KR200451853Y1 - 챔버의 유해가스 제거장치 - Google Patents

Abstract

본 고안은 챔버의 유해가스 제거장치에 관한 것으로서, 본 고안에 따른 챔버의 유해가스 제거장치는 반도체를 제조하는 공정에 사용되는 챔버에 설치되어 챔버 내의 유해가스를 제거하는 장치에 있어서, 상기 챔버의 투입구를 폐쇄하는 박스 형태로 구성되고, 전면에는 상기 투입구에 대응되는 개구부가 형성된 하우징; 상기 하우징의 개구부를 개폐하는 도어; 상기 하우징에 연통되는 흡입관; 상기 흡입관에 연통되어 흡입력을 제공하는 블로어; 상기 블로어에 연통되어 흡입된 유해가스를 배출하는 배출관;을 포함하는 것을 특징으로 한다.

이에 의하여, 유해물질(가스)이 유출되는 챔버 주변에서 작업하는 작업자가 안전하게 작업할 수 있고, 챔버 주변의 제조장비와 부품이 오염 또는 부식되는 것을 방지할 수 있는 챔버의 유해가스 제거장치가 제공된다.

로드락 챔버, 웨이퍼, 유해가스

Description

챔버의 유해가스 제거장치{HARMFUL GAS SUCTION DEVICE OF CHAMBER}

본 고안은 챔버의 유해가스 제거장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 챔버의 투입구가 개폐됨에 따라 챔버의 외부로 유출되는 유해가스를 제거하여 유해가스에 의한 작업자의 안전을 도모하고, 반도체 제조공정에 장비에서 부식을 방지할 수 있는 챔버의 유해가스 제거장치에 관한 것이다.

반도체제조장비는 통상 웨이퍼를 다양한 환경과 공정 하에서 처리하고 가공하게 된다. 다시 말해 반도체제조장비는 웨이퍼를 사진, 확산, 식각, 화학기상증착, 금속증착 등의 여러 공정을 반복적으로 수행하여 반도체 칩으로 제조하며, 각 공정에서는 각종 유독가스 및 용액이 사용된다.

따라서, 반도체를 제조하는 각 장비들은 상술한 유해물질(가스)로 인해 장비가 부식되거나 변형되어 장비의 수명이 짧아서 자주 교체해야 하고, 제품의 생산성이 저하됨은 물론 생산설비의 유지비용이 많이 들게 된다.

특히 반도체의 웨이퍼 생산 공정 중 표면부식(etch) 공정에서 표면부식에 사용되는 재료가 유해물질(가스)이거나, 공정이 완료된 후 제품이 챔버 밖으로 나오면서 공정에 사용된 유해물질이 대기와 반응하여 산(acid)과 같은 다른 유해물질 (가스)로 변하게 된다.

하지만, 종래기술에 따른 반도체제조장비의 표면부식 공정에서는 웨이퍼가 적재된 카세트를 외부로 꺼낼 경우, 상술한 유해물질(가스)이 챔버 내부에서 완전히 배기되지 못한 채 챔버의 카세트투입구가 개방되어 챔버 외부로 유해물질(가스)이 유출되는 문제점이 있었다.

또한, 챔버 외부로 유출되는 유해물질(가스)로 인해 챔버 주변에서 작업하는 작업자의 건강을 해칠 수 있는 문제점이 있었다.

또한, 챔버 외부로 유출되는 유해물질(가스)로 인해 챔버 주변의 제조장비와 부품이 오염 또는 부식되는 문제점이 있었다.

따라서, 본 고안의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 유해물질(가스)이 유출되는 챔버 주변에서 작업하는 작업자가 안전하게 작업할 수 있도록 하는 챔버의 유해가스 제거장치를 제공함에 있다.

또한, 챔버 주변의 제조장비와 부품이 오염 또는 부식되는 것을 방지할 수 있는 챔버의 유해가스 제거장치를 제공함에 있다.

상기 목적은, 본 고안에 따라, 반도체를 제조하는 공정에 사용되는 챔버에 설치되어 챔버 내의 유해가스를 제거하는 장치에 있어서, 상기 챔버의 투입구를 폐쇄하는 박스 형태로 구성되고, 전면에는 상기 투입구에 대응되는 개구부가 형성된 하우징; 상기 하우징의 개구부를 개폐하는 도어; 상기 하우징에 연통되는 흡입관; 상기 흡입관에 연통되어 흡입력을 제공하는 블로어; 상기 블로어에 연통되어 흡입된 유해가스를 배출하는 배출관;을 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버의 유해가스 제거장치에 의해 달성된다.

여기서 상기 하우징 일측에 형성되어 상기 하우징과 상기 흡입관에 각각 연통되도록 하고, 상기 하우징 내로 유입된 유해가스가 흡입되는 흡입부;를 더 포함하도록 하는 것이 바람직하다.

여기서 상기 흡입부는 개구되는 전면을 개폐하는 소재구;가 형성되도록 하는 것이 바람직하다.

여기서 상기 하우징에 설치되어 상기 투입구의 개폐여부를 감지하고 상기 블로어의 동작을 제어하는 감지수단;이 더 포함되도록 하는 것이 바람직하다.

여기서 상기 하우징에 설치되어 상기 블로어의 동작을 제어하는 스위치;가 더 포함되도록 하는 것이 바람직하다.

여기서 상기 하우징은 개구되는 양측면을 개폐하는 점검구;가 더 형성되도록 하는 것이 바람직하다.

본 고안에 따르면, 유해물질(가스)이 유출되는 챔버 주변에서 작업하는 작업자가 안전하게 작업할 수 있는 챔버의 유해가스 제거장치가 제공된다.

또한, 챔버 주변의 제조장비와 부품이 오염 또는 부식되는 것을 방지할 수 있는 챔버의 유해가스 제거장치가 제공된다.

또한, 챔버의 투입구가 개폐여부에 따라 블로어를 동작시켜 유출되는 유해가스의 제거를 용이하게 하고, 블로어의 동작수명을 연장할 수 있는 챔버의 유해가스 제거장치가 제공된다.

또한, 유해가스 제거장치가 설치되더라도 챔버의 유지보수를 편리하게 할 수 있는 챔버의 유해가스 제거장치가 제공된다.

또한, 유해가스 제거에 따른 흡입관의 청소 및 유지 보수를 편리하게 할 수 있는 챔버의 유해가스 제거장치가 제공된다.

설명에 앞서, 여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예 에서는 제1실시예와 다른 구성에 대해서 설명하기로 한다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 고안의 제1실시예에 따른 챔버의 유해가스 제거장치에 대하여 상세하게 설명한다.

첨부 도면 도 1은 본 고안의 일실시예에 따른 챔버의 유해가스 제거장치를 나타내는 사시도이고, 도 2는 본 고안의 일실시예에 따른 하우징의 설치 구조를 나타내는 정면도이다.

도 1과 도 2를 참조하면, 본 고안은 반도체 웨이퍼를 제조하는 공정에서 특히 로드락 챔버의 투입구 전면에 설치되어 챔버의 투입구 개폐에 따라 유출되는 유해가스를 제거하는 챔버의 유해가스 제거장치를 개시하고 있다.

본 고안의 일실시예에 따른 챔버의 유해가스 제거장치는 하우징(1)과 도어(2), 그리고 흡입부(3)로 구분할 수 있다.

하우징(1)은 박스 형태로 구성되어 챔버의 투입구(71)를 폐쇄하도록 하고 있다.

하우징(1)은 챔버의 투입구(71)에 대응하여 전면에 개구부(11)를 형성하고, 개구부(11)는 도어(2)에 의해 개폐되도록 하고 있다.

또한, 하우징(1)의 양측면은 챔버의 투입구(71)를 개폐하는 커버(72)에 대응하여 하부가 개구되고, 점검구(13)에 의해 개폐되도록 한다.

그러면, 하우징(1)이 챔버의 투입구(71)를 폐쇄할 때, 개구된 하우징(1)의 전면 또는 양측면을 통해 챔버(7, 도 5 참조) 또는 챔버의 투입구(71)를 개폐하는 커버(72)를 유지보수할 수 있다.

그리고 하우징(1)에는 챔버의 투입구(71) 개폐여부를 감지하는 감지수단(15)이 더 형성될 수 있다.

감지수단(15)은 챔버의 투입구(71) 개폐여부를 감지하여 블로어(5)의 동작을 제어하게 되며 본 고안의 일실시예에서는 도면에 도시된 바와 같이 챔버의 커버(72)가 상하로 이동하여 개폐됨에 따라 하우징(1)의 상부에 설치되어 있다.

도시되지 않았지만, 통상 감지수단(15)은 수광부와 투광부로 구분할 수 있으며, 수광부는 하우징(1)의 내부에서 챔버의 커버(72)에 설치되어 있고, 투광부는 하우징(1)의 상면에 취부되어 있다.

또한, 하우징(1)에는 블로어(5)의 on/off 동작을 제어하도록 스위치(17)가 더 형성될 수 있다. 스위치(17)는 하우징(1)의 전면에 설치되어 블로어(5)의 on/off 동작에 관여하며, 상술한 감지수단(15)과 연계하여 감지수단(15)이 챔버의 투입구(71) 개폐여부를 감지함에 따라 블로어(5)의 동작을 제어할 수 있다.

그리고, 도 2에 도시된 바와 같이 한 쌍의 챔버 투입구(71)를 동시에 폐쇄하는 경우 각 챔버의 투입구 개폐여부에 따라 별도로 유해가스를 제거할 수 있도록 하우징(1) 내부를 분리하는 격벽(19)이 형성될 수 있다.

하우징(1)의 전면을 개폐하는 도어(2)에는 챔버의 투입구(71) 개폐여부를 육안으로 확인할 수 있도록 투명창(21)이 형성되어 있다.

흡입부(3)는 하우징(1)과 연통되도록 측면에 일체로 형성되어 있고, 챔버의 투입구(71)가 개방됨에 따라 챔버에서 유출되는 유해가스가 흡입부(3)로 유입되도록 한다.

첨부 도면 도 3과 도 4는 본 고안의 일실시예에 따른 흡입부의 개폐 상태를 나타내는 측단면도로서, 도 3과 도 4를 참조하면, 흡입부(3)는 도면에 도시된 바와 같이 박스 형태로 구성될 수 있고, 전면은 개구되어 소재구(31)에 의해 개폐되도록 한다.

소재구(31)는 일측이 힌지(33)에 의해 결합되어 흡입부(3)에서 회동할 수 있도록 되어 있고, 힌지(33)를 마주보는 면에는 각각 클램프(34)와 걸쇠(36)가 형성됨으로써, 클램프(34)와 걸쇠(36)의 결합에 의해 소재구(31)가 개구된 흡입부(3)의 전면에서 고정 폐쇄시키게 된다.

이때, 유해가스의 누출을 방지하고, 후술하는 블로어(5)에 의한 흡입력의 손실을 막기 위해 개구된 흡입부(3)의 전면 가장자리에는 실리콘 루버와 같은 패킹(38)이 설치되어 실링이 가능하도록 한다.

그리고, 흡입부(3)에는 흡입관(4)이 연통되어 있고, 흡입관(4)의 단부에는 블로어(5)가 연결되어 흡입부(3) 및 하우징(1)에 흡입력을 제공한다. 또한, 블로어(5)에 연결된 배출관(6)을 통해 흡입된 유해가스가 배출된다. 흡입관(4) 또는 배출관(6)은 자바라 형태로 구성되어 구부리는 것과 같이 변형이 용이하므로 챔버(7, 도 5 참조)가 설치된 공정 장비에서 배관을 용이하게 하고 있다.

지금부터는 상술한 챔버의 유해가스 제거장치의 제1실시예의 작동에 대하여 설명한다. 첨부 도면 도 5는 본 고안의 일실시예에 따른 챔버의 유해가스 제거장치의 동작을 나타내는 도면이다.

도 5를 참조하면, 챔버(7)의 투입구(71, 도 2 참조)가 형성되는 전면에 본 고안의 일실시예에 따른 유해가스 제거장치가 안정되게 설치되도록 구분판(73)을 설치하는 것이 바람직하다. 그리고 챔버(7)의 투입구(71, 도 2 참조)를 폐쇄하도록 박스 형태의 하우징(1)이 구분판(73) 전면에 차례로 설치된다.

스위치(17)를 on 상태로 유지하면, 블로어(5)가 지속적으로 동작하여 하우징(1)에 의해 폐쇄된 챔버(7)의 투입구(71) 전면 공간(즉, 하우징 내부)을 흡입하게 된다.

이때, 하우징(1)에 감지수단(15)이 형성되어 있으므로, 감지수단(15)에 의해 챔버(7)의 투입구(71, 도 2 참조)가 커버(72)에 의해 폐쇄되어 있을 때는 블로어(5)의 동작을 일시정지시킬 수 있고, 챔버(7)의 투입구(71, 도 2 참조)가 개방되는 경우에 블로어(5)가 동작될 수 있도록 제어할 수 있다.

다른 예로 감지수단(15)이 챔버(7)의 투입구(71, 도 2 참조) 개폐여부를 감지하는 것과 무관하게 스위치(17)가 on 상태됨에 따라 블로어(5)를 동작시킴으로써, 비상시 하우징(1) 내에 잔존하는 유해가스를 제거하도록 할 수 있다.

챔버(7)의 투입구(71, 도 2 참조)가 개방되면, 블로어(5)가 동작됨과 동시에 챔버(7)로부터 유해가스가 하우징(1) 내부로 유출되고, 하우징(1) 내부에 유출된 유해가스는 블로어의 흡입력에 의해 흡입부(3)로 유입된다. 흡입부(3)에 유입된 유해가스는 블로어(5)의 흡입력에 의해 흡입관(4)을 따라 계속 이동하게 되고, 블로어(5)를 거쳐 배출관(6)을 통해 유해가스가 배출된다.

본 고안의 유해가스 제거장치는 챔버(7)의 투입구(71, 도 2 참조) 전면 공간 을 도어(2, 도 1 참조))에 의해 개폐되는 하우징(1)으로 폐쇄하고 있으므로, 챔버(7)의 투입구(71, 도 2 참조) 개방에 따라 챔버(7)의 투입구(71, 도 2 참조)에서 유출되는 유해가스가 챔버(7) 주변으로 확산되는 것을 방지하고, 유출된 유해가스는 블로어(5)의 흡입력에 의해 흡입부(3) 및 흡입관(4)을 거쳐 배출관(6)으로 배출되도록 하고 있다.

그리고 챔버(7)의 투입구(71, 도 2 참조)가 폐쇄되더라도 일정 시간 블로어(5)가 더 동작하도록 하여 하우징(1) 내에 잔존할 수 있는 유해가스를 완전히 제거하도록 한다.

따라서, 본 고안은 챔버(7)에서 유출되는 유해가스가 챔버(7) 주변의 공정 장비 또는 챔버(7) 주변에서 작업 중인 작업자에게로 확산되는 것을 철저하게 방지할 수 있으며, 이에 따라 챔버(7) 주변의 공정 장비가 부식되는 것을 방지하게 되고, 유출된 유해가스에 의한 작업자의 건강을 지킬 수 있게 된다.

본 고안의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 실용신안등록청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 실용신안등록청구범위에서 청구하는 본 고안의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 고안의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.

도 1은 본 고안의 일실시예에 따른 챔버의 유해가스 제거장치를 나타내는 사시도,

도 2는 본 고안의 일실시예에 따른 하우징의 설치 구조를 나타내는 정면도,

도 3과 도 4는 본 고안의 일실시예에 따른 흡입부의 개폐 상태를 나타내는 측단면도,

도 5는 본 고안의 일실시예에 따른 챔버의 유해가스 제거장치의 동작을 나타내는 도면이다.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1: 하우징 2: 도어 3: 흡입부

4: 흡입관 5: 블로어 6: 배출관

7: 챔버 11: 개구부 13: 점검구

15: 감지수단 17: 스위치 19: 격벽

21: 투명창 31: 소재구 33: 힌지

34: 클램프 36: 걸쇠 38: 패킹

71: 투입구 72: 커버 73: 구분판

Claims (6)

1. 반도체를 제조하는 공정에 사용되는 챔버에 설치되어 챔버 내의 유해가스를 제거하는 장치에 있어서,

   상기 챔버의 투입구를 폐쇄하는 박스 형태로 구성되고, 전면에는 상기 투입구에 대응되는 개구부가 형성된 하우징;

   상기 하우징의 개구부를 개폐하는 도어;

   상기 하우징에 연통되는 흡입관;

   상기 흡입관에 연통되어 흡입력을 제공하는 블로어;

   상기 블로어에 연통되어 흡입된 유해가스를 배출하는 배출관;을 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버의 유해가스 제거장치.
2. 제1항에 있어서,

   상기 하우징 일측에 형성되어 상기 하우징과 상기 흡입관에 각각 연통되도록 하고, 상기 하우징 내로 유입된 유해가스가 흡입되는 흡입부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버의 유해가스 제거장치.
3. 제2항에 있어서,

   상기 흡입부는 개구되는 전면을 개폐하는 소재구;가 형성되는 것을 특징으로 하는 챔버의 유해가스 제거장치.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 하우징에 설치되어 상기 투입구의 개폐여부를 감지하고 상기 블로어의 동작을 제어하는 감지수단;이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 챔버의 유해가스 제거장치.
5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 하우징에 설치되어 상기 블로어의 동작을 제어하는 스위치;가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 챔버의 유해가스 제거장치.
6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 하우징은 개구되는 양측면을 개폐하는 점검구;가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 챔버의 유해가스 제거장치.

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