KR20020000638A - 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막 및 해당다공성중공사막에 의한 산화 게르마늄의 회수방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막 및 해당 다공성중공사막에 의한 산화 게르마늄의 회수방법에 관한 것이다.
본 발명의 다공성중공사막은, 폴리에틸렌제 다공성중공사막의 표면에 방사선그라프트중합된 에폭시기를 함유하는 화합물의 잔기와, 해당 잔기와 반응하여 식
또는, 식
으로 나타내는 구조를 포함하는 잔기를 부여하는 화합물을 반응시켜 얻어지는 것을 특징으로 하는 것이며, 또한, 본 발명의 산화 게르마늄의 회수방법은, 상기 다공성중공사막에 의해 수용액중의 산화 게르마늄을 포집하고, 그 후, 용출하는 것을 특징으로 하는 것이다.

Description

킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막 및 해당 다공성중공사막에 의한 산화 게르마늄의 회수방법{CHELATE-FORMING POROUS HOLLOW FIBER MEMBRANE AND METHOD FOR THE RECOVERY OF GERMANIUM OXIDE WITH THE SAME}
게르마늄은, 광화이버나 태양 전지 등의 소위 하이테크산업용의 재료개발에, 또한, 폴리에틸렌테레프탈레이트수지의 중합촉진촉매나, 나아가서는, 생리활성물질의 제조를 위한 원료로서, 여러가지 분야에서의 불가결한 원소이다.
특히 최근에 와서, 게르마늄의 공급이 그 수요를 따라잡지 못하고, 수요-공급의 불균형 상태가 계속되기 때문에 문제시되어 있지만, 일본에서는 게르마늄의 공급은 그 태반을 수입에 의존하고 있기 때문에, 종래는 폐기하도록 되어 있던 게르마늄을 어떠한 수단으로 회수할 수가 있으면, 수요-공급의 균형이 개선됨과 동시에, 자원의 재이용의 관점에서도 바람직하다.
그렇지만, 현시점에서는, 게르마늄, 특히 그 자체로 촉매로서 사용되거나, 혹은, 각종 용도의 게르마늄의 원료가 되는 산화 게르마늄의 유효한 회수방법은 제안되어 있지 않고, 그 개발이 요구되고 있었다.
본 발명은, 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하고, 종래는 폐기하도록 되어 있었던 게르마늄, 특히 산화 게르마늄을 경제적이고 또한 효율적으로 회수할 수 있는 다공성중공사막, 및, 이 다공성중공사막에 의한 게르마늄, 특히 산화 게르마늄의 경제적이고 또한 효율적인 회수방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
[발명의 개시]
상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명이 채용한 다공성중공사막의 구성은, 폴리에틸렌제다공성중공사막의 표면에 방사선그라프트중합된 에폭시기를 함유하는 화합물의 잔기와, 해당 잔기와 반응하여 식
(식 중, R1및 R2은 수소원자 또는 저급알킬기를 나타낸다.), 또는, 식
로 나타내는 구조를 포함하는 잔기를 부여하는 화합물을 반응시켜 얻어지는 것을 특징으로 하는 것이며, 마찬가지로 본 발명이 채용한 다공성중공사막에 의한 산화 게르마늄의 회수방법의 구성은, 이 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막에 대하여, 산화 게르마늄을 함유하는 수용액을 접촉시킴으로써 해당 수용액중의 산화 게르마늄을, 상기 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막으로 포집하고,그 후, 산성용액에 의해 상기 포집된 산화 게르마늄을 용출하는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명은 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막(多孔性中空膜) 및 해당 다공성중공사막에 의한 산화 게르마늄의 회수방법에 관한 것이다.
도 1은, 다공성중공사막에의 산화 게르마늄의 흡착능력을 검토하기 위한 투과장치의 개념도이다.
도 2는, 다공성중공사막에 산화 게르마늄수용액을 투과시켰을 때의 게르마늄의 흡착량을 흡착량곡선으로서 나타내는 그래프이다.
도 3은, IDE 막의 게르마늄흡착성능에 있어서의 pH의존성을 나타내는 그래프이다.
도 4는, 고용량 IDE 막에 대한 산화 게르마늄의 흡착능력을 나타내는 그래프이다.
도 5는, IDE 막의 흡착에 있어서의 유량의존성을 나타내는 그래프이다.
도 6은, IDE 막의 반복흡착특성을 나타내는 그래프이다.
도 7은, IDE 막의 용출특성을 나타내는 그래프이다.
[발명을 실시하기 위한 최선의 형태]
이하에 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명에서 사용하는 폴리에틸렌제의 다공성중공사막이란, 폴리에틸렌에 의해 제조된 속이 빈 실인 중공사막(중공실 혹은 중공섬유라고도 불린다)에 대하여, 안에서 밖으로 통하는 구멍이 다수 설치된 것이며, 추출법 혹은 연신법에 의해 제조되지만, 시판품을 이용하는 것이 간편하다.
본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막을 제조하기 위해서는, 상기 폴리에틸렌제의 다공성중공사막의 표면에, 에폭시기를 함유하는 화합물을 중합하는 것이고, 이 중합반응은 방사선그라프트중합에 의해 행하여진다.
상기 방사선그라프트중합은, 전자선이나 감마선 등의 방사선에 의해, 폴리에틸렌 라디칼을 발생시키고, 이것과 모노머(본 발명에서 말하는 에폭시기를 함유하는 화합물)를 반응시키는 것이다.
상기 에폭시기를 함유하는 화합물로서는, 예컨대, 글리시딜메타크릴레이트를 들 수 있고, 이것을 상기 폴리에틸렌제의 다공성중공사막의 표면에 방사선그라프트중합한 경우, 이하와 같은 구조의 에폭시기를 함유하는 화합물의 잔기를 가지는 폴리에틸렌제의 다공성중공사막을 얻을 수 있다.
한편, 상기 에폭시기를 함유하는 화합물의 사용량으로서는, 예컨대, 글리시딜메타크릴레이트의 경우, 얻어지는 다공성중공사막 1 Kg 당의 에폭시기량이 4.0 몰 정도가 되는 양을 들 수 있고, 또한, 에폭시기를 함유하는 화합물의 사용량에 의하여, 얻어지는 다공성중공사막의 에폭시기량을 조정할 수 있다.
이어서, 상기 에폭시기를 함유하는 화합물의 잔기를 가지는 폴리에틸렌제의 다공성중공사막의, 상기 에폭시기를 함유하는 화합물의 잔기와, 제1에는 해당 잔기와 반응하여 식
로 나타내는 구조를 포함하는 잔기를 부여하는 화합물을 반응시켜, 본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 제1의 다공성중공사막을 얻는 것이다.
상기 식중의 R1및 R2는, 동일 혹은 다르고, 수소원자 또는 저급알킬기를 나타내고 있다.
상기 제1의 다공성중공사막을 얻기 위해서 사용하는 화합물로서는, 상기 식으로 나타내는 구조를 포함하는 잔기를 부여하는 화합물이면 특히 한정되지 않지만, 예컨대, 2,2-이미노디에탄올 또는 디-2-프로판올아민을 들 수 있다.
2,2-이미노디에탄올을 사용한 경우, 본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 제1의 다공성중공사막은,
와 같은 구조를 취하고, 디-2-프로판올아민을 사용한 경우는,
와 같은 구조를 취하게 된다.
상기 제1의 다공성중공사막을 얻을 때의 제조조건으로서는, 예컨대, 상기 에폭시기를 함유하는 화합물의 잔기를 가지는 폴리에틸렌제의 다공성중공사막을, 상기 제1의 다공성중공사막을 얻기 위해서 사용하는 화합물의 용액에 침지하고, 다공성중공사막의 에폭시기에 제1의 다공성중공사막을 얻기 위해서 사용하는 화합물을 부가하면 좋다. 또한, 제1의 다공성중공사막을 얻기 위해서 사용하는 화합물의 사용량에 의해, 얻어지는 다공성중공사막의 킬레이트형성능력을 가지는 구조의 양을 조정할 수가 있다.
한편, 본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 제1의 다공성중공사막은, 이하에 나타낸 바와 같이, 산화 게르마늄의 경우는 겔마트란구조를 형성함에 의해, 이것을 포집하는 것이다.
한편, 상기 에폭시기를 함유하는 화합물의 잔기를 가지는 폴리에틸렌제의 다공성중공사막의, 상기 에폭시기를 함유하는 화합물의 잔기와, 제2에는 해당 잔기와 반응하여 식
으로 나타내는 구조(시스-1,2-디올구조)를 포함하는 잔기를 부여하는 화합물을 반응시키면, 본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 제2의 다공성중공사막을 얻을 수 있다.
상기 제2의 다공성중공사막을 얻기 위해서 사용하는 화합물로서는, 상기 식으로 나타내는 구조를 포함하는 잔기를 부여하는 화합물이면 특히 한정되지 않지만, 예컨대, N-메틸글루카민 또는 3-아미노-1,2프로판디올을 들 수 있다.
N-메틸글루카민을 사용한 경우, 본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 제1의 다공성중공사막은,
와 같은 구조를 취하고, 3-아미노-1,2프로판디올을 사용한 경우는,
와 같은 구조를 취하게 된다.
상기 제2의 다공성중공사막을 얻을 때의 제조조건으로서는, 예컨대, 상기 에폭시기를 함유하는 화합물의 잔기를 가지는 폴리에틸렌제의 다공성중공사막을, 상기 제2의 다공성중공사막을 얻기 위해서 사용하는 화합물의 용액에 침지하고, 다공성중공사막의 에폭시기에 제2의 다공성중공사막을 얻기 위해서 사용하는 화합물을 부가하면 좋다. 한편, 제2의 다공성중공사막을 얻기 위해서 사용하는 화합물의 사용량에 의해, 얻어지는 다공성중공사막의 킬레이트형성능력을 가지는 구조의 양을 조정할 수가 있다.
한편, 본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 제2의 다공성중공사막은, 이하에 도시하는 바와 같이, 산화 게르마늄의 경우는 시스-1,2-디올구조와의 착체를 형성함에 의해, 이것을 포집하는 것이다.
이상과 같이 하여 얻어진 본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막에 의해 게르마늄을 회수하기 위해서는, 우선, 예컨대 산화 게르마늄을 함유하는 수용액을 접촉시킴으로써, 해당 수용액중의 산화 게르마늄을, 상기 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막으로 포집하면 좋지만, 구체적으로는, 예컨대 산화 게르마늄을 함유하는 수용액을, 본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막의 내면으로부터 외면에 걸쳐서 투과시키면 좋다.
산화 게르마늄을 함유하는 수용액을 다공성중공사막의 내면으로부터 외면에 걸쳐서 투과시킬 때의 조건으로서는, 예컨대, 수산화나트륨 및 염산으로 pH를 3∼12로 조정한 0.01 wt% 산화 게르마늄수용액을, 일정압력 및 일정온도로 투과시킨 후, 필요에 따라, 물에 의한 세정조작을 하면 좋다.
상기한 바와 같이, 산화 게르마늄을 함유하는 수용액을 다공성중공사막의 내면으로부터 외면에 걸쳐서 투과시킴으로써, 산화 게르마늄은, 상기 겔마트란구조인지, 혹은, 시스-1,2-디올구조와의 착체 중 어느 하나를 취하고, 이에 따라 본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막으로 포집된다.
최종적으로, 산성용액에 의해 상기 포집된 산화 게르마늄을 용출함에 의해, 산화 게르마늄을 함유하는 수용액으로부터 산화 게르마늄을 회수하는 것이지만, 이 때의 산성용액으로서는, 예컨대 1M 정도의 농도의 염산을 들 수 있다.
한편, 산성용액에 의해 상기 포집된 산화 게르마늄을 용출하기 위해서는, 예컨대 포집하는 경우와 같이, 산성용액을 다공성중공사막의 내면으로부터 외면에 걸쳐서 투과시키면 좋다.
이하에 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세히 설명한다.
1. 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막의 작성
폴리에틸렌제 다공성중공사막(안지름 1.8 mm, 바깥지름 3.1 mm, 세공지름 0.3 ㎛, 빈 공율70%)에, 질소분위기하에서, 실온에서 방사선을 200 KGy 조사하여, 이것을 글리시딜메타크릴레이트의 메탄올용액이 들어간 유리제의 앰플에 투입하고,40℃에서 글리시딜메타크릴레이트를 그라프트중합한(글리시딜메타크릴레이트막[이하, GMA 막이라 함] 1Kg당의 에폭시기량: 4.0몰).
1-1)이미노디에탄올막의 작성
상기한 바와 같이 방사선그라프트중합한 GMA 막을 50 vol%의 이미노디에탄올수용액에 338 K(65℃)에서 침지하고, GMA 막의 에폭시기에 이미노디에탄올기를 부가시킨 막(이하 IDE 막이라 함)을 작성하였다.
1-2) 디이소프로판올아민막의 작성
마찬가지로, GMA 막을 1M 디이소프로판올아민수용액에 338 K(65℃)로 침지하고, GMA 막의 에폭시기에 디이소프로판올아민기를 부가시킨 막(이하, DPA 막이라 함)을 작성하였다.
1-3)N-메틸글루카민 막의 작성
마찬가지로, GMA 막을 0.5 M'N-메틸글루카민/50 vo1% 디옥산수용액에 353 K(80℃)로 침지하고, GMA 막의 에폭시기에 N-메틸글루카민기를 부가시킨 막(이하, N-MC 막이라 함)을 작성하였다.
1-4) 3-아미노-1,2-프로판디올막의 작성
마찬가지로, GMA 막을 1M 3-아미노-1,2-프로판디올/50 vo1% 디옥산수용액에 353 K(80℃)로 침지하고, GMA 막의 에폭시기에 3-아미노-1,2-프로판디올기를 부가시킨 막(이하, APD 막이라 함)을 작성하였다.
2. 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막의 구조의 확인
이들 막의 구조를 IR 스펙트럼에서 확인하였다. 즉, GMA 막으로부터 IDE막,DPA막, NMG 막 및 APD 막으로 변환함으로써, 847, 909 cm-1의 에폭시의 흡수가 소실하여, 3000∼3500 cm-1에 수산기의 흡수가 새롭게 출현하였다. 이하, 각각의 막의 IR 스펙트럼 데이터를 기재한다.
GMA 막(기재그라프트율 155.5%의 것)
2920, 2851 cm-1(CH 신축진동)
1734cm-1(CO 기)
1490 cm-11262 cm-11150cm-1부근 995 cm-1762 cm-1
909 cm-1(에폭시역대칭고리신축)
847 cm-1(에폭시역대칭고리신축)
IDE 막(변환율98%)
3000∼3500 cm-1(OH 기)
2917, 2851 cm-1(CH신축진동)
1725 cm-1(CO 기)
1474 cm-11250 cm-11163 cm-1부근 1068 cm-1
에폭시역대칭신축의 흡수는 소실
DPA 막(변환율90%)
3000∼3500 cm-1(OH 기)
2919, 2851 cm-1(CH 신축진동)
1728 cm-1(CO 기)
1472cm-11271 cm-11150cm-1995 cm-1
에폭시역대칭고리신축의 흡수는 소실
NMG 막(변환율82%)
3000∼3500 cm-1(OH 기)
2919, 2851cm-1(CH 신축진동)
1717 cm-1(CO 기)
1474, 1260, 1170, 1084 cm-1
에폭시역대칭고리신축의 흡수는 소실
APD 막(변환율68%)
3000∼2500 cm-1(OH기)
2919, 2851 cm-1(CH 신축진동)
1725 cm-1(CO 기)
1474, 1269, 1168 cm-1
에폭시역대칭고리신축의 흡수는 소실
3. 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막에의 산화 게르마늄의 흡착
상기한 바와 같이 하여 제조한 4종류의 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막(IDE막, DPA막, NMG 막 및 APD 막)을, 도 1에 나타낸 바와 같은 투과장치에 세트하였다. 다음에, 이하의 3종류의 조작을 위해, 3종류의 용액을 순차로, 일정압력(0.01 MPa) 및 일정온도(24℃)로 투과시키었다.
1)흡착조작: 0.01 wt% 산화 게르마늄수용액(수산화나트륨 및 염산으로 pH를 3∼12로 조정하였다.)
2)세정조작: 물
3)용출조작: 1M 염산
각각의 조작에 관해서, 투과액을 연속적으로 시험관에 분취하였다. 그 투과액 중의 게르마늄농도를 페닐플루오론법에 따라서 정량하여, 다공성중공사막으로의 게르마늄흡착량을, 공급액의 게르마늄농도와 투과액의 게르마늄농도의 차로부터 산출하였다.
4. 결과
4-1) 게르마늄흡착량의 비교
다공성중공사막(IDE막, DPA막, NMG 막 및 APD 막)에 산화 게르마늄수용액을 투과시키었을 때의 게르마늄의 흡착량을, 흡착량곡선으로 하여 도 2에, pH=4.6일때의 각각의 다공성중공사막의 흡착성능을 표 1에 나타낸다.
표 1
중공사막(관능기) 초기 pH 흡착량(mmol/g) 용출량(mmol/g) 용출율(%) 결합몰비(Ge/관능기량)
DPA막 4.6 1.0 1.0 99 0.74
NMG막 4.6 0.6 0.6 100 0.55
APD막 4.6 0.6 0.5 73 0.42
IDE막 4.6 1.2 1.2 99 0.85
3.2 1.1 1.1 100 0.70
7.8 1.2 1.2 100 0.88
11.7 0.1 0.1 99 0.26
도 2 및 표 1에서, IDE 막의 흡착량이 가장 높고, 막 1 Kg당 1.2 mmol/g이 되고, IDE 막 및 DPA 막이 NMG 막 및 APD 막보다 높은 흡착능력을 나타내었다.
한편, 상기 「DEV」는 투과액량/막부피(단, 중공부를 제외한다)를 나타내고 있다.
또한, 모든 다공성중공사막의 용출율이 거의 100%이며, 흡탈착의 반복 사용이 가능한 것을 알 수 있었다.
4-2) IDE 막의 게르마늄흡착성능에 있어서의 pH의존성
IDE 막에 대한 산화 게르마늄수용액의 공급시의 초기 pH를, 3.2에서 11.7로 변화시켜 투과시키었을 때의, IDE 막에 있어서의 흡착량의 pH의존성을 도 3에 나타낸다. 도 3의 흡착량 및 표 1에서, 산화 게르마늄흡착량은 초기 pH가 3에서 12의 범위로 변화하는 것을 알 수 있었다. pH=7.8일 때의 IDE기에 대한 게르마늄의 결합 몰비는 0.88이며, pH=11.7일 때보다 약 3.4배만큼 높아지고, 이 점에서 산화 게르마늄흡착량은 pH에 의해서 변화하고, pH=7.8일 때가 최적이라는 것을 알 수 있었다.
5. 고용량 IDE 막에 대한 산화 게르마늄의 흡착
5-1) 산화 게르마늄의 흡착량의 비교
흡착량을 더욱 높게 하기 위해서, GMA 그라프트율 및 IDE기전화율을 높인 고용량 IDE 막(관능기밀도: 2.9 mol/kg)에 의한 산화 게르마늄의 흡착실험(초기 pH: 7.1)을, 상기와 동일하게 하여 행하였다. 그 때의 산화 게르마늄의 파과곡선(破過曲線)을 도 4에 나타내었다. 또한, 비교를 위해, 상기 흡착실험에 있어서의 최적조건(관능기밀도 1.3 mol/kg)에 있어서의 파과곡선을 마찬가지로 도 4에 나타내었다.
도 4로부터 명백하듯이, 고용량 IDE 막에 의하면, 고용량의 산화 게르마늄의 흡착이 가능하다.
5-2) 맨노스측쇄 키토산수지 및 N-2,3-디히드록시프로필키토산수지와의 비교
고용량 IDE 막의 산화 게르마늄의 흡착량과, 금속을 흡착하는 것이 알려지고 있는 맨노스측쇄 키토산수지 및 N-2,3-디히드록시프로필키토산수지(키틴·키토산연구 Vol. 4, No. 2, 1998)의 산화 게르마늄의 흡착량을 비교하고, 결과를 표 2에 나타낸다. 고용량 IDE 막의 Ge 흡착량이 2.7 몰/kg (l96g/kg)와 지금까지보다 약 2.3배 높아지고, 기재수지가 키토산인 키토산수지보다도 흡착량이 높다는 것을 알 수 있었다.
표 2
게르마늄흡착제 기재수지 초기pH 흡착량(mmol/g) 용출량(mmol/g) 용출율(%) 그라프트율(%) 전화율(%)
IDE막 폴리에틸렌 7.1 2.7 2.7 100 213 86
맨노스키토산수지 키토산 7.2 2.4 - - - -
N-2,3-디히드록시프로필키토산수지 키토산 3.9 1.4 - - - -
5-3) IDE 막의 흡착에 있어서의 유량의존성
IDE 막에 산화 게르마늄의 수용액(초기 pH 6.3)을, 유량을 5, 10, 25 및 50 ml/분으로 투과시키었을 때의 Ge의 파과곡선을 도 5에 나타낸다. 유량이 10배까지 변화하여도, 파과곡선의 형은 변화하지 않고, 흡착량이 일정하였다. 이 점에서, 막두께방향으로 수직한 방향의 확산이동저항은, 무시할 수 있을 정도로 대단히 작다는 것을 알았다. 한편, 산화 게르마늄의 흡착량은 4회의 평균으로 0.99 몰/kg(72.1 g/kg)이고, 또한, DEtA기에 대한 산화 게르마늄의 결합 몰비는 0.72이었다.
5-4) IDE 막의 반복흡착특성
IDE 막에 의한 6회의 흡착-용출-재생싸이클을 반복하였을 때의 용출율과, 6회 중 후반의 4회의 결합 몰비를 도 6에 나타낸다. 각 회 각각의 용출율이 100% 부근에서 일정하게 되고, 후반 4회의 막으로의 Ge 흡착량에 변화가 없었다. 이에 따라, IDE 막에 있어서, 흡착-용출-재생싸이클의 반복 사용이 가능하게 되고, 흡착-용출-재생싸이클의 반복 사용회수가 불어나더라도 흡착용량이나 용출율의 성능이 저하하지 않고, 공업적으로 사용할 수 있는 흡착재인 것을 알 수 있었다.
5-5) IDE 막의 용출특성
용출특성을 조사하기 위해서, IDE 막에 산화 게르마늄의 수용액(초기 pH 6.3)을 투과시키고, 용출조작에서의 분취량을 상기의 투과액의 분취량에서 1/10로서 조작하였다. 그 용출곡선을 도 7에 나타낸다. 용출액의 피크농도로부터, 공급액농도의 약 45배로 농축할 수 있고, 또한, 흡착하고 있던 산화 게르마늄의 90%가 막부피(약 0.4 mL)의 3배, 100%가 30배의 1M 염산으로 용출할 수가 있었다.
이상과 같이, 본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막은, 효율적으로 산화 게르마늄을 흡착할 수 있는 것이며, 또한, 이 다공성중공사막을 모듈화함으로써, 산화 게르마늄의 회수를 재빠르고, 대량으로, 반복하여 행할 수 있다.
본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막은, 예컨대 트리에탄올아민구조 혹은 디 또는 폴리올 구조와 같은 킬레이트형성능력을 가지는 관능기를 갖고 있기 때문에, 높은 효율로 산화 게르마늄을 흡착할 수 있다.
또한, 본 발명의 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막에 흡착된 산화 게르마늄은, 산처리를 함으로써, 용출율의 거의 100%로 회수할 수가 있고, 흡탈착의 반복 사용이 가능하다.

Claims (5)

  1. 폴리에틸렌제 다공성중공사막의 표면에 방사선그라프트중합된 에폭시기를 함유하는 화합물의 잔기와, 해당 잔기와 반응하여 식
    (식 중, R1및 R2은 수소원자 또는 저급알킬기를 나타낸다.), 또는, 식
    로 나타내는 구조를 포함하는 잔기를 부여하는 화합물을 반응시켜 얻어지는 것을 특징으로 하는 킬레이트 형성능력을 가지는 다공성중공사막.
  2. 제 1 항에 있어서, 방사선그라프트중합된 에폭시기를 함유하는 화합물이 글리시딜메타크릴레이트인 킬레이트형성능력력을 가지는 다공성중공사막.
  3. 제 1 항에 있어서,
    식
    (식중, R1및 R2는 수소원자 또는 저급알킬기를 나타낸다.)로 나타내어지는 구조를 포함하는 잔기를 부여하는 화합물이, 2,2-이미노디에탄올 또는 디-2-프로판올아민인 킬레이트형성능력력을 가지는 다공성중공사막.
  4. 제 1 항에 있어서,
    로 나타내어지는 구조를 포함하는 화합물이, N-메틸글루카민 또는 3-아미노-1,2프로판디올인 킬레이트형성능력력을 가지는 다공성중공사막.
  5. 폴리에틸렌제 다공성중공사막의 표면에 방사선그라프트중합된 에폭시기를 함유하는 화합물의 잔기와, 해당 잔기와 반응하여 식
    (식중, R1및 R2는 수소원자 또는 저급알킬기를 나타낸다.), 또는, 식
    로 나타내는 구조를 포함하는 잔기를 부여하는 화합물을 반응시켜 얻어지는 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막에 대하여, 산화 게르마늄을 함유하는 수용액을 접촉시킴으로써 해당 수용액중의 산화 게르마늄을, 상기 킬레이트형성능력을 가지는 다공성중공사막으로 포집하고, 그 후, 산성용액에 의해 상기 포집된 산화 게르마늄을 용출하는 것을 특징으로 하는, 킬레이트형성능력력을 가지는 다공성중공사막에 의한 산화게르마늄의 회수방법.
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