KR102569146B1 - 극자외선 레티클 포드 - Google Patents

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치아-호 추앙
챙-주 리
젱-지에 후앙
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Abstract

EUV 레티클 포드가 제공된다. 포드는 내부 및 외부 박스 어셈블리를 포함한다. 외부 박스 어셈블리에 수용된 내부 박스 어셈블리는 베이스와 커버를 포함한다. 베이스는 상부면과 주변 벽을 포함한다. 상부면은 탑재면, 적어도 하나의 트렌치 및 제1 접촉면을 포함한다. EUV 레티클은 탑재면 위에 탑재된다. 트렌치는 원형 루프 구조를 가지며, 바닥은 탑재면보다 낮다. 탑재면, 트렌치 및 제1 접촉면은 상부면의 중앙으로부터 주변 벽 측으로 순차적으로 분배된다. 커버는 EUV 레티클을 수용하기 위한 오목부 및 기밀한 밀봉을 형성하도록 제1 접촉면과 협력하는 제2 접촉면을 포함한다. 트렌치는 입자를 포착하고 포획하여 레티클의 입자 오염을 감소시킨다.

Description

극자외선 레티클 포드{EUV RETICLE POD}
관련 출원
본 출원은 Hsueh 등에 의해 2017년 1월 25일자 출원된 "레티클 포드"라는 제하의 미국 가특허 출원 제62/450,172호에 대한 우선권을 주장하는, Hsueh 등에 의해 2018년 1월 25일자 출원된 "EUV 레티클 포드"라는 제하의 미국 특허 출원 재15/880,243호의 부분 연속 출원이다. 상기 언급된 우선권 문서의 개시 내용은 본 명세서에 그 전체가 참조로 포함된다.
본 개시는 레티클 포드(reticle pod)에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 개시는 이중 격납 극자외선(EUV) 레티클 포드에 관한 것이다.
최근, 반도체 제조 기술이 빠르게 발전하고 있으며, 이러한 반도체 제조 기술에서는 포토리소그래피 공정이 중요한 역할을 한다. 일반적으로, 포토리소그래피는 원하는 패턴의 광 투과성 레티클을 제조하고, 포토레지스트를 갖는 웨이퍼에 광원에 노출시켜 해당 웨이퍼에 패턴을 투영하는 것을 포함한다. 에칭 및 기타 공정 단계 후에 웨이퍼 상에 원하는 패턴이 형성된다.
포토리소그래피 공정 중에, 웨이퍼 상에 부착되는 먼지 또는 유기물과 같은 입자는 웨이퍼 상에 투영되는 이미지 품질을 저하시킬 것이다. 그러나, 이제 산업 추세는 크기가 작고 논리 밀도가 높은 칩 생산으로 이동하고 있다. 포토리소그래피 장비에 사용되는 광원의 파장은 극자외선 광(EUV)의 범위로 좁혀진다. 결국, 레티클 포드의 입자 수, 입자 크기 및 내부 청결도에 대한 더 엄격한 요구 사항이 표준 관행이 되었다.
일반적으로, 반도체 공정에 사용되는 레티클 포드는 레티클을 청결하게 유지하기 위해 오염 방지 재료로 제조된다. 레티클 포드 또는 반도체 부품 용기도 역시 표준 기계적 계면(SMIF) 기술의 소형 클린룸 요건을 준수해야 한다. 그러나, 통제된 환경에서도 레티클 포드는 용기의 이동에 의한 공기압의 변동이나 공기 교란으로 인해 여전히 입자 오염이 발생한다. 입자/오염물이 레티클과 용기 사이의 영역으로 그리고 레티클까지도 운반되는 것이 여전히 가능하므로 레티클 포드는 여전히 입자 오염으로부터 레티클을 충분히 보호할 수 없다.
일부가 첨부 도면에 예시된 실시예를 참조로 본 개시의 상기 언급된 특징을 상세하게 이해할 수 있는 방식으로 상기 요약된 본 개시에 대해 더 구체적으로 설명할 수 있다. 그러나, 첨부된 도면은 본 개시의 전형적인 실시예만을 예시하며, 따라서, 본 개시는 동등하게 효과적인 다른 실시예를 인정할 수 있기 때문에 본 개시의 범위를 제한하는 것으로 간주되어서는 안된다.
도 1은 본 개시의 일부 실시예에 따른 EUV 레티클 포드의 분해도이고;
도 2는 본 개시의 일부 실시예에 따른 도 1의 베이스의 사시도이고;
도 3은 본 개시의 일부 실시예에 따른 도 1의 내부 박스 어셈블리 및 EUV 레티클의 부분 단면도이고;
도 4는 본 개시의 일부 실시예에 따라 베이스 상에 블록 부재를 구비한 도 3과 동일한 단면도이고;
도 5는 본 개시의 일부 실시예에 따른 도 2의 베이스의 단면도이고;
도 6은 본 개시의 일부 실시예에 따른 도 1의 커버의 사시도이고;
도 7은 본 개시의 일부 실시예에 따른 도 1의 커버의 다른 사시도이고;
도 8은 본 개시의 일부 실시예에 따른 도 1 내지 도 3의 탑재면, 트렌치 및 제1 접촉면의 사시도이고;
도 9는 본 개시의 일부 실시예에 따른 탑재면, 트렌치 및 제1 접촉면의 사시도이고;
도 10은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 사시도이고;
도 11은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 사시도이고;
도 12는 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 사시도이고;
도 13은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 사시도이고;
도 14a 내지 도 14d는 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 사시도이고;
도 14e는 본 개시의 일부 실시예에 따른 B-B'를 따른 베이스의 단면도이고;
도 14f는 본 개시의 일부 실시예에 따른 B-B'를 따른 베이스의 단면도이고;
도 15a는 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 사시도이고;
도 15b는 본 개시의 일부 실시예에 따른 C-C'를 따른 베이스의 단면도이고;
도 16은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 사시도이고;
도 17은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 사시도이고;
도 18은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 사시도이고;
도 19는 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 사시도이고;
도 20은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 사시도이고;
도 21은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 사시도이다.
이제 본 개시의 예시적인 실시예가 예시된 첨부 도면을 참조로 본 개시를 더 완전하게 아래에서 설명할 것이다. 그러나, 본 개시는 다수의 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 본 명세서에서 설명하는 실시예에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다. 오히려, 이들 예시적인 실시예는 본 개시가 전적으로 완전하게 되고 본 개시의 범위를 당업자에게 완전히 전달하도록 제공된다. 동일한 참조 번호는 전체에 걸쳐 동일한 요소를 지칭한다.
본 명세서에 사용된 용어는 특정 예시적인 실시예만을 설명하기 위한 것으로, 본 개시를 제한하려고 의도된 것이 아니다. 본 명세서에 사용된 바와 같이, 단수 형태의 표현은 문맥이 달리 명시하지 않는 한, 복수 형태도 포함하도록 의도된 것이다. 본 명세서에 사용된 경우, "포함하다" 및/또는 "포함하는", 또는 "구비하다" 및/또는 "구비하는", 또는 "가지다" 및/또는 "갖는"이라는 용어는 언급된 특징, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분의 존재를 특정하지만, 하나 이상의 다른 특징, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 이들의 그룹의 존재 또는 추가를 배제하지 않는 것을 추가로 이해할 것이다.
달리 정의되지 않는 한, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학 용어 포함)는 본 개시가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 또한, 일반적으로 사용되는 사전에서 정의된 용어와 같은 용어는 관련 기술 및 본 개시의 맥락에서 그 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에 명시적으로 그렇게 정의되지 않는 한, 이상화되거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않을 것임을 더 이해할 것이다.
예시적인 EUV 레티클 포드(예, 포드 시스템(1))는 베이스(예, 내부 베이스(21)) 및 커버(예, 내부 커버(22))를 포함한다. 일부 실시예에서, 입자를 포획하거나 포집하기 위해 환형 루프 패턴을 갖는 적어도 하나의 트렌치 구조체가 베이스 상에 제공된다. 일부 다른 실시예에서, 원형 루프 구조를 갖는 적어도 하나의 트렌치가 입자를 포획 또는 포집하기 위해 베이스 상에 제공된다. 따라서, 입자가 탑재면과 EUV 레티클 사이의 영역으로 이동할 수 있는 위험이 완화된다. 이제 첨부 도면에 예시된 본 개시의 실시예의 내용 및 특징을 상세히 설명한다. 본 개시의 특징을 명확하게 나타내기 위해, 도면에서 요소를 단순화하거나 생략하였으며, 구성 요소의 상대적인 비율은 예시적인 목적일 뿐이다.
본 개시의 일 실시예에 따른 EUV 레티클 포드의 분해도인 도 1을 참조한다. EUV 레티클 포드(1)는 EUV 레티클(R)을 수용하기 위해 사용된다. EUV 레티클 포드(1)는 외부 박스 어셈블리(10) 및 내부 박스 어셈블리(20)를 포함한다. 외부 박스 어셈블리(10)는 서로 협력하여 내부 박스 어셈블리(20)의 수용을 위한 수용 공간(13)을 획정하는 상부 부분(11) 및 하부 부분(12)을 포함한다.
본 실시예에서, 외부 박스 어셈블리(10)의 상부 부분(11) 및 하부 부분(12)은 각각 한정되지는 않지만 직사각형 형상을 포함하는 사각형 형상으로 이루어진다. 상부 부분(11)과 하부 부분(12)이 서로 결합되면, 외부 박스 어셈블리(10)의 외부로부터 수용 공간(13)을 분리시키도록 기밀 상태가 형성된다. 상부 부분(11) 및 하부 부분(12)은 공기 밸브에 배치된 여과지와 같은 필터 재료를 갖는 하나 이상의 공기 밸브(도면에 미도시)를 구비한 것으로 예시될 수 있다. 공기는 공기 밸브를 통해 수용 공간(13)을 출입하면서 깨끗하게 유지될 수 있다. 상부 부분(11)은 여러 안내 요소(도면에 미도시)를 갖는 것으로 추가로 예시될 수 있다. 상부 부분(11)과 하부 부분(12)이 서로 부착될 때, 안내 요소는 해당 2개의 부분(11, 12)의 상대적 위치 또는 내부 박스 어셈블리(20)의 위치를 조정하고 수정하는 데 사용될 수 있다. 하부 부분(12)은 내부 박스 어셈블리(20)를 지지하기 위한 여러 지지 요소(도면에 미도시)를 갖는 것으로 추가로 예시될 수 있다. 전술한 요소, 그 구조 및 그 배치는 실제 제품의 요구에 따라 결정될 수 있으며, 본 개시에 한정되지 않는다.
도 1 및 도 2를 동시에 참조한다. 도 2는 도 1에 예시된 베이스의 사시도일 수 있다. 본 실시예의 내부 박스 어셈블리(20)는 베이스(21)와 커버(22)를 포함한다. 베이스(21)에는 상부면(210) 및 주변 벽(215)이 제공된다. 상부면(210)은 커버(22)에 대향된 베이스(21)의 표면이고, 다수의 위치 설정 부재(214)가 상부면(210) 상에 배치되어 그로부터 돌출된다. 주변 벽(215)은 베이스(21)의 외측벽이며, 상부면(210)에 연결되고 이를 둘러싼다.
위치 설정 부재(214)와 베이스(21)는 서로 다른 재료로 형성된다. 예를 들어, 베이스(21)가 금속 재료로 형성된 경우, 위치 설정 부재(214)는 내마모성 플라스틱과 같은 입자 저발생 재료로 형성된다. 일부 실시예에서, 위치 설정 부재(214)는 나사에 의해 베이스(21) 상에 고정되고, 상부면(210)으로부터 돌출될 수 있다. 위치 설정 부재(214)는 직사각형 EUV 레티클(R)의 4개의 코너에 대응하여 분포될 수 있다. 일부 실시예에서, 각각의 위치 설정 부재(214)는 EUV 레티클(R)의 위치를 안내하고 조정하기 위한 경사 안내 표면을 가진다. 위치 설정 부재(214)의 구성을 통해, EUV 레티클(R)을 위한 수용 공간(23)이 베이스(21) 위에 획정될 수 있다. 위치 설정 부재(214)의 구조, 수량, 고정 기구 및 배치는 도 2에 예시된 실시예에 한정되지 않는다. 위치 설정 부재(214)로서 베이스(21) 상에 수용 공간(23)을 획정할 수 있는 다른 형태의 요소가 본 개시에서 사용될 수 있다.
베이스(21)의 상부면(210)은 탑재면(211)(즉, 상부면(210)의 내부 영역), 트렌치 구조체(212) 및 제1 접촉면(213)(즉, 상부면(210)의 외부 영역)을 포함한다. 일부 실시예에 따르면, 탑재면(211), 트렌치(212) 및 제1 접촉면(213)은 상부면(210)의 중심으로부터 주변 벽(215) 측으로 순차적으로 분배된다. 즉, 탑재면(211)은 상부면(210)의 근접 중심에 있고, 제1 접촉면(213)은 상부면(210)의 외부 영역에 있으며, 트렌치(212)는 그 사이에 위치한다. EUV 레티클(R)은 수용 공간(23)에 수용될 때 탑재면(211) 위에 탑재된다. 트렌치(212)는 탑재면(211)보다 바닥이 낮은 환형 루프 패턴을 가진다. 본 실시예에서, 탑재면(211)은 평탄하고 대체로 평평한 표면이다. 트렌치(212)는 탑재면(211)을 연속적으로 완전히 둘러싸고, 제1 접촉면(213)은 트렌치(212)를 연속적으로 완전히 둘러싼다. 따라서, 하나의 완전한 환형 트렌치(212)가 도 2에 예시된 바와 같이 베이스(21) 상에 제공된다.
도 2 및 도 3을 동시에 참조한다. 도 3은 도 1에 예시된 내부 박스 어셈블리 및 EUV 레티클의 부분 단면도일 수 있다. 내부 박스 어셈블리(20) 및 수용된 EUV 레티클(R)의 일부만이 도 3에 예시되어 있다. 도 3의 좌측은 탑재면(211)의 중심에 가깝고, 도 3의 우측은 내부 박스 어셈블리(20)의 엣지(즉, 주변 벽(215)이 위치한 곳)를 보여준다. 탑재면(211), 트렌치(212) 및 제1 접촉면(213)은 상부면(210)의 중심으로부터 주변 벽(215) 측으로(도 3의 좌측에서 우측으로) 순차적으로 분배된다. 제1 접촉면(213)은 탑재면(211)보다 낮고, 트렌치(212)의 바닥은 제1 접촉면(213)보다 낮다. 트렌치(212)는 리세스 구조체이고, 최저 위치에 바닥을 가진다. 트렌치(212)의 바닥으로부터 측정시, 탑재면(211)에 연결되는 측벽은 제1 접촉면(213)에 연결되는 측벽보다 더 높다. 각 측벽은 날카로운 코너를 통해 또는 적어도 매우 작고 덜 휘어진 코너로 트렌치(212)의 바닥에 연결된다.
트렌치(212)는 입자를 포획하거나 포집하는 데 사용된다. 트렌치(212) 내의 입자가 기류에 의해 상승하면, 해당 입자는 탑재면(211)에 연결되는 측벽에 의해 차단된다. 입자가 EUV 레티클(R)과 탑재면(211) 사이의 영역으로 이동하거나 심지어 EUV 레티클(R)에 부착될 가능성이 낮아져 탑재면(211) 상의 오염을 감소시킬 수 있다. 트렌치(212)는 또 다른 유익한 측면을 가진다. 실제로, 제1 접촉면(213)과 제2 접촉면(223) 사이의 기밀 밀봉은 공정 변동 문제(예, 표면 처리 오류)로 인해 원하는 수준을 달성하지 못할 수 있다. 2개의 접촉면(213 및 223) 사이의 원하는 기밀성이 달성되지 않을 때, 입자를 트렌치(212) 측으로 유도하도록 접촉면 사이에 작은 기류 채널이 형성된다. 트렌치(212)의 2개의 측벽은 높이가 서로 다르기 때문에, 입자는 트렌치(212)에 포획되어 유지되고 탑재면(211)과 EUV 레티클(R) 사이의 영역으로 이동되는 것이 방지될 수 있다.
도 3에 예시된 것과 동일한 단면도일 수 있는 도 4를 참조한다. 본 실시예에서, 베이스(21)는 트렌치(212) 내에, 즉 트렌치(212)의 바닥면 상에 배치된 추가의 차단 부재(217)를 포함한다. 차단 부재(217)의 바닥으로부터 상단까지의 높이는 제1 접촉면(213)에 연결되는 트렌치(212)의 측벽보다 적어도 약간 더 높다. 커버(22)가 베이스(21)와 결합될 때, 차단 부재(217)의 상단부는 제2 접촉면(223)과 확실하게 접촉하게 된다. 그 결과, 입자가 탑재면(211)과 EUV 레티클(R) 사이의 영역으로 이동돠는 것이 방지될 수 있다. 일 실시예에서, 차단 부재(217)는 트렌치(212) 내에 연속적으로 끼워지도록 구성된 환형 루프 프로파일을 가진다. 일부 실시예에서, 차단 부재(217)는 트렌치(212) 내에 연속적으로 끼워지는 원형 루프 구조를 가진다.
도 2 및 도 5를 동시에 참조한다. 도 5는 도 2에 예시된 베이스의 단면도일 수 있다. 도 2의 베이스(21)의 단면도는 예를 들어, 도 2에 도시된 A-A' 라인을 따라 취한 것이다. 본 실시예에서, 베이스(21)의 상부면(210)은 트렌치(212)와 연통하는 적어도 하나의 오목부(216)를 더 포함한다. 예시된 실시예에서, 오목부(216)의 바닥은 트렌치(212)의 바닥보다 낮고, 탑재면(211)에 실질적으로 평행한 방향으로 연장된다. 오목부(216)의 폭은 트렌치(212)의 폭보다 크다. 오목부(216)는 입자를 포획하거나 포집하기 위해 더 큰 면적을 갖는 추가의 리세스 구조체이다. 따라서, 트렌치(212) 외에도, 입자는 오목부(216)에도 유지될 수 있다.
내부 박스 어셈블리(20)의 커버(22)는 도 6 및 도 7을 참조로 더 상세히 설명될 것이다. 도 6은 예시적인 커버(예, 도 1에 도시된 커버(22))의 사시도이다. 도 7은 예시적인 커버의 다른 사시도이다. 커버(22)는 베이스(21)와 결합하도록 구성되고, 오목부(221) 및 제2 접촉면(223)으로 형성된다. 오목부(221)는 EUV 레티클(R)을 수용하는 데 사용되며, 제2 접촉면(223)은 제1 접촉면(213)과 협력하여 예컨대, 도 3에 도시된 바와 같이 기밀한 밀봉을 형성하는 데 사용된다. 본 실시예에서, 제1 및 제2 접촉면(213, 223)은 상대적으로 낮은 거칠기를 갖는 평탄면 또는 평면이고, 서로 협력하여 접촉시 밀봉을 제공할 수 있다.
본 실시예에서, 커버(22)는 오목부(221)와 제2 접촉면(223) 사이에 오목면(222)을 포함한다. 오목면(222)은 베이스(21)의 상부면(210)과 오목면(222) 사이에 갭이 유지되도록 제2 접촉면(223)과는 다른 수평 높이에 위치된다. 더 구체적으로, 오목면(222)과 제2 접촉면(223)이 각각 위치되는 2개의 수평 높이는 2개의 평행한 수평 높이이다. 도 3에 예시된 바와 같이, 오목면(222)과 상부면(210)의 탑재면(211) 사이에 갭이 형성되고, 트렌치(212)는 제2 접촉면(223)에 의해 부분적으로 덮여있다. 커버(22)가 베이스(21)와 결합될 때, 침적된 입자 또는 기류에 의해 상승된 입자가 트렌치(212) 및 오목부(216) 내로 이동함으로써 그 안에 포획되거나 포집될 수 있다.
도 6 및 도 7을 참조한다. 본 실시예의 커버(22)는 다수의 가이드 부재(224)를 포함한다. 가이드 부재(224)는 커버(22)가 베이스(21)와 결합될 때 베이스(21) 측으로 연장되는 방식으로 구성된다. 베이스(21) 측으로 연장되는 가이드 부재(224)는 예를 들어 도 3에 도시된 바와 같이 베이스(21)의 주변 벽(215)과 탄성적으로 접촉하도록 구성된다. 커버(22)가 베이스(21)와 결합되는 동안, 가이드 부재(224)는 커버(22)와 베이스(21)의 상대 위치를 조정하고 수정하는 데 사용되어, 커버와 베이스가 정확하게 결합될 수 있다. 본 실시예에서, 가이드 부재(224)는 커버(22)의 4개의 코너에 대응하는 방식으로 구성될 수 있다. 그러나, 가이드 부재(224)의 수량 및 배치는 도 6 및 도 7에 도시된 실시예에 한정되지 않는다. 커버(22)와 베이스(21) 사이의 결합시 베이스(21) 측으로 연장되고 주변 벽(215)과 탄성적으로 접촉하는 다른 형태의 요소가 본 개시에서 가이드 부재(224)로서 사용될 수 있다.
본 실시예의 커버(22)는 위치 설정 부재(214)의 위치에 대응하는 다수의 탄성 부재(225)를 포함한다. 탄성 부재(225)는 커버(22)가 베이스(21)와 결합되고 내부 박스 어셈블리(20)가 외부 박스 어셈블리(10)에 수용될 때 워크피스(예, EUV 레티클(R))와 접촉하고 누르도록 구성된다. 탄성 부재(225)는 수직 방향으로의 EUV 레티클(R)의 이동을 억제하여 EUV 레티클(R)이 이동하는 것을 방지하여 구조적 부품 간의 마찰에 따른 오염물/입자의 발생을 억제하는 데 도움이 된다. 실제, 외부 박스 어셈블리(10)의 상부 부분(11)의 내면에는 탄성 부재(225)의 위치에 대응하여 배열될 수 있는 다수의 돌출 요소(도면에 미도시)가 배치될 수 있다. 내부 박스 어셈블리(20)가 외부 박스 어셈블리(10)의 수용 공간(13) 내에 수용되면, 돌출 요소가 탄성 부재(225)의 일단을 각각 가압할 수 있다. 탄성 부재(255)의 타단은 결과적으로 EUV 레티클(R)과 접촉하여 누르게 된다. 돌출 요소의 구조 및 구성은 본 예시적인 실시예에 예시된 것으로 제한되지 않는다.
본 실시예에서, 커버(22)는 적어도 하나의 공기 유입구(226)를 포함하고, 공기 유입구(226)에 여과 재료가 배치될 수 있다. 공기 유입구(226)는 공기가 오목부(221)로 유입되는 창을 제공한다. 공기가 공기 유입구(226)를 통해 오목부(221)로 퍼지될 때, 기류에 의해 운반된 오목부(221) 내의 입자는 탑재면(211) 외부의 트렌치(212) 측으로 이동함으로써 트렌치(212) 또는 오목부(216)에 포획되거나 포집될 수 있다.
예컨대, 도 1 내지 도 3에 예시된 바와 같은 탑재면, 트렌치 및 제1 접촉면의 평면도인 도 8을 참조한다. 전술한 바와 같이, 상부면(210)의 탑재면(211), 트렌치(212) 및 제1 접촉면(213)은 상부면(210)의 중심으로부터 주변 벽(215) 측으로 순차적으로 분배된다. 예시된 실시예에서, 트렌치(212)는 탑재면(211)을 완전하고 연속적으로 둘러싸고, 제1 접촉면(213)은 트렌치(212)를 완전하고 연속적으로 둘러싼다. 따라서, 완전한 환형 트렌치(212)가 베이스(21) 상에 제공된다. 그러나, 본 개시는 본 명세서에 제공된 특정한 예시에 한정되지 않는다. 예를 들어,일부 실시예에서, 예를 들어 베이스(21) 상에 추가의 디바이스 피처를 수용하도록 덜 완전히 둘러싸는 트렌치 패턴이 사용될 수 있다.
본 개시의 일부 실시예에 따른 탑재면, 트렌치 및 제1 접촉면의 평면도인 도 9를 참조한다. 도 9에 도시된 EUV 레티클 포드의 베이스(31)에 있어서 상부면(310)의 탑재면(311), 여러 트렌치 구조체(312) 및 제1 접촉면(313)은 탑재면(311)의 중심으로부터 주변 벽(314) 측으로 순차적으로 분배된다. 트렌치(312)는 각각 환형 루프의 평면 프로파일을 가지고 상부면(310) 상에 제공된다. 일부 실시예에서, 환형 루프 구조는 원형 루프 구조를 포함할 수 있다. 트렌치(312)는 탑재면(311)과 제1 접촉면(313) 사이에 배열되고, 각각은 베이스(31)의 코너에 근접한 위치 설정 부재(314)의 위치를 각각 둘러싼다. 각 트렌치(312)의 바닥은 제1 접촉면(313)과 탑재면(311)보다 낮다. 따라서, 각각의 트렌치(312)는 리세스 구조체를 포함한다. 위치 설정 부재(314)를 둘러싸는 트렌치(312)의 각각의 환형 루프 패턴은 대응하는 위치에서 생성된 입자를 포집하거나 포획하는 데 사용될 수 있다. 트렌치(312) 내의 입자는 기류에 의해 상승될 때 트렌치(312)의 측벽에 의해 차단될 수 있다. 따라서, 탑재면(311)으로의 입자 이동이 완화될 수 있고, EUV 레티클(R) 상의 입자 오염이 감소될 수 있다.
전술한 실시예에 따르면, EUV 레티클 포드는 외부 박스 어셈블리와 내부 박스 어셈블리를 포함한다. 외부 박스 어셈블리는 서로 협력하여 내부 박스 조립체를 위한 수용 공간을 획정하는 상부 부분 및 하부 부분을 포함한다. 내부 박스 어셈블리는 베이스와 커버를 포함한다. 베이스는 상부면과 주변 벽을 가진다. EUV 레티클을 위한 수용 공간을 획정하기 위해 다수의 위치 설정 부재가 상부면 상 배치되고 그로부터 돌출된다. 주변 벽은 상부면에 연결되고 이를 둘러싼다. 상부면은 탑재면, 적어도 하나의 트렌치 및 제1 접촉면을 포함한다. EUV 레티클은 수용 공간에 수용될 때 탑재면 위에 탑재된다. 일부 실시예에서, 트렌치는 환형 루프 구조를 가지며, 트렌치의 바닥은 탑재면보다 낮다. 일부 다른 실시예에서, 트렌치는 원형 루프 구조를 가지며, 트렌치의 바닥은 탑재면보다 낮다. 탑재면, 트렌치 및 제1 접촉면은 상부면의 중심으로부터 주변 벽 측으로 순차적으로 분배된다. 커버는 베이스와의 결합에 사용되며, EUV 레티클을 위한 오목부와 기밀한 밀봉을 형성하기 위해 제1 접촉면과 협력하기 위한 제2 접촉면을 포함한다. 환형 루프 구조 트렌치 내에 입자를 포획하거나 포집하는 것에 의해 입자 오염 문제가 완화될 수 있다.
도 10은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스(1001)의 평면도이다. 베이스(1001)는 상부면과 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 포함한다. 베이스(1001)의 상부면은 내부 영역(1011) 및 외부 영역(1013)을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서 내부 영역(1011)은 외부 영역(1013)에 대해 실질적으로 평면이다. 도 10의 P 라인은 내부 영역(1011)과 외부 영역(1013) 사이의 분할을 나타내는 데 사용된다.
베이스(1001)에는 복수의 위치 설정 구조체가 제공된다. 복수의 위치 설정 구조체는 내부 영역(1011) 내에 배치될 수 있다. 각 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(1014), 한 쌍의 위치 설정 부재(1014) 사이에 배치된 지지 부재(1031) 및 한 쌍의 위치 설정 부재(1014)와 지지 부재(1031)를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1032)를 포함한다.
한 쌍의 위치 설정 부재(1014)는 레티클 포드에 배치된 워크피스(R)(예, 레티클)의 코너를 위치 설정하는 데 사용될 수 있다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1014)는 각각 내부 영역(1011)의 표면으로부터 돌출된다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1031)는 위치 설정 부재(1014)의 높이(베이스의 바닥면으로부터의 높이)보다 낮은 높이(베이스의 바닥면으로부터의 높이)를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1031)는 내부 영역(1011)과 실질적으로 동일 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1031)는 내부 영역(1011)보다 큰 높이를 가질 수 있다. 그러나, 내부 영역(1011)으로부터의 지지 부재(1031)의 돌출부는 베이스(1001) 내에서의 워크피스(R)의 안정성을 방해하지 않는다.
가이드 트렌치 구조체(1032)의 벽은 한 쌍의 위치 설정 부재(1014) 및 지지 부재(1031)를 둘러싸는 평면 프로파일을 위한 라운드형 윤곽을 구비한다. 가이드 트렌치 구조체(1032)는 벽에 의해 둘러싸인 바닥을 더 구비한다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1011)에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체(1032)의 벽의 부분은 침입 입자(예, 베이스 내로 진공 흡인된)의 방향을 바로 베이스 밖으로 다시 안내하도록 구성된 라운드형 평면 프로파일을 가진다. 일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체(1032)의 벽(들)은 서로 연속적으로 결합된 복수의 원호형 섹션의 조합에 의해 형성될 수 있다. 가이드 트렌치 구조체(1032)의 바닥은 베이스의 바닥면으로부터의 내부 영역(1011)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 커버(예, 도 1에 도시된 커버(22))의 외부 영역은 커버가 베이스 위에 배치될 때 베이스(1001)의 외부 영역(1013)과 물리적으로 접촉할 수 있다.
도 11은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스(1101)의 평면도이다. 베이스(1101)는 상부면 및 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 포함한다. 베이스(1101)의 상부면은 내부 영역(1111) 및 외부 영역(1113)을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1111)은 외부 영역(1113)보다 높다. 베이스(1101)는 복수의 위치 설정 구조체를 포함한다. 복수의 위치 설정 구조체는 내부 영역(1111) 내에 배치될 수 있다. 각 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(1114), 한 쌍의 위치 설정 부재(1114) 사이에 배치된 지지 부재(1131) 및 한 쌍의 위치 설정 부재(1114) 및 지지 부재(1131)를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1132)를 포함한다.
한 쌍의 위치 설정 부재(1114)는 레티클 포드에 배치된 워크피스(R)의 코너를 위치 설정하는 데 사용될 수 있다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1114)는 내부 영역(1111)의 표면으로부터 돌출된다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1131)는 베이스의 바닥면으로부터의 위치 설정 부재(1114)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1131)는 내부 영역(1111)에 대해 실질적으로 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1131)는 내부 영역(1111)보다 더 큰 높이를 가질 수 있다. 그러나, 내부 영역(1111)으로부터의 지지 부재(1131)의 돌출은 베이스(1101) 내의 레티클(R)의 안정성을 방해하지 않는다.
한 쌍의 위치 설정 부재(1114) 및 지지 부재(1131)를 동시에 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1132)는 라운드형 윤곽을 갖는 벽을 구비한다. 가이드 트렌치 구조체(1132)는 벽에 의해 둘러싸인 바닥을 더 구비한다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1111)에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체(1132)의 벽의 부분은 베이스(1101) 내로 진공 흡인된 입자의 방향을 바로 베이스(1101) 밖으로 다시 안내하도록 라운드형 평면 프로파일을 가진다. 가이드 트렌치 구조체(1132)의 바닥은 베이스의 바닥면으로부터의 내부 영역(1111)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 가이드 트렌치 구조체(1132)의 바닥은 베이스의 바닥면으로부터의 외부 영역(1113)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 커버가 베이스 위에 배치될 때 커버(예, 전술한 바와 같은 커버(22))의 외부 영역은 베이스(1101)의 외부 영역(1113)과 물리적으로 접촉할 수 있다.
도 12는 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스(1201)의 사시도이다. 베이스(1201)는 상부면 및 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 포함한다. 베이스(1201)의 상부면은 내부 영역(1211) 및 외부 영역(1213)을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1211)은 외부 영역(1213)에 대해 실질적으로 평면이다. 일부 다른 실시예에서, 내부 영역(1211)은 외부 영역(1213)보다 더 높다.
베이스(1201)는 복수의 위치 설정 구조체를 포함한다. 복수의 위치 설정 구조체는 외부 영역(1213)과 내부 영역(1211) 사이에 배치될 수 있다. 각 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(1214), 한 쌍의 위치 설정 부재(1214) 사이에 배치된 지지 부재(1231) 및 한 쌍의 위치 설정 부재(1214)와 지지 부재(1231)를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1232)를 포함한다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1214)는 레티클 포드에 배치된 레티클(R)의 코너를 위치 설정하는 데 사용될 수 있다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1214)는 각각 내부 영역(1211)의 표면으로부터 돌출된다.
일부 실시예에서, 지지 부재(1231)는 베이스의 바닥면으로부터의 위치 설정 부재(1214)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1231)는 내부 영역(1211)에 대해 실질적으로 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1231)는 내부 영역(1211)보다 더 큰 높이를 가질 수 있다. 그러나, 내부 영역(1211)으로부터의 지지 부재(1231)의 돌출은 베이스(1201) 내의 레티클(R)의 안정성을 방해하지 않는다.
한 쌍의 위치 설정 부재(1214) 및 지지 부재(1231)를 동시에 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1232)의 벽은 평면 프로파일을 위한 라운드형 윤곽을 구비한다. 가이드 트렌치 구조체(1232)는 벽에 의해 둘러싸인 바닥을 더 구비한다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1211)에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체(1232)의 벽의 부분은 침입 입자(예, 베이스 내로 진공 흡인됨)의 방향을 바로 베이스 밖으로 다시 안내하도록 구성된 라운드형 평면 프로파일을 가진다. 가이드 트렌치 구조체(1232)의 바닥은 베이스의 바닥면으로부터의 내부 영역(1211)의 높이보다 낮은 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다.
일부 실시예에서, 베이스(1201)는 내부 영역(1211)과 외부 영역(1213) 사이에 배치된 주변 트렌치 구조체(1212)를 더 포함한다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1212)는 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 가진다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체는 주변 트렌치 구조체(1212)를 따라 형성된다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1212)는 가이드 트렌치 구조체(1232)와 교차한다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1212)는 가이드 트렌치 구조체(1232)에 인접한다. 도 12의 주변 트렌치 구조체(1212)는 내부 영역(1211)과 외부 영역(1213) 사이의 경계 분할을 예시한다. 일부 실시예에서, 외부 영역(1213)의 섹션의 폭(W1)은 외부 영역(1213)의 다른 섹션의 폭(W2)보다 크다. 예로서, 주변 트렌치 구조체(1212)의 평면 형상으로 인해, 상이한 부분에서 외부 영역(1213)에 대해 상이한 폭이 있을 수 있다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1212)의 일부는 베이스(1201)의 중심 측으로 함몰되어 있다. 일부 실시예에서, 커버가 베이스 위에 배치될 때 커버의 외부 영역은 베이스(1201)의 외부 영역(1213)과 물리적으로 접촉할 수 있다.
도 13은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스(1301)의 평면도이다. 베이스(1301)는 상부면 및 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 포함한다. 베이스(1301)의 상부면은 내부 영역(1311) 및 외부 영역(1313)을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1311)은 외부 영역(1313)에 대해 실질적으로 평면이다. 일부 다른 실시예에서, 내부 영역(1311)은 외부 영역(1313)보다 더 높다.
베이스(1301)는 복수의 위치 설정 구조체를 포함한다. 복수의 위치 설정 구조체는 내부 영역(1311) 내에 배치될 수 있다. 각 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(1314), 한 쌍의 위치 설정 부재(1314) 사이에 배치된 지지 부재(1331) 및 한 쌍의 위치 설정 부재(1314)와 지지 부재(1331)를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1332)를 포함한다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1314)는 레티클 포드에 배치된 워크피스(R)의 코너를 위치 설정하는 데 사용될 수 있다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1314)는 각각 내부 영역(1311)의 표면으로부터 돌출된다.
일부 실시예에서, 지지 부재(1331)는 베이스의 바닥면으로부터의 위치 설정 부재(1314)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1331)는 내부 영역(1311)에 대해 실질적으로 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1331)는 내부 영역(1311)보다 더 큰 높이를 가질 수 있다. 그러나, 내부 영역(1311)으로부터의 지지 부재(1331)의 돌출은 베이스(1301) 내의 워크피스(R)의 안정성을 방해하지 않을 수 있다.
한 쌍의 위치 설정 부재(1314) 및 지지 부재(1331)를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1332)는 라운드형 평면 윤곽을 갖는 벽(들)을 가진다. 가이드 트렌치 구조체(1332)는 벽에 의해 둘러싸인 바닥을 더 포함한다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1311)에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체(1332)의 벽의 부분은 베이스 내로 진공 흡인된 입자의 방향을 바로 베이스 밖으로 다시 안내하도록 라운드진다. 가이드 트렌치 구조체(1332)의 바닥은 베이스의 바닥면으로부터의 내부 영역(1311)의 높이보다 낮은 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다.
일부 실시예에서, 베이스(1301)는 내부 영역(1311)과 외부 영역(1313) 사이에 배치된 주변 트렌치 구조체(1312)를 더 포함한다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1312)는 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 가진다. 도 13의 주변 트렌치 구조체(1312)는 내부 영역(1311)과 외부 영역(1313) 사이의 구조적 분할부로서 기능한다. 또한, 가이드 트렌치 구조체(1332)는 주변 트렌치 구조체(1312)로부터 거리를 두고 배치될 수 있다. 커버가 베이스 위에 배치될 때 커버의 외부 영역은 베이스(1301)의 외부 영역(1313)과 물리적으로 접촉할 수 있다.
도 14a 내지 도 14d는 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스의 평면도이다. 도 10의 실시예와 동일한 방식으로, 도 14a, 도 14b 및 도 14d는 내부 영역(1411A, 1411B, 1411D) 내에 배치된 위치 설정 구조체를 예시한다. 각 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(예, 1414A, 1414B 및 1414D), 한 쌍의 위치 설정 부재(1414A, 1414B 및 1414D) 사이에 배치된 지지 부재(예, 1431A, 1431B 및 1431D) 및 한 쌍의 위치 설정 부재와 지지 부재를 둘러싸는 트렌치 구조체(예, 1432A, 1432B 및 1432D)를 포함한다. 특히, 도 14a, 14b 및 14d에 예시된 실시예는 가이드 트렌치 구조체(1432A, 1432B 및 1432D)에 대한 예시적인 평면 레이아웃을 제공한다.
예를 들어, 도 14a에서, 가이드 트렌치 구조체(1432A)는 실질적으로 W-형 구조를 가진다.
다른 예로서, 도 14b에서, 가이드 트렌치 구조체(1432B)는 실질적으로 U-형 구조를 가진다.
도 14d에서, 가이드 트렌치 구조체는 실질적으로 V-형 구조(1432D)를 가진다. 지지 부재(1431A, 1431B, 1431D)와 내부 영역(1411A, 1411B, 1411D)의 일부는 입자가 가이드 트렌치 구조체(1432A, 1432B, 1432D) 내에서 연속적으로 순환하는 것을 방지하는 장벽을 형성한다.
도 14a, 14b 및 14d에 예시된 실시예에서, 위치 설정 부재(1414A, 1414B, 1414D)는 버퍼 영역(예, 도 15a/15b에 도시된 버퍼 림(buffer rim)(1536))에 배치될 수 있다. 일부 실시예에서, 버퍼 림은 내부 영역(1411A, 1411B, 1411D) 내에 배치된다. 일부 실시예에서, 버퍼 림의 높이(즉, 림 표면과 베이스의 바닥면 사이의 거리)는 내부 영역(1411A, 1411B, 1411D)의 높이보다 낮을 수 있다. 일부 실시예에서, 버퍼 림의 높이는 가이드 트렌치 구조체(1432A, 1432B, 1432D)의 바닥면의 높이보다 높을 수 있다.
한편, 도 14c는 내부 영역(1411C) 내에 배치된 위치 설정 구조체를 예시한다. 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(1414C), 한 쌍의 위치 설정 부재(1414C) 사이에 배치된 지지 부재(1431C) 및 지지 부재(1431C)만을 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1432C)를 포함한다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1414C)의 루트(root)는 베이스의 상부면 상에 배치된다. 일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체(1432C)는 원형 평면 형상을 가진다. 일부 다른 실시예에서, 내부 영역의 중심에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체(1432C)의 벽의 부분은 입자를 워크피스로부터 멀리 안내하도록 형상이 라운드진다.
도 14e는 본 개시의 일부 실시예에 따른 B-B'를 따른 베이스의 단면도를 예시한다. 일부 실시예에서, 위치 설정 부재(1414C)는 배치 중에 레티클(R)의 안내를 가능케 하기 위해 레티클(R)의 위치를 향해 내측으로 감소하는 헤드 프로파일을 가진다.
예시된 실시예에서, 지지 부재(1431C)와 위치 설정 부재(1414C) 사이의 가이드 트렌치 구조체(1432C)는 가스 채널 영역(X)을 실질적으로 획정한다. 일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체(1432C)는 미리 결정된 임계값 이상의 단면적(X)으로 구성된다. 예를 들어, 일부 실시예에서, 지지 부재(1431C) 아래(예, 지지 부재(1431C)의 중앙 영역의 상부면 아래)에서 위치 설정 부재(1414C) 중 하나(예, 실질적으로 수용된 워크피스(R) 아래의 음영 면적(X)으로 표시됨)와의 사이의 단면적은 충분한 간극 임계값을 충족하도록 구성된다. 우선, 돌출 부재 사이(및 수용된 워크피스(R) 아래)의 충분히 큰 단면 트렌치 간극은 지지 부재(1431C) 주변의 가스 흐름 유도를 용이하게 하고 코너 영역에서 와류 발생을 촉진함으로써 포드 시스템의 작동 중에 입자의 포획을 향상시킬 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1431C)와 위치 설정 부재(1414C) 중 하나 사이의 단면적(X)은 25 mm2 이상이다.
도 14f를 참조하면, 일부 실시예에서, 지지 부재(예, 부재(1431C)) 주위의 트렌치 간극 면적은 그 중심축에 대해 결정될 수 있다. 예를 들어, 가이드 트렌치 면적(예, 면적(X'))에 대한 설계 기준은 지지 부재(1431C)의 중심축의 일측으로부터 결정될 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1431C)의 단면 중심선으로부터의 면적(X')은 25 mm2 이상이다. 각 돌출 부재(예,부재(1431C, 1414C)의 높이, 폭 및 분리 피치는 충분한 가스 채널 치수를 달성하기 위해 설계 규칙에 따라 조정될 수 있으므로 효과적인 가스 흐름 유도 및 입자 수집 능력을 보장할 수 있다.
도 15a는 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스(1501)의 평면도이다. 베이스는 상부면과 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 포함한다. 베이스(1501)의 상부면은 내부 영역(1511) 및 외부 영역(1513)을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1511)은 외부 영역(1513)에 대해 실질적으로 평면이다. 일부 다른 실시예에서, 내부 영역(1511)은 외부 영역(1513)보다 더 높다.
베이스(1501)는 복수의 위치 설정 구조체를 포함한다. 각각의 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(1514), 한 쌍의 위치 설정 부재(1514) 사이에 배치된 지지 부재(1531) 및 지지 부재(1531)를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1532)를 포함한다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1514)는 레티클 포드에 배치된 워크피스(R)의 코너를 위치 설정하는 데 사용될 수 있다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1514)는 베이스(1501)의 상부면으로부터 돌출되어 있다.
일부 실시예에서, 위치 설정 구조체는 가이드 트렌치 구조체(1532) 주위에 형성된 버퍼 림(1536)을 더 포함한다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1536)은 내부 영역(1511)보다 낮을 수 있다. 일부 실시예에서, 한 쌍의 위치 설정 부재(1514)는 버퍼 림(1536)으로부터 돌출되어 있다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1536)은 외부 영역(1513)에 대해 실질적으로 동일 평면일 수 있다.
일부 실시예에서, 지지 부재(1531)는 베이스의 바닥면으로부터의 위치 설정 부재(1514)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1531)는 내부 영역(1511)에 대해 실질적으로 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1531)는 내부 영역(1511)보다 더 큰 높이를 가질 수 있다. 그러나, 내부 영역(1511)으로부터의 지지 부재(1531)의 돌출은 베이스(1501) 내의 워크피스(R)의 안정성을 방해하지 않는다.
가이드 트렌치 구조체(1532)는 라운드형 평면 윤곽을 갖는 벽(들)을 구비한다. 가이드 트렌치 구조체(1532)는 벽에 의해 둘러싸인 바닥을 더 구비한다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1511)에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체(1532)의 벽의 부분은 베이스 내로 진공 흡인된 입자의 방향을 바로 베이스 밖으로 다시 안내하도록 라운드진다. 가이드 트렌치 구조체(1532)의 바닥은 베이스의 바닥면으로부터의 내부 영역(1511)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다.
일부 실시예에서, 베이스(1501)는 내부 영역(1511)과 외부 영역(1513) 사이에 배치된 주변 트렌치 구조체(1512)를 더 포함한다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1512)는 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 가진다. 도 15a의 주변 트렌치 구조체(1512)는 내부 영역(1511)과 외부 영역(1513) 사이의 분할을 예시한다. 일부 실시예에서, 복수의 위치 설정 구조체는 내부 영역(1511)과 주변 트렌치 구조체(1512) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 가이드 트렌치 구조체(1532)는 주변 트렌치 구조체(1512)로부터 거리를 두고 배열될 수 있다. 일부 실시예에서, 커버의 외부 영역은 커버가 베이스 위에 배치될 때 외부 영역(1513)과 물리적 접촉이 이루어지도록 구성될 수 있다.
일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1512)의 평면 형상은 베이스(1501)의 평면 형상과 유사할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 베이스(1501)의 평면 형상은 정사각형 또는 직사각형과 같은 사각형 형상일 수 있다. 따라서, 주변 트렌치 구조체(1512)의 평면 형상은 정사각형 또는 직사각형과 같은 사각형 형상일 수 있다. 일부 다른 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1512)의 평면 형상은 베이스(1501)의 평면 형상의 윤곽을 가질 수 있다.
도 15b는 본 개시의 일부 실시예에 따른 C-C'를 따른 베이스의 단면도이다. 일부 실시예에서, 한 쌍의 위치 설정 부재(1514)는 배치 중에 레티클(R)을 안내하도록 레티클(R)의 위치를 향해 내측으로 감소하는 형상을 갖는 헤드를 가진다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1536) 및 외부 영역(1513)의 높이(베이스의 바닥면으로부터의 높이)는 실질적으로 동일할 수 있다. 일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체(1532)의 바닥과 주변 트렌치 구조체(1512)의 바닥의 높이는 실질적으로 동일할 수 있다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1511)과 지지 부재(1531)의 높이는 실질적으로 동일할 수 있다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1511)의 높이는 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1536), 외부 영역(1513), 가이드 트렌치 구조체(1532)의 바닥 및 주변 트렌치 구조체(1512)의 바닥보다 더 높다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1536) 및 외부 영역(1513)의 높이는 가이드 트렌치 구조체(1532)의 바닥 및 주변 트렌치 구조체(1512)의 바닥의 높이보다 더 높다.
예시된 실시예에서, 지지 부재(1531) 주위의 가이드 트렌치 구조체(1532) 및 각각의 위치 설정 부재(1514) 주위의 버퍼 림(1536)은 서로 유체 연통되게 배열되고 서로 협력하여 계단 단면 프로파일을 생성한다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1531) 아래(예, 지지 부재(1531)의 중앙 영역에서 상부면 아래)에서 위치 설정 부재(1514) 중 하나와의 사이의 단면적(예, 수용된 워크피스(R) 아래의 음영 영역으로 실질적으로 표시됨)은 충분한 간극 임계값을 충족하도록 구성된다. 우선, 돌출 부재의 사이(및 수용된 워크피스(R) 아래)의 충분히 큰 단면 트렌치 간극은 지지 부재(1531) 주위의 가스 흐름 유도를 용이하게 하고 코너 영역에서 와류 발생을 촉진하여 포드 시스템의 작동 중에 입자의 포획을 향상시킬 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1531)와 위치 설정 부재(1514) 중 하나와의 사이의 단면적은 25 mm2 이상이다.
도 16은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스(1601)의 평면도이다. 베이스는 상부면과 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 포함한다. 베이스(1601)의 상부면은 내부 영역(1611) 및 외부 영역(1613)을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1611)은 외부 영역(1613)에 대해 실질적으로 평면이다. 일부 다른 실시예에서, 내부 영역(1611)은 외부 영역(1613)보다 더 높다. 베이스(1601)는 복수의 위치 설정 구조체를 포함한다.
각각의 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(1614), 한 쌍의 위치 설정 부재(1614) 사이에 배치된 지지 부재(1631) 및 지지 부재(1631)를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1632)를 포함한다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1614)는 레티클 포드에 배치된 워크피스(R)의 코너를 위치 설정하는 데 사용될 수 있다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1614)는 각각 베이스(1601)의 상부면으로부터 돌출된다.
일부 실시예에서, 위치 설정 구조체는 가이드 트렌치 구조체(1632) 주위에 형성된 버퍼 림(1636)을 더 포함한다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1636)은 내부 영역(1611)보다 낮을 수 있다. 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1636)은 외부 영역(1613)에 대해 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 한 쌍의 위치 설정 부재(1614)는 버퍼 림(1636)으로부터 돌출된다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1631)는 베이스의 바닥면으로부터의 위치 설정 부재(1614)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1631)는 내부 영역(1611)에 대해 실질적으로 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1631)는 내부 영역(1611)보다 더 큰 높이를 가질 수 있다. 그러나, 내부 영역(1611)으로부터의 지지 부재(1631)의 돌출은 베이스(1601) 내의 워크피스(R)의 안정성을 방해하지 않을 수 있다.
가이드 트렌치 구조체(1632)는 라운드형 윤곽을 갖는 벽(들)을 구비한다. 가이드 트렌치 구조체(1632)는 벽에 의해 둘러싸인 바닥을 더 구비한다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1611)에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체(1632)의 벽의 부분은 베이스 내로 진공 흡인된 입자의 방향을 바로 베이스 밖으로 다시 안내하도록 라운드진다. 가이드 트렌치 구조체(1632)의 바닥은 베이스(1601)의 바닥면으로부터의 내부 영역(1611)의 높이보다 낮은, 베이스(1601)의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 베이스(1601)는 내부 영역(1611)과 외부 영역(1613) 사이에 배치된 주변 트렌치 구조체(1612)를 더 포함한다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1612)는 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 가진다.
도 16의 주변 트렌치 구조체(1612)는 내부 영역(1611)과 외부 영역(1613) 사이에 물리적 분할을 제공한다. 일부 실시예에서, 복수의 위치 설정 구조체는 내부 영역(1611)과 주변 트렌치 구조체(1612) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 가이드 트렌치 구조체(1632)의 일부는 주변 트렌치 구조체(1612)와 교차할 수 있다. 일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체(1632)의 일부는 주변 트렌치 구조체(1612)와 인접한다. 일부 실시예에서, 커버의 외부 영역은 커버가 베이스(1601) 위에 배치될 때 외부 영역(1613)과 물리적으로 접촉할 수 있다.
일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1612)의 평면 형상은 베이스(1601)의 평면 형상과 상이할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 베이스(1601)의 평면 형상은 정사각형 또는 직사각형과 같은 사각형 형상일 수 있다. 반면, 주변 트렌치 구조체(1612)의 평면 형상은 날카로운 코너의 존재를 방지하기 위해 다각형 형상일 수 있다. 이러한 방식으로, 입자가 주변 트렌치 구조체(1612)의 코너에 포획될 가능성이 감소된다.
도 17은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스(1701)의 사시도이다. 베이스는 상부면과 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 포함한다. 베이스의 상부면은 내부 영역(1711) 및 외부 영역(1713)을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1711)은 외부 영역(1713)에 대해 실질적으로 평면이다. 일부 다른 실시예에서, 내부 영역(1711)은 외부 영역(1713)보다 높다.
베이스(1701)는 복수의 위치 설정 구조체를 포함한다. 각각의 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(1714), 한 쌍의 위치 설정 부재(1714) 사이에 배치된 지지 부재(1731) 및 지지 부재(1731)를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1732)를 포함한다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1714)는 레티클 포드에 배치된 워크피스(R)의 코너를 위치 설정하는 데 사용될 수 있다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1714)는 상부면으로부터 돌출되어 있다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체는 가이드 트렌치 구조체(1732) 주위에 형성된 버퍼 림(1736)을 더 포함한다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1736)은 내부 영역(1711)보다 낮을 수 있다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1736)은 외부 영역(1713)에 대해 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 한 쌍의 위치 설정 부재(1714)는 버퍼 림(1736)으로부터 돌출되어 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1731)는 베이스의 바닥면으로부터의 위치 설정 부재(1714)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1731)는 내부 영역(1711)에 대해 실질적으로 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1731)는 내부 영역(1711)보다 더 큰 높이를 가질 수 있다. 그러나, 내부 영역(1711)으로부터의 지지 부재(1731)의 돌출은 베이스(1701) 내의 워크피스(R)의 안정성을 방해하지 않는다.
가이드 트렌치 구조체(1732)는 라운드형 윤곽을 가지는 벽을 구비한다. 가이드 트렌치 구조체(1732)는 벽에 의해 둘러싸인 바닥을 더 구비한다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1711)에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체(1732)의 벽의 부분은 베이스 내로 진공 흡인된 입자의 방향을 바로 베이스 밖으로 다시 안내하도록 라운드진다. 가이드 트렌치 구조체(1732)의 바닥은 베이스(1701)의 바닥면으로부터의 내부 영역(1711)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 베이스(1701)는 내부 영역(1711)과 외부 영역(1713) 사이에 배치된 주변 트렌치 구조체(1712)를 더 포함한다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1712)는 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 가진다.
도 17의 주변 트렌치 구조체(1712)는 내부 영역(1711)과 외부 영역(1713) 사이에 물리적 분할을 제공한다. 일부 실시예에서, 복수의 위치 설정 구조체는 내부 영역(1711)과 주변 트렌치 구조체(1712) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 가이드 트렌치 구조체(1732)의 일부는 주변 트렌치 구조체(1712)와 교차할 수 있다. 일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체(1732)의 일부는 주변 트렌치 구조체(1712)와 인접한다. 일부 실시예에서, 커버의 외부 영역은 커버가 베이스 위에 배치될 때 외부 영역(1713)과 물리적으로 접촉할 수 있다.
일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1712)의 평면 형상은 베이스(1701)의 평면 형상과 상이할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 베이스(1701)의 평면 형상은 정사각형 또는 직사각형과 같은 사각형 형상일 수 있다. 한편, 주변 트렌치 구조체(1712)의 평면 형상은 코너가 생기지 않도록 환형일 수 있다. 이러한 방식으로, 입자가 주변 트렌치 구조체(1712)의 코너에 포획될 가능성이 감소된다.
도 18은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스(1801)의 사시도이다. 베이스는 상부면과 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 포함한다. 베이스의 상부면은 내부 영역(1811) 및 외부 영역(1813)을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1811)은 외부 영역(1813)에 대해 실질적으로 평면이다. 일부 다른 실시예에서, 내부 영역(1811)은 외부 영역(1813)보다 더 높다.
베이스(1801)는 복수의 위치 설정 구조체를 포함한다. 각각의 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(1814), 한 쌍의 위치 설정 부재(1814) 사이에 배치된 지지 부재(1831) 및 지지 부재(1831)를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1832)를 포함한다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1814)는 레티클 포드에 배치된 워크피스(R)의 코너를 위치 설정하는 데 사용될 수 있다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1814)는 상부면으로부터 돌출되어 있다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체는 가이드 트렌치 구조체(1832) 주위에 형성된 버퍼 림(1836)을 더 포함한다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1836)은 내부 영역(1811)보다 낮을 수 있다. 이러한 방식으로, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1836)과 내부 영역(1811) 사이에 벽(1837)이 형성된다. 벽(1837)은 평면 프로파일이 라운드형일 수 있다. 벽(1837)은 입자가 워크피스(R)에 도달하는 것을 방지하는 데에도 사용된다. 벽(1837)의 라운드 형상은 베이스(1801)로부터 국부적인 가스 흐름 방향을 안내하도록 추가로 구성된다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1836)은 외부 영역(1813)에 대해 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 한 쌍의 위치 설정 부재(1814)는 각각 버퍼 림(1836)으로부터 돌출된다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1831)는 베이스의 바닥면으로부터의 위치 설정 부재(1814)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1831)는 내부 영역(1811)에 대해 실질적으로 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1831)는 내부 영역(1811)보다 더 큰 높이를 가질 수 있다. 그러나, 내부 영역(1811)으로부터의 지지 부재(1831)의 돌출은 베이스(1801) 내의 워크피스(R)의 안정성을 방해하지 않는다.
가이드 트렌치 구조체(1832)는 라운드형 윤곽을 가지는 벽을 구비한다. 가이드 트렌치 구조체(1832)는 벽에 의해 둘러싸인 바닥을 더 구비한다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1811)에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체(1832)의 벽의 부분은 벽(1837)과 동일한 방식으로 베이스 내로 진공 흡인된 입자의 방향을 바로 베이스 밖으로 다시 안내하도록 라운드진다. 가이드 트렌치 구조체(1832)의 바닥은 베이스(1801)의 바닥면으로부터의 내부 영역(1811)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 베이스(1801)는 내부 영역(1811)과 외부 영역(1813) 사이에 배치된 주변 트렌치 구조체(1812)를 더 포함한다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1812)는 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 가진다. 도 18의 주변 트렌치 구조체(1812)는 내부 영역(1811)과 외부 영역(1813) 사이의 분할을 형성한다.
일부 실시예에서, 복수의 위치 설정 구조체는 내부 영역(1811)과 주변 트렌치 구조체(1812) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 가이드 트렌치 구조체(1832)의 일부는 주변 트렌치 구조체(1812)와 교차할 수 있다. 일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체(1832)의 일부는 주변 트렌치 구조체(1812)와 인접한다. 일부 실시예에서, 커버의 외부 영역은 커버가 베이스 위에 배치될 때 외부 영역(1813)과 물리적으로 접촉할 수 있다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1812)의 평면 형상은 베이스(1801)의 평면 형상과 다를 수 있다. 예시적인 실시예에서, 베이스(1801)의 평면 형상은 정사각형 또는 직사각형과 같은 사각형 형상일 수 있다. 반면, 주변 트렌치 구조체(1812)의 평면 형상은 코너를 갖는 것을 방지하도록 환형 형상일 수 있다. 이러한 방식으로, 입자가 주변 트렌치 구조체(1812)의 코너에 포획될 가능성이 감소된다.
도 19는 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스(1901)의 사시도이다. 베이스는 상부면과 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 포함한다. 베이스의 상부면은 내부 영역(1911) 및 외부 영역(1913)을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1911)은 외부 영역(1913)에 대해 실질적으로 평면이다. 일부 다른 실시예에서, 내부 영역(1911)은 외부 영역(1913)보다 더 높다.
베이스(1901)는 복수의 위치 설정 구조체를 포함한다. 각각의 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(1914), 한 쌍의 위치 설정 부재(1914) 사이에 배치된 지지 부재(1931) 및 지지 부재(1931)를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(1932)를 포함한다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1914)는 레티클 포드에 배치된 워크피스(R)의 코너를 위치 설정하는 데 사용될 수 있다. 한 쌍의 위치 설정 부재(1914)는 상부면으로부터 돌출되어 있다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체는 가이드 트렌치 구조체(1932) 주위에 형성된 버퍼 림(1936)을 더 포함한다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1936)은 내부 영역(1911)보다 낮을 수 있다. 이 방식으로, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1936)과 내부 영역(1911) 사이에 벽(1937)이 형성된다. 벽(1937)은 평면 프로파일이 라운드형일 수 있다. 벽(1937)은 입자가 워크피스(R)에 도달하는 것을 방지할 수 있게도 사용된다. 벽(1937)의 라운드 형상은 또한 베이스(1901) 밖으로 방향을 안내하는 데 사용된다. 예시적인 실시예에서, 벽(1937)은 원호형 프로파일을 갖도록 형성된다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(1936)은 외부 영역(1913)에 대해 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 한 쌍의 위치 설정 부재(1914)는 버퍼 림(1936)으로부터 돌출된다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1931)는 베이스의 바닥면으로부터의 위치 설정 부재(1914)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1931)는 내부 영역(1911)에 대해 실질적으로 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(1931)는 내부 영역(1911)보다 더 큰 높이를 가질 수 있다. 그러나, 내부 영역(1911)으로부터의 지지 부재(1931)의 돌출은 베이스(1901) 내의 워크피스(R)의 안정성을 방해하지 않는다.
가이드 트렌치 구조체(1932)는 라운드형 윤곽을 가지는 벽을 구비한다. 가이드 트렌치 구조체(1932)는 벽에 의해 둘러싸인 바닥을 더 구비한다. 일부 실시예에서, 내부 영역(1911)에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체(1932)의 벽의 부분은 베이스 내로 진공 흡인된 입자의 방향을 바로 베이스 밖으로 다시 안내하도록 라운드진다. 가이드 트렌치 구조체(1932)의 바닥은 베이스의 바닥면으로부터의 내부 영역(1911)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 베이스(1901)는 내부 영역(1911)과 외부 영역(1913) 사이에 배치된 주변 트렌치 구조체(1912)를 더 포함한다.
도 19의 주변 트렌치 구조체(1912)는 내부 영역(1911)과 외부 영역(1913) 사이에 분할을 형성한다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1912)는 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 가진다. 일부 실시예에서, 복수의 위치 설정 구조체는 내부 영역(1911)과 주변 트렌치 구조체(1912) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 가이드 트렌치 구조체(1932)는 주변 트렌치 구조체(1912)로부터 거리를 두고 배치될 수 있다. 일부 실시예에서, 커버의 외부 영역은 커버가 베이스 위에 배치될 때 외부 영역(1913)과 물리적으로 접촉할 수 있다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(1912)의 평면 형상은 베이스(1901)의 평면 형상과 유사할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 베이스(1901)의 평면 형상은 정사각형 또는 직사각형과 같은 사각형 형상일 수 있다. 따라서, 주변 트렌치 구조체(1912)의 평면 형상은 정사각형 또는 직사각형과 같은 사각형 형상일 수 있다.
도 20은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스(2001)의 사시도이다. 베이스는 상부면과 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 포함한다. 베이스의 상부면은 내부 영역(2011) 및 외부 영역(2013)을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 내부 영역(2011)은 외부 영역(2013)에 대해 실질적으로 평면이다. 일부 다른 실시예에서, 내부 영역(2011)은 외부 영역(2013)보다 높다.
베이스(2001)는 복수의 위치 설정 구조체를 포함한다. 각각의 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(2014), 한 쌍의 위치 설정 부재(2014) 사이에 배치된 지지 부재(2031) 및 지지 부재(2031)를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(2032)를 포함한다. 한 쌍의 위치 설정 부재(2014)는 레티클 포드에 배치된 워크피스(R)의 코너를 위치 설정하는 데 사용될 수 있다. 한 쌍의 위치 설정 부재(2014)는 상부면으로부터 돌출되어 있다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체는 가이드 트렌치 구조체(2032) 주위에 형성된 버퍼 림(2036)을 더 포함한다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(2036)은 내부 영역(2011)보다 낮을 수 있다. 이러한 방식으로, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(2036)과 내부 영역(2011) 사이에 벽(2037)이 형성된다. 벽(2037)은 평면 프로파일이 라운드형일 수 있다. 벽(2037)은 또한 입자가 워크피스(R)에 도달하는 것을 방지하도록 사용된다. 벽(2037)의 라운드 형상은 또한 베이스(2001) 밖으로 방향을 안내하도록 사용된다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(2036)은 외부 영역(2013)에 대해 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 한 쌍의 위치 설정 부재(2014)는 버퍼 림(2036)으로부터 돌출되어 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(2031)는 베이스의 바닥면으로부터의 위치 설정 부재(2014)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(2031)는 내부 영역(2011)에 대해 실질적으로 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(2031)는 내부 영역(2011)보다 더 큰 높이를 가질 수 있다. 그러나, 내부 영역(2011)으로부터의 지지 부재(2031)의 돌출은 베이스(2001) 내의 워크피스(R)의 안정성을 방해하지 않는다.
가이드 트렌치 구조체(2032)는 라운드형 윤곽을 갖는 벽을 구비한다. 가이드 트렌치 구조체(2032)는 벽에 의해 둘러싸인 바닥을 더 구비한다. 일부 실시예에서, 내부 영역(2011)에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체(2032)의 벽의 부분은 벽(2037)과 동일한 방식으로 베이스 내로 진공 흡인된 입자의 방향을 바로 베이스 밖으로 다시 안내하도록 라운드진다. 가이드 트렌치 구조체(2032)의 바닥은 베이스(2001)의 바닥면으로부터의 내부 영역(2011)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다.
일부 실시예에서, 베이스(2001)는 내부 영역(2011)과 외부 영역(2013) 사이에 배치된 주변 트렌치 구조체(2012)를 더 포함한다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(2012)는 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 가진다. 도 20의 주변 트렌치 구조체(2012)는 내부 영역(2011)과 외부 영역(2013) 사이의 분할을 보여준다. 일부 실시예에서, 복수의 위치 설정 구조체는 내부 영역(2011)과 주변 트렌치 구조체(2012) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 가이드 트렌치 구조체(2032)의 일부는 주변 트렌치 구조체(2012)와 교차한다. 일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체(2032)의 일부는 주변 트렌치 구조(2012)와 인접한다. 또한, 가이드 트렌치 구조체(2032)는 내부 영역(2011)으로부터 거리를 두고 있을 수 있다. 위치 설정 구조체의 버퍼 림(2036)은 가이드 트렌치 구조체(2032)와 내부 영역(2011) 사이에 배열된다. 일부 실시예에서, 커버의 외부 영역은 커버가 베이스 위에 배치될 때 외부 영역(2013)과 물리적으로 접촉할 수 있다.
일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(2012)의 평면 형상은 베이스(2001)의 평면 형상과 다를 수 있다. 예시적인 실시예에서, 베이스(2001)의 평면 형상은 정사각형 또는 직사각형과 같은 사각형 형상일 수 있다. 반면, 주변 트렌치 구조체(2012)의 평면 형상은 코너가 생기지 않도록 환형일 수 있다. 이러한 방식으로, 입자가 주변 트렌치 구조체(2012)의 코너에 포획될 가능성이 감소된다.
도 21은 본 개시의 일부 실시예에 따른 베이스(2101)의 사시도이다. 베이스는 상부면과 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 포함한다. 베이스의 상부면은 내부 영역(2111) 및 외부 영역(2113)을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 내부 영역(2111)은 외부 영역(2113)에 대해 실질적으로 평면이다. 일부 다른 실시예에서, 내부 영역(2111)은 외부 영역(2113)보다 더 높다. 베이스(2101)는 복수의 위치 설정 구조체를 포함한다. 위치 설정 구조체는 타원형 평면 형상을 가질 수 있다.
각각의 위치 설정 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재(2114), 한 쌍의 위치 설정 부재(2114) 사이에 배치된 지지 부재(2131) 및 지지 부재(2131)를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체(2132)를 포함한다. 한 쌍의 위치 설정 부재(2114)는 레티클 포드에 배치된 워크피스(R)의 코너를 위치 설정하는 데 사용될 수 있다. 한 쌍의 위치 설정 부재(2114)는 상부면으로부터 돌출되어 있다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체는 가이드 트렌치 구조체(2132) 주위에 형성된 버퍼 림(2136)을 더 포함한다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(2136)은 내부 영역(2111)보다 낮을 수 있다. 이러한 방식으로, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(2136)과 내부 영역(2111) 사이에 벽(2137)이 형성된다. 벽(2137)은 평면 프로파일이 라운드형일 수 있다. 벽(2137)은 또한 입자가 워크피스(R)에 도달하는 것을 방지하는 데 사용된다. 벽(2137)의 라운드형 평면 프로파일은 또한 베이스(2101) 밖으로 방향을 안내하는 데 사용된다. 일부 실시예에서, 위치 설정 구조체의 버퍼 림(2136)은 외부 영역(2113)에 대해 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 한 쌍의 위치 설정 부재(2114)는 버퍼 림(2136)으로부터 돌출되어 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(2131)는 베이스의 바닥면으로부터의 위치 설정 부재(2114)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(2131)는 내부 영역(2111)에 대해 실질적으로 평면일 수 있다. 일부 실시예에서, 지지 부재(2131)는 내부 영역(2111)보다 더 큰 높이를 가질 수 있다. 그러나, 내부 영역(2111)으로부터의 지지 부재(2131)의 돌출은 베이스(2101) 내의 워크피스(R)의 안정성을 방해하지 않는다.
가이드 트렌치 구조체(2132)는 라운드형 윤곽을 갖는 벽을 구비한다. 가이드 트렌치 구조체(2132)는 벽에 의해 둘러싸인 바닥을 더 구비한다. 일부 실시예에서, 내부 영역(2111)에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체(2132)의 벽의 부분은 벽(2137)과 동일한 방식으로 베이스 내로 진공 흡인된 입자의 방향을 바로 베이스 밖으로 다시 안내하도록 라운드진다. 가이드 트렌치 구조체(2132)의 바닥은 베이스(2101)의 바닥면으로부터의 내부 영역(2111)의 높이보다 낮은, 베이스의 바닥면으로부터의 높이를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 베이스(2101)는 내부 영역(2111)과 외부 영역(2113) 사이에 배치된 주변 트렌치 구조체(2112)를 더 포함한다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(2112)는 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 가진다.
도 21의 주변 트렌치 구조체(2112)는 내부 영역(2111)과 외부 영역(2113) 사이에 분할을 형성한다. 일부 실시예에서, 복수의 위치 설정 구조체는 내부 영역(2111)과 주변 트렌치 구조(2112) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 가이드 트렌치 구조체(2132)의 일부는 주변 트렌치 구조체(2112)와 교차할 수 있다. 일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체(2132)의 일부는 주변 트렌치 구조체(2112)와 인접한다. 또한, 가이드 트렌치 구조체(2132)는 내부 영역(2111)으로부터 거리를 두고 배열될 수 있다. 위치 설정 구조체의 버퍼 림(2136)은 가이드 트렌치 구조체(2132)와 내부 영역(2111) 사이에 있다. 일부 실시예에서, 커버의 외부 영역은 커버가 베이스 위에 배치될 때 외부 영역(2113)과 물리적으로 접촉할 수 있다.
일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체(2112)의 평면 형상은 베이스(2101)의 평면 형상과 상이할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 베이스(2101)의 평면 형상은 정사각형 또는 직사각형과 같은 사각형 형상일 수 있다. 반면, 주변 트렌치 구조체(2112)의 평면 형상은 코너가 생기지 않도록 환형일 수 있다. 이러한 방식으로, 입자가 주변 트렌치 구조체(2112)의 코너에 포획될 가능성이 감소된다.
전술한 모든 실시예에서, 베이스의 요소는 서로 호환 가능할 수 있다. 상기 실시예에서, 상기 베이스의 중심에 가장 가까이 형성된 가이드 트렌치 구조체의 벽은 원치 않는 입자를 베이스 밖으로 안내하도록 라운드형 평면 프로파일로 구성될 수 있다. 일부 실시예에서, 상기 가이드 트렌치 구조체는 지지 부재만이 가이드 트렌치 구조체에 의해 둘러싸인 형상의 원형 루프이다. 일부 실시예에서, 상기 가이드 트렌치 구조체는 지지 부재 및 한 쌍의 위치 설정 부재가 가이드 트렌치 구조체에 의해 둘러싸여 있는 서로 연속적으로 결합된 복수의 원호형 벽의 조합에 의해 형성된다. 일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체는 베이스의 내부 영역 내에 형성된다. 일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체는 베이스의 내부 영역과 외부 영역 사이에 형성된다. 일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체는 내부 영역으로부터 거리를 두고 있으며, 버퍼 림이 가이드 트렌치 구조체와 베이스의 내부 영역 사이에 배치된다. 일부 다른 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체는 주변 트렌치 구조로부터 거리를 두고 있으며, 가이드 트렌치 구조체와 주변 트렌치 구조체 사이에 버퍼 림이 배치된다. 가이드 트렌치 구조체와 동일한 방식으로, 상기 실시예에서의 주변 트렌치 구조체의 형상도 호환 가능하다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체는 베이스의 형상을 따른다. 일부 실시예에서, 주변 트렌치 구조체는 정사각형 또는 직사각형과 같은 사각형 형상을 가진다. 일부 다른 실시예에서, 주변 트렌치 구조체는 다각형 형상을 가진다. 추가의 실시예에서, 주변 트렌치 구조체는 입자 유지를 유발할 수 있는 코너를 감소시키도록 환형 형상을 가진다. 추가의 실시예에서, 주변 트렌치 구조체는 베이스의 평면 형상의 윤곽을 이루는 평면 형상을 가진다. 추가의 실시예에서, 주변 트렌치 구조체의 부분들은 베이스의 중심 측으로 함몰된다.
따라서, 본 개시의 일 양태는 워크피스를 수용하는 포드를 제공하며, 이 포드는 베이스를 포함하며, 이 베이스는, 상부면, 및 이 상부면 상에 배치되고 상부면으로부터 돌출된 복수의 위치 설정 부재를 포함한다. 상부면은, 상부면 상에 획정된 탑재면으로서, 워크피스가 수용될 때 그 탑재면 위에 워크피스가 탑재되는 것인 탑재면; 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 가지는 주변 트렌치 구조체로서, 주변 트렌치 구조체의 바닥은 탑재면보다 낮은 것인 주변 트렌치 구조체 ; 및 제1 접촉면을 포함하고, 탑재면, 주변 트렌치 구조체 및 제1 접촉면은 상부면의 중앙으로부터 엣지 측으로 순차적으로 분배되고, 제1 접촉면은 탑재면보다 낮고, 주변 트렌치 구조체의 바닥은 제1 접촉면보다 낮다.
일부 실시예에서, 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 갖는 주변 트렌치 구조체는 탑재면을 둘러싼다.
일부 실시예에서, 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 갖는 주변 트렌치 구조체는 한 쌍의 위치 설정 부재를 둘러싼다.
일부 실시예에서, 베이스는 복수의 위치 설정 부재 중 한 쌍의 사이에 배치된 지지 부재 및 지지 부재를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체를 더 포함한다.
일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체는 또한 한 쌍의 위치 설정 부재 주위로 연장된다.
일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체는 탑재면과 주변 트렌치 구조체 사이에 배치된다.
일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체는 제1 접촉면과 탑재면 사이에 배치되고, 주변 트렌치 구조체와 교차한다.
일부 실시예에서, 탑재면에 가장 가까운 가이드 트렌치 구조체의 벽의 부분은 라운드형이다.
따라서, 본 개시의 다른 양태는 웨크피스를 수용하는 포드를 제공하며, 이 포드는, 상부면과 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 가지는 베이스 및 내부 영역 주위에 배치된 위치 설정 구조체를 포함한다. 베이스의 상부면은 베이스의 중앙부에 형성된 내부 영역; 및 내부 영역을 둘러싸는 외부 영역을 포함한다. 위치 설정 구조체는 상부면으로부터 돌출된 한 쌍의 위치 설정 부재; 한 쌍의 위치 설정 부재 사이에 배치된 지지 부재; 및 이 지지 부재를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체를 포함한다.
일부 실시예에서, 바닥면으로부터의 외부 영역의 높이는 바닥면으로부터의 내부 영역의 높이 이하이다.
일부 실시예에서, 베이스의 상부면은 내부 영역과 외부 영역 사이에 배치된 주변 트렌치 구조체를 더 포함한다. 베이스의 바닥면으로부터의 주변 트렌치 구조체의 바닥의 높이는 바닥면으로부터의 외부 영역의 높이 및 바닥면으로부터의 내부 영역의 높이보다 낮다.
일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체는 내부 영역과 주변 트렌치 구조체 사이에 배치된다.
일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체는 주변 트렌치 구조체와 교차한다.
일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체는 또한 한 쌍의 위치 설정 부재 주위로 연장된다.
일부 실시예에서, 지지 부재를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체의 평면 패턴은 라운드형 윤곽을 구비한다.
따라서, 본 개시의 또 다른 양태는 포드를 제공하며, 이 포드는 복수의 코너를 갖는 베이스; 복수의 코너 중 하나의 코너 주위에 배열되고 베이스로부터 돌출되는 하는 한 쌍의 위치 설정 부재; 한 쌍의 위치 설정 부재 사이에 배치된 지지 부재; 및 라운드형 평면 프로파일을 갖고 지지 부재 주위에 배치된 가이드 트렌치 구조체를 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스의 내부 영역은 베이스의 외부 영역보다 높은 높이를 가진다.
일부 실시예에서, 한 쌍의 위치 설정 부재는 베이스의 외부 영역으로부터 돌출된다.
일부 실시예에서, 가이드 트렌치 구조체는 베이스의 외부 영역에 형성된다.
일부 실시예에서, 포드는 가이드 트렌치 구조체와 내부 영역 사이에 배열된 버퍼 림을 더 포함한다.
"제1" 및 "제2"와 같이 상세한 설명 및 청구범위에 사용된 서수는 반드시 우선 순위 또는 상하 방향을 나타내는 것은 아니며, 반대로, 이들은 단지 다른 요소를 구별하도록 의도된 것이다. 본 개시의 범위 또는 사상을 벗어나지 않고 본 개시의 구조에 대해 다양한 수정 및 변경이 이루어질 수 있다는 것은 당업자에게 분명할 것이다. 전술한 내용을 고려하여, 본 개시가 다음의 청구범위 내에 있는 경우 본 개시의 수정 및 변경을 포함하는 것으로 의도된다.

Claims (20)

  1. 워크피스를 수용하는 포드로서:
    상부면, 및 상기 상부면 상에 배치되고 상기 상부면으로부터 돌출되며 상기 워크피스의 위치를 획정하기 위한 복수의 위치 설정 부재를 갖는 베이스
    를 포함하고,
    상기 상부면은:
    상기 상부면 상에 획정된 탑재면으로서, 워크피스가 수용될 때 상기 워크피스가 상기 탑재면 위에 탑재되는 것인 탑재면;
    상기 탑재면을 둘러싸는 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 갖는 주변 트렌치 구조체로서, 상기 주변 트렌치 구조체의 바닥은 상기 탑재면보다 낮은 것인 주변 트렌치 구조체;
    상기 복수의 위치 설정 부재 중 한 쌍의 사이에 배치된 지지 부재;
    상기 지지 부재를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체로서, 상기 가이드 트렌치 구조체의 트렌치 간극은 가스 흐름을 유도하고 상기 지지 부재 주변의 와류를 촉진하기 위하여 임계값 크기보다 큰 것인, 가이드 트렌치 구조체; 및
    커버가 상기 베이스와 결합될 때, 상기 커버의 대응면과 접촉하기 위한 제1 접촉면
    을 포함하며,
    상기 탑재면, 상기 주변 트렌치 구조체 및 상기 제1 접촉면은 상기 상부면의 중앙으로부터 엣지 측으로 순차적으로 분배되고, 상기 제1 접촉면은 상기 탑재면보다 낮고, 상기 주변 트렌치 구조체의 바닥은 상기 제1 접촉면보다 낮은 것인 포드.
  2. 제1항에 있어서, 상기 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 갖는 상기 주변 트렌치 구조체는 상기 탑재면을 둘러싸는 것인 포드.
  3. 제1항에 있어서, 상기 폐쇄형 평면 루프 프로파일을 갖는 상기 주변 트렌치 구조체는 상기 복수의 위치 설정 부재 중 상기 한 쌍을 둘러싸는 것인 포드.
  4. 제1항에 있어서, 상기 가이드 트렌치 구조체는 또한 상기 한 쌍의 위치 설정 부재 주위로 연장되는 것인 포드.
  5. 제1항에 있어서, 상기 가이드 트렌치 구조체는 상기 탑재면과 상기 주변 트렌치 구조체 사이에 배치된 것인 포드.
  6. 제1항에 있어서, 상기 가이드 트렌치 구조체는 상기 제1 접촉면과 상기 탑재면 사이에 배치되고, 상기 주변 트렌치 구조체와 교차하는 것인 포드.
  7. 제1항에 있어서, 상기 탑재면에 가장 가까운 상기 가이드 트렌치 구조체의 벽의 일부분은 원호형 벽인 것인 포드.
  8. 워크피스를 수용하는 포드로서:
    상부면 및 이 상부면과는 반대측의 바닥면을 갖는 베이스로서, 상기 베이스의 상기 상부면은:
    상기 베이스의 중앙부에 형성된 내부 영역;
    상기 내부 영역을 둘러싸는 외부 영역; 및
    상기 내부 영역을 둘러싸고, 상기 내부 영역과 상기 외부 영역 사이에 배치되는 주변 트렌치 구조체;
    를 포함하는 것인 베이스; 및
    상기 내부 영역 주위에 배치되며 상기 워크피스의 위치를 획정하기 위한 위치 설정 구조체로서, 상기 위치 설정 구조체는:
    상기 상부면으로부터 돌출된 한 쌍의 위치 설정 부재;
    상기 한 쌍의 위치 설정 부재 사이에 배치된 지지 부재; 및
    상기 지지 부재를 둘러싸는 가이드 트렌치 구조체로서, 상기 가이드 트렌치 구조체의 트렌치 간극은 가스 흐름을 유도하고 상기 지지 부재 주변의 와류를 촉진하기 위하여 임계값 크기보다 큰 것인, 가이드 트렌치 구조체
    를 포함하는 것인 위치 설정 구조체
    를 포함하는 포드.
  9. 제8항에 있어서, 상기 바닥면으로부터의 상기 외부 영역의 높이는 상기 바닥면으로부터의 상기 내부 영역의 높이 이하인 것인 포드.
  10. 제8항에 있어서, 상기 베이스의 상기 바닥면으로부터의 상기 주변 트렌치 구조체의 바닥의 높이는 상기 바닥면으로부터의 상기 외부 영역의 높이 및 상기 바닥면으로부터의 상기 내부 영역의 높이보다 낮은 것인 포드.
  11. 제10항에 있어서, 상기 가이드 트렌치 구조체는 상기 내부 영역과 상기 주변 트렌치 구조체 사이에 배치된 것인 포드.
  12. 제10항에 있어서, 상기 가이드 트렌치 구조체는 상기 주변 트렌치 구조체와 교차하는 것인 포드.
  13. 제8항에 있어서, 상기 가이드 트렌치 구조체는 또한 상기 한 쌍의 위치 설정 부재 주위로 연장된 것인 포드.
  14. 제8항에 있어서, 상기 지지 부재를 둘러싸는 상기 가이드 트렌치 구조체의 평면 패턴은 라운드형 윤곽을 가지는 것인 포드.
  15. 복수의 코너 및 주변 트렌치 구조체를 가지는 베이스로서, 상기 주변 트렌치 구조체는 상기 베이스를 내부 영역과 외부 영역으로 분할하고 상기 내부 영역을 둘러싸는 것인, 베이스;
    상기 복수의 코너 중 하나의 코너 주위에 배열되고 상기 베이스로부터 돌출되며 워크피스의 위치를 획정하기 위한 한 쌍의 위치 설정 부재;
    상기 한 쌍의 위치 설정 부재 사이에 배치된 지지 부재; 및
    라운드형 평면 프로파일을 갖고 상기 지지 부재 주위에 배치된 가이드 트렌치 구조체로서, 상기 가이드 트렌치 구조체의 트렌치 간극은 가스 흐름을 유도하고 상기 지지 부재 주변의 와류를 촉진하기 위하여 임계값 크기보다 큰 것인, 가이드 트렌치 구조체
    를 포함하는 것인 포드.
  16. 제15항에 있어서, 상기 베이스의 상기 내부 영역은 상기 베이스의 상기 외부 영역보다 높은 높이를 가지는 것인 포드.
  17. 제16항에 있어서, 상기 한 쌍의 위치 설정 부재는 상기 베이스의 상기 외부 영역으로부터 돌출된 것인 포드.
  18. 제16항에 있어서, 상기 가이드 트렌치 구조체는 상기 베이스의 상기 외부 영역에 형성된 것인 포드.
  19. 제18항에 있어서, 상기 가이드 트렌치 구조체와 상기 내부 영역 사이에 배열된 버퍼 림을 더 포함하고,
    상기 버퍼 림의 높이는 상기 내부 영역의 높이보다 작고,
    상기 버퍼 림의 높이는 상기 가이드 트렌치 구조체의 바닥면의 높이보다 큰 것인 포드.
  20. 삭제
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