KR19980026150A

KR19980026150A - 스크러버장치의 공급/배기관

Info

Publication number: KR19980026150A
Application number: KR1019960044493A
Authority: KR
Inventors: 김흥균
Original assignee: 문정환; 엘지반도체 주식회사
Priority date: 1996-10-08
Filing date: 1996-10-08
Publication date: 1998-07-15
Also published as: KR100230803B1

Abstract

본 발명은 스크러버(Scrubber)장치의 공급/배기관에 관한 것으로, 종래 기술에 의한 스크러버장치의 공급/배기관은 상기 미반응증착가스와 증착반응생성물이 그 공급/배기관에서 고화되어 막힘현상이 발생하게 되고, 또 상기 막힘현상이 발생한 상기 공급/배기관을 클린닝(Cleaning)하기 위하여 많은 시간이 소요될 뿐만 아나리, 심한 악취와 함께 유독성 가스가 발생하게 되는 문제점을 초래하였다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 아래 도면에 도시된 바와 같이 공급관(12)과 배기관(12)에 고압가스를 단속적으로 공급할 수 있는 고압가스공급관(14,17)을 설치하므로써, 상기 공급관과 배기관에서 미반응증착가스와 증착반응생성물이 고화되는 것을 막아 막힘현상을 방지하고, 또 상기 공급/배기관의 클린닝(Cleaning)하기 위한 시간도 절감될 뿐만 아니라, 심한 악취와 함께 유독성 가스가 발생하는 것을 방지하는 효과가 있다.

Description

스크러버장치의 공급/배기관

본 발명은 스크러버(Scrubber)장치의 공급/배기관에 관한 것으로, 특히 고압의 가스를 단속적으로 공급할 수 있는 고압가스공급라인을 설치하여 상기 스크러버장치의 막힘현상을 방지함과 아울러 안전성을 향상할 수 있도록 한 스크러버장치의 공급/배기관에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체 웨이퍼(미도시)는 증착로(미도시)를 이용하여 증착가스를 증착하는데, 이때 상기 증착로에서 미반응된 증착가스와 증착반응생성물은 펌프(미도시)에 의하여 펌핑되어 1차적으로 필터(미도시)를 통하여 정화되고, 상기 필터를 통하여 정화된 상기 미반응 증착가스와 증착반응생성물은 상기 도 1에 도시된 바와 같은 스트러버장치(1)에 의하여 2차적으로 처리되게 된다.

상기 스크러버장치(1)는 상기 증착로에서 배출되는 미반응증착가스와 증착반응생성물이 공급될 수 있도록 소정의 직경을 갖는 공급관(2)이 설치되어 있고, 상기 공급관(2)은 소정의 위치가 절곡되고 확산되어 있는 확산부(2a)가 형성되어 있으며, 그 확산부(2a)의 단부에는 고정부재인 수개의 나사(미도시)를 삽입할 수 있는 나사공(미도시)이 구비된 플랜지(2b)가 형성되어 있고, 또 상기 플랜지(2b)와 대응되게 플랜지(2c)가 형성되고 그 플랜지(2c)에는 축소연장된 축소부(2d)가 형성되어 상기 미반응증착가스와 증착반응생성물이 고화되어 일시저장될 수 있도록 소정의 용적을 갖는 보틀(Bottle)(3)의 상부에 연결설치되어 있다.

그리고, 상기 보틀(3)의 저부에는 무게감응장치(4)가 설치되어 있고, 그 보틀(3)의 하부의 일측에는 상기 보틀(3)을 통과한 미반응증착가스와 증착반응생성물이 배출될 수 있는 배기관(5)이 설치되어 있으며, 그 배기관(5)은 상기 공급관(2)과 같이 소정의 위치가 확산된 확산부(5a)가 형성되어 있고, 상기 확산부(5a)의 단부에는 고정부재인 수개의 나사를 삽입할 수 있는 나사공(미도시)이 형성된 플랜지(5b)가 형성되어 있고, 상기 플랜지(5b)와 대응되게 플랜지(5c)가 형성되고 축소연장된 축소부(5d)가 절곡형성 되어있다.

그리고 또, 상기 공급관(2)과 배기관(5)을 서로 연결하는 연결관(6)이 설치되어 있고, 연결관(6)에는 바이패스자동밸브(7)가 설치되어 있으며, 그 바이패스자동밸브(7)와 상기 보틀(3) 그리고 무게감응장치(4)를 보호하고, 상기 미반응증착가스 및 증착반응생성물이 외부로 노출되는 것을 방지함과 아울러 안전성을 향상할 수 있도록 소정의 용적을 갖는 외부케이스(8)가 설치되어 있다.

상기와 같이 구성된 스크러버장치(1)는 상기 증착로에서 미반응된 증착가스와 증착반응생성물이 펌프에 의하여 상기 공급관(2)으로 공급되고, 그 공급관(2)으로 공급된 상기 미반응증착가스와 증착반응생성물은 상기 보틀(3)에서 고화되어 일시저장되며, 상기 보틀(3)에서 고화되지 않은 상기 미반응증착가스와 증착반응생성물은 상기 배기관(5)으로 배출되게 되는 것이다.

그러나, 상기와 같이 구성된 스크러버장치의 공급/배기관은 상기 미반응증착가스와 증착반응생성물이 그 공급/배기관에서 고화되어 막힘현상이 발생하게 되고, 또 상기 막힘현상이 발생한 상기 공급/배기관을 클린닝(Cleaning)하기 위하여 많은 시간이 소요될 뿐만 아니라, 심한 악취와 함께 유독성 가스가 발생하게 되는 문제점을 초래하였다.

따라서, 본 발명의 목적은 상기의 문제점을 해결하여 상기 공급/배기관의 막힘현상을 방지함과 아울러 클린닝시에 악취와 유독성 가스의 발생을 배제할 수 있는 스크러버장치의 공급/배기관을 제공함에 있다.

도 1은 종래 기술에 의한 스크러버장치의 구조를 보인 개략도.

도 2는 본 발명에 의한 스크러버장치의 구조를 보인 개략도.

도 3은 본 발명에 의한 스크러버장치의 공급/배기관 구조를 보인 평면도.

도 4는 본 발명에 의한 스크러버장치의 공급/배기관 구조를 보인 정면도.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*

11 : 스크러버장치12 : 공급관

13 : 보틀14,17 : 고압가스공급관

14a,17a : 공급관14b,17b : 노즐

14c,17c : 몸체14d,17d : 레귤레이터

14e,17e : 전자밸브16 : 배기관

본 발명의 목적은 반도체 웨이퍼의 증착시 발생하는 미반응증착가스와 증착반응생성물의 고화를 방지할 수 있도록 고압의 가스를 단속적으로 공급할 수 있는 고압가스공급관이 설치된 것을 특징으로 하는 스크러버장치의 공급/배기관에 의하여 달성된다.

다음은, 상기 본 발명에 의한 스크러버장치의 공급/배기관의 일실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세하게 설명한다.

도 2는 본 발명에 의한 스크러버장치의 구조를 보인 개략도이고, 도 3은 본 발명에 의한 스크러버장치의 공급/배기관 구조를 보인 평면도이며, 도 4는 본 발명에 의한 스크러버장치의 공급/배기관의 구조를 보인 정면도이다.

상기 도2에 도시된 바와 같이 본 발명에 의한 공급/배기관을 갖는 스크러버장치(11)는 상기 증착로에서 배출되는 미반응된 증착가스와 증착반응생성물이 공급될 수 있도록 소정의 직경을 갖는 공급관(12)이 설치되어 있고, 상기 공급관(12)은 소정의 위치가 절곡되고 확산되어 있는 확산부(12a)가 형성되어 있으며, 그 확산부(12a)의 단부에는 고정부재인 수개의 나사(N)를 삽입할 수 있는 나사공(미도시)이 구비된 플랜지(12b)가 형성되어 있고, 또 상기 플랜지(12b)와 대응되게 플랜지(12c)가 형성되고 그 플랜지(12c)에는 축소연장된 축소부(12d)가 형성되어 상기 미반응증착가스와 증착반응생성물이 고화되어 일시정장될 수 있도록 소정의 용적을 갖는 보틀(Bottle)(13)의 상부에 연결설치되어 있다.

그리고, 상기 확산부(12a)와 축소부(12d)가 형성된 공급관(12)에는 고압의 가스를 공급할 수 있는 고압가스공급관(14)이 설치되어 있고, 상기 고압가스공급관(14)은 외부의 고압가스를 공급하는 직선형의 공급부(14a)와, 그 공급부(14a)의 단부에 연결설치되고 상기 고압가스를 고속으로 분사시킬 수 있는 다수개의 노즐(14b)이 상기 보틀방향으로 설치된 링(Ring)상의 몸체(14c)로 구성되어 있으며, 또 상기 공급부(14a)에는 상기 고압가스의 압력을 일정하게 조정할 수 있는 레귤레이터(14d)와 그 고압가스를 단속적으로 공급할 수 있는 전자밸브(14e)가 설치되어 있다.

그리고, 상기 보틀(13)의 저부에는 무게감응장치(15)가 설치되어 있고, 그 보틀(13)의 하부의 일측에는 상기 보틀(13)을 통과한 미반응증착가스와 증착반응생성물이 배출될 수 있는 배기관(16)이 설치되어 있으며, 그 배기관(16)은 상기 공급관(12)과 같이 소정의 위치가 확산된 확산부(16a)가 형성되어 있고, 또 상기 확산부(16a)의 단부에는 고정부재인 수개의 나사(N)를 삽입할 수 있는 나사공(미도시)이 형성된 플랜지(16b)가 형성되어 있고, 상기 플랜지(16b)와 대응되게 플랜지(16c)가 형성되고 축소연장된 축소부(16d)가 절곡형성 되어있다.

상기 확산부(16a)와 축소부(16d)가 형성된 배기관(16)에는 상기 공급관(12)과 같이 고압의 가스를 공급할 수 있는 고압가스공급관(17)이 설치되어 있고, 상기 고압가스공급관(17)은 외부의 고압가스를 공급하는 직선형의 공급부(17a)와, 그 공급부(17a)의 단부에 연결설치되고 상기 고압가스를 고속으로 분사시킬 수 있는 다수개의 노즐(17b)이 상기 배기관(16)의 출구방향으로 설치된 링(Ring)상의 몸체(17c)로 구성되어 있으며, 또 상기 공급부(17a)에는 상기 고압가스의 압력을 일정하게 조정할 수 있는 레귤레이터(17d)와 그 고압가스를 단속적으로 공급할 수 있는 전자밸브(17e)가 설치되어 있다.

그리고 또, 상기 공급관(12)과 배기관(16)을 서로 연결하는 연결관(18)이 설치되어 있고, 그 연결관(18)에는 바이패스자동밸브(19)가 설치되어 있으며, 그 바이패스자동밸브(19)와 상기 보틀(13) 그리고 무게감응장치(15)를 보호하고, 상기 미반응증착가스 및 증착반응생성물이 외부로 노출되는 것을 방지함과 아울러 안전성을 향상할 수 있도록 소정의 용적을 갖는 외부케이스(20)가 설치되어 있다.

상기와 같이 구성된 본 발명에 의한 스크러버장치(11)는 먼저, 상기 증착로에서 미반응된 증착가스와 증착반응생성물이 펌프에 의하여 상기 공급관(12)으로 공급되고, 그 공급관(12)으로 공급된 상기 미반응증착가스와 증착반응생성물은 상기 보틀(13)에서 고화되어 일시저장되며, 상기 보틀(13)에서 고화되지 않은 상기 미반응증착가스와 증착반응생성물은 상기 배기관(16)으로 배출되게 되는 것이다.

이때, 상기 공급관(12)과 배기관(16)에서 고화된 상기 미반응증착가스와 증착반응생성물은 그 공급관(12)과 배기관(16)에 설치된 상기 고압가스공급관(14,17)의 공급부(14a,17a)와 몸체(14c,17c)에 설치된 노즐(14b,17b)을 통하여 공급되는 고압가스에 의하여 제거되게 되어 상기 공급관(12)과 배기관(16)의 막힘현상이 방지되게 되는 것이다.

상기와 같이 공급관과 배기관에 고압가스를 단속적으로 공급할 수 있는 고압가스공급관을 설치함으로써, 상기 공급관과 배기관에서 미반응증착가스와 증착반응생성물이 고화되는 것을 막아 막힘현상을 방지하고, 또 상기 공급/배기관의 클린닝(Cleaning)하기 위한 시간도 절감될 뿐만 아니라, 심한 악취와 함께 유독성 가스가 발생하는 것을 방지하는 효과가 있다.

Claims

반도체 웨이퍼의 증착시 발생하는 미반응증착가스와 증착반응생성물의 고화를 방지할 수 있도록 고압의 가스를 단속적으로 공급할 수 있는 고압가스공급관의 설치된 것을 특징으로 하는 스크러버장치의 공급/배기관.
제1항에 있어서, 상기 고압가스공급관은 외부의 고압가스를 공급하는 공급부와, 그 공급부의 단부에 연결설치되고 상기 고압가스를 고속으로 분사시킬 수 있는 다수개의 노즐이 설치된 링(Ring)상의 몸체로 구성된 것을 특징으로 하는 스크러버장치의 공급/배기관.
제2항에 있어서, 상기 공급부에는 상기 고압가스의 압력을 일정하게 조정할 수 있는 레귤레이터가 설치된 것을 특징으로 하는 스크러버장치의 공급/배기관/
제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 공급부에는 상기 고압가스를 단속적으로 공급할 수 있는 전자밸브가 설치된 것을 특징으로 하는 스크러버장치의 공급/배기관.