KR20010078795A - 액티브제진장치 및 노광장치 - Google Patents

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KR20010078795A
KR20010078795A KR1020010006294A KR20010006294A KR20010078795A KR 20010078795 A KR20010078795 A KR 20010078795A KR 1020010006294 A KR1020010006294 A KR 1020010006294A KR 20010006294 A KR20010006294 A KR 20010006294A KR 20010078795 A KR20010078795 A KR 20010078795A
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와쿠이신지
이와이이사오
마에다다카시
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미다라이 후지오
캐논 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은 스테이지가 탑제되는 제진테이블을 가지는 액티브 제진장치에 관한 것이다. 이 액티브 제진장치는 제진테이블을 지지 및 구동하기 위한 공기스프링액추에이터와, 스테이지에 관계하고 또한 스테이지를 구동하기 위해 필요한 속도프로파일에 의해 결정되는 목표속도신호를 PI-보상하기 위한 PI보상기 및 PI보상기로부터의 출력신호에 따라서 공기스프링액추에이터를 제어하는 이동모드분배 연산유닛을 포함한다.

Description

액티브 제진장치 및 노광장치{ACTIVE ANTI-VIBRATION APPARATUS AND EXPOSURE APPARATUS}
본 발명은 레티클상의 패턴을 반도체기판상에 프린트하는 반도체노광장치 또는 전자 현미경에 적합하게 사용되거나, 레티클상의 패턴을 유리기판등에 프린트하는 액정기판제조노광장치 또는 전자현미경등에 적합하게 사용되는 액티브제진장치
(active anti-vibration apparatus) 및 이를 사용한 노광장치에 관한 것이다.
보다 상세하게는, 본 발명은 제진테이블에 전달되는 외부진동을 억제할 수 있고 제진테이블상에 탑제된 정밀기계 자체에 의해 발생되는 진동을 적극적으로 상쇄시키고, 또한 제진테이블상에 탑제된 스테이지의 이동부하에 의해 기인하는 제진테이블의 경사를 보정할 수 있는 액티브제진장치 및 상기 제진장치를 사용하는 노광장치에 관한 것이다.
전자빔을 사용하는 전자현미경, 또는 스테퍼등으로 대표되는 노광장치에 있어서, 웨이퍼스테이지는 제진장치위에 탑제된다. 제진장치는 공기스프링, 코일스프링 및 제진고무부재등과 같은 진동흡수수단에 의해 진동을 감쇠시키는 기능을 가진다.
상술한 바와같은 진동흡수수단을 가지는 수동적 제진장치에 있어서, 마루등으로부터 수동적 제진장치에 전달되는 진동은 어느정도 감쇠될 수 있으나, 제진장치상에 탑제된 웨이퍼스테이지 자체에 의해 발생되는 진동은 효과적으로 감소되지 않는다. 즉, 웨이퍼스테이지 자체의 고속이동에 의해 발생되는 웨이퍼스테이지의 반동력은 제진장치를 진동시킴으로써, 웨이퍼스테이지의 위치결정성능을 상당히 방해한다.
수동적 제진장치에 있어서, 마루등으로부터 전달되는 진동의 절연(제거) 및 웨이퍼스테이지 자체의 고속이동에 의해 발생되는 진동에 대한 진동 억압성능(진동제어)은 서로 트레이드오프(trade off)된다.
최근, 이들의 문제를 해결하기 위해서, 능동적 제진장치가 사용되는 경향이 있다. 능동제진장치는, 조정기구에 의해 조정가능한 범위내에서 제진과 진동제어사이의 트레이드오프를 제거할 수 있다. 무엇보다도 특히, 제진장치가 피드-포워드 제어(feed-forward control)를 채택할 때, 수동적 제진장치에 의해 달성될수 없는 성능을 실현하는 것이 가능하다.
수동적 제진장치뿐만 아니라 능동적 제진장치에 있어서, 제진테이블상에 탑제되는 웨이퍼스테이지가 스텝 앤드 리피트(Step and repeat) 또는 스텝 앤드 주사(Step and scan)동작을 행할 때, 웨이퍼스테이지의 무게중심은 스테이지 웨이퍼의 이동에 기인하여 변화함으로써, 제진테이블을 경사시킨다. 충분한 기간이 경과함으로써, 이와같은 경사는 자연적으로 보정되고 또한 제진장치는 수평상태로 복귀된다. 그러나, 스텝 앤드 리피트 또는 스텝 앤드 주사 동작이 고속으로 행하여 지기 때문에, 제진테이블의 위치 복귀운동은 웨이퍼스테이지를 따라 잡을 수 없고, 결과적으로 제진테이블은 경사된다.
이와같은 경사는 자연적인 물리현상이지만, 반도체노광장치와 같은 노광장치에 심각한 불이익을 초래한다. 예를 들면, 본체구조체에 형성된 기능유닛은 본체구조체의 경사에 기인하여 바람직하지 않게 진동함으로써, 소정의 성능을 얻을수 없다. 이에 대한 대응수단으로서, 제진테이블의 고유진동수를 증가시킴으로써, 즉, 제진테이블을 고정함으로써 왜란에 대한 반응은 억압될수도 있다. 그러나, 이 경우에 있어서, 마루등에 의한 진동은 제진테이블에 용이하게 전달됨으로써, 제진특성의 열화를 초래한다. 따라서, 제진특성을 손상시키지 않으면서 본체구조체의 경사를 보정하는 기술이 연구되고 있다.
더욱 상세한 이해를 위하여, 웨이퍼스테이지가 제진테이블상에 탑제된 능동적 제진장치의 기계구성을 참조하여 상기 내용을 설명한다. 도 2는 능동적 제진장치의 기계구성의 일예를 도시하는 사시도이다. 도 2에 있어서, 웨이퍼스테이지
(21)는 제진테이블(22)상에 탑제되고, 능동적 지지다리(23-21), (23-2) 및 (23-3)는 제진테이블(22)을 지지한다. 각각의 능동적 지지다리(23)(23-1, 23-2 및 23-
3)는 2개의 축, 즉 수직 및 수평축의 운동을 제어하기 위하여 필요한 가속센서
(AC-xx), 위치센서(PO-xx), 압력센서(PR-xx), 서브밸브(SU-xx) 및 공기스프링액추에이터(AS-xx)등을 포함한다. AC 및 PO등에 부착된 기호(XX)는 도 2의 좌표계의 방향과 능동적 지지다리(23)의 위치를 나타낸다. 예를 들면, Y2는 Y방향의 좌측에 배치하는 능동적 지지다리(23-2)에 포함되는 성분을 나타낸다.
웨이퍼스테이지(21)의 Y스페이지가 도 2에 도시된 Y방향으로 소정거리만큼 이동하여 정지한 상태의 현상을 설명한다. Y방향으로의 Y스테이지의 이동은 능동적 지지다리(23)에 대한 제진테이블의 무게중심의 변화에 대응한다. 무게중심의 변화에 관계없이 제진테이블(22)의 수평자세를 유지하기 위하여 필요하고, 또한 각각의 능동지지다리(23)의 수직액추에이터에 의해 발생되는 추력(thrust)은 일정하게 결정된다. 충분한 시간이 경과한 후에, Y스테이지가 위치제어 때문에 이동하여 정지상태에 있을 때, 능동지지다리(23)는 무게중심의 변화를 맞추는 추력을 발생시키고, 제진테이블(22)는 수평상태로 복귀된다.
Y스테이지가 연속적으로 스텝 앤드 리피트 또는 스텝 앤드 주사동작을 행할 때 위치는 변화한다. Y스테이지가 연속적으로 이동함으로써, 무게중심의 위치도 또한 연속적으로 변화한다. 따라서, 능동지지다리(23)는 미리설정된 위치로 제시간에 복귀할수 없고, 제진테이블(22)은 점진적으로 경사한다. X스테이지가 스텝 앤드 리피트 또는 스텝 앤드 주사동작을 행할 때, 동일한 이유에 의해 Y축에 대해 회전(경사)를 발생시킨다. 제진테이블(22)의 경사는 측정부(도시되지 않음)의 측정정밀도 또는 스테이지 자체의 위치설정성능을 열화시키고, 반도체노광장치의 생산성을 부분적으로 열화시킨다. 따라서, 스테이지의 이동에 따른 무게중심의 변화에 의해 초래되는 제진테이블의 경사를 보정하는 기술이 필요하다.
상기 문제를 해결하기 위하여, 일본특개평 제 9-134876(제진장치 및 노광장치)가 종래기술로서 공지되어 있다. 이 참고문헌에 의하면, 스테이지의 이동에 따른 무게중심의 변화에 의해 초래되는 제진테이블의 경사는 스테이지의 위치검출수단(레이저간섭계)으로부터의 출력에 의거하여 예상되고, 이 경사를 보정하기 위한 피드-포워드 명령값이 제진장치의 진동제어시스템에 인가된다. 액추에이터
(actuator)는 음성코일모터(VCM)이고, 여기에 스테이지의 이동에 의해 야기되는 제진테이블의 경사를 보정하기 위한 정상전류가 인가된다. 용이하게 이해된 바와같이, 정상전류를 인가함으로써 초래되는 결점은 다음과 같다.
(1) VCM구동전원이 크기가 대형화된다.
(2) VCM 및 이를 구동하기 위한 전력증폭기가 발열한다.
(3) VCM 및 전력증폭기에 의해 발생되는 열을 수용하기 위한 냉각장치가 설치되어야만 한다.
(4) 전체 반도체노광장치에 대한 온도조정유닛의 크기가 대형화된다.
따라서, 반도체노광장치에 있는 것과 같은 대형의 본체구조체에 대한 제진, 진동제어 VCM에는 DC전류가 인가되지 않는것이 바람직하다. 큰 힘을 요구하는 실험이 서브밸브를 개폐함으로써 큰 중량을 구동할수 있는 공기스프링 액추에이터에 의해 처리되어야만 한다. 즉, 스테이지 이동에 수반하는 부하시프트에 의해 생성되는 제진테이블의 경사는 공기스프링액추에이터에 의해 보정되는 것이 바람직하
다.
공기스프링 액추에이터가 사용되는 경우에도, 이동하중보정을 실현하기위한 기술상의 과제는 여전히 존재한다. 이는 서보밸브를 포함하는 공기스프링액추에이터의 특성이 대략 적분특성이기 때문이다, 즉, 서보밸브를 구동하는 신호의 적분은 실질적으로 발생된 구동력이다.
본 발명가들은 공기스프링액추에이터를 구동함으로써 이동부하를 보정하는 다수의 기술을 발명하여 왔다.
제 1기술은, 일본특개평 제 10-256141(능동제진장치)에 개시된 압력피드백을 효과적으로 사용하고, 또한 일본특개평 제 11-327657(능동 제진장치 및 노광장치)에 개시된 바와같은 스테이지의 이동위치정보에 의거하여, 제진테이블의 경사를 보정하는 장치의 구성을 제공한다.
제 2기술은 전제(Premise)로서 압력피드백을 요구하지 않고, 또한 일본특개평 제 11-264444(공기스프링형태의 제진장치)에 공개되어 있다. 전제로서, 이 기술은 공기스프링의 구동특성이 대략 적분특성이 되도록 하는 것을 요구한다. 이 기술에 의하면, 제진테이블상에 탑제된 스테이지와 같은 이동부하를 구동시킬 때 요구되는 목표값으로서의 속도프로파일은 공기스프링 액추에이터의 밸브를 개폐하기위한 서보밸브를 구동하는 전압대전류변환기의 이전상태에 피드포워드된다. 속도프로파일은 공기스프링 액추에이터의 적분특성에 의해 1회적분고, 공기스프링 액추에이터는 이동부하의 위치에 대응하는 구동력을 발생시킨다. 따라서, 제진테이블의 경사는 보정된다.
전자의 일본특개평 제 11-327657호에 있어서, 압력피드백이 공기스프링 액추에이터에 인가되는 조건하에서, 이동부하의 변화에 따라서 압력은 증가되거나 또는 감소되고, 이에 의해 제진테이블의 경사를 보정한다. 그러나, 압력피드백을 인가하기위해, 압력게이지는 필연적으로 탑제되어야만하고, 피드백시스템은 엄밀하게 조정되어야 하기 때문에, 비용증가를 초래한다.
후자의 일본특개평 제 11-264444호에서는, 압력피드백이 인가될 필요가 없기 때문에, 이동부하보정이 용이하다는 것이 특징이다. 공기스프링 액추에이터의 특성이 완전한 적분특성이면, 속도신호가 공기스피링액추에이터에 인가될 때, 위치에 대응하는 구동력이 발생한다. 그러나, 엄밀하게 말하면, 공기스프링액추에이터의 특성은 적분특성이 아니고, 극저주파수영역내에 브레이크 포인트(break point)를 가지는 의사적분특성이다. 따라서, 속도신호가 이와같은 특성을 가지는 공기스프링액추에이터에 인가될때에도, 이동부하의 위치에 엄밀하게 대응하는 구동력은 발생되지 않는다.
일본특개평 제 11-264444에 공개된 기술로서, 이동부하보정을 위한 피드-포워드입력이 없는 경우와 실질적으로 비교할 때, 어느정도까지는 보정될수는 있으나, 이동부하에 대한 제진테이블의 경사는 여전히 존재한다.
본 발명은 전제로서 압력피드백의 실장을 요구하지 않는 이동부하보정을 제공한다. 보다 상세하게는, 본 발명은, 일본특개평 제 11-264444호에 공개된 기술에 의해 달성되는 이동부하보정의 효과에 비해 보정의 효과가 향상된 능동형제진장치를 제공한다.
본 발명은 상기 조건의 관점에서 형성되었으며, 또한 스테이지가 구동될 때 발생하는 제진테이블의 경사를 효과적으로 억압하는 것을 목적으로한다.
도 1은 본 발명의 제 1실시예에 의한 액티브 제진장치를 도시하는 도면
도 2는 액티브 제진장치의 기계구성의 일예를 도시하는 사시도
도 3(a) 및 도 3(b)는 원쇼트주사동작에 있어서 본체 구조체의 경사를 도시하는 그래프로서, 도 3(a)는 종래의 이동부하보정이 실행될 때 제진테이블의 경사를 나타내는 도면이고, 도 3(b)는 본 발명의 이동부하 보정이 실행될 때 제진테이블의 경사를 나타내는 신호를 도시하는 도면
도 4(a) 및 도 4(b)는 연속주사동작에 있어서의 본체 구조체의 경사를 도시하는 그래프로서, 도 4(a)는 종래의 이동부하보정이 실행될 때 제진테이블의 경사를 나타내는 오차신호를 나타내는 도면이고, 도 4(b)는 본 발명에 의한 이동부하보정이 실행될 때 제진테이블의 경사를 나타내는 오차신호를 도시하는 도면
도 5(a) 내지 도 5(c)는 가속도, 속도 및 위치 프로파일의 예를 나타내는 그래프
도 6은 본 발명의 제 2실시예에 의한 이동부하보정을 위한 피드-포워드 구성을 나타내는 도면
도 7은 액티브 제진장치의 기계구성의 다른예를 도시하는 사시도
도 8은 마이크로소자를 제작하는 흐름을 도시하는 흐름도
도 9는 도 7의 웨이퍼처리의 상세흐름을 도시하는 흐름도
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1: 위치목표치 출력유닛 2: 위치신호에 관계하는 운동모드추출연산유닛
3: PI보상기 4: 가속도에 관계하는 운동코드추출연산유닛
5: 가속도에 관계하는 이득보상기 6: 운동모드분배연산유닛
7: 전압전류변환기 8: Y주사속도 프로파일러
9: X-스텝속도 프로파일러 10X, 10Y: PI보상기
21: 웨이퍼스테이지 22: 제진테이블
23, 23-1, 23-2, 23-3: 능동적 지지다리
본 발명의 제 1측면은 스테이지가 탑제된 액티브제진장치에 관한 것이다. 이 액티브제진장치는 유체를 이용하여 제진테이블을 지지 및 구동하는 작동기와, 스테이지와 관계하고 또한 스테이지를 구동하기위해 필요한 목표값신호, 또는 이에 등가인 신호를 PI-보상하거나 또는 PID-보상함으로써 신호를 발행하는 보상기와, 보상기로부터의 출력신호에 따라서 액추에이터를 제어하는 제어기를 구비한다. 예를 들면, 목표값신호(즉, 목표속도신호)는 프로파일러에 의해 발생되는 프로파일(즉, 속도프로파일)에 의해 결정된다.
본 발명의 바람직한 측면에 의하면, 보상기는, 스테이지에 관계하고 또한 스테이지를 구동하기 위하여 필요한 목표속도신호를 PI-보상하는 PI보상기를 포함한다.
본 발명의 다른 바람직한 측면에 의하면, 보상기는, 스테이지에 관계하고 또한 스테이지를 구동하기위해 필요한 목표속도신호를 P-보상하는 제 1 P보상기와, 스테이지에 관계하고 또한 스테이지를 구동하기 위하여 필요한 목표위치신호를 P-보상하는 제 2 P보상기 및 제 1보상기와 제 2보상기로부터의 출력신호를 가산하는 가산기를 포함한다.
본 발명의 또 다른 바람직한 측면에 의하면, 보상기는, 스테이지에 관계하고 또한 스테이지를 구동하기 위하여 필요한 목표속도신호를 PID-보상하는 PID보상기를 포함할 수 있다. 대안적으로, 보상기는, 스테이지에 관계하고 또한 스테이지를 구동하는데 필요한 목표속도신호를 P-보상하는 제 1 P보상기와, 스테이지에 관계하고 또한 스테이지를 구동하기위하여 필요한 목표위치신호를 P-보상하는 제 2 P보상기와 스테이지에 관계하고 또한 스테이지를 구동하기위하여 필요한 목표가속도신호를 P-보상하는 제 3 P보상기 및 제 1, 제 2 및 제 3보상기로부터의 출력신호를 가산하는 가산기를 포함할 수 있다.
본 발명의 또다른 바람직한 측면에 의하면, 액추에이터는 공기스프링액추에이터를 포함한다.
본 발명의 제 1측면에 의해, 스테이지가 구동될 때 발생하는 제진테이블의 경사를 효과적으로 보정한다.
제 2측면에 의하면, 본 발명은 스테이지가 탑제된 제진테이블의 경사를 보정하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 스테이지에 관계하고 스테이진를 구동하기 위하여 필요한 목표값신호, 또는 이에 등가인 신호를 PI-보상하거나 또는 PID보상함으로써 신호를 발생하는 보상단계와, 발생된 신호에 따라서 유체를 사용하여 제진테이블을 지지 및 구동하는 액추에이터를 제어하는 제어단계를 포함한다.
본 발명의 제 2측면에 의해, 스테이지가 구동될 때 발생하는 제진테이블의 경사는 효과적으로 보정된다.
본 발명의 제 3측면은 원판이 놓이는 원판스테이지 및 원판의 패턴이 전달되는 기판이 놓이는 기판스테이지를 가지는 노광장치에 관한것이다. 원판스테이지 및 기판스테이지중 적어도 하나는, 스테이지가 탑제되는 제진테이블과, 유체를 사용하여 제진테이블을 지지 및 구동하는 액추에이터와, 스테이지에 관계하고 스테이지를 구동하기 위해 필요한 목표값신호, 또는 이에 등가인신호를 PI-보상 하거나 도는 PID-보상함으로써 신호를 발생하는 보상기 및 보상기로부터의 출력신호에 따라서 액추에이터를 제어하는 제어기를 포함한다.
본 발명의 제 3측면에 의해, 스테이지가 구동될 때 발생하는 제진테이블의 경사를 효과적으로 보정함으로써, 높은 생산성을 달성할 수 있다.
본 발명의 제 4측면은 소자제조방법에 관한 것으로서, 상기 소자제조방법은, 감광제로 기판을 피복하는 피복단계와, 노광장치에 의해 원판의 패턴을 감광제로 피복된 기판에 전사하는 노광단계와, 패턴이 전사된 기판을 현상하기 위한 현상단계를 포함한다. 노광장치는 원판이 높이는 원반스테이지와 감광재에 의해 피복된 기판이 놓이는 기판스테이지를 갖는다. 원판스테이지 및 기판스테이지의 적어도 하나는 스테이지가 탑제되는 제진테이블과, 유체를 사용하여 제진테이블을 지지 및 구동하는 액추에이터와, 스테이지에 관계하고 스테이지를 구동하기 위하여 필요한 목표값신호, 또는 이에 등가인 신호를 PI-보상 하거나 또는 PID-보상함으로써 신호를 발생하는 보상기 및 보상기로부터의 출력신호에 따라서 액추에이터를 제어하는 제어기를 포함한다.
본 발명의 제 4측면에 의해, 스테이지가 구동될 때 발생하는 제진테이블의 경사를 효과적으로 보정함으로써, 높은 생산성을 달성할 수 있다.
본 발명의 다른 특징 및 이점은 첨부도면과 함께 기재된 다음의 설명으로부터 명백해질 것이고, 여기서 유사참조문자는 명세서의 도면에 있어서 동일하거나 또는 유사한 부분을 나타낸다.
(실시예)
본 발명의 실시예를 첨부도면을 참조하여 설명한다.
<제1실시예>
도 1은 본 발명의 실시예에 의한 액티브 제진장치의 제어시스템의 블럭도이다. 도 2와 도 7은 도 1에 도시된 액티브 제진장치의 2개의 기계구성을 도시하는 도면으로서, 여기서 도 2는 압력센서를 포함하는 액티브제진장치를 도시하고, 도 7은 압력센서를 포함하지 않은 제진장치를 도시한다. 도 1, 2 및 7에 있어서, 위치센서 PO-Z1, PO-Z2, PO-Z3, PO-X1, PO-Y2 및 PO-Y3부터의 출력은 각각의 축의 위치오차 신호(ez1, ez2, ez3, ex1, ey2및 ey3)를 발생하는 위치목표치 출력유닛(1)으로부터의 출력인 (Z10, Z20, Z30, X10, X20및 Y30)과 각각 비교된다. 이들의 오차신호는 제진테이블(22)의 각각의 축에 대해 병진운동 및 회전운도의 전체 6자유도의 운동모드오차신호(ex, ey, ez, eθx, eθy및eθz)를 계산출력하고 또한 위치신호에 관계하는 운동모드 추출 연산유닛(2)에 인도된다. 운동모드추출연산유닛(2)으로부터의 출력신호(ex, ey, ez,eθx, eθy,eθz)는 위치특성을 조정하고, 운동모드를 따라서 서로가 거의 간섭하지 않고 또한 위치에 관계하는 PI보상기(3)로 인도된다. P는 비례동작을 나타내고, I는 적분동작을 의미한다. 이 루프는 위치피드백루프로서 언급된다.
진동측정센서로서의 역할을 하는 가속도센서(AC-Z1, AC-Z2, AC-X1, AC-Y2 및 AC-Y3)로부터의 출력은 적합한 필터링처리, 예를 들면 고주파잡음의 제거등을 행하고, 가속도에 관련하는 운동모드추출연산유닛(4)에 즉시 제공된다. 운동모드추출연산유닛(4)은 운동모드 가속도신호(ax, ay, az, aθx, aθy및 aθz)를 출력한다. 운동모드의 유닛에 최적의 댐핑(damping)을 설정하기위하여 가속도신호와 관련하는 이득보상기(5)에 운동모드가속도신호(ax, ay, az, aθx, aθy및 aθz)를 제공한다. 이득보상기(5)의 이득을 조정함으로써, 운동모드의 유닛에서 최적의 댐핑특성을 얻을수 있다. 이 루프는 가속도피드백루프로서 언급된다.
위치와 관계하는 PI보상기(3)으로부터의 출력과 가속도와 관련하는 이득보상기(5)로부터의 출력인 네가티브피드백신호를 운동모드별 구동신호(dx, dy, dz, dθx,dθy,dθz)를 발생시키기 위하여 가산한다. 다음으로, 운동모드별 구동신호를 각각의 축의 공기스프링액추에이터(AS-Z1, AS-Z2, AS-Z3, AS-X1, AS-Y2 및 AS-Y3)의 서보밸브(SV-Z1, SV-Z2, SV-Z3, SV-X1, SV-Y2 및 SV-Y3)를 구동시키기 위한 신호
(dz1, dz2, dz3, dx1, dy2및 dy3)를 발생하는 운동모드분배연산부유닛(6)(제어기)에 공급한다. 운동모드분배연산유닛(6)으로부터의 출력(dz1,dz2, dz3, dx1, dy2및 dy3)은 공기스프링액추에이터(AS-Z1, AS-Z2, AS-Z3, AS-X1, AS-Y2 및 AS-Y3)의 동작유체로서 공기를 접속시키거나 또는 차단하는 서보밸브(SV-Z1, SV-Z2, SV-Z3, SV-
X1, SV-Y2 및 SV-Y3)의 개폐동작을 제어하는 전압-전류변환기(VI 변환기)(7)를 여자시킨다. 따라서, 제진테이블(2)이 운동모드별로 구동됨으로써, 제진테이블(22)위에 탑제된 웨이퍼스테이지(21)가 구동될 때 발생하는 제진테이블(22)의 경사는 보정된다. 공기스프링액추에이터(AS-Z1, AS-Z2, AS-Z3, AS-X1, AS-Y2 및 AS-Y3)는 공기압력을 사용함으로써 제진테이블(22)을 지지하고 또한 구동하기위한 액추에이터다. 본 발명은 공기액추에이터 뿐만아니라 적합한 유체를 사용하는 임의의 액추에이터를 이용할수 있다.
상기 설명된 액티브제진장치에 있어서, 급속하게 가감속을 행하는 웨이퍼스테이지(21)(도 2 및 도 7)는 3개의 액티브지지다리(23-1, 23-2 및 23-3)에 의해 지지되는 본체구조체상에 탑제된다. 웨이퍼스테이지(21)가 구동될 때, 제진테이블
(22)(도 2 및 도 7)을 포함하는 본체구조체의 무게의 중심은 변화하여 본체구조체를 경사시킨다. 이 경사를 보정하기 위하여, 본 실시예는, Y주사속도프로파일러
(8) 및 X-스텝 속도 프로파일러가 웨이퍼스테이지(21)의 구동동작을 제어하기위한 속도프로파일을 생성한다. 웨이퍼스테이지(21)는 Y방향으로 주사구동되고, X방향으로 스텝구동된다는 것을 유의하여야 한다.
도 5(A), 5(B) 및 5(C)는 가속도, 속도 및 위치프로파일의 일예를 각각 나타내는 그래프이다. 예를들면, 속도프로파일은 도 5(B)에 도시된 바와같이 사다리형상을 한다. Y-주사속도프로파일러(8)와 X-스텝속도프로파일러(9)는, 생성된 속도프로파일에 따라서 이동부하보정에 관계하는 PI보상기(10X), (10Y)에 목표속도신호를 제공한다, 즉, Y-주사속도프로파일러(8)와 X-스텝속도프로파일러(9)로부터 출력되는 목표속도신호는, PI보상기(10X), (10Y)를 통해서 운동모드구동신호가 흐르는 개소에 피드-포워드된다.
보다 상세하게는, 웨이퍼스테이지(21)가 Y방향으로 주사구동될때, 제진테이블(22)을 포함하는 본체구조체는 X축에 대해 회전함으로써 경사된다. 따라서, 웨이퍼스테이지(21)를 Y방향으로 주사구동할때 필요한 속도프로파일은 Y-주사속도프로파일러(8)에 의해 생성되고, 이 속도프로파일에 의해 결정되는 목표속도신호는 이동부하보정에 관계하는 PI보상기(10X)를 통해서 운동모드구동신호(dθx)에 가산된다. 웨이퍼스테이지(21)(도 2 및 도 7)가 X방향으로 스텝구동될때, 제진테이블
(22)(도 2 및 도 7)을 포함하는 본체구조체는 Y축에 대해 회전함으로써 경사진다. 따라서, 웨이퍼스테이지(21)를 X방향으로 스텝구동시에 필요한 속도프로파일은 X-스텝속도프로파일(9)에 의해 생성되고, 이 속도프로파일에 의해 결정된 목표속도신호는 이동부하보정에 관계하는 PI보상기(10X)를 통해서 운동모드구동신호(dθy)에 가산된다.
종래기술(일본특개평 제 11-264444등)에 있어서, 속도프로파일은 운동모드에 관계하는 운동모드구동신호에 가산되고, 이것의 경사는, P보상기를 통해서, 즉 속도프로파일러로부터의 출력에 적합한 이득을 곱함으로써 보정된다. 이와는 반대로, 본 실시예의 특징은, PI보상기가 P보상기 대신 사용되는데 있다. P보상기가 PI보상기로 변경될 때, 이동부하보정의 효과는 현저하게 증가된다.
도 3(a) 및 도 3(b)는 비교를 통해서 본 실시에의 효과를 분류하는 실험결과로서 원쇼트주사동작(one-shot scan operation)에 있어서의 본체구조체의 경사를 도시한다. 도 3(a)는 제지테이블의 경사를 나타내고, 또한 스테이지의 속도프로파일에 적합한 이득을 곱하고 액추에이터로서의 공기스프링을 사용하는 액티브제진장치(종래기술)에 피드포워드입력될 때 얻어지는 신호를 도시한다.
도시되지는 않았으나, 이 피드-포워드가 인가되지 않는 경우와 비교할 때, 도 3A에 도시된 경우에 있어서, 제진테이블의 경사는 크게 억압된다. 그러나, 저주파요동은 여전히 존재한다. 즉, 제진테이블(22)(도 2 및 도 7)을 포함하는 본체구조체의 경사는 피드-포워드신호의 인가에 의해 거의 억압되었으나, 충분히 보정되지는 않는다. 본 실시예에서는, 웨이퍼스테이지(21)(도 2 및 도 7)가 Y방향으로 주사될 때 얻어지는 속도프로파일은 PI보상기(10Y)를 통해서 피드포워드된다, 도 3B는 본실시예의 결과를 도시한다. 도 3(b)에 있어서, 가감속기간을 제외한 스테이지의 등속운동기간동안에, 제진테이블의 경사에서 저수파요동은 관측되지 않는다. 즉, 제진테이블(22)을 포함하는 본체구조체의 경사(X축에 대한 회전)는 거의 완벽하게 보정된다.
도 4(a) 및 도 4(b)는 웨이퍼스테이지(21)(도 2 및 도 7)가 종래의 이동부하보정과 본 실시예에 의한 이동부하보정을 행하면서 연속적으로 주사될때 얻어지는, 제진테이블(22)(도 2 및 도 7)을 포함하는 본체구조체의 경사(X축에 대한 회전)을 도시한다.
<제2실시예>
제 2실시예는 제 1실시예의 변형을 제공한다. 다음의 설명에 있어서는, 제1실시예와 다른점을 설명하고, 다르게 상술되지 않으면 상세한 설명은 제 1실시예를 따른다.
제 1실시예에 있어서, 웨이퍼스테이지(21)를 구동하는 속도프로파일에 의해 결정되는 목표속도신호는 이동부하보정에 관계하는 PI보상기(10X), (10Y)를 통해서 운동모드분배연산유닛(6)에 피드포워드되고, 이에의해 공기스프링액추에이터를 구동한다. 이런 피드-포워드와 등가인 효과를 다음과 같은 다른수단에 의해 얻을 수 있다
보다상세하게는, 운동모드분배연산유닛(6)에 대한 피드-포워드신호는 속도프로파일뿐만아니라 위치프로파일에 의거하여 생성된다. 이 경우에 있어서, 예를들면, 웨이퍼스테이지(21)(도 2 및 도 7)를 구동하는 속도프로파일과 위치프로파일에 의해 결정되는 목표속도신호와 목표위치신호는 적합한 이득을 곱한후에 가산된다. 합신호(Sum signal)는 운동모드분배연산유닛(6)에 피드포워드되고, 이에의해 공기 스프링액추에이터를 구동한다. 이 경우에 있어서, 제 1실시예에 의거한 도 3(도 3(a) 및 도 3(b))과 도 4( 도 4(a) 및 도 4(b))의 효과를 유사하게 얻을 수 있다. 본 구성은 제 1실시예의 구성과 동일하고, 또한 제 1실시에의 피드-포워드신호와 동일한 피드-포워드신호를 생성할 수 있다.
보다 정밀한 이동부하보정을 행하기 위하여, 제 1실시예에서 사용되고, 또한 이동부하보정에 관계하는 PI보상기(10X), (10Y)를 PID보상기로 교체할 수 있다. P는 비례동작, I는 적분동작, D는 미분동작을 의미하는 것을 유의해야한다.
대안적으로, 다음의 측정은 PID보상기 대신에 사용될수도 있다.
보다 구체적으로는, 웨이퍼스테이지(21)의 속도, 위치 및 가속도프로파일에 의해 결정되는 목표속도신호, 목표위치신호 및 목표가속도신호는 적합한 P보상기를 통해서 출력된다. 출력신호는 가산되고, 결과적으로 합신호는 운동모드분배연산유닛(6)에 피드포워드되고, 이에의해 공기스프링액추에이터를 구동시킨다.
도 6은 본 실시예의 이동부하보정을 위한 피드-포워드구성을 도시하는 도면이다. 도 1에 도시된 PI보상기(10X)와 X-스텝속도프로파일러(9)를 구비한 구성과 도 1에 도시된 PI보상기(10Y)와 Y-주사속도프로파일러(8)를 구비한 구성은 도 6에 도시된 구성으로 각각 대체될수 있다.
도 6에 있어서, 프로파일러는 속도프로파일러(30V), 위치프로파일러(30P) 및 가속도프로파일러(30A)를 포함한다. 예를들면, 각각의 프로파일러(30A), (30P) 및 (30A)는 도 5B. 도 5C 및 5A에 도시된 바와같은 프로파일을 출력한다. 속도
(30V), 위치(30P) 및 가속도프로파일러(30A)에 의해 결정되는 목표가속도신호는 P보상기(31V), (31P) 및 (31A)에 각각 인가 된후에, 적합한 이득을 곱한다. P보상기(31V), (31P) 및 (31A)로부터의 출력은 가산기(33)에 의해 가산되어 운동모드분배연산유닛(6)에 인가될 피드-포워드신호를 생성한다. 도 1에 있어서, 피드포워드신호(32)는 운동모드별 구동신호dθx, 또는 dθy에 가산된다. 즉, 도 6에 도시된 구성은 속도프로파일을 위한 PID보상기와 등가이고, 또한 PID보상기의 속도프로파일과 등가인 피드포워드신호를 생성할 수 있다.
<제1 및 제2실시예의 보충>
제 1실시에에있어서, 도 1은, 이동부호로서 역할을 하는 스테이지의 속도프로파일에 의해 결정되는 목표속도신호는 피드-포워드용 신호로서 사용된다. 목표속도신호는 PI보상기(10X), (10Y)를 통해서 공기스프링액추에이터를 구동하는 VI컨버터
(7)의 전단계로서 역할을 하는 운동모드분배연산유닛(6)에 피드포워드된다.
잡음등이 PI보상기(10X), (10Y)에 인가되는 목표속도신호에 혼입된다고 가정한다. 이후, 잡음을 적분하여 상당히 큰 피드포워드신호를 생성하고, 결과적으로
, 이는 제진테이블(22)(도 2 및 도 7)을 포함하는 본체구조체를 바람직하지않게 경사시킨다. 보다구체적으로는, 신호가 웨이퍼스테이지(21)를 제어하는 폐루프로부터 추출되고 이동부하보정을 위한 피드-포워드신호로서 사용될때, 정상적인 잡음성분 또는 잔류오프셋신호는 PI보상기(10X) 및 (10Y)에 의해 적분되어서 이동부호보정을 위한 신호로서 무의미한 신호를 생성한다.
그러나, 도 1에 도시된 제 1실시예에 있어서, 웨이퍼스테이지(21)(도 2 및 도 7)를 구동하기위한 속도프로파일에 의해 결정되는 목표속도신호는, 상기 설명한바와같이 PI보상기(10X), (10Y)에 인가된다. 보다 상세하게 설명하면, 제 1실시예에 있어서, 피드포워드신호는 웨이퍼스테이지(21)를 구동하기 위하여 필요한 목표속도프로파일에 의해 결정되는 목표속도신호에 의거하여 생성된다. 따라서, 잡음 및 정상적인 오프셋 신호는 적분되지 않고, 또한 이동부하보정에 오동작이 발생하지 않는 우수한 특징을 얻는다. 이와 같은 특징은 제 2실시예에 또한 적용된다.
<제3실시예>
제 1및 제 2실시예에 있어서, 액티브제진장치에 탑제되는 스테이지는 반도체웨이퍼를 위치시키기위한 웨이퍼스테이지(21)(도 2 및 도 7)이다. 본 발명은 회로패턴이 묘화된 레티클이 위치될 레티클스테이지를 포함하는 구조체가 액티브제진장치에 의해서 지지되는 경우에도 또한 적용될수 있다.
제 3실시예는 원판이 놓이는 레티클스테이지와, 레티클스테이지를 지지하기위한 제 1 액티브 제진장치와, 웨이퍼가 놓이는 웨이퍼스테이지 및 웨이퍼스테이지를 지지하기위한 제 2 제진장치를 가지는 노광장치에 관한 것이다. 제 1실시예를 본 노광장치에 적용할때, 레티클스테이지를 구동하기 위한 속도프로파일러에 의해 결정되는 목표속도신호는 제 1 PI보상기를 통해서 제 1 액티브제진장치의 운동모드분배연산수단에 피드포워드되거나, 또는 웨이퍼스테이지를 구동하기 위한 속도프로파일러에 의해 결정되는 목표속도신호는 제 2 PI보상기를 통해서 제 2 액티브 제진장치의 운동모드분배연산유닛에 피드포워드된다. 제 2실시에가 본 노광장치에 적용될 때, 레티클스테이지를 구동하기 위한 속도프로파일, 위치프로파일 및 가속도프로파일에 의해 결정되는 목표속도신호, 목표위치신호 및 목표가속도신호는 제 1 PID보상기(31V, 31P 및 31A)를 통해서 제 1 액티브제진장치의 운동모드분배연산유닛에 피이트포워드되거나, 또는 웨이퍼스테이지를 구동하기위한 속도프로파일, 위치프로파일 및 가속도프로파일에 의해 결정되는 목표속도신호, 목표위치신호 및 목표가속도신호는 제 1 PID보상기(31V, 31P 및 31A)를 통해서 제 2 액티브제진장치의 운동모드분배연산유닛에 피드포워드된다.
<소자생산방법의 구현>
상기 설명한 노광장치를 사용하는 소자생산방법의 실시예를 설명한다.
도 8은 IC 또는 LIS등의 반도체칩, 액정패널, CLD, 박막자기헤드 및 마이크로머신등의 마이크로소자의 제조를 도시하는 흐름도이다. 공정1(회로설계)에서, 소자의 패턴을 설계한다. 공정2(마스크제작)에서, 설계된 패턴이 형성되는 마스크를 형성한다. 공정3(웨이퍼제조)에서는, 실리콘 또는 유리와같은 재료를 사용함으로써 웨이퍼를 제조한다. 전공정(pre-process)으로 언급되는 공정4(웨이퍼 처리공정)에서는, 제조된 마스크와 웨이퍼를 노광장치의 소정의 위치에 고정하고, 리소그래피기술을 사용하여 웨이퍼상에 실제회로를 형성한다. 후공정(post-
process)으로서의 언급되는 공정5(조립)에서는, 공정4에서 제조된 웨이퍼를 사용함으로써 반도체칩을 형성한다. 본 처리공정은 조립공정(디싱 및 본딩)과 패킹공정(칩봉입)과 같은 공정을 포함한다. 공정6(검사)에서는, 동작테스트 및 내구성테스트등의 테스트가 공정5에서 제조된 반도체소자에 대해서 실행된다. 반도체소자는 이들의 테스트를 통해서 완성되고또한 출하(공정7)된다.
도 9는 상기 웨이퍼처리공정을 상세하게 도시하는 흐름도이다. 공정11(산화)에서는, 웨치퍼의 상부표면을 산화한다. 공정12(CVD)에서는, 웨이퍼의 상부표면위에 절연막을 형성한다. 공정13(전극형성)에서는, 증착에 의해 웨이퍼상에 전극을 형성한다. 공정14(이온수입)에서는, 이온을 웨이퍼안으로 주입한다. 공정15(레지스트처리공정)에서는, 웨이퍼에 감광제를 피복한다. 공정16(노광)에서는, 마스크상의 회로패턴을 상기 노광장치에 의해 웨이퍼상에 프린트하거나 또는 노광시킨다. 공정17(현상)에서는, 노광된 웨이퍼를 현상한다. 공정18(에칭)에서는, 현상된 레지스트상 이외의 부분을 제거한다. 공정19(레지스트제거)에서는, 에칭후의 불필요한 레지스트를 제거한다. 이들의 공정을 반복함으로써, 기판상에 다중의 회로패턴을 형성할 수 있다.
종래기술에서 제조하기 어려운 고집적소자는 본 발명의 제조방법을 사용함으로써 제조될수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예는 다음과 같은 효과를 가진다.
(1) 스테이지의 고속이동에 의한 무게중심의 변화에 의해 야기되는 본체구조체의 경사를 종래기술에 비해 크게 억제하거나 또는 감소시킬수 있다.
(2) 종래, 공기스프링액추에이터의 내부압력은, 공기스프링액추에이터의 내부압력이 측정되고 또한 피드백되는(또는 부하의 검출 및 피드백을 포함) 압력피드백장치의 전제로서, 스테이지의 이동거리에 따라서 증가하거나 또는 감소된다. 이와는 반대로, 본 발명에 의하면, 효과적인 이동부하보정은 압력피드백이 적용되지 않는 액티브 제진장치(도 7)에서도 실행가능하다. 이에 의해, 압력게이지(PR-xx)는 필요하지 않고, 따라서 압력게이지의 필요성이 추구되지 않고, 액티브지지다리가 형성할 필요도 없으며, 또한 전기적으로 패키지할 필요가 없다. 결과적으로 큰 비용절감이 가능하다.
(3) 스테이지의 고속 및 연속적인 이동에도 불구하고, 본체구조체의 경사는 보정되고 또한 감소되어서 거의 제로가 된다. 따라서, 본체 구조체의 경사로부터 기인하는 외란은 스테이지에 적용되지 않는다. 즉, 안정된 위치 및 주사성능은스테이지의 이동위치에 관계없이 실현될수 있다. 보다 상세하게는, 위치결정시간은 스테이지의 위치를 조정뿐만아니라 본 발명의 이동부하보정을 인가함으로써 단축될수 있다.
(4) 노광장치의 생산성은 상기 효과에 의해 개량될수 있다.
본 발명의 다수의 광범위한 다른 실시예는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않고 실행될수 있기 때문에, 본 발명은 청구항에 형성된 바를 제외하고는 본 발명의 특정한 실시에에 한정되는 것은 아니다.

Claims (16)

  1. 스테이지가 탑제되는 제진테이블(anti-vibration)과;
    유체를 사용하여 상기 제진테이블을 지지 및 구동하는 액추에이터와;
    상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하는데 필요한 목표값신호, 또는 이에 등가인 신호를 PI-보상 또는 PID-보상함으로써 신호를 발생하는 보상기와;
    상기 보상기로부터의 출력신호에 따라서 상기 액추에이터를 제어하는 제어기와
    를 포함하는 것을 특징으로하는 액티브제진징치
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 보상기는, 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동시키기 위해 필요한 목표속도신호를 PI-보상하는 PI보상기를 포함하는 것을 특징으로 하는 액티브제진장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 보상기는, 상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동시키기위해 필요한 목표속도신호를 P-보상하는 제 1 P보상기와,
    상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기 위하여 필요한 목표위치신호를 P-보상하는 제 2 P보상기와,
    상기 제 1 및 제 2 보상기로부터의 출력을 가산하는 가산기와
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 액티브제진장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 보상기는, 상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기 위하여 필요한 목표속도신호를 PID-보상하는 PID보상기를 포함하는 것을 특징으로 하는 액티브제진장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 보상기는, 상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기 위하여 필요한 목표속도신호를 P-보상하는 제 1 P보상기와,
    상기스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기 위하여 필요한 목표위치신호를 P-보상하는 제 2 P보상기와,
    상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기 위하여 필요한 목표가속도신호를 P-보상하는 제 3 P보상기와,
    상기 제 1, 제 2 및 제 3보상기로부터의 출력신호를 가산하는 가산기와
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 액티브제진장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 액추에이터는 공기스프링액추에이터를 포함하는것을 특징으로 하는 액티브제진장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 제어기는, 상기 스테이지가 구동될 때 발생하는 상기 제진테이블의 경사를 보정하기 위해 상기 보상기로부터의 출력신호에 따라서 상기 액추에이터를 제어하는 것을 특징으로 하는 액티브제진장치.
  8. 스테이지가 실장되는 제진테이블의 경사를 보정하는 방법으로서,
    상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기 위해 필요한 목표값신호, 또는 이에 등가인 신호를 PI-보상 하거나 또는 PID-보상함으로써 신호를 발생하는 보상단계와,
    발생된 신호에 따라서 유체를 사용하여 상기 제진테이블을 지지 및 구동하는 상기 액추에이터를 제어하는 제어단계와
    를 포함하는 것을 특징으로하는 경사보정방법.
  9. 제 8항에 있어서,
    보상단계는, 상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기 위하여 필요한 목표속도신호를 PI-보상하는 단계를 포함하는것을 특징으로하는 경사보정방법.
  10. 제 8항에 있어서,
    보상단계는, 상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기위하여 필요한 목표속도신호를 P-보상하는 제 1 P보상단계와,
    상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기 위하여 필요한 목표위치신호를 P-보상하는 제 2 P보상단계와,
    제 1 및 제 2보상단계에서 보상된 신호를 가산하는 가산단계와
    를 포함하는 것을 특징으로하는 경사보정방법
  11. 제 8항에 있어서,
    보상단계는, 상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기위해 필요한 목표속도신호를 PID-보상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로하는 경사보정방법.
  12. 제 8항에 있어서,
    보상단계는, 상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기 위해 필요한 목표속도신호를 P-보상하는 제 1 P보상단계와,
    상기 스테이지에 단계하고, 상기 스테이지를 구동하기위해 필요한 목표위치신호를 P-보상하는 제 2 P보상단계와,
    상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기 위하여 필요한 목표가속도신호를 P-보상사는 제 3 P보상단계와,
    제 1, 제 2 및 제 3보상단계에서 보상된 신호를 가산하는 가산단계와
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 경사보정방법.
  13. 제 8항에 있어서,
    상기 액추에이터는 공기스프링액추에이터를 포함하는 것을 특징으로하는 경사보정방법.
  14. 청구항 8항에 있어서,
    제어단계는, 보정단계에서 보정된 신호에 따라서 상기 액추에이터를 제어하는 단계를 포함함으로써, 상기 스테이지가 구동될 때 발생하는 상기 제진테이블의 경사를 보정하는 것을 특징으로하는 경사보정방법.
  15. 원판이 놓이는 원판스테이지와, 원판의 패턴이 전사되는 기판이 놓이는 기판스테이지를 포함하는 노광장치로서, 상기 원판스테이지 및 상기 기판스테이지의 적어도 하나는,
    상기 스테이지가 탑제되는 제진테이블과;
    유체를 이용하여 상기 제진테이블을 지지 및 구동하는 액추에이터와;
    상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기위해 필요한 목표값신호, 또는 이에 등가인 신호를 PI-보상하거나 또는 PID-보상함으로써 신호를 발생하는 보상기와;
    상기 보상기로부터의 출력신호에 따라서 상기 액추에이터를 제어하는 제어기와
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  16. 감광성재료로 기판을 피복하는 피복단계와;
    상기 감광성재료로 피복된 기판에 원판의 패턴을 노출장치에 의해 전사하는 노출단계와;
    패턴이 전사된 기판을 현상하는 현상단계를 포함하는 소자제조방법으로서,
    상기 노출장치는, 원판이 놓이는 원판스테이지와 감광성재료에 피복된 기판이 놓이는 기판스테이지를 가지고, 상기 원판스테이지 및 상기 기판스테이지의 적어도 하나는,
    상기 스테이지가 탑제되는 제진테이블과,
    유체를 사용하여 상기 제진테이블을 지지 및 구동하는 액추에이터와,
    상기 스테이지에 관계하고, 상기 스테이지를 구동하기 위해 필요한 목표값신호, 또는 이에 등가인 신호를 PI-보상하거나 또는 PID-보상함으로써 신호를 발생하는 보상기와,
    상기 보상기로부터의 출력신호에 따라서 상기 액추에이터를 제어하는 제어기와를
    포함하는 것을 특징으로하는 소자제조방법.
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