JPH0969552A - ウェハ移し替え装置 - Google Patents
ウェハ移し替え装置Info
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- JPH0969552A JPH0969552A JP22214695A JP22214695A JPH0969552A JP H0969552 A JPH0969552 A JP H0969552A JP 22214695 A JP22214695 A JP 22214695A JP 22214695 A JP22214695 A JP 22214695A JP H0969552 A JPH0969552 A JP H0969552A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】半導体装置の製造工程において、ウェハ表面を
傷つけることなくウェハの移し替えを行う小型のウェハ
移し替え装置を提供する。 【解決手段】ウェハカセット2に収納されたウェハ1
は、プッシャ−3に押し上げられることによりカセット
から取り出され、1対のチャック板4a、4bにより保持さ
れ他のウェハ保持装置へ移動する。プッシャ−3はウェ
ハ1と接する面にウェハの傾倒を防止する溝を有せず、
2つのチャック板4a、4bはそれぞれ対向面上にウェハ保
持装置2の溝に平行で等しい溝間隔を有する溝10を具備
し、溝10の下端はチャック板4a、4bの下端面22a ,22b
に開口され、溝10の深さは下端面において最も浅く形成
され、2つのチャック板4a、4bは対向面に垂直に移動
し、対抗面間の距離を変化させるが、最も開いた状態に
おいても対向面間の距離はウェハの直径よりも小さい。
傷つけることなくウェハの移し替えを行う小型のウェハ
移し替え装置を提供する。 【解決手段】ウェハカセット2に収納されたウェハ1
は、プッシャ−3に押し上げられることによりカセット
から取り出され、1対のチャック板4a、4bにより保持さ
れ他のウェハ保持装置へ移動する。プッシャ−3はウェ
ハ1と接する面にウェハの傾倒を防止する溝を有せず、
2つのチャック板4a、4bはそれぞれ対向面上にウェハ保
持装置2の溝に平行で等しい溝間隔を有する溝10を具備
し、溝10の下端はチャック板4a、4bの下端面22a ,22b
に開口され、溝10の深さは下端面において最も浅く形成
され、2つのチャック板4a、4bは対向面に垂直に移動
し、対抗面間の距離を変化させるが、最も開いた状態に
おいても対向面間の距離はウェハの直径よりも小さい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体の製造工程
において、とくにウェハカセット間あるいはウェハカセ
ットと各種治具の間においてウェハを複数枚まとめて移
動させるウェハ移し替え装置に関する。
において、とくにウェハカセット間あるいはウェハカセ
ットと各種治具の間においてウェハを複数枚まとめて移
動させるウェハ移し替え装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体の製造工程において、通常ウェハ
は例えば25枚を一組として図1に示すようにウェハ保
持装置としてのウェハカセット2に収納されている。ウ
ェハカセット2は側壁面に溝を有し、ウェハ同志が接触
しないようにウェハを一枚ずつ分離して保持する。例え
ば洗浄処理工程のように、ウェハを複数枚まとめてバッ
チ処理する場合には、ウェハはまとめてウェハケ−スか
ら取り出され、各処理装置の治具あるいは別のウェハケ
−スに移し替えられる。
は例えば25枚を一組として図1に示すようにウェハ保
持装置としてのウェハカセット2に収納されている。ウ
ェハカセット2は側壁面に溝を有し、ウェハ同志が接触
しないようにウェハを一枚ずつ分離して保持する。例え
ば洗浄処理工程のように、ウェハを複数枚まとめてバッ
チ処理する場合には、ウェハはまとめてウェハケ−スか
ら取り出され、各処理装置の治具あるいは別のウェハケ
−スに移し替えられる。
【0003】図6及至図13に従来のウェハ移し替え装
置を示す。図6、図7はウェハ移し替え装置をウェハ正
面(図1のX方向)から見た図である。ウェハ1を収納
しているウェハカセット2の上方に設置された、2組の
回転軸6a、6bを中心として回転するア−ム5a、5
bおよびチャック4a、4bと、ウェハ2を下方からこ
のチャック4a、4bまで持ち上げるプッシャ−3によ
りウェハ移し替え装置は構成される。チャック4a、4
bおよびプッシャ−3はウェハカセットと同様にウェハ
同志が接触しないようにウェハを一枚ずつ分離して保持
するための溝を有している。以下、図6、図7を用いて
ウェハ移し替え装置の動作を説明する。プッシャ−3が
ウェハカセット2の底部に設けられた開口部から侵入
し、上昇してウェハ1を上方、1zの位置まで持ち上げ
る。この時、チャック4a、4bは図6に示すように開
いた状態となっている。この時のチャック4a、4b間
の最大寸法をSとする。次に図7に示すようにア−ム5
a、5bおよびチャック4a、4bを閉じる。さらにプ
ッシャ−3が下降し、ウェハ1を位置1yまで戻し、チ
ャック4a4bに形成されている溝にウェハ1を挿入す
る。その後プッシャ−3はさらに下降し、元の位置まで
戻る。チャック部ユニットは上下左右方向に移動し、移
し替えられたウェハ1は次の移し替え位置まで移動して
他のウェハ保持装置としての各種治具あるいは他のウェ
ハカセットへの移し替えを行う。
置を示す。図6、図7はウェハ移し替え装置をウェハ正
面(図1のX方向)から見た図である。ウェハ1を収納
しているウェハカセット2の上方に設置された、2組の
回転軸6a、6bを中心として回転するア−ム5a、5
bおよびチャック4a、4bと、ウェハ2を下方からこ
のチャック4a、4bまで持ち上げるプッシャ−3によ
りウェハ移し替え装置は構成される。チャック4a、4
bおよびプッシャ−3はウェハカセットと同様にウェハ
同志が接触しないようにウェハを一枚ずつ分離して保持
するための溝を有している。以下、図6、図7を用いて
ウェハ移し替え装置の動作を説明する。プッシャ−3が
ウェハカセット2の底部に設けられた開口部から侵入
し、上昇してウェハ1を上方、1zの位置まで持ち上げ
る。この時、チャック4a、4bは図6に示すように開
いた状態となっている。この時のチャック4a、4b間
の最大寸法をSとする。次に図7に示すようにア−ム5
a、5bおよびチャック4a、4bを閉じる。さらにプ
ッシャ−3が下降し、ウェハ1を位置1yまで戻し、チ
ャック4a4bに形成されている溝にウェハ1を挿入す
る。その後プッシャ−3はさらに下降し、元の位置まで
戻る。チャック部ユニットは上下左右方向に移動し、移
し替えられたウェハ1は次の移し替え位置まで移動して
他のウェハ保持装置としての各種治具あるいは他のウェ
ハカセットへの移し替えを行う。
【0004】図8は図6においてA−A´の範囲を側方
(図1に置けるY方向)から見た図、図9は図6におい
てB−B´の範囲を上方(図1に置けるZ方向)から見
た図である。これらの図はカセット2内に傾いて収納さ
れているウェハ1がプッシャ−3のY型溝部8、9に挿
入される状態を示している。ここではウェハ1を受け取
るプッシャ−3の溝部入口8をウェハ1の傾きより広く
形成することにより、傾いて収納されているウェハ1を
溝内に導入することが可能な構造となっている。
(図1に置けるY方向)から見た図、図9は図6におい
てB−B´の範囲を上方(図1に置けるZ方向)から見
た図である。これらの図はカセット2内に傾いて収納さ
れているウェハ1がプッシャ−3のY型溝部8、9に挿
入される状態を示している。ここではウェハ1を受け取
るプッシャ−3の溝部入口8をウェハ1の傾きより広く
形成することにより、傾いて収納されているウェハ1を
溝内に導入することが可能な構造となっている。
【0005】図10はウェハ1がプッシャ−3の溝部9
に挿入され、垂直に立っている状態を示す。図11、図
12はウェハ1がプッシャ−3からチャック4a、4b
に受け取られる状態を示し、図11は図7においてC−
C´の範囲を側方(図1に置けるY方向)から見た図、
図12は図7においてD−D´の範囲を上方(図1に置
けるZ方向)から見た図である。プッシャ−3の垂直溝
部9において制限されたウェハ1の傾きよりチャック4
a、4bのV型溝10の入口を広くすることにより傾い
たウェハ1をチャック4a、4bに導入する構造となっ
ている。
に挿入され、垂直に立っている状態を示す。図11、図
12はウェハ1がプッシャ−3からチャック4a、4b
に受け取られる状態を示し、図11は図7においてC−
C´の範囲を側方(図1に置けるY方向)から見た図、
図12は図7においてD−D´の範囲を上方(図1に置
けるZ方向)から見た図である。プッシャ−3の垂直溝
部9において制限されたウェハ1の傾きよりチャック4
a、4bのV型溝10の入口を広くすることにより傾い
たウェハ1をチャック4a、4bに導入する構造となっ
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のウ
ェハ移し替え装置においては、チャック4a、4bを円
弧方向に回転させてカセット2の上部開口より広い幅ま
で開かせてチャックの開閉を行うため、図6に示すよう
にチャック4a、4bを開いた状態における最大寸法S
が大きく、カセット2の両側に空間が必要となり、装置
の小型化を図ることができない。特にウェハの大口径化
に伴い、装置を大型化する必要が生じ、クリ−ンル−ム
の省スペ−ス化が図れないためにクリ−ンル−ムの建設
費が増大するという問題が生じる。また、多槽式のカセ
ットレス洗浄およびエッチング工程においては、ウェハ
を各処理槽内で繰り返し移し替える必要がある。この
時、これら処理槽内の治具にウェハをセットするためア
−ムおよびチャックは処理槽内において開閉する。その
ため処理槽の幅をこの最大寸法Sに適合するように拡大
させる必要が生じ、装置の大型化に伴い装置の製造コス
トが増大してしまう。さらに、各処理槽内に必要な処理
液量が増加し、装置のランニングコストの増大を招いて
しまう。
ェハ移し替え装置においては、チャック4a、4bを円
弧方向に回転させてカセット2の上部開口より広い幅ま
で開かせてチャックの開閉を行うため、図6に示すよう
にチャック4a、4bを開いた状態における最大寸法S
が大きく、カセット2の両側に空間が必要となり、装置
の小型化を図ることができない。特にウェハの大口径化
に伴い、装置を大型化する必要が生じ、クリ−ンル−ム
の省スペ−ス化が図れないためにクリ−ンル−ムの建設
費が増大するという問題が生じる。また、多槽式のカセ
ットレス洗浄およびエッチング工程においては、ウェハ
を各処理槽内で繰り返し移し替える必要がある。この
時、これら処理槽内の治具にウェハをセットするためア
−ムおよびチャックは処理槽内において開閉する。その
ため処理槽の幅をこの最大寸法Sに適合するように拡大
させる必要が生じ、装置の大型化に伴い装置の製造コス
トが増大してしまう。さらに、各処理槽内に必要な処理
液量が増加し、装置のランニングコストの増大を招いて
しまう。
【0007】さらにプッシャ−3の溝部8、9の形状が
Y型であるため、ウェハ1をこのプッシャ−3の溝部9
より出し入れする時に、図11の(b)に示す角11a
および溝面11cにウェハ1が接触し、ウェハ表面に傷
を形成したり、汚染の原因となってしまう。特に溝面1
1cにおいてはウェハ1と溝面11cが面接触するため
にウェハ外周部に大きい傷が形成される可能性がある。
図11の(b)に示すプッシャ−3の溝面11b、図8
および図9に示すカセット2の溝面11d、図11およ
び図12に示すチャック4a、4bの溝面11eには、
ウェハ1外周のエッジ部のみが接触し面接触はしないた
め、ウェハ表面を傷付けることはない。例えば、図13
に示すようにプッシャ−3の溝部をV型にすることによ
り、ウェハ1をこのプッシャ−3の溝部9より出し入れ
する時のウェハ1と溝部9との面接触を防止することは
可能である。しかし、この場合、ウェハ1の傾きは上記
Y型溝において垂直溝部9により制限される傾きに比べ
て大きくなり、この大きく傾いたウェハ1をチャック4
a、4bの溝10に受け入れることが困難になってしま
う。本発明の目的は、半導体装置の製造工程において、
ウェハ表面を傷つけることなくウェハの移し替えを行う
小型のウェハ移し替え装置を提供することである。
Y型であるため、ウェハ1をこのプッシャ−3の溝部9
より出し入れする時に、図11の(b)に示す角11a
および溝面11cにウェハ1が接触し、ウェハ表面に傷
を形成したり、汚染の原因となってしまう。特に溝面1
1cにおいてはウェハ1と溝面11cが面接触するため
にウェハ外周部に大きい傷が形成される可能性がある。
図11の(b)に示すプッシャ−3の溝面11b、図8
および図9に示すカセット2の溝面11d、図11およ
び図12に示すチャック4a、4bの溝面11eには、
ウェハ1外周のエッジ部のみが接触し面接触はしないた
め、ウェハ表面を傷付けることはない。例えば、図13
に示すようにプッシャ−3の溝部をV型にすることによ
り、ウェハ1をこのプッシャ−3の溝部9より出し入れ
する時のウェハ1と溝部9との面接触を防止することは
可能である。しかし、この場合、ウェハ1の傾きは上記
Y型溝において垂直溝部9により制限される傾きに比べ
て大きくなり、この大きく傾いたウェハ1をチャック4
a、4bの溝10に受け入れることが困難になってしま
う。本発明の目的は、半導体装置の製造工程において、
ウェハ表面を傷つけることなくウェハの移し替えを行う
小型のウェハ移し替え装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、本発明のウェハ移し替え装置は、対向
する1対の側壁と底面とから構成され、前記側壁は対向
する側面上に開口している鉛直線方向の平行な複数の第
1の溝を具備し、前記底面は保持すべきウェハの直径よ
り小さい幅の開口部を有し、前記対向する側壁の溝の底
面間の間隔はウェハの直径よりも大きく選定され、ウェ
ハを前記第1の溝に1枚づつ挿入することにより前記ウ
ェハを鉛直線方向に直立した互いに分離した状態で保持
可能に構成されたウェハ保持装置と、前記ウェハ保持装
置の下方に設置され昇降機構を備えたプッシャ−と、前
記ウェハ保持装置の上方に設置されウェハを保持して前
記ウェハ保持装置から他のウェハ保持装置へ移動する機
構を有するチャックとから構成され、前記プッシャ−は
前記開口部より前記ウェハ保持装置内へ挿入され前記ウ
ェハを下方から支えると同時に昇降させる機構を具備
し、前記ウェハと接する面に前記ウェハ面に平行な溝を
有せず、前記チャックは前記ウェハ保持装置の前記側壁
面に平行な対向する2つのチャック板より構成され、こ
の2つのチャック板はそれぞれ対向面に開口している鉛
直線方向の第2の溝を有し、この第2の溝の下端は前記
チャック板下端面に開口し、前記第2の溝の前記下端面
における位置は前記第1の溝の前記側壁上端面における
位置に対応し、その溝の前記下端面における溝の幅は前
記第1の溝の前記側壁上端面における溝の幅より広く、
その溝の深さは前記下端面において最も浅く形成され、
前記チャックは前記チャック板を対向面に対して垂直に
移動させて対向面間の距離を変化させる移動機構を備
え、この移動機構は前記チャック板下端面を含む平面に
おける前記対向面の前記第2の溝の底面間の間隔がウェ
ハの直径よりも大きい第1の位置と前記間隔がウェハの
直径よりも小さい第2の位置とにチャック板を設定可能
に構成されていて、前記第1の位置においても前記対向
面間の距離はウェハの直径よりも小さいことを特徴とす
る。
達成するために、本発明のウェハ移し替え装置は、対向
する1対の側壁と底面とから構成され、前記側壁は対向
する側面上に開口している鉛直線方向の平行な複数の第
1の溝を具備し、前記底面は保持すべきウェハの直径よ
り小さい幅の開口部を有し、前記対向する側壁の溝の底
面間の間隔はウェハの直径よりも大きく選定され、ウェ
ハを前記第1の溝に1枚づつ挿入することにより前記ウ
ェハを鉛直線方向に直立した互いに分離した状態で保持
可能に構成されたウェハ保持装置と、前記ウェハ保持装
置の下方に設置され昇降機構を備えたプッシャ−と、前
記ウェハ保持装置の上方に設置されウェハを保持して前
記ウェハ保持装置から他のウェハ保持装置へ移動する機
構を有するチャックとから構成され、前記プッシャ−は
前記開口部より前記ウェハ保持装置内へ挿入され前記ウ
ェハを下方から支えると同時に昇降させる機構を具備
し、前記ウェハと接する面に前記ウェハ面に平行な溝を
有せず、前記チャックは前記ウェハ保持装置の前記側壁
面に平行な対向する2つのチャック板より構成され、こ
の2つのチャック板はそれぞれ対向面に開口している鉛
直線方向の第2の溝を有し、この第2の溝の下端は前記
チャック板下端面に開口し、前記第2の溝の前記下端面
における位置は前記第1の溝の前記側壁上端面における
位置に対応し、その溝の前記下端面における溝の幅は前
記第1の溝の前記側壁上端面における溝の幅より広く、
その溝の深さは前記下端面において最も浅く形成され、
前記チャックは前記チャック板を対向面に対して垂直に
移動させて対向面間の距離を変化させる移動機構を備
え、この移動機構は前記チャック板下端面を含む平面に
おける前記対向面の前記第2の溝の底面間の間隔がウェ
ハの直径よりも大きい第1の位置と前記間隔がウェハの
直径よりも小さい第2の位置とにチャック板を設定可能
に構成されていて、前記第1の位置においても前記対向
面間の距離はウェハの直径よりも小さいことを特徴とす
る。
【0009】さらに、本発明のウェハ移し替え装置は、
前記第2の溝の幅が溝の深さ方向に向かって減少した形
状を有することを特徴とする。このように、本発明によ
るウェハ移し替え装置では、チャック板に形成された第
2の溝がウェハ保持装置の側壁に形成された第1の溝に
対応するようにチャック板の下端面をウェハ保持装置の
側壁上端面に接近させる。さらにチャック板を対向面に
垂直方向に移動させて、チャック板の対向面の間の距離
がウェハの直径よりも小さく、チャック板の下端面を含
む平面内におけるチャック板の対向面の第2の溝の底面
間の間隔がウェハの直径よりも大きい第1の位置にチャ
ック板を設定する。
前記第2の溝の幅が溝の深さ方向に向かって減少した形
状を有することを特徴とする。このように、本発明によ
るウェハ移し替え装置では、チャック板に形成された第
2の溝がウェハ保持装置の側壁に形成された第1の溝に
対応するようにチャック板の下端面をウェハ保持装置の
側壁上端面に接近させる。さらにチャック板を対向面に
垂直方向に移動させて、チャック板の対向面の間の距離
がウェハの直径よりも小さく、チャック板の下端面を含
む平面内におけるチャック板の対向面の第2の溝の底面
間の間隔がウェハの直径よりも大きい第1の位置にチャ
ック板を設定する。
【0010】その後、プッシャ−によりウェハを下方か
ら押し上げ、チャック板の対向面に形成された対向する
第2の溝に各々一枚ずつウェハを挿入する。この時、第
2の溝のチャック板下端面における幅は第1の溝の側壁
上端面における幅より大きいので、ウェハが第1の溝内
に傾いて収納されている場合にも、ウェハを第2の溝に
誘導することが可能である。
ら押し上げ、チャック板の対向面に形成された対向する
第2の溝に各々一枚ずつウェハを挿入する。この時、第
2の溝のチャック板下端面における幅は第1の溝の側壁
上端面における幅より大きいので、ウェハが第1の溝内
に傾いて収納されている場合にも、ウェハを第2の溝に
誘導することが可能である。
【0011】さらに、チャック板の下端面とウェハ保持
装置の側壁上端面は十分に接近していて、ウェハの一部
がウェハ保持装置の第1の溝内に保持されると同時にウ
ェハの別の一部がチャック板の第2の溝内に挿入されて
いる状態を存在させることにより、ウェハの転倒を防止
することができるので、プッシャ−のウェハと接する面
にウェハの傾倒を防止するための溝を形成する必要はな
い。このため、ウェハをプッシャ−の溝から出し入れす
る時にウェハ表面に傷が発生するという問題を回避する
ことができる。
装置の側壁上端面は十分に接近していて、ウェハの一部
がウェハ保持装置の第1の溝内に保持されると同時にウ
ェハの別の一部がチャック板の第2の溝内に挿入されて
いる状態を存在させることにより、ウェハの転倒を防止
することができるので、プッシャ−のウェハと接する面
にウェハの傾倒を防止するための溝を形成する必要はな
い。このため、ウェハをプッシャ−の溝から出し入れす
る時にウェハ表面に傷が発生するという問題を回避する
ことができる。
【0012】このように第1の位置では、チャック板の
下端面を含む平面内におけるチャック板の対向面の第2
の溝の底面間の間隔をウェハの直径よりも大きくするこ
とにより、ウェハの直径部分がチャック板下端面を通過
することができる。
下端面を含む平面内におけるチャック板の対向面の第2
の溝の底面間の間隔をウェハの直径よりも大きくするこ
とにより、ウェハの直径部分がチャック板下端面を通過
することができる。
【0013】さらに、少なくともウェハの直径部分がチ
ャック板下端面を通過するまでウェハを第2の溝に挿入
する。この後にチャック板間の距離を縮めるようにチャ
ック板を対向面に垂直方向に移動させ、チャック板下端
面を含む平面におけるチャック板対向面の第2の溝の底
面間の間隔をウェハの直径よりも小さい第2の位置にチ
ャック板を設定する。第2の溝の深さは下端面において
最も浅く形成されているので、溝底の形状に注目すれ
ば、チャック板下端面においてこの溝底は対向するチャ
ック板の間の空間に突出している。ここでプッシャ−を
降下させて、このプッシャ−と共に降下するウェハをこ
の突出部分に載せてウェハが落下することを防止する。
このように第2の位置では、チャック板下端面を含む平
面上におけるチャック板の対向面の第2の溝の底面間の
間隔をウェハの直径よりも小さくすることにより、ウェ
ハを2つの対向するチャック板の溝間に吊り下げるよう
に保持することができる。
ャック板下端面を通過するまでウェハを第2の溝に挿入
する。この後にチャック板間の距離を縮めるようにチャ
ック板を対向面に垂直方向に移動させ、チャック板下端
面を含む平面におけるチャック板対向面の第2の溝の底
面間の間隔をウェハの直径よりも小さい第2の位置にチ
ャック板を設定する。第2の溝の深さは下端面において
最も浅く形成されているので、溝底の形状に注目すれ
ば、チャック板下端面においてこの溝底は対向するチャ
ック板の間の空間に突出している。ここでプッシャ−を
降下させて、このプッシャ−と共に降下するウェハをこ
の突出部分に載せてウェハが落下することを防止する。
このように第2の位置では、チャック板下端面を含む平
面上におけるチャック板の対向面の第2の溝の底面間の
間隔をウェハの直径よりも小さくすることにより、ウェ
ハを2つの対向するチャック板の溝間に吊り下げるよう
に保持することができる。
【0014】また、チャック板の対向面の間の間隔をウ
ェハの直径よりも小さくすることによりウェハはその一
部が常に溝内に止まりウェハの転倒が防止される。この
ように、本発明によるウェハ移し替え装置は、チャック
板は対向面に対して垂直方向に開閉し、最大開いた状態
においてもチャック板の対向面の間の間隔はウェハの直
径よりも小さく保たれる。このため、装置は大きい幅を
必要とせず小型化を図ることができる。
ェハの直径よりも小さくすることによりウェハはその一
部が常に溝内に止まりウェハの転倒が防止される。この
ように、本発明によるウェハ移し替え装置は、チャック
板は対向面に対して垂直方向に開閉し、最大開いた状態
においてもチャック板の対向面の間の間隔はウェハの直
径よりも小さく保たれる。このため、装置は大きい幅を
必要とせず小型化を図ることができる。
【0015】さらに、チャック板の対向面の間の間隔は
ウェハの直径よりも小さく保たれ、ウェハが常に第1も
しくは第2の溝内に挿入された状態が維持されるため、
プッシャ−はウェハを保持するための溝を必要としな
い。したがって、ウェハをプッシャ−の溝から出し入れ
する時に生じるウェハ表面上の傷を回避することが可能
である。
ウェハの直径よりも小さく保たれ、ウェハが常に第1も
しくは第2の溝内に挿入された状態が維持されるため、
プッシャ−はウェハを保持するための溝を必要としな
い。したがって、ウェハをプッシャ−の溝から出し入れ
する時に生じるウェハ表面上の傷を回避することが可能
である。
【0016】さらに、第2の溝の幅を溝の深さ方向に向
かって減少する形状にすれば、この溝にウェハを挿入す
る時にウェハ面と溝の側面が面接触することにより生じ
る傷の発生を防止することができる。
かって減少する形状にすれば、この溝にウェハを挿入す
る時にウェハ面と溝の側面が面接触することにより生じ
る傷の発生を防止することができる。
【0017】
【実施の形態】以下、本発明の実施の形態について図面
を参照して説明する。図1は本発明によるウェハ移し替
え装置の構造を示す図である。ウェハ1を収納している
ウェハカセット2の上方に設置された、1組の平行チャ
ック4a、4bと、ウェハ2を下方からこのチャック4
a、4bまで持ち上げるプッシャ−3によりウェハ移し
替え装置は構成される。従来と同様にチャック4a、4
bはウェハ同志が接触しないようにウェハを一枚ずつ分
離して保持するために溝10を有しているが、本発明の
プッシャ−3は溝を有しない。
を参照して説明する。図1は本発明によるウェハ移し替
え装置の構造を示す図である。ウェハ1を収納している
ウェハカセット2の上方に設置された、1組の平行チャ
ック4a、4bと、ウェハ2を下方からこのチャック4
a、4bまで持ち上げるプッシャ−3によりウェハ移し
替え装置は構成される。従来と同様にチャック4a、4
bはウェハ同志が接触しないようにウェハを一枚ずつ分
離して保持するために溝10を有しているが、本発明の
プッシャ−3は溝を有しない。
【0018】以下、図2、図3を用いてウェハ移し替え
装置の動作を説明する。これらの図はウェハ移し替え装
置を図1のX方向から見たものである。まず、チャック
板4a、4bに形成された溝10がウェハカセット2の
側壁面に形成された溝に対応するように、チャック板4
a、4bの下端面22a、22bをウェハカセットの側
壁上端面23a、23bに接近させる。さらにチャック
板4a、4bを対向面に垂直方向(図1のY方向)に移
動させて、チャック板4a、4bの下端面22a、22
bを含む平面内において対向する溝底の間の距離Uをウ
ェハの直径Vよりも大きくなるようにする。
装置の動作を説明する。これらの図はウェハ移し替え装
置を図1のX方向から見たものである。まず、チャック
板4a、4bに形成された溝10がウェハカセット2の
側壁面に形成された溝に対応するように、チャック板4
a、4bの下端面22a、22bをウェハカセットの側
壁上端面23a、23bに接近させる。さらにチャック
板4a、4bを対向面に垂直方向(図1のY方向)に移
動させて、チャック板4a、4bの下端面22a、22
bを含む平面内において対向する溝底の間の距離Uをウ
ェハの直径Vよりも大きくなるようにする。
【0019】この後プッシャ−3がウェハカセット2の
底部に設けられた開口部から侵入し、上昇してウェハ1
を上方に持ち上げる。しかし、従来と異なり、プッシャ
−3のウェハと接する面はウェハを一枚ずつ分離して保
持するためのウェハ面と平行な溝を有しないで、図2に
示すようにその一部がウェハ1の外周に適合した円弧形
状を有している。中央に形成されているウェハ面に垂直
な溝はプッシャ−3とウェハ1との接触面積を低減し
て、ウェハ1の外周部に傷をつけたりゴミが付着するこ
とを防止し、さらにウェハの外周形状がばらついた場合
にもプッシャ−3がウェハ1の外周に沿い安定してウェ
ハ1を下方から持ち上げるためのものである。
底部に設けられた開口部から侵入し、上昇してウェハ1
を上方に持ち上げる。しかし、従来と異なり、プッシャ
−3のウェハと接する面はウェハを一枚ずつ分離して保
持するためのウェハ面と平行な溝を有しないで、図2に
示すようにその一部がウェハ1の外周に適合した円弧形
状を有している。中央に形成されているウェハ面に垂直
な溝はプッシャ−3とウェハ1との接触面積を低減し
て、ウェハ1の外周部に傷をつけたりゴミが付着するこ
とを防止し、さらにウェハの外周形状がばらついた場合
にもプッシャ−3がウェハ1の外周に沿い安定してウェ
ハ1を下方から持ち上げるためのものである。
【0020】プッシャ−3に押し上げられたウェハ1
は、ウェハカセット2の溝に対応するように設置された
チャック4a、4bの溝10をガイドとしてこの溝10
内に導入される。ウェハが位置1xにある時、ウェハ1
の直径がチャック4a、4bの下端面22a、22bに
おける溝10の入口を通過できるように、チャック板4
a、4bの下端面22a、22bを含む平面内において
対向する溝底の間の距離Uはウェハの直径Vよりも大き
い必要がある。このため最初にチャック4a、4bはあ
らかじめ対向面に垂直な方向に移動させて開いた状態と
しておく。この状態でさらにウェハ1はプッシャ−3に
より位置1wまで持ち上げられる。ここで、ウェハが溝
10から脱しないように、チャック4a、4bの対向面
の間隔Wはウェハ1の直径Vより小さい必要がある。こ
のようにU>V>Wの条件を満たすように開かれた状態
におけるチャック4a、4b間の最大寸法をTとする。
は、ウェハカセット2の溝に対応するように設置された
チャック4a、4bの溝10をガイドとしてこの溝10
内に導入される。ウェハが位置1xにある時、ウェハ1
の直径がチャック4a、4bの下端面22a、22bに
おける溝10の入口を通過できるように、チャック板4
a、4bの下端面22a、22bを含む平面内において
対向する溝底の間の距離Uはウェハの直径Vよりも大き
い必要がある。このため最初にチャック4a、4bはあ
らかじめ対向面に垂直な方向に移動させて開いた状態と
しておく。この状態でさらにウェハ1はプッシャ−3に
より位置1wまで持ち上げられる。ここで、ウェハが溝
10から脱しないように、チャック4a、4bの対向面
の間隔Wはウェハ1の直径Vより小さい必要がある。こ
のようにU>V>Wの条件を満たすように開かれた状態
におけるチャック4a、4b間の最大寸法をTとする。
【0021】ウェハ1が位置1xにある時にウェハ1が
チャック4aの溝10に導入される様子を図4、および
図5の(a)に示す。図4は図2のF−F´の範囲を側
面(図1のY方向)から見た図、図5は図2のG−G´
の範囲を上面(図1のZ方向)から見た図である。図5
中のa、b、cはそれぞれ図2に示す位置におけるウェ
ハカセット2およびチャック4aの溝の深さを、d,e
はウェハカセット2およびチャック4aの溝の幅を示
す。ここでチャック4aの溝の深さcはカセット2の溝
の深さaよりも深く、またチャック4aの溝の幅eはカ
セット2の溝の幅dよりも大きくすることにより、図5
の(a)に示すように傾いた状態でカセット2に収納さ
れたウェハ1を溝10内に誘導することができる。
チャック4aの溝10に導入される様子を図4、および
図5の(a)に示す。図4は図2のF−F´の範囲を側
面(図1のY方向)から見た図、図5は図2のG−G´
の範囲を上面(図1のZ方向)から見た図である。図5
中のa、b、cはそれぞれ図2に示す位置におけるウェ
ハカセット2およびチャック4aの溝の深さを、d,e
はウェハカセット2およびチャック4aの溝の幅を示
す。ここでチャック4aの溝の深さcはカセット2の溝
の深さaよりも深く、またチャック4aの溝の幅eはカ
セット2の溝の幅dよりも大きくすることにより、図5
の(a)に示すように傾いた状態でカセット2に収納さ
れたウェハ1を溝10内に誘導することができる。
【0022】次に図3に示すように、チャック板4a、
4bの下端面22a、22bを含む平面内において対向
する溝底の間の距離Uがウェハの直径Vよりも小さくな
るように、平行チャック板4a、4bを閉じる。その後
プッシャ−3を降下させて元の位置に戻す。ウェハ1は
この降下と共に位置1vまで下降し、チャック4a、4
bの溝10の下端面22a、22bにおいて吊り下げら
れた状態で保持される。図3に示すように、チャック4
a、4bの溝10は、チャック4a、4bの下端面22
a、22bにおける溝の深さcが溝10の他の部分にお
ける溝の深さより浅くなるように形成される必要があ
る。さらにチャック板4a、4bの下端面22a、22
bを含む平面内において対向する溝底の間の距離Uをウ
ェハ1の直径Vよりも小さくすることによりウェハ1が
落下することを防止することができる。
4bの下端面22a、22bを含む平面内において対向
する溝底の間の距離Uがウェハの直径Vよりも小さくな
るように、平行チャック板4a、4bを閉じる。その後
プッシャ−3を降下させて元の位置に戻す。ウェハ1は
この降下と共に位置1vまで下降し、チャック4a、4
bの溝10の下端面22a、22bにおいて吊り下げら
れた状態で保持される。図3に示すように、チャック4
a、4bの溝10は、チャック4a、4bの下端面22
a、22bにおける溝の深さcが溝10の他の部分にお
ける溝の深さより浅くなるように形成される必要があ
る。さらにチャック板4a、4bの下端面22a、22
bを含む平面内において対向する溝底の間の距離Uをウ
ェハ1の直径Vよりも小さくすることによりウェハ1が
落下することを防止することができる。
【0023】チャック板4a、4bが閉じた状態におい
て、図3のE−E´の範囲を上面(図1のZ方向)から
見た図を図5の(b)に示す。チャック板4a、4bの
下端面22a、22bを含む平面内において対向する溝
底の間の距離Uはウェハ1の直径Vよりも小さい。この
時、ウェハの破損を防止するために、チャック板4a、
4bはウェハ1を締め付けない程度に閉じて、ウェハ1
をチャック板4a、4bの溝10内において空間的余裕
をもって保持する必要がある。
て、図3のE−E´の範囲を上面(図1のZ方向)から
見た図を図5の(b)に示す。チャック板4a、4bの
下端面22a、22bを含む平面内において対向する溝
底の間の距離Uはウェハ1の直径Vよりも小さい。この
時、ウェハの破損を防止するために、チャック板4a、
4bはウェハ1を締め付けない程度に閉じて、ウェハ1
をチャック板4a、4bの溝10内において空間的余裕
をもって保持する必要がある。
【0024】このようにチャック板4a、4bを閉じた
状態で、チャック部ユニットは上下左右方向に移動し、
移し替えられたウェハ1は次の移し替え位置まで移動し
て各種治具あるいは他のウェハカセットへの移し替えを
行う。
状態で、チャック部ユニットは上下左右方向に移動し、
移し替えられたウェハ1は次の移し替え位置まで移動し
て各種治具あるいは他のウェハカセットへの移し替えを
行う。
【0025】なお、上記実施の形態において、溝10は
図2に示すようにウェハ外周に沿うような形状を有して
いるが、チャック下端部22a,22bにおける溝の深
さが最も浅くなるように形成されていればどのような形
状を有していても構わない。
図2に示すようにウェハ外周に沿うような形状を有して
いるが、チャック下端部22a,22bにおける溝の深
さが最も浅くなるように形成されていればどのような形
状を有していても構わない。
【0026】また上記実施の形態において、チャック板
4a、4bをその対向面に垂直に移動させることにより
チャック板4a、4bの開閉を行っているが、この移動
は2枚のチャック板4a、4bが互いに厳密に平行移動
する必要はない。たとえばチャック板4a、4bがある
回転軸を中心として回転運動をする場合であっても、対
向面の間の間隔Wが常にウェハ1の直径Vより小さく設
定されるという条件を満足すればよい。この場合、チャ
ック板4a、4bの回転角度は小さく、これらの運動方
向は直線的で対向面に対してほぼ垂直であると近似する
ことができる。
4a、4bをその対向面に垂直に移動させることにより
チャック板4a、4bの開閉を行っているが、この移動
は2枚のチャック板4a、4bが互いに厳密に平行移動
する必要はない。たとえばチャック板4a、4bがある
回転軸を中心として回転運動をする場合であっても、対
向面の間の間隔Wが常にウェハ1の直径Vより小さく設
定されるという条件を満足すればよい。この場合、チャ
ック板4a、4bの回転角度は小さく、これらの運動方
向は直線的で対向面に対してほぼ垂直であると近似する
ことができる。
【0027】このように上記実施の形態よるウェハ移し
替え装置では、チャック板4a、4bの対向面に形成さ
れた溝10の平行チャック4a、4bの下端面22a、
22bにおける位置は、ウェハカセット2の溝の側壁上
端面23a、23bにおける位置に対応して形成されて
いるので、この下端面22a、22bおよび上端面23
a、23bを接近させることにより、ウェハ1をプッシ
ャ−3により押し上げて、カセット2の溝からチャック
板4a、4bの溝10へ挿入することができる。さらに
溝10の最大幅はウェハカセット2の溝幅より大きいた
め、ウェハ1がウェハカセット2の溝に傾いた状態で収
納されている場合にも、ウェハ1を溝10へ誘導するこ
とができる。
替え装置では、チャック板4a、4bの対向面に形成さ
れた溝10の平行チャック4a、4bの下端面22a、
22bにおける位置は、ウェハカセット2の溝の側壁上
端面23a、23bにおける位置に対応して形成されて
いるので、この下端面22a、22bおよび上端面23
a、23bを接近させることにより、ウェハ1をプッシ
ャ−3により押し上げて、カセット2の溝からチャック
板4a、4bの溝10へ挿入することができる。さらに
溝10の最大幅はウェハカセット2の溝幅より大きいた
め、ウェハ1がウェハカセット2の溝に傾いた状態で収
納されている場合にも、ウェハ1を溝10へ誘導するこ
とができる。
【0028】また、このようにウェハ1をウェハカセッ
ト2の溝からチャック板4a、4bの溝10へ挿入する
時に、チャック板4a、4bの下端面22a、22bを
ウェハカセット2の側壁上端面23a、23bに接近さ
せるため、ウェハ1はカセット2の溝とチャック板の溝
10の両方に挿入された状態を経て溝10に挿入され
る。さらに、チャック板4a、4bが最大開いた状態に
おいても、チャック板4a、4bの対向面の間の間隔W
は常にウェハ1の直径Vより小さく設定されるため、溝
10に挿入されたウェハ1は溝10内に保持され、傾倒
することはない。したがって、従来のようにウェハの傾
倒を防止するための溝をプッシャ−3は必要としない。
このため、従来ウェハ1をプッシャ−3のY型溝部に出
し入れする時に生じていたようにウェハ表面に傷がつく
ことはない。
ト2の溝からチャック板4a、4bの溝10へ挿入する
時に、チャック板4a、4bの下端面22a、22bを
ウェハカセット2の側壁上端面23a、23bに接近さ
せるため、ウェハ1はカセット2の溝とチャック板の溝
10の両方に挿入された状態を経て溝10に挿入され
る。さらに、チャック板4a、4bが最大開いた状態に
おいても、チャック板4a、4bの対向面の間の間隔W
は常にウェハ1の直径Vより小さく設定されるため、溝
10に挿入されたウェハ1は溝10内に保持され、傾倒
することはない。したがって、従来のようにウェハの傾
倒を防止するための溝をプッシャ−3は必要としない。
このため、従来ウェハ1をプッシャ−3のY型溝部に出
し入れする時に生じていたようにウェハ表面に傷がつく
ことはない。
【0029】さらに、溝10の幅は溝の深さ方向に向か
って減少するような形状を有しているため、従来のプッ
シャ−3のY型溝部の溝面(図11の11aおよび11
c)において発生していたウェハ表面との面接触による
傷という問題は生じない。
って減少するような形状を有しているため、従来のプッ
シャ−3のY型溝部の溝面(図11の11aおよび11
c)において発生していたウェハ表面との面接触による
傷という問題は生じない。
【0030】また、平行チャック4a、4bの溝10の
溝の深さは平行チャック4a、4bの下端面22a、2
2bにおいて最も浅くなるように形成されている。すな
わち、溝底の形状に注目すれば、この部分において溝底
は平行チャック4a、4bの間に形成される空間内側に
向かって突出している。平行チャック4a、4bを閉じ
てこの突出部分にウェハ1を載せることによりチャック
はウェハ1を保持することができる。
溝の深さは平行チャック4a、4bの下端面22a、2
2bにおいて最も浅くなるように形成されている。すな
わち、溝底の形状に注目すれば、この部分において溝底
は平行チャック4a、4bの間に形成される空間内側に
向かって突出している。平行チャック4a、4bを閉じ
てこの突出部分にウェハ1を載せることによりチャック
はウェハ1を保持することができる。
【0031】以上のように上記実施の形態よるウェハ移
し替え装置では、ウェハを保持するチャック4a、4b
が従来のように回転して開閉するのではなく対向面にほ
ぼ垂直にに移動して開閉する構造となっている。さら
に、チャック板4a、4bが最大開いた状態において
も、対向面の間の間隔Wは常にウェハ1の直径Vより小
さく設定される。したがって、チャックを開いた状態に
おける最大寸法Tを従来のSに比べて大幅に小さくする
ことが可能となり、ほぼカセット幅と等しくすることが
できる。したがって、カセットレス処理等における処理
槽幅を小さくすることが可能となるため、装置の小型化
により装置の製造コストおよび、クリ−ンル−ムの建築
費を低減し、また処理液消費量の節約によりランニング
コストを低減することができる。
し替え装置では、ウェハを保持するチャック4a、4b
が従来のように回転して開閉するのではなく対向面にほ
ぼ垂直にに移動して開閉する構造となっている。さら
に、チャック板4a、4bが最大開いた状態において
も、対向面の間の間隔Wは常にウェハ1の直径Vより小
さく設定される。したがって、チャックを開いた状態に
おける最大寸法Tを従来のSに比べて大幅に小さくする
ことが可能となり、ほぼカセット幅と等しくすることが
できる。したがって、カセットレス処理等における処理
槽幅を小さくすることが可能となるため、装置の小型化
により装置の製造コストおよび、クリ−ンル−ムの建築
費を低減し、また処理液消費量の節約によりランニング
コストを低減することができる。
【0032】
【発明の効果】以上のように本発明によるウェハ移し替
え装置によれば、ウェハ表面を傷つけることなくウェハ
の移し替えを行うことが可能で、さらにチャック板の移
動距離が小さくてよいため装置の小型化を図ることがで
きる。
え装置によれば、ウェハ表面を傷つけることなくウェハ
の移し替えを行うことが可能で、さらにチャック板の移
動距離が小さくてよいため装置の小型化を図ることがで
きる。
【図1】本発明のウェハ移し替え装置の構造図。
【図2】本発明のウェハ移し替え装置の動作を示す断面
図。
図。
【図3】本発明のウェハ移し替え装置の動作を示す断面
図。
図。
【図4】本発明のウェハ移し替え装置の一部分の拡大側
面図。
面図。
【図5】本発明のウェハ移し替え装置の一部分の拡大上
面図および側面図。
面図および側面図。
【図6】従来のウェハ移し替え装置の動作を示す断面
図。
図。
【図7】従来のウェハ移し替え装置の動作を示す断面
図。
図。
【図8】従来のウェハ移し替え装置の一部分の拡大側面
図。
図。
【図9】従来のウェハ移し替え装置の一部分の拡大上面
図。
図。
【図10】従来のウェハ移し替え装置の一部分の拡大側
面図。
面図。
【図11】従来のウェハ移し替え装置の一部分の拡大側
面図。
面図。
【図12】従来のウェハ移し替え装置の一部分の拡大上
面図。
面図。
【図13】従来のウェハ移し替え装置の一部分の拡大側
面図。
面図。
1…ウェハ、2…ウェハカセット、3…プッシャ−、4
a、4b…チャック板、5a、5b…ア−ム、6a、6
b…軸、10…溝。
a、4b…チャック板、5a、5b…ア−ム、6a、6
b…軸、10…溝。
Claims (2)
- 【請求項1】 対向する1対の側壁と底面とから構成さ
れ、前記側壁は対向する側面上に開口している鉛直線方
向の平行な複数の第1の溝を具備し、前記底面は保持す
べきウェハの直径より小さい幅の開口部を有し、前記対
向する側壁の溝の底面間の間隔はウェハの直径よりも大
きく選定され、ウェハを前記第1の溝に1枚づつ挿入す
ることにより前記ウェハを鉛直線方向に直立した互いに
分離した状態で保持可能に構成されたウェハ保持装置
と、前記ウェハ保持装置の下方に設置され昇降機構を備
えたプッシャ−と、前記ウェハ保持装置の上方に設置さ
れウェハを保持して前記ウェハ保持装置から他のウェハ
保持装置へ移動する機構を有するチャックとから構成さ
れるウェハ移し替え装置において、前記プッシャ−は前
記開口部より前記ウェハ保持装置内へ挿入され前記ウェ
ハを下方から支えると同時に昇降させる機構を具備し、
前記ウェハと接する面に前記ウェハ面に平行な溝を有せ
ず、前記チャックは前記ウェハ保持装置の前記側壁面に
平行な対向する2つのチャック板より構成され、この2
つのチャック板はそれぞれ対向面に開口している鉛直線
方向の第2の溝を有し、この第2の溝の下端は前記チャ
ック板下端面に開口し、前記第2の溝の前記下端面にお
ける位置は前記第1の溝の前記側壁上端面における位置
に対応し、その溝の前記下端面における溝の幅は前記第
1の溝の前記側壁上端面における溝の幅より広く、その
溝の深さは前記下端面において最も浅く形成され、前記
チャックは前記チャック板を対向面に対して垂直に移動
させて対向面間の距離を変化させる移動機構を備え、こ
の移動機構は前記チャック板下端面を含む平面における
前記対向面の前記第2の溝の底面間の間隔がウェハの直
径よりも大きい第1の位置と前記間隔がウェハの直径よ
りも小さい第2の位置とにチャック板を設定可能に構成
されていて、前記第1の位置においても前記対向面間の
距離はウェハの直径よりも小さいことを特徴とするウェ
ハ移し替え装置。 - 【請求項2】 前記第2の溝の幅は溝の深さ方向に向か
って減少した形状を有する前記請求項1記載のウェハ移
し替え装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22214695A JPH0969552A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | ウェハ移し替え装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22214695A JPH0969552A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | ウェハ移し替え装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0969552A true JPH0969552A (ja) | 1997-03-11 |
Family
ID=16777906
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22214695A Pending JPH0969552A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | ウェハ移し替え装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0969552A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100316606B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2001-12-12 | 황인길 | 반도체 웨이퍼 핸들러 |
FR2828428A1 (fr) * | 2001-08-07 | 2003-02-14 | Soitec Silicon On Insulator | Dispositif de decollement de substrats et procede associe |
CN113539917A (zh) * | 2021-07-13 | 2021-10-22 | 深圳市卓兴半导体科技有限公司 | 固晶流水线 |
CN114093752A (zh) * | 2021-11-10 | 2022-02-25 | 新阳硅密(上海)半导体技术有限公司 | 减小载具对晶圆表面清洗影响的方法 |
-
1995
- 1995-08-30 JP JP22214695A patent/JPH0969552A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100316606B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2001-12-12 | 황인길 | 반도체 웨이퍼 핸들러 |
FR2828428A1 (fr) * | 2001-08-07 | 2003-02-14 | Soitec Silicon On Insulator | Dispositif de decollement de substrats et procede associe |
WO2003013815A1 (fr) * | 2001-08-07 | 2003-02-20 | S.O.I.Tec Silicon On Insulator Technologies | Dispositif de decollement de substrats et procede associe |
JP2004537866A (ja) * | 2001-08-07 | 2004-12-16 | エス.オー.アイ.テック、シリコン、オン、インシュレター、テクノロジーズ | 基板をスプリットする装置及び関連する方法 |
US7017570B2 (en) | 2001-08-07 | 2006-03-28 | S.O.I.Tec Silicon On Insulator Technologies S.A. | Apparatus and method for splitting substrates |
KR100784579B1 (ko) * | 2001-08-07 | 2007-12-10 | 에스. 오. 이. 떼끄 씰리꽁 오 냉쉴라또흐 떼끄놀로지 | 기판 분리 장치 및 연관된 방법 |
US7648888B2 (en) | 2001-08-07 | 2010-01-19 | S.O.I.Tec Silicon On Insulator Technologies | Apparatus and method for splitting substrates |
CN113539917A (zh) * | 2021-07-13 | 2021-10-22 | 深圳市卓兴半导体科技有限公司 | 固晶流水线 |
CN114093752A (zh) * | 2021-11-10 | 2022-02-25 | 新阳硅密(上海)半导体技术有限公司 | 减小载具对晶圆表面清洗影响的方法 |
CN114093752B (zh) * | 2021-11-10 | 2022-07-26 | 新阳硅密(上海)半导体技术有限公司 | 减小载具对晶圆表面清洗影响的方法 |
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