KR20080067849A - 스크러버 및 이를 이용한 오염 가스의 정화 방법 - Google Patents

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KR20080067849A
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Abstract

오염 가스를 습식 처리한 후에 건식 처리를 하여 가스 내에 수분 증가에 따른 부산물의 증착을 방지하기 위한 스크러버를 제공한다. 스크러버는 제1 챔버와, 제1 챔버에 형성되며 오염 가스가 유입되는 가스 유입관과, 제1 챔버 내에 형성되어 오염 가스로 세정수를 분사하는 세정 노즐을 포함하는 습식 처리부와, 제2 챔버와, 제2 챔버를 가열하는 가열기와, 제2 챔버에 형성되어 정화된 오염 가스가 배출되는 가스 배출관을 포함하는 건식 처리부와, 제1 챔버와 제2 챔버를 연결하여, 습식 처리부를 통하여 배출되는 오염 가스를 건식 처리부로 공급하는 연결관을 포함한다.
스크러버, 건식, 습식

Description

스크러버 및 이를 이용한 오염 가스의 정화 방법{Scrubber and method of purifying pollution gas using the same}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버의 장치 구성도이다.
도 2는 도 1의 스크러버의 습식 처리부의 단면도이다.
도 3은 도 1의 스크러버의 건식 처리부의 단면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10: 스크러버 100: 습식 처리부
105: 제1 챔버 110: 가스 유입관
120: 수세실 122: 세정수 유입관
125: 세정 노즐 130: 폐수 저장 탱크
140: 제1 연결관 150: 격벽
160: 필터 170: 제2 연결관
180: 폐수 방출관 200: 건식 처리부
210: 제2 챔버 215: 가열기
220: 제3 연결관 230: 집진기
235: 집진판 240: 가스 배출관
본 발명은 스크러버에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 가스를 습식 처리를 선행한 후에 건식 처리를 하여 가스 내에 수분 증가에 따른 부산물의 증착을 방지하기 위한 스크러버에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자 또는 액정 표시 장치(Liquid crystal display) 등을 생산하는 공정 중에는 독성 가스를 배출하는 공정이 많이 포함되어 있다. 예를 들어, 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition: CVD), 이온 주입(ion implantation) 공정, 식각 공정, 확산 공정 등에는 SiH4, SiH2, NO, AsH3, PH3, NH3, N2O, SiH2Cl2 등의 가스들이 사용되는데, 공정을 거치고 배출되는 가스들은 여러 종류의 독성 물질을 포함하고 있다. 이런 독성 가스는 인체에 해로울 뿐만 아니라 가연성과 부식성도 있어 화재 등의 사고를 유발하기도 한다. 또한, 이런 독성 가스가 대기로 방출되면 심각한 환경 오염을 유발하므로 가스가 대기 중에 방출되기 전에는 여과 장치에서 정화하는 공정을 거치게 된다.
독성 가스를 처리하는 방식은 크게 세 가지가 있다. 첫 번째 방법은 가스에 함유된 독성 물질을 150 ~ 800℃의 고온으로 연소시키는 것이다. 즉, 고온으로 가스를 가열하여 독성 물질 중에서 가연성 물질을 연소시켜 제거하는 방법이다. 두 번째 방법은 독성 물질을 물에 용해시켜 제거하는 것이다. 이 방법은 가스에 함유된 독성 물질 중에 물에 잘 녹는 특성을 갖는 물질을 제거할 때 사용된다. 세 번째 방법은 물리적 또는 화학적으로 독성 가스를 흡수하는 것이다. 이 방법은 연소되지 않고 물에 용해되지도 않는 독성 물질을 제거하기 위하여 사용되며, 독성 가스가 물리적 또는 화학적으로 가스 여과 장치에 여과도록 하는 방법이다.
그러나, 메탈 드라이 에칭(metal dry ething) 과정에서 발생되는 가스는 금속성 부산물을 다량 포함하고 있어, 금속성 부산물은 가열에 의해서 제거가 어렵다. 또한 습식 세정 방식을 사용할 경우에는 배출 가스의 습도가 높아지게 되면서, 배출 가스에 남아 있는 부산물들이 응고되어 장치 내에 증착되거나 배출관에 증착되어 배출관이 막히는 현상이 자주 발생하게 되었다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 오염 가스를 습식 처리를 선행한 후에 건식 처리를 하여 가스 내에 수분 증가에 따른 부산물의 증착을 방지하기 위한 스크러버를 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 오염 가스를 습식 처리를 선행한 후에 건식 처리를 하여 가스 내에 수분 증가에 따른 부산물의 증착을 방지하기 위한 스크러버를 이용한 오염 가스 정화 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버는 제1 챔버와, 상기 제1 챔버에 형성되며 오염 가스가 유입되는 가스 유입관과, 상기 제1 챔버 내에 형성되어 상기 오염 가스로 세정수를 분사하는 세정 노즐을 포함하는 습식 처리부와, 제2 챔버와, 상기 제2 챔버를 가열하는 가열기와, 상기 제2 챔버에 형성되어 정화된 오염 가스가 배출되는 가스 배출관을 포함하는 건식 처리부와, 상기 제1 챔버와 상기 제2 챔버를 연결하여, 상기 습식 처리부를 통하여 배출되는 상기 오염 가스를 상기 건식 처리부로 공급하는 연결관을 포함한다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버를 이용한 오염 가스의 정화 방법은 유입된 오염 가스에 세정수를 분사하는 습식 처리 단계와, 상기 습식 처리 단계를 거친 상기 오염 가스를 가열하는 과정을 포함하는 건식 처리 단계를 포함한다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명한다.
도 1 내지 도 3을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버에 대하여 자세히 설명한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버의 장치 구성도이 고, 도 2는 도 1의 스크러버의 습식 처리부의 단면도이고, 도 3은 도 1의 스크러버의 건식 처리부의 단면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버(10)는 습식 처리부(100)와 건식 처리부(200)를 포함한다. 이러한 스크러버(10)는 가스 유입관(110)으로 유입된 오염 가스를 1차로 습식 처리부(100)를 통하여 처리를 한 후, 2차로 건식 처리부(200)를 통하여 세정수에 용해되지 않는 가연성 물질을 연소시키거나 오염 가스 내의 수분을 증발시켜 가스 배출관(240)을 통해 배출시킨다.
습식 처리부(100)는 오염 가스에 세정수를 분사하여 수용성 오염 물질이나 물에 흡착 가능한 분진 등을 제거하는 역할을 한다. 특히, 오염 가스 내에 금속성 잔유물이나 입자성 물질을 세정수와 필터(160)에 의해 1차적으로 제거한다.
건식 처리부(200)는 습식 처리부(100)를 통해 1차로 오염 물질이 제거된 후, 오염 가스에 남아 있는 가연성 물질을 연소시켜 제거하는 역할을 한다. 이러한 건식 처리부(200)는 가연성 물질을 연소시키기 위하여 오염 가스를 고온으로 가열한다. 오염 가스를 가열하기 위하여 전기식 가열기 또는 연소식 가열기를 사용할 수 있다. 이와 같은 건식 처리부(200)를 통과하여 배출되는 배기 가스는 고온 가열로 인해 내부의 수분이 증발함에 따라 건조한 배기 가스로 방출되며, 이에 따라 배기 가스 내의 수분이 증발함에 따라 발생할 수 있는 응고 현상을 방지할 수 있게 된다.
이하, 도 1 및 도 2를 참조하여, 습식 처리부(100)에 대하여 구체적으로 설명한다.
습식 처리부(100)는 제1 챔버(105), 가스 유입관(110), 수세실(120), 세정수 유입관(122), 세정 노즐(125), 폐수 저장 탱크(130), 제1 연결관(140), 필터(160) 및 제2 연결관(170)을 포함한다. 구체적으로, 제1 챔버(105)는 습식 처리부(100)의 외형을 이루게 되며 내부에 격벽(150)으로 분리되어, 가스 유입관(110)으로 유입되는 오염 가스는 먼저 제1 챔버(105) 내의 수세실(120)에서 세정수로 오염 물질이 제거된 후에 다시 필터(160)를 경유하여 제2 연결관(170)을 통해 제1 챔버(105) 외부로 방출된다.
가스 유입관(110)은 제1 챔버(105)의 수세실(120) 내부로 오염 가스가 공급되도록 하는 역할을 한다. 이러한 가스 유입관(110)은 수세실(120)의 상부 또는 하부 등 다양한 위치에 설치가 가능하나, 유입되는 오염 가스에 포함되는 잔유물의 분자량이 크다는 점 등을 고려할 때, 수세실(120)의 하부에 위치하는 것이 바람직하며, 세정수와 접촉 가능성을 높이기 위하여 가스 유입관(110)의 끝부분이 세정 노즐(125)의 바로 아래에 위치하도록 하는 것이 바람직하다.
수세실(120)은 세정수를 분사하여 오염 가스 내의 오염 물질을 제거하는 공간이 되며, 제1 챔버(105) 내부에 격벽(150)으로 분리되어 형성된다. 이와 같은 수세실(120)의 측면에는 세정수의 유입을 위한 세정수 유입관(122)을 포함한다. 이러한 세정수 유입관(122)은 분지되어 각각의 세정 노즐(125)에 연결되어 있다.
세정 노즐(125)은 세정수 유입관(122)에서 분지되어 수세실(120)의 중앙부에 위치하며, 가스 유입관(110)의 상부로 다수의 세정 노즐(125)을 설치한다. 수세실(120)의 하부에 위치하는 가스 유입관(110)에서 오염 가스가 분출되면, 세정 노 즐(125)을 통하여 세정수를 분사하며, 오염 가스와 세정수의 접촉 면적을 늘리기 위하여 분사 면적이 넓은 세정 노즐(125)을 사용하는 것이 바람직하며, 노즐 방향을 상향 또는 하향으로 다양하게 배치하는 것이 바람직하다. 즉, 세정 노즐(125)의 분사 방향을 상향 또는 하향으로 교대로 배치하여 세정수와 오염 가스의 접촉 면적을 증가시키는 것이 바람직하다.
또한, 오염 가스 내의 오염 물질을 효과적으로 제거하기 위하여 세정수의 분사 압력을 높인다.
수세실(120)은 세정 노즐(125)에서 분사되는 세정수의 분사 각도 및 분사 압력 등을 고려하여 다양한 형상으로 형성될 수 있으나, 오염 가스와 세정수의 접촉 면적과 접촉 시간을 증가시키기 위하여, 수세실(120)의 수평 면적에 비해 수직 높이를 높이는 것이 바람직하다. 이와 같은 과정을 거쳐 세정수에 의해 오염 물질이 제거된 오염 가스는 수세실(120) 상부에 위치하는 제1 연결관(140)을 통하여 필터(160)로 이동하게 된다.
수세실(120)로 분사된 세정수는 오염 가스와 접촉한 후 수세실(120)의 하부에 위치하는 폐수 저장 탱크(130)에 저장된다. 폐수 저장 탱크(130)에 저장된 세정수에는 오염 물질이 함유되어 침전물을 형성할 수 있으며, 이와 같은 침전물을 제거한 폐수는 폐수 방출관(180)을 통하여 외부로 배출된다.
한편, 수세실(120)을 통과한 오염 가스는 제1 연결관(140)을 통하여 필터(160)를 통과하여 제2 연결관(170)으로 배출된다. 이때 필터(160)는 오염 가스 내의 오염 물질을 흡착시키는 역할을 한다. 이러한 필터(160)는 오염 물질을 물리 적으로 분리할 수 있으며, 화학 반응을 통해 오염 물질을 제할 수도 있다. 또한, 이와 같은 필터(160)는 톱밥, 모래 등의 다공성 재질로 구성하고, 세정수를 함께 투과하여 오염 가스와 세정수의 접촉 면적을 증가시키거나 접촉 시간을 증가시키기 위한 방식으로 구성할 수도 있다. 따라서, 오염 가스가 필터(160)를 통과하면서 필터(160)에 의해 걸러지는 세정수는 제1 챔버(105) 하부에 위치하는 폐수 저장 탱크(130)에 저장되어 역시 폐수 방출관(180)으로 배출되며, 1차로 오염 물질이 제거된 오염 가스는 제2 연결관(170)을 통하여 건식 처리부(200)로 이동된다.
건식 처리부(200)는 제2 챔버(210), 가열기(215), 제3 연결관(220), 집진기(230) 및 가스 배출관(240)을 포함한다.
제2 챔버(210)는 내부를 고온으로 유지하여 오염 가스 내부의 가연성 물질을 연소시키는 역할을 하는 것으로서, 제2 연결관(170)을 통해 습식 처리부(100)로부터 유입되는 오염 가스는 제2 챔버(210) 내부를 거쳐 제3 연결관(220)으로 배출된다. 이러한 제2 챔버(210)는 내부 온도를 높이기 위한 가열기(215)를 포함한다. 이와 같은 가열기(215)는 내부의 가열 온도에 따라 전기식 가열기 또는 연소식 가열기 등을 사용할 수 있다. 즉, 제2 챔버(210) 내부로 유입되는 오염 가스 속에 포함된 오염 물질의 끓는점 이상의 온도로 가열하여야 한다. 가열 온도가 150~300℃ 정도의 경우 코일로 가열되는 전기식 가열기를 사용할 수 있으며, 가열 온도가 이보다 높은 경우 연료를 연소하여 가열하는 연소식 가열기를 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버(10)는 전기식 가열기 또는 연소식 가열기 중 어느 것을 사용하여도 무관하다.
제2 챔버(210)의 내부 공간이 넓은 경우 가열 효율을 높이기 위하여 내부를 작은 실린더(미도시)로 분할하고 각각의 실린더에 별도의 가열기를 설치할 수도 있다.
한편, 제2 챔버(210)를 통해 가연성 오염 물질이 제거된 오염 기체는 제3 연결관(220)을 통하여 집진기(230) 내부로 유입되며, 이때 유입되는 오염 기체는 가열을 통하여 수분이 제거되어 건조한 오염 기체가 되어, 수분에 의해 발생되는 응집 현상을 방지할 수 있게 된다.
이렇게 가연성 오염 물질까지 제거된 오염 기체는 집진기(230)를 통과하면서, 가열 반응시에 생성될 수 있는 고형 미립자를 제거할 수 있다. 즉, 집진기(230)는 내부에 집진판(235)을 포함하여, 일정한 전기적 성질을 띠고 있는 고형 미립자를 정전효과를 이용하여 분리한다.
집진판(235)은 집진기(230) 내부에 위치하며, 접촉 면적을 늘리기 위하여 판형상으로 다수의 집진판(235)이 설치된다. 이러한 집진판(235)에는 양(+) 전위 또는 음(-) 전위를 인가할 수 있으며, 인접 집진판(235)은 서로 다른 전위를 인가할 수 있다. 이와 같이, 집진판(235)에 전압 인가시 고형 미립자는 정전 효과로 인해 집진판(235) 표면에 포집된다.
이와 같은 평판 형상의 집진판(235)은 본 발명에 따른 일 실시예에 불과한 것으로서, 오염 가스와 접촉 면적을 늘리기 위하여 망 형상으로 형성하거나, 다수의 봉 형상으로 형성할 수도 있다.
집진기(230)를 통하여 고형 미립자가 제거된 오염 기체는 오염 물질이 현저 하게 제거된 상태로 가스 배출관(240)으로 배출된다. 이러한 집진기(230)는 오염 기체의 상태 등을 고려하여 제거될 수 있다. 즉, 습식 처리부(100)와 건식 처리부(200)를 통해 필요한 오염 물질이 모두 제거되는 경우에는 집진기(230)의 설치를 제거할 수도 있다.
이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버를 이용한 오염 가스의 정화 방법에 대하여 구체적으로 설명한다.
먼저, 메탈 드라이 에칭 등의 과정에서 발생되는 오염 가스를 가스 유입관(122)을 통하여 수세실(120)로 공급한다.
다음으로, 수세실(120) 내부로 공급된 오염 가스를 향하여 세정수를 분사한다. 이때, 세정수와 오염 가스의 접촉 면적과 접촉 시간을 증가시키기 위하여, 세정수의 분사각을 증가시키는 것이 바람직하며, 세정 노즐(125)은 세정수 분사 방향을 상향 또는 하향으로 교대로 배치하는 것이 바람직하다. 또한, 오염 가스와 접촉된 세정수는 폐수 저장 탱크(130)에 모여 폐수 방출관(180)으로 배출된다.
다음으로, 세정수를 통하여 일부 오염 물질이 제거된 오염 가스는 필터(160)를 통과하여 제2 연결관(170)을 통해 제2 챔버(210)로 공급된다. 이때, 제2 챔버(210)의 내부는 가열기를 통해 고온으로 가열되어, 제2 챔버(210) 내부를 통과하는 오염 가스 또한 고온으로 가열되어 오염 가스 내부의 수분이 증발되며, 가연성 오염 물질은 함께 연소된다.
다음으로, 고온으로 가열되어 수분이 제거되고 가연성 오염 물질이 제거된 오염 가스는 양(+) 전하 또는 음(-) 전하를 갖는 집진기(230)를 통과하여 고형 미 립자가 제거된 후 가스 배출관(240)을 통하여 최종 배출된다.
이상에서 설명한 바와 같이, 오염 가스가 습식 처리 단계를 마친 후에 다시 가열과정을 포함하는 건식 처리 단계를 거쳐 오염 가스 내부에 함유된 수분을 증발시켜 오염 가스 내의 금속성 부산물이 설비 내에 증착되는 것을 방지할 수 있으며, 메탈 드라이 에칭 과정 후 발생하는 Cl 가스 등을 습식 처리 과정에서 미리 제거하여 건식 처리 과정의 설비가 부식되는 것을 방지할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
상술한 바와 같이 본 발명의 실시예들에 따른 스크러버에 의하면 습식 처리 과정을 통과한 가스에 가열 과정을 포함하는 건식 처리 과정을 추가하여 가스 내부의 수분을 제거함으로써, 가스 내부에 포함되는 물질과 수분의 결합에 의한 응고 현상을 방지하여 배출 관로의 막힘을 방지할 수 있어 설비 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.

Claims (8)

  1. 제1 챔버,
    상기 제1 챔버에 형성되며 오염 가스가 유입되는 가스 유입관, 및
    상기 제1 챔버 내에 형성되어 상기 오염 가스로 세정수를 분사하는 세정 노즐을 포함하는 습식 처리부;
    제2 챔버,
    상기 제2 챔버를 가열하는 가열기, 및
    상기 제2 챔버에 형성되어 정화된 오염 가스가 배출되는 가스 배출관을 포함하는 건식 처리부; 및
    상기 제1 챔버와 상기 제2 챔버를 연결하여, 상기 습식 처리부를 통하여 배출되는 상기 오염 가스를 상기 건식 처리부로 공급하는 연결관을 포함하는 스크러버.
  2. 제 1 항에 있어서,
    양 전하 또는 음 전하를 갖는 전압이 인가되어 상기 오염 가스 내의 미립자를 제거하는 집진기를 더 포함하는 스크러버.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 습식 처리부는 필터를 더 포함하는 스크러버.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 가열기는 전기식 가열기 또는 연소식 가열기인 스크러버.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 세정 노즐은 분사 방향이 상향 또는 하향으로 교대 배치되는 스크러버.
  6. 유입된 오염 가스에 세정수를 분사하는 습식 처리 단계;
    상기 습식 처리 단계를 거친 상기 오염 가스를 가열하는 과정을 포함하는 건식 처리 단계를 포함하는 스크러버를 이용한 오염 가스의 정화 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 습식 처리 단계는 상기 오염 가스를 필터로 여과하는 과정을 더 포함하는 스크러버를 이용한 오염 가스의 정화 방법.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 건식 처리 단계는 전기식 가열기 또는 연소식 가열기로 상기 오염 가스를 가열하는 스크러버를 이용한 오염 가스의 정화 방법.
KR1020070005275A 2007-01-17 2007-01-17 스크러버 및 이를 이용한 오염 가스의 정화 방법 KR20080067849A (ko)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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RU167653U1 (ru) * 2015-06-15 2017-01-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева-КАИ" (КНИТУ-КАИ) Сепаратор
CN113069867A (zh) * 2021-04-21 2021-07-06 华能伊敏煤电有限责任公司汇流河热电分公司 一种热电厂废弃处理排放系统
CN113750709A (zh) * 2021-10-12 2021-12-07 泰兴协联众达化学有限公司 一种萘法苯酐尾气催化处理系统及其处理方法
CN114797341A (zh) * 2021-01-18 2022-07-29 玛特普拉斯有限公司 配备有压力自动控制文丘里管的洗涤器系统

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU167653U1 (ru) * 2015-06-15 2017-01-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева-КАИ" (КНИТУ-КАИ) Сепаратор
CN114797341A (zh) * 2021-01-18 2022-07-29 玛特普拉斯有限公司 配备有压力自动控制文丘里管的洗涤器系统
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