KR102514468B1 - 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치 - Google Patents

스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치 Download PDF

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    • H01J37/32834—Exhausting
    • H01J37/32844—Treating effluent gases

Abstract

개시된 내용은 유체의 공급방향에 따라 피스톤로드가 일방향으로 회전되면서 전진하고 반대방향으로 회전되면서 후진하는 스크류실린더에 스크레이퍼가 결합되는 구조에 의해 가스처리설비의 관로 내주면 또는 가스처리설비의 내벽면에 고착된 파우더가 용이하면서도 효율적으로 제거될 수 있도록 한 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치에 관한 것이다.
개시된 내용은 가스처리설비에 기밀적으로 설치되며 유체의 공급방향에 따라 피스톤로드가 일방향으로 회전되면서 전진하고 반대방향으로 회전되면서 후진하는 스크류실린더; 및 상기 스크류실린더의 피스톤로드에 결합되어 상기 가스처리설비 내로 연장되고 상기 피스톤로드와 함께 회전과 동시에 전진 또는 후진되면서 상기 가스처리설비의 관로 내주면 또는 상기 가스처리설비의 내벽면에 고착된 파우더를 스크레이핑하는 스크레이퍼를 포함하는 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치를 일 실시예로 제시한다.

Description

스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치{POWDER REMOVING APPARATUS FOR GAS PROCESSING FACILITIES USING SCREW CYLINDER}
개시된 내용은 예를 들어 스크러버와 같은 가스처리설비에 설치되어 파우더를 제거하는 가스처리설비용 파우더제거장치에 관한 것이다.
본 명세서에서 달리 표시하지 않는 한, 이 섹션에 설명되는 내용들은 이 출원의 청구항들에 대한 종래 기술이 아니며, 이 섹션에 포함된다고 하여 종래 기술이라고 인정되는 것은 아니다.
통상 반도체의 제조는 D램, SD램, 플래시메모리, 실리콘반도체 등 반도체의 종류에 따라 상당한 차이가 있기는 하지만, 통상 웨이퍼 제조공정과, 회로설계 및 마스크 제작공정과, 산화, 감광, 노광, 현상, 에칭, 에싱, 화학적기상증착(CVD) 등을 포함하는 웨이퍼 가공공정과, 패키지 공정을 거쳐 이루어진다. 예를 들어 FPD와 같은 디스플레이의 제조도 전술한 반도체 제조공정이 적용된다.
반도체 제조공정의 경우에는 고순도의 H2, SiH4(모노실란) 또는 SiHCl3(삼염화실) 등과 같은 공정가스가 사용되고, 화학적기상증착에는 고순도의 SiH4, SiH2Cl2, SiHCl3, SiCl4, GeH4, B2H6, BBr3, BCl3, AsH3, PH3, TeH2, SnCl4, GeCl4, WF6, NH3, CH4, Cl2, MoF6 등의 특수 공정가스가 사용되며 운반기체(carrier gas)로서 고순도 수소(H2)와 질소(N2)가 사용된다. 또한 플라즈마 에칭에는 SiF4, CF4, C3F8, C2F6, CHF3, CClF3, O2 등의 공정가스가 사용되고, 이온빔 에칭에는 C3F8, CHF3, CClF3, CF4 등의 특수 공정가스가 사용된다.
한편, 반도체 제조에 사용되는 공정가스는 유독성, 가연성 및 부식성 등의 특성이 강하며 휘발성유기화합물(VOCS; Volatile Organic Compounds)과 같은 유해성분을 포함한다. 여기서 휘발성유기화합물은 증기압이 높아 대기 중으로 쉽게 증발되는 액체 또는 기체상 유기화합물의 총칭으로, 대기 중에서 광화학반응을 일으켜 오존 등 광화학 산화성물질을 생성시켜 광화학스모그를 유발하고. 대기오염 뿐만 아니라 지구온난화의 원인물질일 뿐만 아니라 발암성 물질로도 알려져 있다.
이러한 공정가스는 제조설비 내에서 일부만 반응에 참여하고, 나머지 90% 정도의 공정가스는 미반응 상태로 제조설비로부터 배출된다. 이렇게 배출되는 공정가스(이하 '폐공정가스'라 합니다)가 별도의 정화과정 없이 대기중에 그대로 방출될 경우 주변 제조설비의 손상과 심각한 환경오염 및 작업자의 안전사고를 초래하게 되므로 각 제조설비에는 배기덕트로 연결된 가스 배출라인 상에 폐가스를 기준치 이하로 분해 또는 정화처리시키는 가스처리설비가 설치된다.
이러한 가스처리설비는 폐가스의 특성 다시 말해서, 공기와의 접촉시 폭발적으로 반응하는 성질, 연소되는 성질, 가스 처리제와 반응하는 성질 및 물에 용해되는 성질 등을 이용하여 폐가스를 분해 또는 정화처리하는 것으로. 크게 열분해 또는 고온 플라즈마 방식의 건식 스크러버, 세정액 분사를 이용하는 습식 스크러버, 건식과 습식을 병행하는 혼합식 스크러버로 구분된다.
건식 스크러버는 버너의 화염 또는 플라즈마 내로 폐가스가 통과되도록 하여 직접 연소 또는 산화시키거나, 예를 들어 히터와 같은 열원에 이해 형성된 고온의 챔버 내로 폐가스가 통과되도록 하여 열분해시키는 구조를 갖는다. 이러한 건식 스크러버는 발화성(가연성) 폐가스의 처리에는 탁월한 효과가 있으나, 수용성 가스와 같이 잘 연소되지 않는 폐가스의 처리에는 부적절하다.
습식 스크러버는 물 분사를 이용하여 폐가스를 포집한 후 세정 및 냉각하는 비교적 간단한 구성을 가지며, 제작이 용이하고 대용량화 할 수 있는 장점이 있다. 그러나 불수용성의 폐가스는 처리가 불가능하고, 특히 발화성이 강한 수소기를 포함하는 폐가스의 처리에는 부적절하다.
혼합식 스크러버는 폐가스를 반응기 내에서 1차 연소시켜 발화성 가스 및 폭발성 가스를 제거한 후 2차적으로 물 분사를 통해 수용성의 유독성 폐가스를 물에 용해시키는 구조를 가지며, 이러한 혼합식 스크러버의 예는 대한민국 실용신안등록 제20-0405303호(2006.01.10. 공고), 대한민국 공개특허 제10-2010-0021135호(2010.02.24. 공개), 대한민국 특허등록 제10-1431452호(2014.08.12. 공고), 대한민국 특허등록 제10-1568804호(2015.11.12. 공고) 등에 개시된다.
그러나 전술한 바와 같은 가스처리설비의 경우에는 관로나 내벽 등에 파우더가 고착됨에 따라 가스처리효율이 저하되는 문제점이 있는 바, 이러한 파우더의 고착을 방지하기 위한 장치 또는 파우더를 제거하기 위한 장치가 필수적이다.
이러한 가스처리설비용 파우더제거장치의 일 예로, 대한민국 특허공개 제10-2007-0080004호(2007.08.09. 공개)에는 반도체 제조 공정중 생성된 폐가스가 유입되는 동시에, 상기 폐가스를 연소하는 버너와, 상기 버너가 결합된 동시에, 상기 버너에 의해 폐가스가 연소됨으로써 생성된 파우더가 하부로 낙하하는 연소 챔버로 이루어진 반도체 폐가스 처리용 스크러버에 있어서, 상기 연소 챔버에는 가스를 제공하여, 상기 연소 챔버의 내벽에 파우더가 침적되지 않도록 하는 파우더 제거용 가스 공급부가 더 형성되어 있되, 상기 파우더 제거용 가스 공급부는 상기 연소 챔버의 바깥에 결합된 가스 공급관과, 상기 가스 공급관에 연결된 동시에, 상기 연소 챔버의 내벽을 따라서 링 형태로 형성된 가스 튜브와, 상기 가스 튜브에 결합된 동시에, 상기 연소 챔버의 내부에서 연장된 적어도 하나의 가스 노즐을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 파우더제거장치가 개시된다.
이러한 종래의 가스처리설비용 파우더제거장치의 경우에는 가스 노즐 또는 가스공급관이 오히려 파우더의 고착에 의해 폐색되어 제 기능이 발휘되지 못하는 문제점이 있었다.
또한 대한민국 특허공개 제10-2014-0070513호(2014.06.10. 공개)에는 반도체 프로세스 챔버로부터 발생하는 폐가스의 배기 경로 상에 위치하는 스크러버 챔버와, 상기 스크러버 챔버의 외주면을 둘러쌓아 밀착 고정되는 초음파 전달 밴드와, 상기 초음파 전달 밴드에 고정 부착되는 진동 전달 부재와, 상기 진동 전달 부재에 일단이 고정 결합되는 초음파 혼과, 상기 초음파 혼의 타단에 결합되어 초음파 진동을 제공하는 초음파 변환기와, 상기 초음파 변환기를 전기적으로 구동하는 초음파 변환기 구동 전력 증폭기와, 원기둥 형상으로 양단 원형면 중앙에 관통구를 구비하고 관통구를 통해 상기 초음파 혼이 관통 결합되는 냉각 유닛을 구비함으로써, 초음파 변환기로 전도되는 열을 차단시키고 초음파 진동 에너지의 손실을 극소화하며 고온의 환경에서도 초음파 변환기의 효율과 안정성을 보장하는 반도체 제조 설비용 초음파 스크러버가 개시된다.
그러나 전술한 바와 같은 반도체 제조 설비용 초음파 스크러버에 개시되는 초음파 진동형 파우더제거장치의 경우에는 스크러버의 둘레에 설치되어야 하는 관계로 상대적으로 장치의 크기가 크고 초음파 발생을 위해 상당한 전력이 소모되는 문제점이 있었다.
1. 대한민국 특허공개 제10-2007-0080004호(2007.08.09. 공개) 2. 대한민국 특허공개 제10-2014-0070513호(2014.06.10. 공개)
유체의 공급방향에 따라 피스톤로드가 일방향으로 회전되면서 전진하고 반대방향으로 회전되면서 후진하는 스크류실린더에 스크레이퍼가 결합되는 구조에 의해 가스처리설비의 관로 내주면 또는 가스처리설비의 내벽면에 고착된 파우더가 용이하면서도 효율적으로 제거될 수 있도록 한 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치를 제공하고자 한다.
또한 상술한 바와 같은 기술적 과제들로 한정되지 않으며, 이하의 설명으로부터 또 다른 기술적 과제가 도출될 수도 있음은 자명하다.
개시된 내용은 가스처리설비에 기밀적으로 설치되며 유체의 공급방향에 따라 피스톤로드가 일방향으로 회전되면서 전진하고 반대방향으로 회전되면서 후진하는 스크류실린더; 및 상기 스크류실린더의 피스톤로드에 결합되어 상기 가스처리설비 내로 연장되고 상기 피스톤로드와 함께 회전과 동시에 전진 또는 후진되면서 상기 가스처리설비의 관로 내주면 또는 상기 가스처리설비의 내벽면에 고착된 파우더를 스크레이핑하는 스크레이퍼를 포함하는 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치를 일 실시예로 제시한다.
개시된 내용의 바람직한 특징에 따르면, 상기 스크류실린더는 전방측에 후진포트가 형성되고 후방측에 전진포트가 형성되는 실린더본체와, 상기 실린더본체의 후방단부에 고정결합되어 상기 실린더본체 내로 연장되는 스크류축과, 후방측이 상기 스크류축에 나사결합되어 상기 전,후진포트로의 유체공급에 따라 회전과 동시에 전진 또는 후진되며 전방단부에는 상기 스크레이퍼가 결합되는 상기 피스톤로드를 포함한다.
개시된 내용의 바람직한 특징에 따르면, 상기 스크레이퍼는 상기 피스톤로드의 전방단부 측에 끼워져 체결고정되는 체결관부와, 상기 체결관부로부터 연장되는 스크레이퍼축과, 상기 스크레이퍼축으로부터 U자 형상으로 양갈래로 분기되어 연장되는 스크레이핑용 절곡바를 포함한다.
개시된 내용의 바람직한 특징에 따르면, 상기 스크레이퍼는 상기 스크류실린더의 피스톤로드의 전방단부측와 상기 스크레이퍼의 체결관부를 동시에 관통하는 고정볼트에 의해 상기 스크류실린더의 피스톤로드에 결합되고, 상기 고정볼트는 2개가 이격되어 서로 반대방향으로 체결되고 단부에는 이탈방지용 스냅링이 각각 끼워지
개시된 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치에 의하면, 유체의 공급방향에 따라 피스톤로드가 일방향으로 회전되면서 전진하고 반대방향으로 회전되면서 후진하는 스크류실린더에 스크레이퍼가 결합되는 구조에 의해 가스처리설비의 관로 내주면 또는 가스처리설비의 내벽면에 고착된 파우더가 용이하면서도 효율적으로 제거될 수 있는 장점이 있다.
개시된 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치에 의하면, 상대적으로 적은 설치비용과 유지비용으로 가스처리설비의 관로 내주면 또는 가스처리설비의 내벽면에 고착된 파우더를 효과적으로 제거함과 동시에 가스처리설비의 가스처리효율의 안정성을 증대시킬 수 있는 장점이 있다.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 개시된 내용의 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치의 개략설치구조도.
도 2는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치의 사시도.
도 3은 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치의 분해사시도.
도 4는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치의 단면구조도.
도 5는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치의 작동도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예의 구성 및 작용효과에 대하여 살펴본다. 참고로, 이하 도면에서, 각 구성요소는 편의 및 명확성을 위하여 생략되거나 개략적으로 도시되었으며, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 반영하는 것은 아니다. 또한 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭하며 개별 도면에서 동일 구성에 대한 도면 부호는 생략하기로 한다.
도 1은 개시된 내용의 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치의 개략설치구조도이다.
개시된 내용의 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치(1)는 도 1에 도시되는 바와 같이 예를 들어 반도체 제조공정 또는 디스플레이 제조공정에 사용된 폐가스를 정화처리하는 스크러버와 같은 가스처리설비(3)에 기밀적으로 설치되어 가스처리설비(3)의 관로 내주면 또는 가스처리설비(3)의 내벽면에 고착된 파우더를 스크레이핑하여 제거하는 역할을 한다.
개시된 내용의 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치(1)는 가스처리설비(3)의 관로에 설치되어 관로 내주면에 고착된 파우더를 스크레이핑하여 제거할 수도 있고, 가스처리설비(3)의 상부 중앙에 설치되어 가스처리설비(3)의 내벽면에 고착된 파우더를 스크레이핑을 통해 제거할 수도 있다.
도 2는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치의 사시도이고, 도 3은 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치의 분해사시도이며, 도 4는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치의 단면도이다.
개시된 내용의 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치(1)는 도 1 내지 도 4에 도시되는 바와 같이, 가스처리설비(3)에 기밀적으로 설치되며 유체의 공급방향에 따라 피스톤로드(130)가 일방향으로 회전되면서 전진하고 반대방향으로 회전되면서 후진하는 스크류실린더(100)와, 이 스크류실린더(100)의 피스톤로드(130)에 결합되어 가스처리설비(3) 내로 연장되고 피스톤로드(130)와 함께 회전과 동시에 전진 또는 후진되면서 가스처리설비(3)의 관로 내주면 또는 가스처리설비(3)의 내벽면에 고착된 파우더를 스크레이핑하는 스크레이퍼(200)를 포함한다.
여기서, 스크류실린더(100)는 가스처리설비(3) 내에서 스크레이퍼(200)를 회전과 동시에 전진 또는 후진시키는 액추에이터에 해당하는 것으로, 개스킷(140)의 개재 하에 가스처리설비(3)에 기밀적으로 결합된다.
이러한 스크류실린더(100)는 유체의 공급방향에 따라 스크레이퍼(200)가 결합된 피스톤로드(130)를 일방향으로 회전됨과 동시에 전진되도록 하고 반대방향으로 회전됨과 동시에 후진되도록 하는 것으로, 도 2 내지 도 4에 도시되는 바와 같이 전방측에 후진포트(111)가 형성되고 후방측에 전진포트(113)가 형성되는 실린더본체(110)와, 실린더본체(110)의 후방단부에 고정결합되어 실린더본체(110) 내로 연장되는 스크류축(120)과, 후방측이 스크류축(120)에 나사결합되어 회전과 동시에 전진 또는 후진되고 전방단부에는 스크레이퍼(200)가 결합되는 피스톤로드(130)를 포함한다.
여기서, 실린더본체(110)는 스크류실린더(100)의 하우징을 형성함과 동시에 차후에 설명될 피스톤로드(130)의 회전 및 전후진을 위한 공간을 형성하는 역할을 한다.
이러한 실린더본체(110)는 직육면체 형상을 가지는 것이 바람직하며 피스톤로드(130)의 회전 및 전후진을 위해 원형 횡단면을 가지는 통공이 길이방향을 따라 관통형성된다.
또한 실린더본체(110)의 전방측에는 예를 들어 압축공기와 같은 유체가 유입 또는 배출되도록 하는 후진포트(111)가 형성된다. 후진포트(111)는 피스톤로드(130)가 회전되면서 후진될 수 있도록 유체가 실린더본체(110) 내로 유입되도록 하거나 또는 피스톤로드(130)가 반대방향으로 회전되면서 전진될 수 있도록 유체가 실린더본체(110)로부터 배출되도록 한다. 후진포트(111)는 상부로부터 하부방향으로 수직 연장되는 단순 구조로도로 형성될 수도 있고, 도 4에 도시되는 바와 같이 상부로부터 하부방향으로 수직 연장되다가 직각으로 절곡되어 수평연장된 후 다시 수직으로 연장되는 다단 절곡 유로 형태로도 형성 가능하다.
또한 실린더본체(110)의 후방측에는 예를 들어 압축공기와 같은 유체가 유입 또는 배출되도록 하는 전진포트(113)가 형성된다. 전진포트(113)는 피스톤로드(130)가 회전되면서 전진될 수 있도록 유체가 실린더본체(110) 내로 유입되도록 하거나 또는 피스톤로드(130)가 반대방향으로 회전되면서 후진될 수 있도록 유체가 실린더본체(110)로부터 배출되도록 한다.
이러한 전진포트(113)는 도 4에 도시되는 바와 같이, 상부로부터 하부방향으로 연장되다가 직각으로 절곡되어 수평연장되는 앵글형 유로 형태로 형성 가능하다.
전술한 실린더본체(110)의 후방단부에는 스크류축(120)이 고정결합되어 실린더본체(110) 내로 연장된다. 스크류축(120)은 실린더본체(110)에 대한 유체의 공급방향에 따라 차후에 설명될 피스톤로드(130)가 회전과 동시에 전진 또는 후진되도록 하는 역할을 한다.
이러한 스크류축(120)은 외주면을 따라 나선형그루브가 형성되되, 후방에는 에 실린더본체(110)의 후방단부에 고정결합되는 결합단부(121)가 형성된다.
전술한 스크류축(120)에는 피스톤로드(130)가 회전과 동시에 전진 또는 후진 가능하게 나사결합된다. 피스톤로드(130)는 전진포트(113) 또는 후진포트(111)로의 유체의 공급에 따라 스크류축(120)을 타고 회전과 동시에 전진 또는 후진되면서 그에 따른 복합작용력을 전방단부에 결합된 스크레이퍼(200)로 제공하는 역할을 한다.
이러한 피스톤로드(130)는 스크류축(120)에 나사결합되고 실린더본체(10) 내에서 회전과 동시에 전진 또는 후진 가능한 피스톤부(131)와, 피스톤부(131)에 일체로 형성되어 전방으로 연장되고 실린더본체(110)의 전방단부에 회전 및 전후진 가능하게 관통결합되며 스크레이퍼(200)가 결합되는 로드부(133)를 포함한다.
피스톤부(131)의 외부 둘레에는 피스톤링(131a)이 구비되며, 실시예에 따라서는 회전 및 전후진을 가능하게 하는 볼베어링이 추가적으로 구비될 수 있다. 또한 피스톤부(131)와 로드부(133)에 걸쳐 스크류축(120)이 삽입가능한 스크류축홈(135)이 함입형성된다.
전술한 스크류실린더(100)의 실린더본체(110)는 개스킷(140)의 개재하에 가스처리설비(3) 측에 기밀적으로 결합된다.
전술한 스크류실린더(100)의 피스톤로드(130)의 전방단부 측에는 스크레이퍼(200)가 결합된다. 스크레이퍼(200)는 가스처리설비(3) 내로 연장되고 피스톤로드(130)와 함께 회전과 동시에 전진 또는 후진되면서 가스처리설비(3)의 관로 내주면 또는 가스처리설비(3)의 내벽면에 고착된 파우더를 스크레이핑하는 역할을 한다.
이러한 스크레이퍼(200)는 피스톤로드(130)의 전방단부 측에 끼워져 체결고정되는 체결관부(210)와, 체결관부(210)로부터 연장되는 스크레이퍼축(220)과, 스크레이퍼축(220)으로부터 U자 형상으로 양갈래로 분기되어 연장되는 스크레이핑용 절곡바(230)를 포함한다. 이 때 스크레이핑용 절곡바(230)는 파우더의 스크레이핑이 요구되는 가스처리설비(3)의 관로 내주면 양측 또는 가스처리설비(3)의 내벽면 양측에 근접되거나 실시예에 따라서는 접하는 것이 바람직하다.
또한 체결관부(210)는 스크류실린더(100)의 피스톤로드(130)와 스크레이퍼(200)의 후방단부 측, 다시 말해서 체결관부(210)를 동시에 관통하는 고정볼트(240)에 의해 스크류실린더(100)의 피스톤로드(130)에 체결고정된다. 또한 체결관부(210)의 견고한 결합을 위해 고정볼트(240)는 2개가 이격되어 서로 반대방향으로 체결되고 단부에는 이탈방지용 스냅링(250)이 각각 끼워지는 것이 바람직하다.
도 5는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치의 작동도이다. 이하, 도 1 내지 도 5를 참조하여 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치의 전체 작동을 설명하면 다음과 같다:
도 5에 도시되는 바와 같이, 가스처리설비(3)의 관로 또는 가스처리설비(3)의 상부 중앙에 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치(1)가 부싱 형태의 연결블럭과 연결플랜지를 통해 설치된 상태에서, 예를 들어 압축공기와 같은 유체가 실린더본체(110)의 전진포트(113)를 통해 실린더본체(110) 내로 유입되면 피스톤로드(130)의 피스톤부(131)에 해당 유체의 압력이 후방에서 전방으로 가해지게 되고, 이 때 피스톤로드(130)가 스크류축(120)을 타고 일방향으로 회전됨과 동시에 전진된다. 이 때 피스톤부(131)의 전방 공간에 채워진 유체는 후진포트(111)를 통해 배출된다.
이 경우에는 스크류실린더(100)의 피스톤로드(130)에 체결고정된 스크레이퍼(200)는 피스톤로드(130)와 일체로 회전됨과 동시에 전진되면서 스크레이핑용 절곡바(230)에 의해 가스처리설비(3)의 관로 내주면 또는 가스처리설비(3)의 내벽면에 고착된 파우더를 긁어내어 제거하게 된다.
또한 예를 들어 압축공기와 같은 유체가 실린더본체(110)의 후진포트(111)를 통해 실린더본체(110) 내로 유입되면 피스톤로드(130)의 피스톤부(131)에 해당 유체의 압력이 전방에서 후방으로 가해지게 되고, 이 때 피스톤로드(130)가 스크류축(120)을 타고 반대방향으로 회전됨과 동시에 후진된다. 이 때 피스톤부(131)의 후방 공간에 채워진 유체는 전진포트(113)를 통해 배출된다.
이 경우에는 스크류실린더(100)의 피스톤로드(130)에 체결고정된 스크레이퍼(200)는 피스톤로드(130)와 일체로 회전됨과 동시에 후진되면서 스크레이핑용 절곡바(230)에 의해 가스처리설비(3)의 관로 내주면 또는 가스처리설비(3)의 내벽면에 고착된 파우더를 긁어내어 제거하게 된다.
따라서 개시된 일 실시예에 따른 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치(1)가 적용될 경우에, 유체의 공급방향에 따라 피스톤로드(130)가 일방향으로 회전되면서 전진하고 반대방향으로 회전되면서 후진하는 스크류실린더(100)에 스크레이퍼(200)가 결합되는 구조에 의해 가스처리설비(3)의 관로 내주면 또는 가스처리설비의 내벽면에 고착된 파우더가 용이하면서도 효율적으로 제거될 수 있게 된다.
또한 상대적으로 적은 설치비용과 유지비용으로 가스처리설비(3)의 관로 내주면 또는 가스처리설비(3)의 내벽면에 고착된 파우더를 효과적으로 제거함과 동시에 가스처리설비(3)의 가스처리효율의 안정성을 증대시킬 수 있게 된다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
1 : 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치
3 : 가스처리설비
100 : 스크류실린더
110 : 실린더본체
111 : 후진포트
113 : 전진포트
120 : 스크류축
121 : 결합단부
130 : 피스톤로드
131 : 피스톤부
131a : 피스톤링
133 : 로드부
135 : 스크류축홈
140 : 개스킷
200 : 스크레이퍼
210 : 체결관부
220 : 스크레이퍼축
230 : 스크레이핑용 절곡바
240 : 고정볼트
250 : 이탈방지용 스냅링

Claims (4)

  1. 가스처리설비에 기밀적으로 설치되며 유체의 공급방향에 따라 피스톤로드가 일방향으로 회전되면서 전진하고 반대방향으로 회전되면서 후진하는 스크류실린더; 및
    상기 스크류실린더의 피스톤로드에 결합되어 상기 가스처리설비 내로 연장되고 상기 피스톤로드와 함께 회전과 동시에 전진 또는 후진되면서 상기 가스처리설비의 관로 내주면 또는 상기 가스처리설비의 내벽면에 고착된 파우더를 스크레이핑하는 스크레이퍼를 포함하고,
    상기 스크류실린더는 전방측에 후진포트가 형성되고 후방측에 전진포트가 형성되는 실린더본체와, 상기 실린더본체의 후방단부에 고정결합되어 상기 실린더본체 내로 연장되는 스크류축과, 후방측이 상기 스크류축에 나사결합되어 상기 전,후진포트로의 유체공급에 따라 회전과 동시에 전진 또는 후진되며 전방단부에는 상기 스크레이퍼가 결합되는 상기 피스톤로드를 포함하는 것을 특징으로 하는 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 스크레이퍼는 상기 피스톤로드의 전방단부 측에 끼워져 체결고정되는 체결관부와, 상기 체결관부로부터 연장되는 스크레이퍼축과, 상기 스크레이퍼축으로부터 U자 형상으로 양갈래로 분기되어 연장되는 스크레이핑용 절곡바를 포함하는 것을 특징으로 하는 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 스크레이퍼는 상기 스크류실린더의 피스톤로드의 전방단부측와 상기 스크레이퍼의 체결관부를 동시에 관통하는 고정볼트에 의해 상기 스크류실린더의 피스톤로드에 결합되고,
    상기 고정볼트는 2개가 이격되어 서로 반대방향으로 체결되고 단부에는 이탈방지용 스냅링이 각각 끼워지는 것을 특징으로 하는 스크류실린더를 이용한 가스처리설비용 파우더제거장치.
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Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3695772B2 (ja) * 1994-03-31 2005-09-14 エム・セテック株式会社 ドライスクラバ
KR0133518Y1 (ko) * 1995-02-16 1999-03-30 배순훈 정밀 위치제어용 공압실린더
US7097544B1 (en) * 1995-10-27 2006-08-29 Applied Materials Inc. Chemical mechanical polishing system having multiple polishing stations and providing relative linear polishing motion
JPH10116792A (ja) * 1996-10-08 1998-05-06 Sony Corp 横型熱処理炉用パーティクル排出装置
JPH1157643A (ja) * 1997-08-12 1999-03-02 Y H Techno:Kk 伸縮式洗浄装置
US6182325B1 (en) * 1998-03-10 2001-02-06 Advanced Technology Materials, Inc. Chamber cleaning mechanism
JPH11272332A (ja) * 1998-03-23 1999-10-08 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 位置決めシリンダ装置
TW493477U (en) * 1998-08-05 2002-07-01 Winbond Electronics Corp Device for cleaning exhaust gas discharge piping
KR200274618Y1 (ko) * 2001-12-27 2002-05-08 김석태 반도체소자 가공용 가스에서 발생되는 화학응고물포집장치
JP3905422B2 (ja) * 2002-05-30 2007-04-18 小池酸素工業株式会社 排ガス処理装置
GB0326707D0 (en) * 2003-11-17 2003-12-17 Boc Group Plc Exhaust gas treatment
DE102006027882B4 (de) 2005-09-02 2009-04-30 Clean Systems Korea Inc., Seongnam Wäscher zum Behandeln von Halbleiter-Abgas
KR100750406B1 (ko) 2006-02-06 2007-08-17 크린시스템스코리아(주) 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 파우더 제거 장치
KR200405303Y1 (ko) 2005-10-27 2006-01-10 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 폐가스 정화처리 장치
JP4771826B2 (ja) * 2006-02-20 2011-09-14 株式会社タクマ 簡易ダスト除去装置
KR100732596B1 (ko) * 2006-02-24 2007-06-27 허스키 인젝션 몰딩 시스템즈 리미티드 축을 회전하고 이동하기 위한 구동 조립체
KR20080021997A (ko) * 2006-09-05 2008-03-10 동부일렉트로닉스 주식회사 반도체장비 배기라인의 파우더 제거장치
KR20100018137A (ko) * 2008-08-06 2010-02-17 주식회사 동부하이텍 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치
KR100998853B1 (ko) 2008-08-14 2010-12-08 유니셈(주) 폐가스 처리장치
JP5577071B2 (ja) * 2009-10-26 2014-08-20 月島機械株式会社 遠心分離機の掻取装置、シリンダ装置、および遠心分離機
CN102200285A (zh) * 2011-03-22 2011-09-28 创新工程方案有限公司 工业废气的动态氧化
JP2012110886A (ja) * 2011-09-08 2012-06-14 Fujiwara Sangyo Kk 汚泥掻寄装置
KR101406065B1 (ko) 2012-03-16 2014-07-01 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 선회류 예혼합 저공해 연소장치
KR101431452B1 (ko) 2013-02-21 2014-08-21 씨에스케이(주) 가열 방식의 스크러버 시스템
CA2906698C (en) * 2013-03-15 2022-07-19 Sotaro Kaneda Ultrasonically cleaning vessels and pipes
KR101391191B1 (ko) * 2013-03-20 2014-05-07 영진아이엔디(주) 스크러버용 부산물 제거장치 및 이를 구비한 플라즈마 스크러버
JP2014206297A (ja) * 2013-04-11 2014-10-30 小池酸素工業株式会社 排ガスの処理装置
KR101616616B1 (ko) 2014-05-20 2016-04-28 이재영 반도체 제조 설비용 초음파 스크러버
TWI748931B (zh) * 2014-05-29 2021-12-11 美商明亮光源能源公司 電力產生系統及關於彼等之方法
KR101568804B1 (ko) 2014-09-01 2015-11-12 유니셈(주) 폐가스 처리용 스크러버
KR101766733B1 (ko) * 2017-03-10 2017-08-09 배근한 스크러버
CN108296234B (zh) * 2017-12-26 2019-11-05 淮北市菲美得环保科技有限公司 一种管道内壁清洁装置及液压驱动装置
CN109570158B (zh) * 2018-10-31 2020-11-27 赵春华 一种方便定位型管道清污机器人
CN210045711U (zh) * 2018-12-14 2020-02-11 内蒙古北方重工业集团有限公司 擦洗深管装置
RU2701401C1 (ru) * 2019-02-06 2019-09-26 Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственная фирма Завод "Измерон"" Устройство очистки и промывки скважины с механическим преобразованием поступательного перемещения во вращательное движение
CN109812585B (zh) * 2019-02-22 2020-12-08 六安联众工业自动化技术有限公司 一种防堵污水管道阀门
CN110042904B (zh) * 2019-04-30 2020-11-24 上海誉帆环境科技有限公司 一种城市地下排水管道的修复装置及方法
CN210531274U (zh) * 2019-08-27 2020-05-15 扬州大山液压气动制造有限公司 一种数字液压缸

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