KR20020007320A - 수산화코발트로 코팅된 수산화니켈 - Google Patents

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칼 하인쯔 슐츠, 페터 캘레르트
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Abstract

본 발명은 산화에 안정한 수산화코발트 코팅물을 갖는 재충전식 전지용 수산화니켈에 관한 것이다. 수산화코발트층 표면을 약한 무기 산소산의 음이온으로 커버링함으로써 산화에 대한 안정성이 달성된다.

Description

수산화코발트로 코팅된 수산화니켈 {Nickel Hydroxide Coated with Cobaltous Hydroxide}
수산화니켈은 그의 축전 용량이 Ni당 1 내지 (상응하는 결함 구조에서) 최대 이론치인 1.67 전자수이기 때문에 수산화니켈이 전기 에너지 축전에 두드러지게 적합하다고 하더라도, 전기 전도도가 낮고, 싸이클 안정성이 낮고, 고온에서 충전 용량이 낮으며, 상이한 격자 간격을 갖는 여러가지 결정상의 자발적인 형성으로 인해 팽창되는 경향이 있는 등 여러가지 원치않는 특성을 갖는다.
수산화코발트(II)로 코팅된 수산화니켈을 사용함으로써 전지의 특성을 개선시킬 수 있다는 것이 수산화니켈 전지의 매우 초기 발전 단계에서 이미 인식되었다 (미국 특허 공보 제3 066 178호 참조). 그럼에도 불구하고, 수산화코발트(II)는 산화에 민감하기 때문에 그 후 수산화코발트로 코팅된 수산화니켈을 산업상 사용하는 것은 허용되지 않았다. 오히려, 전지 생산에 사용된 경로는 Co 금속 분말 또는Co(II)O 또는 Co(OH)2와 같은 코발트 화합물을 첨가한 비코팅 수산화니켈을 사용하는 것으로, 여기서 수산화니켈 입자 사이에서 가교된 수산화코발트 코팅물이 보다 오랜기간 방치하는 중에 (전형적으로 1 내지 3일) 코발트(II) 히드록소 착물 중간체를 경유하여 수산화니켈 상에 형성되고, 이 코발트 화합물을 전해질에 용해시키고, 그 후 이 코팅물은 처음 전지에 전기 충전을 하는 동안 실제로는 전도성이나 전기화학적으로는 비활성인 코발트 옥시히드록시드 그물조직으로 전환된다. 여기에서 중요한 메카니즘에 대한 상세한 설명은 1986년 12월 11일에 개최된 전기화학회의 전지 기술 협회에서의 부문적인 신규 전지 연구 그룹을 위한 제3회 심포지움에서 오시타니(Oshitani)에 의해 발표된 "Development of high-capacity nickel-cadmium battery using sintered metal fiber as substrate"라는 제목의 논문에서 찾아볼 수 있다. 코발트 화합물에 관해 여기에 기재된 모델들은 다른 기재 및 음극 물질에도 적용된다.
선행 기술에 따라 대기 산소에 의한 산화에 불안정한 수산화코발트(II) 층으로 코팅된 수산화니켈을 사용하면, 축전을 통한 제조에서부터 전지에서의 실제 사용에 이르기까지의 과정에서 코발트(II) 함유 부동화 층이 코팅된 수산화니켈 입자의 표면 상에 형성되며, 이는 코발트 종의 용해도를 저해하여 코발트 히드록소 착물이 중간에 형성 (부적절한 융합때문에 접촉 표면에서 환원)되도록 할 뿐 아니라 또한 불량한 전기 전도성을 갖게 한다. 이는 필연적으로 니켈 활물질의 대부분이 전기적으로 사용될 수 없으며 다소간의 불활물질로서 전지 용량에 더이상 기여할수 없다는 것을 의미한다.
또한, 수산화코발트 층을 수산화니켈 입자 상에 침전시키고 후속적으로 이 층을 고온에서 산소에 의해 알칼리 용액 중에서 산화시킴으로써 전도성의 전기화학적으로 비활성인 코발트 옥시히드록시드 층을 제조하는 것이 이미 제안되어 있다 (일본 특허 제25 89 123호). 코발트 옥시히드록시드로 코팅된 이러한 수산화니켈은 사실상 산화에 안정하기는 하지만, 외각의 각 입자들이 우수한 전도층을 갖는다 하더라도 각 입자들 간의 3차원 전도성 그물구조의 형성 ("융합"에 의해 접촉 표면 증가)은 알칼리 전해질에 적절히 용해되는 코발트 화합물을 더 첨가함으로써만 달성될 수 있다는 단점이 있다. 이러한 첨가를 생략하면, 각 입자들 사이에 느슨한 접촉점만이 존재하고 각 입자들 사이에 발생하는 전이 저항때문에 전극의 총 저항이 증가한다.
반면에, 수산화코발트(II) 코팅물은 동적 용해 및 첨가 과정에 의해 가교결합이 일어날 정도로 알칼리 전해질에 용해된 채로 있어, 코발트 옥시히드록시드로의 전환 후 충전 싸이클 개시동안 입자 사이에 전도성 브리지가 생성된다. 코팅된 각 입자들은 전기적으로 전도성인 방식으로 Co(OH)2또는 CoOOH 코팅물의 접촉점에서 "융합"된다. 하지만, 이러한 조건은 산화에 안정한 수산화코발트(II) 코팅물을 갖는 수산화니켈의 조건이다.
따라서, (수산화니켈에 전도성 첨가물로서의) 수산화코발트(II) 또는 수산화코발트(II)로 코팅된 수산화니켈을 D-글루코스 (유럽 특허 공보 제744 781호) 또는고급 카르복실산류, 그들의 에스테르류, 알데히드류, 페놀류 또는 비타민류와 같은 항산화제 (유럽 특허 공보 제771 041호)로 처리하는 것이 또한 제안되어 있다. 여기에서 단점은 항산화제가 환원이란 측면에서 산화된 코발트(II) 형태에 대해서만 활성이 되기 때문에 산화에 대한 보호는 간접적으로만 달성된다는 것이다. 또다른 단점은 항산화제가 시간이 지나면 소비된다는 것이다, 즉 산화 보호가 시간에 있어 제한된다. 또한 항산화제의 원치않는 분해 생성물이 전지로 들어갈 위험이 있다.
본 발명은 산화에 안정하고 수산화코발트로 코팅된 수산화니켈, 및 이를 제조하는 방법, 특히 재충전식 알칼리 전지에서 양극 활물질로서 사용하는 방법에 관한 것이다.
도 1은 선행 기술과 비교하여 본 발명을 설명한다.
원 A는 수산화니켈 입자를 나타내고, 흐릿한 구조 B는 Co(OH)2코팅물을 나타내고, 점선 원 C는 Co(OH)2부분 산화된 코팅물을 나타내며, 진한 원 D는 CoOOH 코팅물을 나타낸다.
도 1a)는 산화에 불안정한 Co(OH)2로 코팅된 수산화니켈(I)이 주변 공기와 접촉하여 표면 상에서 부분적으로 산화되는(II) 선행 기술을 설명한다. 그 결과, 전해질 내에서 히드록소 착물 형성(III)이 저해된다. 그 때문에 형성 이후에도 부분 전도성 그물구조만을 형성할 수 있다(IV).
도 1b)는 Co(OH)2코팅물이 고온에서 알칼리 산화에 의해 전환되어 CoOOH 코팅물을 형성하는 것을 나타낸다(I). 전지에서 활물질의 전도도는 느슨한 접촉점에 의해 결정된다(IV).
도 1c)는 본 발명에 따라 산화에 안정한 Co(OH)2를 갖고, 히드록소 착물을 경유하여 전해질 내에서 안정한 채로 있어서(III) 화성 (첫번째 충전 및 방전 싸이클)시에 Co(OOH) 그물구조를 형성하는 수산화니켈(I, II)을 나타낸다.
본 발명에 따라 사용되는 수산화니켈은 임의의 목적하는 방식으로 제조할 수 있다. 수산화니켈 제조를 위한 공지된 방법은 알칼리 금속 수산화물 용액에 의해 니켈 염 수용액으로부터 화학적으로 침전시키는 방법, 수용성 염 함유 전해질에 니켈 양극을 전해 용해시키는 방법, 압력하에서 니켈 금속 분말을 산화시키는 방법, 암모니아 용액에 착물로서의 니켈 분말을 용해시키고 후속적으로 증류에 의해 침전시키는 방법, 및 산화 가수분해시키고 후속적으로 알칼리 금속 니켈산염을 환원시키는 방법이 있다. 화학 침전 또는 니켈 양극의 전해 용해의 방법이 바람직하다. 선행 기술의 공지된 방법 중 하나에 의해 제조된 구형의 수산화니켈이 바람직하게 사용된다.
공지된 방법 중 하나에 의해 제조된 수산화니켈 기재 입자는 우선 첫번째 단계에서 적합한 환경 하에서 코발트(II) 염 및 알칼리 금속 수산화물 용액 및(또는) 암모니아가 첨가된 수성 현탁액 중에서 수산화코발트(II)로 코팅시킨다. 균일한 수산화코발트(II) 코팅물을 얻기 위한 바람직한 조건은 연속식, 반회분식 또는 회분식이고; 체류 시간이 0.2 내지 12 시간이고; 온도가 0 내지 120 ℃, 바람직하게는 30 내지 60 ℃, 특히 바람직하게는 30 내지 40 ℃이고; 압력이 0.1 내지 2.5 bar, 특히 바람직하게는 0.5 내지 1.2 bar이고; 25 ℃에서 pH가 8.5 내지 13, 바람직하게는 9.5 내지 11.5, 특히 바람직하게는 10.2 내지 10.8이고; 고형분 농도가 10 내지 700 g/ℓ, 바람직하게는 100 내지 400 g/ℓ이고; NH3농도가 0 내지 15 g/ℓ, 바람직하게는 0 내지 10 g/ℓ, 특히 바람직하게는 2 내지 5 g/ 이고; 알칼리 금속/코발트 비가 화학양론의 75 내지 150 ％, 바람직하게는 80 내지 95 ％이고; 임의로 여과하고 물 및(또는) 알칼리 금속 수산화물 희석액, 바람직하게는 pH 11 내지 12의 수산화나트륨 용액으로 세척하는 것이다. 수산화코발트(II)로의 코팅은 또한 불활성 기체나 항산화제 첨가 없이 수행할 수 있다.
그다음, 표면이 불활성이 되게 함으로써 수산화코발트(II) 코팅물을 안정화시키기 위하여, 코팅 공정의 최초의 침전 현탁액, 또는 바람직하게는 수산화코발트(II)로 코팅되고 모액으로부터 이미 분리되어 물에 재현탁된 수산화니켈을 두번째 단계에서 상기에서 나열한 약산 또는 그의 알칼리 금속염 수용액 또는 그의 알칼리 금속 수소염으로 처리한다. 안정화 처리는 또한 코팅 공정의 최초의 침전 현탁액의 모액을 여과한 후에 세척되지 않거나 또는 세척된 여과 케이크의 처리에 의해 바로 수행할 수도 있다. 안정화 처리의 온도 범위는 0 내지 100 ℃, 바람직하게는 20 내지 60 ℃, 특히 바람직하게는 40 내지 50 ℃이다. 처리 시간은 0.2 내지 12 시간일 수 있다.
수산화코발트(II)로 코팅된 수산화니켈의 표면을 탄화작용에 의해 안정화 처리하는 것이 특히 이롭다는 것이 증명되었다. 여기서 탄화작용은 알칼리 금속 탄산염 용액 및(또는) 알칼리 금속 중탄산염 용액을 0.01 mol/ℓ내지 최대 용해도까지, 바람직하게는 0.03 내지 1 mol/ℓ의 농도로, 알칼리 금속 탄산염 및(또는) 알칼리 금속 중탄산염 용액의 양을 수산화코발트(II)로 코팅된 수산화니켈을 포함하는 현탁액의 고형분 함량을 기준으로 0.1 내지 10 중량배로 첨가함으로써 수행하는것이 바람직하다. 본 발명에서는, 탄화작용 후에 이산화탄소가 첨가되는 경우, 예를 들면, 기체로서 도입되는 경우에는 탄화작용이 또한 종결된다.
본 발명의 특히 바람직한 실시태양은 수산화코발트 코팅물로부터의 여전히 습한 여과 케이크를 처리하거나 또는 후속적으로 0.01 내지 2 bar, 바람직하게는 0.01 내지 1 bar의 CO2분압 하에서 이산화탄소 또는 이산화탄소 함유 공기로 세척하는 것을 포함한다. 이러한 처리는 예를 들면 연속으로 작동되는 분무 건조기 또는 스핀 플래쉬 건조기로 분말을 동시에 건조시키면서 수행할 수 있다.
안정화 처리를 끝낸 이후에 안정화된 수산화코발트(II) 층으로 코팅된 수산화니켈을 임의로 또한 부가적으로 최종 건조 단계 이전에 세척할 수 있다. 건조 그 자체는 공기를 배제한 상태 (진공 또는 불활성 기체)에서 수행해서는 안되며, 오히려 건조를 공기 중에서 수행하여 비용을 절감할 수 있다. 모든 유형의 통상의 건조기를 건조 장치로 사용할 수 있다.
본 발명에 있어서는 분말형의 수산화니켈이 바람직하더라도, 본 발명은 분말형 수산화니켈로 제한되지 않는다. 본 발명에 있어서는, 유사한 방식으로 먼저 수산화니켈을 기재, 바람직하게는 니켈 그물, 니켈 부직 또는 니켈 호일 상에 침전시키고, 후속적으로 이를 수산화코발트로 코팅한 다음 코팅된 기재를 처리 용액에 담그는 것이 가능하다.
수산화니켈 기재의 평균 입도 (D50 값, 마스터사이저(Mastersizer) 방법으로 측정함)는 0.5 내지 500 ㎛가 바람직하고, 특히 2 내지 30 ㎛가 바람직하다. 비표면적은 이롭게는 BET 방법으로 측정시 2 내지 70 ㎡/g일 수 있다.
수산화니켈 기재는 또한 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 스칸듐, 이트륨, 란타늄, 란탄족 원소, 티타늄, 지르코늄, 크롬, 몰리브덴, 텅스텐, 망간, 철, 코발트, 구리, 카드뮴, 아연, 붕소, 알루미늄, 갈륨, 인듐, 규소, 인, 비소, 안티몬 및 비스무스로 이루어진 군으로부터의 그 자체로 알려진 총량 0.2 내지 25 중량％의 도핑 원소를 1종 이상 포함할 수 있다. 수산화니켈이 3 내지 8 중량％의 총량에서 아연 0.5 내지 5 중량％ 및 코발트 0.5 내지 5 중량％으로 도핑되는 것이 바람직하다.
수산화코발트 코팅물은 또한 상기한 군으로부터의 도핑 원소를 공지된 방식으로 포함할 수 있다.
본 발명은 하기 실시예로 더욱 상세하게 설명된다.
본 발명에 와서야 코팅된 수산화니켈을 약한 무기 산소산 또는 그의 알칼리 금속염으로 처리하는 경우 수산화코발트 층이 산화에 안정한 형태로 형성될 수 있다는 것을 알아내었다. 이 방법에서, 코팅된 입자의 표면을 산의 음이온으로 커버링한다. 적합한 음이온에는 알루미늄산염, 붕산염, 탄산염, 크롬산염, 망간산염, 몰리브덴산염, 니오브산염, 인산염, 규산염, 탄탈산염, 티탄산염, 바나딘산염과 텅스텐산염 또는 옥살산염으로 이루어진 군으로부터의 1종 이상의 음이온이 있다.
붕산염, 인산염, 탄산염 및(또는) 규산염이 바람직하다. 탄산염이 특히 바람직하다.
본 발명에서 "산화에 안정한"이란 수산화코발트의 산화 정도가 공기 중 및 주변 온도 (40 ℃ 이하)에서 보관하는 동안 변하지 않는 것을 의미한다.
Li, Na, K 및(또는) 암모늄과 같은 유사-알칼리 금속이 알칼리 금속으로서 적합하다. 알칼리 금속염, 특히 나트륨염의 수용액에서 처리하는 것이 바람직하다.
수산화니켈이 산화에 안정한 Co(OH)2코팅물을 갖도록 하는데는 Co(OH)2표면을 단분자 미만으로 커버링 하는 것으로 충분하다.
본 발명에 이르러 이러한 표면 커버링이 전지의 알칼리 전해질 내 수산화코발트(II) 코팅물의 용해도를 손상시키지 않기 때문에, 상기에서 "융합"으로 칭한 고전도도의 3차원 그물구조의 형성 효과가 전도성 첨가제를 더 첨가하지 않고도 방해받지 않고 일어날 수 있음을 알아내었다. 그 결과, 사용되는 코발트의 총량을 최소로 유지하는 것이 가능하다.
본 발명은 산화에 안정한 수산화코발트 층을 갖고 4주 이상의 기간동안, 바람직하게는 6 개월의 기간동안 대기압에서 보관하는 동안 담록색을 유지하는 수산화니켈을 제공한다.
본 발명은 또한 산화에 안정한 수산화코발트층을 갖고, 6 개월 이상동안 공기 중 (주변 온도 10 내지 35 ℃)에서 보관한 후에도 3가 산화 수준의 코발트 함량이 코발트 총량을 기준으로 0.5 ％ 미만만큼 증가하는 수산화니켈을 제공한다.
여기서 코발트의 산화 수준은 원래 알려진 방법 중에서 요오드 적정으로 결정하는 것이 바람직하다.
본 발명은 또한 수산화코발트 코팅물을 갖고 그의 표면상에 약한 무기 산소산 음이온을 기껏해야 단분자층으로 갖는 수산화니켈을 제공한다. 약산의 음이온의 농도는 수산화코발트로 코팅된 표면의 5 내지 20 μmol/㎡가 바람직하다. 표면 코팅이 10 내지 18 μmol/㎡인 것이 특히 바람직하다.
표면 음이온 농도는 수산화코발트 코팅물의 양을 기준으로, 수산화코발트(II) 1몰당 10 내지 50 mmol이 바람직하다.
본 발명에 따르는 수산화니켈 분말은 항산화제 또는 그의 유기 분해 생산물이 없는 것이 바람직하다.
CoCl2용액 348.5 g/h (7.0 ％ Co), 10 ％ NaOH 용액 297.5 g/h, 100 g/ℓNH3용액 180 ㎖/h 및 Ni(OH)2현탁액 (Co 및 Zn으로 도핑된 150 g/ℓ구형 Ni(OH)2, 80 g/ℓ NaCl, 3.5 g/ℓ Na2SO4) 3,000 ㎖/h를 37 ℃로 온도 조절된 17 리터 교반 반응기내로 동시에 계속해서 칭량 투입하였다. 여기서 pH 10.5 (25 ℃) 및 약 3.5 g/ℓ의 NH3함량 (Kjeldahl)이 평형 상태에서 성립되었다. 24 시간의 첫번째 작동 시간 후에 반응기로부터의 유출물 (약 3,750 ㎖/h)을 추가로 72 시간동안 24 시간 간격으로 수집한 후에, 회분식으로 여과하고 각 경우마다 온도 조절된0.2 g/ℓ의 NaOH 용액 (45 ℃) 23 ㎏으로 세척하였다. 그다음 필터 상의 잔류물을 1.0 mol/ℓNa2CO3용액 46 ㎏ (45 ℃)으로 처리하고 최종적으로 완전 탈염수 46 ㎏ (45 ℃)으로 세척하였다. 50 ℃ 진공에서 건조시켰다. 생성물 수득률은 24 시간 배치당 11.7 ㎏이었다.
표 1은 비코팅 기재 수산화니켈의 분석값을 보여준다. 표 2는 제조 직후와 공기 중에서 6 개월 동안 보관한 후에 산화 안정화 처리한 수산화코발트로 코팅된 수산화니켈의 분석값을 보여준다.
Ni(OH)2기재 물질, 비코팅
Ni Co tot. Co(III) Zn Cl Na SO 4 C
(％) (％) (％) (％) (ppm) (ppm) (ppm) (ppm)
57.17 1.44 0.5 3.65 360 31 80 1,100
TD MS CS BET
(g/㎤) D50(㎛) (A) (㎡/g)
2.0 4.5 70 19.84
본 발명에 따른 Ni(OH)2기재 물질, Co(OH)2및 CO3로 코팅함
Ni Co tot. Co(III) Zn Cl Na SO 4 C
(％) (％) (％) (％) (ppm) (ppm) (ppm) (ppm)
52.92 6.44 0.7 3.36 420 35 140 1,400
TD MS CS BET Co(III)공기중에서 6 개월 동안 보관 후
(g/㎤) D50(㎛) (A) (㎡/g) (％)
2.0 5.11 70 17.42 0.7
TD= 탭 밀도; MS= 마스터사이저 방법으로 측정된 입도;CS= X-선 분석법으로 측정된 미소 결정 크기;BET= BET 방법으로 측정된 비표면적, ％ 값 = 중량％
본 발명에 따라 코팅하고 본 실시예에 따라 제조한 수산화 니켈 물질을 전극제조시에 임의의 전도성 첨가제를 첨가하지 않고 공기 중에서 6 개월 동안 보관한 후에 반쪽전지 시험으로 측정하였더니, 3번째 (충전 및 방전) 싸이클로부터 1-전자 단계를 기초로 Ni 이용률이 99 ％에 도달하였다.
Hg/HgO 기준 전극, 니켈 플레이트 상대 전극 및 수산화니켈 활물질을 갖는 작업 전극을 포함하는 통상의 3-전극 배열이 여기에서 선택되었다. 전기화학적 측정은 정전류식으로 수행하였다, 즉, 작업 전극과 상대 전극 간에 일정한 충전 및 방전 전류를 설정하였다. 기준 전극의 전위에 대하여 작업 전극의 전위를 측정하였다. 싸이클 조작은 15 시간동안 O V vs. Hg/HgO에 대해 I10(I10은 10 시간 동안 100 ％의 이론 충전 용량을 운반하는 충전 전류를 의미함)으로 충전하고 I10으로 방전하여 수행되었다. 수산화칼륨 수용액을 전해질로서 사용하였다. 작업 전극을 제조하기 위하여 본 발명에 따른 수산화니켈 물질을 발포 전극으로서 제조하고, 그후 측정하였다.

Claims (21)

  1. 대기 중에서 4주 동안 보관하는 동안 담록색이 변하지 않는, 산화에 안정한 수산화코발트(II) 코팅물을 포함하는 수산화니켈.
  2. 공기 중에서 4주 이상동안 보관한 후, 3가 산화 수준의 코발트 함량이 코발트 총함량을 기준으로 0.5 ％ 미만만큼 증가하는, 산화에 안정한 수산화코발트 코팅물을 포함하는 수산화니켈.
  3. 수산화코발트(II) 1몰당 약한 무기 산소산의 음이온 1종 이상을 1 내지 200 mmol 포함하는, 산화에 안정한 수산화코발트 코팅물을 갖는 수산화니켈.
  4. 제3항에 있어서, 상기 음이온이 CO3인 수산화니켈.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 평균 입도 (D50 값, 마스터사이저 방법으로 측정)가 0.5 내지 500 ㎛인 분말형의 수산화니켈.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 기재 상의 코팅물 형태인 수산화니켈.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, Mg, Ca, Sr, Sc, Y, La, 란탄족 원소, Ti, Zr, Cr, Mo, W, Mn, Fe, Co, Cu, Zn, Cd, B, Al, Ga, In, Si, P, As, Sb 및 Bi로 이루어진 군으로부터의 1종 이상의 도핑 원소를 총량 0.2 내지 25 중량％로 포함하는 수산화니켈.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 물 분자를 격자간 위치에 10 중량％ 이하의 양으로 포함하는 수산화니켈.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 수산화코발트 코팅물을 갖는 임의로 도핑된 수산화니켈을 알루미늄산염, 붕산염, 탄산염, 크롬산염, 망간산염, 몰리브덴산염, 니오브산염, 인산염, 규산염, 탄탈산염, 바나딘산염과 텅스텐산염 또는 옥살산염 또는 그의 알칼리 금속 염으로 이루어진 군으로부터의 약한 무기 산소산으로 처리하는 것을 특징으로 하는 수산화니켈의 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 처리를 알칼리 금속 탄산염 및(또는) 알칼리 금속 중탄산염의 수용액에서 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 코팅 공정의 최초의 침전 현탁액으로 또는 최초의 침전 현탁액의 모액을 제거한 뒤에 안정화 처리를 수행하고, 후속적으로 물에재현탁시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 공정의 최초의 침전 현탁액의 모액을 여과한 후에, 세척하지 않거나 또는 세척한 여과 케이크를 처리하여 바로 안정화 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제9항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 수산화코발트(II)로 코팅된 수산화니켈 표면의 탄화작용에 의해 안정화 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제13항에 있어서, 알칼리 금속 탄산염 용액 및(또는) 알칼리 금속 중탄산염용액을 0.01 mol/ℓ내지 최대 용해도, 바람직하게는 0.03 내지 0.1 mol/ℓ의 농도로 첨가하여 탄화작용을 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제14항에 있어서, 알칼리 금속 탄산염 용액 및(또는) 알칼리 금속 중탄산염 용액의 양이 수산화코발트(II)로 코팅된 수산화니켈을 포함하는 현탁액의 고형분 함량을 기준으로 0.1 내지 10 중량배인 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제13항에 있어서, 이산화탄소를 첨가하여 탄화작용을 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제9항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 0 내지 100 ℃, 바람직하게는 20 내지 60 ℃, 특히 바람직하게는 40 내지 50 ℃의 온도에서 안정화 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제9항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 안정화된 수산화코발트(II)로 코팅된 수산화니켈을 최종 건조 단계 전에 세척하는 것을 특징으로 하는 방법.
  19. 제9항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 안정화된 수산화코발트(II)로 코팅된 수산화니켈을 공기를 배제하지 않고 건조시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  20. 제13항에 있어서, 0.01 내지 2 bar, 바람직하게는 0.01 내지 0.1 bar의 CO2분압 하의 이산화탄소 또는 이산화탄소 함유 공기 중에서, 바람직하게는 연속적으로 작동하는 분무 건조기 또는 스핀 플래쉬 건조기에서 동시에 건조시키면서, 수산화코발트(II)로 코팅된 수산화니켈을 포함하는 습한 여과 케이크를 처리하여 탄화작용을 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
  21. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 따른 안정화된 수산화코발트(II)로 코팅된 도핑 또는 비도핑 수산화니켈의 이차 전지에서 전극 물질로서의 용도.
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