KR102538383B1 - 도광판 - Google Patents

도광판 Download PDF

Info

Publication number
KR102538383B1
KR102538383B1 KR1020177026465A KR20177026465A KR102538383B1 KR 102538383 B1 KR102538383 B1 KR 102538383B1 KR 1020177026465 A KR1020177026465 A KR 1020177026465A KR 20177026465 A KR20177026465 A KR 20177026465A KR 102538383 B1 KR102538383 B1 KR 102538383B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
less
glass plate
transmittance
glass
light
Prior art date
Application number
KR1020177026465A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20180020120A (ko
Inventor
테츠야 무라타
Original Assignee
니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 filed Critical 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
Priority claimed from PCT/JP2016/067619 external-priority patent/WO2016208451A1/ja
Publication of KR20180020120A publication Critical patent/KR20180020120A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102538383B1 publication Critical patent/KR102538383B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00—Compositions for glass with special properties

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
  • Planar Illumination Modules (AREA)

Abstract

본 발명의 도광판은 적어도 유리판을 갖고, 유리판 중의 Rh2O3의 함유량이 질량으로 1ppm 미만이며, 또한 유리판의 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차가 12% 이하인 것을 특징으로 한다.

Description

도광판
본 발명은 도광판에 관한 것이며, 특히 엣지 라이트형 면 발광 장치에 적합한 도광판에 관한 것이다.
종래부터 액정 텔레비전 등에 액정 표시 장치가 사용되어 있다. 액정 표시 장치는 면 발광 장치와, 이 면 발광 장치의 광출사면측에 배치되는 액정 패널을 구비하고 있다. 면 발광 장치로서, 예를 들면 직하형과 엣지 라이트형이 알려져 있다.
직하형 면 발광 장치에서는 광원이 광출사면에 대하여 반대측이 되는 배면에 배치된다. 광원으로서 발광 다이오드(Light Emitting Diode) 등의 점 광원을 사용할 경우, 밝기를 보충하기 위해서 다수의 LED칩이 필요하게 되어 휘도 특성의 편차가 매우 커진다.
이 때문에 현재에서는 엣지 라이트형 면 발광 장치가 주류로 되어 있다. 엣지 라이트형 면 발광 장치에서는 LED 등의 광원과, 도광판과, 반사막 등의 반사층을 구비하고 있다. 광원은 광출사면(표면)에 대하여 직교 방향이 되는 끝면에 배치된다. 도광판은 광원으로부터의 광을 끝면으로부터 도입되고, 전반사에 의해 내부에 전파시켜 광출사면으로부터 면형상으로 출사시키기 위해서 배치된다. 도광판으로서 아크릴 수지 등의 수지판이 일반적으로 사용되어 있다(특허문헌 1~4 참조). 반사층은 광출사면과 대향하는 배면측에 배치되어 배면에 빠져나간 광을 반사시켜서 액정 패널 등의 표시면을 발광시키기 위해서 배치된다. 또한, 액정 패널 등의 표시면을 균일하게 발광시키기 위해서 도광판의 광출사면측에 확산층이 배치되는 경우도 있다.
도 1은 엣지 라이트형 면 발광 장치(1)의 일례를 나타내는 단면 개념도이다. 엣지 라이트형 면 발광 장치(1)는 LED 등의 광원(2)과, 도광판(3)과, 반사층(4)과, 확산층(5)을 구비하고 있다. 광원(2)으로부터의 광은 도광판(3)의 끝면으로부터 입사하여 도광판(3)의 내부에 전파된다. 광반사면(6)에 도달한 광은 반사층(4)에 의해 반사되고, 광출사면(7) 쪽으로 진행되어 확산층(5)에 의해 확산된다. 결과적으로 확산층(5)의 상방에 배치된 액정 패널 등의 표시면을 균일하게 발광시키는 것이 가능해진다. 또한, 광원(2)으로부터의 광을 입사하는 도광판(3)의 끝면과는 반대측의 끝면에 반사층을 형성해도 좋다.
일본 특허공개 2012-123933호 공보 일본 특허공개 2012-138345호 공보 일본 특허공개 2012-216523호 공보 일본 특허공개 2012-216528호 공보
엣지 라이트형 면 발광 장치에서는 광원으로부터 광이 발생하면 열이 발생하고, 그에 따라 도광판의 온도도 상승한다. 그리고, 도광판으로서 수지판을 사용할 경우, 도광판의 열에 의한 치수 변화는 액정 패널의 치수 변화보다 커진다. 이 원인은 수지판의 열팽창계수가 높은 것에 의한다. 예를 들면, 아크릴 수지판의 열팽창계수는 약 700×10-7/℃이다. 그 때문에 종래까지는 치수 변화의 차에 기인하여 부당한 응력이 발생하지 않도록 액정 표시 장치의 프레임 가장자리 부분에 공극을 형성하여 도광판의 치수 변화를 보정하고 있었다.
그러나, 최근 액정 표시 장치의 협액연화에 의해 도광판의 치수 변화를 액정 표시 장치의 프레임 가장자리 부분에서 보정하기 어려워지고 있다.
또한, 도광판으로서 수지판을 사용할 경우, 광원으로부터의 광이 끝면으로부터 입사하여 광출사면으로 빠져나갈 때에 광량이 감살(減殺)된다. 결과적으로 표시 장치의 휘도 특성이 저하되기 쉬워진다.
그래서, 본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 그 기술적 과제는 온도 상승에 따라 치수 변화가 생기기 어려우며, 또한 표시 장치의 휘도 특성을 저하시키기 어려운 도광판을 창안하는 것이다.
본 발명자는 예의 검토한 결과, 도광판으로서 온도 변화에 의한 치수 변화가 작은 유리판을 채택함과 아울러, 유리판 중의 Rh2O3의 함유량을 저감하고, 유리판의 투과율을 소정 범위로 규제함으로써 상기 기술적 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여 본 발명으로서 제안하는 것이다. 즉, 본 발명의 도광판은 적어도 유리판을 갖고, 유리판 중의 Rh2O3의 함유량이 질량으로 1ppm 미만이며, 또한 유리판의 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차가 12% 이하인 것을 특징으로 한다. 여기에서, 「광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율」은 시판된 투과율 측정 장치로 측정 가능하며, 예를 들면 Shimadzu Corporation제 UV-3100PC에 의해 측정 가능하다. 또한, 「투과율」은 특단의 명시가 없는 한, 수식 1에 의해 산출되는 내부 투과율을 가리킨다.
[수식 1]
logTin=log(I1/I0)-logR
logTin: 내부 투과율(%)
I0: 입사한 광의 강도(%)
I1: 특정 광로 길이를 투과한 후의 광의 강도(%)
R: 반사에 의한 광의 감쇠율(%)
액정 패널 등의 표시 패널은 한쌍의 유리판 사이에 액정 소자 등의 표시 소자를 끼워넣은 구조를 갖고 있다. 그래서, 도광판으로서 유리판을 채택하면 표시 패널과 도광판의 치수 변화의 차가 작아져 액정 표시 장치 등의 표시 장치의 협액연화에 적정하게 대응할 수 있다.
본 발명자는 가시역에 있어서의 유리판의 투과율 차가 작으면 표시 장치의 휘도 특성이 향상되는 것을 발견했다. 또한, 본 발명자는 유리판 중의 Rh2O3가 파장 450㎚ 부근의 흡수에 크게 영향을 미치며, 그 함유량을 저감하면 가시역에 있어서의 유리판의 투과율 차를 적합하게 저하할 수 있는 것을 발견했다. 이들 지견에 의거하여 본 발명에서는 유리판 중의 Rh2O3의 함유량을 질량으로 1ppm 미만으로 규제함과 아울러, 유리판의 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차를 12% 이하로 규제함으로써 표시 장치의 휘도 특성을 현저하게 높이고 있다.
제 2로, 본 발명의 도광판은 유리판 중의 Fe2O3의 함유량이 질량으로 50ppm 미만이며, 또한 유리판의 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 85% 이상인 것이 바람직하다. 유리판 중의 Fe2O3의 함유량을 저감하면 유리판의 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율을 높일 수 있다. Fe2O3는 유리 중에서 Fe3 + 또는 Fe2 +의 상태로 존재한다. Fe3 +는 파장 380㎚ 부근에 흡수 피크를 갖고, 자외역, 단파장측의 가시역에 있어서의 투과율을 저하시킨다. Fe2 +는 파장 1080㎚ 부근에 흡수 피크를 갖고, 장파장측의 가시역에 있어서의 투과율을 저하시킨다. 따라서, Fe2O3의 함유량이 많아지면 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 저하되기 쉬워진다. 유리판은 일반적으로 유리 원료나 제조 공정 중으로부터 다량의 Fe2O3가 혼입되어 있다. 따라서, 종래의 유리판은 Fe2O3의 함유량이 많기 때문에 표시 장치의 휘도 특성을 높이는 것이 곤란하다. 그래서, 유리판 중의 Fe2O3의 함유량을 질량으로 50ppm 미만으로 규제하면 표시 장치의 휘도 특성을 높일 수 있다. 또한, 본 발명에서 말하는 「Fe2O3」는 2가의 산화철과 3가의 산화철을 포함하고, 2가의 산화철은 Fe2O3으로 환산하여 취급하는 것으로 한다. 다른 산화물에 대해서도 마찬가지로 하여 표기의 산화물을 기준으로 해서 취급하는 것으로 한다.
제 3으로, 본 발명의 도광판은 유리판 중의 Cr2O3의 함유량이 질량으로 5ppm 이하인 것이 바람직하다. 본 발명자의 조사에 의하면 유리판 중의 Cr2O3는 파장 630㎚ 부근의 흡수에 크게 영향을 미쳐 그 함유량을 저감하면 가시역에 있어서의 유리판의 투과율 차를 유효하게 저하시킬 수 있다.
제 4로, 본 발명의 도광판은 유리판의 한쪽 표면(바람직하게는 광출사면)에 도트 모양이 인쇄되어 있는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 광출사면으로부터 출사되는 광을 면 내에서 균일화하기 쉬워진다.
제 5로, 본 발명의 도광판은 도트 모양의 도트 직경이 광원으로부터의 광이 입사해야 할 끝면으로부터 이간함에 따라 점차 커지고 있는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 광출사면으로부터 출사하는 광을 면 내에서 균일화하기 쉬워진다.
제 6으로, 본 발명의 도광판은 유리판의 끝면(바람직하게는 광원으로부터의 광이 입사해야 할 끝면)의 평균 표면 거칠기 Ra가 0.5㎛ 이하인 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 광원으로부터의 광이 끝면에 입사했을 때에 광 로스를 저감하기 쉬워진다.
제 7로, 본 발명의 도광판은 광원으로부터의 광이 입사해야 할 끝면 이외의 끝면의 전부 또는 일부에 반사층이 형성되어 있는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 유리판의 내부에 전파한 광이 끝면으로부터 새기 어려워진다.
도 2는 본 발명의 도광판의 일례를 나타내는 개념 사시도이다. 도 2에 나타내는 바와 같이 도광판(10)은 유리판(11)을 구비하고 있다. 광원(12)으로부터의 광은 유리판(11)의 끝면(13)으로부터 입사하여 유리판(11)의 내부를 전파하고, 광출사면으로부터 출사하게 된다. 여기에서, 유리판(11) 중의 Rh2O3의 함유량은 질량으로 1ppm 미만이며, 또한 유리판(11)의 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차는 12% 이하로 되어 있다. 또한, 유리판(11)의 광출사면과 대향하는 배면(14)에는 도트 모양(15)이 형성되어 있다. 그리고, 도트 모양(15)의 도트 직경은 끝면(13)으로부터 끝면(16)을 향함에 따라 점차 커지고 있다. 이 도트 모양(15)에 의해 광출사면으로부터 출사하는 광이 면 내에서 균일화된다. 또한, 유리판의 끝면(16, 17, 18)에는 반사층(19)이 각각 형성되어 있다. 그리고, 유리판의 끝면(16, 17, 18)에 도달한 광은 반사층(19)에 의해 반사되어 유리판(11)의 내부로 리턴되고, 최종적으로는 광출사면으로부터 출사하게 된다.
또한, 본 발명의 유리판(11)을 복수매 접합하여 사용하는 것도 가능하다. 예를 들면, 유리판(11)을 2매 준비하고, 한쪽 유리판(11)의 끝면(17)에 반사층을 형성하지 않고, 또한 다른쪽 유리판(11)의 끝면(18)에 반사층을 형성하지 않고, 양쪽의 반사층을 형성하지 않는 끝면끼리를 굴절률이 정합된 투명 접착제로 접합함으로써 대면적의 도광판을 제작하는 것이 가능하다.
제 8로, 본 발명의 도광판은 유리판이 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 40~80%, Al2O3 1~15%, B2O3 0~20%, Na2O 0~20%, MgO 0~10%, CaO 0~15%, SrO 0~15%, BaO 0~35%를 함유하는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 유리판의 열팽창계수가 저하되기 쉬워진다.
제 9로, 본 발명의 도광판은 유리판의 열팽창계수가 120×10-7/℃ 이하인 것이 바람직하다. 여기에서, 「열팽창계수」는 딜라토미터를 사용하여 JIS R3102에 의거하여 30~380℃에 있어서의 평균 열팽창계수를 측정한 값을 가리킨다.
제 10으로, 본 발명의 도광판은 엣지 라이트형 면 발광 장치에 사용하는 것이 바람직하다.
제 11로, 본 발명의 유리판은 광로 길이 500㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 93% 이상인 것을 특징으로 한다.
제 12로, 본 발명의 유리판은 Rh2O3의 함유량이 질량으로 1ppm 미만이며, 또한 Fe2O3의 함유량이 질량으로 10ppm 이하인 것이 바람직하다.
제 13으로, 본 발명의 유리판은 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차가 6% 이하인 것을 특징으로 한다.
제 14로, 본 발명의 유리판은 유리 조성 중에 Cr2O3와 Fe2O3를 포함하고, 질량비 Cr2O3/Fe2O3가 0.01~0.13인 것이 바람직하다. 질량비 Cr2O3/Fe2O3를 상기 범위로 규제하면, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차를 가급적으로 저감할 수 있다.
제 15로, 본 발명의 유리판은 유리 조성 중의 Fe2O3의 함유량이 질량으로 1~10ppm인 것이 바람직하다.
제 16으로, 본 발명의 유리판은 광로 길이 500㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 93% 이상인 것이 바람직하다.
제 17로, 본 발명의 유리판은 광로 길이 0.15㎜, 파장 250㎚에 있어서의 투과율이 85% 이상인 것이 바람직하다.
도 1은 엣지 라이트형 면 발광 장치의 일례를 나타내는 단면 개념도이다.
도 2는 본 발명의 도광판의 일례를 나타내는 개념 사시도이다.
도 3은 실시예 2의 란에 있어서의 시료의 광로 길이 500㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 투과율 곡선을 나타내는 데이터이다.
도 4는 실시예 3의 란에 있어서의 시료의 판두께 0.15㎜, 파장 범위 200~700㎚에 있어서의 투과율 곡선(내부 투과율 곡선)을 나타내는 데이터이다.
도 5는 실시예 3의 란에 있어서의 시료의 판두께 0.15㎜, 파장 범위 200~700㎚에 있어서의 외부 투과율 곡선을 나타내는 데이터이다.
본 발명의 도광판에 있어서, 유리판의 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차는 바람직하게는 12% 이하, 10% 이하, 8% 이하, 6% 이하, 5% 이하, 특히 4% 이하이다. 투과율 차가 지나치게 크면 표시 장치의 휘도 특성이 저하되기 쉬워진다.
광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율은 바람직하게는 88% 이상, 90% 이상, 91% 이상, 92% 이상, 93% 이상, 94% 이상, 95% 이상, 96% 이상, 97% 이상, 98% 이상, 특히 99% 이상이다. 최대 투과율이 너무 낮으면 표시 장치의 휘도 특성이 저하되기 쉬워진다.
광로 길이 200㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율은 바람직하게는 86% 이상, 88% 이상, 90% 이상, 91% 이상, 92% 이상, 93% 이상, 94% 이상, 95% 이상, 96% 이상, 97% 이상, 98% 이상, 특히 99% 이상이다. 최대 투과율이 너무 낮으면 표시 장치의 휘도 특성이 저하되기 쉬워진다.
광로 길이 500㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율은 바람직하게는 85% 이상, 86% 이상, 88% 이상, 90% 이상, 91% 이상, 92% 이상, 93% 이상, 94% 이상, 95% 이상, 96% 이상, 97% 이상, 98% 이상, 특히 99% 이상이다. 최대 투과율이 너무 낮으면 표시 장치의 휘도 특성이 저하되기 쉬워진다.
본 발명의 도광판에 있어서, 유리판의 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율은 85% 이상이며, 바람직하게는 87% 이상, 88% 이상, 89% 이상, 특히 90% 이상이다. 최대 투과율이 너무 낮으면 표시 장치의 휘도 특성이 저하되기 쉬워진다.
유리판 중의 Rh2O3의 함유량은 질량으로 1ppm 미만이며, 바람직하게는 0.8ppm 이하, 0.6ppm 이하, 0.01~0.5ppm, 0.05~0.4ppm, 특히 0.1~0.3ppm이다. Rh2O3의 함유량이 지나치게 많으면 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차가 과대해지기 쉽다. 또한, Rh2O3의 함유량이 지나치게 적으면 유리 제조 설비에 고강도의 Pt-Rh 합금을 사용하기 어려워져 유리판의 제조 비용이 높아진다.
Rh2O3의 함유량을 가급적으로 저감하기 위해서는 고순도 유리 원료를 사용하거나, Rh2O3가 혼입하지 않도록 유리 제조 조건을 조정하거나, 유리 제조 설비에 있어서의 Pt-Rh 합금의 사용 개소를 줄이면 좋다.
유리판 중의 Cr2O3의 함유량은 바람직하게는 질량으로 5ppm 이하, 4ppm 이하, 3ppm 이하, 0.1~1.5ppm, 0.2~1ppm, 특히 0.3~0.8ppm이다. Cr2O3의 함유량이 지나치게 많으면 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차가 과대해지기 쉽다. 또한, Cr2O3의 함유량이 지나치게 적으면 원료 비용, 유리판의 제조 비용이 높아진다.
유리판 중의 Fe2O3의 함유량은 바람직하게는 질량으로 50ppm 이하, 40ppm 이하, 30ppm 이하, 28ppm 이하, 25ppm 이하, 22ppm 이하, 20ppm 이하, 18ppm 이하, 15ppm 이하, 12ppm 이하, 10ppm 이하, 8ppm 이하, 6ppm 이하, 특히 1~5ppm이다. Fe2O3의 함유량이 지나치게 많으면 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 저하되기 쉬워진다. 또한, Fe2O3의 함유량이 질량으로 1ppm보다 적어지면 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차를 작게 하는 것이 곤란해진다.
파장 범위 400~750㎚에 있어서 파장 550㎚ 부근의 투과율은 상대적으로 높고, 파장 400㎚ 부근과 파장 750㎚ 부근의 투과율은 상대적으로 낮아지기 쉽다. 이 때문에 파장 550㎚ 부근의 투과율을 약간 저하시키면서 파장 400㎚ 부근과 파장 750㎚ 부근의 투과율을 높이면 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차를 가급적으로 작게 할 수 있다. 본 발명자의 조사에 의하면 Fe2O3를 소량(바람직하게는 질량으로 1~10ppm, 특히 2~5ppm) 함유시키면 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 전체 투과율을 전체적으로 높이면서 파장 550㎚ 부근의 투과율을 약간 저하시킬 수 있고, 또한 Cr2O3의 함유량을 저감하면 파장 400㎚ 부근과 파장 750㎚ 부근의 투과율을 높일 수 있다. 상기 지견을 근거로 하면, 질량비 Cr2O3/Fe2O3는 바람직하게는 0.01~0.13, 0.0125~0.1, 0.014~0.06, 특히 0.0167~0.0333이다. 질량비 Cr2O3/Fe2O3가 상기 범위 외가 되면 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차가 커지기 쉽다.
Cr2O3와 Fe2O3의 함유량을 가급적으로 저감하기 위해서는 고순도 유리 원료를 사용하거나, 유리 원료에 Cr2O3와 Fe2O3가 혼입하지 않도록 설계된 원료 조합 설비 등을 사용하면 좋다. 단, Cr2O3와 Fe2O3를 극단적으로 저감하고자 하면, 원료 비용이나 생산 코드가 높아진다는 문제가 생긴다.
본 발명의 도광판에서는 유리판 중의 V2O5, NiO, MnO2, Nd2O3, CeO2, Er2O3의 함유량을 가급적으로 저감하는 것이 바람직하다.
유리판 중의 V2O5의 함유량은 바람직하게는 0.03질량% 이하, 0.02질량% 이하, 0.015질량% 이하, 0.01질량% 이하, 0.005질량% 이하, 특히 0.003질량% 이하이다. V2O5의 함유량이 지나치게 많으면 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 저하되기 쉬워진다.
유리판 중의 NiO의 함유량은 바람직하게는 0.03질량% 이하, 0.02질량% 이하, 0.015질량% 이하, 0.01질량% 이하, 0.005질량% 이하, 특히 0.003질량% 이하이다. NiO의 함유량이 지나치게 많으면 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 저하되기 쉬워진다.
유리판 중의 MnO2의 함유량은 바람직하게는 0.03질량% 이하, 0.02질량% 이하, 0.015질량% 이하, 0.01질량% 이하, 0.005질량% 이하, 특히 0.003질량% 이하이다. MnO2의 함유량이 지나치게 많으면 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 저하되기 쉬워진다.
유리판 중의 Nd2O3의 함유량은 바람직하게는 0.03질량% 이하, 0.02질량% 이하, 0.015질량% 이하, 0.01질량% 이하, 0.005질량% 이하, 특히 0.003질량% 이하이다. Nd2O3의 함유량이 지나치게 많으면 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 저하되기 쉬워진다.
유리판 중의 CeO2의 함유량은 바람직하게는 0.03질량% 이하, 0.02질량% 이하, 0.015질량% 이하, 0.01질량% 이하, 0.005질량% 이하, 특히 0.003질량% 이하이다. CeO2의 함유량이 지나치게 많으면 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 저하되기 쉬워진다.
유리판 중의 Er2O3의 함유량은 바람직하게는 0.03질량% 이하, 0.02질량% 이하, 0.015질량% 이하, 0.01질량% 이하, 0.005질량% 이하, 특히 0.003질량% 이하이다. Er2O3의 함유량이 지나치게 많으면 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 저하되기 쉬워진다.
본 발명의 도광판에 있어서, 유리판의 적어도 한 변의 치수는 바람직하게는 1000㎜ 이상, 1500㎜ 이상, 2000㎜ 이상, 2500㎜ 이상, 특히 3000㎜ 이상이다. 이렇게 하면, 표시 장치의 대형화의 요청을 만족시킬 수 있다.
유리판의 열팽창계수는 바람직하게는 120×10-7/℃ 이하, 95×10-7/℃ 이하, 70×10-7/℃ 이하, 60×10-7/℃ 이하, 특히 50×10-7/℃ 이하이다. 열팽창계수가 지나치게 높으면 표시 패널과 도광판의 열에 의한 치수 변화의 차가 커진다.
유리판의 변형점은 바람직하게는 460℃ 이상, 480℃ 이상, 500℃ 이상, 520℃ 이상, 530℃ 이상, 550℃ 이상, 특히 590℃ 이상이다. 변형점이 너무 낮으면 유리판의 내열성이 저하되기 쉬워지고, 예를 들면 유리판의 표면 또는 끝면에 고온에서 반사막, 확산막 등을 성막하면 유리판이 열변형되기 쉬워진다. 여기에서, 「변형점」은 JIS R3103에 의거하여 측정한 값이다.
유리판은 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 40~80%, Al2O3 1~15%, B2O3 0~20%, Na2O 0~20%, MgO 0~10%, CaO 0~15%, SrO 0~15%, BaO 0~35%를 함유하는 것이 바람직하다. 상기와 같이 각 성분의 함유량을 규제한 이유를 하기에 나타낸다. 또한, 각 성분의 함유 범위의 설명에 있어서 % 표시는 질량%를 의미한다.
SiO2는 유리의 네트워크 포머가 되는 성분이며, 열팽창계수를 저하시켜 열에 의한 치수 변화를 저감하는 성분이다. 또한, 내산성, 변형점을 높이는 성분이다. SiO2의 적합한 하한 범위는 40% 이상, 60% 이상, 65% 이상, 67% 이상, 특히 70% 이상이며, 적합한 상한 범위는 80% 이하, 78% 이하, 77% 이하, 75% 이하, 특히 73% 이하이다. SiO2의 함유량이 많아지면 고온 점성이 높아지고, 용융성이 저하됨과 아울러, 성형 시에 크리스토발라이트의 실투물이 석출되기 쉬워진다. 한편, SiO2의 함유량이 적어지면 열팽창계수가 높아져 열에 의한 치수 변화가 커지는 경향이 있다. 또한, 내산성, 변형점이 저하되기 쉬워진다.
Al2O3는 열팽창계수를 저하시켜 열에 의한 치수 변화를 저감하는 성분이다. 또한, 변형점을 높이거나, 성형 시에 크리스토발라이트의 실투물의 석출을 억제하는 효과도 있다. Al2O3의 적합한 하한 범위는 1% 이상, 2% 이상, 5.5% 이상, 7% 이상, 특히 10% 이상이며, 적합한 상한 범위는 15% 이하, 13% 이하, 특히 12% 이하이다. Al2O3의 함유량이 많아지면 액상 온도가 상승하여 유리판으로 성형하기 어려워진다. 한편, Al2O3의 함유량이 적어지면 열팽창계수가 높아져 열에 의한 치수 변화가 커지는 경향이 있다. 또한, 변형점이 저하되기 쉬워진다.
B2O3는 융제로서 작용하고, 고온 점성을 낮춰 용융성을 개선하는 성분이다. 또한, 열팽창계수를 저하시켜 열에 의한 치수 변화를 저감하는 성분이다. B2O3의 적합한 하한 범위는 0% 이상, 3% 이상, 5% 이상, 7% 이상, 8% 이상, 특히 10% 이상이며, 적합한 상한 범위는 15% 이하, 13% 이하, 특히 12% 이하이다. B2O3의 함유량이 많아지면 변형점, 내산성이 저하되기 쉬워진다. 한편, B2O3의 함유량이 적어지면 열팽창계수가 높아져 열에 의한 치수 변화가 커지는 경향이 있다. 또한, 용융성이 저하되기 쉬워진다.
Na2O는 고온 점성을 저하시켜 용융성을 개선하는 성분이다. Na2O의 적합한 하한 범위는 0% 이상, 3% 이상, 5% 이상, 6% 이상, 7% 이상, 특히 10% 이상이며, 적합한 상한 범위는 20% 이하, 18% 이하, 16% 이하, 특히 15% 이하이다. Na2O의 함유량이 많아지면 열팽창계수가 높아져 열에 의한 치수 변화가 커지는 경향이 있다. 한편, Na2O의 함유량이 적어지면 용융성이 저하되기 쉬워진다.
MgO는 고온 점성을 저하시켜 용융성을 개선하는 성분이다. MgO의 적합한 하한 범위는 0% 이상, 0.05% 이상, 특히 0.1% 이상이며, 적합한 상한 범위는 10% 이하, 6% 이하, 2% 이하, 1% 이하, 특히 0.5% 이하이다. MgO의 함유량이 지나치게 많으면 성형 시에 실투물이 석출되기 쉬워진다.
CaO는 변형점을 저하시키지 않고 고온 점성만을 저하시켜 용융성을 개선하는 성분이다. CaO의 적합한 하한 범위는 0% 이상, 0.5% 이상, 1% 이상, 특히 2% 이상이며, 적합한 상한 범위는 15% 이하, 14% 이하, 13% 이하, 8% 이하, 특히 5% 이하이다. CaO의 함유량이 지나치게 많으면 성형 시에 실투물이 석출되기 쉬워진다.
SrO는 내약품성, 내실투성을 높이는 성분이다. SrO의 적합한 하한 범위는 0% 이상, 0.1% 이상, 특히 0.5% 이상이며, 적합한 상한 범위는 15% 이하, 10% 이하, 특히 5% 이하이다. SrO의 함유량이 많아지면 밀도가 높아지거나, 열팽창계수가 높아져 열에 의한 치수 변화가 커지는 경향이 있다. 또한, 용융성이 저하되기 쉬워진다.
BaO는 내약품성, 내실투성을 높이는 성분이다. BaO의 적합한 하한 범위는 0% 이상, 0.1% 이상, 특히 0.5% 이상이며, 적합한 상한 범위는 35% 이하, 30% 이하, 20% 이하, 특히 10% 이하이다. BaO의 함유량이 많아지면 밀도가 높아지거나, 열팽창계수가 높아져 열에 의한 치수 변화가 커지는 경향이 있다. 또한, 용융성이 저하되기 쉬워진다.
MgO와 CaO의 합량의 적합한 하한 범위는 0% 이상, 0.1% 이상, 0.5% 이상, 특히 1% 이상이며, 적합한 상한 범위는 10% 이하, 8% 이하, 5% 이하, 3% 이하, 특히 2% 이하이다. MgO와 CaO의 합량이 지나치게 적으면 용융성이 저하되기 쉬워진다. 한편, MgO와 CaO의 합량이 지나치게 많으면 열팽창계수와 밀도가 부당하게 높아지고, 또한 내실투성이 저하되기 쉬워진다.
SrO와 BaO의 합량의 적합한 하한 범위는 0% 이상, 0.1% 이상, 1% 이상, 1.5% 이상, 특히 2% 이상이며, 적합한 상한 범위는 35% 이하, 20% 이하, 10% 이하, 특히 5% 이하이다. SrO와 BaO의 합량이 지나치게 적으면 용융성이 저하되기 쉬워진다. 한편, SrO와 BaO의 합량이 지나치게 많으면 열팽창계수와 밀도가 부당하게 높아지고, 또한 내실투성이 저하되기 쉬워진다.
Rh2O3, Cr2O3, Fe2O3, V2O5, NiO, MnO2, Nd2O3, CeO2 및 Er2O3의 적합한 함유량 등은 상기와 같다.
상기 성분 이외에도 다른 성분을 도입해도 좋다. 예를 들면, 액상 온도를 저하시키기 위해서 Y2O3, La2O3, Nb2O5, P2O5를 각 3%까지, 용융 온도를 저하시키기 위해서 Li2O, K2O, Cs2O를 각 6%까지, 청징제로서 As2O3, Sb2O3, SnO2, SO3, F, Cl 등을 합량으로 2%까지 도입해도 좋다. 단, As2O3, Sb2O3는 환경 부하 물질이며, 또한 플로트법으로 유리판을 성형할 경우, 플로트 바스 중에서 환원되어서 금속 이물이 되기 때문에 실질적인 도입을 피하는 것이 바람직하고, 구체적으로는 그 함유량을 각각 0.01% 미만으로 하는 것이 바람직하다.
본 발명의 도광판에 있어서, 유리판은 오버플로우 다운드로우법으로 성형되어 이루어지는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 성형 시에 유리 리본의 표리면의 온도차, 조성차가 생기기 어려움과 아울러, 미연마에서 표면 품위가 양호한 유리판을 성형하기 쉬워져 결과적으로 도광판의 제조 비용의 저렴화, 휘도 특성의 균일화를 도모하기 쉬워진다. 이 이유는 오버플로우 다운드로우법의 경우, 표면이 되어야 할 면이 홈통상 내화물에 접촉하지 않고 자유 표면의 상태로 성형되기 때문이다.
또한, 오버플로우 다운드로우법 이외에도 슬롯 다운드로우법, 플로트법, 롤아웃법, 리드로우법 등으로 유리판을 성형할 수도 있다. 또한, 플로트법에서는 성형 시에 유리 리본의 표리면의 온도차, 조성 차가 발생하기 쉽지만, 성형 시의 온도 제어를 엄밀하게 행하면 그 온도차, 조성차를 저감할 수 있다.
본 발명의 도광판은 유리판의 한쪽 표면(바람직하게는 광출사면)에 도트 모양이 인쇄되어 있는 것이 바람직하고, 도트 모양의 도트 직경은 광원으로부터의 광이 입사해야 할 끝면으로부터 이간함에 따라 점차 커지고 있는 것이 더욱 바람직하다. 이렇게 하면, 광출사면으로부터 출사하는 광을 면 내에서 균일화하기 쉬워진다. 또한, 도트 모양은, 예를 들면 유리판의 표면에 내열 잉크 또는 유리프리트를 인쇄함으로써 형성할 수 있다.
본 발명의 도광판에 있어서, 유리판의 끝면(바람직하게는 광원으로부터의 광이 입사해야 할 끝면)의 평균 표면 거칠기 Ra는 바람직하게는 0.5㎛ 이하, 0.3㎛ 이하, 0.2㎛ 이하, 특히 0.1㎛ 이하이다. 이렇게 하면, 광원으로부터의 광이 끝면에 입사했을 때에 광 로스를 저감하기 쉬워진다. 또한, 끝면에 고품위의 반사층을 형성하기 쉬워진다.
예를 들면, 유리판의 끝면을 #2000의 숫돌로 연마하면, 유리판의 끝면의 평균 표면 거칠기 Ra를 가급적으로 저감할 수 있다. 또한, 유리판의 끝면을 에칭하면 연마 스크래치를 발생시키지 않고 유리판의 끝면의 평균 표면 거칠기 Ra를 저감할 수 있다.
유리판의 끝면은 모따기부를 갖고 있지 않은 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 광원으로부터의 광을 유리판의 내부에 도입하기 쉬워진다.
본 발명의 도광판은 광원으로부터의 광이 입사해야 할 끝면 이외의 끝면의 전부 또는 일부에 반사층이 형성되어 있는 것이 바람직하고, 광원으로부터의 광이 입사해야 할 끝면 이외의 끝면의 전부에 반사층이 형성되어 있는 것이 특히 바람직하다. 이렇게 하면, 유리판의 내부에 전파한 광이 끝면으로부터 새기 어려워진다. 또한, 반사층으로서 끝면에 반사막을 직접 성막해도 좋지만, 끝면에 반사 시일을 부착해도 좋다.
본 발명의 도광판은 광출사면으로부터 출사하는 광을 확산시키기 위해서 광출사면에 확산판을 부착해도 좋고, 광출사면에 확산층을 형성해도 좋다.
본 발명의 도광판은 도광판의 기능을 병행시킨 표시 패널의 기판으로서도 활용할 수 있다. 이렇게 하면, 표시 장치의 부재 구성을 간략화할 수 있다.
본 발명의 유리판은 광로 길이 500㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 투과율이 93% 이상인 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 유리판은 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차가 6% 이하인 것을 특징으로 한다. 본 발명의 유리판의 기술적 특징은 본 발명의 도광판의 설명란에 이미 기재되어 있기 때문에 여기에서는 상세한 설명을 생략한다.
본 발명의 유리판에 있어서, 광로 길이 0.15㎜, 파장 250㎚에 있어서의 투과율은 바람직하게는 85% 이상, 88% 이상, 90% 이상, 92% 이상, 94% 이상, 95% 이상, 특히 96% 이상이다. 광로 길이 0.15㎜, 파장 250㎚에 있어서의 투과율이 너무 낮으면 살균, 살바이러스가 필요한 용도에 전개되기 어려워진다.
실시예 1
이하, 실시예에 의거하여 본 발명을 설명한다. 단, 이하의 실시예는 단순한 예시이다. 본 발명은 이하의 실시예에 조금도 한정되지 않는다.
표 1은 본 발명의 실시예(시료 No.1~4)를 나타내고 있다.
Figure 112017091502201-pct00001
우선, 표 중의 유리 조성이 되도록 유리 원료를 조합한 유리 배치를 백금도가니에 넣은 후, 1200~1450℃에서 24시간 용융했다. 유리 배치의 용해에 있어서는 백금 스터러를 사용하여 교반하여 균질화를 행했다. 이어서, 용융 유리를 카본판 상에 흘려내어 판형상으로 성형한 후, 서랭점 부근의 온도에서 30분간 서랭했다. 얻어진 각 시료에 대하여 30~380℃의 온도 범위에 있어서의 열팽창계수 CTE, 변형점 Ps, 파장 범위 400~700㎚에 있어서의 최대 투과율 및 최소 투과율을 평가했다.
30~380℃의 온도 범위에 있어서의 열팽창계수 CTE는 딜라토미터를 사용하고, JIS R3102에 의거하여 30~380℃에 있어서의 평균 열팽창계수를 측정한 값이다. 변형점은 JIS R3103에 의거하여 측정한 값이다.
최대 투과율과 최소 투과율은 Shimadzu Corporation제 UV-3100PC에 의해 측정한 값이다.
이상의 결과로부터 시료 No.1~4는 변형점이 높기 때문에 내열성이 높고, 수지판에 비해 열팽창계수가 낮기 때문에 온도 상승에 따라 치수 변화가 생기기 어려우며, 또한 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차가 작다. 따라서, 시료 No.1~4는 도광판, 특히 엣지 라이트형 면 발광 장치에 사용하는 도광판으로서 적합한 것으로 생각된다.
실시예 2
우선, 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 69%, Al2O3 5.8%, B2O3 10.2%, CaO 3.1%, Na2O 10.7%, ZnO 0.9%, SnO 20.3%를 함유하도록 유리 원료를 조합, 혼합한 후, 연속 용융로 내에서 용융하여 용융 유리를 얻었다. 이어서, 얻어진 용융 유리를 오버플로우 다운드로우법으로 판형상으로 성형, 서랭한 후, 소정 치수로 절단함과 아울러, 끝면의 표면 거칠기 Ra를 0.3㎛로 연마함으로써 유리판을 얻었다. 여기에서, 유리판의 제작에 있어서 유리판 중의 Rh2O3의 함유량이 0.2ppm 미만, Fe2O3의 함유량이 질량으로 5ppm, Cr2O3의 함유량이 0.1ppm 미만이 되도록 유리 원료로서 Fe2O3 등의 착색 불순물이 적은 고순도 유리 원료를 사용함과 아울러, 유리판의 제조 설비로부터 유리 중에 Rh2O3 등의 착색 성분이 혼입하지 않도록 설계된 유리 제조 설비를 사용했다.
얻어진 유리판에 대해서 Hitachi High-Tech Science Corporation제 UH4150을 사용하여 광로 길이 150㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 투과율을 실측한 후, 광로 길이 500㎜의 내부 투과율로 환산한 결과, 광로 길이 500㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율은 99%이며, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차는 3%이었다. 또한, 광로 길이 500㎜, 파장 범위 400~750㎚에서의 투과율 곡선을 도 3에 나타낸다.
또한, 얻어진 유리판에 대하여 상기 방법으로 30~380℃의 온도 범위에 있어서의 열팽창계수 CTE를 측정한 결과, 66.3×10-7/℃이며, 변형점을 측정한 결과, 536℃이었다.
이상의 결과로부터 이 유리판을 갖는 도광판은 온도 상승에 따라 치수 변화가 생기기 어려우며, 또한 표시 장치의 휘도 특성을 높일 수 있는 것으로 생각된다.
실시예 3
우선 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 69%, Al2O3 5.8%, B2O3 10.2%, CaO 3.1%, Na2O 10.7%, ZnO 0.9%, SnO 20.3%를 함유하도록 유리 원료를 조합, 혼합한 후, 연속 용융로 내에서 용융하여 용융 유리를 얻었다. 이어서, 얻어진 용융 유리를 오버플로우 다운드로우법으로 0.15㎜ 두께의 판형상으로 성형, 서랭한 후 소정 치수로 절단함과 아울러, 끝면의 표면 거칠기 Ra를 0.3㎛로 연마함으로써 유리판을 얻었다. 여기에서, 유리판의 제작에 있어서 유리판 중의 Rh2O3의 함유량이 0.2ppm 미만, Fe2O3의 함유량이 질량으로 4ppm, Cr2O3의 함유량이 0.1ppm 미만이 되도록 유리 원료로서 Fe2O3 등의 착색 불순물이 적은 고순도 유리 원료를 사용함과 아울러, 유리판의 제조 설비로부터 유리 중에 Rh2O3 등의 착색 성분이 혼입하지 않도록 설계된 유리 제조 설비를 사용했다.
얻어진 유리판에 대해서 Hitachi High-Tech Science Corporation제 U-4100을 사용하여 판두께 0.15㎜(광로 길이 0.15㎜), 파장 범위 200~700㎚에 있어서의 투과율을 실측한 후, 내부 투과율로 환산했다. 도 4는 이 시료의 파장 범위 200~700㎚에 있어서의 투과율 곡선(내부 투과율 곡선)을 나타내는 데이터이며, 도 5는 파장 범위 200~750㎚에 있어서의 외부 투과율 곡선을 나타내는 데이터이다. 또한, 도 4, 도 5에서 알 수 있는 바와 같이 이 시료의 파장 250㎚의 투과율(내부 투과율)은 96%이며, 외부 투과율은 88%이었다.
또한, 이 유리 시료에 대해서 상기 방법으로 30~380℃의 온도 범위에 있어서의 열팽창계수 CTE를 측정한 결과, 66.3×10-7/℃이었다.
이상의 점에서 이 유리 시료는 심자외선을 양호하게 투과하기 때문에 살균, 살바이러스가 필요한 용도에 적합하며, 또한 석영 유리보다 열팽창계수가 높기 때문에 세라믹스나 금속 등의 봉착, 밀봉성도 우수하다.
본 발명의 유리판은 도광판 이외에도 고투과율이 요구되는 용도에 적합하다. 예를 들면, 디스플레이용 유리 기판, 광통신 디바이스용 유리 기판, 반도체 제조 프로세스용 유리 기판 등에 적합하다. 또한, 본 발명의 유리판은 심자외역에 있어서의 투과율이 높고, 석영 유리에서도 열팽창계수가 높기 때문에 의료, 분석, 환경, 농공업 등의 폭넓은 분야로의 전개가 가능하다. 또한, 본 발명에 의한 유리는 자외역에 있어서의 투과율이 높기 때문에 관형상으로 가공하여 살균용 램프로서 적합하게 사용할 수도 있다.
1 : 엣지 라이트형 면 발광 장치 2, 12 : 광원
3, 10 : 도광판 4, 19 : 반사층
5 : 확산판 6 : 광반사면
7 : 광출사면 11 : 유리판
13, 16, 17, 18 : 끝면 14 : 배면
15 : 도트 모양

Claims (17)

  1. 적어도 유리판을 갖고, 유리판 중의 Rh2O3의 함유량이 질량으로 0.01ppm 이상, 1ppm 미만이며, 유리판의 적어도 한 변의 치수는 1000㎜ 이상이며, 또한 유리판의 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차가 12% 이하인 것을 특징으로 하는 도광판.
  2. 제 1 항에 있어서,
    유리판 중의 Fe2O3의 함유량이 질량으로 50ppm 미만이며, 또한 유리판의 광로 길이 100㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 85% 이상인 것을 특징으로 하는 도광판.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    유리판 중의 Cr2O3의 함유량이 질량으로 5ppm 이하인 것을 특징으로 하는 도광판.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    유리판의 한쪽 표면에 도트 모양이 인쇄되어 있는 것을 특징으로 하는 도광판.
  5. 제 4 항에 있어서,
    도트 모양의 도트 직경이 광원으로부터의 광이 입사해야 할 끝면으로부터 이간됨에 따라 점차 커지고 있는 것을 특징으로 하는 도광판.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    유리판의 끝면의 평균 표면 거칠기 Ra가 0.5㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 도광판.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    광원으로부터의 광이 입사해야 할 끝면 이외의 끝면의 전부 또는 일부에 반사층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 도광판.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    유리판이 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 40~80%, Al2O3 1~15%, B2O3 0~20%, Na2O 0~20%, MgO 0~10%, CaO 0~15%, SrO 0~15%, BaO 0~35%를 함유하는 것을 특징으로 하는 도광판.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    유리판의 열팽창계수가 120×10-7/℃ 이하인 것을 특징으로 하는 도광판.
  10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    엣지 라이트형 면 발광 장치에 사용하는 것을 특징으로 하는 도광판.
  11. 유리판 중의 Rh2O3의 함유량이 질량으로 0.01ppm 이상, 1ppm 미만이며, 유리판의 적어도 한 변의 치수는 1000㎜ 이상이며, 광로 길이 500㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 93% 이상인 것을 특징으로 하는 유리판.
  12. 제 11 항에 있어서,
    Fe2O3의 함유량이 질량으로 10ppm 이하인 것을 특징으로 하는 유리판.
  13. 유리판 중의 Rh2O3의 함유량이 질량으로 0.01ppm 이상, 1ppm 미만이며, 유리판의 적어도 한 변의 치수는 1000㎜ 이상이며, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율과 최소 투과율의 투과율 차가 6% 이하인 것을 특징으로 하는 유리판.
  14. 제 13 항에 있어서,
    유리 조성 중에 Cr2O3와 Fe2O3를 포함하고, 질량비 Cr2O3/Fe2O3가 0.01~0.13인 것을 특징으로 하는 유리판.
  15. 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,
    유리 조성 중의 Fe2O3의 함유량이 질량으로 1~10ppm인 것을 특징으로 하는 유리판.
  16. 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,
    광로 길이 500㎜, 파장 범위 400~750㎚에 있어서의 최대 투과율이 93% 이상인 것을 특징으로 하는 유리판.
  17. 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,
    광로 길이 0.15㎜, 파장 250㎚에 있어서의 투과율이 85% 이상인 것을 특징으로 하는 유리판.
KR1020177026465A 2015-06-24 2016-06-14 도광판 KR102538383B1 (ko)

Applications Claiming Priority (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2015-126113 2015-06-24
JP2015126113 2015-06-24
JPJP-P-2015-164476 2015-08-24
JP2015164476 2015-08-24
JP2015165633 2015-08-25
JPJP-P-2015-165633 2015-08-25
JP2015198193A JP6765628B2 (ja) 2015-06-24 2015-10-06 導光板
JPJP-P-2015-198193 2015-10-06
PCT/JP2016/067619 WO2016208451A1 (ja) 2015-06-24 2016-06-14 導光板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180020120A KR20180020120A (ko) 2018-02-27
KR102538383B1 true KR102538383B1 (ko) 2023-05-31

Family

ID=58209793

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020177026465A KR102538383B1 (ko) 2015-06-24 2016-06-14 도광판

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6765628B2 (ko)
KR (1) KR102538383B1 (ko)
CN (1) CN107615120B (ko)
TW (1) TWI698405B (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11067735B2 (en) * 2017-08-29 2021-07-20 Corning Incorporated Direct-lit backlight unit with 2D local dimming
JP7429093B2 (ja) * 2018-04-09 2024-02-07 日本電気硝子株式会社 導光板
CN109557608A (zh) * 2018-05-11 2019-04-02 深圳市微纳科学技术有限公司 提高uvc接触面积的导光玻璃及其制作方法
CN111208599A (zh) * 2018-11-12 2020-05-29 安徽亦知企业管理有限公司 一种具有v型槽的导光板
CN211667616U (zh) 2019-03-29 2020-10-13 昕诺飞控股有限公司 照明器组装套件、照明器和照明器设施
DE102020213689B4 (de) * 2020-10-30 2022-07-07 Volkswagen Aktiengesellschaft Vorrichtung zur Desinfektion wenigstens eines Teils eines Innenraums eines Kraftfahrzeugs sowie Kraftfahrzeug mit wenigstens einer Vorrichtung zur Desinfektion
KR102472228B1 (ko) * 2020-12-08 2022-11-28 임로빈 전기차 충전용 키오스크

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006036626A (ja) * 2004-06-23 2006-02-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス基板
JP2007101799A (ja) * 2005-10-03 2007-04-19 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透過型光学素子
JP2010248046A (ja) * 2009-04-17 2010-11-04 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス
JP2014209465A (ja) * 2013-03-27 2014-11-06 三京化成工業株式会社 面光源およびその製法
JP2015069792A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 凸版印刷株式会社 導光体、照明装置、および表示装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0742133B2 (ja) * 1991-08-31 1995-05-10 信越石英株式会社 紫外線レーザー用合成石英ガラス光学部材
US5364433A (en) * 1991-06-29 1994-11-15 Shin-Etsu Quartz Products Company Limited Optical member of synthetic quartz glass for excimer lasers and method for producing same
KR20010108121A (ko) * 1999-01-25 2001-12-07 세야 히로미치 Ｃｒｔ용 패널유리와 그 제조방법 및 ｃｒｔ
CN1178262C (zh) * 2000-07-24 2004-12-01 旭硝子株式会社 Crt用屏玻璃、crt及它们的制造方法
CN1552651A (zh) * 2003-05-26 2004-12-08 上海高雅玻璃有限公司 防放射线照射变色的玻璃
US20070197367A1 (en) * 2004-03-10 2007-08-23 Kabushiki Kaisha Ohara Optical glass
TW201215980A (en) * 2010-10-05 2012-04-16 J Touch Corp Electrochromic module and stereoscopic image display device having the same
JP2012138345A (ja) 2010-12-06 2012-07-19 Sumitomo Chemical Co Ltd エッジライト型面発光装置
JP2012123933A (ja) 2010-12-06 2012-06-28 Sumitomo Chemical Co Ltd エッジライト型面発光装置
CN103380411B (zh) * 2011-02-24 2016-10-05 富士胶片株式会社 导电片和触控面板
JP2012216523A (ja) 2011-03-30 2012-11-08 Sumitomo Chemical Co Ltd エッジライト型面発光装置
JP2012216528A (ja) 2011-03-30 2012-11-08 Sumitomo Chemical Co Ltd エッジライト型面発光装置
CN102765879A (zh) * 2012-06-25 2012-11-07 成都尤利特光电科技有限公司 高折射率光学玻璃及其制造方法
JP6365826B2 (ja) * 2013-07-11 2018-08-01 日本電気硝子株式会社 ガラス
WO2015033866A1 (ja) * 2013-09-03 2015-03-12 日本電気硝子株式会社 導光板

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006036626A (ja) * 2004-06-23 2006-02-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス基板
JP2007101799A (ja) * 2005-10-03 2007-04-19 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透過型光学素子
JP2010248046A (ja) * 2009-04-17 2010-11-04 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス
JP2014209465A (ja) * 2013-03-27 2014-11-06 三京化成工業株式会社 面光源およびその製法
JP2015069792A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 凸版印刷株式会社 導光体、照明装置、および表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180020120A (ko) 2018-02-27
JP6765628B2 (ja) 2020-10-07
TW201704172A (zh) 2017-02-01
CN107615120B (zh) 2020-07-14
TWI698405B (zh) 2020-07-11
CN107615120A (zh) 2018-01-19
JP2017043530A (ja) 2017-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102538383B1 (ko) 도광판
EP3365595B1 (en) High transmission light guide plates
JP5557168B2 (ja) 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
KR102138067B1 (ko) 도광판
JP6516085B2 (ja) 導光板
KR102058195B1 (ko) 유리 도광판 및 그 제조 방법
CN107922245B (zh) 玻璃导光板
JP6592817B2 (ja) ホウケイ酸ガラス、これを含む導光板及びその製造方法
JPWO2016195015A1 (ja) 光拡散板
US20190185367A1 (en) Method and apparatus for laminated backlight unit
TWI792533B (zh) 高透射性玻璃
EP3512815B1 (en) High transmission glasses with alkaline earth oxides as a modifier
WO2019198363A1 (ja) 導光板
WO2016208451A1 (ja) 導光板
WO2018159385A1 (ja) 導光板
CN106242271A (zh) 用于无色偏液晶显示器的可强化处理导光板高透光玻璃
JP2018035034A (ja) Ｌｅｄバックライト用光学レンズ

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant