KR101568804B1 - 폐가스 처리용 스크러버 - Google Patents

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KR101568804B1
KR101568804B1 KR1020140115229A KR20140115229A KR101568804B1 KR 101568804 B1 KR101568804 B1 KR 101568804B1 KR 1020140115229 A KR1020140115229 A KR 1020140115229A KR 20140115229 A KR20140115229 A KR 20140115229A KR 101568804 B1 KR101568804 B1 KR 101568804B1
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dehumidifying
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이근수
훈 정
김진욱
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유니셈(주)
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Abstract

반도체, LCD 공정 등에서 발생되는 폐가스로부터 유해물질을 제거하기 위한 폐가스 처리용 스크러버가 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 버닝챔버 및 버너를 구비하고, 반도체 공정에서 발생된 폐가스를 연소시켜 열분해하는 버너부; 분사노즐을 구비하고, 상기 버너부를 거친 폐가스에 냉각수를 분사하는 수처리부; 및 상기 수처리부를 거친 폐가스를 이슬점 이하의 온도로 냉각시켜 상기 폐가스에 함유된 수분을 제거하는 제습부;를 포함하는 폐가스 처리용 스크러버가 제공될 수 있다.

Description

폐가스 처리용 스크러버 {SCRUBBER FOR PROCESSING WASTE GAS}
본 발명은 스크러버에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체, LCD 공정 등에서 발생되는 폐가스로부터 유해물질을 제거하기 위한 폐가스 처리용 스크러버에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 디바이스는 산화, 식각, 증착, 포토공정 등 다양한 제조공정을 거쳐 제조되는데, 이와 같은 제조공정에는 암모니아, 산화질소, 아르신, 포시핀, 디보론, 보론 틀리클로라이드 등과 같은 유독성가스가 사용될 수 있다. 따라서 반도체 제조공정에서 발생된 폐가스가 대기 중으로 그대로 방출될 경우, 유독성가스로 인해 인체에 치명적인 영향을 미치거나, 폐가스의 자연발화로 인한 화재사고 등이 발생될 수 있으며, 이와 같은 이유로, 반도체 제조공정에서는 스크러버(scrubber) 등을 통해 발생된 폐가스를 정제하여 대기로 방출시키고 있다.
반도체 제조공정의 폐가스를 처리하는 스크러버는 간접 연소 습식형으로 유도가열 방식을 이용하여 폐가스를 태운 후 물을 이용해서 한 번 더 걸러주는 힛-웨트 스크러버(heat-wet scrubber), 습식형으로 물을 이용하여 폐가스를 포집한 후 물을 정화하는 방식의 웨트 스크러버(wet scrubber), 직접 연소 습식형으로서 고온의 불꽃으로 폐가스를 태운 후 물을 이용하여 포집하는 방식인 번-웨트 스크러버(burn-wet scrubber) 등이 알려져 있다.
한편, 상기와 같은 폐가스의 처리에 있어서 폐가스 중에 함유된 수분은 스크러버의 효율 저하나 오작동을 일으키는 주된 원인이 되고 있다. 구체적으로, 폐가스에 냉각수나 물이나 분사하는 습식 처리가 수반될 경우, 폐가스 중에 함유된 다량의 수분은 폐가스가 유동되는 덕트 내에서 이물질 등의 뭉침이나 적층을 유발하게 되며, 이로 인해, 덕트 막힘 현상이 빈번하게 발생되고 있다. 이를 해결하기 위해 종래 에어홀(air hole) 등을 통해 상대적으로 습도가 낮은 외기(外氣)를 폐가스와 혼합함으로써 폐가스의 습도를 낮추는 방법 등이 사용되었으나 그 효과가 미흡하여 덕트 막힘 현상 등에 대한 충분한 대비책이 되지는 못하였다.
본 발명의 실시예들은 폐가스의 수분 함유량을 저감시켜 덕트 막힘 현상 등을 효과적으로 방지할 수 있는 폐가스 처리용 스크러버를 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 실시예들은 제습 성능 향상과 더불어, 설비 구축 비용을 최소화할 수 있으며, 기존 설비에서 쉽게 적용 및 호환 가능한 폐가스 처리용 스크러버를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 버닝챔버 및 버너를 구비하고, 반도체 공정에서 발생된 폐가스를 연소시켜 열분해하는 버너부; 분사노즐을 구비하고, 상기 버너부를 거친 폐가스에 냉각수를 분사하는 수처리부; 및 상기 수처리부를 거친 폐가스를 이슬점 이하의 온도로 냉각시켜 상기 폐가스에 함유된 수분을 제거하는 제습부;를 포함하는 폐가스 처리용 스크러버가 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 폐가스 처리용 스크러버는 수처리부 후단에 제습부를 마련함으로써, 수처리부를 거친 폐가스로부터 보다 효과적으로 수분을 제거할 수 있으며, 폐가스 중에 함유된 수분으로 인한 덕트 막힘 현상 등을 방지할 수 있다
또한, 본 발명의 실시예들에 따른 폐가스 처리용 스크러버는 제습부)를 수처리부 후단에 배치하는 한편, 제습부로 공급되는 공정수를 열교환부에서 재사용하도록 함으로써, 제습부로 인한 추가 설비나 비용 발생을 최소화할 수 있으며, 기 사용 및 설치된 스크러버 장치에도 쉽게 적용이 가능한 이점이 있게 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리용 스크러버를 보여주는 개략도이다.
도 2는 도 1에 도시된 제습부의 외관을 보여주는 사시도이다.
도 3은 도 2에 도시된 제습부의 내부를 보여주는 사시도이다.
도 4는 도 3에 도시된 제습부의 변형예를 보여주는 사시도이다.
이하, 본 발명의 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 설명하도록 한다. 다만, 이하의 실시예들은 본 발명의 이해를 돕기 위해 제공되는 것이며, 본 발명의 범위가 이하의 실시예들에 한정되는 것은 아님을 알려둔다. 또한, 이하의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것으로, 불필요하게 본 발명의 기술적 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 공지의 구성에 대해서는 상세한 기술을 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리용 스크러버를 보여주는 개략도이다.
도 1을 참고하면, 본 실시예에 따른 폐가스 처리용 스크러버(이하, '스크러버(100)'로 약칭함)는 버너부(110), 수처리부(120), 저장탱크부(130) 및 열교환부(140)를 포함하여 구성될 수 있다.
버너부(110)는 반도체 공정에서 발생된 폐가스를 연소시킨다. 이때, 폐가스는 화학기상증착공정(Chemical Vapor Deporsition; CVD), 이온주입공정(ion implantation), 식각 공정, 확산 공정 등에 사용되는 SiH4, SiH2, NO, AsH3, PH3, NH3, N2O, SiH2Cl2, HF 등의 유해물질을 함유할 수 있으며, 버너부(110)는 이러한 유해물질을 열분해하여 분말 형태의 파우더(powder)를 생성하게 된다. 또한, 상기의 폐가스는 반도체 공정 이외에도 LCD 공정 등 유해물질이 발생 가능한 다양한 종류의 공정 폐가스를 포함할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위해, 본 실시예에 따른 스크러버(100)가 반도체 공정에서 발생되는 폐가스 처리에 사용되는 경우를 중심으로 설명하도록 한다.
보다 구체적으로, 버너부(110)는 연소 공간을 제공하는 버닝챔버(burning chamber, 111) 및, 연소가스를 통해 불꽃을 발생시키는 버너(burner, 112)를 구비할 수 있다. 버너(112)는 버닝챔버(111) 상단에 배치되어 버닝챔버(111) 상부측 공간에 불꽃을 발생시키게 되며, 폐가스는 매니폴드(manifold) 등을 통해 버닝챔버(111) 상부측 공간으로 유입되어 불꽃에 의해 연소 및 열분해될 수 있다. 통상, 불꽃의 온도는 1500℃ 내지 2000℃에 이르며, 연소가스로는 엘엔지(LNG), 메탄(CH4) 등이 사용될 수 있다.
한편, 수처리부(120)는 버너부(110)를 거친 폐가스에 냉각수를 분사하여 가열된 폐가스를 소정정도 냉각시키는 한편, 폐가스 중에 함유된 수용성의 유해물질을 용해시켜 제거하게 된다. 이때, 수처리부(120)에서 사용되는 냉각수는 후술할 저장탱크부(130)로부터 제공될 수 있으며, 사용된 냉각수는 저장탱크부(130), 열교환부(140) 등을 거쳐 재사용될 수 있다.
보다 구체적으로, 수처리부(120)는 하나 이상의 수처리모듈(121)이 연속 연결된 형태로 구성될 수 있다. 본 실시예의 경우, 2개의 수처리모듈(121)이 상하로 연속하여 연결된 형태를 예시하고 있다. 각 수처리모듈(121)은 분사노즐(122)을 구비하고 하부로부터 유입되는 폐가스에 냉각수를 분사하게 된다. 또한, 각 수처리모듈(121)에는 흡수재(absorber, 123)가 구비되어 분사된 냉각수와 폐가스 간의 접촉 면적 및 반응 효율을 증대시킬 수 있다.
한편, 필요에 따라, 스크러버(100)는 버너부(110)와 수처리부(120) 사이에 냉각부(150)를 구비할 수 있다. 냉각부(150)는 버너부(110)를 거쳐 가열된 폐가스를 냉각수 등을 통해 급속 냉각시켜 수처리부(120)로 제공하게 된다.
한편, 저장탱크부(130)는 스크러버(100) 하부에 배치되어 버너부(110)에서 생성된 파우더를 포집하는 한편, 수처리부(120), 냉각부(150) 등으로 냉각수를 제공하게 된다. 또한, 열교환부(140)는 장치 외부에서 제공되는 냉각수(이하, '공정수'로 구분하여 지칭함)를 통해 저장탱크부(130)의 냉각수를 냉각시키게 된다.
보다 구체적으로, 저장탱크부(130)에는 냉각부(150), 수처리부(120) 등에서 필요한 냉각수가 저장될 수 있으며, 이러한 냉각수는 제 1 냉각수라인(P1)을 통해 저장탱크부(130)에서 열교환부(140)로 제공될 수 있다. 또한, 열교환부(140)로 제공된 냉각수는 제 2 공정수라인(L2)을 통해 공급되는 공정수와 열교환되어 냉각된 후, 제 2 냉각수라인(P2)을 통해 수처리부(120), 냉각부(150) 등으로 제공되게 된다. 이때, 공정수는 스크러버(100) 장치 외부의 공정 라인 등에서 제공될 수 있으며, 저장탱크부(130)의 냉각수보다 소정정도 낮은 온도를 가지고 있다. 예컨대, 저장탱크부(130)의 냉각수는 통상 27℃ 내지 29℃로 조성될 수 있으며, 공정수의 경우 17℃ 내지 19℃로 조성될 수 있다.
한편, 본 실시예에 따른 스크러버(100)의 경우, 상기와 같은 공정수가 직접 열교환부(140)로 제공되지 않고, 제습부(160)를 거쳐 열교환부(140)로 제공되게 되는데, 이에 대하여는 제습부(160)와 관련하여 후술하기로 한다.
또한, 본 실시예에 따른 스크러버(100)는 수처리부(120)를 거친 폐가스에서 수분을 제거하기 위한 제습부(160)를 포함할 수 있다. 제습부(160)는 수처리부(120)를 거친 폐가스를 이슬점 이하로 냉각시켜 함유된 수분을 응축 및 제거할 수 있다. 이때, 제습부(160)는 제 1 공정수라인(L1)을 통해 공정수를 공급받을 수 있으며, 이러한 공정수를 폐가스와 열교환시켜 폐가스를 냉각 및 제습시키게 된다.
상기와 같은 제습부(160)는 기존의 에어홀(air hole)을 대체하여 보다 효과적인 폐가스의 냉각 및 제습을 가능하게 한다. 부연하면, 종래의 경우, 수처리부(120) 후단에서 에어홀을 통해 외기(外氣)를 유입시켜 폐가스를 냉각 및 제습시키는 방식을 사용하게 된다. 이는 수처리부(120)를 거쳐 습도가 높아진 폐가스에 상대적으로 낮은 습도의 외기를 혼합하여 폐가스의 습도를 낮추는 방식이나, 충분한 제습 효과를 얻기엔 어려움이 있었으며, 이로 인해, 에어홀 후단에서도 폐가스 중의 수분으로 인한 이물질의 적층 및 덕트(duct) 막힘 현상이 빈번하게 발생되는 문제점이 있었다.
본 실시예에 따른 스크러버(100)는 기존의 에어홀을 대체하여 제습부(160)를 구비함으로써, 최소한의 추가 비용을 통해 상기와 같은 문제점을 효과적으로 해결할 수 있게 된다. 이하, 이와 같은 제습부(160)의 구성에 대해 보다 상세히 부연 설명키로 한다.
도 2는 도 1에 도시된 제습부의 외관을 보여주는 사시도이다. 도 3은 도 2에 도시된 제습부의 내부를 보여주는 사시도이다.
도 2 및 3을 참고하면, 제습부(160)는 내부에 소정정도의 공간부를 구비하는 함체 형상의 바디부(161)를 구비할 수 있다. 바디부(161)의 하단에는 폐가스가 유입되는 폐가스유입구(162)가 마련될 수 있으며, 반대측인 바디부(161) 상단에는 냉각 및 제습된 폐가스가 배출될 수 있도록 폐가스배출구(163)가 마련될 수 있다. 폐가스유입구(162)는 전술한 수처리부(120)와 연결되어 습식 처리된 폐가스가 유입되게 된다.
또한, 제습부(160)는 냉매인 공정수를 유입 또는 배출시키기 위한 공정수유입구(164) 및 공정수배출구(165)를 구비할 수 있다. 공정수유입구(164)는 제 1 공정수라인(L1)과 연결되어 장치 외부로부터 공정수를 공급받을 수 있으며, 공정수배출구(165)는 제 2 공정수라인(L2)과 연결되어 제습부(160)에서 사용된 공정수를 전술한 열교환부(140)로 제공하게 된다. 이때, 공정수유입구(164)는 바디부(161)의 하부측에 배치되고, 공정수배출구(165)는 상대적으로 바디부(161) 상부측에 배치되어, 제 1 공정수라인(L1)을 통해 제공되는 공정수가 바디부(161)의 하부측 공간부로 우선 공급되도록 형성될 수 있다. 이는 상대적으로 차가운 상태의 공정수가 폐가스유입구(162)에 인접하게 흐르도록 하여 냉각 및 제습 효율을 보다 증대시키기 위함이다.
또한, 제습부(160)는 내부로 공정수가 유동되어 공정수와 폐가스 간 열교환을 수행하는 쿨링튜브(166)를 구비할 수 있다. 쿨링튜브(166)는 바디부(161) 내측 공간부에 배치되어 일단이 공정수유입구(164)에 연결되며, 타단이 공정수배출구(165)에 연결될 수 있다. 또한, 쿨링튜브(166)는 공정수와 폐가스 간의 열교환 면적을 극대화하기 위해 'U'자형 또는 'S'자형 등이 반복되는 굴곡진 형태로 형성될 수 있으며, 필요에 따라, 다수의 다발이 집적된 형태로 형성될 수 있다. 또한, 쿨링튜브(166)는 스테인리스강(Stainless steel)에 폴리머(Polymer), 테프론(Teflon) 등이 코팅되어 형성되거나, 테프론 재질의 튜브로 형성될 수 있다. 전자의 경우, 비교적 값싼 비용으로 제작이 가능하며, 후자의 경우, 반 영구적으로 사용이 가능한 이점이 있게 된다.
도 4는 도 3에 도시된 제습부의 변형예를 보여주는 사시도이다.
도 4를 참고하면, 필요에 따라, 제습부(160)는 다양한 형태로 변형될 수 있으며, 본 변형예에서는 쿨링튜브(166')의 형상, 배치 등을 변형한 예를 예시하고 있다. 즉, 전술한 도 3에서는 다수의 쿨링튜브(166)가 다발 형태로 집적된 경우를 예시하고 있으나, 본 변형예에서는 하나의 유로를 형성하도록 쿨링튜브(166')가 굴곡 형성되어 바디부(161) 내 배치된 경우를 예시하고 있다. 도 3에 예시된 쿨링튜브(166)의 경우, 연성이 있는 테프론 튜브의 사용시 적합할 수 있으며, 본 변형예의 경우에는, 코팅된 스테인리스강의 사용시 보다 적합할 수 있다.
한편, 상기와 같은 제습부(160)는 수처리부(120)를 거친 폐가스를 공정수와 열교환시켜 냉각시키게 된다. 이때, 제습부(160)는 폐가스를 이슬점 이하의 온도로 냉각시킬 수 있으며, 이로 인해, 폐가스 중의 수분이 응축되어 분리되게 된다. 보다 구체적으로, 수처리부(120)를 거친 폐가스는 수처리부(120)에서의 습식 처리(냉각수 분사)로 인해, 포화 상태 또는 높은 습도를 가지고 제습부(160)로 유입되게 된다. 제습부(160)는 이와 같이 포화 상태 또는 높은 습도를 가지는 폐가스를 쿨링튜브(166)를 통해 이슬점 이하로 냉각시키게 되며, 이와 같은 과정에서 폐가스 중의 수분이 응축되어 하부로 낙하되며, 폐가스 중의 수분이 제거될 수 있다. 특히, 본 실시예에 따른 스크러버(100)는 이와 같은 폐가스의 냉각이나 수분 제거가 공정수의 재사용을 통해 이뤄질 수 있도록 구성함으로써, 추가적인 설비 비용 등을 최소화하면서도 폐가스의 제습 성능을 향상시킬 수 있게 된다. 이는 후술할 공정수라인(L1 내지 L4) 및 냉각수라인(P1 및 P2)과 관련하여 좀 더 부연 설명키로 한다.
다시 도 1을 참고하면, 본 실시예에 따른 스크러버(100)는 공정수의 급배출을 위한 제 1 내지 4 공정수라인(L1 내지 L4)과, 냉각수의 급배출을 위한 제 1 및 2 냉각수라인(P1 및 P2)을 포함할 수 있다.
제 1 공정수라인(L1)은 장치 외부로부터 공정수를 도입하여 제습부(160) 및 버너부(110)로 공정수를 공급하게 된다. 제습부(160)로 공급되는 공정수는 쿨링튜브(166)를 유동하여 폐가스의 냉각에 사용되게 되며, 버너부(110)로 공급되는 공정수는 폐가스를 연소시키는 버닝챔버(111)의 냉각에 사용될 수 있다.
제 2 공정수라인(L2)은 제습부(160)에서 사용된 공정수를 열교환부(140)로 제공하게 된다. 통상, 수처리부(120)를 거친 폐가스는 수처리부(120) 내에서 냉각수 분사 등을 통해 상당 부분 냉각이 이루어진 상태이며, 따라서 수처리부(120) 후단에서의 폐가스 냉각은 상대적으로 많은 열량이 필요하지 않게 된다. 예컨대, 수처리부(120) 후단에서의 폐가스 온도는 대략 대략 31℃ ~ 36℃를 이루며, 공정수의 온도는 17℃ 내지 19℃를 이루기 때문에, 제습부(160)에서 폐가스를 이슬점 이하로 냉각시킨 공정수의 경우, 온도 분포가 대략 19℃ 내지 21℃ 정도로 열교환부(140)에서 충분히 재사용이 가능하게 된다(저장탱크부(130)의 냉각수는 통상 27℃ 내지 29℃ 정도). 따라서 제 2 공정수라인(L2)은 제습부(160)에서 사용된 공정수를 다시 열교환부(140)로 제공하여 저장탱크부(130)의 냉각수를 냉각하는데 사용할 수 있도록 하며, 이로 인해, 제습부(160)의 부가로 인한 추가 설비나 비용을 최소화할 수 있게 된다.
한편, 열교환부(140)나 버너부(110)에서 사용된 공정수는 제 3, 4 공정수라인(L3, L4)을 통해 다시 장치 외부로 내보내지게 된다.
또한, 제 1 냉각수라인(P1)은 저장탱크부(130)의 냉각수를 열교환부(140)로 제공하여 냉각수가 공정수와 열교환 및 냉각될 수 있도록 하며, 제 2 냉각수라인(P2)은 열교환된 냉각수를 수처리부(120), 냉각부(150) 등으로 공급하게 된다. 공급된 냉각수는 분사노즐(122) 등을 통해 폐가스로 분사되어 냉각, 습식 처리, 파우더 제거 등을 수행한 후, 하부측의 저장탱크부(130)로 다시 수집되게 된다.
이상에서 설명한 바, 본 실시예에 따른 스크러버(100)는 수처리부(120) 후단에 제습부(160)를 마련함으로써, 수처리부(120)를 거친 폐가스로부터 보다 효과적으로 수분을 제거할 수 있으며, 폐가스 중에 함유된 수분으로 인한 덕트 막힘 현상 등을 방지할 수 있다. 하기 표 1은 기존 에어홀이 구비된 스크러버와 본 실시예에 따른 스크러버(100)의 배기 폐가스 온도 및 수분량을 시험한 것으로, 각 모델별로 일부 차이가 있기는 하나, 기존 대비 대략 30% 정도의 수분량 저감 효과가 있는 것을 확인할 수 있다.
A MODEL B MODEL C MODEL
비교항목 배기온도 수분백분율 배기온도 수분백분율 배기온도 수분백분율
Air Hole 31℃ 6.01% 32℃ 5.61% 41℃ 5.95%
본 실시예 23℃ 3.64% 29℃ 3.63% 32℃ 5.54%
비교 -8℃ 39% 저감 -4℃ 36% 저감 -9℃ 24% 저감
또한, 본 실시예에 따른 스크러버(100)는 제습부(160)를 수처리부(120) 후단에 배치하는 한편, 제습부(160)로 공급되는 공정수를 열교환부(140)에서 재사용하도록 함으로써, 제습부(160)로 인한 추가 설비나 비용 발생을 최소화할 수 있으며, 기 사용 및 설치된 스크러버 장치에도 쉽게 적용이 가능한 이점이 있게 된다.
이상, 본 발명의 실시예들에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.
100: 폐가스 처리용 스크러버 110: 버너부
111: 버닝챔버 112: 버너
120: 수처리부 121: 수처리모듈
122: 분사노즐 130: 저장탱크부
140: 열교환부 150: 냉각부
160: 제습부 161: 바디부
162: 폐가스유입구 163: 폐가스배출구
164: 공정수유입구 165: 공정수배출구
166: 쿨링튜브 L1 ~ L4: 공정수라인
P1 ~ P2: 냉각수라인

Claims (5)

  1. 버닝챔버(burning chamber, 111) 및 버너(burner, 112)를 구비하고, 반도체 공정에서 발생된 폐가스를 연소시켜 열분해하는 버너부(110);
    분사노즐(122)을 구비하고, 상기 버너부(110)를 거친 폐가스에 냉각수를 분사하는 수처리부(120);
    상기 수처리부(120)를 거친 폐가스를 이슬점 이하의 온도로 냉각시켜 상기 폐가스에 함유된 수분을 제거하는 제습부(160);
    상기 냉각수가 저장되는 저장탱크부(130); 및
    상기 저장탱크부(130)에 저장된 냉각수를 냉각하여 상기 수처리부(120)로 제공하는 열교환부(140);를 포함하며,
    상기 제습부(160)는, 제 1 공정수라인(L1)을 통해 상기 폐가스의 냉각을 위한 공정수를 장치 외부로부터 공급받고,
    상기 열교환부(140)는, 제 2 공정수라인(L2)을 통해 상기 제습부(160)에서 사용된 공정수를 공급받아, 상기 냉각수를 냉각시키도록 형성된, 폐가스 처리용 스크러버.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 제습부(160)는,
    상기 수처리부(120)로부터 폐가스가 유입되는 폐가스유입구(162), 상기 유입된 폐가스가 배출되는 폐가스배출구(163), 장치 외부로부터 공정수가 유입되는 공정수유입구(164) 및, 사용된 공정수가 배출되는 공정수배출구(165)를 구비하고, 내측에 소정정도의 공간부가 마련된 바디부(161); 및
    상기 바디부(161) 내측에 배치되고, 일단이 상기 공정수유입구(164)에 연결되어 타단이 상기 공정수배출구(165)에 연결되어 상기 유입된 공정수가 유동되며, 굴곡진 형상으로 형성되어 상기 폐가스유입구(162)로 유입된 폐가스를 공정수와 열교환시켜 이슬점 이하로 냉각시키는 쿨링튜브(166);를 구비하는, 폐가스 처리용 스크러버.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 쿨링튜브(166)는,
    스테인리스강(Stainless steel)에 폴리머(Polymer) 또는 테프론(Teflon)이 코팅되어 형성되거나, 테프론 재질의 튜브로 형성되는, 폐가스 처리용 스크러버.
  5. 버닝챔버(burning chamber, 111) 및 버너(burner, 112)를 구비하고, 반도체 공정에서 발생된 폐가스를 연소시켜 열분해하는 버너부(110);
    분사노즐(122)을 구비하고, 상기 버너부(110)를 거친 폐가스에 냉각수를 분사하는 수처리부(120);
    상기 수처리부(120)를 거친 폐가스를 이슬점 이하의 온도로 냉각시켜 상기 폐가스에 함유된 수분을 제거하는 제습부(160);
    상기 냉각수가 저장되는 저장탱크부(130);
    상기 저장탱크부(130)에 저장된 냉각수를 냉각하는 열교환부(140);
    상기 제습부(160)로 상기 폐가스의 냉각을 위한 공정수를 제공하는 제 1 공정수라인(L1);
    상기 제습부(160)와 상기 열교환부(140) 사이에 연결되어 상기 제습부(160)에서 사용된 공정수를 상기 열교환부(140)로 제공하는 제 2 공정수라인(L2);
    상기 저장탱크부(130)와 상기 열교환부(140) 사이에 연결되어 상기 저장탱크부(130)에 저장된 냉각수를 상기 열교환부(140)로 제공하는 제 1 냉각수라인(P1) 및;
    상기 열교환부(140)에서 상기 공정수와 열교환되어 냉각된 냉각수를 상기 수처리부(120)로 제공하는 제 2 냉각수라인(P2);을 포함하는, 폐가스 처리용 스크러버.
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