출시키고, 상술된 바와 같은 동일한 열저항도 테스트에서 측정한다.
재질 A와 경질 피막층 A의 조합
실시예 1 내지 6와 동일한 방식으로, 재질 A와 경질 피막층 A를 조합시킨다.
재질 B와 경질 피막층 B의 조합
오르가노실리콘 화합물의 142중량부, γ-글리시드옥시프로필트림에톡시실란을 유리용기에 채우는데, 여기에는 0.01 N 염산염의 1.4 중량부와 물의 32 중량부가 첨가되어 섞여졌다. 상기 첨가가 완료된 후, 혼합물은 가수분해된 γ-글리시드옥시프로필트림에톡시실란 용액을 얻기 위해 24시간동안 휘젓는다. 상기 용액에 있어서, (메탄올에서 확산되고, 전체 금속 산화물 함량이 31.5 중량%이고, 평균 입자크기가 10 내지 15 밀리마이크론인)주석 산화-지르코늄 산화물 합성 솔(sol)의 460 중량부, 에틸 셀로솔브의 300 중량부, 실리콘 계면활성제, 윤활유의 0.7 중량부 및 알루미늄 아세틸아세토네이트, 경화제의 8 중량부를 첨가한다. 잘 휘저은 후, 상기 혼합물은 코팅제를 조제하기 위해 필터시킨다.
그 다음, 플라스틱 렌즈 재질(Hoya사에서 제조된 (상품명)EYAS인 안경에 대한 플라스틱 렌즈로, 굴절률이 1.60에 지나지않는다-이는 하기의 "재질 B"를 참조)는, 수성 알칼린 용액으로 예비처리된 것으로, 코팅액에 침염시킨다. 침염 후, 플라스틱 렌즈를 20cm/min의 풀링률로 꺼낸다. 또한, 상기 플라스틱 렌즈는 경질 피막층("B층" 참조)을 형성하도록 120℃에서 2시간동안 열처리한다.
재질 C와 경질 피낙층 C의 조합
오르가노실리콘 화합물의 100중량부, γ-글리시드옥시프로필트림에톡시실란를 유리용기에 채우는데, 여기에는 0.01 N 염산염의 1.4 중량부와 물의 23 중량부가 첨가되어 섞여졌다. 상기 첨가가 완료된 후, 혼합물은 가수분해된 γ-글리시드옥시프로필트림에톡시실란 용액을 얻기 위해 24시간동안 휘젓는다. 그 다음, 무기물 미립자의 200 중량부, 티타늄 산화물의 주성분 입자의 합성 솔, 지르코늄 산화물 및 (메탄올에서 확산되고, 전체 고형부 함량이 20 중량%이고, 평균 입자 크기가 5 내지 15 밀리마이크론인-여기서, 중심 밀입자에서의 Ti-Si 원자율이 10이며, 중심 껍질의 중량비율이 0.25임)실리콘 산화물을 에틸 셀로솔브의 100 중량부, 실리콘 계면활성제, 윤활유의 0.5 중량부 및 알루미늄 아세틸아세토네이트, 경화제의 3.0 중량부를 첨가한다. 최종 혼합물은 가수분해된 γ-글리시드옥시프로필트림에톡시실란 용액에 첨가시키고, 잘 휘젓는다. 상기 혼합물은 코팅제를 조제하기 위해 필터시킨다.
그 다음, 플라스틱 렌즈 재질(Hoya사에서 제조된 (상품명)TESLAID인 안경에 대한 플라스틱 렌즈로, 굴절률이 1.71임-이는 하기의 "재질 C"를 참조)는, 수성 알칼린 용액으로 예비처리된 것으로, 코팅액에 침염시킨다. 침염 완료 후, 플라스틱 렌즈를 20cm/min의 풀링률로 꺼낸다. 또한, 상기 플라스틱 렌즈는 경질 피막층("B층" 참조)을 형성하도록 120℃에서 2시간동안 열처리한다.
기본층과 반사방지막의 조합
그 다음, 표 4 내지 7에 도시된 바와 같이 멀티층 기능막은 표 4 내지 7의 공정 조건에 따라 경질 피막층 A, B 또는 C상에 형성된다. 이에 따라, 플라스틱 렌즈를 획득하게 된다.
상기 플라스틱 렌즈는 상술된 (1) 내지 (7) 테스트 방법에 따라 분석되며, 그 결과는 표에 나타나있다. 상기 표에서, λ은 제공된 광원의 파장을 나타내는 것이며, λ=500nm이다.
실시예 7 내지 12에서, 표의 조성물 A는 이온-어시스트공정에 따르지 않는 막 구조에 적용된다. 상기 막은 실시예 13 내지 18에서 조성물 A로 만들어진 상기 막과, 실시예 19 내지 24에서의 니오븀 산화물층은 이온-어시스트공정에 따라 형성되는 것으로, 여기서 산소/아르곤의 비율은 9/1이며, 이온 건 조건은 320 A 및 140 mA이다. 실시예 25 내지 27에서, 고굴절 재질은 티타늄 산화물이며, 이의 막은 이온-어시스트공정에 따르지 않는다.
표 4 및 5에서 실시예 7 내지 18의 조성물 A는 Nb2O5파우더, ZrO2파우더 및 Y2O3파우더인 3성분 증착법으로 만들어지며, 그 다음 1300℃의 온도에서 300kg/cm2의 압력 조건(중량 기준으로 Nb2O5/ ZrO2/ Y2O3= (76 내지 90 %) / (16.6 내지 5 %) / (7.4 내지 5 %))하에서 상기 혼합물을 소결시킨다.
실시예 1 내지 27에서 λ/4 및 λ/2인 등가막의 최종 굴절률들은 표 8에 도시되어 있다.
비교실시예 1 내지 2에서, 탄탈륨 산화물은 고굴절 증착 재질으로 사용된다. 여기서, 실리콘 이산화물로 된 기본층; 탄탈륨 산화물층 및 실리콘 이산화물층으로 된 λ/4의 2층 등가막; λ/2의 탄탈륨 산화물층; λ/4의 실리콘 이산화물층이 형성된다.
비교실시예 3에서, 경질 피막층 C, 재질 C, 및 고굴절 증착 재질으로서의 탄탈륨 산화물이 사용된다. 여기서, 실리콘 이산화물로 된 제3층; 탄탈륨 산화물층 및 실리콘 이산화물층으로 된 λ/4의 2층 등가막; λ/2의 탄탈륨 산화물층; λ/4의 실리콘 이산화물층이 형성된다.
비교실시예 4 및 5에서, 티타늄 산화물은 고굴절 증착 재질으로 사용된다. 여기서, 실리콘 이산화물로 된 기본층; 티타늄 산화물층 및 실리콘 이산화물층으로 된 λ/4의 2층 등가막; λ/2의 티타늄 산화물층; λ/4의 실리콘 이산화물층이 형성된다.
비교실시예 6에서, 경질 피막층 C, 재질 C, 및 고굴절 증착 재질으로서의 티타늄 산화물이 사용된다. 여기서, 실리콘 이산화물로 된 제3층; 티타늄 산화물층 및 실리콘 이산화물층으로 된 λ/4의 2층 등가막; λ/2의 티타늄 산화물층; λ/4의 실리콘 이산화물층이 형성된다. 상기 비교실시예 1 내지 6에서, 상기 막은 이온-어시스트공정에 따라 형성된 것이 아니다.
결과적으로, 비교실시예 1, 2 및 3는 각각 실시예 22, 23 및 24의 열저항성보다 열등하다.
표 4
실시예 7 실시예 8 실시예 9 실시예 10 실시예 11 실시예 12
플라스틱렌즈 재질 재질 A 재질 B 재질 C 재질 A 재질 B 재질 C
경질피막층 A층 B층 C층 A층 B층 C층
제 1층 막 두께(λ) 기본층 SiO20.459 SiO20.4568 SiO20.0698 SiO20.801 SiO20.6121 SiO20.1123
제 2층 막 두께(λ) λ/4 조성물 A0.0458 조성물 A0.0549 조성물 A0.0407 조성물 A0.032 조성물 A0.0465 조성물 A0.0287
제 3층 막 두께(λ) SiO20.0809 SiO20.0671 SiO20.5275 SiO20.102 SiO20.1004 SiO20.5762
제 4층 막 두께(λ) λ/2 조성물 A0.14 조성물 A0.1194 조성물 A0.1179 조성물 A0.143 조성물 A0.16 조성물 A0.1035
제 5층 막 두께(λ) SiO20.0597 SiO20.0543 SiO20.0873 SiO20.0584 SiO20.0519 SiO20.1017
제 6층 막 두께(λ) 조성물 A0.172 조성물 A0.1658 조성물 A0.1731 조성물 A0.1603 조성물 A0.1685 조성물 A0.1484
제 7층 막 두께(λ) λ/4 SiO20.2795 SiO20.2673 SiO20.2839 SiO20.287 SiO20.2911 SiO20.309
증착조성물의 용해상태 UA UA UA UA UA UA
증착된밀입자의 부착상태 UA UA UA UA UA UA
알칼리저항성 UA UA UA UA UA UA
내마모성 UA UA UA UA UA UA
접착성 100 100 100 100 100 100
시감 반사율 Y(%) 0.84 0.84 0.92 0.8 1.02 1.05
시감 투과율 Z(%) 99.01 99 98.9 99 98.74 98.7
흡수도, 100-Y-Z(%) 0.15 0.16 0.18 0.2 0.24 0.25
열저항성(℃) 100 110 100 100 110 100
공기에 2달동안 노출신킨 후의 열저항성(℃) 85 95 85 85 95 85
표 5
실시예 13 실시예 14 실시예 15 실시예 16 실시예 17 실시예 18
플라스틱렌즈 재질 재질 A 재질 B 재질 C 재질 A 재질 B 재질 C
경질피막층 A층 B층 C층 A층 B층 C층
제 1층 막 두께(λ) 기본층 SiO20.3101 SiO20.4156 SiO20.0886 SiO20.7431 SiO20.5869 SiO20.087
제 2층 막 두께(λ) λ/4 조성물 A0.0374 조성물 A0.0118 조성물 A0.0446 조성물 A0.0355 조성물 A0.0317 조성물 A0.0424
제 3층 막 두께(λ) SiO20.113 SiO20.091 SiO20.5784 SiO20.1308 SiO20.0898 SiO20.5797
제 4층 막 두께(λ) λ/2 조성물 A0.1616 조성물 A0.0932 조성물 A0.1112 조성물 A0.1568 조성물 A0.1288 조성물 A0.1013
제 5층 막 두께(λ) SiO20.0586 SiO20.1036 SiO20.0961 SiO20.069 SiO20.0816 SiO20.1058
제 6층 막 두께(λ) 조성물 A0.1815 조성물 A0.1362 조성물 A0.1615 조성물 A0.176 조성물 A0.1487 조성물 A0.1438
제 7층 막 두께(λ) λ/4 SiO20.2668 SiO20.2906 SiO20.282 SiO20.2763 SiO20.2888 SiO20.2824
증착조성물의 용해상태 UA UA UA UA UA UA
증착된밀입자의 부착상태 UA UA UA UA UA UA
알칼리저항성 UA UA UA UA UA UA
내마모성 UA UA UA UA UA UA
접착성 100 100 100 100 100 100
시감 반사율 Y(%) 0.8 0.84 0.81 0.8 1.02 1.08
시감 투과율 Z(%) 99.05 99.01 99 99.01 98.75 98.68
흡수도, 100-Y-Z(%) 0.15 0.17 0.19 0.19 0.23 0.24
열저항성(℃) 105 120 105 105 120 105
공기에 2달동안 노출신킨 후의 열저항성(℃) 90 105 90 90 105 90
표 6
실시예 19 실시예 20 실시예 21 실시예 22 실시예 23 실시예 24
플라스틱렌즈 재질 재질 A 재질 B 재질 C 재질 A 재질 B 재질 C
경질피막층 A층 B층 C층 A층 B층 C층
제 1층 막 두께(λ) 기본층 SiO20.3101 SiO20.4156 SiO20.0886 SiO20.0478 SiO20.4729 SiO20.074
제 2층 막 두께(λ) λ/4 Nb2O50.0458 Nb2O50.0549 Nb2O50.0407 Ta2O50.032 Ta2O50.0465 Ta2O50.0287
제 3층 막 두께(λ) SiO20.0809 SiO20.0671 SiO20.5275 SiO20.102 SiO20.1004 SiO20.5762
제 4층 막 두께(λ) λ/2 Nb2O50.14 Nb2O50.1194 Nb2O50.1179 Ta2O50.143 Ta2O50.16 Ta2O50.1035
제 5층 막 두께(λ) SiO20.0597 SiO20.0543 SiO20.0873 SiO20.0584 SiO20.0519 SiO20.1017
제 6층 막 두께(λ) Nb2O50.172 조성물 A0.1658 Nb2O50.1731 Ta2O50.1603 Ta2O50.1685 Ta2O50.1484
제 7층 막 두께(λ) λ/4 SiO20.2795 SiO20.2673 SiO20.2839 SiO20.287 SiO20.2911 SiO20.309
증착조성물의 용해상태 B B B UA UA UA
증착된밀입자의 부착상태 UA UA UA UA UA UA
알칼리저항성 UA UA UA UA UA UA
내마모성 UA UA UA UA UA UA
접착성 100 100 100 100 100 100
시감 반사율 Y(%) 0.8 0.84 0.81 0.99 1.02 1.05
시감 투과율 Z(%) 99.05 99.01 99 98.85 98.74 98.7
흡수도, 100-Y-Z(%) 0.15 0.17 0.19 0.16 0.24 0.25
열저항성(℃) 105 120 105 100 110 100
공기에 2달동안 노출신킨 후의 열저항성(℃) 90 105 90 85 95 85
표 7
실시예 25 실시예 26 실시예 27
플라스틱 렌즈 재질 재질 A 재질 B 재질 C
경질 피막층 A층 B층 C층
제 1층 막두께(λ) 기본층 SiO20.51 SiO20.421 SiO20.079
제 2층 막두께(λ) λ/4 TiO20.0435 TiO20.0224 TiO20.275
제 3층 막두께(λ) SiO20.1089 SiO20.0972 SiO20.5761
제 4층 막두께(λ) λ/2 TiO20.1468 TiO20.1327 TiO20.135
제 5층 막두께(λ) SiO20.0689 SiO20.0768 SiO20.102
제 6층 막두께(λ) TiO20.1474 TiO20.1665 TiO20.143
제 7층 막두께(λ) λ/4 SiO20.2716 SiO20.291 SiO20.2954
증착조성물의용해상태 UA UA UA
증착된 밀입자의부착상태 UA UA UA
알칼리 저항성 UA 내지 A UA 내지 A UA 내지 A
내마모성 A A A
접착성 100 100 100
시감 반사율Y(%) 0.84 0.081 0.81
시감 투과율Z(%) 99.0 99.02 99
흡수도,100-Y-Z (%) 0.16 0.17 0.19
열저항성(℃) 90 110 95
공기에 2달동안 노출시킨 후의 열저항성(℃) 70 90 75
표 8
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 실시예 5 실시예 6
1/4λ 1.75 내지 1.80 1.70 내지 1.75 1.65 내지 1.70 1.65 내지 1.70 1.70 내지 1.75 1.70 내지 1.75
1/2λ 2.20 내지 2.25 2.05 내지 2.10 2.0 내지 2.05 2.0 내지 2.05 2.05 내지 2.10 2.05 내지 2.10
실시예 7 실시예 8 실시예 9 실시예 10 실시예 11 실시예12
1/4λ 1.70 내지 1.75 1.70 내지 1.75 1.65 내지 1.70 1.67 내지 1.72 1.70 내지 1.75 1.65 내지 1.70
1/2λ 2.05 내지 2.10 2.05 내지 2.10 2.0 내지 2.05 2.05 내지 2.10 2.05 내지 2.10 2.0 내지 2.05
실시예 13 실시예 14 실시예 15 실시예 16 실시예 17 실시예 18
1/4λ 1.70 내지 1.75 1.65 내지 1.70 1.65 내지 1.70 1.72 내지 1.77 1.72 내지 1.77 1.65 내지 1.70
1/2λ 2.05 내지 2.10 2.0 내지 2.05 2.05 내지 2.10 2.05 내지 2.10 2.0 내지 2.05 2.05 내지 2.10
실시예 19 실시예 20 실시예 21 실시예 22 실시예 23 실시예 24
1/4λ 1.70 내지 1.75 1.65 내지 1.70 1.65 내지 1.70 1.65 내지 1.70 1.70 내지 1.75 1.65 내지 1.70
1/2λ 2.05 내지 2.10 2.0 내지 2.05 2.05 내지 2.10 1.95 내지 1.20 1.90 내지 1.95 1.85 내지 1.90
실시예 25 실시예 26 실시예 27
1/4λ 1.70 내지 1.75 1.70 내지 1.75 1.65 내지 1.70
1/2λ 2.0 내지 2.05 2.0 내지 2.05 1.95 내지 2.00
표 9
비교실시예 1 비교실시예 2 비교실시예 3 비교실시예 4 비교실시예 5 비교실시예 6
플라스틱 렌즈 재질 재질 A 재질 B 재질 C 재질 A 재질 B 재질 C
경질 피막층 A층 B층 C층 A층 B층 C층
제 1층 막 두께(λ) SiO20.515 SiO20.481 SiO20.561 SiO20.49 SiO20.462 SiO20.0727
제 2층 막 두께(λ) Ta2O50.0781 Ta2O50.0636 Ta2O50.0335 TiO20.0632 TiO20.0598 TiO20.026
제 3층 막 두께(λ) SiO20.0429 SiO20.0588 SiO20.522 SiO20.086 SiO20.0803 SiO20.525
제 4층 막 두께(λ) Ta2O50.4204 Ta2O50.4205 Ta2O50.054 TiO20.488 TiO20.5044 TiO20.061
제 5층 막 두께(λ) SiO20.247 SiO20.2351 SiO20.054 SiO20.249 SiO20.0781 SiO20.049
제 6층 막 두께(λ) Ta2O50.421 TiO20.486
제 7층 막 두께(λ) SiO20.253 SiO20.248
증착 조성물의 용해상태 A A A UA UA UA
증착된밀입자의부착상태 UA UA UA UA UA UA
알칼리저항성 UA UAA UA B B B
내마모성 UA UAA UA B B B
접착성 100 100 100 100 100 100
시감 반사성 Y(%) 1.05 1.1 1.05 0.98 0.93 0.97
시감 투과성 Z(%) 98.71 98.65 98.6 98.8 98.78 98.67
흡수도, 100-Y-Z (%) 0.24 0.25 0.35 0.22 0.29 0.36
열저항성(℃) 85 110 85 70 95 80
공기에 2달동안 노출시킨 후의 열저항성(℃) 55 85 60 45 70 50
본 발명의 반사방지막을 갖는 광학부재는 탁월한 시감 반사성, 시감 투과성. 접착성, 내마모성, 알칼릴 저항성 및 충격저항성의 잇점을 포함하며, 향상된 열저항성의 잇점을 추가로 구비한다.
또한 본 발명은 λ/4-λ/2-λ/4 또는 λ/4-λ/4-λ/2-λ/4형(λ-500nm)의 반사방지막을 제공하는 것으로, 상기 λ/2층은 굴절률이 1.80 내지 2.40이고 적어도 3개의 층을 함유하는 등가막이며, 상기 등가막의 짝수층은 실리콘 이산화물층이다. 상기 λ/2 등가막의 홀수층은 티타늄 산화물, 지르코늄 산화물, 니오븀 산화물 및 탄탈륨 산화물에서 선택된 적어도 하나의 금속 산화물층인 것이 바람직하며, 니오븀 산화물이 더욱 바람직하다.
상기와 같이, 본 발명의 방법에 따라 제조된 반사방지막을 갖는 광학부재는 탁월한 열저항성 및 반사방지성을 갖는다. 이러한 본 발명의 반사방지막 및 이를 구비한 광학부재는 안경재질로 유용하게 사용된다.

Claims (15)

  1. 플라스틱 재질 및 이 재질 위에 λ/4-λ/2-λ/4 또는 λ/4-λ/4-λ/2-λ/4형 (λ-500nm) 반사방지막을 순서대로 포함하는 것으로, 상기 λ/2층이 적어도 3개의 층을 함유하고 1.80 내지 2.40의 굴절률을 갖는 등가막이고 상기 등가막의 짝수층이 실리콘 이산화물층인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 λ/2 등가막의 홀수층이 티타늄 산화물, 지르코늄 산화물, 니오븀 산화물 및 탄탈륨 산화물에서 선택된 적어도 하나의 금속 산화물로 제조된 층인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 학부재.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 λ/2 등가막의 홀수층이 니오븀 산화물로 제조된 층인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 λ/2층 아래에 형성된 λ/4층이 적어도 2층의 등가막인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 λ/4층이 상기 λ/2의 홀수 및 짝수층에 사용된 동일한 금속 산화물층으로 구성된 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 λ/4의 등가막이 니오븀 산화물로 된 층 및 실리콘 이산화물로 된 층으로 구성된 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
  7. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,
    기본층이 플라스틱 재질과 반사방지막 사이에 제공된 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 기본층이 금속 니오븀으로 제조된 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
  9. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
    기본층 및 이것에 제공된 λ/4-λ/2-λ/4형 반사방지막을 갖는 플라스틱 재질을 포함하는 것으로,
    상기 기본층 및 반사방지막은 기본층(제1층) 및 λ/4(제2층 및 3층) - λ/2(제4층 내지 6층) - λ/4(제7층)의 제1층 내지 7층의 구성으로 되며, 다음의 a) 및 j)의 조건;
    a) 제1층은 굴절률이 1.43 내지 1.47인 실리콘 이산화물층,
    b) 제2층은 굴절률이 2.04 내지 2.37인 고굴절층,
    c) 제3층은 굴절률이 1.43 내지 1.47인 실리콘 이산화물층,
    d) 제4층은 굴절률이 2.04 내지 2.37인 고굴절층,
    e) 제5층은 굴절률이 1.43 내지 1.47인 실리콘 이산화물층,
    f) 제6층은 굴절률이 2.04 내지 2.37인 고굴절층,
    g) 제7층은 굴절률이 1.43 내지 1.47인 실리콘 이산화물층,
    h) λ/4(제2층 및 3층)의 최종 굴절률이 1.65 내지 1.80,
    i) λ/2(제4층 내지 6층)의 최종 굴절률이 1.85 내지 2.25, 또는
    j) 고굴절층(제2층, 4층 및 6층)들이 티타늄 산화물, 니오븀 산화물 및 탄탈륨 산화물에서 선택된 적어도 하나의 금속 산화물로 각각 구성되는 조건 중에서 적어도 하나를 만족하는 것으로된 반사방지막을 갖는 광학부재.
  10. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
    기본층 및 이것에 제공된 λ/4-λ/2-λ/4형 반사방지막을 갖는 플라스틱 재질을 포함하는 것으로,
    상기 기본층 및 반사방지막은 기본층(제1층) 및 λ/4(제2층 및 3층) - λ/2 (제4층 내지 6층) - λ/4(제7층)의 제1층 내지 7층의 구성으로 되며, 여기서
    제1층은 굴절률이 1.43 내지 1.47인 실리콘 이산화물층,
    제2층은 굴절률이 2.04 내지 2.37인 고굴절층,
    제3층은 굴절률이 1.43 내지 1.47인 실리콘 이산화물층,
    제4층은 굴절률이 2.04 내지 2.37인 고굴절층,
    제5층은 굴절률이 1.43 내지 1.47인 실리콘 이산화물층,
    제6층은 굴절률이 2.04 내지 2.37인 고굴절률층,
    제7층은 굴절률이 1.43 내지 1.47인 실리콘 이산화물층,
    λ/4(제2층 및 3층)의 최종 굴절률이 1.65 내지 1.80,
    λ/2(제4층 내지 6층)의 최종 굴절률이 1.85 내지 2.25, 또한
    고굴절층(제2층, 4층 및 6층)들이 티타늄 산화물, 니오븀 산화물 및 탄탈륨 산화물에서 선택된 적어도 하나의 금속 산화물로 각각 구성되는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
  11. λ/4-λ/2-λ/4 또는 λ/4-λ/4-λ/2-λ/4형(λ-500nm) 반사방지막으로서, 상기 λ/2층이 적어도 3개의 층을 함유하고 1.80 내지 2.40의 굴절률을 갖는 등가막이며 상기 등가막의 짝수층이 실리콘 이산화물층인 것을 특징으로 하는 반사방지막.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 λ/2 등가막의 홀수층이 티타늄 산화물, 지르코늄 산화물, 니오븀 산화물 및 탄탈륨 산화물에서 선택된 적어도 하나의 금속 산화물로 제조된 층인 것을 특징으로 하는 반사방지막.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 λ/2 등가막의 홀수층이 니오븀 산화물로 제조된 층인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
  14. 제1항 내지 10항 중 어느 한 항에 따른 반사방지막을 갖는 광학부재를 안경에 사용하는 방법.
  15. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 반사방지막을 안경에 사용하는 방법.
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