JP4240516B2 - 防汚性部材 - Google Patents
防汚性部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4240516B2 JP4240516B2 JP35393298A JP35393298A JP4240516B2 JP 4240516 B2 JP4240516 B2 JP 4240516B2 JP 35393298 A JP35393298 A JP 35393298A JP 35393298 A JP35393298 A JP 35393298A JP 4240516 B2 JP4240516 B2 JP 4240516B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- rare earth
- antifouling
- earth element
- degrees
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、流水環境下で使用される部材に関する。
【0002】
【従来の技術】
流水環境で使用される部材は、流水中に含有されるCa、Si等の影響により汚れを生じやすい。具体的には、流水が表面に付着したまま乾燥されると、流水中に含有されるCa成分やSi成分が析出して薄膜状の水垢が付着し、さらに流水の付着と乾燥を繰り返すことにより凸凹状の水垢膜へと成長する。前記凸凹状の水垢膜が形成されると、凹部に付着水が残留されやすくなり、そこに細菌が繁殖し、さらに汚れの付着が加速化されるようになってしまう。
そこで、従来の技術では、部材の表面をフッ素系撥水性材料などでコーティングして、表面に流水が残らない様にした。ところが、テフロンなどのフッ素系撥水材料は、水との接触角は高いものの、静電気を帯びやすいため実際には水を引きつけやすいのみならず空気中の埃を引き付けるため、使用条件によっては却って汚れる場合があった。また、フッ素系撥水性材料は非常に軟らかいため、耐久性が要求される便器や洗面器などの表面処理には不向きであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、流水環境下における汚れが付着しにくい表面を有する部材を提供することである。
【0004】
本発明では、上記課題を解決すべく、流水環境下にて使用する希土類元素酸化物膜が形成された部材であって、前記希土類元素はセリウムおよびイットリウムの混合物であることを特徴とする防汚性部材を提供する。一般にシリカ、アルミナ薄膜は製造直後の水との接触角はほぼ0度だが、セリアやイットリアなどの希土類元素酸化物膜は、製造直後でも接触角が20度以上あり、数日間放置すると80度以上まで上昇し、100度に達するものもある。しかも、フッ素系撥水材料と違って、静電気を帯びないので、空気中の埃も付きにくい。
【0005】
さらに、希土類元素酸化物はフッ素系撥水材料に比べてはるかに硬い。特にセリアはガラスの研磨剤に用いられるほどである。そのため、相当手荒くスポンジ等で擦っても、表面に傷が入らないので表面の平滑が維持でき、汚れが付着しにくくなる。
【0006】
撥水性材料の評価方法として、水との接触角を測定する方法が一般的である。しかし、水滴がいかに材料の表面に残らないかを考えれば、水との転落角を測定する方法も大切である。ここで言う転落角とは、40マイクロリットルの蒸留水を試料に滴下した後、試料を傾斜させて、水滴が水跡を残さず移動し始める時の傾斜させた角度を言う。なお、水滴が水跡を残したり、90度以上傾けても移動しない場合は、転落角は測定不能とする。セリア膜もしくはセリアとイットリアの混合系からなる膜(以下これをセリア−イットリア膜と呼ぶ)の転落角が、製造直後は測定不能もしくは数十度だが、2、3週間放置すると30度以下になる。テフロンは接触角が大体120度であるが、転落角は約50度なので、セリア膜もしくはセリア−イットリア膜の方が、水滴を残しにくい。
【0007】
水滴が水跡を残さず容易に転落するため、流水環境下で水滴が表面に付着しにくくなり、水滴の乾燥に起因するCa塩やSi塩の析出による水垢薄膜が形成しにくくなる。そのため、引いてはその水垢薄膜上にさらに凸凹に析出するCa塩やSi塩による汚れや、そこに水滴が残留することにより生じる菌の繁殖による汚れが生じにくくなる。
【0008】
本発明の好ましい態様においては、流水環境下にて使用する釉薬層を介して表面に希土類元素酸化物膜が形成された部材であって、前記希土類元素はセリウムおよびイットリウムの混合物であるようにする。比較的平滑な表面を有する釉薬層を介して希土類元素酸化物膜を形成するようにしたことにより、凹凸を基点に汚れが付着して希土類元素酸化物膜の前段落番号に示した性質が損なわれるのを抑制することができ、その結果、より汚れにくい表面を有するようになる。
【0009】
本発明の好ましい態様においては、前記防汚性部材の表面粗さRaが触針式表面粗さ測定装置(JIS−B0651)により、0.07μm未満であるようにする。この程度まで表面が平滑だと、凹凸を基点に汚れが付着して前述した希土類元素酸化物膜の性質が損なわれるのをかなり防止することができ、その結果、さらに汚れにくい表面を有するようになる。
【0010】
本発明の好ましい態様においては、希土類元素酸化物膜がセリア−イットリアの混合した膜であるようにする。セリアにイットリアを添加することによって、セリア膜の屈折率を低下させて、セリア膜特有のラスター状の光沢を抑えることができる。また、セリウムのアルコラートで基材の表面を被覆し、焼成して固化させる方法でセリア膜を形成する場合、焼成の段階で基材からの不純物の影響を受け、セリア膜の接触角の上昇や転落角の低下が阻害される。しかし、イットリアを添加すると、不純物の影響を受けにくくなり、転落角がより早く低下するようになる。
【0011】
本発明の好ましい態様においては、セリウムおよびイットリウムからなる希土類元素酸化物膜中にはさらに抗菌剤が配合されているようにする。上記希土類元素酸化物膜中に抗菌剤を配合することにより、さらに菌が多少付着した場合においても抗菌可能であり、菌による汚れを抑制できる。
【0012】
本発明の好ましい態様においては、釉薬層中には、抗菌剤が配合されているようにする。
釉薬層中に抗菌剤を配合することにより、上部にある希土類元素酸化物膜の影響で抗菌剤がすぐには消費されず、抗菌効果を長期にわたり維持可能となる。
【0013】
本発明の流水環境下にて使用する防汚性部材の一実施態様を図1に示す。図1では、基材1の表面にセリウムおよびイットリウムからなる希土類元素酸化物膜2が形成されている。また図2に流水環境下にて使用する防汚性部材の他の実施態様を示す。図2では、基材1の表面に釉薬層2を介しセリウムおよびイットリウムからなる希土類元素酸化物膜3が形成されている。
【0014】
図1の部材を製造する1つの方法は、基材表面にセリウムおよびイットリウムからなるアルコラートをフローコート、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、バーコート、グラビアコート等の方法により被覆し、10〜1500度、より好ましくは200〜1200度の温度で焼成して固化させる。図1の部材を製造する他の方法は、基材表面にセリアもしくはイットリアのどちらか一方または両方を電子ビーム蒸着、スパッタ、CVD蒸着、イオンビーム蒸着等の方法により被覆し、必要に応じて焼成する。
【0015】
図2の部材を製造する1つの方法は、基材表面に釉薬をフローコート、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、バーコート、グラビアコート等の方法により被覆し300〜1200度の温度で焼成することにより釉薬層を形成後、その表面にセリウムおよびイットリウムからなるアルコラートをフローコート、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、バーコート、グラビアコート等の方法により被覆し、10〜1500度、より好ましくは200〜1200度の温度で焼成して固化させる。
【0016】
図2の部材を製造する他の方法は、基材表面に釉薬をフローコート、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、バーコート、グラビアコート等の方法により被覆し300〜1200度の温度で焼成することにより釉薬層を形成後、その表面にセリアもしくはイットリアのどちらか一方又は両方を電子ビーム蒸着、スパッタ、CVD蒸着、イオンビーム蒸着等の方法により被覆し、必要に応じて焼成する。
【0017】
図2の部材を製造する他の方法は、基材表面に釉薬をフローコート、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、バーコート、グラビアコート等の方法により被覆後その表面にセリウムおよびイットリウムからなるアルコラートをフローコート、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、バーコート、グラビアコート等の方法により被覆し、300〜1500度、より好ましくは500〜1200度の温度で焼成して固化させる。
【0018】
図2の部材を製造する他の方法は、基材表面に釉薬をフローコート、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、バーコート、グラビアコート等の方法により被覆後その表面にセリアもしくはイットリアのどちらか一方又は両方を電子ビーム蒸着、スパッタ、CVD蒸着、イオンビーム蒸着等の方法により被覆し、300〜1500度、より好ましくは500〜1200度の温度で焼成して固化させる。
【0019】
ここで、流水環境下にて使用する部材は、以下に限定されるものではないが、例えば、便器、便器のサナ、洗面台の洗面器、キッチンシンク、シャワーノズル、食器、便器配管、水道配管、水栓金具、局部洗浄ノズル、洗濯水槽、食器洗浄機、屋根、建物外壁、舗装等の通常流水環境で使用する部材や、通常の洗浄等で流水を利用する食器、浴槽、浴室壁、浴室床、浴室備品、自動車、鉄道車両、航空機、タイル等が挙げられる。
【0020】
セリウムおよびイットリウムからなる希土類元素酸化物膜及び/又は釉薬層には抗菌剤を添加してもよい。ここで、抗菌剤としては、銀、銅又は亜鉛原子を含む物質や、第4級アミン等の有機抗菌剤や、酸化チタン、酸化亜鉛等の光触媒が好適に利用できる。
【0021】
防汚性部材の表面粗さRaは、触針式表面粗さ測定装置(JIS−B0651)により、0.07μm未満、好ましくは0.05μm未満、より好ましくは0.03μm未満であるようにするとよい。防汚性部材の表面粗さRaを上記表面粗さにするには、例えば、下地の基材又は釉薬層のRaが0.07μm未満、好ましくは0.05μm未満、より好ましくは0.03μm未満であるものを準備し、その上にセリア−イットリア膜を形成する。例えば、釉薬層のRaが0.07μm未満であるものを準備する1つの方法は、釉薬原料にガラス状の釉薬やD50粒径で1.5μm未満の微粒釉薬を使用し、それを基材表面にフローコート、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、バーコート、グラビアコート等の方法により被覆し焼成する。
【0022】
(実施例1)
寸法48×98×5(mm)のテフロンの板を比較試料1とした。東陶機器(株)のタイルAB02FT01に高純度化学研究所(株)のセリア膜用ディップコート剤Ce−03を酢酸ブチルで2倍に希釈した溶液を、フローコートで塗布した後、これを500℃で30分間焼成して、表面にセリア膜を形成させた試料1を得た。また、Ce−03と高純度化学研究所(株)のイットリア膜用ディップコート剤Y−03を重量比1対1の割合で混合した後、酢酸ブチルで2倍に希釈した溶液を製作した。この溶液を試料1と同じタイルに試料1と同じ方法で塗布および焼成し、表面にセリア−イットリア膜を形成させた試料2を得た。
【0023】
(表1 )
【0024】
比較試料1の接触角は117.8度であったが、転落角は52度と高かった。試料1は製造直後の接触角は77.8度、転落角は74度であったが、11日間室内に放置すると、接触角と転落角はそれぞれ89.1度と33.3度になった。
【0025】
試料2の製造直後の接触角は66.4度、転落角は79.7度であったが、11日間室内に放置すると、接触角と転落角はそれぞれ100.4度と15.3度と無添加のセリア膜より転落角が半分以下になった。
【0026】
(実施例2)東陶機器(株)のタイルAB02E11に高純度化学研究所(株)のシリカ膜用ディップコート剤Si−03を酢酸ブチルで2倍に希釈した溶液を、フローコートで塗布した後、これを500℃で30分間焼成して、比較試料2を得た。比較試料2と同じタイルを高純度化学研究所(株)のアルミナ膜用ディップコート剤Al−03を酢酸ブチルで2倍に希釈した溶液を、フローコートで塗布した後、これを500℃で30分間焼成して、比較試料3を得た。比較試料2と同じタイル4枚を、Ce−03を酢酸ブチルで2倍に希釈した溶液にフローコートで塗布した後、これらを1枚づつ300、350、400、500℃で30分間焼成して、試料3〜6を得た。比較試料2と同じタイル3枚を、Ce−03を酢酸ブチルで2倍に希釈した溶液にフローコートで塗布した後、これらを1枚づつ350、400、500℃で30分間焼成して、試料7〜9を得た。比較試料2と同じタイル2枚を、Y−03を酢酸ブチルで2倍に希釈した溶液にフローコートで塗布した後、これらを1枚づつ400、500℃で30分間焼成して、表面にイットリア膜を形成させた試料10〜11を得た。
【0027】
これらの薄膜の焼結性と防汚性を評価した。焼結性は目視によって次の様に評価した。
○:完全に薄膜が形成されている
△:一部に焼成していないところがある
【0028】
次に防汚性の評価であるが、試料を1日あたり約50〜100人が使用する便所に設置されている洗面器のボール面内に、薄膜面を上にして流水にふれるようにした試料を14日間設置して、目視によって水垢がついたかどうかで判断した。評価基準は次の通りである。
○:薄膜表面に水垢がわずかに付いているが、光沢は失われてはいない
△ :薄膜表面に水垢が付いているが、光沢は少し残っている
×:薄膜表面が水垢に覆われて白くなり、光沢を失っている。
【0029】
その結果を表1に示す。シリカやアルミナの親水性の金属薄膜は、金属石鹸などの汚れが表面に付着したため、表面が白くなって光沢が失われた。しかし、セリア、イットリア、セリア−イットリア膜は水滴が表面に残らないため、汚れの付着が少なかった。
【0030】
【発明の効果】
本発明によれば、流水環境下における汚れが付着しにくい表面を有する部材を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施態様を示す図。
【図2】本発明の他の実施態様を示す図。
【符号の説明】
1…基材
2…釉薬層
3…希土類元素酸化物膜
【表1】
Claims (10)
- 流水環境下にて使用する希土類元素酸化物膜が形成された部材であって、前記希土類元素は、セリウムおよびイットリウムの混合物であることを特徴とする防汚性部材。
- 流水環境下にて使用する釉薬層を介して表面に希土類元素酸化物膜が形成された部材であって、前記希土類元素は、セリウムおよびイットリウムの混合物であることを特徴とする防汚性部材。
- 前記防汚性部材の表面粗さRaが触針式表面粗さ測定装置(JIS−B0651)により、0.07μm未満であることを特徴とする請求項1又は2に記載の防汚性部材。
- 前記防汚性部材表面における水との転落角が50度未満であることを特徴とする請求項1乃至3に記載の防汚性部材。
- 前記希土類元素酸化物膜中には、さらに抗菌剤が配合されていることを特徴とする請求項1乃至4に記載の防汚性部材。
- 前記釉薬層中には、抗菌剤が配合されていることを特徴とする請求項2乃至5に記載の防汚性部材。
- 前記部材は、洗面台の洗面器であることを特徴とする請求項1乃至6に記載の防汚性部材。
- 前記部材は、便器又は便器のサナであることを特徴とする請求項1乃至6に記載の防汚性部材。
- 前記部材は、食器であることを特徴とする請求項1乃至6に記載の防汚性部材。
- 前記部材は、タイルであることを特徴とする請求項1乃至6に記載の防汚性部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35393298A JP4240516B2 (ja) | 1998-11-26 | 1998-11-26 | 防汚性部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35393298A JP4240516B2 (ja) | 1998-11-26 | 1998-11-26 | 防汚性部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000159619A JP2000159619A (ja) | 2000-06-13 |
JP4240516B2 true JP4240516B2 (ja) | 2009-03-18 |
Family
ID=18434202
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35393298A Expired - Fee Related JP4240516B2 (ja) | 1998-11-26 | 1998-11-26 | 防汚性部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4240516B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006131429A (ja) | 2004-11-02 | 2006-05-25 | Towa Corp | 低密着性材料及び樹脂成形型 |
JP3974152B2 (ja) * | 2006-01-26 | 2007-09-12 | Towa株式会社 | 低密着性材料、樹脂成形型及び防汚性材料 |
JP5692772B2 (ja) * | 2009-11-26 | 2015-04-01 | 国立大学法人東北大学 | 表面保護膜、接ガス部材、ガス処理装置及びメカニカルポンプ |
JP6775927B2 (ja) * | 2015-08-27 | 2020-10-28 | 住化エンバイロメンタルサイエンス株式会社 | 抗菌剤組成物 |
-
1998
- 1998-11-26 JP JP35393298A patent/JP4240516B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000159619A (ja) | 2000-06-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100524157B1 (ko) | 위생도기 및 그의 제조방법 | |
US9662645B2 (en) | Photocatalyst member | |
EP1110924B1 (en) | Sanitary ware and method for production thereof | |
JP2000135755A (ja) | 親水性複合材 | |
JP3354140B2 (ja) | 衛生陶器 | |
US20160023958A1 (en) | Sanitary ware | |
JP4240516B2 (ja) | 防汚性部材 | |
JP2003236977A (ja) | 防汚性部材 | |
JP2002293667A (ja) | セラミック成形体 | |
JP2001072460A (ja) | 施釉製品及びその製造方法 | |
DK2646385T3 (en) | GLASS MATERIALS THAT RESIST TO CORROSION AND CREATION OF SPOTS IN HUMID ENVIRONMENTS | |
JP4100922B2 (ja) | 帯電防止塗布液及びその製造方法 | |
JP2006015754A (ja) | 防汚性及び易洗浄性の高い無機、金属及び樹脂成形製品及びその製造方法 | |
JP2000071359A (ja) | 機能材 | |
JP3879313B2 (ja) | 防汚層付き基材 | |
JP2001192865A (ja) | 防汚性施釉製品及びその製造方法 | |
JP2000044368A (ja) | 抗菌性を有する陶磁器 | |
JP2002003282A (ja) | 撥水性セラミックス | |
JP2000178089A (ja) | 陶磁器及びその製造方法 | |
JP3611241B2 (ja) | 節水便器 | |
JP3687594B2 (ja) | 防汚層付き基材及びその製造方法 | |
JP2001123513A (ja) | セルフクリーニング性施釉製品 | |
JP2000257138A (ja) | 防汚性便器 | |
JP2001051108A (ja) | 浴室用防曇鏡及び浴室設備並びに浴室 | |
JP2001051107A (ja) | 浴室用防曇鏡及び浴室設備並びに浴室 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080916 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081110 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081208 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081221 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130109 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130109 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140109 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |