KR20100018137A - 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치 - Google Patents

반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 소자를 제조하는 공정장비의 배기라인에 고착되는 파우더를 원활하게 제거할 수 있도록 한 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치에 관한 것이다.
이를 실현하기 위한 본 발명은 반도체 소자를 제조하는 공정장비의 배기라인 내벽에 고착되는 파우더를 제거하기 위한 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치에 있어서, 상기 배기라인 내부의 파우더 고착구간에 회전가능하게 내삽되는 코일스프링; 상기 코일스프링에 연결되어 회전력을 전달하는 구동모터; 상기 코일스프링이 상기 배기라인 내벽에 고착된 파우더를 긁어 제거할 수 있도록 설정된 시간 동안 주기적으로 작동될 수 있도록 상기 구동모터를 온/오프시키는 작동타이머; 상기 구동모터 및 상기 작동타이머를 제어하는 제어부;를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.
반도체, 배기라인, 파우더, 고착, 제거장치

Description

반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치{Device for removing powder on semiconductor equipment exhaust line}
본 발명은 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 소자를 제조하는 공정장비의 배기라인에 고착되는 파우더를 원활하게 제거할 수 있도록 한 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조공정에서 웨이퍼 상에 박막을 형성하기 위해 사용되는 다양한 종류의 반응가스는 산화성분, 인화성분 및 유독성분을 보유하고 있기 때문에 사용을 마친 폐 가스를 그대로 대기중에 방출할 경우 인체에 유해할 뿐만 아니라 환경 오염을 유발시키게 된다.
이에 따라 폐 가스의 유해성분함량을 허용 농도 이하로 낮추는 정화처리과정을 거쳐서 대기중으로 배출시키기 위해 폐 가스를 배기시키는 반도체 설비내의 배기라인에는 폐 가스의 유독성분을 제거하기 위한 가스 스크러버가 설치된다. 이러한 가스 스크러버는 가스유입관이 배기라인에 연결되어 폐 가스를 공급받은 후 여러 가지 방식에 의해 폐 가스를 세정하게 된다.
도 1은 일반적인 반도체 공정장비의 배기라인을 보여주는 개략도이다.
도 1을 참조하면, 공정챔버(10) 내부에서 공정진행 후 분해되는 이산화규소(SiO2) 및 알루미나(Al2O3) 등의 입자상 물질(이하 파우더라 함)이 많이 발생하게 된다. 이러한 파우더는 진공펌프(20) 및 가스 스크러버(50)를 연결하는 배기라인(30)의 내벽(31)에 고착되어 배기라인(30)의 유로를 차단하게 된다.
이 경우 상기 고착된 파우더(P)에 의해 진공펌프(20) 및 가스 스크러버(50)의 예방정비 주기가 짧아지게 되고, 결국 메인 장비에 잦은 다운으로 인해 반도체 소자의 생산량이 저하되는 문제점이 있다.
이에 따라 상기와 같은 파우더의 고착현상을 방지하기 위한 파우더제거장치가 요구되고 있다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 반도체 소자를 제조하는 공정장비의 배기라인에 고착되는 파우더를 원활하게 제거할 수 있도록 한 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치는, 반도체 소자를 제조하는 공정장비의 배기라인 내벽에 고착되는 파우더를 제거하기 위한 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치에 있어서, 상기 배기라인 내부의 파우더 고착구간에 회전가능하게 내삽되는 코일스프링; 상기 코일스프링에 연결되어 회전력을 전달하는 구동모터; 상기 코일스프링이 상기 배기라인 내벽에 고착된 파우더를 긁어 제거할 수 있도록 설정된 시간 동안 주기적으로 작동될 수 있도록 상기 구동모터를 온/오프시키는 작동타이머; 상기 구동모터 및 상기 작동타이머를 제어하는 제어부;를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.
이 경우 상기 코일스프링의 일단은 상기 구동모터에 연결되고, 타단은 자유단인 것을 특징으로 한다.
또한 상기 배기라인의 외부에는 상기 구동모터의 온/오프 상태를 육안으로 확인할 수 있도록 램프표시부가 구비된 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치는 반도체 소자를 제조하는 공정장비의 배기라인에 고착되는 파우더를 설정된 시간 동안 주기적으로 제거하여 배기라인이 막히는 것을 방지해주게 됨으로써 불필요한 예방정비를 줄일 수 있고, 반도체 소자의 생산량을 높일 수 있는 장점이 있다.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.
여기서 각 도면의 구성요소들에 대해 참조부호를 부가함에 있어서 동일한 구성요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호로 표기되었음에 유의하여야 한다.
도 2는 본 발명에 따른 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치의 일 설치예이고, 도 3은 본 발명에 따른 파우더 제거장치의 구성도이며, 도 4는 본 발명에 따른 파우더 제거장치의 작동흐름도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명은 진공펌프(20) 및 가스 스크러버(50)를 연결하는 배기라인(30)의 내벽에 공정챔버(10) 내부에서 공정진행 후 분해되는 발생하는 파우더(P)가 고착되는 것을 방지할 수 있도록 배기라인(30)의 내부에 파우더 제거장치(100)가 구비된다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 파우더 제거장치(100)는 코일스프링(110), 구동모터(130), 작동타이머(150) 및 제어부(170)를 포함하여 구성된다.
상기 코일스프링(110)은 진공펌프(20)와 가스 스크러버(50) 또는 가스 스크러버(50)와 메인덕트(60) 사이에 연결되는 배기라인(30)의 내부에 상습적으로 파우더가 고착되는 직선구간에 소정길이(L)로 내삽된다. 이 경우 코일스프링(110)은 배기라인(30)의 내부 직경보다 작은 직경으로 형성되고, 배기라인(30)의 내벽 둘레에 고착되는 파우더(P)를 긁어 제거할 수 있도록 회동가능하게 위치된다.
상기 구동모터(130)는 코일스프링(110)의 일단에 연결되어 회전력을 전달해주게 된다. 이 경우 코일스프링(110)의 타단은 자유단으로 이루어져 있어 배기라인(30)의 내벽을 후려침과 동시에 긁어주는 효과를 얻을 수 있다. 또한 상기 구동모터(130)와 코일스프링(110)의 연결부위에는 동일 축 선상에서뿐만 아니라 직각으로 연결된 경우에도 동력을 전달할 수 있도록 일례로 유니버설 조인트(universal joint)와 같은 연결부재(120)가 구비될 수 있다.
상기 작동타이머(150)는 코일스프링(110)이 설정된 시간 동안 주기적으로 작동될 수 있도록 구동모터(130)에 공급되는 전원을 개폐시켜주는 역할을 한다. 즉, 상기 코일스프링(110)을 배기라인(30) 내벽에 고착된 파우더(P)를 긁어내는데 필요한 소정시간 동안 작동시켜줌으로써 배기라인(30) 내벽의 마모 방지 및 소요되는 전력낭비를 막을 수 있게 된다.
상기 제어부(170)는 작동타이머(150)의 신호를 전달받아 구동모터(130)에 공급되는 전원을 온(On)/오프(Off) 제어하게 된다.
또한 상기 구동모터(130)의 온/오프 상태를 육안으로 확인할 수 있도록 배기라인(30)의 외부 일측에는 온/오프 램프가 형성된 램프표시부(135)가 설치된다.
도 5는 본 발명에 따른 파우더 제거장치의 다른 설치예이다.
상기와 같은 구성의 파우더 제거장치(100)는 일반적으로 배기라인(30)의 직선구간에 형성되어야 그 기능을 제대로 발휘할 수가 있으나, 도 5에 도시된 바와 같이 배기라인(30)이 'ㄱ'자 형상 또는 T-자로 형성된 경우에도 설치될 수 있다.
즉, 상기 배기라인(30)이 'ㄱ'자로 꺾인 부분을 제외한 직선구간에만 복수의 파우더 제거장치(100)를 설치하되 각각 개별적으로 작동시켜 배기라인(30) 내벽에 고착된 파우더(P)를 원활하게 제거할 수 있게 된다.
이 경우 상기 파우더 제거장치(100)를 하나의 구동모터(130)로 밸트(미도시)와 같은 동력전달수단을 이용하여 복수의 코일스프링(110)을 동시에 구동시키는 방식으로 구성할 수 있음은 물론이다.
또한 상기 파우더 제거장치(100)는 배기라인(30)을 통해 배출되는 반응부산물의 흐름을 방해하지 않도록 설치되는 것이 바람직하다.
이상과 같은 구성의 본 발명의 파우더 제거장치의 작용에 대하여 략히 설명해 보기로 한다.
먼저, 상기 공정챔버(10) 내부에서 공정진행 후 배기라인(30)을 통해 배출되는 파우더(P)가 내벽(31)에 고착되기 시작할 무렵 제어부(170)에서는 구동모터(130)를 작동시켜 코일스프링(110)을 저속으로 회전시켜주게 된다. 이렇게 회전되는 코일스프링(110)은 배기라인(30)의 내벽(31)을 후려침과 동시에 긁어주면서 고착된 파우더(P)를 제거하게 된다. 이 경우 상기 파우더 제거장치(100)는 제어 부(170)의 순차제어프로그래밍에 의해 자동으로 온(On)/오프(Off) 제어되는데, 일례로 상기 코일스프링(110)이 회전되면서 파우더(P)를 제거하도록 설정된 시간은 10 ~ 15초 정도이며, 설정된 시간이 지나면 작동타이머(150)가 구동모터(130)에 공급되는 전원을 자동으로 차단해주게 된다. 그리고 상기 배기라인(30)의 내벽(31)에 파우더(P)가 다시 고착될 무렵(일례로 30분)에 구동모터(130)에 전원이 공급되면서 파우더 제거장치(100)가 작동된다.
이와 같이 주기적으로 상기 파우더 제거장치(100)를 작동시켜 줌으로써 배기라인(30)의 내벽에 고착되는 파우더(P)를 말끔히 제거할 수 있게 된다.
이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예를 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 않으며 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능함은 물론이다.
도 1은 일반적인 반도체 공정장비의 배기라인을 보여주는 개략도,
도 2는 본 발명에 따른 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치의 일 설치예,
도 3은 본 발명에 따른 파우더 제거장치의 구성도,
도 4는 본 발명에 따른 파우더 제거장치의 작동흐름도,
도 5는 본 발명에 따른 파우더 제거장치의 다른 설치예이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10 : 공정챔버 20 : 진공펌프
30 : 배기라인 31 : 내벽
50 : 가스 스크러버 60 : 메인덕트
100 : 파우더 제거장치 110 : 코일스프링
130 : 구동모터 150 : 작동타이머
170 : 제어부

Claims (3)

  1. 반도체 소자를 제조하는 공정장비의 배기라인 내벽에 고착되는 파우더를 제거하기 위한 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치에 있어서,
    상기 배기라인 내부의 파우더 고착구간에 회전가능하게 내삽되는 코일스프링;
    상기 코일스프링에 연결되어 회전력을 전달하는 구동모터;
    상기 코일스프링이 상기 배기라인 내벽에 고착된 파우더를 긁어 제거할 수 있도록 설정된 시간 동안 주기적으로 작동될 수 있도록 상기 구동모터를 온/오프시키는 작동타이머;
    상기 구동모터 및 상기 작동타이머를 제어하는 제어부;를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 코일스프링의 일단은 상기 구동모터에 연결되고, 타단은 자유단인 것을 특징으로 하는 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 배기라인의 외부에는 상기 구동모터의 온/오프 상태를 육안으로 확인할 수 있도록 램프표시부가 구비된 것을 특징으로 하는 반도체 공정장비 배기라인의 파우더 제거장치.
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