KR200181367Y1 - 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치 - Google Patents

웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR200181367Y1
KR200181367Y1 KR2019970032507U KR19970032507U KR200181367Y1 KR 200181367 Y1 KR200181367 Y1 KR 200181367Y1 KR 2019970032507 U KR2019970032507 U KR 2019970032507U KR 19970032507 U KR19970032507 U KR 19970032507U KR 200181367 Y1 KR200181367 Y1 KR 200181367Y1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
drain
photosensitive agent
solvent
bubbler
nozzle
Prior art date
Application number
KR2019970032507U
Other languages
English (en)
Other versions
KR19990019173U (ko
Inventor
이광석
Original Assignee
김영환
현대반도체주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김영환, 현대반도체주식회사 filed Critical 김영환
Priority to KR2019970032507U priority Critical patent/KR200181367Y1/ko
Publication of KR19990019173U publication Critical patent/KR19990019173U/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR200181367Y1 publication Critical patent/KR200181367Y1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 고안은 감광제가 드레인 되는 드레인 노즐의 선단부에 감광제가 잔류하여 드레인 노즐 선단을 막는 현상을 방지하므로써, 감광제의 누설로 인한 장비의 오염 및 장비 다운을 방지할 수 있도록 한 것이다.
이를 위해, 본 고안은 감광제 수납용기(13)로부터 펌핑된 감광제중의 일부를 필터 하우징(14)을 거쳐 웨이퍼(17) 상면에 도포하고, 이물 및 버블이 들어 있는 감광제는 상기 필터 하우징(14)에 연결된 서브 드레인 라인(1)의 드레인 노즐(3)을 통해 메인 드레인 가이드(19)로 보내어 배출하도록 된 웨이퍼(17) 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치에 있어서; 상기 서브 드레인 라인(1)상에 솔벤트 배쓰(2)가 설치되고, 상기 솔벤트 배쓰(2)의 선단에는 상기 솔벤트 배쓰(2) 상부를 밀폐하는 한편 드레인 노즐(3)이 관통하는 밀폐부재(4)가 설치되고, 상기 밀폐부재(4) 하부에는 드레인 노즐(3)의 선단부가 잠기도록 솔벤트(5)가 채워지는 버블러(6)가 설치되며, 상기 버블러(6)에는 상기 버블러(6)로 솔벤트(5)를 공급하기 위한 솔벤트 공급라인(8)이 연결됨을 특징으로 하는 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치가 제공된다.

Description

웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치
본 고안은 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 웨이퍼 노광을 위한 트랙장비의 감광제 드레인 장치의 구조 개선에 관한 것이다.
도 1은 종래의 감광제 도포 장비를 나타낸 구성도이고, 도 2는 도 1의 A부 상세도로서, 호스트 컴퓨터(도시는 생략함)에 프로그램을 입력한 후, 장비를 가동시키면, 감광제 수납용기(13)에 연결된 감광제 디스펜스용 펌프(12)가 작동하게 되고, 상기 펌프(12)가 작동함에 따라 감광제 수납용기(13) 내의 감광제는 필터 하우징(14)을 거쳐 코터 컵(15)의 웨이퍼 척(16)에 안착된 웨이퍼(17) 상면에 도포된다.
이 때, 도포되는 감광제에 이물질이나 마이크로 버블(micro bubble)이 섞일 경우에는 감광제 도포 불량을 야기하게 되므로, 이를 방지하기 위하여 이물 및 버블 등을 제거하는 필터 하우징(14)부의 마이크로 밸브(18)가 동시에 개방된다.
따라서, 감광제중 일부는 필터 하우징(14)을 통과하여 이물 및 마이크로 버블이 제거된 상태로 웨이퍼(17)에 분사되고, 일부는 필터 하우징(14)부에 연결된 서브 드레인 라인(1) 상에 설치된 마이크로 밸브(18)를 통해 드레인(drain)된다.
이 때, 웨이퍼(17) 상면에 분사되는 감광제중 도포되고 남는 감광제는 코터 컵(15) 하부로 모인 다음 공정 진행후, 메인 드레인 가이드(main drain guide)(19)를 통하여 메인 드레인 탱크(main drain tank)(20)로 빠져나가게 된다.
한편, 필터 하우징(14)에 연결된 서브 드레인 라인(sub drain line)(1)의 마이크로 밸브(18)를 통해 드레인되는 이물이나 마이크로 버블을 포함한 감광제는 1차 집결지 역할을 하는 서브 드레인 가이드(21)(sub drain guide)에 모여진 후, 업/다운 드레인 가이드(up/down drain guide)(22)를 통과하여 메인 드레인 탱크(20)로 배출된다.
그러나, 이와 같은 종래의 감광제 드레인 장치는 필터 하우징(14)부에서 드레인 되어나온 감광제가 서브 드레인 라인(1)에 연결된 드레인 노즐(3) 끝단에 남게 되며, 이 상태에서 솔벤트(5) 성분이 휘발되고 나면 건조된 감광제가 드레인 노즐(3)의 출구를 막아버리게 된다.
이와 같이, 드레인 노즐(3)에 묻은 감광제가 응고되어 노즐의 출구를 막을 경우에는 버블 및 이물질이 드레인 되지 못하게 되는 문제가 발생하게 된다.
또한, 드레인 된 감광제의 1차 집결지인 서브 드레인 가이드(21) 및, 업/다운 드레인 가이드(22)측도 감광제가 모여 있다가 건조되므로서 감광제 배출 통로를 막아버리게 된다.
이와 같이, 서브 드레인 가이드(21)와 업/다운 드레인 가이드(22)에 묻어 있던 감광제가 굳어 감광제의 배출을 방해할 경우, 감광제는 도 3에 화살표로 나타낸 바와 같이 오버플로우되어 FAB(Fabrication)환경에 악영향을 미치게 되며, 장치적으로는 장비의 다운(down)을 발생시켜 생산성을 저하시키게 된다.
본 고안은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 감광제가 드레인 되는 드레인 노즐의 선단부에 감광제가 잔류하여 드레인 노즐 선단을 막는 현상을 방지하므로써, 감광제의 누설로 인한 FAB환경오염 및 장비 다운을 방지할 수 있도록 한 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 종래의 감광제 도포장비를 나타낸 구성도
도 2는 감광제에 의한 막힘 부위를 표시한 도 1의 A부 상세도
도 3은 본 고안이 적용된 감광제 도포장비를 나타낸 구성도
도 4는 도 3의 B부 상세도
도 5는 도 4의 Ⅰ-Ⅰ선을 나타낸 단면도
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1:서브 드레인 라인 2:솔벤트 배쓰
3:드레인 노즐 4:밀폐부재
5:솔벤트 6:버블러
7:솔벤트 탱크 8:솔벤트 공급라인
9:공압 밸브 10:솔레노이드 밸브
11:컨트롤러
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 고안은 감광제 수납용기로부터 펌핑된 감광제중의 일부를 필터 하우징을 거쳐 웨이퍼 상면에 도포하고, 이물 및 버블이 들어 있는 감광제는 상기 필터 하우징에 연결된 서브 드레인 라인의 드레인 노즐을 통해 메인 드레인 가이드로 보내어 배출하도록 된 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치에 있어서; 상기 서브 드레인 라인상에 솔벤트 배쓰가 설치되고, 상기 솔벤트 배쓰의 선단에는 상기 솔벤트 배쓰 상부를 밀폐하는 한편 드레인 노즐이 관통하는 밀폐부재가 설치되며, 상기 밀폐부재 하부에는 드레인 노즐의 선단부가 잠기도록 솔벤트가 채워지는 버블러가 설치되고, 상기 버블러에는 상기 버블러로 솔벤트를 공급하기 위한 솔벤트 공급라인이 연결됨을 특징으로 하는 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치가 제공된다.
이하, 본 고안의 일실시예를 첨부도면 도 3 내지 도 5를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 3은 본 고안에 따른 감광제 도포장비를 나타낸 구성도이고, 도 4는 도 3의 B부 상세도이며, 도 5는 도 4의 Ⅰ-Ⅰ선을 나타낸 단면도로서, 본 고안은 웨이퍼(17) 노광용 트랙장비의 감광제 배출을 위한 서브 드레인 라인(1)상에 설치되는 솔벤트 배쓰(2) 선단에 상기 솔벤트 배쓰(2) 상부를 밀폐하는 한편 드레인 노즐(3)이 관통하는 밀폐부재(4)가 설치되고, 상기 밀폐부재(4) 하부에는 드레인 노즐(3)의 선단부가 잠기는 액면까지 솔벤트(5)가 채워지는 버블러(6)가 설치되며, 상기 버블러(6)에는 상기 버블러(6)로 솔벤트 탱크(7)의 솔벤트(5)를 보내기 위한 솔벤트 공급라인(8)이 연결되어 구성된다.
이 때, 상기 솔벤트 공급라인(8) 상에는 공압 밸브(9) 및 솔레노이드 밸브(10)가 설치되며, 상기 공압밸브 및 솔레노이드 밸브(10)는 각각 컨트롤러(11)에 연결되어 컨트롤러(11)의 제어를 받아 솔벤트 공급라인(8)을 개폐시키게 된다.
이와 같이 구성된 본 고안의 작용은 다음과 같다.
호스트 컴퓨터(도시는 생략함)에 프로그램을 입력한 후, 장비를 가동시키면, 감광제 수납용기(13)에 연결된 디스펜스용 펌프(12)가 작동하게 되고, 상기 펌프(12)가 작동함에 따라 감광제 수납용기(13) 내의 감광제는 필터 하우징(14)을 거쳐 코터 컵(15)의 웨이퍼 척(16)에 안착된 웨이퍼(17) 상면에 도포된다.
이 때, 도포되는 감광제에 이물질이나 마이크로 버블이 섞일 경우에는 감광제 도포 불량을 야기하게 되므로, 이물질 및 마이크로 버블 등을 제거하는 필터 하우징(14)부의 마이크로 밸브(18)가 동시에 개방된다.
따라서, 감광제중 일부는 필터 하우징(14)을 통과하여 이물 및 마이크로 버블이 제거된 상태로 웨이퍼(17)에 분사되고, 일부는 필터 하우징(14)부에 연결된 서브 드레인 라인(1) 상에 설치된 마이크로 밸브(18)를 통해 드레인된다.
이 때, 웨이퍼(17) 상면에 분사되는 감광제중 도포되고 남는 감광제는 코터 컵(15) 하부로 모인 다음 공정 진행후, 메인 드레인 가이드(19)를 통하여 메인 드레인 탱크(20)로 빠져나가게 된다.
한편, 필터 하우징(14)에 연결된 서브 드레인 라인(1)의 마이크로 밸브(18)를 통해 드레인되는 이물이나 마이크로 버블을 포함한 감광제는 서브 드레인 라인(1)상이 드레인 노즐(3)을 통해 버블러(6)로 유입된다.
이 때, 상기 버블러(6) 내에는 솔벤트(5)가 선단까지 차 오버플로우 되고 있으며, 상기 드레인 노즐(3)의 선단은 상기 버블러(6)의 솔벤트(5) 내에 담겨진 상태이다.
따라서, 드레인 노즐(3)을 통해 버블러(6)로 배출되는 감광제는 솔벤트(5)에 녹은 후, 솔벤트 공급라인(8)을 통해 솔벤트가 지속적으로 공급됨으로 인해, 도 5에 화살표로 나타낸 바와 같이 버블러(6)의 전둘레에 걸쳐 오버플로우되어 솔벤트 배쓰(2)로 빠져 나간 후, 솔벤트 배쓰(2)에 연결된 메인 드레인 가이드(19)를 통해 메인 드레인 탱크(20)로 드레인된다.
이 때, 상기 버블러(6)의 저면에는 솔벤트(5)를 분출시키는 분출공(6a)이 형성되어 있는데, 분출공은 버블러(6) 저면의 전영역에 걸쳐서 균일한 분포를 갖도록 하거나, 도 5에 예로 나타낸 바와 같이 한정된 영역에만 형성하여도 무방하다.
요컨데, 본 고안의 드레인 장치는 이물 및 마이크로 버블을 함유한 감광제가 맺히는 드레인 노즐(3) 선단이 솔벤트(5) 내에 위치하게 되므로 인해, 드레인 노즐(3)이 막히는 현상이 해소될 뿐만 아니라, 버블러(6)에서 오버플로우된 솔벤트(5)가 솔벤트 배쓰(2)를 지나, 메인 드레인 가이드(19)를 통해 메인 드레인 탱크(20)로 빠져나가게 되므로 인해, 감광제가 빠져나가는 통로에 감광제가 굳어 막히는 현상도 해소된다.
본 고안은 종래장치에서 드레인 노즐(3)의 출구가 막히는 현상 및 서브 드레인 가이드(21)와 업/다운 드레인 가이드(22)에서 발생되는 동작불량 및 감광제의 오버플로우 현상 등을 완전히 해소할 수 있게 된다.
이에 따라, 환경 저해 요소의 해결로 안전한 FAB 환경을 구축할 수 있으며, 장비 다운 타임이 전혀 발생하지 않게 되므로 인해, 장비 가동율 및 생산성을 행상시키는 기여 효과가 있다.

Claims (2)

  1. 감광제 수납용기로부터 펌핑된 감광제중의 일부를 필터 하우징을 거쳐 웨이퍼 상면에 도포하고, 이물 및 버블이 들어 있는 감광제는 상기 필터 하우징에 연결된 서브 드레인 라인의 드레인 노즐을 통해 메인 드레인 가이드로 보내어 배출하도록 된 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치에 있어서;
    상기 서브 드레인 라인상에 솔벤트 배쓰가 설치되고,
    상기 솔벤트 배쓰의 선단에는 상기 솔벤트 배쓰 상부를 밀폐하는 한편 드레인 노즐이 관통하는 밀폐부재가 설치되며,
    상기 밀폐부재 하부에는 드레인 노즐의 선단부가 잠기도록 솔벤트가 채워지는 버블러가 설치되고,
    상기 버블러에는 상기 버블러로 솔벤트를 공급하기 위한 솔벤트 공급라인이 연결됨을 특징으로 하는 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 솔벤트 공급라인 상에는 공압 밸브 및 솔레노이드 밸브가 설치되고, 상기 공압밸브 및 솔레노이드 밸브는 각각 컨트롤러의 제어를 받도록 연결되어 상기 컨트롤러의 제어를 받은 공압밸브 및 솔레노이드 밸브의 작동에 따라 솔벤트 공급라인이 개폐됨을 특징으로 하는 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치.
KR2019970032507U 1997-11-17 1997-11-17 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치 KR200181367Y1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019970032507U KR200181367Y1 (ko) 1997-11-17 1997-11-17 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019970032507U KR200181367Y1 (ko) 1997-11-17 1997-11-17 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990019173U KR19990019173U (ko) 1999-06-05
KR200181367Y1 true KR200181367Y1 (ko) 2000-05-15

Family

ID=19514299

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2019970032507U KR200181367Y1 (ko) 1997-11-17 1997-11-17 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR200181367Y1 (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
KR19990019173U (ko) 1999-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH08220722A (ja) 写真用化学薬品を容器から混合タンクに注出しかつ容器を洗浄する装置
KR19980069633A (ko) 반도체 제조용 포토 레지스트 코팅 장치
KR200181367Y1 (ko) 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치
JPS587831A (ja) 高圧水によるウェハの洗浄方法及び装置
KR100745213B1 (ko) 인쇄회로기판 제조용 기포 제거장치
KR101347505B1 (ko) 슬릿 코터 장치 및 슬릿 코터 장치의 슬릿 노즐의 내부 세정 방법
JP3511230B2 (ja) 塗布ノズルの乾燥防止装置および乾燥防止方法
KR101401431B1 (ko) 노즐 에어 밴트 장치 및 방법
KR100780936B1 (ko) 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법
KR100672928B1 (ko) 포토레지스터 코팅 설비
JPH11121422A (ja) 薬液供給装置
KR0121510Y1 (ko) 버블 제거수단이 장착된 감광액 제거장치
KR100292064B1 (ko) 반도체 웨이퍼의 현상 공정을 위한 노즐장치
JP2007125545A (ja) 排水処理装置
KR100666467B1 (ko) 버블 제거 장치를 포함하는 코터 설비
KR100542495B1 (ko) 현상장치의 노즐구조
KR19980039375A (ko) 약품 공급 장치
KR200141180Y1 (ko) 반도체 현상장비의 버블제거장치
KR200270009Y1 (ko) 트랙장비의 케미컬 드레인 장치
KR20030052825A (ko) 반도체 현상장비의 현상액 분사장치
KR19980050037U (ko) 현상액의 버블 자동 제거장치
KR200373861Y1 (ko) 반도체 웨이퍼 식각 공정의 과다 식각을 방지하기 위한 약액조장치
KR0127366Y1 (ko) 웨이퍼의 배면세정장치
KR100674902B1 (ko) 클리닝부를 구비한 코팅장치
KR100187443B1 (ko) 반도체설비의 케미컬 순환공급장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
REGI Registration of establishment
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20050120

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee