KR20010079620A - 위생도기 - Google Patents
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Abstract
본 명세서는 지방산, 지방산 에스테르, 금속성 비누(비누 찌끼), 단백질, 아미노산, 박테리아, 및 곰팡이와 같은 카르복시-함유 기름 얼룩 또는 오물, 및 물때와 요석과 같은 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능을 갖는 위생도기를 제공한다. 본 발명의 위생도기는 적어도 위생도기 몸체 및 위생도기의 최외부층인 유약층을 포함하며, 최외부층인 유약층 표면 전체에 걸쳐 균일하게 연속적으로 방출될 수 있도록 제공되는 1가의 금속 성분 및/또는 폴링의 법칙을 기준으로 전기 음성도 측정치가 1 이하인 금속 성분을, 얼룩 또는 오물을 최외부층인 유약층의 표면으로 방출하는 자정 적용을 주기에 충분히 많은 양으로 가지며, 금속 성분은 최외부층인 유약층 및/또는 위생도기 몸체로부터 최외부층의 표면 전체로 공급될 수 있다.
본 발명의 위생도기는 위생도기의 얼룩 또는 오물을 간단히, 예를 들면 흐르는 물로, 계면활성제를 사용하지 않고 및 수세미 또는 세척솔로 위생도기 표면을 강하게 문지름 없이 쉽게 제거할 수 있는 유리한 것이다.
Description
위생도기 표면의 양호한 외관 및 높은 청결도는 위생학적 및 미적 효과의 관점에서 중요하다. 더우기, 장기간 양호한 외관 및 높은 청결도가 유지되는 것이 바람직하다.
위생도기 표면의 청결을 유지하고 위생도기 표면의 양호한 외관을 간직하기기 위해, 계면 활성제, 산성세척제 또는 알칼리성 세척제와 같은 세제를 함유하는 수세미 또는 세척솔로 위생도기 표면을 강하게 문지르는 것이 일반적이다. 특히, 위생도기 표면에 부착된 얼룩 또는 오물은 세제에 의한 화학 세정력의 이용 및 수세미 또는 세척솔로 문지름에 의한 물리적 세정 작용의 이용을 통해 제거된다.
이와 같은 세정 작업은 쉽지 않고, 그러므로 세정 작업의 빈도를 줄이는 것이 요구된다. 더우기, 최근 계면활성제-함유 폐수에 의한 환경오염이 지적되고 있다. 그러므로, 계면활성제 사용량 및 계면 활성제 사용 빈도의 감소가 요구된다.
이런 상황에서, 매우 위생적이고 양호한 외관의 표면을 갖는 위생도기에 대해 몇몇 제안이 있어 왔다.
예를 들면, 위생도기 표면 에너지를 감소시키고, 그것에 의해 얼룩 또는 오물이 표면에 부착되는 경향을 줄이기 위해, 위생도기 표면에 플루오로알킬기를 함유하는 플루오로수지 또는 실록산 수지를 코팅하는 것이 제안되어져 왔다.
또 다른 제안은 얼룩 또는 오물이 위생도기 표면에 부착되거나 강하게 점착되는 것을 막기 위해 가능한 한 표면을 매끄럽게 만드는 것이다. 그러나 이 제안에서, 얼룩 또는 오물의 부착 억제, 내구성 및 광택에 대한 표면 상태의 관련은 충분히 연구되지 않았다. 특히, 매끄러운 표면을 갖는 위생도기는, 매끄러운 표면이 그 위에 얼룩 또는 오염의 부착을 억제할 것이며 심미적 관점에서도 바람직하다는 단순한 개념적 이해를 기초로 제안되어져 왔다.
더우기, 위생도기 표면의 항균성와 관련하여, 표면층인 유약층을 개량하기 위해 다음의 기술이 제안되어져 왔다.
일본 특허공개 제 236846/1998호에는 기존의 유색 유약 위에, 유약과 연합하는 무기 항균제를 갖는 투명 유약을 소성 전에 도포한 후, 유색 유액과 투명 유약을 소성하여 제조하는 도기 또는 도자기 제품이 기재되어 있다.
WO 제96/23412호에는 항균 부재의 표면에 제공되어질 유약층인 밑유약이 기재되어 있다. 유약층인 밑유약은 물, 유약 재료, 및 안료를 함께 혼합하고, 혼합물을 연마하여 밑유약을 제조하고, 밑유약과 항균금속을 제공하는 내열분말을 혼합하고, 그 다음 혼합물을 결합제와 함께 혼합하여 제조된다.
본 발명은 대변기, 소변기, 변기용 여과기, 대변기 또는 소변기용 물탱크, 세면대용 세면기 또는 수세용기 등과 같은 위생도기에 관한 것이다.
도 1은 위생도기의 최외부층 표면에 세정금속 성분의 분포를 나타내는 개략도이다.
도 2는 얼룩 또는 오물이 수용성이 되도록, 세정금속 성분이 치환 반응에 의해 얼룩 및 오물을 구성하는 분자에 흡착 또는 첨가되는 것을 나타내는 다이아그램이다.
도 3은 위생도기 표면에서 수화층의 형성을 설명하는 다이아그램이다.
도 4는 본 발명의 첫번째 구현예에 따른 위생도기의 층 구성을 나타내는 다이아그램이며, 여기서 숫자 1은 위생도기 몸체, 숫자 2는 최외부층인 유약층을 나타낸다(도 4의 숫자 1 및 2는 도 5 내지 도 8에도 적용된다).
도 5는 본 발명의 두번째 구현예에 따른 위생도기의 층 구성을 나타내는 다이아그램이며, 여기서 숫자 3은 중간층인 유약층을 나타낸다(도 5의 숫자 3은 도 6 내지 도 8에도 적용된다).
도 6은 본 발명의 세번째 구현예에 따른 위생도기의 층 구성을 나타내는 다이아그램이며, 여기서 숫자 4는 금속 성분층을 나타낸다(도 6의 숫자 4는 도 7 및 도 8에도 적용된다).
도 7는 본 발명의 네번째 구현예에 따른 위생도기의 층 구성을 나타내는 다이아그램이다.
도 8은 본 발명의 다섯번째 구현예에 따른 위생도기의 층 구성을 나타내는 다이아그램이다.
도 9는 본 발명에 따른 위생도기(실시예 C1) 에서, 전자탐침 미량분석기(JXA 8900RL, Japan Electric Optical LAboratory사 제품)로 측정한 유약층 표면의 반사 전자조성상 및 매핑상이다. 여기서 (a)는 칼륨의 분포를 나타내며 칼륨 농도가 높을수록 더 흰색이 나타난다. (b)는 나트륨의 분포를 나타내며 나트륨의 농도가 높을 수록 더 흰색이 나타난다. (c)는 흰색부분에 존재하는 ZrO2의 반사전자조성상을 나타낸다.
도 10은 종래의 위생도기(비교예 C1)에서, 전자탐침 미량분석기(JXA 8900RL, Japan Electric Optical LAboratory사 제품)으로 측정한 유약층 표면의 반사 전자조성상 및 매핑상이다. 여기서 (a)는 칼륨의 분포를 나타내며 칼륨 농도가 높을수록 더 흰색이 나타난다. (b)는 나트륨의 분포를 나타내며 나트륨의 농도가 높을 수록 더 흰색이 나타난다. (c)는 흰색부분으로 나타나는 ZrO2의 반사 전자 조성상을 나타낸다.
본 발명의 목적은 위생도기의 표면에 부착된 얼룩 또는 오물을 간단히, 예를들면 흐르는 물로 제거할 수 있는 위생도기를 제공하는 것이다.
상기 목적은 다음 발명에 의해 달성될 수 있다. 특히, 본 발명의 첫번째 구현예에 따르면, 적어도 위생도기 몸체 및 위생도기의 최외부층인 유약층, 최외부층인 유약층의 표면 전체에 걸쳐 균일하게 연속적으로 방출되도록, 최외부층인 유약층의 표면으로 얼룩 또는 오염을 방출하는 자정기능을 제공하기에 충분한 양으로 제공되는, 1가의 금속 성분 및/또는 폴링의 법칙을 기준으로 1 이하의 전기음성도를 갖는 금속 성분(이하 "세정금속 성분"으로 명명)으로 이루어진 위생도기가 제공되며, 금속 성분은 최외부층인 유약층으로부터 및/또는 위생도기 몸체에서 최외부층인 유약층의 표면 전체로 공급될 수 있다.
본 발명의 두번째 구현예에 따르면, 본 발명의 첫번째 구현예에 따른 위생도기에서, 최외부층인 유약층은 투명 유약층이고, 위생도기는 추가로 위생도기 몸체와 최외부층인 유약층 사이에 제공되는 증간층인 유색 유약층을 포함하는 위생도기를 제공한다.
본 발명의 세번째 구현예에 따르면, 본 발명의 첫번째 구현예에 따른 위생도기에서, 주성분으로서 금속 성분을 포함하고, 위생도기 몸체와 최외부층인 유약층 사이에 제공되는, 금속 성분층을 추가로 포함하며, 금속 성분은 금속 성분층으로부터 최외부층인 유약층의 표면 전체에 걸쳐 공급되는 위생도기가 제공된다.
본 발명의 네번째 구현예에 따르면, 본 발명의 첫번째 구현예 따른 위생도기에서, 최외부층인 유약층은 투명 유약층이며, 위생도기는 추가로, 위생도기 몸체와 최외부층인 유약층 사이에 제공되며 위생도기 몸체 쪽에 제공되는 중간층인 유색유약층, 및 주성분으로서 금속 성분을 함유하고 최외부층인 유약층쪽에 제공되는 금속 성분층을 포함하며, 금속성분은 금속 성분층으로부터 최외부층인 유약층의 표면 전체에 공급된다.
본 발명의 다섯번째 구현예에 따르면, 본 발명의 첫번째 구현예 따른 위생도기에서, 최외부층인 유약층은 투명 유약층이며, 위생도기는 추가로, 위생도기 몸체와 최외부층인 유약층 사이에 제공되며, 위생도기 몸체쪽에 제공되는, 주성분으로서 금속 성분을 함유하는 금속 성분층, 및 최외부층인 유약층쪽에 제공되는 증간층인 유색 유약층을 포함하며, 금속 성분은 금속 성분층으로부터 최외부층인 유약층의 표면 전체에 공급된다.
정의
여기서 사용되는 "위생도기"라는 용어는 화장실 및 세면장에서 또는 주변에서 사용되는 도기제품을 언급하며, 특히 대변기, 소변기, 변기용 여과기, 대변기 또는 소변기용 물탱크, 세면대의 세면기, 및 수세용기를 포함한다.
여기서 사용되는 "도기"가는 용어는 세라믹기를 말하며, 그 몸체는 약간의 물을 흡수하는 정도로 조밀화되었고 광택표면을 갖는 세라믹기를 언급한다.
자정기능을 갖는 위생도기
본 발명에 따른 위생도기는 얼룩 및 오물을 방출하는 자정기능을 갖는다. "자정기능"은 위생도기의 얼룩 또는 오물을 간단히, 예를 들면 어떠한 계면활성제의 사용 없이 및 수세미 또는 세척솔로 위생도기의 표면을 강하게 문지르지 않고, 흐르는 물로 제거할 수 있는 특징을 말한다.
본 발명에 따른 위생도기는 적어도 위생도기 몸체 및 위생도기의 최외부층인 유약층으로 구성된다. 본 발명에 따르면, 세정금속 성분은, 최외부층인 유약층의 표면 전체에 걸쳐 균일하게 연속적으로 방출되도록, 얼룩 또는 오물을 최외부층인 유약층의 표면으로 방출하는 자정기능을 주기에 충분한 양으로 제공된다. 세정금속 성분은 최외부층인 유약층 및/또는 위생도기 몸체로부터 최외부층인 유약층의 표면전체로 공급된다.
본 발명에 따르면, 세정금속 성분은 1가 금속 성분 및/또는 폴링의 법칙에 따른 전기음성도의 측정치가 1 이하인 금속 성분을 말한다. 금속 성분은 소성 후 세정 기능을 잃지 않는 세제(비누혼화제)로서 작용한다. 특히, 상기 작용은 위생도기를 소성한 후, 즉 온도 1100 ~ 1300 ℃에서의 열처리 후에도 잃지 않는다.
여기서 사용가능한 적당한 1가 금속 성분은 리튬, 나트륨, 칼륨, 루비듐, 세슘, 은, 구리, 및 금을 포함한다. 여기서 사용가능한 폴링의 법칙에 따른 전기음성도가 1 이하인 적당한 금속 성분은 리튬, 나트륨, 칼륨, 루비듐, 세슘, 바륨, 및 스트론튬을 포함한다. 1가 금속 성분들 중에서, 은과 구리는 추가로 항균 활성을 가지므로 바람직하다. 세정금속 성분의 함량은 X-선 광전자분광법으로 측정할 수 있다.
본 발명에 따르면, 최외부층인 유약층은 필수적으로 무정형 성분으로 구성된다. 무정형 구조는 등방성이므로, 세정금속 성분은 망상구조에서 비교적 균일하게 이동될 수 있다고 간주된다. 그 결과, 최외부층인 유약층 및/또는 위생도기 몸체에 함유된 세정금속 성분은 최외부층의 표면으로 이동할 수 있으며 계속 방출될 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 세정금속 성분은 최외부층인 유약층의 표면 전체에 걸쳐 균일하게 및 연속적으로 방출된다.
종래의 위생도기에서, 유약은 지르콘 입자와 같은 유백제 입자 및 안료입자를 함유하기 때문에, 이들 입자들이 소성 중 최외부층으로 노출되며, 노출된 입자들은 세정금속 성분이 최외부 표면으로 방출되는 것을 방해한다. 입자들이 최외부표면으로 노출된 부분은 세정기능을 나타내지 않는다. 특히, 유백제 입자 일부가 표면에 노출되면, 기름얼룩 및 오물을 제거하는 효과를 갖는 세정금속 성분이 이들 부분으로 공급되지 않는다. 그러므로, 비록 세정금속 성분이 최외부 표면에 존재해도, 기름얼룩 또는 오물이 출발지점으로 제공되는 유백제 입자와 부착된다. 이것은 위생도기 표면에 부착된 얼룩 또는 오물을 흐르는 물 만으로 만족스럽게 제거하는 것을 불가능하게 만든다.
본 발명에 따르면, 세정금속 성분이 위생도기 최외부층 표면 전체에 걸쳐 균일하게 연속적으로 방출되도록 방해 입자들을 배제시킨다. 도 1은 위생도기의 최외부층인 유약층의 표면 위의 세정금속 성분의 분포를 나타내는 개략적인 다이아그램이다. 도 1에서 볼 수 있듯이, 세정금속 성분은 최외부층인 유약층의 표면 전체에 걸쳐 균일하게 존재한다. 이것은 최외부층의 표면 전체에 상당히 향상된 기름 얼룩 및 오물의 부착 예방성, 즉 우수한 자정 기능을 제공한다.
도 2는 얼룩 또는 오물을 구성하는 분자들에 세정금속 성분이 치환 반응에 의해 흡착 또는 첨가되어 얼룩 또는 오물이 수용성이 되는 것을 설명한다. 위생도기 표면에 부착되는 얼룩 또는 오물은, 예를 들면 변기의 경우 (다량의 올레산과 박테이라를 함유하는) 대변, 박테리아 또는 균류와 같은 미생물, 및 물때; 소변기의 경우 물때, 요석, 및 박테리아; 세면기의 경우 금속 비누(비누의 찌꺼기), 지방산, 지방산 에스테르, 단백질, 아미노산, 및 물때를 포함한다. 주로 부착되는 얼룩 및 오물은 카르복시-말단 기름 얼룩 또는 오물 및 물때이다.
도 2에 나타난 바와 같이, 위생도기 표면에 카르복시-말단 기름얼룩 또는 오물이 부착되면, 세정금속 성분(도 2에서 Na+)이 존재할 때, 세정금속 성분은 치환 반응에 의해 기름 얼룩 또는 오물에 우선적으로 첨가되거나 또는 흡착된다. 이것은 위생도기 표면의 친수성을 향상시키고, 얼룩 또는 오물의 분자량이 적으면, 얼룩 또는 오물은 수용성(비누화)이 된다. 그 결과, 얼룩 또는 오물의 친수성이 위생도기 표면에 대한 친화력보다 더 커지고, 위생도기를 물로 씻음으로써 얼룩 또는 오물을 쉽게 제거할 수 있게 한다. 더우기, 이와 같은 경우, 위생도기의 표면으로부터 한번 떨어진 얼룩 또는 오물의 재-흡착을 방지할 수 있다. 이와 같은 유리한 현상은 1가 금속 성분 및/또는 비누혼화제로서 폴링의 법칙에 따른 전기음성도가 1 이하인 금속 성분의 작용에 의한 것이다(Yoshiro Abe, "Senzai Tsuron", KIDNAI HENSHUSHA, 22-23 (1985)).
최외부층인 유약층 표면에 세정금속 성분을 공급하는 공급원은 최외부층인 유약층, 위생도기 몸체, 및 (최외부층인 유약층과 위생도기 몸체 사이에 중간층인 유약층이 제공될 때) 중간층인 유약층의 어느 하나일 수 있다. 선택적으로, 주로 세정금속 성분으로 이루어지는 층은 금속 성분층으로서 따로 제공될 수 있다. 이 구조에 의해, 표면 세정성은 장기간 나타날 수 있고, 자정기능은 반영구적으로 보장된다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 이런 표면 상태는 최외부층 위에 세정 금속 성분의 방출을 방해하는 입자, 예를 들면 ZrO2와 같은 유백제 및 안료가 최외부층인 유약층 표면에 실질적으로 존재하는 것을 예방함으로써 실행될 수 있다. 바람직하게, 이것은 예를 들면, 다음 방법 중 하나에 의해 실행된다.
(1)방해 입자의 배제: 세정금속 성분을 함유함과 동시에, 방해 입자인 안료 및 유백제 입자가 없는 투명 유약이 제공된다. 이 투명 유약을 위생도기 위에 최외부층으로 코팅하고, 코팅을 소성한다. 선택적으로, 방해 입자가 없고 세정금속 성분을 함유하는 프릿유약을 제공한 다음, 위생도기 위에 최외부층으로서 유약층을 코팅한 후, 소성한다.
(2)방해 입자의 연마: 세정금속 성분 함유 프릿 유약 또는 선택적으로 염을 함유하는 세정금속 성분 함유 유색 유약이 제공된다. 그 후, 이 유약을 방해 입자가 미세하게 나누어질 때까지 연마한다. 연마된 유색 유약을 위생도기 위에 최외부층인 유약층으로 코팅한 후, 소성한다. 방해 입자의 크기 감소 정도는 레이저 회절장치로 측정한 평균 입자 직경이 6 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra는 JIS B 0651에 따른 스틸러스 타입 표면 조도 시험장치로 측정하여 0.07 ㎛ 미만, 바람직하게는 0.05 ㎛ 미만, 더욱 바람직하게는 0.03 ㎛이다. 이것은 얼룩 또는 오염이 표면의 요철부분에 부착되는 것을 어렵게 만든다. 이것은 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능을 상당히 향상시킨다.
본 명세서에서 사용된 "표면 조도 Ra"라는 용어는 중심선 방향에서 조도곡선으로부터 기준 길이 1을 취하고, 중심선 방향으로 X 축 및 취해진 부분의 세로 확대 방향으로 Y축을 잡았을 때, 조도곡선은 Y=f(X)로 표현된다.
본 발명에서, 표면 조도 Ra는 JIS B 0601(1994)에 특정된 정의 및 명칭에 따르며, JIS B 0651(1996)에 따른 스틸러스 타입 표면 조도 시험장치로 측정된다. 이들 JIS는, 그 영어 번역문과 함께, 일본 표준협회(일본, 도쿄, 미나토구, 아카사카 4-쵸메, 1-24)로부터 쉽게 얻을 수 있다 .
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 최외부층인 유약층은 필수적으로 무정형 성분(바람직하게 유리성분)으로 이루어진다. 이것은 유약층에서 세제 성분의 유동성을 감소시키므로, 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능의 장기간 보유를 향상시킬 수 있다고 생각된다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 최외부층인 유약층은 필수적으로 수화가능한(hydratable) 재료로 이루어진다. 여기서 사용되는 수화가능한 재료는 물 분자가 통과할 수 있는 비가교 산소를 갖는 SiO2망상구조를 포함하는 재료를 포함한다(예를 들면, 실리카 및 실리케이트). 도 3은 위생도기 표면에서 수화층의 형성을 설명하는 다이아그램이다. 도 2 및 도 3에서와 같이, 비누화된 얼룩 또는 오물은 전해질로서 수화가능한 재료에서 상당히 자유롭게 이동할 수 있게 된다. 그러므로, 위생도기에서 중력 방향으로 경사진 표면에서, 기름 얼룩 또는 오물은 물로 씻음에 의지함 없이 중력 방향으로 이동되어 얼룩 또는 오물이 자동적으로 제거될 수 있게 된다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 최외부층인 유약층은 항균금속을 추가로 함유한다. 이것은 대변기 또는 소변기 및 세면기와 같은 위생도기를 장시간 사용하지 않았을 때, 위생도기가 박테리아 또는 진균류의 번식으로 인해 오염되는 것을 막을 수 있다. 본 발명의 더욱 바람직한 구현예에 따르면, 항균금속은 은 및/또는 구리이다. 최외부층인 유약층에서의 항균금속의 함량은, 최외부층인 유약층 중의 총 금속 성분을 기준으로 산화물로 환산하여 0.1 중량% 이상이며, 더욱 바람직하게 0.5 중량% 이상이다. 이것은 대변기 또는 소변기 및 세면기와 같은 위생도기를 장시간 사용하지 않았을 때, 위생도기가 박테리아 또는 진균류의 증식으로 인해 오염되는 것을 더욱 효과적으로 예방한다. 은은 유리하게 녹농균, 대장균, 흑효모(흑곰팡이), 및 적효모(핑크 점액)등과 같은 박테리아에 대한 강한 항균성을 갖는다. 한편, 구리는 유리하게 곰팡이와 같은 진균류에 대해 항균성이 강하다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, pH 약 7에서의 최외부층인 유약층 표면의 제타전위는 음이며 절대치는 60 ㎷ 이상이다. 이것은 일반적으로 pH가 약 7인 물에서 음으로 하전되는 박테리아 또는 진균류에 대하여 최외부층인 유약층 표면에 존재하는 박테리아 또는 진균류의 전기 척력을 증가시킬 수 있고, 그것에 의해 박테리아 또는 진균류의 부착을 더욱 효과적으로 막을 수 있다. 그러므로, 본 발명에 따른 자정기능이 더욱 향상될 수 있다.
최외부층인 유약층의 두께는 일반적으로 0.05 ~ 1.2 mm, 바람직하게는 0.1 ~ 0.8 mm, 더욱 바람직하게는 0.15 ~ 0.4 mm이다. 중간층인 유약층이 제공될 때, 그 두께는 일반적으로 0.05 ~ 1.8 mm, 바람직하게는 0.1 ~ 1.2 mm, 더욱 바람직하게는0.2 ~ 0.7 mm 이다.
그러므로, 본 발명의 위생도기에 따르면, 위생도기의 표면에 자정기능을 제공하기 위한 층 구성 및 표면 형성 방법에 대한 다양한 구현예가 있다. 이와 관련된 다섯가지의 바람직한 구현예를 설명할 것이다.
첫번째 구현예에 따른 위생도기
도 4는 본 발명의 첫번째 구현예에 따른 위생도기의 층 구성을 나타낸다. 도 4에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 첫번째 구현예에 따른 위생도기는 최소한 위생도기 몸체(1) 및 위생도기의 최외부층인 유약층(2)으로 이루어진다.
이 구현예에서, 위생도기 몸체(1) 및 최외부층인 유약층(2)의 적어도 하나는, 세정금속 성분이 최외부층인 유약층(2)의 표면 전체에 걸쳐 공급되도록, 이 경우, 세정금속 성분이 최외부층인 유약층(2) 표면 전체에 걸쳐 균일하게 연속적으로 방출되도록 구성된다. 상기 메카니즘에 의해, 위생도기의 표면은 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하기 위한 자정기능을 장기간 유지할 수 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 세정금속 성분은 적어도 위생도기 몸체(1)에 함유된다. 바람직한 구현예에서, 세정금속 성분은 주로 유리질 재료로 구성된 최외부층인 유약층(2)을 통해 통과한 후, 얼룩 또는 오물을 방출하는 기능을 할 수 있다. 그러므로, 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능이 장기간 유지되는데 기여함으로써 지속된 방출 효과를 향상시킬 수 있다. 더우기, 이 경우에 유약처리 안된 표면의 위생도기 또한, 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정 기능을 나타낼 수 있다.
본 발명의 더욱 바람직한 구현예에 따르면, 세정금속 성분은 최외부층인 유약층(2)에 함유된다. 이것은 또한 위생도기 사용 중 초기 단계에서 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하기 위한 세정기능을 향상시킬 수 있다. 세정금속 성분은 위생도기 몸체(1) 및 최외부층인 유약층(2)에 모두에 함유될 수 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 최외부층인 유약층(2) 중의 세정금속 성분의 함량은 최외부층인 유약층(2) 중의 전체 금속 성분을 기준으로 산화물로 환산하여 7 중량% 이상이다. 이것은 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능을 상당히 향상시킨다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 최외부층인 유약층(2) 중의 세정금속 성분의 함량은 최외부층인 유약층(2) 중의 전체 금속 성분을 기초로 산화물의 항으로 20 중량% 미만, 더욱 바람직하게 15 중량% 미만이다. 이 경우에, 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능이 만족스럽게 나타나는 동안, 온도가 상승되는 시간에 점토의 화학반응 또는 유사한 것에 의해 위생도기 몸체(1) 내에 포함되는 기체가, 소성 중의 수축 후 위생도기 몸체의 외부로 방출됨 없이 유약 내에 기포로 남아있는 현상에 의해 발생되는 제품 결손을 감소시킬 수 있다. 더우기, 최외부층인 유약층(2)의 열팽창계수의 지나친 증가로 인해 생기는, 최외부층인 유약층(2)과 위생도기 몸체(1) 사이의 열팽창 계수 차이의 증가로 인한 크래킹 또한 방지할 수 있다.
본 발명의 다른 바람직한 구현예에 따르면, 위생도기 몸체(1) 내에 포함된 기체가 유약으로 들어가는 것을 막기 위해, 위생도기 몸체(1) 표면에 화장토가 제공될 수 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 위생도기 몸체(1) 내의 세정금속 성분의 함량은 위생도기 몸체(1) 중의 전체 금속성분을 기초로 산화물로 환산하여 5 중량% 이상이다. 이것은 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능의 장기간 유지를 향상시킬 수 있다.
본 발명의 첫번째 실시예에 따른 위생도기는 특정 제한 없이 어느 생산 방법에 의해서도 제조될 수 있다. 예를 들면, 다음의 (1) 내지 (4)의 제조방법을 언급할 수 있다.
(1) 첫번째 구현예에 따른 위생도기를 제조하는 하나의 방법은 예를 들면, 세정금속 성분을 산화물로 7 중량% 이상 함유하는 프릿 유약을 제공하고, 임의로 프릿 유약을 연마하고, 생성된 유약을 위생도기 몸체에 코팅하고, 및 코팅을 1100 ~ 1300 ℃의 온도에서 소성하는 것으로 이루어진다.
(2) 첫번째 구현예에 따른 위생도기를 제조하는 다른 방법은 예를 들면, 종래의 유색 유약 재료에 세정금속 성분을 함유하는 염을 유약의 총 금속성분을 기준으로 산화물로 환산하여 7 중량% 이상을 첨가하여 제조된 유약을 제공하고, 방해 입자의 크기가 만족스럽게 감소될 때까지 유약을 연마하고, 연마된 유약을 위생도기 몸체 위에 코팅하고, 및 코팅을 1100 ~ 1300 ℃의 온도에서 소성하는 것으로 이루어진다.
(3) 첫번째 구현예에 따른 위생도기를 제조하는 또 다른 하나의 방법은 예를 들면, 프릿, 방해 입자 및 기타 성분을 함유하는 혼합물로 이루어진 유약을 제공하고, 방해 입자가 만족스러운 크기로 감소할 때까지 유약을 연마하고, 연마된 유약을 위생도기 몸체 위에 코팅하고, 및 코팅을 1100 ~ 1300 ℃의 온도에서 소성하는것으로 이루어진다.
(4)첫번째 구현예에 따른 위생도기를 제조하는 또 다른 방법은 예를 들면, 염을 함유하는 세정금속 성분을 위생도기 몸체 표면에 주입시키고, 위생도기 몸체에 유약을 바른 후, 1100 ~ 1300 ℃의 온도에서 소성하는 것으로 이루어진다.
두번째 구현예에 따른 위생도기
도 5는 본 발명의 두번째 구현예에 따른 위생도기의 층 구성을 나타낸다. 도 5에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 두번째 구현예에 따른 위생도기는 위생도기 몸체(1), 위생도기 몸체(1)의 표면에 제공되는 중간층인 유색 유약층(3), 및 위생도기의 최외부층인 투명 유약층(2)으로 이루어진다.
이 구현예에서, 위생도기 몸체(1), 최외부층인 유약층 (2), 및 중간층인 유약층(3)의 적어도 하나는, 세정금속 성분이 최외부층인 유약층(2)의 표면 전체에 걸쳐 공급될 수 있고, 이와 같은 경우, 최외부층인 유약층(2)의 표면 전체에 균일하게 연속적으로 방출될 수 있도록 구성된다. 상기 메카니즘에 의해, 위생도기의 표면은 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능을 장기간 유지할 수 있다.
특히, 두번째 구현예에 따르면, 위생도기의 최외부층인 유약층(2)은 안료 및 유백제 입자등의 방해 입자가 없는 투명 유약층이다. 그러므로, 세정금속 성분은 최외부층인 유약층(2)의 표면 전체에 걸쳐 균일하게 연속적으로 방출될 수 있고, 세정금속 성분의 지속적인 방출효과가 향상될 수 있으며, 본 발명에 따른 자정기능은 장기간동안 유지될 수 있다. 더우기, 최외부층인 유약층(2)의 성분은 열팽창 계수 또는 그밖에 유사한 것의 항으로 위생도기 몸체와 양립성과 관계없이 선택될 수 있다. 그러므로, 더 많은 양의 세정금속 성분이 최외부층인 유약층(2)으로 혼입될 수 있고, 그러므로 위생도기 사용 개시 단계에서의 자정기능 또한 향상될 수 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 세정금속 성분은 최외부층인 유약층(2)에 함유된다. 최외부층인 유약층(2)의 성분은 열팽창계수의 항으로 위생도기 몸체(1)와 양립성과 관계없이 선택될 수 있다. 그러므로, 더 많은 양의 세정금속성분이 최외부층인 유약층(2)으로 혼입될 수 있고, 그러므로 위생도기 사용시 초기 단계에서 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능이 향상될 수 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 세정금속 성분은 위생도기 몸체(1) 및 중간층인 유약층(3) 중 적어도 하나에 함유된다. 바람직한 구현예에서, 세정금속 성분은 주로 유리질 재료로 구성된 최외부층인 유약층(2)을 통해 통과할 수 있고, 그 다음 얼룩 또는 오물을 방출하는 작용을 할 수 있다. 그러므로, 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능을 장기간 유지하는데 기여함으로써 지속 방출효과가 향상될 수 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 최외부층인 유약층(2)의 세정금속 성분의 함량은 최외부층인 유약층(2)에 있는 전체 금속 성분을 기초로 산화물로 환산하여 7 중량% 이상이다. 이것은 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능을 상당히 향상시킨다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 최외부층인 유약층(2) 중의 세정금속성분의 함량은 최외부층인 유약층(2) 중의 전체 금속성분을 기준으로 산화물로 환산하여 30 중량% 미만, 더욱 바람직하게 20 중량% 이하, 또 더욱 바람직하게 15 중량% 이하이다. 이런 경우, 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하기 위한 자정기능이 만족스럽게 나타나는 동안, 온도가 상승되는 시간에 점토의 화학반응 또는 유사한 것에 의해 위생도기 몸체(1) 내에 포함된 기체가, 소성 시간의 수축 후 위생도기 몸체의 외부로 방출됨 없이 유약 내에 기포로 남아있는 현상에 의해 발생되는 제품 결손을 감소시킬 수 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 위생도기 몸체(1) 내의 세정금속 성분의 함량은 위생도기 몸체(1) 내의 총 금속 성분을 기준으로 산화물로 환산하여 5 중량% 이상이다. 이것은 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능의 장기간 유지를 향상시킨다.
두번째 구현예에 따른 위생도기는 특별한 제한 없이 어떠한 제조방법으로도 제조될 수 있다. 예를 들면, 두번째 구현예에 따른 위생도기는 종래의 유색 유약을 위생도기 몸체에 코팅하고, 추가로 세정금속 성분을 산화물로 환산하여 7 중량% 이상을 함유하고 안료 및 유백제가 없는 (프릿)유약을 유색 유약 코팅 위에 코팅하고, 그 다음 1100 ~ 1300 ℃의 온도에서 소성함으로써 제조된다.
세번째 구현예에 따른 위생도기
도 6은 본 발명의 세번째 구현예에 따른 위생도기의 층 구성을 나타낸다. 도 6에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 세번째 구현예에 따른 위생도기는 위생도기 몸체(1), 주로 세정금속 성분으로 이루어지고, 위생도기 몸체(1)의 표면에 제공되는 금속성분층(4), 및 금속 성분층의 표면에 제공되는 위생도기의 최외부층인 유약층(2)으로 이루어진다.
이 구현예에서, 세정금속 성분은, 주로 금속 성분층(4)에 의해 최외부층인 유약층(2)의 표면 전체로 공급될 수 있고, 이런 경우, 최외부층인 유약층(2)의 표면 전체에 균일하게 연속적으로 방출될 수 있다. 상기 메카니즘에 의해, 위생도기의 표면은 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정 기능을 장기간 유지할 수 있다.
특히, 세번째 구현예에 따른 위생도기는 본 발명의 첫번째 구현예에 따른 위생도기에서 사용된 것과 같이 위생도기 몸체(1) 및 최외부층인 유약층(2)을 갖는다. 또한, 세정금속 성분의 공급원인 금속성분층(4)은 위생도기 몸체(1)와 최외부층인 유약층(2) 사이에 제공된다. 이것은 또한 위생도기에 저장되는 세정금속 성분의 양을 증가시키며, 동시에 세정금속 성분의 지속적인 방출 효과를 향상시킬 수 있다. 그러므로, 위생도기 표면은 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능을 더 긴 시간동안 나타낼 수 있다. 세정금속 성분은 위생도기 몸체(1) 및/또는 최외부층인 유약층(2) 모두에 함유될 수 있다.
금속 성분층(4)은 주로 세정금속 성분으로 구성된 층이다. 바람직하게, 세정금속 성분은 필수적으로 주로 세정금속 성분으로 구성된 화합물로 이루어진다. 본 발명에서 사용가능한 바람직한 세정금속 함유 화합물은 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산리튬, 탄산 세슘, 탄산루비듐, 탄산 바륨, 탄산스트론튬, 탄산은, 탄산구리(Ⅰ), 규산나트륨, 규산칼륨, 규산리튬, 규산세슘, 규산루비듐, 규산바륨, 규산스트론튬, 규산은, 규산구리(Ⅰ), 염화나트륨, 염화칼륨, 염화리튬, 염화세슘, 염화루비듐,염화바륨, 염화스트론튬, 염화은, 염화구리(Ⅰ), 아세트산나트륨, 아세트산칼륨, 아세트산리튬, 아세트산세슘, 아세트산루비듐, 아세트산바륨, 아세트산스트론튬, 아세트산은, 아세트산구리(Ⅰ), 황산나트륨, 황산칼륨, 황산라튬, 황산세슘, 황산루비듐, 황산바륨, 황산스트론튬, 황산은, 황산구리(Ⅰ), 질산나트륨, 질산칼륨, 질산리튬, 질산세슘, 질산루비듐, 질산바륨, 질산스크론튬, 질산은, 질산구리(Ⅰ), 젖산나트륨, 젖산칼륨, 젖산리튬, 젖산세슘, 젖산바륨, 젖산루비듐, 젖산스크론튬, 젖산은, 젖산구리(Ⅰ), 붕산나트륨, 붕산칼륨, 붕산리튬, 붕산세슘, 붕산루비듐, 붕산바륨, 붕산스트론튬, 프로피온산 나트륨, 프로피온산칼륨, 프로피온산리튬, 프로피온산세슘, 프로피온산루비듐, 프로피온산바륨, 프로피온산스트론튬, 프로피온산은, 프로피온산구리(Ⅰ), 부틸산나트륨, 부틸산칼륨, 부틸산리튬, 부틸산세슘, 부틸산루비듐, 부틸산바륨, 부틸산스트론튬, 부틸산은, 부틸산구리(Ⅰ), 포름산나트륨, 포름산칼륨, 포름산리튬, 포름산세슘, 포름산루비듐, 포름산바륨, 포름산 스트론튬, 포름산은, 포름산구리(Ⅰ), 염화금(Ⅰ), 수금(liquid bright gold), 금분말, 은분말, 물유리, H(AuCl4)ㆍ4H2O 및 Na(AuCl4)ㆍ2H2O 이다.
본 발명의 세번째 구현예에 따른 위생도기는 특별한 제한 없이 어떤 제조법에 의해서도 제조될 수 있다. 예를 들면, 다음의 제조법(1) 과 (2)를 언급할 수 있다.
(1)세번째 구현예에 따른 위생도기를 제조하는 하나의 방법은, 우선 금속성분층을 형성하기 위해, 물유리와 같이, 소성에 의해 위생도기 몸체에 혼입되는 세정금속성분을 갖는 재료를 위생도기 몸체 위에 코팅하고, 유색 유약을 제공하고, 방해 입자가 만족스런 크기로 줄어들 때까지 유색 유약을 연마하고, 연마된 유색 유약을 금속성분층 위에 코팅하고, 그 다음 1100 ~ 1300 ℃의 온도에서 소성하는 것을 포함한다.
(2) 세번째 구현예에 따른 위생도기를 제조하는 다른 방법은 우선 금속성분 층을 형성하도록, 물유리와 같은 세정금속 성분 함유 재료를 위생도기 몸체 위에 코팅하고, 세정금속 성분의 프릿 유약을 제공하고, 임의로 프릿 유약을 연마하고, 프릿 유약을 금속성분층 위에 코팅하고, 그 다음 1100 ~ 1300 ℃의 온도에서 소성하는 것을 포함한다.
네번째 구현예에 따른 위생도기
도 7은 본 발명의 네번째 구현예에 따른 위생도기의 층 구성을 나타낸다. 도 7에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 네번째 구현예에 따른 위생도기는 최소한 위생도기 몸체(1), 위생도기 몸체(1)의 표면 위에 제공되는 중간층인 유색 유약층(3), 주로 세정금속 성분으로 이루어지고, 중간층인 유약층의 표면에 제공되는 금속 성분 층(4), 및 금속성분층의 표면 위에 제공되는 위생도기의 최외부층인 투명 유약 층(2)을 포함한다.
네번째 구현예에서, 세정금속 성분은 주로 금속성분층(4)에 의해, 최외부층인 유약층(2)의 표면 전체에 공급될 수 있고, 이 경우, 최외부층인 유약층(2)의 표면 전체에 걸쳐 균일하게 연속적으로 방출된다. 상기 메카니즘에 의해, 위생도기 표면은 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능을 장기간 유지할 수 있다.
특히, 네번째 구현예에 따른 위생도기는 본 발명의 두번째 구현예에 따른 위생도기에서 사용된 것과 같이 위생도기 몸체(1), 중간층인 유약층(3), 최외부층인 유약층(2)를 갖는다. 세번째 구현예에 관해 사용된 것과 같은 금속성분층(4)이 세정금속 성분의 공급원으로서 중간층인 유약층(3)과 최외부층인 유약층(2) 사이에 제공된다. 최외부층인 유약층(2)은 안료 및 유백제 입자와 같은 방해입자가 없는 투명 유약층이며, 추가로, 금속성분층(4)은 세정금속 성분의 공급원으로서 작용할 수 있다. 그러므로, 세정금속 성분은 최외부층인 유약층(2)의 표면 전체에 걸쳐 균일하게 연속적으로 쉽게 방출될 수 있고, 본 발명에 따른 자정기능은 만족스럽게 나타날 수 있으며, 동시에, 장기간 유지될 수 있다.
본 발명의 네번째 구현예에 따른 위생도기는 특별한 제한 없이 어떠한 제조방법에 의해서도 제조될 수 있다. 예를 들면, 위생도기는 위생도기 몸체에 종래의 유색 유약을 코팅하고, 금속 성분층을 형성하기 위해 유약층 위에 물유리와 같은 세정금속 성분 함유 재료를 코팅하고, 안료 또는 유백제 모두를 함유하지 않는 유약을 코팅하고, 및 1100 ~ 1300 ℃의 온도에서 소성하는 것으로 이루어지는 제조공정에 의해 제조될 수 있다.
다섯번째 구현예에 따른 위생도기
도 8은 본 발명의 다섯번째 구현예에 따른 위생도기의 층구성을 나타낸다. 도 8에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 다섯번째 구현예에 따른 위생도기는 위생도기 몸체(1), 주로 세정금속 성분으로 구성되고, 위생도기 몸체 표면에 제공되는 금속성분층(4), 금속 성분층 표면 위에 제공되는 증간층인 유색 유약층(3), 및 중간층인 유약층의 표면 위에 제공되는 위생도기의 최외부층인 투명 유약층(2)으로 이루어진다.
본 발명의 다섯번째 구현예에서, 세정금속 성분은, 주로 금속 성분층에 의해, 최외부층인 유약층 표면 전체로 공급될 수 있고, 이 경우, 최외부층인 유약층(2) 표면 전체에 걸쳐 균일하게 연속적으로 방출된다. 상기 메카니즘에 의해, 위생도기 표면은 부착된 얼룩 또는 오물을 방출하는 자정기능을 장기간 유지할 수 있다.
특히, 본 발명의 다섯번째 구현예에 따른 위생도기는 본발명의 두번째 구현예에 따른 위생도기에서 사용되는 것과 같이, 위생도기 몸체(1), 중간층인 유약층(3), 최외부층인 유약층(2)을 갖는다. 세번째 구현예에서 사용된 것과 같은 금속 성분층이, 세정금속 성분의 공급원으로서, 위생도기 몸체(1)과 중간층인 유약층(3) 사이에 제공된다. 최외부층인 유약층(2)은 안료 및 유백제와 같은 방해입자가 없는 투명 유약층이며, 추가로 금속 성분층(4)은 세정 금속 성분의 공급원으로서 작용할 수 있다. 그러므로, 세정금속 성분은 최외부층인 유약층(2)의 표면 전체에 걸쳐 균일하게 연속적으로 방출될 수 있고, 본 발명에 따른 세정기능은 만족스럽게 나타나며, 동시에, 장기간 유지될 수 있다.
본 발명의 다섯번째 구현예에 따른 위생도기는 특별한 제한없이 어떠한 제조방법에 의해서도 제조될 수 있다. 예를 들면, 위생도기는 위생도기 몸체 위에 물유리와 같은 세정금속 성분 함유 재료를 코팅하고, 종래의 유색 안료를 코팅하고, 유약 층 위에, 안료 또는 유백제 모두를 함유하지 않는 유약을 코팅하고, 및 그 다음 1100 ~ 1300 ℃의 온도에서 소성하는 것으로 이루어지는 제조공정에 의해 제조될 수 있다.
적용
본 발명에 따른 위생도기는 화장실 및 세면장에서 또는 부근에서 사용되는 도기를 말하며, 대변기, 소변기, 변기용 여과기, 대변기 또는 소변기용 물탱크, 세면대용 세면기, 및 수세용기등과 같이 다양한 실시에 적용될 수 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 위생도기는 대변기 또는 소변기이다.
인간으로부터 배출되는 배설물의 주요 성분은 올레산과 박테리아이다. 올레산과 박테리아 모두는 카르복시말단기 함유 물질이다. 그러므로, 본 발명에 따른 위생도기를 변기에 적용하면, 배설물은 용기를 물로 씻음으로써 제거될 수 있기 때문에 변기의 용기 표면 위에 덜 부착될 것이다.
변기 위에 물때가 부착된 후, 물때가 부착된 표면은 친수 상태에서 내수 상태로 변한다. 그 결과, 물로 씻을 때, 내수표면에는 물이 흐르지 않고, 이것은 점점 더 빠른 속도로 얼룩 또는 오물이 생기게 한다. 본 발명에 따른 위생도기를 변기에 적용함으로써 이 문제를 쉽게 해결할 수 있고, 변기 용기 표면 전체 위에 물이 흐를 수 있게 한다. 그러므로, 얼룩 또는 오물이 변기 용기 위에 덜 부착되는 변기를 제공할 수 있다.
물때가 대변기 또는 소변기에 어느 두께로 축적되면, 대변기 또는 소변기에 금이 간다. 곰팡이와 같은 미생물은 금이 간 부분에서 번식한다. 미생물의 수가 예상된 값을 초과하자마자, 이들 미생물들은 검은 오물로 보인다. 대변기 또는 소변기에 본 발명에 따른 위생도기를 적용하는 것은, 이런 문제를 해결할 수 있고 물때 필름의 형성을 예방할 수 있다. 그러므로, 검은 오물이 부착되는 경향이 덜한 대변기 또는 소변기를 제공할 수 있다.
대변기 또는 소변기에 요석이 부착된 후에, 부착 부분은 진균류 또는 박테리아 번식의 온상으로 작용한다. 진균류 또는 박테리아의 수가 일정치를 초과하면, 이 진균류 또는 박테리아는 황색, 분홍색, 또는 갈색 오물로 나타난다. 대변기 또는 소변기에 대해 본 발명에 따른 위생도기를 적용하는 것은, 대변기 또는 소변기에 부착되는 진균류 또는 박테리아 번식의 온상으로 작용하는 요석을 방지한다. 그러므로, 덜 오염되는 대변기 또는 소변기를 제공하는 것이 가능하다.
본 발명의 또 다른 바람직한 구현예에 따르면, 위생도기는 세면기이다.
세면기의 얼룩 또는 오물의 주요 성분은 인간에게서 나오는 지질(지방산 에스테르)과 비누의 찌끼(지방산의 칼슘염)이며, 두개 모두 카르복시 말단기 함유 물질이다. 그러므로, 본 발명에 따른 위생도기를 세면기에 적용하면, 이들 얼룩 또는 오물은 물로 씻음으로써 세면용기 표면으로부터 제거되기 때문에 세면기 위에 덜 부착한다.
실시예
본 발명은 다음의 실시예를 참조로 더욱 상세히 설명될 것이며, 이들 실시예로 제한되지는 않는다.
유약의 조성
이하의 실시예 및 비교예에서 사용된 유약 재료 A는 표 1에 나타난 조성을갖는다.
| 유약 재료 | 중량% |
| SiO2 | 55 ~ 80 |
| Al2O3 | 5 ~ 13 |
| Fe2O3 | 0.1 ~ 0.4 |
| MgO | 0.8 ~ 3.0 |
| CaO | 8 ~ 17 |
| ZnO | 3 ~ 8 |
| K2O | 1 ~ 4 |
| Na2O | 0.5 ~ 2.5 |
| ZrO2 | 0.1 ~ 15 |
| 안료 | 1 ~ 20 |
시험방법
이하의 실시예 및 비교예에서, 평가시험을 다음 방법으로 실시하였다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면조도
유약층의 표면 조도 Ra를 스틸러스 타입 표면 조도 시험장치(JIS B 0651)로 측정하였다.
시험 2: 유약층 표면의 제타 전위
유약층 표면의 제타 전위를 레이저 제타 일렉트로메타(ELS-6000, Otsuka Denshi K.K.사 제품)로 측정하였다. 특히, 전해질로서 NaCl 수용액 및 광산란용 모니터 입자로서 폴리스티렌 라텍스를 사용하여 전기삼투 유체 흐름을 측정하였고, 그 다음 Mori-Okamoto 방정식으로 분석하였다.
시험 3: 항균성 시험
항균성을 대장균(Eschericia Coli, IFO 3972)에 대한 박테리아 활성도를 측정하여 평가하였다.
박테리아 현탁액 (0.2 ml) (박테리아의 수: 1 x 105~ 5 x 105)을 미리 70 부피% 에탄올로 멸균하고 건조시킨 샘플 중의 유약층의 표면에 적하시켰다. 그 다음, 유약층을 45 mm x 45 mm 크기의 폴리에틸렌 필름으로 덮어 박테리아의 현탁액을 샘플로 밀착시켰다. 이렇게 얻은 시편을 온도가 37 ±1 ℃ 이고 습도가 90 % 이상인 대기에서 24시간 동안 방치하였다. 그 후, 필름을 분리하고, NA 배지에서 각인을 실시하고, 온도가 35 ±1 ℃ 인 환경에서 16 ~ 20 시간 동안 배양시켰다. 그 다음, 생균수(이하, "시험 샘플용 생균수로 명명")를 측정하였다.
독립적으로, 중요한 항균활성도를 갖지 않는 블랭크 샘플(대조샘플)에 대해, 상기와 동일한 방법으로 시편을 제조하고, 생균수(이하, "대조샘플용 생균수)를 측정하였다.
항균 활성도를 평가하기 위해 시험샘플에 대한 생균수 및 대조샘플에 대한 생균수를 근거로 다음식으로 멸균율 및 증식억제율를 산출하였다.
멸균율(%)= 100 x ("대조 샘플에 대한 생균수" - "시험 샘플에 대한 생균수")/"대조샘플에 대한 생균수"
증식억제율= log ("대조 샘플에 대한 생균수"/"시험 샘플에 대한 생균수")
시험 4: 물에서의 더미 얼룩에 대한 내성
올레산 200 중량부, 엔진오일 1 중량부, 및 오일 블랙 1 중량부로 이루어진 더미 얼룩을 제조하였다. 올레산은 찌끼의 주성분이다. 엔진오일 및 오일 블랙은 오일이 쉽게 보이도록 하기 위해 첨가제로서 사용하였다. 그 다음, 증류수 약 270cc를 300 cc 비이커에 넣고, 더미 얼룩 약 30 cc를 첨가하였다. 판형 시편을 비이커에 담그고, 유약층 표면 위에 부착된 오일 얼룩이 물에서 분리될 때까지의 경과 시간을 측정하였다.
시험 5: 공기 중에서의 더미 얼룩에 대한 내성
시험 4에서 사용한 동일 조성을 갖는 더미 얼룩(0.3 cc)을 수평으로 놓인 판형 시편의 중심에 적하하였다. 그 다음, 판형 시편을 수직으로 세웠다. 샘플을 수직으로 세우고 5분 후, 유약 표면에 있는 잔류 더미 얼룩을 시각적으로 검사하였다.
시험 6: 유약층 표면의 시각적 검사
유약층의 표면에서 그 외관을 시각적으로 평가하였다.
시험 7: 유약층의 표면 분석
유약층의 표면을 전자 탐침 미량분석기로 분석하였다(EPMA:JXA 8900 RL, Japan Electric Optical Laboratory사 제조)
실시예 A1
유약(2 kg), 물 1 kg, 및 볼 4 kg 의 재료 A를 부피가 6 리터인 세라믹 포트넣은 다음, 그 혼합물을 유약 A인 유약 슬러리를 얻기 위해 약 18 시간 동안 볼밀 하였다. 생성된 유약 A의 입자 직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 65 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 5.8 ㎛이라는 것을 발견하였다.
독립적으로, 유약의 재료 A의 조성물에서 유백제 ZrO2및 안료를 제거한 것을 제외하고는, 유약 재료 A와 동일한 조성물을 갖는 유약 재료를 제공하였다. 이 유약 재료를 전기로에서 1300 ~ 1400 ℃에서 용융시키고, 그 다음 용융물을 물에서 급랭시켜 유리 플릿을 생성하였다. 생성된 분말(600 g), 은분말 3.0 g(유약을 기준으로 5 중량%), 물 400 g, 및 알루미나 볼 1 kg 을 부피가 2 리터인 세라믹 포트에 넣은 다음, 혼합물을 약 24시간 동안 볼밀하였다. 이와 같이, 유약 B인 유약 슬러리를 얻었다. 유약 B의 입자 직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 68 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 6.0 ㎛이라는 것을 발견하였다.
그 다음, 크기가 70 mm x 150 mm인 판형 시편을 규사, 장석, 점토 및 기타 원료를 사용하여 제조한 위생도기 몸체의 슬러리를 사용하여 제조하였다. 유약 A를 판형 시편 위에 분무 코팅하여 하부 유약층을 형성하고, 그 다음, 그 위에 유약 B를 분무 코팅하여 상부 유약층을 형성하고, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 생성하였다.
생성된 샘플에 대해 상기의 시험 1 ~ 3을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.02 ㎛ 였다.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -68.3 mV 였다.
시험 3: 멸균율은 99.994 % 였고, 증식억제율은 4.2 였다. 이 결과를 기초로, 샘플은 상당한 항균성을 갖는다고 평가되었다.
실시예 A2
유백제 ZrO2및 안료를 유약의 재료 A의 조성으로부터 제외한 것 이외에는 유약 재료 A와 동일한 조성을 갖는 유약 재료를 제공하였다. 이 유약 재료를 전기로에서 1300 ~ 1400 ℃에서 용융시키고, 그 용융물을 물에서 급랭시켜 유리 프릿을 생성하였다. 그 다음 유리프릿을 스탬프밀하여 분말을 얻었다. 생성된 분말(600 g), 산화구리 분말 6.0 g(유약을 기준으로 1.0 중량%), 물 400 g, 알루미나볼 1 kg 을 부피가 2 리터인 세라믹 포트에 넣고, 그 혼합물을 24시간 동안 볼밀하였다. 이와같이, 유약 C인 유약 슬러리를 얻었다. 생성된 유약 C의 입자 직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 68 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 6.0 ㎛이라는 것을 발견하였다.
그 다음, 실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형 시편 위에 유약 A를 분무 코팅하여 하부층을 얻은 다음, 그 위에 유약 C를 분무 코팅하여 상부 유약층을 형성하고, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
생성된 샘플에 대해 상기의 시험 1 ~ 3을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.03 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -60.2 mV 였다.
시험 3: 멸균율은 99.0 % 였고, 증식억제율은 2.0 이었다. 이 결과를 기초로, 샘플은 상당한 항균성을 갖는다고 평가되었다.
실시예 A3
실시예 A1에서 제조한 (유백제 및 안료가 없는, D50 = 6.0 ㎛) 프릿 유약 슬러리(80 중량부)를, 프릿팅 전에, 유백제와 안료가 없는 유약 슬러리(D50= 5.9 ㎛) 20 중량부와 혼합하였다. 유약의 고체 함량을 기준으로 0.5 중량%의 은분말을 혼합된 슬러리에 첨가하고, 플런저를 사용하여 교반시키고 혼합시켰다. 이와 같이, 유약 D인 유약 슬러리를 얻었다. 유약 D의 입자 직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 57 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 6.0 ㎛이라는 것을 발견하였다.
그 다음, 실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형시편 위에 유약 A를 분무 코팅하여 하부층을 얻은 다음, 그 위에 유약 D를 분무코팅하여 상부 유약층을 형성한 후, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
샘플에 대해 상기의 시험 1 ~ 3을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.05 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -61.3 mV 였다.
시험 3: 멸균율은 99.991 % 였고, 증식억제율은 4.0 이었다. 이 결과를 기초로, 샘플은 상당한 항균성을 갖는다고 평가되었다.
실시예 A4
유약(600 g), 은분말 3.0 g (유약을 기준으로 0.5 중량%), 물 400 g, 및 알루미나 볼 1 kg 의 재료 A를 부피가 2 리터인 세라믹 포트에 넣은 다음, 혼합물을약 65 시간 동안 볼밀 하였다. 이와 같이, 유약 E인 유약 슬러리를 얻었다. 유약 E의 입자 직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 98 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 1.2 ㎛라는 것을 발견하였다.
그 다음, 실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형 시편 위에 유약 E 를 분무 코팅하고, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
샘플에 대해 상기의 시험 1 ~ 3을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.02 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -62.4 mV 였다.
시험 3: 멸균율은 99.990 % 였고, 증식억제율은 4.0 이었다. 이 결과를 기초로, 샘플은 상당한 항균성을 갖는다고 평가되었다.
비교예 A1
실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형 시편 위에 유약 A를 분무 코팅하고, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
샘플에 대해 상기의 시험 1 ~ 3을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.10 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -57.2 mV 였다.
시험 3: 멸균율은 25 % 였고, 증식억제율은 0.12 였다. 이 결과를 기초로, 샘플은 항균성을 갖지 않는다고 평가되었다.
본 발명의 실시예 A1 ~ A4 및 비교예 A1의 평가 결과를 표 2에 요약하였다.
| 표면 조도, Ra(㎛) | 제타전위 (pH : 7)(mV) | 항균성시험증식억제율 | |
| 실시예 A1 | 0.02 | -68.3 | 4.2 |
| 실시예 A2 | 0.03 | -60.2 | 2.0 |
| 실시예 A3 | 0.05 | -61.3 | 4.0 |
| 실시예 A4 | 0.02 | -62.4 | 4.0 |
| 비교예 A1 | 0.07 | -57.2 | 0.12 |
실시예 B1
유백제인 ZrO2및 안료를 유약 재료 A의 조성으로부터 제외한 것 및 Na2O 성분의 함량을, 1가의 금속 성분에 대해, K2O 및 Na2O의 총 중량을 유리 성분의 총 중량 기준으로 10 중량%까지 증가 시킨 것을 제외하고, 표 1에 나타난 유약의 재료 A와 동일한 조성을 갖는 유약 재료를 제공하였다. 이 유약 재료를 전기로에서 1300 ~ 1400 ℃에서 용융시키고, 용융물을 물에서 급랭시켜 유리 프릿을 얻었다. 그 다음 유리 프릿을 스탬프밀하여 분말을 얻었다. 생성된 분말(600 g), 은분말 3.0g (유약을 기준으로 0.5 중량%), 물 400 g, 및 알루미나 볼 1 kg을 부피가 2 리터인 세라믹 포트에 넣은 다음, 혼합물을 약 24시간 동안 볼밀하였다. 이와 같이, 유약 F인 유약 슬러리를 얻었다. 생성한 유약 F의 입자 직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 68 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 6.0 ㎛이라는 것을 발견하였다.
그 다음, 실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형 시편 위에 유약 A를 분무코팅하여 하부층을 만들고, 그 위에 유약 F를 분무코팅하여 상부층을 만든 다음, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
생성된 샘플에 대해 상기의 시험 1 ~ 5을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.02 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -68.3 mV 였다.
시험 3: 멸균율은 99.994 % 였고, 증식억제율은 4.2 였다. 이 결과를 기초로, 샘플은 상당한 항균성을 갖는다고 평가되었다.
시험 4: 침수 35초 후, 오일 필름이 실질적으로 완전히 유약 표면으로부터 분리되었다.
시험 5: 유약층 표면에 오일을 적하하여 생긴 오일 얼룩은, 비록 유약층 표면에 극소량의 오일 방울이 존재하지만, 실질적으로 완전히 희미해졌다.
실시예 B2
유백제 ZrO2및 안료를 유약 재료 A의 조성으로부터 제외한 것 이외에 재료 A와 동일 조성을 갖는 유약 재료를 제공하고, 추가로 탄산나트륨 분말 및 은 분말을 첨가하여, 1가 금속 성분에 대해, 유리성분의 총 중량 기준으로 K2O 및 Na2O의 총 중량이 10 중량%이고 은 중량이 0.5 중량%가 되도록 하였다. 그 후, 혼합물을 약 3시간 동안 교반하였다. 이와 같이, 유약 G인 유약 슬러리를 생성하였다. 유약 G의 입자직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 68 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 6.0 ㎛이라는 것을 발견하였다.
그 다음, 실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형시편 위에 유약 A를 분무코팅하여 하부층을 만들고, 그 위에 유약 G를 분무코팅하여 상부층을 만들고, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
생성된 샘플에 대해 하기의 시험 1 ~ 5을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.03 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -66.5 mV 였다.
시험 3: 멸균율은 99.991 % 였고, 증식억제율은 4.0 이었다. 이 결과를 기초로, 샘플은 상당한 항균성을 갖는다고 평가되었다.
시험 4: 침수 30초 후, 오일 필름이 실질적으로 완전히 유약 표면으로부터 분리되었다.
시험 5: 유약층 표면에 오일을 적하하여 생긴 오일 얼룩은, 비록 유약층 표면에 극소량의 오일 방울이 존재하지만, 실질적으로 완전히 희미해졌다.
실시예 B3
유백제 ZrO2및 안료를 유약 재료 A의 조성으로부터 제거한 것 및 Na2O 성분의 함량을 증가시켜, 1가 금속 성분에 대해, K2O 및 Na2O의 총 중량이 유리성분의 총중량 기준으로 20 중량%인 것을 제외하고 표 1에 나타낸 유약 재료 A와 동일한 조성을 갖는 유약 재료를 제공하였다. 유약(2 kg), 은 분말 10 g (유약을 기준으로 0.5 중량%), 물 1 kg, 및 볼 4 kg을 부피가 6 리터인 세라믹 포드에 넣은 다음, 그혼합물을 약 20 시간 동안 볼밀하였다. 이와 같이, 유약 H인 유약슬러리를 생성하였다. 유약 H의 입자직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 63 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 6.5 ㎛이라는 것을 발견하였다.
유백제 ZrO2및 안료를 유약 재료 A의 조성(1가 금속 성분에 대해, 유리 성분의 총 중량을 기준으로 K2O 및 Na2O의 총 중량은 3.5 중량%이다)으로부터 제외한 것을 제외하고, 표 1에 나타난 유약 재료 A와 동일 조성을 갖는 유약 재료를 제공하였다. 이 유약재료를 전기로에서 1300 ~ 1400 ℃에서 용해시키고, 이 용융물을 물에서 급랭시켜 유리프릿을 얻었다. 그 다음, 유리프릿을 스탬프밀하여 분말을 얻었다. 이렇게 생성된 분말 (600 g), 물 400 g, 알루미나 볼 1 kg을 부피가 2 리터인 세라믹 포트에 넣고, 이 혼합물을 약 18시간 동안 볼밀하였다. 이와 같이, 유약 I인 유약슬러리를 생성하였다. 유약 I의 입자직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 68 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 6.0 ㎛이라는 것을 발견하였다.
그 다음, 실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형시편 위에 유약 A를 분무코팅하여 첫번째 유약층을 형성하였다. 그 후, 첫번째 유약층 위에 유약 I를 분무코팅하여 두번째층을 형성하였다. 그 후, 두번째 층 위에 유약 H를 분무코팅하여 세번째 층을 형성한 후, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
생성된 샘플에 대해 상기의 시험 1 ~ 5을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.03 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -72.0 mV 였다.
시험 3: 멸균율은 99.9991 % 였고, 증식억제율은 5.0 이었다. 이 결과를 기초로, 샘플은 상당한 항균성을 갖는다고 평가되었다.
시험 4: 침수 45초 후, 오일 필름이 실질적으로 완전히 유약 표면으로부터 분리되었다.
시험 5: 유약층 표면에 오일을 적하하여 생긴 오일 얼룩은, 비록 유약층 표면에 극소량의 오일 방울이 존재하지만, 실질적으로 완전히 희미해졌다.
실시예 B4
실시예 A1에서 사용한 유약A를 실시예 A1에 사용한 것과 동일한 판형 시편 위에 분무 코팅하여 하부 유약층을 형성하였다. 실시예 B3에서 제조한 유약 I에 은 0.5 중량%를 첨가하고 약 3시간 동안 혼합물을 교반하여 제조한 유약 슬러리를 하부유약층 위에 분무 코팅하여 상부 유약층을 형성하였다. 또한, 탄산나트륨 수용액(농도 10 %) 1.0 g 을 그 위에 분무하고, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 형성하였다.
생성된 샘플에 대해, 상기의 시험 1 ~ 5를 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.03 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -68.8 mV 였다.
시험 3: 멸균율은 99.994 % 였고, 증식억제율은 4.2 였다. 이 결과를 기초로, 샘플은 상당한 항균성을 갖는다고 평가되었다.
시험 4: 침수 60 초 후, 오일 필름이 실질적으로 완전히 유약 표면으로부터 분리되었다.
시험 5: 유약층 표면에 오일을 적하하여 생긴 오일 얼룩은, 비록 유약층 표면에 극소량의 오일 방울이 존재하지만, 실질적으로 완전히 희미해졌다.
실시예 B5
탄산나트륨 수용액(농도 20%) (1.0g)을 실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형시편 위에 분무코팅 하였다. 그 후, 비교예 A1에서 사용한 유약 A를 판형 시편 위에 분무 코팅하여 하부 유약층을 형성하였다. 실시예 B3에서 제조한 유약 I에 은 0.5 중량%를 첨가한 후, 그 혼합물을 약 3시간 동안 교반하여 제조한 유약 슬러리를 하부 유약층 위에 분무 코팅하여 상부 유약층을 형성한 다음, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 형성하였다.
생성된 샘플에 대해, 상기의 시험 1 ~ 5를 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.03 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -67.5 mV 였다.
시험 3: 멸균율은 99.990 % 였고, 증식억제율은 4.0 였다. 이 결과를 기초로, 샘플은 상당한 항균성을 갖는다고 평가되었다.
시험 4: 침수 45 초 후, 오일 필름이 실질적으로 완전히 유약 표면으로부터분리되었다.
시험 5: 유약층 표면에 오일을 적하하여 생긴 오일 얼룩은, 비록 유약층 표면에 극소량의 오일 방울이 존재하지만, 실질적으로 완전히 희미해졌다.
본 발명의 실시예 B1 ~ B5에서 평가된 결과를 표 3에 요약하였다.
| 표면조도Ra | 내오염 시험수중 공기 중 | 제타전위(pH:7) | 항균성시험증식억제율 | |
| 실시예 B1 | 0.02 ㎛ | 35 초 A | -68.3 mV | 4.2 |
| 실시예 B2 | 0.03 ㎛ | 30 초 A | -66.5 mV | 4.0 |
| 실시예 B3 | 0.03 ㎛ | 35 초 A | -72.0 mV | 5.0 |
| 실시예 B4 | 0.03 ㎛ | 60 초 A | -68.8 mV | 4.2 |
| 실시예 B5 | 0.03 ㎛ | 45 초 A | -67.5 mV | 4.0 |
참조) pH 7에서 대장균의 제타전위: -41 mV
주) "내오염 시험(공기 중)"
A : 오일 필름이 실질적으로 완전히 희미해짐.
B : 오일 필름 일부가 판형 시편 위에 남아 있음.
C : 오일 필름의 많은 부분이 판형 시편에 남아 있음.
실시예 C1
유약 재료 A(1가 금속 성분에 대해, 유리성분 총 중량 기준으로 K2O 및 Na2O의 총 중량 = 3.5 중량%; Li2O 성분의 함량 = 0 중량%)(2 kg), 물 1 kg, 볼 4 kg을 부피가 6 리터인 세라믹 포트에 넣은 다음, 그 혼합물을 18 시간 동안 볼밀하였다. 이와 같이, 유약 J인 유약 슬러리를 생성하였다. 유약 J의 입자 직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 65 %는 10 ㎛ 이하의 직경을갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 5.8 ㎛이라는 것을 발견하였다.
유약 재료 A의 조성으로부터 유백제 ZrO2및 안료를 제외한 것 및 Na2O 성분의 함량을 증가시킨 것(1가 금속 성분에 대해, 유리성분의 총 중량 기준으로 K2O 및 Na2O의 총 중량=10 중량%; Li2O 성분의 함량 = 0 중량%)을 제외하고 유약 재료 A와 동일한 조성을 갖는 유약 재료를 제공하였다. 이 유약 재료를 전기로에서 1300 ~ 1400 ℃에서 용융하였고, 그 용융물을 물에서 급랭시켜 유리플릿을 생성하였다. 그 다음, 유리플릿을 스탬프밀하여 분말을 얻었다. 생성된 분말(600 g), 물 400 g, 및 알루미나 볼 1 kg을 부피가 2 리터인 세라믹 포트에 넣은 다음, 혼합물을 약 24 시간 동안 볼밀 하였다. 이와 같이, 유약 K인 유약 슬러리를 얻었다. 생성된 유약 K의 입자 직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 68 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 6.0 ㎛이라는 것을 발견하였다.
그 다음, 유약 J를 실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형 시편 위에 분무 코팅하여 하부 유약층을 형성한 다음, 그 위에 유약 K를 분무 코팅하여 상부 유약층을 형성하고, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
이렇게 생성된 샘플에 대해, 상기 시험 1, 2 및 4 ~ 7을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.04 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -68.3 mV 였다.
시험 4: 침수 35 초 후, 오일 필름이 실질적으로 완전히 유약 표면으로부터 분리되었다.
시험 5: 유약층 표면에 오일을 적하하여 생긴 오일 얼룩은, 비록 유약층 표면에 극소량의 오일 방울이 존재하지만, 실질적으로 완전히 희미해졌다.
시험 6: 유약층은 만족스런 외관을 가졌다. 즉, 시각적으로 관찰했을 때, 틈과 같은 어떠한 결점도 없었고 위생도기로서 어떠한 문제도 없었다.
시험 7: 유약층의 표면의 반사 전자 조성 이미지 및 매핑이미지를 도 9에 나타내었다. 도 9에서 불 수 있는 것과 같이, 유약층 표면에 유백제 ZrO2및 녹지 않고 남아 있는 실리카 입자가 없고, 비누혼화제 성분(예를 들면, 나트륨 및 칼륨)이 유약층 표면 전체에 걸쳐 관찰되었고, 비누 혼화제 성분(예를 들면, 나트륨 및 칼륨)은 유약층 표면 전체에 걸쳐 방출될 수 있었다.
실시예 C2
유약 재료 A의 조성(1가 금속 성분에 대해, K2O 및 Na2O의 총중량%는 유리성분의 총 중량%를 기준으로 3.6 중량%; Li02성분의 함량은 0 중량%)으로부터 유백제 ZrO2및 안료를 제거한 것 이외에 유약재료 A와 동일한 조성으로 유약 재료를 제조하였다. 이 유약 재료를 전기로에서 1300 ~ 1400 ℃에서 용융시키고, 그 용융물을 물에서 급랭시켜 유리프릿을 생성하였다. 그 다음, 유리 프릿을 스탬프밀하여 분말을 얻었다. 생성된 분말(600 g), 물 400 g, 알루미나 볼 1 kg을 부피가 2 리터인 세라믹 포트에 넣고, 그 혼합물을 약 18시간 동안 볼밀하였다. 탄산나트륨 분말을생성된 유약 슬러리(1가 금속 성분에 대해, K2O 및 Na2O의 총중량%는 유리성분의 총 중량%를 기준으로 10 중량%; Li02성분의 함량은 0 중량%)에 첨가하고, 그 혼합물을 약 1시간 동안 교반하였다. 이와 같이, 유약 L인 유약 슬러리를 제조하였다. 유약 L의 입자 직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 68 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 6.0 ㎛이라는 것을 발견하였다.
그 다음, 유약 J를 실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형 시편 위에 분무 코팅하여 하부 유약층을 형성한 다음, 그 위에 유약 L을 분무 코팅하여 상부 유약층을 형성하고, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
이렇게 생성된 샘플에 대해, 시험 1, 2 및 4 ~ 6을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.03 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -66.5 mV 였다.
시험 4: 침수 30 초 후, 오일 필름이 실질적으로 완전히 유약 표면으로부터 분리되었다.
시험 5: 유약층 표면에 오일을 적하하여 생긴 오일 얼룩은, 비록 유약층 표면에 극소량의 오일 방울이 존재하지만, 실질적으로 완전히 희미해졌다.
시험 6: 유약층은 만족스런 외관을 가졌다. 즉, 시각적으로 관찰했을 때, 틈과 같은 어떠한 결점도 없었고 위생도기로서 어떠한 문제도 없었다.
실시예 C3
유약 재료 A의 조성으로부터 유백제 ZrO2및 안료를 제외한 것과 Na2O 조성의 함량을 증가시킨 것(1가 금속 성분에 대해, K2O 및 Na2O의 총중량%는 유리성분의 총 중량%를 기준으로 20 중량%; Li02성분의 함량은 0 중량%)을 제외하고는 유약 재료 A와 동일한 조성을 갖는 유약 재료를 제공하였다. 유약 재료(2 kg), 물 1 kg, 볼 4 kg을 부피가 6 리터인 세라믹 포트에 넣고, 혼합물을 약 20 시간 동안 볼밀하였다. 이와 같이, 유약 M인 유약 슬러리를 제조하였다. 유약 M의 입자 직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 63 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 6.5 ㎛라는 것을 발견하였다.
독립적으로, 유백제인 ZrO2및 안료를 유약 재료A의 조성(1가 금속 성분에 대해, K2O 및 Na2O의 총 중량%는 유리성분의 총 중량%를 기준으로 3.6 중량%; Li02성분의 함량은 0 중량%)으로부터 제외한 것을 제외하고 유약 재료 A와 동일한 조성을 갖는 유약 재료를 제공하였다. 이 유약 재료를 1300 ~ 1400 ℃의 전기로에서 용융시키고, 용융물을 물에서 급랭시켜 유리 플릿을 얻었다. 그 다음, 유리 플릿을 스탬프밀하여 분말을 얻었다. 생성된 분말(600 g), 물 400 g, 알루미나 볼 1 kg을 부피가 2 리터인 세라믹 포트에 넣고, 혼합물을 약 18시간 동안 볼밀하였다. 이와 같이, 유약 N인 유약 슬러리를 얻었다. 유약 N의 입자 직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 68 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며50 % 평균 입자 직경(D50)은 6.0 ㎛이라는 것을 발견하였다.
그 다음, 유약 J를 실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형 시편 위에 분무 코팅하여 첫번째 유약층을 형성하였다. 그 다음, 유약 N을 첫번째 유약층에 분무 코팅하여 두번째 유약층을 형성하였다. 그 후, 두번째 유약층 위에 유약 M을 분무 코팅하여 세번째 유약층을 형성하였다. 이와 같이 얻은 판형 시편을 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
이렇게 생성된 샘플에 대해, 시험 1, 2 및 4 ~ 6을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.06 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -72.0 mV 였다.
시험 4: 침수 45 초 후, 오일 필름은 실질적으로 완전히 유약 표면으로부터 분리되었다.
시험 5: 유약층 표면에 오일을 적하하여 생긴 오일 얼룩은, 비록 유약층 표면에 극소량의 오일 방울이 존재하지만, 실질적으로 완전히 희미해졌다.
시험 6: 유약층은 만족스런 외관을 가졌다. 즉, 시각적으로 관찰했을 때, 틈과 같은 어떠한 결점도 없었고 위생도기로서 어떠한 문제도 없었다.
실시예 C4
실시예 A1에서 사용된 것과 동일한 판형 시편을 제조하였다. 실시예 C1에서 사용된 유약 J를 판형 시편 위에 분무 코팅하여 하부 유약층을 형성하였다. 그 다음, 실시예 C3에 사용된 유약 N을 하부 유약층 위에 분무 코팅하여 상부 유약층을형성하였다. 또한, 그 위에 탄산나트륨 수용액(농도 10 %) 1.0 g을 분무한 다음, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
이렇게 얻은 샘플에 대해, 시험 1, 2 및 4 ~ 6을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.04 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -68.8 mV 였다.
시험 4: 침수 60 초 후, 오일 필름이 실질적으로 완전히 유약 표면으로부터 분리되었다.
시험 5: 유약층 표면에 오일을 적하하여 생긴 오일 얼룩은, 비록 유약층 표면에 극소량의 오일 방울이 존재하지만, 실질적으로 완전히 희미해졌다.
시험 6: 유약층은 만족스런 외관을 가졌다. 즉, 시각적으로 관찰했을 때, 틈과 같은 어떠한 결점도 없었고 위생도기로서 어떠한 문제도 없었다.
실시예 C5
탄산나트륨, 탄산칼륨, 및 탄산 리튬 분말을 실시예 C3에서 제조한 유약 슬러리 N에 첨가하고, 혼합물을 약 1시간 동안 교반하였다 (1가 금속 성분에 대해, K2O 및 Na2O의 총중량%는 유리성분의 총 중량%를 기준으로 7.2 중량%; Li02성분의 함량은 0.7 중량%). 이와 같이, 유약 O인 유약 슬러리를 생성하였다. 유약 O의 입자 직경을 레이저 회절 입도 분포 분석기로 측정하였다. 그 결과, 입자의 68 %는 10 ㎛ 이하의 직경을 갖는 입자이며 50 % 평균 입자 직경(D50)은 6.0 ㎛라는 것을 발견하였다.
그 다음, 유약 J를 실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형 시편 위에 분무 코팅하여 하부 유약층을 형성한 다음, 그 위에 유약 O를 분무 코팅하여 상부 유약층을 형성한 후, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
이렇게 생성된 샘플에 대해, 시험 1, 2 및 4 ~ 6을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.04 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -63.2 mV 였다.
시험 4: 침수 50 초 후, 오일 필름이 실질적으로 완전히 유약 표면으로부터 분리되었다.
시험 5: 유약층 표면에 오일을 적하하여 생긴 오일 얼룩은, 비록 유약층 표면에 극소량의 오일 방울이 존재하지만, 실질적으로 완전히 희미해졌다.
시험 6: 유약층은 만족스런 외관을 가졌다. 즉, 시각적으로 관찰했을 때, 틈과 같은 어떠한 결점도 없었고 위생도기로서 어떠한 문제도 없었다.
비교예 C1
유약 J를 실시예 A1에서 사용한 것과 동일한 판형 시편 위에 분무 코팅하고, 1100 ~ 1200 ℃에서 소성하여 샘플을 얻었다.
이와 같이 얻은 샘플에 대해, 시험 1, 2 및 4 ~ 7을 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다.
시험 1: 최외부층인 유약층의 표면 조도 Ra = 0.10 ㎛.
시험 2: 최외부층인 유약층의 제타전위는 그 표면에서 -51.5 mV 였다.
시험 4: 침수 5 분 후에도, 오일 필름이 유약 표면의 일부에 여전히 남아 있었다.
시험 5: 유약층 표면의 수직 방향에서 벨트로 넓은 오일 필름이 있었다.
시험 6: 유약층은 만족스런 외관을 가졌다. 즉, 시각적으로 관찰했을 때, 틈과 같은 어떠한 결점도 없었고 위생도기로서 어떠한 문제도 없었다.
시험 7: 유약층의 표면의 반사 전자 조성 이미지 및 매핑이미지를 도 10에 나타내었다. 도 10에서 불 수 있는 것과 같이, 유백제인 ZrO2및 녹지 않고 남아 있는 실리카 입자가 유약층 표면에 분산된 상태로 있었고, 유백제 및 실리카 입자가 존재하는 부분에는 비누혼화제 성분(예를 들면, 나트륨 및 칼륨)이 없었다. 이것은 유백제인 ZrO2및 녹지않고 남아있는 실리카 입자가 층 표면에서 비누혼화제 성분(예를 들면, 나트륨 및 칼륨)의 방출을 방해한다고 생각된다.
실시예 C1 ~ C5의 평가결과를 표 4에 요약하였다.
| 외관(시각검사) | 내오염 시험수중 | 내오염 시험공기중 | 제타전위 | |
| 실시예 C1 | A | 35 초 | A | -68.3 mV |
| 실시예 C2 | A | 30 초 | A | -66.5 mV |
| 실시예 C3 | A | 35 초 | A | -72.0 mV |
| 실시예 C4 | A | 60 초 | A | -68.8 mV |
| 실시예 C5 | A | 50 초 | A | -63.2 mV |
| 비교예 C1 | A | 분리불가 | C | -57.2 mV |
참조) pH 7에서 대장균의 제타전위: -41 mV
주) "외관 평가"
A : 유약층 표면에 결점 없음.
B : 유약층 표면 일부에 결점이 있음.
C : 유약층 표면 전체에 결점이 있음.
"내오염 시험(공기 중)"
A : 오일 필름이 실질적으로 완전히 희미해짐.
B : 오일 필름 일부가 판형 시편 위에 남아 있음.
C : 오일 필름의 많은 부분이 판형 시편에 남아 있음
Claims (62)
- 위생도기 몸체 및 위생도기의 최외부층인 유약층으로 이루어지는 위생도기에 있어서,1가 금속 성분 및/또는 폴링의 법칙을 기준으로 전기 음성도 측정치가 1 이하인 금속 성분이, 얼룩 또는 오염을 최외부층인 유약층의 표면으로 방출하는 자정 기능을 제공하기에 충분한 양으로, 최외부층인 유약층의 표면 전체에 걸쳐 균일하고 일정하게 방출되도록 제공되며,금속 성분은 최외부층인 유약층 및/또는 위생도기 몸체으로부터 최외부층인 유약층의 표면으로 공급될 수 있는 위생도기.
- 제 1항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면이 실질적으로 금속성분이 최외부층인 유약층 표면으로 균일하게 방출되는 것을 방해하는 입자를 갖지 않는 위생도기.
- 제 2항에 있어서, 방해입자가 유백제 입자 및/또는 안료 입자인 위생도기.
- 제 1항 내지 제 3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층 표면의 pH 7에서의 제타전위가 음이며 절대치가 60 mV 이상인 위생도기.
- 제 1항 내지 제 4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 금속 성분이 적어도 위생도기 몸체에 함유되어 있는 위생도기.
- 제 5항에 있어서, 금속 성분이 최외부층인 유약층 및 위생도기 몸체에 함유되어 있는 위생도기.
- 제 1항 내지 제 6 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외층의 표면에서 X-선 광전자 분광기로 측정함에 의하면, 최외부층인 유약층의 금속 성분의 함량이, 최외부층인 유약층의 전체 금속성분을 기준으로 산화물로 환산하여 7 중량% 이상인 위생도기.
- 제 1항 내지 제 7항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외층의 표면에서 X-선 광전자 분광기로 측정함에 따라, 최외부층인 유약층의 금속성분의 함량이, 최외부층인 유약층의 전체 금속성분을 기준으로 산화물로 환산하여 20 중량% 미만인 위생도기.
- 제 1항 내지 제 8항 중 어느 하나의 항에 있어서, 위생도기 몸체의 금속 성분의 함량이 위생도기 몸체의 전체 금속성분을 기준으로 산화물로 환산하여 5 중량% 이상인 위생도기.
- 제 1항 내지 제 9항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면이 JIS B 0651(1996)에 따른 스틸러스 타입 표면 조도 시험기로 측정하여 0.07 ㎛ 미만의 표면 조도 Ra를 갖는 위생도기.
- 제 1항 내지 제 10항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 필수적으로 무정형 성분으로 이루어지는 위생도기.
- 제 1항 내지 제 11항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 필수적으로 수화가능한 재료로 이루어지는 위생도기.
- 제 1항 내지 제 12항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 추기로 항균 금속을 포함하는 위생도기.
- 제 13항에 있어서, 항균 금속이 은 및/또는 구리이고, 최외부층인 유약층의 표면에서 X-선 광전자 분광기로 측정함에 의하면, 최외부층인 유약층의 항균 금속의 함량이 전체 금속 성분을 기준으로 산화물로 환산하여 0.1 중량% 이상인 위생도기.
- 제 1항에 있어서, 최외부층인 유약층이 투명 유약층이고, 위생도기 몸체와 최외부층인 유약층 사이에 제공되는 중간층인 유색 유약층을 추가로 포함하는 위생도기.
- 제 15항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면이, 금속 성분이 최외부층인 유약층의 표면으로 균일하게 방출되는 것을 방해하는 입자를 실질적으로 갖지 않는 위생도기.
- 제 16항에 있어서, 방해 입자가 유백제 입자 및/또는 안료 입자인 위생도기.
- 제 15항 내지 제 17항 중 어느 하나의 항에 있어서, pH 7에서 최외부층인 유약층의 표면의 제타전위가 음이며 60 mV 이상의 절대치를 갖는 위생도기.
- 제 15항 내지 제 18항 중 어느 하나의 항에 있어서, 금속 성분이 최소한 최외부층인 유약층에 함유되는 위생도기.
- 제 15항 내지 제 19항 중 어느 하나의 항에 있어서, 금속 성분이 위생도기 몸체 및 중간층인 유약층에 함유되는 위생도기.
- 제 15항 내지 제 20 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면에서 X-선 광전자 분광기로 측정함에 의하면, 최외부층인 유약층의 금속 성분의 함량이 최외부층인 유약층의 전체 금속 성분을 기준으로 산화물로 환산하여 7중량% 이상인 위생도기.
- 제 15항 내지 제 21항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면에서 X-선 광전자 분광기로 측정함에 의하면, 최외부층인 유액층의 금속 성분의 함량이 최외부층인 유약층의 전체 금속 성분을 기준으로 산화물로 환산하여 30 중량% 미만인 위생도기.
- 제 15항 내지 제 22항 중 어느 하나의 항에 있어서, 위생도기 몸체의 금속성분의 함량이 위생도기에 있는 전체 금속 성분을 기준으로 산화물로 환산하여 5 중량% 이상인 위생도기.
- 제 15항 내지 제 23항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면이 JIS B 0651(1996)에 따른 스틸러스 타입 표면 조도 시험기로 측정한 것에 의하면 0.07 ㎛ 미만의 표면 조도 Ra를 갖는 위생도기.
- 제 15항 내지 제 24항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 필수적으로 무정형 성분으로 이루어지는 위생도기.
- 제 15항 내지 제 24항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 필수적으로 수화가능한 재료로 이루어지는 위생도기.
- 제 15항 내지 제 25항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 추가로 항균 금속을 포함하는 위생도기.
- 제 27항에 있어서, 항균 금속은 은 및/또는 구리이며, 최외부층인 유약층의 표면에서 X-선 광전자 분광기로 측정함에 의하면, 최외부층인 유약층의 항균 금속의 함량이 전체 금속 성분을 기준으로 산화물로 환산하여 0.1 중량% 이상인 위생도기.
- 제 1항에 있어서, 추가로, 위생도기 몸체와 최외부층인 유약층 사이에, 주 성분으로서 금속 성분을 포함하는 금속 성분층을 포함하며, 금속 성분은 금속 성분층으로부터 최외부층인 유약층 표면 전체에 걸쳐 공급될 수 있는 위생도기.
- 제 29항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면이, 금속 성분이 최외부층인 유약층의 표면으로 방출되는 것을 방해하는 입자를 실질적으로 갖지 않는 위생도기.
- 제 29항 또는 제 30 항에 있어서, 방해 입자가 유백제 입자 및/또는 안료 입자인 위생도기.
- 제 29항 내지 제 31항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층의표면의 pH 7에서의 제타전위가 음이며 절대치가 60 mV 이상인 위생도기.
- 제 29항 내지 제 32항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면이, JIS B 0651(1996)에 따른 스틸러스 타입 표면 조도 시험기로 측정한 것에 의하면, 0.07 ㎛ 미만의 표면 조도 Ra를 갖는 위생도기.
- 제 29항 내지 제 33항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 필수적으로 무정형 성분으로 이루어지는 위생도기.
- 제 29항 내지 제 34항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 필수적으로 수화가능한 재료로 이루어지는 위생도기.
- 제 29항 내지 제 35항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 추가로 항균금속을 포함하는 위생도기.
- 제 36항에 있어서, 항균 금속은 은 및/또는 구리이며, 최외부층인 유약층의 표면에서 X-선 광전자 분광기로 측정함에 의하면, 최외부층인 유약층의 항균 금속의 함량이 전체 금속 성분을 기준으로 산화물로 환산하여 0.1 중량% 이상인 위생도기.
- 제 1항에 있어서, 최외부층인 유약층이 투명 유약층이며,추가로, 위생도기 몸체와 최외부층인 유약층 사이에 제공되며, 위생도기 몸체쪽에 제공되는 중간층인 유색 유약층 및 최외부층인 유약층에 제공되는, 주성분으로서 금속 성분을 포함하는 금속 성분층을 포함하며,금속 성분은 금속 성분층으로부터 최외부층인 유약층 표면 전체에 걸쳐 공급되는 위생도기.
- 제 38항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면이, 금속 성분이 최외부층인 유약층으로 균일하게 방출되는 것을 방해 입자를 실질적으로 갖지 않는 위생도기.
- 제 39항에 있어서, 방해 입자가 유백제 입자 및/또는 안료 입자인 위생도기.
- 제 38항 내지 제 40항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면의 pH 7 에서의 제타전위가 음이며 절대치가 60 mV 이상인 위생도기.
- 제 38항 내지 제 41항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면이 JIS B 0651(1996)에 따른 스틸러스 타입 표면 조도 시험기로 측정한 것에 의하면, 0.07 ㎛ 미만의 표면 조도 Ra를 갖는 위생도기.
- 제 38항 내지 제 42항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 필수적으로 무정형 성분으로 이루어지는 위생도기.
- 제 38항 내지 제 43항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 필수적으로 수화가능한 재료로 이루어지는 위생도기.
- 제 38항 내지 제 44항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 추가로 항균금속을 포함하는 위생도기.
- 제 45항에 있어서, 항균 금속은 은 및/또는 구리이며, 최외부층인 유약층의 표면에서 X-선 광전자 분광기로 측정함에 의하면, 최외부층인 유약층의 항균 금속의 함량이 전체 금속 성분을 기준으로 산화물로 환산하여 0.1 중량% 이상인 위생도기.
- 제 1항에 있어서, 최외부층인 유약층이 투명 유약층이며,추가로, 위생도기 몸체와 최외부층인 유약층 사이에 제공되며, 위생도기 몸체쪽에 제공되는, 주성분으로서 금속 성분을 포함하는 금속 성분층 및 최외부층인 유약층 쪽에 제공되는 중간층인 유색 유약층을 포함하며,금속 성분이 금속 성분층으로부터 최외부층인 유약층 표면 전체에 걸쳐 공급되는 위생도기.
- 제 47항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면이, 금속 성분이 최외부층인 유약층으로 균일하게 방출되는 것을 방해하는 입자를 실질적으로 갖지 않는 위생도기.
- 제 48항에 있어서, 방해 입자가 유백제 입자 및/또는 안료 입자인 위생도기.
- 제 47항 내지 제 49항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면의 pH 7 에서의 제타전위가 음이며 절대치가 60 mV 이상인 위생도기.
- 제 47항 내지 제 50항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층의 표면이, JIS B 0651(1996)에 따른 스틸러스 타입 표면 조도 시험기로 측정한 것에 의하면, 0.07 ㎛ 미만의 표면 조도 Ra를 갖는 위생도기.
- 제 47항 내지 제 51항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 필수적으로 무정형 성분으로 이루어지는 위생도기.
- 제 47항 내지 제 52항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 필수적으로 수화가능한 재료로 이루어지는 위생도기.
- 제 47항 내지 제 53항 중 어느 하나의 항에 있어서, 최외부층인 유약층이 추가로 항균금속을 포함하는 위생도기.
- 제 54에 있어서, 항균 금속은 은 및/또는 구리이며, 최외부층인 유약층의 표면에서 X-선 광전자 분광기로 측정함에 의하면, 최외부층인 유약층의 항균 금속의 함량이 전체 금속 성분을 기준으로 산화물로 환산하여 0.1 중량% 이상인 위생도기.
- 제 1항 내지 제 55항 중 어느 한 항에 있어서, 위생도기가 대변기 또는 소변기인 위생도기.
- 제 1항 내지 제 55항 중 어느 하나의 항에 있어서, 위생도기가 세면기인 위생도기.
- 제 1항 내지 제 55항 중 어느 하나의 항에 있어서, 위생도기가 변기용 여과기인 위생도기.
- 제 1항 내지 제 55항 중 어느 하나의 항에 있어서, 위생도기가 대변기인 위생도기.
- 제 1항 내지 제 55항 중 어느 하나의 항에 있어서, 위생도기가 소변기인 위생도기.
- 제 1항 내지 제 55항 중 어느 하나의 항에 있어서, 위생도기가 대변기 또는 소변기의 물탱크인 위생도기.
- 제 1항 내지 제 55항 중 어느 하나의 항에 있어서, 위생도기가 수세용기인 위생도기.
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