JP2005172135A - 除振マウント装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 床振動などの外部振動の伝達低減や機器装置自身が搭載している可動部の動作の影響による振動の低減を行う気体バネの弾性膜101を有し、前記気体バネとタンク104およびこれらの給排気を制御する給排気制御回路114と、前記気体バネおよび前記タンクの少なくともいずれかの内部空間にある表面積の大きな蓄熱部材105と、前記給排気制御回路から前記気体バネまたは前記タンクへの気体制御流路111にあって両方向の流量計測が可能な非定常流量計測用の両方向流量センサ112とを有し、該両方向流量センサの出力信号を用いて前記給排気制御回路を制御する。
【選択図】 図1
Description
同図において、弾性膜101は薄いゴムなどを略円筒状、例えば段付きベローズとしたもので、その両端に端板102と103を固定して気体バネを構成する。タンク104は気体バネと通管構造とし、これらの内部には蓄熱部材105を充填する。106は設置床であり、通常はタンク104を堅固に一体化固定する。タンク104とサーボ弁107との間に設けた制御流路111には非定常流量計測手段として両方向流量センサ112を配し、その出力信号113は制御回路114に入力され、制御回路114の出力信号115で給排気制御手段であるサーボ弁107のフラッパ110を駆動する。サーボ弁107への給気108に対し、フラッパ110の位置によって排気109の量が制御され、その結果制御流路111を通じてタンク104と気体バネを構成する弾性膜101との内圧が制御される。
この露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用され、原版であるレチクルRを介して基板としての半導体ウエハW上に光源961からの露光エネルギーとしての露光光(この用語は、可視光、紫外光、EUV光、X線、電子線、荷電粒子線等の総称である)を投影系としての投影レンズ(この用語は、屈折レンズ、反射レンズ、反射屈折レンズシステム、荷電粒子レンズ等の総称である)962を介して照射することによって、基板上に所望のパターンを形成している。
なお、本発明のリニアモータは、マスクを使用せずに半導体ウエハ上に回路パターンを直接描画してレジストを露光するタイプの露光装置にも、同様に適用できる。
Claims (10)
- 気体バネを有する除振装置であって、
前記気体バネに対する吸気及び排気の少なくとも一方のための弁と、
前記気体バネと前記弁との間の流路に設けた流量センサと、
前記流量センサの出力に基づいて前記弁を制御する制御手段と
を有することを特徴とする除振装置。 - 前記気体ばね内の温度変化を抑制するための蓄熱材を有することを特徴とする請求項1に記載の除振装置。
- 前記流量センサは前記流路に沿った双方向の流量を計測可能であることを特徴とする請求項1または2に記載の除振装置。
- 前記流量センサは、ヒータと、前記流路に沿って前記ヒータをはさんで設けた2つの温度センサと、前記流路に沿って前記2つの温度センサをはさんで設けた2つの整流素子とを含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の除振装置。
- 前記流量センサは、整流素子と、前記流路に沿って前記整流素子をはさんで設けた2つの圧力センサとを含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の除振装置。
- 前記弁は、サーボ弁、減圧弁、およびスプール弁のいずれかであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の除振装置。
- 前記制御手段は、除振対象物の位置を検出する位置センサの出力、除振対象物の振動を検出する第1振動センサの出力、床振動を検出する第2振動センサの出力、前記気体バネの内圧を検出する圧力センサの出力、および除振対象物に含まれる可動物体に対する駆動信号の少なくとも1つにも基づいて前記弁を制御することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の除振装置。
- 基板にパターンを投影する露光装置であって、
請求項1〜7のいずれかに記載の除振装置を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項8に記載の露光装置を用いて基板にパターンを投影する露光工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
- 気体バネと、前記気体バネに対する吸気及び排気の少なくとも一方のための弁とを有する除振装置の制御方法であって、
前記気体バネと前記弁との間の流路に設けた流量センサの出力に基づいて前記弁を制御する
ことを特徴とする制御方法。
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