JPS60225101A - プラスチツク製光学部品 - Google Patents

プラスチツク製光学部品

Info

Publication number
JPS60225101A
JPS60225101A JP59082543A JP8254384A JPS60225101A JP S60225101 A JPS60225101 A JP S60225101A JP 59082543 A JP59082543 A JP 59082543A JP 8254384 A JP8254384 A JP 8254384A JP S60225101 A JPS60225101 A JP S60225101A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
optical
mixture
sio
plastics
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59082543A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirozo Tani
谷 博蔵
Hiroshi Uchino
浩志 内野
Sadao Akatsuka
赤柄 定男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minolta Co Ltd filed Critical Minolta Co Ltd
Priority to JP59082543A priority Critical patent/JPS60225101A/ja
Publication of JPS60225101A publication Critical patent/JPS60225101A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115Multilayers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプラスチックレンズやプラスチックのハ′−フ
ミラーなど、プラスチックからなる光学部品に関する。
従来、レンズなと光学部品の表面に、表面保護の為、反
射防止の為、増反側の為、フィルタ作用の為なとに、薄
膜を設けることは知られている。
例えは、カメラに用いられるレンズにおいては、ガラス
基板の表面に多層の反ρ、]防止膜を真空蒸71するこ
とか良(なされている。ここで、近年、軽量かつ低価格
化の為にカラスに代わってプラスチックを用いることか
提案されてきている。しかし、プラスチックは加熱によ
って変形しやすいので、ガラス基板のように基板を加熱
しつつ真空蒸71を行なうことはできない。例えは、ア
クリル樹脂は約90℃以」二に加熱すると変形してしま
う。ところか、蒸着材料として知られている物質の多く
は、基板を加熱しつつ真空蒸着を行なわないと、基板と
の密着性か悲(容易にはかれてしまうものてあった。
本発明は、」二連の如き欠点を解消すへくなされたもの
であり、その目的は、基板を加熱することなく真空蒸着
を行なって基板表面に光学薄膜を形成しても、該薄膜と
基板との密着性か良(、所望の光学特性を得ることかて
きるプラスチック製光学部品を提供することにある。
上記目的を達成する為に、本発明は5i02.SiOも
しくはそれらの混合物と1”a205との組合せかプラ
スチックとの密着性か良いことを発見したことに基つい
てなされたものであり、その特徴は、プラスチックから
なる基板の表面に、ます、SiO2゜S io、もしく
はそれらの混合物からなる介在層を設け、史にその上ニ
Ta 205と、SiO2,SiOもしくはそれらの混
合物を交互に積層したことにある。
全体としての層数や各層の屈折率及び光学的膜厚は所望
の光学特性に応じて定めれば良い。
以下、本発明の実施例を示す。各実施例において、大月
、j媒質側から順に、第1層、第2層、・・・とじ、最
終層を介在層とする。
実施例] 本実施例のll&: +lvl成を第1表及び第1図に
示す。
表中、λ014設、1.n’:Jいを示し、本実施例に
おいては、ハ’ = 5]Onmである。
本実施例は、N = 1.49のアクリル樹脂からなる
プラスチック基板(S)の表面に、SiOをタンクステ
ンボートに入れた抵抗加熱法を用いて1 x I Q−
”1brrの酸素雰囲気中で真空蒸着して5102から
なる第3層(介在層)を形成し、その上に’I’a 、
!05を同杆の抵抗加熱法もしくは電子銃法によって真
空蒸6して第2層を形成し、史にその上に、SiOを」
−述と同様の抵抗加熱tノ4てr↓空蒸着するか、もし
くは5102を電j′−統法で真空蒸着して第1層を形
成することによって製造される。本実施例の垂直入用光
に対する分光反射率特性を第2図1ζ示す。
実施例2 本実施例は、実施例Jの第2層frlを不均質層として
分光動性をよりフラットにしたものであり、その膜構成
を第2表に示す。
第 2 表 (λ0に510nm) 本実施例において、第1層(1,1及び介在層である第
3層冊は実施例1と同様にして形成すれは良いか、第2
層(I])は、ます、025λ0に達する才では真空槽
内に酸素ガスを導入して1,5x10 rorrの酸紫
雲囲気中でTa206を真空蒸着し、その後、ガス導入
を止めて5 X 10−’rorr以下で真空蒸着する
ことによって形成される。本実施例の垂直入射光に対す
る分光反射率特性を第3図に示すが、これを第2図と比
べると、明らかに本実施例の方が分光特性がフラットで
、反射率自体も小さい。
実施例3 本実施例は、介在層を含めて5層構成とすることにより
、400nm〜700nmの可視波長域における反射率
をより小さくかつよりフラットにして、良好な゛反p・
J防止効果を得たものである。本実施例の膜構成を第3
表及び第4図に示す。
rノn==(Qf’lnm1 本実施例は実施例1と同様にして製造される。
その垂直入射光に対する分光反射率特性を第5図に示す
。第5図から明らがなように、本実施例によれは、40
0 nm〜700 nmの可視波長域はぼ全域lこわた
って反射率1%以下のフラットな分光反射率特性を得る
ことかできる。
実施例4 本実施例は、実施例3の第1〜4層の光学的1′厚を調
整して可視波長域のみならす近赤外域に、jいても1%
以下の反射率lこ押えることかでき・ようにしたもので
ある。その膜構成を第4表に示す。
本実施例も実施例1と同様にして製造される。
その、垂1人剤光に対する分光反射率特性を第6区1に
示す。fiS6図から明らかなように、本実施例によれ
ば、/+ 00 nm〜8 Q Q nmの波長域にお
いて反を1+1%以下のフラットな分光反E1.J 相
持性を得ることかできる。
ここで、実施例3,4のように可視波長域全域で充分な
If;1.創防止効果を得る為には、以下の条件を満足
することか望ましい。
(1) 1.45 < N’ < 1.50(2) +
、so<N2<21s (3+ +/Is<N:+<+5゜ (4) ]、 80 (N4 (2,15(s) ] 
45<N5<160 (6) 0.20λ0(Nl dl (0,30λ0(
71030λa (N2 d2 < 060 λ。
(8) 0(N3d3(0,25λ0 (g) 0(N4 d4(0,25λ0(10) O(
Ns cb、 (2λ0(]l) NI=N3 (+2) N2=N+ (+3) (1<Nad3+N4d4<、0,25λ0
イυし、ここて、N1は第1層の屈折率、N2は第2層
の屈折率、N3は第3層の屈折率、N4は第4層の屈折
率、N5は9J55層の屈折率、N1dlは第1層の光
学的膜厚、N2d2は第2層の、光学的膜厚、N5d3
は第3層の光学的膜厚、N司4は第4層の光学的膜厚、
N !、d fiは第5層の光学的膜厚、λ0は設計波
長、である。
条件(11〜(10)は各層の屈折率及び光学的膜厚の
範囲を規定するものであり、この範囲を満足するととも
に条件(II X12)に示される第1層ど第3層との
聞及び第2層と第71層との間の屈折率関係の条件及び
条件(13)に示される第3.4層の光学的膜厚の和の
条件を満足することによって、実施例3゜4のようlこ
可視波長全域においてJX射防止効果か得られる。
実施例5 本実施例は、入射角45°の光に対してフラットな分光
反射率特性を有するハーフミラ−を、介在層を含めて4
層で構成したものであり、その膜構成を第5表及び第7
図に示す。
第5表 (λo=sIcJrr7n) 本実施例も実施例Jと同様にして製造される。
本実施例の入射角45°の光に対する分光反UJ 4i
特性を第8図に示す。
実施例6 本実施例は、実施例2の基板(51をスチレン樹脂に代
えたものであり、その膜構成を第6表に示す。
以下余白 第6表 (λG=510nm) 本実施例は実施例2と全く同様にして製造される。本実
施例の垂直入射光に対する分光反射率特性を第9図に示
す。第9図と実施例2の特性を示す第3図とを比較する
と明らかなように、本実施例の方か可視波長域における
反射率をよりフラ・ノドにすることかできる。
実施例7 本実施例は、実施例6の介在層である第3層(曲にSi
OとS i O2との混合物を用いて該層([111の
屈折率をより高くし、基板(51との屈折率差を減少せ
しめたものである。その膜構成を第7表に示す。
第7表 (λ0=510nm) 本実施例は、N=1.59のスチレン樹脂からなるプラ
スチック基板(Slの表面に、SiOをタングステンポ
ートに入れた抵抗加熱法を用い6 X I O’I’o
rrの酸素雰囲気中で真空蒸着してSiOと5j02の
混合物からなる第3層(介在層)を形成し、次に1、5
 X 10 ’I”Orr (7)酸素雰囲気中で’J
’a 206を0.25 λu1まて真空蒸着し、その
後ガス尋人を止めて5XIO−’’I’Orr以下でT
a205を真空蒸着して第2層を形成し、その」二にS
iOをI X 10 TOrrの酸素雰囲気中て真空a
[するか5 X 10 ’J’orr以下テ5i02を
真空蒸着するかして、5i02からなる第1層を形成す
ることによって製造される。
本実施例の垂直入用光に対する分光反射率特性を第10
図に示す。第10図から明らかなように、本実施例によ
れば7Ioonm〜700 nm の可視波長域内で反
射率1%以下のフラットな分光特性を得ることかできる
実施例8 本実施例は実施例3の第5層(介在層)をSiOとS 
i 02 との混合物に代え、それに応じて充分な反則
防止+I、果か得られるように各層の膜厚を調節したも
のである。その膜構成を第8表に示す。
(λ0=520nm) 本実施例において、第5層tv+は実施例7の第3層(
tillと全く同様にして形成され、第4〜1層は実施
例3.4と同様にして形成される。本実施例の垂直入射
光に対する分光反射率特性を第11図に示す。本実施例
においても、充分な反射防止効果か得られる。
本発明の効果を示す為【こ、実施例1〜8の光学部品に
下記の如き耐久性試験を行った。
ます、耐1す耗性試験の為に、摩耗試験機を用い、研摩
紙として61度03μのA6203付きフィルムを用い
て本発明実施例1〜8のプラスチック製光学部品を、加
重10に9、ストローク30闘の条件下て300往復こ
すった。すると、各実施例のものとも欣に傷か入るか股
自体の刺部1は生しなかった。比較の2冒こ、)1(板
を加熱することなしにZrO2とMg+・2とを電子銃
法もしくは抵抗加熱法で交互に2〜3層プラスチソクノ
1!、 v土に積層したものを用いて」二連の試験を行
なうとII&jか剥離してしまった。
次に、耐薬品試験の為に、布ウェスに神々の冴。
剤をしろ込ませた後、この布ウェスて、実施例1〜8の
光学部品を]、 OK9の加重て5o往復こすった。
すると溶剤としてクロン、ベンジンを用いると外観上も
光学性能上も全(異常は認められなかった。
但し、アルコールを用いると多少型が生した。更に、フ
ェードメーターを用いた220時間の耐候性 。
中 試験、及0温度70℃、湿度80%侍に200時間放置
した酬湿度試験においても実施例j〜8とも外観上も光
学性能」二も全く異常は認められなかった。
以、上のことから、本発明によれば基板を加熱すること
なく真空蒸着を行なっても耐久性に優れた膜を得ること
かできることが明らがである。
以上のように、本発明に係るプラスチック製光学部品は
、プラスチックからなる基板の表面にSin。
SiO・、もL < i;Iそれらの混合物からなる介
在層を設け、史Iこ、その」−ニ、’I’q 205と
Sin、 5i02.もしくはそれらの混合物とを交互
Iこ積層したことを特徴とするものであり、このようl
c槁成することによって、耐久性の良いプラスチック製
光学部品を得ることかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例] + 2 + 6 + 7の構成を示
す断面図、第4図は実施例3.’I、)’iの構成を示
す断面図、第7図は実施例5の構成を不す断面図、第2
1315161!夕、]0.11図はそれぞれ実施例1
〜4.6〜8の垂直式q・1光lこ対する分光Jx f
AJ 子持性を示すグラフ、第8図は実施例50入u・
f ft+−+5゜の光に対する分光反射・1゛特性を
示すクラブである。 (S);基板 (聞;介在層(第1図)、 (V);介在層(第1図)、 (■);介在層(第7図)。 Jジ、上 出Xi/+人 ミノルタカメラ株式会社δ 第2図 第3図 Waveretyt、k (nrn) δ 第5図 第6図 第3図 りθ 第9図 フρ 11Alθ図 Wavelen5th tn*) 第11図 Wavelert$h tn m ) 1 休;1 抽 It’: ;’1 、発明の名称 ブラスナ57り製尼+’、”: fl、lX品;(、十
山正をする名 事件との関係 出願人 II−所 J(阪市東区゛4十、町”ン1’ It :
(’1 i%1世)(阪1.il際ヒル 名称 (ri(17) ミノルタカノー7個、代つ士1
白発袖j1゜ r〉、補止の大−1’づこ (1)明細111の1発明の11′(細−r’、 、1
7.明1の11°(′・1(2>IZI向 〔;、抽11の内゛1°、′ (1)明細、1:第7頁1・から2イ]’ 14 +r
T iOrJとあろの?l!−:in、、1と補1ビす
る。。 (2)明In ;’:第1 ri頁第12行11「クロ
ン」とあるのを170ン1と補止する。。 に()図面用(1図を添付のj]’ It第(1図の通
りに袖11−セろ。 1゛)、十

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 プラスチックからなる基板の表面に、Sin。 SiO2,もしくはそれらの混合物からなる介在層を設
    け、更にその上ニーra 205と、Sin、 SiO
    2,もしくはそれらの混合物とを交互に積1ねしたこと
    を特徴とするプラスチック製光学部品。 2、入射媒質側から順に、第1層、第2層、第3層、9
    54層、第5層の5層構成を有し、各層はチック製光学
    部品: 1、45 <N+ < 1.50 180<N2<2.15 1、45 < N3 < 1.50 180(N4 <215 1、45 < N6< 1.60 020 λo(N+d蔦く030 λ00、30λa 
    (N2 d2 (0,60λOo < N3 d:+ 
    < 0.25λOo (N4 d4< 0.25λ0 0<Nfidfi<2λ0 NI=N3 N2 =N4 (1(N:I d3 +N4 d4 (Q、 25λ0
    但し、ここて、 Nj:第1層の屈折率、 N2;第2層の屈折率、 Nj;第3層の屈折率、 N4;第・1層の屈折率、 N5;第5層の屈折率、 N+d+;第1層の光学的膜厚、 N2d2;第2層の光学的膜厚、 N3d:+;第3層の光学的膜厚、 N4 d4; m 4 Fm ノ光学的膜厚、Nb d
    s ;第5層の光学的膜厚、 λ0 ;設計波長、 である。
JP59082543A 1984-04-23 1984-04-23 プラスチツク製光学部品 Pending JPS60225101A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59082543A JPS60225101A (ja) 1984-04-23 1984-04-23 プラスチツク製光学部品

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59082543A JPS60225101A (ja) 1984-04-23 1984-04-23 プラスチツク製光学部品

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60225101A true JPS60225101A (ja) 1985-11-09

Family

ID=13777415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59082543A Pending JPS60225101A (ja) 1984-04-23 1984-04-23 プラスチツク製光学部品

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60225101A (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63298301A (ja) * 1987-05-29 1988-12-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラスチック製光学部品の反射防止膜
DE3818341A1 (de) * 1987-06-04 1988-12-22 Olympus Optical Co Kunststoff-halbspiegel
JPH02901A (ja) * 1988-03-03 1990-01-05 Asahi Glass Co Ltd 耐久性の優れた光学体
JPH0212201A (ja) * 1988-06-30 1990-01-17 Hoya Corp 反射防止膜
US4988164A (en) * 1988-04-25 1991-01-29 Olympus Optical Co., Ltd. Anti-reflection film for synthetic resin optical elements
EP0529268A2 (de) * 1991-08-28 1993-03-03 Leybold Aktiengesellschaft Harte Entspiegelungsschicht für Kunststofflinsen
US5264286A (en) * 1988-03-03 1993-11-23 Asahi Glass Company Ltd. Laminated glass structure
US5399435A (en) * 1988-03-03 1995-03-21 Asahi Glass Company Ltd. Amorphous oxide film and article having such film thereon
US5725959A (en) * 1993-03-18 1998-03-10 Canon Kabushiki Kaisha Antireflection film for plastic optical element
US6004850A (en) * 1998-02-23 1999-12-21 Motorola Inc. Tantalum oxide anti-reflective coating (ARC) integrated with a metallic transistor gate electrode and method of formation
US6606196B2 (en) * 2000-08-29 2003-08-12 Hoya Corporation Optical element having antireflection film
JP2005274527A (ja) * 2004-03-26 2005-10-06 Cimeo Precision Co Ltd 時計用カバーガラス
DE10105778B4 (de) * 2001-02-07 2010-12-09 Jos. Schneider Optische Werke Gmbh Verfahren zur Oberflächenbeschichtung von Polymethylmethacrylat-Substraten
US8021560B2 (en) 2004-09-10 2011-09-20 Fraunhofer-Gesellshaft zur Foerderung der Angewandten Forschung E. V. Method for producing a radiation-absorbing optical element and corresponding radiation absorbing optical element

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55110126A (en) * 1979-02-16 1980-08-25 Seiko Epson Corp Preparation of antireflection film
JPS5835501A (ja) * 1981-08-28 1983-03-02 Seiko Epson Corp 合成樹脂製レンズ

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55110126A (en) * 1979-02-16 1980-08-25 Seiko Epson Corp Preparation of antireflection film
JPS5835501A (ja) * 1981-08-28 1983-03-02 Seiko Epson Corp 合成樹脂製レンズ

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63298301A (ja) * 1987-05-29 1988-12-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラスチック製光学部品の反射防止膜
DE3818341A1 (de) * 1987-06-04 1988-12-22 Olympus Optical Co Kunststoff-halbspiegel
US5264286A (en) * 1988-03-03 1993-11-23 Asahi Glass Company Ltd. Laminated glass structure
JPH02901A (ja) * 1988-03-03 1990-01-05 Asahi Glass Co Ltd 耐久性の優れた光学体
US5399435A (en) * 1988-03-03 1995-03-21 Asahi Glass Company Ltd. Amorphous oxide film and article having such film thereon
US4988164A (en) * 1988-04-25 1991-01-29 Olympus Optical Co., Ltd. Anti-reflection film for synthetic resin optical elements
JPH0212201A (ja) * 1988-06-30 1990-01-17 Hoya Corp 反射防止膜
EP0529268A2 (de) * 1991-08-28 1993-03-03 Leybold Aktiengesellschaft Harte Entspiegelungsschicht für Kunststofflinsen
US5725959A (en) * 1993-03-18 1998-03-10 Canon Kabushiki Kaisha Antireflection film for plastic optical element
US6004850A (en) * 1998-02-23 1999-12-21 Motorola Inc. Tantalum oxide anti-reflective coating (ARC) integrated with a metallic transistor gate electrode and method of formation
US6294820B1 (en) 1998-02-23 2001-09-25 Motorola, Inc. Metallic oxide gate electrode stack having a metallic gate dielectric metallic gate electrode and a metallic arc layer
US6606196B2 (en) * 2000-08-29 2003-08-12 Hoya Corporation Optical element having antireflection film
DE10105778B4 (de) * 2001-02-07 2010-12-09 Jos. Schneider Optische Werke Gmbh Verfahren zur Oberflächenbeschichtung von Polymethylmethacrylat-Substraten
JP2005274527A (ja) * 2004-03-26 2005-10-06 Cimeo Precision Co Ltd 時計用カバーガラス
US8021560B2 (en) 2004-09-10 2011-09-20 Fraunhofer-Gesellshaft zur Foerderung der Angewandten Forschung E. V. Method for producing a radiation-absorbing optical element and corresponding radiation absorbing optical element

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS60225101A (ja) プラスチツク製光学部品
US9310525B2 (en) Antireflection film and optical device
US20220221617A1 (en) Curved surface films and methods of manufacturing the same
WO2012073791A1 (ja) 赤外線用光学機能膜
US20110299167A1 (en) Reflective coating, pigment, colored composition, and process of producing a reflective pigment
CN202710767U (zh) 一种超宽带增透膜镜片
US3761160A (en) Wide band anti-reflection coating and article coated therewith
CN113009713A (zh) 一种超低反清底色防蓝光树脂镜片及其制备方法
CN215895150U (zh) 一种超低反清底色防蓝光树脂镜片
JP3221764B2 (ja) 合成樹脂製光学部品の反射防止膜
JP3068252B2 (ja) 反射防止膜を有する光学部材
JPH1067078A (ja) 光学要素とその製造に用いられるフッ化物材料の多層積層体
JPH052101A (ja) 光学部品
JPS58221811A (ja) 耐熱反射防止膜
JP2022072420A (ja) 光学素子、光学系、および、光学機器
CN109581549B (zh) 一种反射防止膜及包含该反射防止膜的光学部件
JPS6177001A (ja) 光反射防止膜
JP2776553B2 (ja) 反射防止膜
JP7349687B2 (ja) 光学素子
JPH02304501A (ja) 自動開閉装置
JPH01310302A (ja) 分光フイルター
JPS5948702A (ja) 反射防止合成樹脂レンズ
JPS638604A (ja) 可視域における平坦な分光特性を示す半透膜
JPS62134601A (ja) 光学部品用反射防止膜およびその製造法
JP2693500B2 (ja) 反射防止膜