KR102649900B1 - 액 공급 장치 및 액 공급 방법 - Google Patents

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세이야 토츠카
아츠무 마이타
타카미 사토
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켄타로 요시하라
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Abstract

피처리체에 처리액을 토출하는 처리액 토출부로 처리액을 공급하는 액 공급 장치로서, 처리액 토출부에 접속된 공급 관로와, 공급 관로에 개재 마련되고 처리액을 여과하여 이물을 제거하는 필터와, 필터의 일차측으로 공급되는 처리액의 상태에 대하여 판정을 행하고, 또한 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우는, 필터의 일차측으로의 당해 처리액의 공급을 제한하는 제어 신호를 출력하도록 구성된 제어부를 구비한다.

Description

액 공급 장치 및 액 공급 방법
(관련 출원의 상호 참조)
본원은 2017년 12월 12일에 일본에 출원된 특허출원 2017-237555호 및 2018년 12월 4일에 일본에 출원된 특허출원 2018-227332호에 기초하여, 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
본 개시는 액 공급 장치 및 액 공급 방법에 관한 것이다.
특허 문헌 1에는, 처리액을 저류하는 처리액 용기와, 피처리 기판에 처리액을 토출하는 토출 노즐과, 처리액 용기와 토출 노즐을 접속하는 공급 관로와, 공급 관로에 개재 마련되고 처리액을 여과하는 필터를 구비하는 액 처리 장치가 개시되어 있다. 이 장치에서는, 필터를 통과하는 처리액의 일부를 토출 노즐로부터 토출하고, 나머지의 처리액을 필터의 일차측의 공급 관로로 되돌려, 처리액 용기로부터의 처리액과 합성하여, 처리액의 토출과 필터에 의한 여과를 행한다.
일본특허공보 2014-140029호
본 개시에 따른 기술은, 미세한 반도체 디바이스의 제조에 적합한 청정도의 처리액을 공급할 수 있도록 한다.
본 개시의 일태양은, 피처리체에 처리액을 토출하는 처리액 토출부로 처리액을 공급하는 액 공급 장치로서, 상기 처리액 토출부에 접속된 공급 관로와, 상기 공급 관로에 개재 마련되고 상기 처리액을 여과하여 이물을 제거하는 필터와, 상기 필터의 일차측으로 공급되는 처리액의 상태에 대하여 판정을 행하고, 또한 상기 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우는, 상기 필터의 일차측으로의 당해 처리액의 공급을 제한하는 제어 신호를 출력하도록 구성된 제어부를 구비한다.
본 개시에 따르면, 미세한 반도체 디바이스의 제조에 적합한 청정도의 처리액을 공급할 수 있다.
도 1은 본 실시의 형태에 따른 기판 처리 시스템의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.
도 2는 본 실시의 형태에 따른 기판 처리 시스템의 구성의 개략을 나타내는 정면도이다.
도 3은 본 실시의 형태에 따른 기판 처리 시스템의 구성의 개략을 나타내는 배면도이다.
도 4는 레지스트 도포 장치의 구성의 개략을 나타내는 종단면도이다.
도 5는 레지스트 도포 장치의 구성의 개략을 나타내는 횡단면도이다.
도 6은 제 1 실시의 형태에 따른 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 7은 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 버퍼 탱크에 대한 보충 공정의 설명도이다.
도 8은 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 펌프에 대한 보충 공정의 설명도이다.
도 9는 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 토출 공정의 설명도이다.
도 10은 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 펌프 벤트 공정의 설명도이다.
도 11은 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 펌프 벤트 공정의 다른 설명도이다.
도 12는 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 펌프 벤트 공정의 다른 설명도이다.
도 13은 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 필터 벤트 공정의 다른 설명도이다.
도 14는 제 2 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 15는 제 3 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 16은 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 버퍼 탱크에 대한 보충 공정의 설명도이다.
도 17은 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 버퍼 탱크에 대한 보충 공정의 다른 설명도이다.
도 18은 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 버퍼 탱크에 대한 보충 공정의 다른 설명도이다.
도 19는 제 4 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 20은 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 버퍼 탱크에 대한 보충 공정의 설명도이다.
도 21은 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 버퍼 탱크에 대한 보충 공정의 다른 설명도이다.
도 22는 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 버퍼 탱크에 대한 보충 공정의 다른 설명도이다.
도 23은 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 버퍼 탱크에 대한 보충 공정의 다른 설명도이다.
도 24는 제 5 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 25는 확인 시험 3의 시험 결과를 나타내는 도이다.
도 26은 제 6 실시 형태에 따른 액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 27은 액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 외부 배관로의 기동 공정의 설명도이다.
도 28은 액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 기동 종료 판정 공정의 설명도이다.
도 29는 액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 버퍼 탱크에 대한 보충 공정의 설명도이다.
도 30은 액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 버퍼 탱크에 대한 토출 공정의 설명도이다.
도 31은 액 공급 장치의 구성의 개략을 설명하기 위한 배관 계통을 나타내며, 버퍼 탱크에 대한 보충 공정의 다른 예의 설명도이다.
도 32는 제 7 실시 형태에 따른 액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 33은 제 8 실시 형태에 따른 액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
반도체 디바이스 등의 제조 프로세스에 있어서의 포토리소그래피 공정에서는, 피처리체로서의 반도체 웨이퍼(이하, '웨이퍼'라고 함) 상에 반사 방지막 또는 레지스트막 등의 도포막을 형성하기 위하여, 레지스트액 등의 도포액이 이용된다. 또한 포토리소그래피 공정에서는, 웨이퍼에 대한 처리액으로서, 도포막을 형성하기 위한 도포액뿐 아니라, 현상액 및 린스액 등도 이용된다. 또한, 처리액은 예를 들면 액 공급원에 저류되어 있으며, 해당 액 공급원으로부터 액 공급 장치에 의해 토출 노즐로 공급되고, 해당 토출 노즐로부터 웨이퍼 상에 토출된다.
이 처리액 중에는 이물(파티클)이 포함되어 있는 경우가 있다. 또한, 원래의 처리액에는 파티클이 존재하지 않아도, 액 공급 장치의 펌프, 밸브, 배관에 파티클이 부착하고 있는 경우, 공급하는 처리액 중에 파티클이 혼입되는 경우가 있다. 이 때문에, 액 공급 장치의 액 공급원과 토출 노즐을 접속하는 공급관에는 필터가 개재 마련되고, 당해 필터에 의해 처리액을 여과하여 파티클을 제거하고 있다.
상술한 바와 같은 액 공급 장치에 관하여, 특허 문헌 1에는, 전술한 바와 같이, 필터에 의해 여과되고 파티클이 제거된 처리액을 공급 관로에 있어서의 필터의 일차측의 부분으로 되돌리는 장치가 개시되어 있다.
그런데, 반도체 디바이스에는 가일층의 미세화가 요구되고 있어, 처리액으로부터 제거해야 할 파티클의 사이즈도 매우 작아지고 있다. 또한, 웨이퍼 상의 파티클의 검출 감도가 높아지고 있다. 예를 들면, 20 nm 이하의 세밀한 파티클이 검출 가능하게 되고 있다. 또한 가일층의 미세화를 위하여, 지금까지 이용되지 않았던 새로운 종류의 도포액이 이용되고 있어, 지금까지의 도포액에서는 상정할 수 없었던 파티클이 문제가 될 것이 예상된다.
이러한 배경을 감안하여, 본 발명자가 예의 검토한 결과, 필터에 의해 여과된 처리액이라도 액 공급 장치 내에서 체류하고 있던 것이면 이물이 포함되는 경우가 있는 것이 발견되었다. 특히, 특허 문헌 1의 기재와 같이 필터로 여과된 도포액을 공급 관로의 일차측으로 되돌리는 경우, 노즐로부터 토출되는 도포액에 포함되는 미세한 파티클의 수가 조업(操業) 시간의 경과와 함께 증가하는 경우가 있는 것이 발견되었다. 따라서, 필터로 여과된 도포액을 공급 관로의 일차측(액 공급원측)으로 되돌리는 구성을 가지는 액 공급 장치에서는, 도포액의 가일층의 청정화에는 개선의 여지가 있다.
또한, 전술한 바와 같은 배경을 감안하여 본 발명자가 예의 검토한 결과, 이하의 것이 발견되었다. 처리액으로서, 폴리머를 함유하는 폴리머액으로 이루어지는 레지스트액 등의 도포액을 공급하는 경우, 액 공급원에는 도포액 보틀이 이용된다. 이 도포액 보틀이, 그 제조업자에 의해 품질이 보증된 것이라도, 당해 보틀 내의 도포액에 미세한 파티클이 포함되어 있는 경우가 있다. 이러한, 미세한 반도체 디바이스의 제조에는 충분하지 않은 청정도의 도포액을 액 공급 장치 내에 통류시키면, 당해 장치 내의 청정도에 영향을 줄 가능성이 있는 것이 발견되었다. 액 공급 장치 내의 청정도가 악화되면, 해당 액 공급 장치로부터 공급되는 처리액의 청정도도 악화되어, 제품의 수율에 영향을 준다.
또한 처리액으로서, 폴리머를 함유하지 않는 비폴리머액으로 이루어지는 현상액 등을 공급하는 경우, 액 공급 장치가 설치된 공장 내에 배설된 외부 배관로를 거쳐 액 공급 장치에 처리액이 보충된다. 이와 같이 외부 배관로를 거쳐 액 공급 장치에 처리액이 보충되는 형태에 있어서도, 보충하는 처리액 내에 파티클이 포함되어 있는 경우가 있고, 이 경우도, 제품의 수율에 영향을 준다.
따라서 본 개시에 따른 기술은, 미세한 반도체 디바이스의 제조에 적합한 청정도의 처리액을 공급할 수 있도록 한다.
이하, 본 실시 형태에 따른 액 공급 장치 및 액 공급 방법을 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 본 명세서 및 도면에서 실질적으로 동일한 기능 구성을 가지는 요소에 있어서는, 동일한 부호를 부여함으로써 중복 설명을 생략한다.
<제 1 실시 형태>
본 실시 형태에 따른 액 공급 장치는, 처리액으로서, 폴리머액으로 이루어지는 도포액(예를 들면 레지스트액)을 공급하는 도포액 공급 장치로서 구성된다.
(확인 시험 1)
도포액으로서 보다 청정한 액을 공급하기 위하여, 본 발명자들은, 도포액 공급 장치가 필터로 여과된 도포액을 공급관의 도포액 공급원측으로 되돌리는 기능을 가지는 경우에 있어서, 당해 기능이 도포액의 청정도에 주는 영향에 대하여 확인 시험을 행했다. 보다 구체적으로, 필터로 여과된 도포액으로서 토출되지 않고 남아 있던 것을 버퍼 탱크로 되돌리는 기능을 도포액 공급 장치가 가지는 경우에 있어서, 당해 기능이 도포액의 청정도에 주는 영향에 대하여 확인 시험을 행했다. 해당 확인 시험에서는, 후술하는 서로 상이한 4 개의 동작 조건(1) ~ (4)로 도포액 공급 장치를 동작시켰다. 또한 후술의 '더미 디스펜스'란, 토출 노즐 및 토출 노즐에 접속된 도포액 공급 라인 내에 존재하는, 처리에 부적절한 조성의 도포액 또는 장기 체류한 도포액을 폐기하는 것 등을 목적으로 한 동작이다. 구체적으로, '더미 디스펜스'는 피처리 기판과는 상이한 장소를 향해 토출 노즐로부터 정해진 양의 도포액을 토출하는 동작을 의미한다. 또한, 더미 디스펜스 간격, 즉 바로 옆의 토출 노즐로부터의 도포액 토출 동작 종료 시부터 더미 디스펜스를 행하기까지의 시간은 유저에 의해 설정되는 것이다. 또한 후술의 '펌프 벤트'란, 펌프 내의 도포액에 포함되는 기포를 제거하기 위하여 펌프로부터 배액 라인에 일정량의 도포액을 배출하는 동작을 의미한다. 또한, 본 확인 시험에서 이용한 도포액 공급 장치의 구성은, 후술의 도 6의 레지스트액 공급 장치(200)와, 이물 검출부(208)를 가지지 않은 점에서 상이하며, 그 외의 구성은 대략 동일하다.
동작 조건(1)의 경우, 즉, 더미 디스펜스 간격을 5 분으로서 조업하고, 루프 기능을 무효하게 한 경우, 토출 노즐로부터의 도포액에 포함되는 파티클의 수는 조업 시간이 경과해도 변화는 없고, 항상 적었다. 루프 기능이란, 펌프 벤트 시에 펌프로부터 배액 라인으로 송출된 도포액을 버퍼 탱크로 되돌리는 기능이다.
한편, 동작 조건(2)의 경우, 즉, 더미 디스펜스 간격을 5 분으로서 조업하고, 상기 루프 기능을 유효하게 한 경우, 토출 노즐로부터의 도포액에 포함되는 파티클의 수는 조업 시간이 경과해도 변화는 없었다. 또한, 상기 파티클의 수는 동작 조건(1)보다 더 적은 값으로 안정되어 있었다.
또한 동작 조건(3)의 경우, 즉, 더미 디스펜스 간격을 30 분으로서 조업하고, 상기 루프 기능을 무효하게 한 경우, 토출 노즐로부터의 도포액에 포함되는 파티클의 수는 적은 것도 있지만, 그 값은 안정되지 않았었다.
또한 동작 조건(4)의 경우, 즉, 더미 디스펜스 간격을 30 분으로서 조업하고, 상기 루프 기능을 유효하게 한 경우, 토출 노즐로부터의 도포액에 포함되는 파티클의 수는 많고, 또한 조업 시간의 경과와 함께 증가하는 경향에 있었다.
이상의 확인 시험의 결과로부터, 이하의 점이 추측된다. 동작 조건(2)과 같이 더미 디스펜스 간격이 짧고 도포액 공급 장치 내에서의 도포액의 체류의 시간이 짧은 경우, 상기 체류에 의한 영향은 작다. 따라서, 필터에 의해 여과된 도포액을 버퍼 탱크로 되돌리면, 재차 필터에 의해 여과되기 때문에, 파티클의 수가 조업 시간과 함께 감소해 가는 것이라고 추측된다.
한편, 동작 조건(4)과 같이 더미 디스펜스 간격이 길고 도포액 공급 장치 내에서의 도포액의 체류의 시간이 짧은 경우, 필터에 의해 여과된 도포액이 상기 체류에 의해 오염된다. 그 오염된 도포액을 버퍼 탱크로 되돌림으로써, 도포액 공급 장치 내 전체가 오염되기 때문에, 파티클의 수가 조업 시간과 함께 증가하는 것이라고 추측된다.
즉, 필터에 의해 여과된 도포액이라도 도포액 공급 장치 내에서 체류하고 있으면 해당 도포액에 이물이 포함되는 경우가 있다고 추측된다.
또한, 체류하고 있는 경우에 도포액에 이물이 포함되는 경우가 있는 이유로서는, 이하의 것이 상정된다. 즉, 필터는 도포액을 여과하여 파티클을 제거하는 여재(濾材)와 해당 여재를 보강/보호하는 서포트재를 가지고, 상기 서포트 부재는 저분자량 재료로 이루어진다. 그리고, 반도체 디바이스의 미세화에 수반하여 개발되고 있는 신종의 도포액의 용제에는 고분자 재료가 이용되고 있고, 고분자 재료로 이루어지는 용제에, 저분자 재료로 이루어지는 서포트 용제가 용출되어 있는 것 등이 상정된다.
이하에 설명하는 제 1 실시 형태는 이상의 검토 결과에 근거한 것이다.
도 1은 제 1 실시 형태에 따른 도포액 공급 장치로서의 레지스트액 공급 장치를 탑재한 기판 처리 시스템(1)의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다. 도 2 및 도 3은 각각 기판 처리 시스템(1)의 내부 구성의 개략을 모식적으로 나타내는 정면도와 배면도이다. 또한, 본 명세서 및 도면에서 실질적으로 동일한 기능 구성을 가지는 요소에 있어서는, 동일한 부호를 부여함으로써 중복 설명을 생략한다.
기판 처리 시스템(1)은, 도 1에 나타내는 바와 같이 복수 매의 웨이퍼(W)를 수용한 카세트(C)가 반입반출되는 카세트 스테이션(10)과, 웨이퍼(W)에 정해진 처리를 실시하는 복수의 각종 처리 장치를 구비한 처리 스테이션(11)을 가진다. 그리고, 기판 처리 시스템(1)은 카세트 스테이션(10)과, 처리 스테이션(11)과, 처리 스테이션(11)에 인접하는 노광 장치(12)와의 사이에서 웨이퍼(W)의 전달을 행하는 인터페이스 스테이션(13)을 일체로 접속한 구성을 가지고 있다.
카세트 스테이션(10)에는 카세트 배치대(20)가 마련되어 있다. 카세트 배치대(20)에는 기판 처리 시스템(1)의 외부에 대하여 카세트(C)를 반입반출할 시에, 카세트(C)를 배치하는 카세트 배치판(21)이 복수 마련되어 있다.
카세트 스테이션(10)에는, 도 1에 나타내는 바와 같이 X 방향으로 연장되는 반송로(22) 상을 이동 가능한 웨이퍼 반송 장치(23)가 마련되어 있다. 웨이퍼 반송 장치(23)는 상하 방향 및 연직축 둘레(θ 방향)로도 이동 가능하며, 각 카세트 배치판(21) 상의 카세트(C)와 후술하는 처리 스테이션(11)의 제 3 블록(G3)의 전달 장치와의 사이에서 웨이퍼(W)를 반송할 수 있다.
처리 스테이션(11)에는 각종 장치를 구비한 복수 예를 들면 4 개의 블록(G1, G2, G3, G4)이 마련되어 있다. 예를 들면 처리 스테이션(11)의 정면측(도 1의 X 방향 부방향측)에는 제 1 블록(G1)이 마련되고, 처리 스테이션(11)의 배면측(도 1의 X 방향 정방향측)에는 제 2 블록(G2)이 마련되어 있다. 또한, 처리 스테이션(11)의 카세트 스테이션(10)측(도 1의 Y 방향 부방향측)에는 제 3 블록(G3)이 마련되고, 처리 스테이션(11)의 인터페이스 스테이션(13)측(도 1의 Y 방향 정방향측)에는 제 4 블록(G4)이 마련되어 있다.
예를 들면 제 1 블록(G1)에는, 도 2에 나타내는 바와 같이 복수의 액 처리 장치, 예를 들면 웨이퍼(W)를 현상 처리하는 현상 처리 장치(30), 웨이퍼(W)의 레지스트막의 하층에 반사 방지막(이하 '하부 반사 방지막'이라고 함)을 형성하는 하부 반사 방지막 형성 장치(31), 웨이퍼(W)에 레지스트액을 도포하여 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포 장치(32), 웨이퍼(W)의 레지스트막의 상층에 반사 방지막(이하 '상부 반사 방지막'이라고 함)을 형성하는 상부 반사 방지막 형성 장치(33)가 아래로부터 이 순서로 배치되어 있다.
예를 들면 현상 처리 장치(30), 하부 반사 방지막 형성 장치(31), 레지스트 도포 장치(32), 상부 반사 방지막 형성 장치(33)는 각각 수평 방향으로 3 개 나란히 배치되어 있다. 또한, 이들 현상 처리 장치(30), 하부 반사 방지막 형성 장치(31), 레지스트 도포 장치(32), 상부 반사 방지막 형성 장치(33)의 수 및 배치는 임의로 선택할 수 있다.
이들 현상 처리 장치(30), 하부 반사 방지막 형성 장치(31), 레지스트 도포 장치(32), 상부 반사 방지막 형성 장치(33)와 같은 액 처리 장치에서는, 예를 들면 웨이퍼(W) 상에 정해진 처리액을 도포하는 스핀 코팅이 행해진다. 스핀 코팅에서는, 예를 들면 토출 노즐로부터 웨이퍼(W) 상에 처리액을 토출하고, 또한 웨이퍼(W)를 회전시켜, 처리액을 웨이퍼(W)의 표면에 확산시킨다.
예를 들면 제 2 블록(G2)에는, 도 3에 나타내는 바와 같이 웨이퍼(W)의 가열 또는 냉각과 같은 열 처리를 행하는 열 처리 장치(40 ~ 43)가 상하 방향과 수평 방향으로 나란히 마련되어 있다. 열 처리 장치(40 ~ 43)의 수 및 배치에 대해서도 임의로 선택할 수 있다.
예를 들면 제 3 블록(G3)에는, 복수의 전달 장치(50, 51, 52, 53, 54, 55, 56)가 아래로부터 차례로 마련되어 있다. 또한, 제 4 블록(G4)에는 복수의 전달 장치(60, 61, 62)가 아래로부터 차례로 마련되어 있다.
도 1에 나타내는 바와 같이 제 1 블록(G1) ~ 제 4 블록(G4)으로 둘러싸인 영역에는 웨이퍼 반송 영역(D)이 형성되어 있다. 웨이퍼 반송 영역(D)에는 예를 들면 Y 방향, X 방향, θ 방향 및 상하 방향으로 이동 가능한 반송 암(70a)을 가지는, 웨이퍼 반송 장치(70)가 복수 배치되어 있다. 웨이퍼 반송 장치(70)는 웨이퍼 반송 영역(D) 내를 이동하고, 주위의 제 1 블록(G1), 제 2 블록(G2), 제 3 블록(G3) 및 제 4 블록(G4) 내의 정해진 장치로 웨이퍼(W)를 반송할 수 있다.
또한, 웨이퍼 반송 영역(D)에는 제 3 블록(G3)과 제 4 블록(G4)과의 사이에서 직선적으로 웨이퍼(W)를 반송하는 셔틀 반송 장치(80)가 마련되어 있다.
셔틀 반송 장치(80)는, 예를 들면 도 3의 Y 방향으로 직선적으로 이동 가능하게 되어 있다. 셔틀 반송 장치(80)는 웨이퍼(W)를 지지한 상태로 Y 방향으로 이동하고, 제 3 블록(G3)의 전달 장치(52)와 제 4 블록(G4)의 전달 장치(62)와의 사이에서 웨이퍼(W)를 반송할 수 있다.
도 1에 나타내는 바와 같이 제 3 블록(G3)의 X 방향 정방향측의 옆에는, 웨이퍼 반송 장치(100)가 마련되어 있다. 웨이퍼 반송 장치(100)는 예를 들면 X 방향, θ 방향 및 상하 방향으로 이동 가능한 반송 암을 가지고 있다. 웨이퍼 반송 장치(100)는 웨이퍼(W)를 지지한 상태로 상하로 이동하여, 제 3 블록(G3) 내의 각 전달 장치로 웨이퍼(W)를 반송할 수 있다.
인터페이스 스테이션(13)에는 웨이퍼 반송 장치(110)와 전달 장치(111)가 마련되어 있다. 웨이퍼 반송 장치(110)는 예를 들면 Y 방향, θ 방향 및 상하 방향으로 이동 가능한 반송 암(110a)을 가지고 있다. 웨이퍼 반송 장치(110)는 예를 들면 반송 암(110a)에 웨이퍼(W)를 지지하여, 제 4 블록(G4) 내의 각 전달 장치, 전달 장치(111) 및 노광 장치(12)와의 사이에서 웨이퍼(W)를 반송할 수 있다.
이어서, 이상과 같이 구성된 기판 처리 시스템(1)을 이용하여 행해지는 웨이퍼 처리의 개략에 대하여 설명한다. 먼저, 복수의 웨이퍼(W)를 수납한 카세트(C)가 기판 처리 시스템(1)의 카세트 스테이션(10)으로 반입되고, 웨이퍼 반송 장치(23)에 의해 카세트(C) 내의 각 웨이퍼(W)가 순차 처리 스테이션(11)의 전달 장치(53)로 반송된다.
이어서 웨이퍼(W)는, 웨이퍼 반송 장치(70)에 의해 제 2 블록(G2)의 열 처리 장치(40)로 반송되고 온도 조절 처리된다. 이 후, 웨이퍼(W)는 웨이퍼 반송 장치(70)에 의해 예를 들면 제 1 블록(G1)의 하부 반사 방지막 형성 장치(31)로 반송되어 웨이퍼(W) 상에 하부 반사 방지막이 형성된다. 이 후, 웨이퍼(W)는 제 2 블록(G2)의 열 처리 장치(41)로 반송되어, 가열 처리가 행해진다.
이 후 웨이퍼(W)는, 웨이퍼 반송 장치(70)에 의해 제 2 블록(G2)의 열 처리 장치(42)로 반송되어, 온도 조절 처리된다. 이 후, 웨이퍼(W)는 웨이퍼 반송 장치(70)에 의해 제 1 블록(G1)의 레지스트 도포 장치(32)로 반송되어, 웨이퍼(W) 상에 레지스트막이 형성된다. 이 후 웨이퍼(W)는 열 처리 장치(43)로 반송되어, 프리베이크 처리된다.
이어서 웨이퍼(W)는, 제 1 블록(G1)의 상부 반사 방지막 형성 장치(33)로 반송되어, 웨이퍼(W) 상에 상부 반사 방지막이 형성된다. 이 후, 웨이퍼(W)는 제 2 블록(G2)의 열 처리 장치(43)로 반송되어, 가열 처리가 행해진다. 이 후, 웨이퍼(W)는 웨이퍼 반송 장치(70)에 의해 제 3 블록(G3)의 전달 장치(56)로 반송된다.
이어서 웨이퍼(W)는, 웨이퍼 반송 장치(100)에 의해 전달 장치(52)로 반송되어, 셔틀 반송 장치(80)에 의해 제 4 블록(G4)의 전달 장치(62)로 반송된다. 이 후, 웨이퍼(W)는 인터페이스 스테이션(13)의 웨이퍼 반송 장치(110)에 의해 노광 장치(12)로 반송되어, 정해진 패턴으로 노광 처리된다.
이어서 웨이퍼(W)는, 웨이퍼 반송 장치(70)에 의해 열 처리 장치(40)로 반송되어, 노광 후 베이크 처리된다. 이에 의해, 레지스트막의 노광부에 있어서 발생한 산에 의해 탈보호 반응시킨다. 이 후 웨이퍼(W)는, 웨이퍼 반송 장치(70)에 의해 현상 처리 장치(30)로 반송되어, 현상 처리가 행해진다.
이어서, 상술한 레지스트 도포 장치(32)의 구성에 대하여 설명한다. 도 4는 레지스트 도포 장치(32)의 구성의 개략을 나타내는 종단면도이며, 도 5는 레지스트 도포 장치(32)의 구성의 개략을 나타내는 횡단면도이다.
레지스트 도포 장치(32)는, 도 4에 나타내는 바와 같이 내부를 폐쇄 가능한 처리 용기(120)를 가지고 있다. 처리 용기(120)의 측면에는, 도 5에 나타내는 바와 같이 웨이퍼(W)의 반입반출구(121)가 형성되고, 반입반출구(121)에는 개폐 셔터(122)가 마련되어 있다.
처리 용기(120) 내의 중앙부에는, 도 4에 나타내는 바와 같이 웨이퍼(W)를 유지하여 회전시키는 스핀 척(130)이 마련되어 있다. 스핀 척(130)은 수평인 상면을 가지고, 당해 상면에는, 예를 들면 웨이퍼(W)를 흡인하는 흡인구(도시하지 않음)가 마련되어 있다. 이 흡인구로부터의 흡인에 의해, 웨이퍼(W)를 스핀 척(130) 상에 흡착 유지할 수 있다.
스핀 척(130)은 예를 들면 모터 등을 구비한 척 구동 기구(131)를 가지고, 그 척 구동 기구(131)에 의해 정해진 속도로 회전할 수 있다. 또한, 척 구동 기구(131)에는 실린더 등의 승강 구동원이 마련되어 있고, 스핀 척(130)은 상하동 가능하다.
스핀 척(130)의 주위에는 웨이퍼(W)로부터 비산 또는 낙하하는 액체를 받아, 회수하는 컵(132)이 마련되어 있다. 컵(132)의 하면에는, 회수한 액체를 배출하는 배출관(133)과, 컵(132) 내의 분위기를 배기하는 배기관(134)이 접속되어 있다.
도 5에 나타내는 바와 같이 컵(132)의 X 방향 부방향(도 5의 하방향)측에는 Y 방향(도 5의 좌우 방향)을 따라 연신하는 레일(140)이 형성되어 있다. 레일(140)은 예를 들면 컵(132)의 Y 방향 부방향(도 5의 좌방향)측의 외방으로부터 Y 방향 정방향(도 5의 우측향)측의 외방까지 형성되어 있다. 레일(140)에는 암(141)이 장착되어 있다.
암(141)에는, 도 4 및 도 5에 나타내는 바와 같이 레지스트액을 토출하는 토출 노즐(142)이 지지되어 있다. 암(141)은, 도 5에 나타내는 노즐 구동부(143)에 의해, 레일(140) 상을 이동 가능하다. 이에 의해, 토출 노즐(142)은 컵(132)의 Y 방향 정방향측의 외방에 설치된 대기부(144)로부터 컵(132) 내의 웨이퍼(W)의 중심부 상방까지 이동할 수 있고, 또한 당해 웨이퍼(W)의 표면 상을 웨이퍼(W)의 직경 방향으로 이동할 수 있다. 또한, 암(141)은 노즐 구동부(143)에 의해 승강 가능하며, 토출 노즐(142)의 높이를 조절할 수 있다. 토출 노즐(142)은, 도 4에 나타내는 바와 같이 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급 장치(200)에 접속되어 있다.
이어서, 레지스트 도포 장치(32) 내의 처리액 토출부로서의 토출 노즐(142)에 대하여 도포액으로서의 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급 장치(200)의 구성에 대하여 설명한다. 도 6은 레지스트액 공급 장치(200)의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다. 또한, 레지스트액 공급 장치(200)는 예를 들면 미도시의 케미컬실 내에 마련되어 있다. 케미컬실이란, 각종 처리액을 액 처리 장치에 공급하기 위한 것이다.
도 6의 레지스트액 공급 장치(200)는, 토출 노즐(142)에 접속된 공급 관로로서, 도포액 공급 관로(250)를 구비하고 있다. 본 실시 형태에 있어서, 도포액 공급 관로(250)는 내부에 레지스트액을 저류하는 액 공급원으로서의 레지스트액 보틀(201)과 토출 노즐(142)을 접속한다. 환언하면, 도포액 공급 관로(250)는 토출 노즐(142)과는 반대측의 단부가, 액 공급원으로서의 레지스트액 보틀(201)에 접속되어 있다.
레지스트액 보틀(201)은 교체 가능한 것이며, 해당 레지스트액 보틀(201)의 상부에는 개폐 밸브(V1)가 마련된 기체 공급 관로(251)가 마련되어 있다. 기체 공급 관로(251)는 질소 가스 등의 불활성 가스의 공급원인 가스 공급원(210)과 레지스트액 보틀(201)을 접속하는 것이며, 개폐 밸브(V1)의 상류측에, 압력 조정용의 전공 레귤레이터(211)가 마련되어 있다.
도포액 공급 관로(250)에는 버퍼 탱크(202), 필터(203), 트랩 탱크(204), 펌프(205)가 상류측으로부터 이 순서로 개재 마련되어 있다.
도포액 공급 관로(250)는 레지스트액 보틀(201)과 버퍼 탱크(202)를 접속하는 제 1 공급 관로(250a), 버퍼 탱크(202)와 펌프(205)를 접속하고 필터(203)와 트랩 탱크(204)가 개재 마련된 제 2 공급 관로(250b), 펌프(205)와 토출 노즐(142)을 접속하는 제 3 공급 관로(250c)를 가진다.
제 1 공급 관로(250a)에는 개폐 밸브(V2)가 마련되어 있다.
제 2 공급 관로(250b)에서는, 버퍼 탱크(202)와 필터(203) 사이에 개폐 밸브(V3)가 마련되고, 필터(203)와 트랩 탱크(204) 사이에 개폐 밸브(V4)가 마련되어 있다.
제 3 공급 관로(250c)는 개폐 밸브와 석백 밸브를 포함하는 공급 제어 밸브(206)가 개재 마련되어 있다.
버퍼 탱크(202)는 레지스트액 보틀(201)로부터 이송된 레지스트액을 일시적으로 저류하는 일차 저류부이다. 버퍼 탱크(202)에는 저류 잔량을 검출하는 액면 센서(도시하지 않음)가 마련되어 있고, 해당 액면 센서에서의 검출 결과에 따라 개폐 밸브(V1, V2)가 개폐되어, 레지스트액 보틀(201)로부터 버퍼 탱크(202)로의 레지스트액의 공급이 개시/정지된다. 또한, 버퍼 탱크(202)의 상부에는 해당 버퍼 탱크(202)의 상부에 체류하는 불활성 가스를 대기에 개방하는 배출 관로(252)가 마련되어 있다.
필터(203)는 레지스트액을 여과하여 파티클을 제거하는 것이다. 필터(203)에는 필터 벤트 시에 해당 필터(203) 내로부터 배출된 레지스트액을 배액하기 위한 배액부 관로(253)가 마련되어 있다. 배액부 관로(253)에는 개폐 밸브(V5)가 마련되어 있고, 해당 배액부 관로(253)에 있어서의 필터(203)와 반대측의 단부는, 후술의 제 1 복귀 관로(254a)에 있어서의 이물 검출부(208)와 개폐 밸브(V6)와의 사이에 접속된다.
트랩 탱크(204)는 레지스트액 중의 기포를 포집하여 제거하는 것이며, 트랩 탱크(204)로부터 레지스트액을 배출하기 위한 제 1 복귀 관로(254a)가 마련되어 있다. 제 1 복귀 관로(254a)에는 개폐 밸브(V6, V7)가 상류측으로부터 이 순서로 마련되어 있다.
또한, 제 1 복귀 관로(254a)는 개폐 밸브(V6)와 개폐 밸브(V7) 사이에 분기점을 가진다. 제 1 복귀 관로(254a)는 이 분기점으로부터 분기되어 도포액 공급 관로(250)와는 상이한 장소에 이르는, 구체적으로 배액로(도시하지 않음)에 이르는 배액 주관로(255)가 접속되어 있다. 배액 주관로(255)에는 개폐 밸브(V8)가 마련되어 있다.
또한 제 1 복귀 관로(254a)에 있어서의 상기 분기점의 상류측에는, 구체적으로, 제 1 복귀 관로(254a)에 있어서의 상기 분기점과 개폐 밸브(V6) 사이에는 이물 검출부(208)가 마련되어 있다.
이물 검출부(208)는 도포액 등의 처리액에 포함되는 이물을 검출하는 것이다. 이 이물 검출부(208)는 예를 들면 당해 이물 검출부(208)가 마련되는 유로를 흐르는 유체에 광을 조사하는 조사부(도시하지 않음)와, 해당 조사부가 조사하여 상기 유로를 흐르는 유체를 투과한 광을 수광하는 수광부(도시하지 않음)를 가진다. 그리고, 이물 검출부(208)는 상기 수광부에서의 수광 결과에 기초하여, 상기 유로 내의 유체의 이물을 검출한다.
펌프(205)는 레지스트액을 흡입, 송출하는 것이며, 예를 들면 가변 용량 펌프인 다이어프램 펌프로 구성된다. 펌프(205)는 가요성(可撓性) 부재인 다이어프램으로 미도시의 펌프실과 작동실로 구획되어 있다. 상기 펌프실은 개폐 밸브(V11)를 개재하여 제 2 공급 관로(250b)에 접속되고, 해당 제 2 공급 관로(250b)로부터 레지스트액을 흡입한다. 또한, 펌프실은 개폐 밸브(V12)를 개재하여 제 3 공급 관로(250c)에 접속되고, 해당 제 3 공급 관로(250c)에 레지스트액을 토출한다. 또한, 펌프실은 개폐 밸브(V13)를 거쳐 제 2 복귀 관로(254b)에 접속되고, 해당 제 2 복귀 관로(254b)에 레지스트액을 토출한다. 제 2 복귀 관로(254b)에 있어서의 펌프(205)측과 반대측의 단부는 트랩 탱크(204)에 접속되어 있다. 이 제 2 복귀 관로(254b)와 제 1 복귀 관로(254a)가, 본 실시 형태에 따른 복귀 관로를 구성한다. 본 실시 형태에 따른 복귀 관로는, 도포액 공급 관로(250)에 있어서의 필터(203)의 이차측의 부분과 도포액 공급 관로(250)에 있어서의 필터(203)의 일차측의 부분을 접속하는 관로이다.
펌프(205)의 전술한 작동실에는, 해당 작동실 내의 기체의 감압 및 가압을 제어하는 구동 수단(209)이 접속되어 있다.
또한, 레지스트액 공급 장치(200)는 제어부(M)를 구비한다. 제어부(M)는 예를 들면 컴퓨터이며, 프로그램 저장부(도시하지 않음)를 가지고 있다. 프로그램 저장부에는 레지스트액 공급 장치(200)에 있어서의 처리를 제어하는 프로그램이 저장되어 있다. 또한, 상기 프로그램은 컴퓨터에 판독 가능한 기억 매체에 기록되어 있던 것으로, 그 기억 매체로부터 제어부(M)에 인스톨된 것이어도 된다. 프로그램의 일부 또는 전부는 전용 하드 웨이퍼(회로 기판)로 실현해도 된다.
레지스트액 공급 장치(200)에 마련된 각 밸브에는, 제어부(M)에 의해 제어 가능한 전자 밸브 또는 공기 작동 밸브가 이용되고, 각 밸브와 제어부(M)는 전기적으로 접속되어 있다. 또한, 제어부(M)는 이물 검출부(208), 구동 수단(209), 전공 레귤레이터(211)와 전기적으로 접속되어 있다. 이 구성에 의해, 레지스트액 공급 장치(200)에 있어서의 일련의 처리는 제어부(M)의 제어 하에서, 자동으로 행하는 것이 가능하게 되어 있다.
이어서, 도 7 ~ 도 13에 기초하여, 레지스트액 공급 장치(200)의 동작에 대하여 설명한다. 또한, 이하의 도면에서는 레지스트액이 유통하고 있는 관을 굵은 선으로 나타냄으로써, 일부의 밸브의 개폐 상태에 대해서는 설명을 생략한다.
(버퍼 탱크(202)에 대한 보충)
도 7에 나타내는 바와 같이, 제어부(M)로부터의 제어 신호에 기초하여, 기체 공급 관로(251)에 개재 마련된 개폐 밸브(V1)와 제 1 공급 관로(250a)에 개재 마련된 개폐 밸브(V2)를 개방 상태로 한다. 그리고, 가스 공급원(210)으로부터 레지스트액 보틀(201) 내로 공급되는 질소 가스의 압력에 의해 레지스트액을 버퍼 탱크(202)로 공급하여 보충한다.
(펌프(205)에 대한 보충)
버퍼 탱크(202) 내에 정해진 양의 레지스트액이 보충되면, 도 8에 나타내는 바와 같이, 개폐 밸브(V1, V2)를 폐쇄 상태로 한다. 이 때, 펌프(205)의 개폐 밸브(V11)는 개방 상태로 되고, 개폐 밸브(V12, V13)는 폐쇄 상태로 되어 있다. 그리고, 구동 수단(209)에 의해 펌프(205)의 작동실 내의 배기 동작을 개시하고, 또한 제 2 공급 관로(250b)에 개재 마련된 개폐 밸브(V3, V4)를 개방 상태로 한다. 이에 의해, 버퍼 탱크(202) 내의 레지스트액은 필터(203)를 통과하고, 또한 트랩 탱크(204)를 통과한 후, 펌프(205)로 옮겨진다.
(토출)
펌프(205) 내에 정해진 양의 레지스트액이 공급/보충되면, 도 9에 나타내는 바와 같이 개폐 밸브(V3, V4, V11)를 폐쇄 상태로 하고, 펌프의 개폐 밸브(V12)와 제 3 공급 관로(250c)에 개재 마련된 공급 제어 밸브(206)를 개방 상태로 한다. 그와 함께, 구동 수단(209)에 의해 펌프(205)의 작동실 내의 가압 동작을 개시하고, 펌프(205)로부터 레지스트액을 제 3 공급 관로(250c)로 압송한다. 이에 의해, 펌프(205)로 이송된 레지스트액의 일부(예를 들면 5 분의 1)가 토출 노즐(142)을 거쳐 웨이퍼(W)에 토출된다.
통상 동작 시에는 상술한 공정이 반복된다.
(더미 디스펜스)
레지스트액 공급 장치(200)의 더미 디스펜스 간격은, 전술한 바와 같이 유저에 의해 설정된다. 더미 디스펜스에서는, 정해진 양의 도포액이 토출 노즐(142)로부터 토출될 때까지, 상술한 버퍼 탱크(202)에 대한 보충 공정, 펌프(205)에 대한 보충 공정 및 토출 공정이 반복된다.
(펌프 벤트)
레지스트액 공급 장치(200)는 펌프(205) 내의 레지스트액에 포함되는 기포를 제거하기 위하여 펌프(205)로부터 배액 라인으로 정해진 양의 레지스트액을 배출하는 펌프 벤트를 행한다. 이 펌프 벤트의 실행 타이밍은 유저에 의해 설정되고, 예를 들면 펌프 벤트는 토출 노즐(142)로부터의 토출 동작이 n 회(예를 들면 100 회) 행해질 때마다 행해진다.
유저에 의해 설정된 n 회째의 토출 노즐(142)로부터의 토출 동작이 종료하면, 도 10에 나타내는 바와 같이, 펌프(205)의 개폐 밸브(V12)와 제 3 공급 관로(250c)에 개재 마련된 공급 제어 밸브(206)를 폐쇄 상태로 한다. 또한, 펌프(205)의 개폐 밸브(V13), 제 1 복귀 관로(254a)에 개재 마련된 개폐 밸브(V6)를 개방 상태로 한다. 이 때, 펌프(205)의 작동실 내는 구동 수단(209)에 의해 가압 상태로 유지되어 있다. 따라서, 펌프(205)로부터 레지스트액이 제 2 복귀 관로(254b)로 압송된다. 이에 의해, 필터(203)에 의해 여과되었지만 펌프(205) 또는 트랩 탱크(204), 제 2 공급 관로(250b)에 남아 있던 레지스트액은, 이물 검출부(208)가 개재 마련된 제 1 복귀 관로(254a)로 송출된다.
그리고, 제어부(M)는 이물 검출부(208)에 의한 검출 결과에 기초하여, 제 1 복귀 관로(254a) 내의 레지스트액의 상태의 판정을 행한다.
상기 판정 결과, 예를 들면 이물 검출부(208)에 의해 검출된 이물의 수가 정해진 값 미만이며, 제 1 복귀 관로(254a) 내의 레지스트액의 상태가 양호라고 판정된 경우, 도 11에 나타내는 바와 같이, 제 1 복귀 관로(254a)에 개재 마련된 개폐 밸브(V7)를 개방 상태로 한다. 이에 의해, 제 1 복귀 관로(254a) 내의 레지스트액을, 도포액 공급 관로(250)에 있어서의 필터(203)의 일차측의 부분에, 구체적으로 버퍼 탱크(202)로 되돌린다.
한편, 상기 판정 결과, 예를 들면 이물 검출부(208)에 의해 검출된 이물의 수가 정해진 값 이상이며, 제 1 복귀 관로(254a) 내의 레지스트액의 상태가 불량이라고 판정된 경우, 도 12에 나타내는 바와 같이, 배액 주관로(255)에 개재 마련된 개폐 밸브(V8)를 개방 상태로 한다. 이에 의해, 제 1 복귀 관로(254a) 내의 레지스트액을, 배액 주관로(255)를 거쳐 배액한다.
상술한 바와 같이 하여, 본 실시 형태에서는, 필터(203)의 일차측에 공급될 수 있는 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우에, 필터(203)의 일차측으로의 당해 처리액의 공급을 제한하고 있다.
또한 펌프 벤트 시, 해당 펌프 벤트가 완료될 때까지 사이에 상기 판정을 행하는 횟수는 1 회여도 복수 회여도 된다. 또한 복수 회 행할 경우, 제 1 복귀 관로(254a) 내의 레지스트액의 상태가 한 번이라도 불량으로 되었을 때에는, 이후 펌프 벤트가 완료될 때까지의 사이, 개폐 밸브(V7)를 폐쇄 상태, 개폐 밸브(V8)를 개방 상태로 하여, 제 1 복귀 관로(254a) 내의 레지스트액을 배출하는 것이 바람직하다.
(필터 벤트)
레지스트액 공급 장치(200)는 필터(203) 내의 당해 필터(203)에 여과되기 전의 레지스트액에 포함되는 기포를 제거하기 위하여 필터(203)로부터 배액 라인으로 정해진 양의 레지스트액을 배출하는 필터 벤트를 행한다. 필터 벤트의 실행 타이밍은 유저에 의해 설정되고, 예를 들면 필터 벤트는, 토출 노즐(142)로부터의 토출 동작이 m 회(예를 들면 100 회) 행해질 때마다 행해진다.
유저에 의해 설정된 m 회째의 토출 노즐(142)로부터의 토출 동작이 종료되면, 도 13에 나타내는 바와 같이, 펌프(205)의 개폐 밸브(V12)와 제 3 공급 관로(250c)에 개재 마련된 공급 제어 밸브(206)를 폐쇄 상태로 한다. 또한, 펌프(205)의 개폐 밸브(V13), 제 2 공급 관로(250b)에 개재 마련된 개폐 밸브(V4), 배액부 관로(253)에 개재 마련된 개폐 밸브(V5), 배액 주관로(255)에 개재 마련된 개폐 밸브(V8)를 개방 상태로 한다. 이 때, 펌프(205)의 작동실 내는 구동 수단(209)에 의해 가압 상태로 유지되어 있다. 따라서, 펌프(205)로부터 레지스트액이 제 2 복귀 관로(254b)로 압송됨으로써, 필터(203) 내의 미여과의 레지스트액은, 배액부 관로(253), 제 1 복귀 관로(254a)의 일부 및 배액 주관로(255)를 거쳐 배액된다.
본 실시 형태에서는, 상술한 바와 같이, 필터(203)로 여과되었지만 토출되지 않고 레지스트액 공급 장치(200) 내에 남아 있던 레지스트액을, 도포액 공급 관로(250)에 있어서의 필터(203)의 일차측의 부분으로 되돌리는 것이 가능한 제 1 복귀 관로(254a) 등으로 이루어지는 복귀 관로가 마련되어 있다. 또한, 해당 복귀 관로로부터 분기하는 배액 주관로(255)가 마련되어 있다. 그리고 제어부(M)가, 필터(203)에 의해 여과되었지만 토출되지 않았던 레지스트액이 펌프(205)에 의해 상기 복귀관으로 송출되는 제어 신호를 출력한다. 또한 제어부(M)가, 상기 복귀 관로에 마련된 이물 검출부(208)에서의 검출 결과에 기초하여, 복귀 관로로 송출된 레지스트액의 상태의 판정을 행한다. 판정 결과, 복귀 관로로 송출된 레지스트액의 상태가 양호인 경우, 제어부(M)는, 상기 복귀 관로 내의 레지스트액이 버퍼 탱크(202)로 되돌려지는 제어 신호를 출력한다. 또한 판정 결과, 상기 복귀 관로로 송출된 레지스트액의 상태가 불량인 경우, 제어부(M)는, 상기 복귀 관로 내의 레지스트액이 배액 주관로(255)를 거쳐 배액되도록 제어 신호를 출력한다.
따라서 본 실시 형태에 따르면, 필터(203)에 여과된 레지스트액이 체류에 의해 오염되었다 하더라도, 그 오염된 도포액이 버퍼 탱크(202)로 되돌려지지 않는다. 이 때문에, 상기 오염된 도포액에 의해 레지스트액 공급 장치(200) 내가 오염되는 것을 방지할 수 있다. 따라서 본 실시 형태에 따르면, 필터(203)에 여과된 잔류 레지스트액의 상태에 관계없이 해당 레지스트액을 버퍼 탱크(202)로 송출하는 경우에 비해, 보다 청정한 레지스트액을 공급할 수 있다. 또한 본 실시 형태에 따르면, 공급하는 레지스트액을 항상 청정한 것으로 할 수 있다.
또한 이상의 예에서는, 필터(203) 내의 미여과의 레지스트액은, 필터 벤트 시에 항상 배액하는 것으로 했다. 이 대신에, 필터 벤트 시에도 펌프 벤트와 마찬가지로 이물 검출부(208)에서의 검출을 행하고, 검출 결과에 기초하여 레지스트액의 상태의 판정을 행하여, 레지스트액의 상태가 양호인 경우는 버퍼 탱크(202)로 되돌려지도록 해도 된다.
<제 2 실시 형태>
도 14는 제 2 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
더미 디스펜스가 행해지고 나서 장시간 경과하면, 레지스트액이 오염되어 있을 가능성이 높아진다. 또한, 더미 디스펜스 간격이 길수록, 더미 디스펜스가 행해지고 나서의 경과 시간이 짧아도 레지스트액이 오염되어 있을 가능성이 높아진다.
따라서 본 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치는, 제 1 실시 형태와는 달리, 복귀 관로 내로 송출된 레지스트액의 상태의 판정을, 더미 디스펜스 간격에 따라 정해지는 기간을 경과했는지 여부에 기초하여 행한다. 이 때문에, 도 14에 나타내는 바와 같이 본 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치(200)에는, 이물 검출부(208)(도 6 참조)가 마련되어 있지 않다.
본 실시 형태에서는, 예를 들면 더미 디스펜스 간격이 5 분인 경우, 판정의 시점에 있어서 전회 더미 디스펜스가 행해지고 나서의 토출 동작의 횟수가, 더미 디스펜스 간격에 따라 정해지는 X 회를 초과하고 있는지의 판정이 행해진다. 그리고 X 회를 초과하고 있을 때에는, 복귀 관로 내로 송출된 레지스트액의 상태는 불량이라고 판정되고, X 회를 초과하고 있지 않을 때에는, 상기 레지스트액의 상태는 양호하다고 판정된다. 또한, 더미 디스펜스 간격이 30 분인 경우는, 판정의 시점에 있어서 상기 더미 디스펜스가 행해지고 나서의 토출 동작의 횟수가, Y(＞X) 회를 초과하고 있는지의 판정이 행해진다. 그리고 Y 회를 초과하고 있을 때에는, 복귀 관로 내로 송출된 레지스트액의 상태는 불량이라고 판정되고, Y 회를 초과하고 있지 않을 때에는, 상기 레지스트액의 상태는 양호하다고 판정된다.
본 실시 형태라도, 제 1 실시 형태와 마찬가지로, 필터(203)에 의해 여과된 후에 오염된 도포액에 의해 레지스트액 공급 장치(200) 내가 오염되는 것을 방지할 수 있다. 따라서 본 실시 형태라도, 보다 청정한 레지스트액을 공급할 수 있고, 또한 공급하는 레지스트액을 항상 청정한 것으로 할 수 있다.
<제 3 실시 형태>
본 실시 형태에 따른 액 공급 장치도, 제 1 실시 형태에 따른 액 공급 장치와 마찬가지로, 처리액으로서, 폴리머액으로 이루어지는 도포액(예를 들면 레지스트액)을 공급하는 도포액 공급 장치로서 구성된다.
(확인 시험 2)
도포액 보틀의 교환 직후에, 웨이퍼 상에 도포된 도포액에 파티클이 많이 포함되는 경우가 있는 점 등으로부터, 본 발명자들은 도포액 보틀에 대하여 확인 시험을 행했다. 이 확인 시험에서는, 구체적으로, 도포액 보틀 내의 도포액에 포함되는 파티클의 보틀 간 차, 및 이 보틀 간 차가 액 공급 장치로부터 공급되는 도포액의 품질에 주는 영향에 대하여 확인을 행했다. 또한 이 확인 시험에서는, 도포액으로서 EUV 레지스트액을 이용하여 도포액 공급 장치로서 후술의 도 15의 레지스트액 공급 장치(200)와 동일한 것을 이용했다. 단, 본 확인 시험에서 이용한 레지스트액 공급 장치는 삼방 밸브(V21) 및 배액 관로(256)가 마련되어 있지 않다.
확인 시험에 있어서, 하나의 레지스트액 보틀을 레지스트액 공급 장치에 인스톨했을 시, 레지스트액 공급 장치의 도포액 공급 관로에 있어서의 필터의 일차측에 마련된 이물 검출부가 500 ~ 600 개/ml의 파티클을 검출했다. 그리고, 상기 하나의 레지스트액 보틀이 인스톨된 레지스트액 공급 장치로부터 공급되고 토출 노즐을 거쳐 웨이퍼 상에 토출된 레지스트액에는, 표면 이물 검사 장치로 검사한 바, 웨이퍼 1 매당 5 ~ 7 개의 파티클이 관측되었다.
또한 확인 시험에 있어서, 다른 레지스트액 보틀을 레지스트액 공급 장치에 인스톨했을 시, 레지스트액 공급 장치의 도포액 공급 관로에 있어서의 필터의 일차측에 마련된 이물 검출부가 700 ~ 800 개/ml의 파티클을 검출했다. 그리고, 상기 다른 레지스트액 보틀이 인스톨된 레지스트액 공급 장치로부터 공급되고 토출 노즐을 거쳐 웨이퍼 상에 토출된 레지스트액에는, 표면 이물 검사 장치로 검사한 바, 웨이퍼 1 매당 7 ~ 9 개의 파티클이 관측되었다.
확인 시험의 결과로부터, 이하의 점이 확인되었다. 레지스트액 보틀의 품질이 레지스트액 제조업자에 의해 보증되어 있어도, 레지스트액 공급 장치에 인스톨된 레지스트액 보틀 중의 레지스트액에는 파티클이 포함되는 것, 및, 포함되는 파티클의 수는 레지스트액 보틀마다 상이한 것이 확인되었다. 또한 필터로 여과하여 토출하는 경우라도, 레지스트액 보틀로부터 공급되는 레지스트액 중의 파티클의 수에 따른 수의 파티클이 웨이퍼 상에서 관측되는 것이 확인되었다.
또한, 상기의 확인 시험의 결과로부터, 레지스트액 보틀 내의 레지스트액에 임계치 이상의 수의 많은 파티클이 포함되는 경우, 레지스트액에 포함되는 파티클의 수를 필터로 허용 범위까지 저감시킬 수 없을 것이 예측된다.
또한, 레지스트액 제조업자가 품질을 보증하고 있어도 레지스트액 보틀 내의 레지스트액에 많은 파티클이 포함되는 경우가 있는 이유로서는, 예를 들면 이하의 것이 상정된다. 즉, 반도체 디바이스의 미세화에 수반하여 파티클 검출 장치도 진화하여 파티클의 검출 감도가 높아지고 있고, 검출 장치의 진화에 맞춘 검사 환경을 대부분의 레지스트액 제조업자가 확보하지 못한 것이 상정된다. 또한, 상기 미세화가 진행되어 지금까지의 것과는 상이한 신종의 레지스트액이 이용되고 있어, 종래의 레지스트에서는 문제가 되지 않았던 환경(운반 환경 또는 보관 환경)이라도, 그 신종의 레지스트액에서는 미세한 파티클이 발생되는 경우가 있는 것 등도 상정된다.
이하에 설명하는 제 3 실시 형태는 이상의 검토 결과에 근거한 것이다.
도 15는 제 3 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
본 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치(200)에서는, 도포액 공급 관로(250)에 있어서 필터(203)의 일차측에 위치하는 제 1 공급 관로(250a)에, 개폐 밸브(V2), 이물 검출부(208), 삼방 밸브(V21)가 상류측으로부터 이 순서로 개재 마련되어 있다. 삼방 밸브(V21)가 가지는 3 개의 유체의 출입구 중 하나는 제 1 공급 관로(250a)의 상류 측으로 통하고, 다른 하나는 제 1 공급 관로(250a)의 하류측으로 통하고, 또 다른 하나는 배액 관로(256)로 통한다. 즉, 삼방 밸브(V21)는 제 1 공급 관로(250a)에 있어서의 배액 관로(256)로의 분기점 상에 마련되어 있고, 이물 검출부(208)는 제 1 공급 관로(250a)에 있어서의 상기 분기점의 상류측에 개재 마련되어 있다.
이어서 도 16 ~ 도 18에 기초하여, 도 15의 레지스트액 공급 장치(200)의 동작 중 전술한 실시 형태와 상이한 것에 대하여 설명한다.
(버퍼 탱크(202)에 대한 보충)
도 16에 나타내는 바와 같이, 제어부(M)로부터의 제어 신호에 기초하여, 기체 공급 관로(251)에 개재 마련된 개폐 밸브(V1)와 제 1 공급 관로(250a)에 개재 마련된 개폐 밸브(V2)를 개방 상태로 한다. 그리고, 가스 공급원(210)으로부터 레지스트액 보틀(201) 내로 공급되는 질소 가스의 압력에 의해 레지스트액 보틀(201) 내의 레지스트액을 제 1 공급 관로(250a)로 송출한다. 이 때, 삼방 밸브(V21)는 제 1 공급 관로(250a)의 상류측의 부분이 제 1 공급 관로(250a)의 하류측 부분에도 배액 관로(256)로도 통하지 않는 상태이다.
그리고, 제어부(M)는 이물 검출부(208)에 의한 검출 결과에 기초하여, 제 1 공급 관로(250a) 내의 레지스트액의 상태의 판정을 행한다.
상기 판정 결과, 예를 들면 이물 검출부(208)에 의해 검출된 이물의 수가 정해진 값 미만이며, 제 1 공급 관로(250a) 내의 레지스트액의 상태 즉 레지스트액 보틀(201)의 상태가 양호라고 판정된 경우, 도 17에 나타내는 바와 같이 삼방 밸브(V21)의 상태를 전환한다. 이에 의해, 제 1 공급 관로(250a)의 상류측의 부분과 제 1 공급 관로(250a)의 하류측 부분이 통하는 상태로 하여, 레지스트액 보틀(201) 내의 레지스트액을 버퍼 탱크(202)로 공급하여 보충한다.
한편 상기 판정 결과, 예를 들면 이물 검출부(208)에 의해 검출된 이물의 수가 정해진 값 이상이며, 제 1 공급 관로(250a) 내의 레지스트액의 상태 즉 레지스트액 보틀(201)의 상태가 불량이라고 판정된 경우, 도 18에 나타내는 바와 같이 삼방 밸브(V21)의 상태를 전환한다. 이에 의해, 제 1 공급 관로(250a)의 상류측의 부분과 배액 관로(256)가 통하는 상태로 하여, 레지스트액 보틀(201) 내의 오염되어 있는 레지스트액을 배액 관로(256)를 거쳐 배액시킨다.
상술한 바와 같이 하여, 본 실시 형태에서는, 필터(203)의 일차측으로 공급될 수 있는 레지스트액 보틀(201) 내의 도포액의 상태가 불량이라고 판정된 경우에, 필터(203)의 일차측으로의 당해 도포액의 공급을 제한하고 있다.
또한 레지스트액 보틀(201)의 상태가 불량이라고 판정된 경우, 이상의 예에서는 레지스트액 보틀(201) 내의 레지스트액을, 배액 관로(256)를 거쳐 배액하고 있었다. 그러나, 배액 등을 행하지 않고, 레지스트액 보틀(201)을 교환해야 하는 취지의 알림을 표시부 등을 이용하여 행하도록 해도 된다.
본 실시 형태의 레지스트액 공급 장치(200)에서는, 레지스트액 보틀(201) 내의 레지스트액의 상태가 양호인 경우에만, 레지스트액 보틀(201) 내의 레지스트액을 버퍼 탱크(202)로 공급한다. 즉, 본 실시 형태의 레지스트액 공급 장치(200)에서는, 레지스트액 보틀(201) 내의 레지스트액의 상태가 양호인 경우에만, 레지스트액 보틀(201) 내의 레지스트액이, 필터(203)의 일차측 및 펌프(205)로 공급되도록 한다. 따라서, 레지스트액 보틀(201) 내의 오염된 레지스트액에 의해, 레지스트액 공급 장치(200)의 버퍼 탱크(202) 및 당해 버퍼 탱크(202)보다 하류측의 부분이 오염되는 경우가 없다. 따라서 본 실시 형태에 따르면, 레지스트액 보틀(201) 내의 레지스트액의 상태에 관계없이 해당 레지스트액을 버퍼 탱크(202)로 송출하는 경우에 비해, 보다 청정한 레지스트액을 공급할 수 있다. 또한 본 실시 형태에 따르면, 공급하는 레지스트액을 항상 청정한 것으로 할 수 있다.
또한 본 실시 형태의 레지스트액 공급 장치(200)에서는, 트랩 탱크(204)에는 개폐 밸브(V22)가 개재 마련된 배액 주관로(257a)가 접속되어 있다. 또한, 필터(203)는 배액 주관로(257a)와 접속되는 배액부 관로(258)가 접속되어 있고, 해당 배액부 관로(258)에는 개폐 밸브(V23)가 마련되어 있다. 제 1 실시 형태의 레지스트액 공급 장치에는 제 2 복귀 관로(254b)(도 6 참조)가 마련되어 있었지만, 본 실시 형태의 레지스트액 공급 장치(200)는 상기 제 2 복귀 관로(254b)가 마련되어 있던 부분에 배액 주관로(257b)가 마련되어 있다.
본 실시 형태의 레지스트액 공급 장치(200)에 있어서의 펌프 벤트에서는, 펌프(205) 및 트랩 탱크(204) 내의 레지스트액이 배액 주관로(257a, 257b)를 거쳐 배액되도록, 제어부(M)로부터 제어 신호가 출력된다.
본 실시 형태의 레지스트액 공급 장치(200)에 있어서의 필터 벤트에서는, 필터(203) 내의 미여과의 레지스트액이 배액부 관로(258) 및 배액 주관로(257a)를 거쳐 배액되도록, 제어부(M)로부터 제어 신호가 출력된다.
<제 4 실시 형태>
도 19는 제 4 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
본 실시 형태의 레지스트액 공급 장치(200)는, 도 19에 나타내는 바와 같이 제 3 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치의 구성에 있어서의 삼방 밸브(V21)의 위치에 사방 밸브(V31)가 마련되어 있다. 또한 본 실시 형태의 레지스트액 공급 장치(200)는, 제 1 공급 관로(250a)에 있어서의 개폐 밸브(V2)와 이물 검출부(208) 사이의 부분과, 사방 밸브(V31)를 접속하는 복귀 관로(259)를 가진다. 복귀 관로(259)는 환언하면, 제 1 공급 관로(250a)에 있어서의 이물 검출부(208)의 일차측과 이차측을 접속하는 것이다. 복귀 관로(259)에는 상류측으로부터 차례로 펌프(220)와 개폐 밸브(V32)를 가진다.
사방 밸브(V31)가 가지는 4 개의 유체의 출입구 중 하나는 제 1 공급 관로(250a)의 상류측에 통하고, 다른 하나는 제 1 공급 관로(250a)의 하류측에 통하고, 다른 하나는 배액 관로(256)에 통하고, 또 다른 하나는 복귀 관로(259)에 통한다.
이어서 도 20 ~ 도 22에 기초하여, 도 19의 레지스트액 공급 장치(200)의 동작 중 전술한 실시 형태와 상이한 것에 대하여 설명한다.
(버퍼 탱크(202)에 대한 보충)
도 20에 나타내는 바와 같이, 제어부(M)로부터의 제어 신호에 기초하여, 기체 공급 관로(251)에 개재 마련된 개폐 밸브(V1)와 제 1 공급 관로(250a)에 개재 마련된 개폐 밸브(V2)를 개방 상태로 한다. 그리고, 가스 공급원(210)으로부터 레지스트액 보틀(201) 내로 공급되는 질소 가스의 압력에 의해 레지스트액 보틀(201) 내의 레지스트액을 제 1 공급 관로(250a)로 송출한다.
그리고 도 21에 나타내는 바와 같이, 개폐 밸브(V2)를 폐쇄 상태로 하고, 복귀 관로(259)에 개재 마련된 개폐 밸브(V32)를 개방 상태로 하고, 또한 펌프(220)를 작동시킨다. 이에 의해, 제 1 공급 관로(250a)에 있어서의 이물 검출부(208)가 마련되어 있는 부분과 복귀 관로(259)를 포함하는 순환로 내에 레지스트액을 순환시킨다. 복귀 관로(259)는 레지스트액이 순환되고 있는 동안, 이물 검출부(208)에 있어서 이물 검출이 복수 회 행해진다.
그리고, 제어부(M)는 복수 회 행해진 이물 검출의 결과에 기초하여, 제 1 공급 관로(250a) 내의 레지스트액의 상태 즉 레지스트액 보틀(201)의 상태의 판정을 행한다.
상기 판정 결과, 예를 들면 이물 검출부(208)에 의해 검출된 이물의 수의 평균치가 정해진 값 미만이며, 제 1 공급 관로(250a) 내의 레지스트액의 상태 즉 레지스트액 보틀(201)의 상태가 양호라고 판정되었다 하자. 이 경우, 제어부(M)는, 도 22에 나타내는 바와 같이 개폐 밸브(V1, V2)를 재차 개방 상태로 하고, 또한 개폐 밸브(V32)를 폐쇄 상태로 하고, 사방 밸브(V31)의 상태를 전환하여, 제 1 공급 관로(250a)의 상류측의 부분과 제 1 공급 관로(250a)의 하류측 부분이 통하는 상태로 한다. 또한, 펌프(220)의 동작을 정지시킨다. 이에 의해, 레지스트액 보틀(201) 내의 레지스트액을 버퍼 탱크(202)로 공급하여 보충한다.
한편 상기 판정 결과, 예를 들면 이물 검출부(208)에 의해 검출된 이물의 수의 평균치가 정해진 값 이상이며, 제 1 공급 관로(250a) 내의 레지스트액의 상태 즉 레지스트액 보틀(201)의 상태가 불량이라고 판정되었다 하자. 이 경우, 도 23에 나타내는 바와 같이 사방 밸브(V31)를 전환하여, 제 1 공급 관로(250a)의 상류측의 부분과 배액 관로(256)가 통하는 상태로 한다. 이에 의해, 복귀 관로(259)를 포함하는 전술한 순환로 내의 레지스트액이 배액 관로(256)를 거쳐 배액된다. 또한 이 배액과 함께, 레지스트액 보틀(201)을 교환해야 하는 취지의 알림을 표시부 등을 이용하여 행하는 것이 바람직하다.
본 실시 형태에서는, 상술한 바와 같이 복수 회 행해진 이물 검출의 결과에 기초하여 레지스트액 보틀(201)의 상태의 판정을 행하기 때문에, 보다 정밀도 좋게 상기 판정을 행할 수 있다.
<제 5 실시 형태>
도 24는 제 5 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
본 실시 형태의 레지스트액 공급 장치(200)는, 도 24에 나타내는 바와 같이 제 3 실시 형태에 따른 레지스트액 공급 장치의 구성에 더하여, 제 2 공급 관로(250b)에 있어서의 필터(203)의 일차측과 이차측 각각에 이물 검출부(230, 231)가 마련되어 있다. 이물 검출부(230, 231)의 구성은 이물 검출부(208)와 동일하다.
본 발명자들의 검토에 따르면, 필터(203)로 레지스트액을 여과한 경우, 여과하기 전의 레지스트액에 포함되는 파티클의 수에 대한, 여과된 레지스트액에 포함되는 파티클의 수의 비는, 필터(203)의 성능이 변함없으면 일정하지만, 필터(203)의 성능이 열화되면 커진다.
따라서 본 실시 형태에서는, 전술한 바와 같이, 제 2 공급 관로(250b)에 있어서의 필터(203)의 일차측과 이차측 각각에 이물 검출부(230, 231)를 마련하고, 제어부(M)가 일차측의 이물 검출부(230)에서의 검출 결과와 이차측의 이물 검출부(231)에서의 검출 결과에 기초하여 필터(203)의 성능을 판정한다.
예를 들면, 일차측의 이물 검출부(230)에서 검출된 파티클의 수가 일정 수준 이하인 경우에, 일차측의 이물 검출부(230)에서의 파티클의 검출수에 대한 이차측의 이물 검출부(231)에서의 파티클의 검출수의 비가 정해진 값 이상인 경우는, 제어부(M)는 필터(203)의 제거 성능이 열화되었다고 판정한다. 제거 성능이 열화되었다고 판정된 경우, 제어부(M)는 필터(203)를 교환해야 하는 취지의 알림 또는 더미 디스펜스 간격을 단축해야 하는 취지의 알림을 표시부 등을 이용하여 행하거나, 더미 디스펜스 간격을 짧은 것으로 변경한다.
또한, 예를 들면 일차측의 이물 검출부(230)로 검출된 파티클의 수가 일정 수준보다 큰 경우는, 레지스트액 보틀(201)의 청정도가 나쁜 것이 상정된다. 이 때문에, 제어부(M)는 토출 동작이 계속되도록 제어하면서 약액 보틀을 교환해야 하는 취지의 알림이 되도록 제어하거나, 토출 동작이 행해지지 않도록 제어하면서 동일한 알림이 되도록 제어한다.
또한, 도시 및 상세한 설명은 생략하지만, 제 1 실시 형태 및 제 2 실시 형태의 레지스트액 공급 장치 및 후술의 실시 형태의 액 공급 장치에 대해서도, 필터(203)의 일차측과 이차측에 이물 검출부를 마련하여, 본 실시 형태와 동일하게 판정을 행해도 된다.
이상의 제 1 ~ 제 5 실시 형태에 따른 설명에서는, 도포액은 레지스트액인 것으로 했지만, 도포액은 이에 한정되지 않고, 예를 들면 SOC(Spin On Carbon)막 또는 SOD(Spin on Dielectric)막, SOG(Spin on Glass)막을 형성하기 위한 도포액 등이어도 된다.
<제 6 실시 형태>
본 실시 형태에 따른 액 공급 장치는, 제 1 실시 형태에 따른 액 공급 장치 등과 달리, 처리액으로서, 비폴리머액으로 이루어지는 현상액 등을 공급한다. 또한 제 1 실시 형태에서는, 처리액으로서의 레지스트액은 레지스트액 보틀로부터 액 공급 장치에 보충되고 있었지만, 본 실시 형태에서는, 처리액으로서의 상기 현상액 등은, 액 공급 장치가 설치된 공장 등의 공간에 배설된 외부 배관로를 거쳐 보충된다.
(확인 시험 3)
공장 등에 배설된 외부 배관로를 거쳐 액 공급 장치에 처리액이 보충되는 경우, 공장의 기동 시 또는 상기 외부 배관로의 공사 직후 등에, 웨이퍼 상에 토출된 현상액 등의 비폴리머의 처리액에 파티클이 많이 포함되는 경우가 있다. 이 점 등으로부터, 본 발명자들은, 외부 배관로를 거쳐 보충되는 현상액 등의 처리액 중의 파티클수와 이 파티클수가 액 공급 장치로부터 공급되고 토출되는 처리액의 품질에 주는 영향에 대하여 확인을 행했다. 또한 이 확인 시험에서는, 액 공급 장치로서 후술의 도 26의 액 공급 장치(400)와 동일한 것을 이용했다.
도 25는 확인 시험 3의 결과를 나타내는 도이다. 도면 중 횡축은, 외부 배관로를 거쳐 보충되는 처리액 중의 파티클의 수로서, 액 공급 장치에 있어서의 필터의 상류측에 마련된, 광에 의한 이물 검출을 행하는 이물 검출부에서 검출된 수를 나타내고 있다. 또한 종축은, 외부 배관로를 거쳐 보충되고 필터를 거쳐 토출 노즐로 공급되고 웨이퍼 상에 토출된 처리액 중의 파티클의 수로서, 표면 이물 검사 장치에서의 검사에 의해 관측된 수를 나타내고 있다. 또한, 이물 검출부에서는 200 nm 이상의 큰 파티클을 검출하고, 표면 이물 검사 장치에서는 40 nm 이상의 작은 파티클을 검출했다. 또한, 본 확인 시험에서 이용된 처리액은 포지티브형 현상액이다.
도 25에 나타내는 바와 같이, 외부 배관로를 거쳐 보충된 처리액의 토출을 필터를 거쳐 행해도, 토출된 처리액에는 작은 파티클이 포함된다. 또한, 외부 배관로를 거쳐 보충되는 처리액에 포함되는 이물 검출부에서 검출된 큰 파티클의 수와, 필터를 거쳐 웨이퍼 상에 토출된 처리액에 포함되는 표면 이물 검사 장치로 검출된 작은 파티클의 수는 비례 관계에 있다.
또한 상기의 확인 시험의 결과로부터, 외부 배관로를 거쳐 보충되는 처리액에 정해진 수 이상의 많은 파티클이 포함되는 경우, 처리액에 포함되는 파티클의 수를 필터로 허용 범위까지 저감시킬 수 없는 것이 예측된다.
이하에 설명하는 제 6 실시 형태는 이상의 검토 결과에 근거한 것이다.
도 26은 본 실시 형태에 따른 액 공급 장치(400)의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다. 또한, 액 공급 장치(400)는 예를 들면 미도시의 케미컬실 내에 마련되어 있다. 케미컬실이란, 각종 처리액을 액 처리 장치에 공급하기 위한 것이다.
도 26의 액 공급 장치(400)는, 토출 노즐(142)에 접속된 공급 관로로서, 처리액 공급 관로(450)를 구비하고 있다. 본 실시 형태에 있어서, 처리액 공급 관로(450)는 토출 노즐(142)과는 반대측의 단부가, 처리액의 도입구(401)에 접속되어 있다. 또한, 처리액 공급 관로(450)가 접속되는 상기 도입구(401)는, 액 공급 장치(400)가 설치되는 공장 등의 공간에 배설되는 외부 배관로(S)에 접속되어 있다.
따라서, 처리액 공급 관로(450)는 토출 노즐(142)과는 반대측의 단부가 외부 배관로(S)에 접속되어 있다.
처리액 공급 관로(450)에는, 외부 배관로(S)를 거쳐 처리액으로서의 현상액이 공급된다.
또한, 처리액 공급 관로(450)에는 버퍼 탱크(202), 필터(203), 펌프(402)가 상류측으로부터 이 순서로 개재 마련되어 있다.
처리액 공급 관로(450)는 도입구(401)와 버퍼 탱크(202)를 접속하는 제 1 공급 관로(450a), 버퍼 탱크(202)와 펌프(402)를 접속하고 필터(203)가 개재 마련된 제 2 공급 관로(450b), 펌프(402)와 토출 노즐(142)을 접속하는 제 3 공급 관로(450c)를 가진다.
제 1 공급 관로(450a)에는 주개폐 밸브(V41)와 개폐 밸브(V42)가 상류측으로부터 이 순서로 마련되어 있다.
제 2 공급 관로(450b)에서는, 버퍼 탱크(202)와 필터(203) 사이에 개폐 밸브(V43)가 마련되어 있다.
제 3 공급 관로(250c)는 공급 제어 밸브(206)가 개재 마련되어 있다.
외부 배관로(S)를 거쳐 보충된 현상액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크(202)에는 저류 잔량을 검출하는 액면 센서(도시하지 않음)가 마련되어 있고, 해당 액면 센서로의 검출 결과 등에 따라 주개폐 밸브(V41)와 개폐 밸브(V42)가 개폐되어, 버퍼 탱크(202)로의 현상액의 보충이 개시/정지된다.
필터(203)는 현상액을 여과하여 파티클을 제거한다.
펌프(402)는 현상액을 흡입, 송출하는 것이며, 예를 들면 가변 용량 펌프인 다이어프램 펌프로 구성된다.
또한, 액 공급 장치(400)는 도입구(401)와 버퍼 탱크(202)를 접속하는 제 1 공급 관로(450a)에 위치하는 분기점으로부터 분기하는 분기 관로(451)를 가진다. 분기 관로(451)가 분기하는 분기점이 위치하는 제 1 공급 관로(450a)는, 필터(203)보다 상류측의 버퍼 탱크(202)와 도입구(401)를 접속하는 것이다. 즉, 분기 관로(451)가 분기하는 분기점은, 필터(203)보다 상류측의 버퍼 탱크(202)와 도입구(401) 사이에 위치한다.
또한 분기 관로(451)에는, 당해 분기 관로(451) 내의 현상액에 포함되는 이물을 검출하기 위하여, 이물 검출부(208)가 마련되어 있다. 이물 검출부(208)가 검출 대상으로 하는 이물의 크기는 100 nm 레벨 이상이다.
또한, 분기 관로(451)는 복수의 배관로(451a, 451b)로 분기되어 있다. 복수의 배관로(451a, 451b) 중, 연직 방향 상방에 위치하는 배관로(451a)에는 개폐 밸브(V44)가 마련되어 있다. 복수의 배관로(451a, 451b) 중, 연직 방향 하방에 위치하는 배관로(451b)는, 배관로(451a)에 있어서의 개폐 밸브(V44)의 상류측의 부분과 배관로(451a)에 있어서의 개폐 밸브(V44)의 하류측의 부분을 접속하도록 마련되어 있다. 이 배관로(451b)에 상술한 이물 검출부(208)가 마련되어 있다. 또한, 배관로(451b)에 있어서의 이물 검출부(208)의 하류측의 부분에는 유량계(403)가 마련되어 있다.
또한 분기 관로(451)에는, 복수의 배관로(451a, 451b)로의 분기점보다 상류측의 부분에, 유량 제어 밸브(404), 유량계(405)가 상류측으로부터 이 순서로 개재 마련되어 있다.
또한, 분기 관로(451)에 공급된 현상액은, 제 1 공급 관로(450a)와는 반대측의 단부로부터 배출된다.
이어서 도 27 ~ 도 33에 기초하여, 액 공급 장치(400)의 동작에 대하여 설명한다. 또한, 이하의 도면에서는 현상액이 유통하고 있는 관을 굵은 선으로 나타냄으로써, 일부의 밸브의 개폐 상태에 대해서는 설명을 생략한다.
(외부 배관로(S)의 기동)
도 27에 나타내는 바와 같이, 제어부(M)로부터의 제어 신호에 기초하여, 제 1 공급 관로(450a)에 개재 마련된 주개폐 밸브(V41)를 개방 상태로 한다. 그와 함께, 유량 제어 밸브(404)의 개방도를 크게 하여 예를 들면 전체 개방 상태로 하고, 배관로(451a)에 마련된 개폐 밸브(V44)는 개방 상태로 한다. 이에 의해, 외부 배관로(S)로부터 공급되고 보충된 현상액을 분기 관로(451)를 거쳐 배출하고, 퍼지를 행한다.
(기동 종료 판정)
예를 들면 외부 배관로(S)의 기동 처리 개시부터 정해진 시간 경과 후에, 도 28에 나타내는 바와 같이, 배관로(451a)에 마련된 개폐 밸브(V44)를 폐쇄 상태로 한다. 이와 함께, 분기 관로(451)에 정해진 유량(예를 들면(10) ml / min)의 현상액이 유통하도록, 유량계(405)에서의 측정 결과에 기초하여, 유량 제어 밸브(404)의 개방도를 조정한다.
그리고, 제어부(M)는 이물 검출부(208)에 의한 검출 결과에 기초하여, 분기 관로(451) 내의 현상액의 상태, 구체적으로, 배관로(451b) 내의 현상액의 상태에 대하여, 판정을 행한다.
판정 결과, 예를 들면 이물 검출부(208)에 의해 검출된 이물의 수가 정해진 값 이상이며, 배관로(451b) 내의 현상액의 상태 즉 외부 배관로(S)를 거쳐 보충된 현상액의 상태가 불량이라고 판정된 경우, 도 27의 상태로 되돌려, 외부 배관로(S)의 기동 처리를 재차 행한다.
예를 들면, 기동 처리에 의해 외부 배관로(S)로부터 공급된 현상액의 충분한 배출이 행해지면, 외부 배관로(S)를 거쳐 보충되는 현상액의 세정도가 상승하고, 이물 검출부(208)에 의해 검출된 이물의 수가 정해진 값 미만이 된다. 그러면, 배관로(451b) 내의 현상액의 상태 즉 외부 배관로(S)를 거쳐 보충된 현상액의 상태가 양호라고 판정되어, 버퍼 탱크(202)에 대한 현상액의 보충이 행해진다.
상술한 바와 같이 하여, 본 실시 형태에서는, 외부 배관로(S)를 거쳐 보충되는 현상액의 상태가 불량이라고 판정된 경우에, 버퍼 탱크(202)에 대한 당해 현상액의 보충을 제한하고 있다.
또한, 이물 검출부(208)에는 적정한 검출 결과가 얻어지는 현상액의 유량의 범위가 정해져 있는 바, 현상액의 상태의 판정에 있어, 배관로(451b) 내의 현상액의 유량이 상기 범위에 들어가 있는지의 확인을 위하여, 유량계(403)에 의한 유량의 측정이 행해진다.
(버퍼 탱크(202)에 대한 보충)
버퍼 탱크(202)에 대한 보충 시에는, 도 29에 나타내는 바와 같이 유량 제어 밸브(404)를 폐쇄 상태로 하고, 개폐 밸브(V42)를 개방 상태로 한다. 이에 의해, 외부 배관로(S)를 거쳐 보충된 현상액을 버퍼 탱크(202)에 보충한다.
(토출)
버퍼 탱크(202) 내에 정해진 양의 레지스트액이 보충되면, 도 30에 나타내는 바와 같이 개폐 밸브(V41, V42)를 폐쇄 상태로 한다. 그리고, 개폐 밸브(V43) 및 공급 제어 밸브(206)를 개방 상태로 하고, 또한 펌프(402)를 구동한다. 이에 의해, 버퍼 탱크(202) 내의 현상액이 토출 노즐(142)을 거쳐 웨이퍼(W)에 토출된다.
통상 동작 시에는, 상술한 버퍼 탱크(202)에 대한 보충 공정과 토출 공정이 반복된다.
본 실시 형태에서는, 상술한 바와 같이, 외부 배관로(S)측의 단부인 도입구(401)와 필터(203) 사이에 위치하는 분기점으로부터 분기하는 분기 관로(451)가 마련되어 있다. 그리고, 제어부(M)가 외부 배관로(S)를 거쳐 보충되는 현상액의 상태를 분기 관로(451) 내의 현상액의 상태로 판정한다. 또한 판정 결과, 외부 배관로(S)를 거쳐 보충되는 현상액의 상태가 불량인 경우, 제어부(M)는 상기 현상액이 버퍼 탱크(202)에 보충되지 않고 배액되도록 제어 신호를 출력한다.
따라서 본 실시 형태에 따르면, 외부 배관로(S)를 거쳐 보충되는 현상액에 의해, 액 공급 장치(400)의 버퍼 탱크(202) 및 당해 버퍼 탱크(202)보다 하류측의 부분이 오염되지 않는다. 따라서 본 실시 형태에 따르면, 외부 배관로(S)를 거쳐 보충되는 현상액의 상태에 관계없이 해당 현상액을 버퍼 탱크(202)로 송출하는 경우에 비해, 보다 청정한 현상액을 공급할 수 있다. 또한 본 실시 형태에 따르면, 공급하는 현상액을 항상 청정한 것으로 할 수 있다.
또한 전술한 바와 같이, 분기 관로(451)가 분기하는 분기점은, 보다 구체적으로, 필터(203)보다 상류측의 버퍼 탱크(202)와 도입구(401) 사이에 위치한다. 따라서 보다 확실하게, 청정한 현상액을 버퍼 탱크(202)로 공급할 수 있고, 또한 버퍼 탱크(202) 내에 저류되어 있던 현상액을 불량액으로 하는 리스크를 줄일 수 있다.
또한 본 실시 형태에서는, 분기 관로(451)에 마련된 이물 검출부(208)를 이용하여, 외부 배관로(S)의 기동이 완료되었는지 여부를 판정하고 있다. 이 이외의 판정 방법으로서, 분기 관로(451) 및 이물 검출부(208)를 마련하지 않고, 외부 배관로(S)를 거쳐 보충된 현상액을 토출 노즐(142)을 거쳐 웨이퍼 상에 토출하고, 토출된 현상액의 표면 이물 검사 장치에서의 검사 결과에 기초하여 기동 완료를 판정하는 방법이 상정된다. 이 방법에 비해, 본 실시 형태에 따른 판정 방법은, 웨이퍼 상에의 현상액의 토출 및 표면 이물 검사 장치를 이용한 검사가 불필요하다. 이 때문에, 외부 배관로(S)의 기동에 요하는 시간을 단축할 수 있다.
또한, 외부 배관로(S)의 기동이 완료되었는지 여부의 판정에 이용하는 임계치는, 예를 들면 이하와 같이 하여 결정된다. 먼저, 이물 검출부(208)로 검출되는 분기 관로(451) 내의 현상액에 포함되는 파티클수와, 표면 이물 검사 장치로 검출되는 웨이퍼 상에 토출된 현상액에 포함되는 파티클수와의 상관을 취득한다. 그리고, 표면 이물 검사 장치로 검출되는 웨이퍼 상에 토출된 현상액에 포함되는 파티클수에 대하여 설정되어 있는 관리치와 상기 상관으로부터, 상기 임계치를 결정한다. 또한, 상기 상관은 액 공급 장치(400)가 설치되는 공장(퍼실리티)마다, 처리액종마다 취득된다.
또한 본 실시 형태에 있어서, 외부 배관로(S)를 거쳐 보충되는 현상액의 상태의 판정에 이용되는, 이물 검출부(208)가 검출 대상으로 하는 이물의 크기는 100 nm 레벨 이상이어도 된다. 따라서, 검출 대상으로 하는 이물의 크기가 10 nm 레벨로 작은 경우에 비해 이물 검출부(208)로서 염가의 것을 이용할 수 있어, 저비용화를 도모할 수 있다.
본 실시 형태에서는, 복수의 배관로(451a, 451b) 중 연직 방향 하방에 위치하는 배관로(451b)에 이물 검출부(208)가 마련되어 있다. 따라서, 분기 관로(451)에 공급되는 현상액에 기포가 포함되어 있는 경우, 상기 기포는, 연직 방향 상방에 위치하는 배관로(451a)로 유도되기 때문에, 배관로(451b) 및 이물 검출부(208)로 유도되지 않는다. 따라서, 이물 검출부(208)에서 상기 기포를 파티클로서 오검지하지 않는다.
또한, 상기 기포는 배관로(451a)에 축적되기 때문에, 당해 배관로(451a)에 마련된 개폐 밸브(V44)는 정기적으로 개방 상태가 된다.
또한 이상의 예에서는, 외부 배관로(S)의 기동이 완료되었는지 여부의 판정 시에만, 이물 검출부(208)가 마련된 분기 관로(451)로 현상액을 흘려 외부 배관로(S)로부터 보충되는 현상액의 청정도에 대하여 판정을 행하고 있었다.
이 현상액의 청정도의 판정은, 버퍼 탱크(202)에 대한 현상액의 보충 타이밍에 따라 행해도 된다. 예를 들면, 버퍼 탱크(202)에 대한 보충 전에, 상술한 현상액의 청정도의 판정을 매회 행하도록 해도 되고, 정해진 보충 횟수 경과마다 행하도록 해도 된다.
또한 버퍼 탱크(202)에 보충할 시에, 도 31에 나타내는 바와 같이, 외부 배관로(S)로부터의 현상액을 분기 관로(451)로 유통시키도록 하여, 상술한 현상액의 청정도의 판정을 당해 보충 중에 행하도록 해도 된다.
이 경우, 상기 청정도의 판정 결과, 외부 배관로(S)를 거쳐 보충되는 현상액이 불량이라고 판정되게 되었을 때에는, 버퍼 탱크(202)에 대한 현상액의 보충을 중단한다. 그리고, 다시 청정도가 높아질 때까지, 외부 배관로(S)의 기동 처리 즉 퍼지를 재차 행하도록 해도 된다.
또한, 외부 배관로(S)로부터의 현상액의 청정도의 판정은, 버퍼 탱크(202)에 대한 보충 타이밍에 관련되지 않고 정기적으로(예를 들면 10 분간에 1 회) 행하도록 해도 된다.
또한, 버퍼 탱크(202)에 대한 현상액의 보충 중에, 분기 관로(451)로 현상액을 공급하고 상술한 바와 같이 외부 배관로(S)로부터의 현상액의 청정도를 판정하는 경우, 분기 관로(451)에 흐르는 현상액의 유량이 버퍼 탱크(202)에 흐르는 현상액의 유량보다 작아지도록, 유량 제어 밸브(404)의 개방도는 조정된다. 이에 의해 버퍼 탱크(202)에 대한 보충 효율의 저하를 방지할 수 있다.
또한, 외부 배관로(S)로부터의 현상액의 상태가 불량이라고 판정된 경우, 이상의 예에서는, 제어부(M)는 당해 현상액을 배액하도록 제어 신호를 출력하고 있었다. 제어부(M)는 이 제어 신호에 더하여, 또는 이 제어 신호 대신에, 현상액의 상태에 따라, 당해 상태가 방치되도록 제어 신호를 출력하도록 해도 된다. 구체적으로, 외부 배관로(S)로부터의 현상액이 불량인 취지의 알림이 표시부 등을 개재하여 행해지도록 제어 신호와 출력하도록 해도 된다.
또한 본 실시 형태에서는, 분기 관로(451)에만 이물 검출부(208)가 마련되어 있었지만, 분기 관로(451)가 분기하는 분기점보다 하류측에, 구체적으로 필터(203)보다 하류측에, 다른 이물 검출부를 마련해도 된다. 당해 다른 이물 검출부가 이물을 검출하는 현상액은 필터(203)의 통과 후의 것이기 때문에, 당해 다른 이물 검출부가 검출 대상으로 하는 이물의 크기는 10 nm레벨(10 ~ 80 nm) 이상이다. 이물 검출부(208)에는, 당해 다른 이물 검출부 정도의 높은 검출 정밀도는 불필요하며, 이물 검출부(208)가 검출 대상으로 하는 이물의 크기는, 예를 들면 전술한 바와 같이 100 nm레벨 이상이다. 이하, 이 구성을 채용하는 이유를 설명한다.
프로세스에 영향이 없을 정도까지 이물을 억제하는 수단이 마련되어 있지 않은 공장 공급측 설비에서는, 검출 정밀도가 높을수록 검출 개수가 안정되지 않는다. 이와 같이 검출 개수가 안정되지 않으면 현상액의 청정도 판정이 곤란하다. 이 때문에, 이물 검출부(208)의 검출 대상은,필터(203)의 하류측에 마련되는 다른 이물 검출부의 것보다 큰 100 nm 레벨로 하고 있다.
또한, 상기 다른 이물 검출부는 예를 들면 필터(203)와 공급 제어 밸브(206) 사이에 마련된다.
<제 7 실시 형태>
도 32는 제 7 실시 형태에 따른 액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다. 본 실시 형태의 액 공급 장치(400)는, 도 32에 나타내는 바와 같이 제 6 실시 형태에 따른 액 공급 장치의 구성에 더하여, 복귀 관로(452)를 가진다. 복귀 관로(452)는 제 3 공급 관로(450c)에 있어서의 공급 제어 밸브(206)의 상류측에 위치하는 분기점으로부터 분기하고, 버퍼 탱크(202)로 돌아오는 관로이다.
이 복귀 관로(452)에는 개폐 밸브(V45)가 마련되어 있다.
(다중 여과 처리)
본 실시 형태의 액 공급 장치에서는, 버퍼 탱크(202)에 대한 현상액의 보충 공정 후, 토출 공정 전에, 다중 여과 처리 공정을 행한다.
다중 여과 처리 공정에서는, 공급 제어 밸브(206)를 폐쇄 상태로 한 채로, 개폐 밸브(V43) 및 개폐 밸브(V45)를 개방 상태로 한다. 그리고, 펌프(402)를 구동시킴으로써, 버퍼 탱크(202) 내의 현상액이 필터(203)에 여과되면서, 복귀 관로(452)를 거쳐 순환한다. 이 순환을 거듭함으로써, 즉, 필터(203)에 의한 여과를 거듭함으로써, 버퍼 탱크(202) 내의 현상액의 청정도가 높아진다.
본 실시 형태에서는, 예를 들면 이물 검출부(208)에서의 검출 결과에 기초하는 판정 결과, 외부 배관로(S)로부터의 현상액의 청정도가 낮지만 배액할 정도로 낮지는 않은 경우, 제어부(M)는 이하와 같은 제어를 행한다. 예를 들면, 제어부(M)는 상기 청정도에 따라, 상술한 다중 여과 처리 공정에서의 필터(203)에 의한 여과 횟수를 결정한다. 이에 의해, 버퍼 탱크(202) 내의 현상액의 청정도를 프로세스에 적합한 청정도로 할 수 있다.
<제 8 실시 형태>
도 33은 제 8 실시 형태에 따른 액 공급 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다. 본 실시 형태의 액 공급 장치(400)는, 도 33에 나타내는 바와 같이 제 7 실시 형태에 따른 액 공급 장치의 구성에 더하여, 다른 이물 검출부(406)를 가진다. 이물 검출부(406)는 제 1 공급 관로(450a)에 있어서의 주개폐 밸브(V41)와 개폐 밸브(V42) 사이에 위치하는 분기점보다 하류측, 구체적으로 필터(203)를 통과한 현상액이 통과하는 복귀 관로(452)에 마련되어 있다. 이물 검출부(406)와 이물 검출부(208)는 동일한 구성을 가진다.
본 실시 형태에서는, 예를 들면 이물 검출부(406)에서의 검출 결과에 기초하는 판정 결과, 복귀 관로(452) 내의 현상액의 상태가 불량이라고 판정된 경우, 제어부(M)는 분기 관로(451)에 마련된 이물 검출부(208)에서의 검출 결과에 따라, 처리액 개선 처리의 조건을 결정한다.
구체적으로, 예를 들면 복귀 관로(452) 내의 현상액의 상태가 불량이라고 판정되고, 이물 검출부(208)에서 임계치 이상의 파티클수가 검출된 경우, 복귀 관로(452) 내의 현상액의 상태가 불량인 원인은 외부 배관로(S)의 상태에 있다고 상정된다. 따라서 이 경우, 제어부(M)는 전술한 외부 배관로(S)의 기동 공정이 행해지는 제어 신호를 출력한다.
한편, 복귀 관로(452) 내의 현상액의 상태가 불량이라고 판정되고, 분기 관로(451)에 마련된 이물 검출부에서 임계치 이상의 파티클수가 검출되지 않았던 경우, 현상액의 상태가 불량인 원인은 액 공급 장치(400) 내에 있다고 상정된다. 따라서 이 경우, 제어부(M)는, 예를 들면 전술한 다중 여과 처리 공정이 행해지는 제어 신호를 출력한다.
이와 같이, 본 실시 형태에 따르면, 이물 발생의 원인 개소를 특정할 수 있기때문에, 공급하는 처리액의 재청정화 즉 리커버리에 요하는 시간을 단축할 수 있다.
제 6 ~ 제 8 실시 형태와 같이, 분기 관로(451)를 마련하고 분기 관로(451)에 이물 검출부(208)를 마련하는 경우, 제어부(M)는 이물 검출부(208)에서의 이물 검출 결과의 경시 변화에 기초하여 이물 발생 모드를 특정하고, 특정한 이물 발생 모드에 따른 제어를 행해도 된다. 예를 들면, 이물 검출부(208)에서 검출되는 파티클수가 완만하게 증가한 경우, 필터(203)의 열화가 원인이라고 상정된다. 이 때문에, 이 경우, 제어부(M)는 외부 배관로(S)의 퍼지 또는 전술한 다중 여과 처리에서는 개선 불가능한 이물 발생 모드로서 특정한다. 이와 같이 개선 불가능한 이물 발생 모드를 특정한 경우, 그 취지의 알림이 표시부 등을 개재하여 행해지도록 제어부(M)는 제어한다.
제 8 실시 형태 등과 같이, 필터(203)로 여과된 처리액의 이물을 검출하는 이물 검출부(406)를 마련하는 경우, 제어부(M)는 이물 검출부(406)에서의 이물 검출 결과의 경시 변화에 기초하여 이물 발생 모드를 특정하고, 특정한 이물 발생 모드에 따른 제어를 행해도 된다. 예를 들면, 이물 검출부(406)에서 검출되는 파티클수가 완만하게 증가한 경우, 외부 배관로(S)에 마련되어 있는 필터의 열화가 원인이라고 상정된다. 이 때문에, 이 경우, 제어부(M)는 전술한 다중 여과 처리에서는 개선 불가능한 이물 발생 모드로서 특정한다. 이와 같이 개선 불가능한 이물 발생 모드를 특정한 경우, 그 취지의 알림이 표시부 등을 개재하여 행해지도록 제어부(M)는 제어한다.
이상의 제 6 ~ 제 8 실시 형태에 대한 설명에서는, 처리액은 현상액인 것으로 했지만, DIW 등이어도 된다.
이상의 제 6 ~ 제 8 실시 형태는, 외부 배관으로부터 처리액이 공급되는 형태이며, 제 1 공급 관로(450a)에 있어서의, 외부 배관로(S)측의 단부인 도입구(401)와 필터(203) 사이의 위치에 분기점이 마련되고, 당해 분기점에 분기 관로(451)가 접속되어 있었다. 그리고, 이 분기 관로(451)에 이물 검출부(208)가 마련되어 있었다.
이상의 제 6 ~ 제 8 형태와 달리 외부 배관으로부터가 아닌 현상액 보틀 등의 처리액 보틀로부터 처리액이 공급되는 형태라도, 이상의 제 6 ~ 제 8과 마찬가지로 분기 관로를 마련하고, 당해 분기 관로에 이물 검출부(208)를 마련해도 된다. 구체적으로, 처리액 보틀과 버퍼 탱크를 접속하는 공급 관로(도 6의 부호(250a) 참조)에 분기 관로를 마련하고, 당해 분기 관로에 이물 검출부(208)를 마련하도록 해도 된다. 그리고 이상의 제 6 ~ 제 8 실시 형태와 마찬가지로, 이물 검출부(208)에서의 검출 결과에 기초하여, 약액 보틀로부터 버퍼 탱크로의 공급의 가부(可否)를 판정하도록 해도 된다. 왜냐하면, 처리액 보틀로부터 버퍼 탱크로 처리액을 공급하는 경우, 처리액 보틀의 교환 또는 처리가 장기간 정지했을 때에 처리액의 상태가 변화할 가능성이 있기 때문이다.
즉, 외부 배관으로부터 처리액이 공급되는 경우에 한정되지 않고, 약액 보틀 등의 교환될 수 있는 용기로부터 처리액이 공급되는 경우에도, 제 6 ~ 제 8 실시 형태와 같은 효과를 얻을 수 있다.
이상의 설명에서는, 피처리체는 반도체 웨이퍼인 것으로 했지만, 피처리체는 이에 한정되지 않고, 예를 들면 글라스 기판, FPD(Flat Panel Display) 기판 등이어도 된다.
금회 개시된 실시 형태는 모든 점에서 예시로 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 상기의 실시 형태는 첨부한 청구의 범위 및 그 주지를 일탈하지 않고, 다양한 형태로 생략, 치환, 변경되어도 된다.
(1) 피처리체에 처리액을 토출하는 처리액 토출부로 처리액을 공급하는 액 공급 장치로서,
상기 처리액 토출부에 접속된 공급 관로와,
상기 공급 관로에 개재 마련되고 상기 처리액을 여과하여 이물을 제거하는 필터와,
상기 필터의 일차측으로 공급되는 처리액의 상태에 대하여 판정을 행하고, 또한 상기 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우는, 상기 필터의 일차측으로의 당해 처리액의 공급을 제한하는 제어 신호를 출력하도록 구성된 제어부를 구비한다.
상기 (1)에 따르면, 미세한 반도체 디바이스의 제조에 적합한 청정도의 처리액을 공급할 수 있다.
(2) 상기 (1)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 처리액은, 피처리체 상에 도포막을 형성하기 위한 도포액이며,
당해 액 공급 장치는,
상기 공급 관로에 있어서의 상기 필터의 이차측의 부분과, 상기 공급 관로에 있어서의 상기 필터의 일차측의 부분을 접속하는 복귀 관로와,
해당 복귀 관로 상의 분기점으로부터 분기하여 상기 공급 관로와는 상이한 장소에 이르는 배액 관로를 구비하고,
상기 제어부는,
상기 필터로 여과된 도포액이 상기 복귀 관로로 송출되는 제어 신호를 출력하고,
상기 판정으로서, 상기 복귀 관로 내의 도포액의 상태의 판정을 행하고,
상기 복귀 관로 내의 도포액의 상태가 양호라고 판정된 경우는 상기 복귀 관로 내의 도포액이 상기 공급 관로에 있어서의 상기 필터의 일차측의 부분으로 되돌려지는 제어 신호를 출력하고,
상기 복귀 관로 내의 도포액의 상태가 불량이라고 판정된 경우는 상기 복귀 관로 내의 도포액이 상기 배액 관로로부터 배액되는 제어 신호를 출력하도록 구성되어 있다.
상기 (2)에 따르면, 상기 복귀 관로로 송출된, 필터로 여과된 도포액의 상태의 판정을 행하고, 판정 결과에 기초하여, 상기 도포액을 공급 관로에 있어서의 필터의 일차측으로 되돌리거나 배액하고 있다. 이 때문에, 도포액의 소비량을 억제하면서, 보다 청정한 도포액을 공급할 수 있다.
(3) 상기 (2)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 도포액에 포함되는 이물을 검출하는 이물 검출부가, 상기 복귀 관로에 있어서의 상기 분기점보다 상류측에 개재 마련되고,
상기 제어부는, 상기 이물 검출부에 의한 검출 결과에 기초하여, 상기 복귀 관로 내의 도포액의 상태의 판정을 행하도록 구성되어 있다.
(4) 상기 (2)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 제어부는,
상기 처리액 토출부로부터 더미 토출이 정기적으로 행해지도록 제어 신호를 출력하고,
상기 더미 토출의 간격에 기초하여 정해지는 기간을 경과했는지 여부에 기초하여, 상기 복귀 관로 내의 도포액의 상태의 판정을 행하도록 구성되어 있다.
(5) 상기 (2)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 도포액에 포함되는 이물을 검출하는 다른 이물 검출부가, 상기 공급 관로에 있어서의 상기 필터의 일차측과 이차측의 양방에 개재 마련되고,
상기 제어부는, 상기 다른 이물 검출부에 의한 검출 결과에 기초하여, 상기 필터 상태의 판정을 행하도록 구성되어 있다.
(6) 상기 (1)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 처리액은, 피처리체 상에 도포막을 형성하기 위한 도포액이며,
상기 공급 관로는, 상기 처리액 토출부와는 반대측의 단부가, 상기 도포액이 저류된 공급원에 접속되고,
당해 액 공급 장치는,
상기 공급 관로 상의 상기 필터의 일차측에 위치하는 분기점으로부터 분기하는 배액 관로와,
상기 공급 관로에 있어서의 상기 분기점의 상류측에 개재 마련되고, 당해 공급 관로 내의 도포액에 포함되는 이물을 검출하는 이물 검출부를 구비하고,
상기 제어부는,
상기 판정으로서, 상기 이물 검출부의 검출 결과에 기초하여, 상기 공급원의 상태의 판정을 행하고,
상기 공급원의 상태가 양호라고 판정된 경우에만, 상기 공급원 내의 도포액이 상기 필터의 일차측으로 공급되는 제어 신호를 출력하도록 구성되어 있다.
상기 (6)에 따르면, 공급 관로에 있어서의 배기 관로로의 분기점보다 상류측에 마련된 이물 검출부에서의 검출 결과에 기초하여, 도포액 공급원 내의 도포액의 상태의 판정을 행하고, 해당 판정 결과에 기초하여 상기 도포액을 공급 관로의 하류측으로 공급하거나 배액하고 있다. 이 때문에, 보다 청정한 도포액을 공급할 수 있다.
(7) 상기 (6)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 공급 관로에 있어서의 상기 이물 검출부의 일차측과 이차측을 접속하는 순환 관로를 가지고,
상기 제어부는,
상기 이물 검출부를 통과한 상기 도포액이 상기 순환 관로를 거쳐 상기 공급 관로에 있어서의 상기 이물 검출부의 일차측으로 되돌려지는 제어 신호를 출력하고,
상기 이물 검출부에서의 복수 회의 검출 결과에 기초하여, 상기 공급원의 상태의 판정을 행한다.
(8) 상기 (6)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 도포액에 포함되는 이물을 검출하는 다른 이물 검출부가, 상기 공급 관로에 있어서의 상기 필터의 일차측과 이차측의 양방에 개재 마련되고,
상기 제어부는, 상기 다른 이물 검출부에 의한 검출 결과에 기초하여, 상기 필터 상태의 판정을 행한다.
(9) 상기 (1)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 공급 관로는, 상기 처리액 토출부와는 반대측의 단부가, 당해 액 공급 장치가 설치된 공간에 배설된 외부 배관로와 접속되고,
당해 액 공급 장치는,
상기 공급 관로 상의 상기 외부 배관로측의 단부와 상기 필터 사이에 위치하는 분기점으로부터 분기하는 분기 관로
를 구비하고,
상기 제어부는, 상기 판정으로서, 상기 외부 배관로를 거쳐 당해 액 공급 장치에 보충되는 상기 처리액의 상태의 판정을 행하고,
상기 외부 배관로를 거쳐 당해 액 공급 장치에 보충되는 상기 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 처리액이 상기 공급 관로에 있어서의 상기 분기점보다 하류측으로 공급되는 것을 제한하는 제어 신호를 출력하도록 구성되어 있다.
상기 (9)에 따르면, 외부 배관로로부터 분기 관로에 보충된 처리액의 상태의 판정을 행하고, 판정 결과에 기초하여 상기 처리액을 공급 관로에 있어서의 분기 관로와의 분기점보다 하류측으로 공급하거나 배액하고 있다. 이 때문에, 보다 청정한 처리액을 공급할 수 있다.
(10) 상기 (9)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 분기 관로에 개재 마련되고, 당해 분기 관로 내의 처리액에 포함되는 이물을 검출하는 이물 검출부를 구비하고
상기 제어부는, 상기 이물 검출부의 검출 결과에 기초하여, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 상기 처리액의 상태의 판정을 행하도록 구성되어 있다.
(11) 상기 (10)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 공급 관로에 있어서의 상기 분기점보다 하류측으로 공급된 상기 처리액에 포함되는 이물을 검출하는 다른 이물 검출부를 구비하고,
상기 이물 검출부는, 상기 다른 이물 검출부보다 검출 대상의 이물이 크고,
상기 제어부는, 상기 다른 이물 검출부보다 검출 대상의 이물이 큰 상기 이물 검출부의 검출 결과에 기초하여, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 상기 처리액의 상태의 판정을 행하도록 구성되어 있다.
(12) 상기 (10)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 분기 관로는, 복수의 배관로로 분기되어 있고, 상기 복수의 배관로 중 연직 방향 하방에 위치하는 배관로에 상기 이물 검출부가 개재 마련되어 있다.
(13) 상기 (9)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 분기 관로에 흐르는 상기 처리액의 유량은, 상기 공급 관로의 상기 분기점보다 하류측으로 흐르는 상기 처리액의 유량보다 작다.
(14) 상기 (9)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 처리액을 일시적으로 저류하는 일시 저류부를 구비하고,
상기 제어부는, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 상기 처리액을 상기 일시 저류부에 공급하는 타이밍에 따라, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 상기 처리액의 상태의 판정을 행하도록 구성되어 있다.
(15) 상기 (9)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 제어부는, 상기 외부 배관로를 거쳐 당해 액 공급 장치에 보충되는 상기 처리액의 상태에 따라, 상기 처리액 토출부에 공급되는 상기 처리액의 상기 필터에 의한 여과 횟수를 결정하도록 구성되어 있다.
(16) 상기 (9)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 제어부는, 상기 외부 배관로를 거쳐 당해 액 공급 장치에 보충되는 상기 처리액의 상태에 따라, 당해 상태가 알림되는 제어 신호를 출력하도록 구성되어 있다.
(17) 상기 (10)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 공급 관로에 있어서의 상기 분기점보다 하류측으로 공급된 상기 처리액에 포함되는 이물을 검출하는 다른 이물 검출부를 구비하고,
상기 제어부는, 상기 다른 이물 검출부에 의해 상기 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우, 상기 분기 관로에 개재 마련된 상기 이물 검출부에서의 검출 결과에 따라, 처리액 상태 개선 처리의 조건을 결정하도록 구성되어 있다.
(18) 상기 (10)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 제어부는,
상기 분기 관로에 개재 마련된 상기 이물 검출부에서의 검출 결과의 경시 변화에 기초하여, 이물 발생 모드를 특정하고, 특정한 상기 이물 발생 모드에 따른 제어를 행하도록 구성되어 있다.
(19) 상기 (17)에 기재된 액 공급 장치에 있어서,
상기 제어부는,
상기 다른 이물 검출부에서의 검출 결과의 경시 변화에 기초하여, 이물 발생 모드를 특정하고, 특정한 상기 이물 발생 모드에 따른 제어를 행하도록 구성되어 있다.
(20) 피처리체에 처리액을 토출하는 처리액 토출부로 처리액을 공급하는 액 공급 방법으로서,
상기 처리액 토출부에는 공급 관로가 접속되고,
상기 공급 관로에는 상기 처리액을 여과하여 이물을 제거하는 필터가 개재 마련되고,
당해 액 공급 방법은,
상기 필터의 일차측으로 공급되는 처리액의 상태에 대하여 판정을 행하는 공정과,
상기 처리액의 상태가 양호라고 판정된 경우, 상기 필터의 일차측으로의 당해 처리액의 공급을 행하는 공정과,
상기 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우, 당해 처리액을 배출하는 공정을 가진다.
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Claims (20)

  1. 피처리체에 처리액을 토출하는 처리액 토출부로 처리액을 공급하는 액 공급 장치로서,
    상기 처리액 토출부에 접속된 공급 관로와,
    상기 공급 관로에 개재 마련되고 상기 처리액을 여과하여 이물을 제거하는 필터와,
    상기 필터의 일차측으로 공급되는 처리액의 상태에 대하여 판정을 행하고, 또한 상기 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우는, 상기 필터의 일차측으로의 상기 처리액의 공급을 제한하는 제어 신호를 출력하도록 구성된 제어부를 구비하고,
    상기 공급 관로는, 상기 처리액 토출부와 반대측의 단부가, 상기 액 공급 장치가 설치된 공간에 배설된 외부 배관로와 접속되고,
    상기 액 공급 장치는,
    상기 공급 관로 상의 상기 외부 배관로측의 단부와 상기 필터 사이에 위치하는 분기점으로부터 분기하는 분기 관로와,
    상기 분기 관로에 개재 마련되고, 상기 분기 관로 내의 처리액에 포함되는 이물을 검출하는 이물 검출부와,
    상기 공급 관로에 있어서의 상기 필터보다 하류측으로 공급된 상기 처리액에 포함되는 이물을 검출하는 다른 이물 검출부를 구비하고,
    상기 이물 검출부는 상기 다른 이물 검출부보다 검출 대상의 이물이 크고,
    상기 제어부는,
    상기 판정으로서, 상기 다른 이물 검출부보다 검출 대상의 이물이 큰 상기 이물 검출부의 검출 결과에 기초하여, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 상기 처리 액의 상태의 판정을 행하고,
    상기 외부 배관로를 거쳐 상기 액 공급 장치에 보충되는 상기 처리액 상태가 불량이라고 판정된 경우, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 처리액이 상기 공급 관로에 있어서의 상기 분기점보다 하류측으로 공급되는 것을 제한하는 제어 신호를 출력하도록 구성되어 있는,
    액 공급 장치.
  2. 피처리체에 처리액을 토출하는 처리액 토출부로 처리액을 공급하는 액 공급 장치로서,
    상기 처리액 토출부에 접속된 공급 관로와,
    상기 공급 관로에 개재 마련되고 상기 처리액을 여과하여 이물을 제거하는 필터와,
    상기 필터의 일차측으로 공급되는 처리액의 상태에 대하여 판정을 행하고, 또한 상기 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우는, 상기 필터의 일차측으로의 상기 처리액의 공급을 제한하는 제어 신호를 출력하도록 구성된 제어부를 구비하고,
    상기 공급 관로는, 상기 처리액 토출부와 반대측의 단부가, 상기 액 공급 장치가 설치된 공간에 배설된 외부 배관로와 접속되고,
    상기 액 공급 장치는,
    상기 공급 관로 상의 상기 외부 배관로측의 단부와 상기 필터 사이에 위치하는 분기점으로부터 분기하는 분기 관로와,
    상기 분기 관로에 개재 마련되고, 상기 분기 관로 내의 처리액에 포함되는 이물을 검출하는 이물 검출부를 구비하고,
    상기 제어부는,
    상기 판정으로서, 상기 이물 검출부의 검출 결과에 기초하여, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 상기 처리액의 상태의 판정을 행하고,
    상기 외부 배관로를 거쳐 상기 액 공급 장치에 보충되는 상기 처리액 상태가 불량이라고 판정된 경우, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 처리액이 상기 공급 관로에 있어서의 상기 분기점보다 하류측으로 공급되는 것을 제한하는 제어 신호를 출력하도록 구성되고,
    상기 분기 관로는 복수의 배관로로 분기되어 있고, 상기 복수의 배관로 중 연직 방향 하방에 위치하는 배관로에 상기 이물 검출부가 개재 마련되어 있는 액 공급 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 분기 관로는 복수의 배관로로 분기되어 있고, 상기 복수의 배관로 중 연직 방향 하방에 위치하는 배관로에 상기 이물 검출부가 개재 마련되어 있는 액 공급 장치.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 분기 관로에 흐르는 상기 처리액의 유량은 상기 공급 관로의 상기 분기점보다 하류측으로 흐르는 상기 처리액의 유량보다 작은 액 공급 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리액을 일시적으로 저류하는 일시 저류부를 구비하고,
    상기 제어부는, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 상기 처리액을 상기 일시 저류부에 공급하는 타이밍에 따라, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 상기 처리액의 상태의 판정을 행하도록 구성되어 있는 액 공급 장치.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 외부 배관로를 거쳐 상기 액 공급 장치에 보충되는 상기 처리액의 상태에 따라, 상기 처리액 토출부에 공급되는 상기 처리액의 상기 필터에 의한 여과 횟수를 결정하도록 구성되어 있는 액 공급 장치.
  7. 제 1항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 외부 배관로를 거쳐 상기 액 공급 장치에 보충되는 상기 처리액의 상태에 따라, 상기 상태가 알림되는 제어 신호를 출력하도록 구성되어 있는 액 공급 장치.
  8. 피처리체에 처리액을 토출하는 처리액 토출부로 처리액을 공급하는 액 공급 장치로서,
    상기 처리액 토출부에 접속된 공급 관로와,
    상기 공급 관로에 개재 마련되고 상기 처리액을 여과하여 이물을 제거하는 필터와,
    상기 필터의 일차측으로 공급되는 처리액의 상태에 대하여 판정을 행하고, 또한 상기 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우는, 상기 필터의 일차측으로의 상기 처리액의 공급을 제한하는 제어 신호를 출력하도록 구성된 제어부를 구비하고,
    상기 공급관로는 상기 처리액 토출부와 반대측의 단부가, 상기 액 공급 장치가 설치된 공간에 배설된 외부 배관로와 접속되고,
    상기 액 공급 장치는,
    상기 공급 관로 상의 상기 외부 배관로측의 단부와 상기 필터 사이에 위치하는 분기점으로부터 분기하는 분기 관로와,
    상기 분기 관로에 개재 마련되고, 상기 분기 관로 내의 처리액에 포함되는 이물을 검출하는 이물 검출부와,
    상기 공급 관로에 있어서의 상기 분기점보다 하류측으로 공급된 상기 처리액에 포함되는 이물을 검출하는 다른 이물 검출부를 구비하고,
    상기 제어부는,
    상기 판정으로서, 상기 이물 검출부의 검출 결과에 기초하여, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 상기 처리액의 상태의 판정을 행하고,
    상기 외부 배관로를 거쳐 상기 액 공급 장치에 보충되는 상기 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 처리액이 상기 공급 관로에 있어서의 상기 분기점보다 하류측으로 공급되는 것을 제한하는 제어 신호를 출력하도록 구성되고,
    상기 다른 이물 검출부에 의해 상기 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우, 상기 분기 관로에 개재 마련된 상기 이물 검출부에서의 검출 결과에 따라, 처리액 상태 개선 처리의 조건을 결정하도록 구성되는 액 공급 장치.
  9. 피처리체에 처리액을 토출하는 처리액 토출부로 처리액을 공급하는 액 공급 장치로서,
    상기 처리액 토출부에 접속된 공급 관로와,
    상기 공급 관로에 개재 마련되고 상기 처리액을 여과하여 이물을 제거하는 필터와,
    상기 필터의 일차측으로 공급되는 처리액의 상태에 대하여 판정을 행하고, 또한 상기 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우는, 상기 필터의 일차측으로의 상기 처리액의 공급을 제한하는 제어 신호를 출력하도록 구성된 제어부를 구비하고,
    상기 공급 관로는, 상기 처리액 토출부와 반대측의 단부가, 상기 액 공급 장치가 설치된 공간에 배설된 외부 배관로와 접속되고,
    상기 액 공급 장치는,
    상기 공급 관로 상의 상기 외부 배관로측의 단부와 상기 필터 사이에 위치하는 분기점으로부터 분기하는 분기 관로와,
    상기 분기 관로에 개재 마련되고, 상기 분기 관로 내의 처리액에 포함되는 이물을 검출하는 이물 검출부를 구비하고,
    상기 제어부는,
    상기 판정으로서, 상기 이물 검출부의 검출 결과에 기초하여, 상기 외부 배관로를 거쳐 상기 액 공급 장치에 보충되는 상기 처리액의 상태의 판정을 행하고,
    상기 외부 배관로를 거쳐 상기 액 공급 장치에 보충되는 상기 처리액의 상태가 불량이라고 판정된 경우, 상기 외부 배관로를 거쳐 보충되는 처리액이 상기 공급 관로에 있어서의 상기 분기점보다 하류측으로 공급되는 것을 제한하는 제어 신호를 출력하도록 구성되고,
    상기 분기 관로에 개재 마련된 상기 이물 검출부에서의 검출 결과의 경시 변화에 기초하여 이물 발생 모드를 특정하고, 특정한 상기 이물 발생 모드에 따른 제어를 행하도록 구성되어 있는 액 공급 장치.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 다른 이물 검출부에서의 검출 결과의 경시 변화에 기초하여 이물 발생 모드를 특정하고, 특정한 상기 이물 발생 모드에 따른 제어를 행하도록 구성되어 있는 액 공급 장치.
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