KR102635867B1

KR102635867B1 - 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치

Info

Publication number: KR102635867B1
Application number: KR1020210068193A
Authority: KR
Inventors: 미치노리 이와오; 슈이치 야스다
Original assignee: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
Priority date: 2020-05-29
Filing date: 2021-05-27
Publication date: 2024-02-13
Also published as: JP7460448B2; JP2021190559A; KR20210147956A; TW202201515A; CN113731671A

Abstract

[과제] 본원 명세서에 개시되는 기술은, 복수의 약액을 이용하는 기판 처리에 있어서, 약액 간의 혼합을 억제하기 위한 기술이다.
[해결 수단] 본원 명세서에 개시되는 기술에 관한 기판 처리 방법은, 기판에 제1의 노즐로부터 제1의 약액을 토출하는 공정과, 제1의 약액이 토출된 후, 제1의 노즐 내의 액체를 흡인하는 공정과, 제1의 노즐 내의 액체의 흡인이 정지된 후, 기판에 제2의 노즐로부터 제1의 약액과는 상이한 제2의 약액을 토출하는 공정을 구비한다.

Description

기판 처리 방법 및 기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}

본원 명세서에 개시되는 기술은, 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치에 관한 것이다. 처리 대상이 되는 기판에는, 예를 들어, 반도체 웨이퍼, 액정 표시 장치용 유리 기판, 유기 EL(electroluminescence) 표시 장치 등의 flat panel display(FPD)용 기판, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광자기 디스크용 기판, 포토마스크용 유리 기판, 세라믹 기판, 전계 방출 디스플레이(field emission display, 즉, FED)용 기판, 또는, 태양 전지용 기판 등이 포함된다.

종래부터, 반도체 기판(이하, 간단히 「기판」이라고 칭한다)의 제조 공정에서는, 기판 처리 장치를 이용하여 기판에 대해 다양한 처리가 행해지고 있다.

기판 처리에 있어서는, 1 또는 복수의 약액이 노즐을 통하여 기판에 대해 토출되지만, 노즐로부터의 액흘림 등을 억제하기 위해, 노즐 내의 약액을 흡인하는 흡인 동작이 행해지는 경우가 있다(예를 들어, 특허 문헌 1을 참조).

복수의 약액이 시간 순차로 토출되는 경우, 앞의 약액을 흡인하는 흡인 동작에 있어서 뒤의 약액(또는 그 분위기)이 흡인되어 버리는 경우가 있다. 그와 같은 경우에는, 약액 간의 혼합(혼촉(混觸))에 의해 파티클이 생기는 경우가 있으며, 최종적으로는 제품 불량에 이른다는 문제가 있다.

본원 명세서에 개시되는 기술은, 이상에서 기재된 바와 같은 문제를 감안하여 이루어진 것이며, 복수의 약액을 이용하는 기판 처리에 있어서, 약액 간의 혼합을 억제하기 위한 기술이다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제1의 양태는, 기판 처리 방법에 관련하여, 기판에 제1의 노즐로부터 제1의 약액을 토출하는 공정과, 상기 제1의 약액이 토출된 후, 상기 제1의 노즐 내의 액체를 흡인하는 공정과, 상기 제1의 노즐 내의 상기 액체의 흡인이 정지된 후, 상기 기판에 제2의 노즐로부터 상기 제1의 약액과는 상이한 제2의 약액을 토출하는 공정을 구비한다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제2의 양태는, 제1의 양태에 관련하여, 상기 제1의 약액이 토출된 후, 또한, 상기 제2의 약액이 토출되기 전에, 상기 기판에 린스액을 토출하는 공정을 더 구비한다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제3의 양태는, 제2의 양태에 관련하여, 상기 제1의 노즐 내의 상기 액체를 흡인하는 공정은, 상기 린스액을 토출하는 공정보다 먼저 종료된다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제4의 양태는, 제2 또는 3의 양태에 관련하여, 상기 린스액은, 상기 제1의 노즐 내의 상기 액체를 흡인하는 공정 전에, 상기 제1의 노즐로부터 토출된다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제5의 양태는, 제2 내지 4 중 어느 하나의 양태에 관련하여, 상기 린스액은, 상기 제1의 노즐 내의 상기 액체를 흡인하는 공정 동안에, 상기 제2의 노즐로부터 토출된다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제6의 양태는, 제2 내지 5 중 어느 하나의 양태에 관련하여, 상기 린스액을 토출하는 공정은, 상기 제1의 노즐 및 상기 제2의 노즐의 쌍방에 있어서 시간 순차로 행해진다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제7의 양태는, 제1 내지 6 중 어느 하나의 양태에 관련하여, 상기 제1의 약액 및 상기 제2의 약액은, 한쪽이 산성의 액체이며 다른쪽이 알칼리성의 액체이다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제8의 양태는, 제2 내지 6 중 어느 하나의 양태에 관련하여, 상기 린스액은 물이다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제9의 양태는, 제1 내지 8 중 어느 하나의 양태에 관련하여, 상기 제1의 노즐 및 상기 제2의 노즐은, 상기 기판에 대향하여 배치되는 차단판의 중앙부에 공통으로 설치된다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제10의 양태는, 제1 내지 9 중 어느 하나의 양태에 관련하여, 상기 제1의 노즐과 상기 제2의 노즐은 서로 근방에 배치된다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제11의 양태는, 제1 내지 10 중 어느 하나의 양태에 관련하여, 상기 제1의 노즐 내의 액체를 흡인하는 공정이, 상기 기판의 상방에 있어서 행해진다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제12의 양태는, 기판 처리 장치에 관련하여, 기판에 제1의 약액을 토출하는 제1의 노즐과, 상기 제1의 약액이 토출된 후, 상기 제1의 노즐 내의 액체를 흡인하는 흡인 기구와, 상기 제1의 노즐 내의 상기 액체의 흡인이 정지된 후, 상기 기판에 상기 제1의 약액과는 상이한 제2의 약액을 토출하는 제2의 노즐을 구비한다.

본원 명세서에 개시되는 기술의 제1 내지 12의 양태에 의하면, 제1의 노즐을 통한 제1의 약액의 흡인 동작이 정지된 후에, 제2의 노즐로부터의 제2의 약액의 공급이 개시된다. 그 때문에, 제1의 노즐 내에 제2의 약액의 분위기가 흡인되는 것이 억제된다. 따라서, 제1의 노즐 내에 있어서, 제1의 약액과 제2의 약액이 혼합되는 것이 충분히 억제된다.

또, 본원 명세서에 개시되는 기술에 관련하는 목적과, 특징과, 국면과, 이점은, 이하에 나타내는 상세한 설명과 첨부 도면에 의해, 더 명백해진다.

도 1은 실시의 형태에 관한, 기판 처리 장치의 구성의 예를 개략적으로 나타내는 평면도이다.
도 2는 도 1에 예를 나타낸 제어부의 구성의 예를 개념적으로 나타내는 도이다.
도 3은 실시의 형태에 관한, 처리 유닛의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다.
도 4는 대향 부재의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 5는 대향 부재의 예를 나타내는 저면도이다.
도 6은 도 3 및 도 4에 예를 나타낸 공급 및 흡인 기구의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다.
도 7은 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 공급 및 흡인 기구의 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
도 8은 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 공급 및 흡인 기구의 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
도 9는 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 공급 및 흡인 기구의 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
도 10은 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 공급 및 흡인 기구의 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
도 11은 실시의 형태에 관한, 처리 유닛의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다.
도 12는 대향 부재의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 13은 대향 부재의 예를 나타내는 저면도이다.
도 14는 실시의 형태에 관한, 처리 유닛의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다.
도 15는 도 14에 예를 나타낸 공급 및 흡인 기구의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다.
도 16은 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 공급 및 흡인 기구의 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
도 17은 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 공급 및 흡인 기구의 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
도 18은 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 공급 및 흡인 기구의 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
도 19는 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 공급 및 흡인 기구의 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
도 20은 실시의 형태에 관한, 처리 유닛의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다.
도 21은 도 20에 예를 나타낸 공급 및 흡인 기구의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다.
도 22는 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 노즐로부터 처리액이 공급되는 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
도 23은 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 노즐로부터 처리액이 공급되는 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
도 24는 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 노즐로부터 처리액이 공급되는 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
도 25는 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 노즐로부터 처리액이 공급되는 동작을 설명하기 위한 모식도이다.

이하, 첨부되는 도면을 참조하면서 실시의 형태에 대해서 설명한다. 이하의 실시의 형태에서는, 기술의 설명을 위해 상세한 특징 등도 나타내지만, 그들은 예시이며, 실시의 형태가 실시 가능해지기 위해 그들 모두가 반드시 필수의 특징은 아니다.

또한, 도면은 개략적으로 나타내는 것이며, 설명의 편의를 위해, 적절히, 구성의 생략, 또는, 구성의 간략화가 도면에 있어서 이루어지는 것이다. 또, 상이한 도면에 각각 나타내는 구성 등의 크기 및 위치의 상호 관계는, 반드시 정확하게 기재되는 것이 아니며, 적절히 변경될 수 있는 것이다. 또, 단면도가 아닌 평면도 등의 도면에 있어서도, 실시의 형태의 내용을 이해하는 것을 용이하게 하기 위해, 햇칭을 하는 경우가 있다.

또, 이하에 나타내는 설명에서는, 동일한 구성 요소에는 동일한 부호를 붙여 도시하고, 그들 명칭과 기능에 대해서도 동일한 것으로 한다. 따라서, 그들에 대한 상세한 설명을, 중복을 피하기 위해 생략하는 경우가 있다.

또, 이하에 기재되는 설명에 있어서, 어느 구성 요소를 「구비한다」, 「포함한다」 또는 「가진다」 등으로 기재되는 경우, 특별히 언급하지 않는 한은, 다른 구성 요소의 존재를 제외하는 배타적인 표현은 아니다.

또, 이하에 기재되는 설명에 있어서, 「제1의」 또는 「제2의」 등의 서수가 이용되는 경우가 있어도, 이들 용어는, 실시의 형태의 내용을 이해하는 것을 용이하게 하기 위해 편의상 이용되는 것이며, 이들 서수에 의해 생길 수 있는 순서 등에 한정되는 것은 아니다.

또, 이하에 기재되는 설명에 있어서, 「상」, 「하」, 「좌」, 「우」, 「측」, 「바닥」, 「겉」 또는 「뒤」 등의 특정의 위치 또는 방향을 의미하는 용어가 이용되는 경우가 있어도, 이들 용어는, 실시의 형태의 내용을 이해하는 것을 용이하게 하기 위해 편의상 이용되는 것이며, 실제로 실시될 때의 위치 또는 방향과는 관계하지 않는 것이다.

또, 이하에 기재되는 설명에 있어서, 「…의 상면」 또는 「…의 하면」 등으로 기재되는 경우, 대상이 되는 구성 요소의 상면 자체 또는 하면 자체에 더하여, 대상이 되는 구성 요소의 상면 또는 하면에 다른 구성 요소가 형성된 상태도 포함하는 것으로 한다. 즉, 예를 들어, 「갑의 상면에 설치되는 을」이라고 기재되는 경우, 갑과 을 사이에 다른 구성 요소 「병」이 개재되는 것을 방해하는 것은 아니다.

＜제1의 실시의 형태＞

이하, 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치에 대해서 설명한다.

＜기판 처리 장치의 구성에 대해서＞

도 1은, 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 장치(1)의 구성의 예를 개략적으로 나타내는 평면도이다. 기판 처리 장치(1)는, 로드 포트(LP)와, 인덱서 로봇(IR)과, 센터 로봇(CR)과, 제어부(90)와, 적어도 1개의 처리 유닛(UTa)(도 1에 있어서는 4개의 처리 유닛)을 구비한다.

각각의 처리 유닛(UTa)은, 기판(W)(웨이퍼)을 처리하기 위한 것이다. 처리 유닛(UTa)은, 기판 처리에 이용할 수 있는 매엽식의 장치이다.

또한, 처리 유닛(UTa)은, 챔버(80)를 가질 수 있다. 그 경우, 챔버(80) 내의 분위기를 제어부(90)에 의해 제어함으로써, 처리 유닛(UTa)은, 원하는 분위기 중에 있어서의 기판 처리를 행할 수 있다.

제어부(90)는, 기판 처리 장치(1)에 있어서의 각각의 구성(후술하는 스핀 척(5)의 스핀 모터(22), 회전 기구(34), 승강 기구(35), 공급 및 흡인 기구(14), 공급 및 흡인 기구(15), 공급 및 흡인 기구(16), 또는, 공급 및 흡인 기구(30) 등)의 동작을 제어할 수 있다. 캐리어(C)는, 기판(W)을 수용하는 수용기이다. 또, 로드 포트(LP)는, 복수의 캐리어(C)를 유지하는 수용기 유지 기구이다. 인덱서 로봇(IR)은, 로드 포트(LP)와 기판 재치부(載置部)(PS)의 사이에서 기판(W)을 반송할 수 있다. 센터 로봇(CR)은, 기판 재치부(PS) 및 처리 유닛(UTa)의 사이에서 기판(W)을 반송할 수 있다.

이상의 구성에 의해, 인덱서 로봇(IR), 기판 재치부(PS) 및 센터 로봇(CR)은, 각각의 처리 유닛(UTa)과 로드 포트(LP)의 사이에서 기판(W)을 반송하는 반송 기구로서 기능한다.

미처리 기판(W)은 캐리어(C)로부터 인덱서 로봇(IR)에 의해 취출된다. 그리고, 미처리 기판(W)은, 기판 재치부(PS)를 개재하여 센터 로봇(CR)에 수도(受渡)된다.

센터 로봇(CR)은, 당해 미처리 기판(W)을 처리 유닛(UTa)에 반입한다. 그리고, 처리 유닛(UTa)은 기판(W)에 대해 처리를 행한다.

처리 유닛(UTa)에 있어서 처리 완료 기판(W)은, 센터 로봇(CR)에 의해 처리 유닛(UTa)으로부터 취출된다. 그리고, 처리 완료 기판(W)은, 필요에 따라 다른 처리 유닛(UTa)을 경유한 후, 기판 재치부(PS)를 개재하여 인덱서 로봇(IR)에 수도된다. 인덱서 로봇(IR)은, 처리 완료 기판(W)을 캐리어(C)에 반입한다. 이상에 의해, 기판(W)에 대한 처리가 행해진다.

도 2는, 도 1에 예를 나타낸 제어부(90)의 구성의 예를 개념적으로 나타내는 도이다. 제어부(90)는, 전기 회로를 가지는 일반적인 컴퓨터에 의해 구성되어 있어도 된다. 구체적으로는, 제어부(90)는, 중앙 연산 처리 장치(central processing unit, 즉, CPU)(91), 리드 온리 메모리(read only memory, 즉, ROM)(92), 램덤 엑세스 메모리(random access memory, 즉, RAM)(93), 기억 장치(94), 입력부(96), 표시부(97) 및 통신부(98)와, 이들을 서로 접속하는 버스 라인(95)을 구비한다.

ROM(92)은 기본 프로그램을 저장하고 있다. RAM(93)은, CPU(91)가 소정의 처리를 행할 때의 작업 영역으로서 이용된다. 기억 장치(94)는, 플래쉬 메모리 또는 하드 디스크 장치 등의 불휘발성 기억 장치에 의해 구성되어 있다. 입력부(96)는, 각종 스위치 또는 터치 패널 등에 의해 구성되어 있으며, 오퍼레이터로부터 처리 레시피 등의 입력 설정 지시를 받는다. 표시부(97)는, 예를 들어, 액정 표시 장치 및 램프 등에 의해 구성되어 있으며, CPU(91)의 제어 하, 각종의 정보를 표시한다. 통신부(98)는, local area network(LAN) 등을 통한 데이터 통신 기능을 가진다.

기억 장치(94)에는, 도 1의 기판 처리 장치(1)에 있어서의 각각의 구성의 제어에 대한 복수의 모드가 미리 설정되어 있다. CPU(91)가 처리 프로그램(94P)을 실행함으로써, 상기의 복수의 모드 중 하나의 모드가 선택되고, 당해 모드로 각각의 구성이 제어된다. 또한, 처리 프로그램(94P)은, 기록 매체에 기억되어 있어도 된다. 이 기록 매체를 이용하면, 제어부(90)에 처리 프로그램(94P)을 인스톨할 수 있다. 또, 제어부(90)가 실행하는 기능의 일부 또는 전부는, 반드시 소프트웨어에 의해 실현될 필요는 없고, 전용의 논리 회로 등의 하드웨어에 의해 실현되어도 된다.

도 3은, 본 실시의 형태에 관한 처리 유닛(UTa)의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다. 처리 유닛(UTa)에 있어서의 각각의 구성의 동작은, 제어부(90)에 의해 제어된다. 또, 도 4는, 대향 부재(26A)의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 단면도이다.

처리 유닛(UTa)은, 내부 공간을 가지는 상자형의 챔버(80)와, 챔버(80) 내에서 1장의 기판(W)을 수평의 자세로 유지하면서, 기판(W)의 중앙부를 통과하는 연직의 회전축선 둘레로 기판(W)을 회전시키는 스핀 척(5)과, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면의 중앙부를 향해 처리액을 토출하기 위한 노즐(8)이 접속되는 배관(108)과, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면의 중앙부를 향해 처리액을 토출하기 위한 노즐(10)이 접속되는 배관(110)과, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면의 중앙부를 향해 처리액을 토출하기 위한 노즐(12)이 접속되는 배관(112)과, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면의 중앙부를 향해 처리액을 토출하기 위한 노즐(13)이 접속되는 배관(113)과, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면의 중앙부를 향해 불활성 가스를 공급하기 위한 노즐(21)에 접속되는 배관(121)과, 배관(108)에 예를 들어, 알칼리성의 약액 및 린스액을 선택적으로 공급하고, 또한, 노즐(8) 내 및 배관(108) 내의 당해 약액 및 당해 린스액을 흡인하기 위한 공급 및 흡인 기구(14)와, 배관(110)에 예를 들어, 산성의 약액 및 린스액을 선택적으로 공급하고, 또한, 노즐(10) 내 및 배관(110) 내의 당해 약액 및 당해 린스액을 흡인하기 위한 공급 및 흡인 기구(15)와, 배관(112)에 예를 들어, IPA(이소프로필 알코올) 등의 유기 용제를 공급하고, 또한, 노즐(12) 내 및 배관(112) 내의 당해 유기 용제를 흡인하기 위한 공급 및 흡인 기구(16)와, 배관(113)에 예를 들어, 소수화제(SMT)를 공급하고, 또한, 노즐(13) 내 및 배관(113) 내의 당해 소수화제를 흡인하기 위한 공급 및 흡인 기구(30)와, 배관(121)에 불활성 가스를 공급하기 위한 불활성 가스 공급원(36)과, 스핀 척(5)을 둘러싸는 통형상의 컵(17)을 구비한다.

상기의 노즐(8), 노즐(10), 노즐(13), 노즐(12) 및 노즐(21)은, 서로 근방에 배치되어 있다. 여기서, 근방에 배치된다는 것은, 서로 동일한 챔버(80) 내에 배치되는 것을 포함하고, 특히, 스핀 척(5)에 유지된 기판(W)의 상방에 복수의 노즐이 동시에 배치되는 것을 말하는 것으로 한다.

상기의 산성의 약액은, 예를 들어, HF, 불화 수소산(HF)을 순수로 희석한 희불산(DHF), 시트릭(구연산), 황산과 과산화 수소수의 혼합 용액(SPM) 등이며, 「약액」에는 그 분위기도 포함하는 것으로 한다. 또, 알칼리성의 약액은, 예를 들어, 암모니아와 과산화 수소수의 혼합액(SC1), dNH₄OH, 수산화테트라메틸암모늄(TMAH) 등이며, 「약액」에는 그 분위기도 포함하는 것으로 한다. 또, 린스액은, 예를 들어, 물이지만, 본 실시의 형태에 있어서, 물은, 순수(탈이온수), 탄산수, 전해 이온수, 수소수, 오존수, 및 희석 농도(예를 들어, 10ppm 이상, 또한, 100ppm 이하)의 암모니아수 중 어느 하나이다. 또, 「린스액」에는 그 분위기도 포함하는 것으로 한다.

또, 유기 용제는, IPA 외에, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 아세톤, EG(에틸렌글리콜), 또는, (하이드로플루오로에테르) 등이어도 된다. 또, 유기 용제로서는, 단체 성분 만으로 이루어지는 경우 뿐만이 아니라, 다른 성분과 혼합하고 있는 액체여도 된다. 예를 들어, IPA와 아세톤의 혼합액이어도 되고, IPA와 메탄올의 혼합액이어도 된다. 또, 소수화제는, 실리콘계의 소수화제여도 되고, 메탈계의 소수화제여도 된다.

또한, 도 3 및 도 4에 예를 나타내는 노즐의 수는 한정적인 것이 아니며, 예를 들어, 약액을 한층 더 토출하기 위한 노즐이 추가되어도 된다.

챔버(80)는, 스핀 척(5) 또는 노즐 등을 수용하는 상자형상의 격벽(18)과, 격벽(18)의 상부로부터 격벽(18) 내에 필터 등에 의해 여과된 청정 공기를 보내는 FFU(19)와, 격벽(18)의 하부로부터 챔버(80) 내의 기체를 배출하는 배기 덕트(20)를 구비한다.

스핀 척(5)은, 스핀 모터(22)와, 스핀 모터(22)에 의해 구동하는 스핀축(23)과, 스핀축(23)의 상단에 대략 수평으로 장착된 원판형상의 스핀 베이스(24)를 구비한다. 스핀 베이스(24)의 상면의 주연부에는, 복수의 협지 부재(25)가 배치되어 있다. 복수의 협지 부재(25)는, 기판(W)의 둘레 방향으로, 적당한 간격을 두고 배치되어 있다.

또한, 스핀 척(5)은, 협지식의 것에 한정되는 것이 아니며, 예를 들어, 기판(W)의 이면을 진공 흡착하는 진공 흡착식(즉, 베큠 척)의 것이어도 된다.

또, 처리 유닛(UTa)은, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면에 대향하는 대향 부재(26A)를 구비한다. 도 5는, 대향 부재(26A)의 예를 나타내는 저면도이다.

대향 부재(26A)는, 차단판(27A)와, 차단판(27A)에 일체적으로 회전 가능한 회전축(28)을 구비한다. 차단판(27A)은, 기판(W)보다 큰 직경을 가지는 원판형상의 구성이다. 차단판(27A)은, 그 하면에 기판(W)의 상면 전역에 대향하는 원형의 평탄면으로 이루어지는 기판 대향면(29)과, 기판 대향면(29)의 주연부에 있어서 하방을 향해 돌출하는 환상의 걸림부(127)를 가진다. 기판 대향면(29)의 중앙부에는, 차단판(27A)을 상하로 관통하는 원통형상의 관통 구멍(132)이 형성되어 있다.

회전축(28)은, 차단판(27A)의 중심을 통과하고, 또한, 연직 방향으로 연장되는 회전축선(A2) 둘레로 회전 가능하다. 또한, 회전축선(A2)은, 기판(W)의 회전축선(A1)과 일치한다. 회전축(28)은 원통형상이다. 회전축(28)의 내부 공간은, 차단판(27A)의 관통 구멍(132)에 연통하고 있다. 회전축(28)은, 차단판(27A)의 상방에서 수평으로 연장되는 지지 아암(31)에 상대 회전 가능하게 지지되어 있다. 본 실시의 형태에서는, 지지 아암(31)은, 적어도 상하 방향(연직 방향)으로 이동 가능하다.

관통 구멍(132)의 내부에는, 차단판(27A)의 회전축선(A2)을 따라 상하로 연장되는 축 노즐(32)이 설치된다. 축 노즐(32)의 케이싱(33) 내에는, 상하 방향(연직 방향)으로 연장되는 노즐(8), 노즐(10), 노즐(12), 노즐(13) 및 노즐(21)이 배치된다. 케이싱(33)은, 관통 구멍(132)의 내부에 있어서, 차단판(27A) 및 회전축(28)과는 비접촉의 상태로 배치된다.

차단판(27A)에는, 전동 모터 등을 포함하는 회전 기구(34)가 결합되어 있다. 회전 기구(34)는, 차단판(27A) 및 회전축(28)을, 지지 아암(31)에 대해 회전축선(A2) 둘레로 회전시킨다.

지지 아암(31)에는, 전동 모터 또는 볼나사 등을 포함하는 승강 기구(35)가 결합되어 있다. 승강 기구(35)는, 대향 부재(26A), 노즐(8), 노즐(10), 노즐(12), 노즐(13) 및 노즐(21)을, 지지 아암(31)과 함께 연직 방향으로 승강한다. 승강 기구(35)는, 차단판(27A)의 기판 대향면(29)이 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면에 근접하는 근접 위치와, 근접 위치의 상방에 설치된 퇴피 위치의 사이에서, 차단판(27A), 노즐(8), 노즐(10), 노즐(12), 노즐(13) 및 노즐(21)을 승강시킨다. 승강 기구(35)는, 근접 위치와 퇴피 위치 사이의 각각의 위치에서 차단판(27A)을 유지한다.

승강 기구(35)가, 대향 부재(26A)를 하강시키면, 차단판(27A) 및 축 노즐(32)이 스핀 베이스(24)에 있어서의 도시하지 않는 지지부에 의해 받아진다. 그리고, 지지 아암(31)측과 회전축(28)측이 분리된 후에, 스핀 베이스(24)의 회전에 동기하여 차단판(27A)이 회전한다.

도 3에 예를 나타내는 바와 같이, 컵(17)은, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)보다 외측에 배치되어 있다. 컵(17)은, 스핀 베이스(24)의 주위를 둘러싸고 있다. 스핀 척(5)이 기판(W)을 회전시키고 있는 상태에서, 처리액이 기판(W)에 공급되면, 기판(W)에 공급된 처리액이 기판(W)의 둘레로 떨쳐내어진다. 처리액이 기판(W)에 공급될 때, 상향으로 열린 컵(17)의 상단부(17a)는, 스핀 베이스(24)보다 상방에 배치된다. 따라서, 기판(W)의 둘레로 배출된 처리액(구체적으로는, 약액, 린스액, 유기 용제, 또는, 소수화제 등)은, 컵(17)에 의해 받아진다. 그리고, 컵(17)에 받아진 처리액은, 회수 장치 또는 배액 장치(여기에서는, 도시하지 않는다) 등에 보내진다.

＜공급 및 흡인 기구에 대해서＞

도 6은, 도 3 및 도 4에 예를 나타낸 공급 및 흡인 기구(14)의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다. 또한, 공급 및 흡인 기구(15)의 구성, 공급 및 흡인 기구(16)의 구성, 및, 공급 및 흡인 기구(30)의 구성도, 각각의 기구로 공급하는 처리액의 종류를 제외하고는 도 6에 예를 나타내는 구성과 동일하다.

도 6에 예를 나타내는 바와 같이, 공급 및 흡인 기구(14)는, 배관(108)의 상류측의 단부에 접속된 접속 배관(44)과, 접속 배관(44)에 추가로 접속된 배액 배관(45)과, 배액 배관(45)에 설치된 밸브(51)와, 접속 배관(44)의 상류측에 접속된 약액 배관(46)과, 약액 배관(46)에 설치된 밸브(52)와, 접속 배관(44)의 상류측에 접속된 린스액 배관(47)과, 린스액 배관(47)에 설치된 밸브(53)와, 접속 배관(44)보다 하류측의 배관(108)에 설치된 밸브(50)와, 밸브(50)보다 하류측의 배관(108)으로부터 분기하는 흡인 배관(48)과, 흡인 배관(48)에 설치된 조정 밸브(54)와, 흡인 배관(48)에 추가로 접속된 흡인 장치(55)와, 접속 배관(44)에 추가로 접속된 흡인 배관(49)과, 흡인 배관(49)에 설치된 밸브(56)와, 흡인 배관(49)에 추가로 접속된 흡인 장치(57)를 구비한다. 또한, 배액 배관(45)에는, 기(機) 외의 배액 설비에 접속되어 있다. 또, 흡인 장치(55) 및 흡인 장치(57)는, 어느 한쪽이 구비되어 있는 경우여도 된다.

흡인 장치(55)는, 사이펀식의 흡인 장치이다. 여기서, 사이펀식의 흡인 장치란, 배관(흡인 배관(48)) 내를 액체로 채우고, 사이펀의 원리를 이용하여 배관(108) 내의 액체를 흡인(배액)하는 장치를 말한다. 사이펀식의 흡인 장치에 의하면, 진공 발생기 또는 아스피레이터 등의 이젝터식의 흡인 장치와 비교해, 흡인을 위한 에너지 소비를 억제할 수 있다.

흡인 장치(57)는, 이젝터식의 흡인 장치이다. 이젝터식의 흡인 장치는, 사이펀식의 흡인 장치와 비교해, 흡인력이 강하고(흡인 속도가 빠르고), 또, 흡인 가능한 액유량이 많다.

다른 밸브가 닫혀진 상태에서, 밸브(52) 및 밸브(50)가 열리면, 약액 배관(46)으로부터 약액이 배관(108)에 공급되어, 노즐(8)의 토출구로부터 하방을 향해 약액이 토출된다.

또, 다른 밸브가 닫혀진 상태에서, 밸브(52) 및 밸브(51)가 열리면, 약액 배관(46)으로부터 약액이 배액 배관(45)에 공급된다. 이것에 의해, 약액 배관(46) 내의 약액을 배액(폐기)할 수 있다.

또, 다른 밸브가 닫혀진 상태에서, 밸브(53) 및 밸브(50)가 열리면, 밸브(53)로부터 린스액이 배관(108)에 공급되어, 노즐(8)의 토출구로부터 하방을 향해 린스액이 토출된다.

또, 다른 밸브가 닫혀진 상태에서, 밸브(53) 및 밸브(51)가 열리면, 밸브(53)로부터 린스액이 배액 배관(45)에 공급된다. 이것에 의해, 린스액 배관(47) 내의 린스액을 배액(폐기)할 수 있다.

흡인 장치(55)의 작동 상태에 있어서, 조정 밸브(54)가 열리면, 흡인 장치(55)의 기능이 유효해져, 흡인 배관(48)의 내부가 흡인된다. 따라서, 노즐(8), 배관(108) 및 흡인 배관(48)에 포함되는 처리액(약액 또는 린스액)이, 흡인 배관(48)으로 끌어 들여진다. 또한, 흡인 장치(55)의 흡인력은 비교적 약하기 때문에, 그 흡인 속도는 비교적 느리다.

또, 흡인 장치(57)는, 예를 들어, 상시 작동 상태로 되어 있다. 또, 밸브 동작에 의해 흡인이 개시되어도 된다. 흡인 장치(57)의 작동 상태에 있어서, 밸브(56)가 열리면, 흡인 장치(57)의 기능이 유효해져, 흡인 배관(49)의 내부가 흡인된다. 따라서, 흡인 배관(49), 접속 배관(44), 배관(108) 및 노즐(8)에 포함되는 처리액(약액 또는 린스액)이, 흡인 배관(49)으로 끌어 들여진다. 또한, 흡인 장치(57)의 흡인력은 흡인 장치(55)의 경우와 비교해 강하기 때문에, 그 흡인 속도는, 흡인 장치(55)의 경우와 비교해 빠르다.

＜기판 처리 장치의 동작에 대해서＞

다음에, 도 7 내지 도 10을 참조하면서, 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 장치의 동작을 설명한다. 여기서, 도 7, 도 8, 도 9 및 도 10은, 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 공급 및 흡인 기구(14) 및 공급 및 흡인 기구(15)의 동작을 설명하기 위한 모식도이다.

본 실시의 형태에 관한 기판 처리 장치에 의한 기판 처리 방법은, 처리 유닛(UTa)으로 반송된 기판(W)에 대해 약액 처리를 행하는 공정과, 약액 처리가 행해진 기판(W)에 대해 세정 처리를 행하는 공정과, 세정 처리가 행해진 기판(W)에 대해 건조 처리를 행하는 공정과, 건조 처리가 행해진 기판(W)을 처리 유닛(UTa)으로부터 반출하는 공정을 구비한다. 이하에서는, 상기의 기판 처리 장치의 동작에 포함되는 약액 처리에 대해서, 보다 상세하게 설명한다.

우선, 도 7에 예를 나타내는 바와 같이, 제어부(90)의 제어에 의해 도 6에 나타낸 밸브(50) 및 밸브(52)를 개방하여, 배관(108)을 통하여 약액(200)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(8)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 약액(200)이 토출된다.

다음에, 도 8에 예를 나타내는 바와 같이, 제어부(90)의 제어에 의해 도 6에 나타낸 밸브(50) 및 밸브(53)를 개방하여, 배관(108)을 통하여 린스액(201)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(8)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 린스액(201)이 토출된다. 린스액(201)이 토출되는 시간은, 예를 들어, 10초 이상, 또한, 30초 이하이다.

다음에, 도 9에 예를 나타내는 바와 같이 린스액(201)의 토출을 정지하고, 또한, 제어부(90)의 제어에 의해 도 6에 나타낸 밸브(50) 및 밸브(56)를 개방하여, 흡인 배관(49), 접속 배관(44), 배관(108) 및 노즐(8)에 포함되는 약액 또는 린스액을, 흡인 배관(49)으로 끌어 들인다. 이 때, 기판(W)의 상방에 위치하는 노즐(8)의 토출구를 통하여, 기판(W)과 차단판(27A)에 둘러싸이는 밀폐 공간에 있어서의 약액(200) 및 린스액(201)의 분위기도, 흡인 배관(49)으로 끌어 들여질 수 있다. 흡인 동작이 행해지는 시간은, 예를 들어, 10초 이상, 또한, 30초 이하이다. 또한, 흡인 동작의 종료는, 예를 들어, 센서 등에 의해 흡인량을 측정하여, 흡인량이 역치를 넘은 시점에서 종료되도록 해도 된다. 또, 조정 밸브(54)를 함께 개방함으로써, 배관(108) 및 노즐(8)에 포함되는 약액(200) 또는 린스액(201)을, 흡인 배관(48)으로 끌어 들여도 된다.

한편, 도 9에 예를 나타내는 바와 같이, 제어부(90)의 제어에 의해 대응하는 밸브를 개방하여, 배관(110)을 통하여 린스액(202)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(10)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 린스액(202)이 토출된다. 또한, 린스액(202)은, 린스액(201)과 동일 종류의 액체여도 되고, 상이한 종류의 액체여도 된다. 또, 기판(W)과 차단판(27A)에 둘러싸이는 밀폐 공간에 있어서의 린스액(202)의 분위기는, 상기와 마찬가지로, 노즐(8)의 토출구를 통하여 흡인 배관(49)으로 끌어 들여질 수 있다.

다음에, 노즐(8)에 있어서의 흡인 동작이 정지된 후에, 도 10에 예를 나타내는 바와 같이, 제어부(90)의 제어에 의해 대응하는 밸브를 개방하여, 배관(110)을 통하여 약액(203)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(10)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 약액(203)이 토출된다.

이상에 의하면, 노즐(8)을 통한 약액(200) 등의 흡인 동작이 정지된 후에, 노즐(10)로부터의 약액(203)의 공급이 개시되기 때문에, 노즐(8) 내 및 배관(108) 내에, 기판(W)과 차단판(27A)에 둘러싸이는 밀폐 공간에 있어서의 약액(203)의 분위기가 흡인되는 것이 억제된다. 따라서, 노즐(8) 내 및 배관(108) 내에 있어서, 약액(200)과 약액(203)이 혼합되는 것이 충분히 억제된다.

또, 노즐(8) 및 노즐(10)의 쌍방에 있어서, 린스액의 토출이 시간 순차로 행해짐으로써, 노즐(8)에 있어서의 흡인 동작 전 및 흡인 동작 동안에 린스액을 토출할 수 있기 때문에, 기판(W)의 상면에 잔존하는 약액(200)의 양을 감소시키면서, 기판(W)의 상면을 세정하고, 또한, 기판(W)의 상면에 린스액의 액막이 형성됨으로써 기판(W)의 오염을 억제할 수 있다.

또한, 노즐(8) 및 노즐(10)과는 상이한 다른 노즐(예를 들어, 노즐(12) 또는 노즐(13))에 의해 린스액이 토출되어도 된다. 그 경우, 각각의 노즐에 있어서 흡인 동작이 행해질 필요가 있지만, 상기의 다른 노즐에 있어서의 흡인 동작도 정지된 후에, 노즐(10)을 통한 약액(203)의 공급이 개시되는 것이 바람직하다. 린스액을 토출하는 노즐 내에 약액(203)이 흡인된 경우여도, 후속 공정에서 당해 노즐로부터 다른 약액이 토출되는 경우에는, 약액의 혼합이 발생하기 때문이다.

여기서, 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 방법에서는, 노즐(8)에 있어서의 흡인 동작이 정지된 후에 노즐(10)을 통한 약액(203)의 공급이 개시되는 것이면, 노즐(8)을 통한 린스액(201)의 공급 및 노즐(10)을 통한 린스액(202)의 공급은, 함께 행해지지 않아도 된다. 단, 노즐(8)에 있어서의 흡인 동작이 행해지고 있는 동안에 상기의 린스액의 공급이 행해짐으로써, 기판(W)의 상면의 세정에 더하여, 기판(W)의 상면에 린스액의 액막이 형성됨으로써 기판(W)의 오염을 억제할 수 있다.

상기로부터, 노즐(8)에 있어서의 흡인 동작은, 린스액의 공급이 행해지고 있는 동안에 종료된다, 즉, 노즐(8)에 있어서의 흡인 동작은, 린스액의 공급 동작보다 먼저 종료되는 것이 바람직하다.

또, 노즐(8)을 통한 린스액(201)의 공급 및 노즐(10)을 통한 린스액(202)의 공급은, 어느 한쪽이 행해져도 된다.

또, 약액으로서 소수화제가 이용되는 경우, 소수화제를 순수 등의 린스액과 혼합시킬 수 없기 때문에, 약액으로서의 소수화제를 흡인하는 동안은 소수화제를 기판(W) 상에서 패들링해 두고, 동시에, 기판(W) 상의 분위기를 불활성 가스(N₂)로 치환한다. 그리고, 약액으로서의 소수화제의 흡인이 정지된 후에, 다른 약액의 토출을 개시한다.

＜제2의 실시의 형태＞

본 실시의 형태에 관한 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치에 대해서 설명한다. 또한, 이하의 설명에 있어서는, 이상에서 기재된 실시의 형태에서 설명된 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙여 도시하고, 그 상세한 설명에 대해서는 적절히 생략하는 것으로 한다.

＜기판 처리 장치의 구성에 대해서＞

도 11은, 본 실시의 형태에 관한 처리 유닛(UT)의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다. 처리 유닛(UT)에 있어서의 각각의 구성의 동작은, 제어부(90)에 의해 제어된다. 또, 도 12는, 대향 부재(26)의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 단면도이다.

처리 유닛(UT)은, 챔버(80)와, 스핀 척(5)과, 배관(108)과, 배관(110)과, 배관(112)과, 배관(113)과, 배관(121)과, 공급 및 흡인 기구(14)와, 공급 및 흡인 기구(15)와, 공급 및 흡인 기구(16)와, 공급 및 흡인 기구(30)와, 불활성 가스 공급원(36)과, 컵(17)을 구비한다.

또, 처리 유닛(UT)은, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면에 대향하는 대향 부재(26)를 구비한다. 도 13은, 대향 부재(26)의 예를 나타내는 저면도이다.

대향 부재(26)는, 차단판(27)과, 차단판(27)에 일체적으로 회전 가능한 회전축(28)을 구비한다. 차단판(27)은, 기판(W)과 거의 동일한 직경 또는 그 이상의 직경을 가지는 원판형상의 구성이다. 차단판(27)은, 그 하면에 기판(W)의 상면 전역에 대향하는 원형의 평탄면으로 이루어지는 기판 대향면(29)을 가진다. 기판 대향면(29)의 중앙부에는, 차단판(27)을 상하로 관통하는 원통형상의 관통 구멍(132)이 형성되어 있다.

회전축(28)은, 차단판(27)의 중심을 통과하고, 또한, 연직 방향으로 연장되는 회전축선(A2) 둘레로 회전 가능하다. 또한, 회전축선(A2)은, 기판(W)의 회전축선(A1)과 일치한다. 회전축(28)은 원통형상이다. 회전축(28)의 내부 공간은, 차단판(27)의 관통 구멍(132)에 연통하고 있다. 회전축(28)은, 차단판(27)의 상방에서 수평으로 연장되는 지지 아암(31)에 상대 회전 가능하게 지지되어 있다. 본 실시의 형태에서는, 지지 아암(31)은, 적어도 상하 방향(연직 방향)으로 이동 가능하다.

관통 구멍(132)의 내부에는, 차단판(27)의 회전축선(A2)을 따라 상하로 연장되는 축 노즐(32)이 설치된다. 축 노즐(32)의 케이싱(33) 내에는, 상하 방향(연직 방향)으로 연장되는 노즐(8), 노즐(10), 노즐(12), 노즐(13) 및 노즐(21)이 배치된다. 케이싱(33)은, 관통 구멍(132)의 내부에 있어서, 차단판(27) 및 회전축(28)과는 비접촉의 상태로 배치된다.

차단판(27)에는, 전동 모터 등을 포함하는 회전 기구(34)가 결합되어 있다. 회전 기구(34)는, 차단판(27) 및 회전축(28)을, 지지 아암(31)에 대해 회전축선(A2) 둘레로 회전시킨다.

지지 아암(31)에는, 전동 모터 또는 볼나사 등을 포함하는 승강 기구(35)가 결합되어 있다. 승강 기구(35)는, 대향 부재(26), 노즐(8), 노즐(10), 노즐(12), 노즐(13) 및 노즐(21)을, 지지 아암(31)과 함께 연직 방향으로 승강한다. 승강 기구(35)는, 차단판(27)의 기판 대향면(29)이 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면에 근접하는 근접 위치와, 근접 위치의 상방에 설치된 퇴피 위치의 사이에서, 차단판(27), 노즐(8), 노즐(10), 노즐(12), 노즐(13) 및 노즐(21)을 승강시킨다. 승강 기구(35)는, 근접 위치와 퇴피 위치 사이의 각각의 위치에서 차단판(27)을 유지한다.

＜기판 처리 장치의 동작에 대해서＞

다음에, 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 장치의 동작을 설명한다. 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 장치에 의한 기판 처리 방법은, 처리 유닛(UT)으로 반송된 기판(W)에 대해 약액 처리를 행하는 공정과, 약액 처리가 행해진 기판(W)에 대해 세정 처리를 행하는 공정과, 세정 처리가 행해진 기판(W)에 대해 건조 처리를 행하는 공정과, 건조 처리가 행해진 기판(W)을 처리 유닛(UT)으로부터 반출하는 공정을 구비한다.

상기 중 약액 처리는, 제1의 실시의 형태에 나타낸 경우와 마찬가지로, 우선, 제어부(90)의 제어에 의해 도 6에 나타낸 밸브(50) 및 밸브(52)를 개방하여, 배관(108)을 통하여 약액(200)을 공급한다(단, 배관(108)은 대향 부재(26)에 접속되는 것으로 한다). 그렇게 하면, 노즐(8)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 약액(200)이 토출된다.

다음에, 제어부(90)의 제어에 의해 도 6에 나타낸 밸브(50) 및 밸브(53)를 개방하여, 배관(108)을 통하여 린스액(201)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(8)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 린스액(201)이 토출된다.

다음에, 제어부(90)의 제어에 의해 도 6에 나타낸 밸브(50) 및 밸브(56)를 개방하여, 흡인 배관(49), 접속 배관(44), 배관(108) 및 노즐(8)에 포함되는 약액 또는 린스액을, 흡인 배관(49)으로 끌어 들인다. 이 때, 노즐(8)의 토출구를 통하여, 기판(W)과 차단판(27)에 둘러싸이는 공간에 있어서의 약액(200) 및 린스액(201)의 분위기도, 흡인 배관(49)으로 끌어 들여질 수 있다. 또한, 조정 밸브(54)를 함께 개방함으로써, 배관(108) 및 노즐(8)에 포함되는 약액 또는 린스액을, 흡인 배관(48)으로 끌어 들여도 된다.

한편, 제어부(90)의 제어에 의해 대응하는 밸브를 개방하여, 배관(110)을 통하여 린스액(202)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(10)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 린스액(202)이 토출된다. 또한, 기판(W)과 차단판(27)에 둘러싸이는 공간에 있어서의 린스액(202)의 분위기는, 상기와 마찬가지로, 노즐(8)의 토출구를 통하여 흡인 배관(49)으로 끌어 들여질 수 있다.

다음에, 노즐(8)에 있어서의 흡인 동작이 정지된 후에, 제어부(90)의 제어에 의해 대응하는 밸브를 개방하여, 배관(110)을 통하여 약액(203)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(10)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 약액(203)이 토출된다.

이상에 의하면, 노즐(8)을 통한 약액(200) 등의 흡인 동작이 정지된 후에, 노즐(10)로부터의 약액(203)의 공급이 개시되기 때문에, 노즐(8) 내 및 배관(108) 내에, 기판(W)과 차단판(27)에 둘러싸이는 공간에 있어서의 약액(203)의 분위기가 흡인되는 것이 억제된다. 따라서, 노즐(8) 내 및 배관(108) 내에 있어서, 약액(200)과 약액(203)이 혼합되는 것이 충분히 억제된다.

여기서, 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 방법에서는, 노즐(8)에 있어서의 흡인 동작이 정지된 후에 노즐(10)을 통한 약액(203)의 공급이 개시되는 것이면, 노즐(8)을 통한 린스액(201)의 공급 및 노즐(10)을 통한 린스액(202)의 공급은, 함께 행해지지 않아도 된다. 단, 노즐(8)에 있어서의 흡인 동작이 행해지고 있는 동안에 상기의 린스액의 공급이 행해짐으로써, 기판(W)의 상면의 세정에 더하여, 기판(W)의 상면에 액막이 형성됨으로써 기판(W)의 오염을 억제할 수 있다.

＜제3의 실시의 형태＞

＜기판 처리 장치의 구성에 대해서＞

도 14는, 본 실시의 형태에 관한 처리 유닛(UTb)의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다. 처리 유닛(UTb)에 있어서의 각각의 구성의 동작은, 제어부(90)에 의해 제어된다.

처리 유닛(UTb)은, 챔버(80)와, 스핀 척(5)과, 공급 및 흡인 기구(14)와, 공급 및 흡인 기구(15)와, 공급 및 흡인 기구(16)와, 공급 및 흡인 기구(30)와, 공급 및 흡인 기구(38)와, 공급 및 흡인 기구(39)와, 불활성 가스 공급원(36)과, 컵(17)을 구비한다.

또, 처리 유닛(UTb)은, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면에 대향하는 대향 부재(26)를 구비한다.

대향 부재(26)는, 차단판(27)과, 차단판(27)에 일체적으로 회전 가능한 회전축(28)을 구비한다. 차단판(27)은, 그 하면에 기판(W)의 상면 전역에 대향하는 원형의 평탄면으로 이루어지는 기판 대향면(29)을 가진다. 기판 대향면(29)의 중앙부에는, 차단판(27)을 상하로 관통하는 원통형상의 관통 구멍(132)이 형성되어 있다.

회전축(28)은, 차단판(27)의 중심을 통과하고, 또한, 연직 방향으로 연장되는 회전축선(A2) 둘레로 회전 가능하다. 회전축(28)은, 차단판(27)의 상방에서 수평으로 연장되는 지지 아암(31)에 상대 회전 가능하게 지지되어 있다.

관통 구멍(132)의 내부에는, 차단판(27)의 회전축선(A2)을 따라 상하로 연장되는 축 노즐(32)이 설치된다.

승강 기구(35)는, 차단판(27)의 기판 대향면(29)이 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면에 근접하는 근접 위치와, 근접 위치의 상방에 설치된 퇴피 위치의 사이에서, 차단판(27)을 승강시킨다. 또한, 도 14에 있어서는, 차단판(27)은, 상기 중 퇴피 위치에 위치하고 있다.

기판(W)의 상방에는, 노즐(400) 및 노즐(402)이 각각 기판(W)의 상면에 대향하여 배치된다. 공급 및 흡인 기구(38)는, 배관(401) 및 노즐(400)에 예를 들어, 알칼리성의 약액 및 린스액을 선택적으로 공급하고, 또한, 배관(401) 내 및 노즐(400) 내의 당해 약액 및 당해 린스액을 흡인한다. 공급 및 흡인 기구(39)는, 배관(403) 및 노즐(402)에 예를 들어, 산성의 약액 및 린스액을 선택적으로 공급하고, 또한, 배관(403) 내 및 노즐(402) 내의 당해 약액 및 당해 린스액을 흡인한다. 노즐(400) 및 노즐(402)은, 각각 기판(W)의 상면에 대향하는 처리 위치(기판(W)에 처리액을 토출하는 위치)와, 퇴피 위치(기판(W)의 상방에서부터 퇴피하는 위치)의 사이에서 요동 가능하게 구성된다.

＜공급 및 흡인 기구에 대해서＞

도 15는, 도 14에 예를 나타낸 공급 및 흡인 기구(38)의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다. 또한, 공급 및 흡인 기구(39)의 구성도, 공급하는 처리액의 종류를 제외하고는 도 15에 예를 나타내는 구성과 동일하다.

도 15에 예를 나타내는 바와 같이, 공급 및 흡인 기구(38)는, 배관(401)의 상류측의 단부에 접속된 접속 배관(44)과, 접속 배관(44)에 추가로 접속된 배액 배관(45)과, 배액 배관(45)에 설치된 밸브(51)와, 접속 배관(44)의 상류측에 접속된 약액 배관(46)과, 약액 배관(46)에 설치된 밸브(52)와, 접속 배관(44)의 상류측에 접속된 린스액 배관(47)과, 린스액 배관(47)에 설치된 밸브(53)와, 접속 배관(44)보다 하류측의 배관(401)에 설치된 밸브(50)와, 밸브(50)보다 하류측의 배관(401)으로부터 분기하는 흡인 배관(48)과, 흡인 배관(48)에 설치된 조정 밸브(54)와, 흡인 배관(48)에 추가로 접속된 흡인 장치(55)와, 접속 배관(44)에 추가로 접속된 흡인 배관(49)과, 흡인 배관(49)에 설치된 밸브(56)와, 흡인 배관(49)에 추가로 접속된 흡인 장치(57)를 구비한다. 또한, 배액 배관(45)에는, 기 외의 배액 설비에 접속되어 있다. 또, 흡인 장치(55) 및 흡인 장치(57)는, 어느 한쪽이 구비되어 있는 경우여도 된다.

다른 밸브가 닫혀진 상태에서, 밸브(52) 및 밸브(50)가 열리면, 약액 배관(46)으로부터 약액이 배관(401)에 공급되어, 노즐(400)의 토출구로부터 하방을 향해 약액이 토출된다.

또, 다른 밸브가 닫혀진 상태에서, 밸브(53) 및 밸브(50)가 열리면, 밸브(53)로부터 린스액이 배관(401)에 공급되어, 노즐(400)의 토출구로부터 하방을 향해 린스액이 토출된다.

흡인 장치(55)의 작동 상태에 있어서, 조정 밸브(54)가 열리면, 흡인 장치(55)의 기능이 유효해져, 흡인 배관(48)의 내부가 흡인된다. 따라서, 배관(401), 노즐(400) 및 흡인 배관(48)에 포함되는 처리액(약액 또는 린스액)이, 흡인 배관(48)으로 끌어 들여진다. 또한, 흡인 장치(55)의 흡인력은 비교적 약하기 때문에, 그 흡인 속도는 비교적 느리다.

또, 흡인 장치(57)는, 예를 들어, 상시 작동 상태로 되어 있다. 또, 밸브 동작에 의해 흡인이 개시되어도 된다. 흡인 장치(57)의 작동 상태에 있어서, 밸브(56)가 열리면, 흡인 장치(57)의 기능이 유효해져, 흡인 배관(49)의 내부가 흡인된다. 따라서, 흡인 배관(49), 접속 배관(44) 및 배관(401) 및 노즐(400)에 포함되는 처리액(약액 또는 린스액)이, 흡인 배관(49)으로 끌어 들여진다. 또한, 흡인 장치(57)의 흡인력은 흡인 장치(55)의 경우와 비교해 강하기 때문에, 그 흡인 속도는, 흡인 장치(55)의 경우와 비교해 빠르다.

＜기판 처리 장치의 동작에 대해서＞

다음에, 도 16 내지 도 19를 참조하면서, 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 장치의 동작을 설명한다. 여기서, 도 16, 도 17, 도 18 및 도 19는, 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 공급 및 흡인 기구(38) 및 공급 및 흡인 기구(39)의 동작을 설명하기 위한 모식도이다.

본 실시의 형태에 관한 기판 처리 장치에 의한 기판 처리 방법은, 처리 유닛(UTb)으로 반송된 기판(W)에 대해 약액 처리를 행하는 공정과, 약액 처리가 행해진 기판(W)에 대해 세정 처리를 행하는 공정과, 세정 처리가 행해진 기판(W)에 대해 건조 처리를 행하는 공정과, 건조 처리가 행해진 기판(W)을 처리 유닛(UTb)으로부터 반출하는 공정을 구비한다.

상기 중 약액 처리에서는, 우선, 도 16에 예를 나타내는 바와 같이, 제어부(90)의 제어에 의해 도 15에 나타낸 밸브(50) 및 밸브(52)를 개방하여, 배관(401)을 통하여 약액(200)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(400)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 약액(200)이 토출된다.

다음에, 도 17에 예를 나타내는 바와 같이, 제어부(90)의 제어에 의해 도 15에 나타낸 밸브(50) 및 밸브(53)를 개방하여, 배관(401)을 통하여 린스액(201)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(400)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 린스액(201)이 토출된다.

다음에, 도 18에 예를 나타내는 바와 같이 린스액(201)의 토출을 정지하고, 또한, 제어부(90)의 제어에 의해 도 15에 나타낸 밸브(50) 및 밸브(56)를 개방하여, 흡인 배관(49), 접속 배관(44), 배관(401) 및 노즐(400)에 포함되는 약액 또는 린스액을, 흡인 배관(49)으로 끌어 들인다. 이 때, 노즐(400)의 토출구를 통하여, 챔버(80) 내의 약액(200) 및 린스액(201)의 분위기도, 흡인 배관(49)으로 끌어 들여질 수 있다. 또한, 조정 밸브(54)를 함께 개방함으로써, 배관(401) 및 노즐(400)에 포함되는 약액(200) 또는 린스액(201)을, 흡인 배관(48)으로 끌어 들여도 된다.

한편, 도 18에 예를 나타내는 바와 같이, 제어부(90)의 제어에 의해 대응하는 밸브를 개방하여, 배관(403)을 통하여 린스액(202)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(402)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 린스액(202)이 토출된다. 또한, 챔버(80) 내의 린스액(202)의 분위기는, 상기와 마찬가지로, 노즐(400)의 토출구를 통하여 흡인 배관(49)으로 끌어 들여질 수 있다.

다음에, 노즐(400)에 있어서의 흡인 동작이 정지된 후에, 도 19에 예를 나타내는 바와 같이, 제어부(90)의 제어에 의해 대응하는 밸브를 개방하여, 노즐(402)을 통하여 약액(203)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(402)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 약액(203)이 토출된다.

여기서, 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 방법에서는, 노즐(400)에 있어서의 흡인 동작이 정지된 후에 노즐(402)을 통한 약액(203)의 공급이 개시되는 것이면, 노즐(400)을 통한 린스액(201)의 공급 및 노즐(402)을 통한 린스액(202)의 공급은, 함께 행해지지 않아도 된다. 단, 노즐(400)에 있어서의 흡인 동작이 행해지고 있는 동안에 상기의 린스액의 공급이 행해짐으로써, 기판(W)의 상면의 세정에 더하여, 기판(W)의 상면에 액막이 형성됨으로써 기판(W)의 오염을 억제할 수 있다.

또, 노즐(400)을 통한 린스액(201)의 공급 및 노즐(402)을 통한 린스액(202)의 공급은, 어느 한쪽이 행해져도 된다.

이상에 의하면, 노즐(400)을 통한 약액(200) 등의 흡인 동작이 정지된 후에, 노즐(402)로부터의 약액(203)의 공급이 개시되기 때문에, 노즐(400) 내 및 배관(401) 내에, 챔버(80) 내의 약액(203)의 분위기가 흡인되는 것이 억제된다. 따라서, 노즐(400) 내 및 배관(401) 내에 있어서, 약액(200)과 약액(203)이 혼합되는 것이 충분히 억제된다.

＜제4의 실시의 형태＞

＜기판 처리 장치의 구성에 대해서＞

도 20은, 본 실시의 형태에 관한 처리 유닛(UTc)의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다. 처리 유닛(UTc)에 있어서의 각각의 구성의 동작은, 제어부(90)에 의해 제어된다.

처리 유닛(UTc)은, 챔버(80)와, 스핀 척(5)과, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면의 중앙부를 향해 처리액을 토출하기 위한 노즐(310)이 접속되는 배관(320)과, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면의 중앙부를 향해 처리액을 토출하기 위한 노즐(312)이 접속되는 배관(322)과, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면의 중앙부를 향해 처리액을 토출하기 위한 노즐(314)이 접속되는 배관(324)과, 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면의 중앙부를 향해 처리액을 토출하기 위한 노즐(316)이 접속되는 배관(326)과, 배관(320)에 예를 들어, 알칼리성의 약액 및 린스액을 선택적으로 공급하고, 또한, 노즐(310) 내 및 배관(320) 내의 당해 약액 및 당해 린스액을 흡인하기 위한 공급 및 흡인 기구(330)와, 배관(322)에 예를 들어, 산성의 약액 및 린스액을 선택적으로 공급하고, 또한, 노즐(312) 내 및 배관(322) 내의 당해 약액 및 당해 린스액을 흡인하기 위한 공급 및 흡인 기구(332)와, 배관(324)에 예를 들어, IPA(이소프로필 알코올) 등의 유기 용제를 공급하고, 또한, 노즐(314) 내 및 배관(324) 내의 당해 유기 용제를 흡인하기 위한 공급 및 흡인 기구(334)와, 배관(326)에 예를 들어, 다른 약액을 공급하고, 또한, 노즐(316) 내 및 배관(326) 내의 당해 약액을 흡인하기 위한 공급 및 흡인 기구(336)와, 노즐(310), 노즐(312), 노즐(314) 및 노즐(316)을 일체적으로 지지하는 지지부(302)와, 지지부(302)가 단부에 장착된 노즐 아암(300)과, 컵(17)을 구비한다.

노즐 아암(300)은, 아암부(300A)와, 축체(300B)와, 액추에이터(300C)를 구비한다. 액추에이터(300C)는, 축체(300B)의 축 둘레의 각도를 조정한다. 아암부(300A)의 한쪽의 단부는 축체(300B)에 고정되어 있으며, 아암부(300A)의 다른쪽의 단부는 축체(300B)의 축으로부터 떨어져 배치된다. 또, 아암부(300A)의 다른쪽의 단부에는, 지지부(302)가 장착되어 있다. 그렇게 함으로써, 지지부(302)는, 기판(W)의 반경 방향으로 처리 위치(기판(W)에 처리액을 토출하는 위치)와 퇴피 위치(기판(W)의 상방에서부터 퇴피하는 위치)의 사이에서 요동 가능하게 구성된다. 또한, 요동에 의한 지지부(302)의 이동 방향은, 기판(W)의 반경 방향의 성분을 가지고 있으면 되고, 기판(W)의 반경 방향으로 엄밀하게 평행일 필요는 없다. 여기서, 노즐 아암(300)은, 도시하지 않는 모터 등에 의해, 연직 방향으로 승강 가능해도 된다. 그 경우, 노즐 아암(300)의 단부에 장착된 지지부(302)와 기판(W)의 상면 사이의 거리를, 노즐 아암(300)의 승강에 의해 조정 가능하다.

기판(W)의 상방에는, 지지부(302)에 의해 일체적으로 지지된 노즐(310), 노즐(312), 노즐(314) 및 노즐(316)이, 각각 기판(W)의 상면에 대향하여 배치된다. 공급 및 흡인 기구(330)는, 배관(320) 및 노즐(310)에 예를 들어, 알칼리성의 약액 및 린스액을 선택적으로 공급하고, 또한, 배관(320) 내 및 노즐(310) 내의 당해 약액 및 당해 린스액을 흡인한다. 공급 및 흡인 기구(332)는, 배관(322) 및 노즐(312)에 예를 들어, 산성의 약액 및 린스액을 선택적으로 공급하고, 또한, 배관(322) 내 및 노즐(312) 내의 당해 약액 및 당해 린스액을 흡인한다.

＜공급 및 흡인 기구에 대해서＞

도 21은, 도 20에 예를 나타낸 공급 및 흡인 기구(330)의 구성의 예를 모식적으로 나타내는 도이다. 또한, 공급 및 흡인 기구(332), 공급 및 흡인 기구(334), 공급 및 흡인 기구(336)의 구성도, 공급하는 처리액의 종류를 제외하고는 도 21에 예를 나타내는 구성과 동일하다.

도 21에 예를 나타내는 바와 같이, 공급 및 흡인 기구(330)는, 배관(320)의 상류측의 단부에 접속된 접속 배관(44)과, 접속 배관(44)에 추가로 접속된 배액 배관(45)과, 배액 배관(45)에 설치된 밸브(51)와, 접속 배관(44)의 상류측에 접속된 약액 배관(46)과, 약액 배관(46)에 설치된 밸브(52)와, 접속 배관(44)의 상류측에 접속된 린스액 배관(47)과, 린스액 배관(47)에 설치된 밸브(53)와, 접속 배관(44)보다 하류측의 배관(320)에 설치된 밸브(50)와, 밸브(50)보다 하류측의 배관(320)으로부터 분기하는 흡인 배관(48)과, 흡인 배관(48)에 설치된 조정 밸브(54)와, 흡인 배관(48)에 추가로 접속된 흡인 장치(55)와, 접속 배관(44)에 추가로 접속된 흡인 배관(49)과, 흡인 배관(49)에 설치된 밸브(56)와, 흡인 배관(49)에 추가로 접속된 흡인 장치(57)를 구비한다. 또한, 배액 배관(45)에는, 기 외의 배액 설비에 접속되어 있다. 또, 흡인 장치(55) 및 흡인 장치(57)는, 어느 한쪽이 구비되어 있는 경우여도 된다.

다른 밸브가 닫혀진 상태에서, 밸브(52) 및 밸브(50)가 열리면, 약액 배관(46)으로부터 약액이 배관(320)에 공급되어, 노즐(310)의 토출구로부터 하방을 향해 약액이 토출된다.

또, 다른 밸브가 닫혀진 상태에서, 밸브(53) 및 밸브(50)가 열리면, 밸브(53)로부터 린스액이 배관(320)에 공급되어, 노즐(310)의 토출구로부터 하방을 향해 린스액이 토출된다.

흡인 장치(55)의 작동 상태에 있어서, 조정 밸브(54)가 열리면, 흡인 장치(55)의 기능이 유효해져, 흡인 배관(48)의 내부가 흡인된다. 따라서, 배관(320), 노즐(310) 및 흡인 배관(48)에 포함되는 처리액(약액 또는 린스액)이, 흡인 배관(48)으로 끌어 들여진다. 또한, 흡인 장치(55)의 흡인력은 비교적 약하기 때문에, 그 흡인 속도는 비교적 느리다.

또, 흡인 장치(57)는, 예를 들어, 상시 작동 상태로 되어 있다. 또, 밸브 동작에 의해 흡인이 개시되어도 된다. 흡인 장치(57)의 작동 상태에 있어서, 밸브(56)가 열리면, 흡인 장치(57)의 기능이 유효해져, 흡인 배관(49)의 내부가 흡인된다. 따라서, 흡인 배관(49), 접속 배관(44) 및 배관(320) 및 노즐(310)에 포함되는 처리액(약액 또는 린스액)이, 흡인 배관(49)으로 끌어 들여진다. 또한, 흡인 장치(57)의 흡인력은 흡인 장치(55)의 경우와 비교해 강하기 때문에, 그 흡인 속도는, 흡인 장치(55)의 경우와 비교해 빠르다.

＜기판 처리 장치의 동작에 대해서＞

다음에, 도 22 내지 도 25를 참조하면서, 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 장치의 동작을 설명한다. 여기서, 도 22, 도 23, 도 24 및 도 25는, 기판 처리 장치의 동작 중, 특히 노즐(310) 및 노즐(312)로부터 처리액이 공급되는 동작을 설명하기 위한 모식도이다.

본 실시의 형태에 관한 기판 처리 장치에 의한 기판 처리 방법은, 처리 유닛(UTc)으로 반송된 기판(W)에 대해 약액 처리를 행하는 공정과, 약액 처리가 행해진 기판(W)에 대해 세정 처리를 행하는 공정과, 세정 처리가 행해진 기판(W)에 대해 건조 처리를 행하는 공정과, 건조 처리가 행해진 기판(W)을 처리 유닛(UTc)으로부터 반출하는 공정을 구비한다.

상기 중 약액 처리에서는, 우선, 도 22에 예를 나타내는 바와 같이, 제어부(90)의 제어에 의해 도 21에 나타낸 밸브(50) 및 밸브(52)를 개방하여, 배관(320)을 통하여 약액(200)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(310)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 약액(200)이 토출된다.

다음에, 도 23에 예를 나타내는 바와 같이, 제어부(90)의 제어에 의해 도 21에 나타낸 밸브(50) 및 밸브(53)를 개방하여, 배관(320)을 통하여 린스액(201)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(310)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 린스액(201)이 토출된다.

다음에, 도 24에 예를 나타내는 바와 같이 린스액(201)의 토출을 정지하고, 또한, 제어부(90)의 제어에 의해 도 21에 나타낸 밸브(50) 및 밸브(56)를 개방하여, 흡인 배관(49), 접속 배관(44), 배관(320) 및 노즐(310)에 포함되는 약액 또는 린스액을, 흡인 배관(49)으로 끌어 들인다. 이 때, 노즐(310)의 토출구를 통하여, 챔버(80) 내의 약액(200) 및 린스액(201)의 분위기도, 흡인 배관(49)으로 끌어 들여질 수 있다. 또한, 조정 밸브(54)를 함께 개방함으로써, 배관(320) 및 노즐(310)에 포함되는 약액(200) 또는 린스액(201)을, 흡인 배관(48)으로 끌어 들여도 된다.

한편, 도 24에 예를 나타내는 바와 같이, 제어부(90)의 제어에 의해 대응하는 밸브를 개방하여, 배관(322)을 통하여 린스액(202)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(312)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 린스액(202)이 토출된다. 또한, 챔버(80) 내의 린스액(202)의 분위기는, 상기와 마찬가지로, 노즐(310)의 토출구를 통하여 흡인 배관(49)으로 끌어 들여질 수 있다.

다음에, 노즐(310)에 있어서의 흡인 동작이 정지된 후에, 도 25에 예를 나타내는 바와 같이, 제어부(90)의 제어에 의해 대응하는 밸브를 개방하여, 노즐(312)을 통하여 약액(203)을 공급한다. 그렇게 하면, 노즐(312)의 토출구로부터 기판(W)에 대해, 약액(203)이 토출된다.

여기서, 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 방법에서는, 노즐(310)에 있어서의 흡인 동작이 정지된 후에 노즐(312)을 통한 약액(203)의 공급이 개시되는 것이면, 노즐(310)을 통한 린스액(201)의 공급 및 노즐(312)을 통한 린스액(202)의 공급은, 함께 행해지지 않아도 된다. 단, 노즐(310)에 있어서의 흡인 동작이 행해지고 있는 동안에 상기의 린스액의 공급이 행해짐으로써, 기판(W)의 상면의 세정에 더하여, 기판(W)의 상면에 액막이 형성됨으로써 기판(W)의 오염을 억제할 수 있다.

또, 노즐(310)을 통한 린스액(201)의 공급 및 노즐(312)을 통한 린스액(202)의 공급은, 어느 한쪽이 행해져도 된다.

이상에 의하면, 노즐(310)을 통한 약액(200) 등의 흡인 동작이 정지된 후에, 노즐(310)의 근방에 위치하는 노즐(312)로부터의 약액(203)의 공급이 개시되기 때문에, 노즐(310) 내 및 배관(320) 내에, 챔버(80) 내의 약액(203)의 분위기가 흡인되는 것이 억제된다. 따라서, 노즐(310) 내 및 배관(320) 내에 있어서, 약액(200)과 약액(203)이 혼합되는 것이 충분히 억제된다.

＜이상에서 기재된 실시의 형태에 의해 발생하는 효과에 대해서＞

다음에, 이상에서 기재된 실시의 형태에 의해 발생하는 효과의 예를 나타낸다. 또한, 이하의 설명에 있어서는, 이상에서 기재된 실시의 형태에 예를 나타낸 구체적인 구성에 의거하여 당해 효과가 기재되지만, 동일한 효과가 발생하는 범위에서, 본원 명세서에 예를 나타내는 다른 구체적인 구성과 치환되어도 된다.

또, 당해 치환은, 복수의 실시의 형태에 걸쳐 이루어져도 된다. 즉, 상이한 실시의 형태에 있어서 예를 나타낸 각각의 구성이 조합되어, 동일한 효과가 발생하는 경우여도 된다.

이상에서 기재된 실시의 형태에 의하면, 기판 처리 방법에 있어서, 기판(W)에 제1의 노즐로부터 제1의 약액을 토출한다. 여기서, 제1의 노즐은, 예를 들어, 노즐(8), 노즐(310) 및 노즐(400) 등 중 어느 하나에 대응하는 것이다(이하에서는 편의상, 이들 중 어느 하나를 대응시켜 기재하는 경우가 있다). 또, 제1의 약액은, 예를 들어, 약액(200) 등에 대응하는 것이다. 그리고, 약액(200)이 토출된 후, 노즐(8) 내의 액체(예를 들어, 약액(200) 또는 린스액(201) 등)를 흡인한다. 그리고, 노즐(8) 내의 액체의 흡인이 정지된 후, 기판(W)에 제2의 노즐로부터 약액(200)과는 상이한 제2의 약액을 토출한다. 여기서, 제2의 노즐은, 예를 들어, 노즐(10), 노즐(312) 및 노즐(402) 등 중 어느 하나에 대응하는 것이다(이하에서는 편의상, 이들 중 어느 하나를 대응시켜 기재하는 경우가 있다). 또, 제2의 약액은, 예를 들어, 약액(203) 등에 대응하는 것이다.

이와 같은 구성에 의하면, 노즐(8)을 통한 약액(200) 등의 흡인 동작이 정지된 후에, 노즐(10)로부터의 약액(203)의 공급이 개시된다. 그 때문에, 노즐(8) 내에 약액(203)의 분위기가 흡인되는 것이 억제된다. 따라서, 노즐(8) 내에 있어서, 약액(200)과 약액(203)이 혼합되는 것이 충분히 억제된다. 그 결과, 복수의 노즐 간에서 토출되는 약액들의 혼촉 등을 피하기 위해 미리 노즐들을 떼어 배치할 필요가 없어진다. 즉, 노즐 배치의 자유도가 향상된다.

또한, 상기의 구성에 본원 명세서에 예를 나타낸 다른 구성을 적절히 추가한 경우, 즉, 상기의 구성으로서는 언급되지 않았던 본원 명세서 중의 다른 구성이 적절히 추가된 경우여도, 동일한 효과를 발생시킬 수 있다.

또, 특별한 제한이 없는 경우에는, 각각의 처리가 행해지는 순서는 변경할 수 있다.

또, 이상에서 기재된 실시의 형태에 의하면, 기판 처리 방법에 있어서, 약액(200)이 토출된 후, 또한, 약액(203)이 토출되기 전에, 기판(W)에 린스액(201) 또는 린스액(202)을 토출한다. 이와 같은 구성에 의하면, 노즐(8)에 있어서의 흡인 동작이 행해지고 있는 동안에 린스액(201) 또는 린스액(202)의 공급이 행해짐으로써, 기판(W)의 상면의 세정에 더하여, 기판(W)의 상면에 린스액의 액막이 형성됨으로써 기판(W)의 오염을 억제할 수 있다.

또, 이상에서 기재된 실시의 형태에 의하면, 노즐(8) 내의 액체를 흡인하는 공정은, 린스액(201) 또는 린스액(202)을 토출하는 공정보다 먼저 종료된다. 이와 같은 구성에 의하면, 기판(W)의 상면에 린스액의 액막이 형성되어 있는 동안에, 노즐(8) 내의 액체를 흡인하는 공정을 종료시킬 수 있다. 따라서, 기판(W)의 오염을 억제할 수 있다.

또, 이상에서 기재된 실시의 형태에 의하면, 린스액(201)은, 노즐(8) 내의 액체를 흡인하는 공정 전에, 노즐(8)로부터 토출된다. 이와 같은 구성에 의하면, 기판(W)의 상면 및 노즐(8) 내의 세정을 행한 후에 잔존하는 약액(200)을 흡인할 수 있기 때문에, 잔존하는 약액(200)의 양을 감소시킬 수 있다.

또, 이상에서 기재된 실시의 형태에 의하면, 린스액(202)은, 노즐(8) 내의 액체를 흡인하는 공정 동안에, 노즐(10)로부터 토출된다. 이와 같은 구성에 의하면, 노즐(8)에 있어서의 흡인 동작이 행해지고 있는 동안에 노즐(10)을 통한 린스액(202)의 공급이 행해짐으로써, 기판(W)의 상면의 세정에 더하여, 기판(W)의 상면에 린스액의 액막이 형성됨으로써 기판(W)의 오염을 억제할 수 있다.

또, 이상에서 기재된 실시의 형태에 의하면, 린스액을 토출하는 공정은, 노즐(8) 및 노즐(10)의 쌍방에 있어서 시간 순차로 행해진다. 이와 같은 구성에 의하면, 노즐(8)에 있어서의 흡인 동작 전 및 흡인 동작 동안에 린스액을 토출할 수 있기 때문에, 잔존하는 약액(200)의 양을 감소시키면서, 기판(W)의 상면을 세정하고, 또한, 기판(W)의 상면에 린스액의 액막이 형성됨으로써 기판(W)의 오염을 억제할 수 있다.

또, 이상에서 기재된 실시의 형태에 의하면, 약액(200) 및 약액(203)은, 한쪽이 산성의 액체이며 다른쪽이 알칼리성의 액체이다. 이와 같은 구성에 의하면, 혼촉 금지인 약액 간의 혼합(혼촉)을 억제할 수 있다.

또, 이상에서 기재된 실시의 형태에 의하면, 린스액(201) 또는 린스액(202)은 물(DIW)이다. 이와 같은 구성에 의하면, 노즐 내 및 기판(W)의 상면을 효과적으로 세정할 수 있다.

또, 이상에서 기재된 실시의 형태에 의하면, 노즐(8) 및 노즐(10)은, 기판(W)에 대향하여 배치되는 차단판(27)(또는 차단판(27A))의 중앙부에 공통으로 설치된다. 이와 같은 구성에 의하면, 노즐(8)의 토출구를 통하여, 기판(W)과 차단판(27)(또는 차단판(27A)) 사이의 (밀폐)공간에 있어서의 약액(200)의 분위기, 또한, 약액(203)의 분위기가 흡인되기 쉬워지지만, 노즐(8)을 통한 약액(200) 등의 흡인 동작이 정지된 후에, 노즐(10)로부터의 약액(203)의 공급이 개시되기 때문에, 노즐(8) 내에 약액(203)의 분위기가 흡인되는 것이 억제된다.

또, 이상에서 기재된 실시의 형태에 의하면, 노즐(8) 및 노즐(10)(또는, 노즐(310) 및 노즐(312))은, 서로 근방에 배치된다. 이와 같은 구성에 의하면, 노즐(8)의 토출구를 통하여, 약액(200)의 분위기, 또한, 근방에 위치하는 노즐(10)을 통하여 토출되는 약액(203)의 분위기가 흡인되기 쉬워지지만, 노즐(8)을 통한 약액(200) 등의 흡인 동작이 정지된 후에, 노즐(10)로부터의 약액(203)의 공급이 개시되기 때문에, 노즐(8) 내에 약액(203)의 분위기가 흡인되는 것이 억제된다.

이상에서 기재된 실시의 형태에 의하면, 기판 처리 장치에 있어서, 노즐(8)과, 공급 및 흡인 기구(14)와, 노즐(10)을 구비한다. 노즐(8)은, 기판(W)에 약액(200)을 토출한다. 공급 및 흡인 기구(14)는, 약액(200)이 토출된 후, 노즐(8) 내의 액체를 흡인한다. 노즐(10)은, 노즐(8) 내의 액체의 흡인이 정지된 후, 기판(W)에 약액(200)과는 상이한 약액(203)을 토출한다.

또, 상기의 구성에 본원 명세서에 예를 나타낸 다른 구성을 적절히 추가한 경우, 즉, 상기의 구성으로서는 언급되지 않았던 본원 명세서 중의 다른 구성이 적절히 추가된 경우여도, 동일한 효과를 발생시킬 수 있다.

＜이상에서 기재된 실시의 형태의 변형예에 대해서＞

이상에서 기재된 실시의 형태에서는, 각각의 구성 요소의 치수, 형상, 상대적 배치 관계 또는 실시의 조건 등에 대해서도 기재하는 경우가 있지만, 이들은 모든 국면에 있어서 하나의 예이며, 한정적인 것은 아닌 것으로 한다.

따라서, 예를 나타내지 않은 무수한 변형예,및 균등물이, 본원 명세서에 개시되는 기술의 범위 내에 있어서 상정된다. 예를 들어, 적어도 1개의 구성 요소를 변형하는 경우, 추가하는 경우 또는 생략하는 경우, 또한, 적어도 1개의 실시의 형태에 있어서의 적어도 1개의 구성 요소를 추출하고, 다른 실시의 형태에 있어서의 구성 요소와 조합하는 경우가 포함되는 것으로 한다.

또, 이상에서 기재된 실시의 형태에 있어서, 특별히 지정되지 않고 재료명 등이 기재된 경우는, 모순이 생기지 않는 한, 당해 재료에 다른 첨가물이 포함된, 예를 들어, 합금 등이 포함되는 것으로 한다.

또, 모순이 생기지 않는 한, 이상에서 기재된 실시의 형태에 있어서 「1개」 구비되는 것으로서 기재된 구성 요소는, 「1개 이상」 구비되어 있어도 되는 것으로 한다.

또한, 이상에서 기재된 실시의 형태에 있어서의 각각의 구성 요소는 개념적인 단위이며, 본원 명세서에 개시되는 기술의 범위 내에는, 1개의 구성 요소가 복수의 구조물로 이루어지는 경우와, 1개의 구성 요소가 어느 구조물의 일부에 대응하는 경우와, 또한, 복수의 구성 요소가 1개의 구조물에 구비되는 경우를 포함하는 것으로 한다.

또, 이상에서 기재된 실시의 형태에 있어서의 각각의 구성 요소에는, 동일한 기능을 발휘하는 한, 다른 구조 또는 형상을 가지는 구조물이 포함되는 것으로 한다.

1: 기판 처리 장치 5: 스핀 척
8, 10, 12, 13, 21, 310, 312, 314, 316, 400, 402: 노즐
14, 15, 16, 30, 38, 39, 330, 332, 334, 336: 공급 및 흡인 기구
17: 컵 17a: 상단부
18: 격벽 19: FFU
20: 배기 덕트 22: 스핀 모터
23: 스핀축 24: 스핀 베이스
25: 협지 부재 26, 26A: 대향 부재
27, 27A: 차단판 28: 회전축
29: 기판 대향면 31: 지지 아암
32: 축 노즐 33: 케이싱
34: 회전 기구 35: 승강 기구
36: 불활성 가스 공급원 44: 접속 배관
45: 배액 배관 46: 약액 배관
47: 린스액 배관 48, 49: 흡인 배관
50, 51, 52, 53, 56: 밸브 54: 조정 밸브
55, 57: 흡인 장치 80: 챔버
90: 제어부 91: CPU
92: ROM 93: RAM
94: 기억 장치 94P: 처리 프로그램
95: 버스 라인 96: 입력부
97: 표시부 98: 통신부
108, 110, 112, 113, 121, 320, 322, 324, 326, 401, 403: 배관
127: 걸림부 132: 관통 구멍
200, 203: 약액 201, 202: 린스액
300: 노즐 아암 300A: 아암부
300B: 축체 300C: 액추에이터
302: 지지부

Claims

기판에 제1의 노즐로부터 제1의 약액을 토출하는 공정과,
상기 기판에 상기 제1의 노즐로부터 린스액을 토출하는 공정과,
상기 제1의 노즐로부터의 상기 린스액의 토출을 정지하고, 상기 제1의 노즐 내에 포함되는 상기 제1의 약액 또는 상기 린스액을 흡인하는 공정과,
상기 제1의 노즐 내의 상기 제1의 약액 또는 상기 린스액을 흡인하는 공정 동안에, 상기 기판에 제2의 노즐로부터 린스액을 토출하는 공정과,
상기 제1의 노즐 내의 상기 제1의 약액 또는 상기 린스액의 흡인이 정지된 후, 상기 기판에 상기 제2의 노즐로부터 상기 제1의 약액과는 상이한 제2의 약액을 토출하는 공정을 구비하며,
상기 2개의 린스액을 토출하는 공정은, 상기 제1의 노즐 및 상기 제2의 노즐의 쌍방에 있어서, 시간 순차로 행해지는, 기판 처리 방법.
청구항 1에 있어서,
상기 제1의 약액 및 상기 제2의 약액은, 한쪽이 산성의 액체이며 다른쪽이 알칼리성의 액체인, 기판 처리 방법.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 린스액은 물인, 기판 처리 방법.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1의 노즐 및 상기 제2의 노즐은, 상기 기판에 대향해서 배치되는 차단판의 중앙부에 공통으로 설치되는, 기판 처리 방법.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1의 노즐과 상기 제2의 노즐은 서로 근방에 배치되는, 기판 처리 방법.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1의 노즐 내의 액체를 흡인하는 공정이, 상기 기판의 상방에 있어서 행해지는, 기판 처리 방법.
기판에 제1의 약액 또는 린스액을 토출하는 제1의 노즐과,
상기 제1의 노즐 내에 포함되는 상기 제1의 약액 또는 상기 린스액을 흡인하는 흡인 기구와,
상기 기판에 상기 제1의 약액과는 상이한 제2의 약액 또는 린스액을 토출하는 제2의 노즐과,
상기 제1의 노즐, 상기 흡인 기구 및 상기 제2의 노즐의 제어를 행하는 제어부를 구비하며,
상기 제어부는, 상기 기판에 상기 제1의 노즐로부터 상기 제1의 약액을 토출시킨 후, 상기 제1의 노즐로부터 상기 린스액을 토출시키고,
상기 제1의 노즐로부터의 상기 린스액의 토출을 정지한 후, 상기 흡인 기구로 하여금 상기 제1의 노즐 내에 포함되는 상기 제1의 약액 또는 상기 린스액을 흡인하게 하며,
상기 제1의 노즐 내의 상기 제1의 약액 또는 상기 린스액을 흡인하는 동안에, 상기 기판에 상기 제2의 노즐로부터 상기 린스액을 토출시키고,
상기 제1의 노즐 내의 상기 제1의 약액 또는 상기 린스액의 흡인을 정지한 후, 상기 기판에 상기 제2의 노즐로부터 상기 제2의 약액을 토출시키는, 기판 처리 장치.
청구항 7에 있어서,
상기 기판에 대향해서 배치되고, 중앙부에 상기 제1의 노즐 및 상기 제2의 노즐을 구비하는 차단판을 구비하는, 기판 처리 장치.
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