JP5692772B2 - 表面保護膜、接ガス部材、ガス処理装置及びメカニカルポンプ - Google Patents
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Description
具体的には以下の手順で試験を行った。
まず、直径33mmのSi基板上にMOD(Metal Organic Decomposition)塗布型Y-Ceコート溶液として、株式会社高純度化学研究所製のMOD塗付型Y-03とCe-03を酸化物換算でCeO2が原子比で1〜5%と所定比となるように混合したものをスピンコーターにより回転速度1500rpmで60秒間塗付を行った。
塗付を行った後に、サンプルをIR炉(遠赤外線加熱炉)を用いて加熱した。
初めにコート材中の有機物成分を除去するために、IR炉を400℃まで5℃/minの昇温速度で昇温し、5Torr(6.7×102Pa)減圧下でN2ガスを1L/minフローさせた状態で行い、400℃で8時間保持した。
その後、圧力を大気圧まで戻した後に100%O2の雰囲気下で1時間酸化を行った。
酸化を行った後は室温まで自然冷却を行った。
以上の手順により、基板上に表面保護膜を形成したサンプルを作製した。
次に、サンプルを以下の手順で腐食性の高い100%Cl2ガスに暴露した。
まず、内表面をAl2O3処理したSUS配管内部にサンプルをセットし、1000L/minでN2フローを行いながら5℃/minで150℃まで昇温した後、150℃で1時間保持し、サンプル表面に吸着した水分を除去した。
次に、N2ガスをCl2ガスに切替え、圧力3kgf/cm2(2.9×104Pa)で24時間暴露を行った。
次に、Cl2ガスに暴露したサンプルについて、日本電子株式会社(JEOL)製の光電子分光装置(XPS、X-ray Photoelectron Spectroscopy)であるJPS−9010−MXによりClの検出深さ(侵入量)を測定した。
具体的には直径1mm範囲について面内任意3ケ所の測定を行い、平均値をとった。
結果を表1に示す。
a1、a2 スクリューロータ
a3 ケーシング
a4 シャフト
a6 タイミングギア
a7 吸入ポート
a8 吐出ポート
a10 不活性ガス注入口
M モータ
Claims (12)
- イットリア(Y2O3)を主成分とし、セリウムを酸化物換算の原子比で1%〜5%含有する表面保護膜を少なくとも接ガス部に有することを特徴とする接ガス部材。
- 請求項1に記載の接ガス部材を用いたことを特徴とするガス処理装置。
- 排出すべきガスに接触する部分である接ガス部の表面上に、酸化セリウムを酸化物換算の原子比で1〜5%添加したイットリア膜である表面保護膜を有することを特徴とするメカニカルポンプ。
- ロータを収納したケーシングに気体の吸入ポートと吐出ポートを形成した本体を有し、
前記本体のうち、前記気体と接触する部分である接ガス部の表面に、0.1乃至10μmの厚さで前記表面保護膜がコーティングされていることを特徴とする請求項3に記載のメカニカルポンプ。 - 前記本体の温度を80℃乃至250℃の範囲内に維持する温度制御手段を有することを特徴とする請求項4に記載のメカニカルポンプ。
- 前記温度制御手段は、加熱手段を含むことを特徴とする請求項5に記載のメカニカルポンプ。
- 前記温度制御手段は、前記メカニカルポンプの動作によって発生する気体圧縮熱および動作部材の摩擦熱の少なくも一方を利用するものであることを特徴とする請求項6に記載のメカニカルポンプ。
- 請求項3〜7のいずれか一項に記載のメカニカルポンプと、該メカニカルポンプによってガスが排出される処理室と、前記処理室とメカニカルポンプとの間に設けられた配管とを有し、前記処理室および前記配管の少なくとも一方の内表面上に、前記表面保護膜を有することを特徴とする半導体製造装置。
- 請求項3〜7のいずれか一項に記載のメカニカルポンプと、該メカニカルポンプによってガスが排出される処理室と、前記処理室とメカニカルポンプとの間に設けられた配管とを有し、前記処理室および前記配管の少なくとも一方の内表面上に、前記表面保護膜を有することを特徴とする薄型ディスプレイ製造装置。
- 請求項3〜7のいずれか一項に記載のメカニカルポンプと、該メカニカルポンプによってガスが排出される処理室と、前記処理室とメカニカルポンプとの間に設けられた配管とを有し、前記処理室および前記配管の少なくとも一方の内表面上に、前記表面保護膜を有することを特徴とする太陽電池製造装置。
- 請求項3〜7のいずれか一項に記載のメカニカルポンプを製造するメカニカルポンプの製造方法であって、前記表面保護膜をゾルゲル法によって形成することを特徴とするメカニカルポンプの製造方法。
- 250〜1000℃の範囲の熱処理を伴うゾルゲル法によって前記表面保護膜を形成することを特徴とする請求項11記載のメカニカルポンプの製造方法。
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