KR20210022826A - 파우더 고착 방지장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 진공펌프 내부 및 배기라인의 내부에 배기가스가 파우더 형태로 고형화되어 고착되는 것을 억제 및 방지할 수 있게 하는 파우더 고착 방지장치에 관한 것으로, 본 발명은 공정챔버 내부에서 발생하는 배기가스를 흡입하는 진공펌프와 배기가스를 스크러버 측으로 안내하는 배기라인 사이에 장착되는 파우더 고착 방지장치에 있어서, 파우더 고착 방지장치는, 질소가스를 고온으로 가열하는 히팅수단; 및 진공펌프와 배기라인을 연결시키며, 히팅수단으로부터 유입되는 고온의 질소가스를 매개체로 진공펌프 내부의 배기가스 및 파우더를 흡입하고 배기라인 내부의 배기가스 및 파우더를 스크러버 측으로 불어내는 배기수단;을 포함한다.
Description
본 발명은 반도체 제조장비의 진공펌프와 배기라인 사이에 장착되는 파우더 고착 방지장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 진공펌프 내부 및 배기라인의 내부에 배기가스가 파우더 형태로 고형화되어 고착되는 것을 억제 및 방지할 수 있게 하는 파우더 고착 방지장치에 관한 것이다.
도 1은 일반적인 반도체 공정장치의 배기라인을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1을 참조하면, 공정챔버(10) 내부에서 공정이 진행되는 동안 공정챔버(10) 내부에는 각종 발화성 가스와 부식성 이물질 및 유독가스 등이 다량 발생하게 된다. 그리고 각종 발화성 가스와 부식성 이물질 및 유독가스(이하; '배기가스'라 한다) 등은 진공펌프(20) 및 스크러버(40; scrubber)를 거쳐 대기 중으로 방출된다.
한편, 전술한 배기가스는 진공펌프(20)를 지나 스크러버(40) 측으로 유동하는 과정에서 급격하게 온도가 낮은 배기라인(30)을 지나는데, 이때 배기가스의 일부는 파우더(powder)의 형태로 고형화되면서 배기라인(30)의 내벽면에 고착되어 배기라인(30)의 유로를 점층적으로 좁히는 문제점이 있었다.
이렇게 배기라인(30)의 유로가 좁아지게 되면, 배기압의 저하로 공정 중 에러가 발생하게 되고, 이를 해결하기 위해서는 진공펌프(20) 및 스크러버(40)의 예방정비 및 배기라인(30)의 교체 주기가 짧아지기 때문에 반도체 소자의 생산량이 저하되는 또 다른 문제점이 있었다.
이에 본 발명의 발명자는 전술한 종래의 문제점을 해결하고자 노력하였으며, 그 결과물로 본 발명을 출원하기에 이르렀다.
본 발명의 제 1 목적은, 유입되는 고온의 질소가스가 볼텍스 플로를 형성할 수 있게 함으로써, 진공펌프 내부의 배기가스 및 파우더를 흡입하여 배기라인 측으로 유동시킬 수 잇게 하는 수단을 제공하는데 있다.
본 발명의 제 2 목적은, 유입되는 고온의 질소가스의 유속을 가속시켜 배기라인 측으로 분사함으로써, 배기라인 내부의 배기가스 및 파우더를 스크러버 측으로 불어서 낼 수 있는 수단을 제공하는데 있다.
또한, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 공정챔버 내부에서 발생하는 배기가스를 흡입하는 진공펌프와 배기가스를 스크러버 측으로 안내하는 배기라인 사이에 장착되는 파우더 고착 방지장치에 있어서, 파우더 고착 방지장치는, 질소가스를 고온으로 가열하는 히팅수단; 및 진공펌프와 배기라인을 연결시키며, 히팅수단으로부터 유입되는 고온의 질소가스를 매개체로 진공펌프 내부의 배기가스 및 파우더를 흡입하고 배기라인 내부의 배기가스 및 파우더를 스크러버 측으로 불어내는 배기수단;을 포함할 수 있다.
구체적으로 배기수단은, 전단 측이 진공펌프의 배출구와 연결되고, 후단 측에는 수용공간부가 마련되되, 수용공간부와 마주하는 외주면 상에는 고온의 질소가스가 유입되는 유입공이 형성되는 제 1 관체; 전단 측이 수용공간부 내에 배치되고 후단 측은 수용공간부의 외측으로 연장되게 형성되되, 유입되는 고온의 질소가스의 흐름을 변화시켜 진공펌프 내부의 배기가스 및 파우더를 흡입하고 배기라인 내부의 배기가스 및 파우더를 스크러버 측으로 불어내는 제 2 관체; 및 후단 측이 배기라인과 연결되고, 전단 측 내부로는 제 2 관체의 전단 측과 제 2 관체의 전단 측과 이어지는 외주면이 노출되도록 고정되며, 제 2 관체의 전단 측이 수용공간부 내에 배치되도록 수용공간부에 고정되는 제 3 관체;를 포함할 수 있다.
더 구체적으로, 제 2 관체의 내주면 상에는 제 2 관체의 내부로 유입되는 고온의 질소가스가 볼텍스 플로를 형성할 수 있도록 제 2 관체의 전단 측에서부터 후단 측으로 나선의 형태로 연장되는 다수의 강선들이 형성되되, 제 2 관체의 전단 측은 제 2 관체의 내측으로 고온의 질소가스가 유입될 수 있게 수용공간부의 바닥과 이격될 수 있다.
더 구체적으로, 제 2 관체의 내주면과 외주면 사이에는 다수의 노즐공들이 형성되되, 노즐공들은 제 2 관체의 단면형상을 따라 등각도 간격으로 배치되며, 수용공간부 내에 배치된 제 2 관체의 전단 측에 인접한 외주면 상에서부터 제 2 관체의 타단을 관통하여 형성되되, 제 2 관체의 전단 측에 인접한 외주면 상에 형성된 노즐공들의 일단 측은 고온의 질소가스가 유입될 수 있게 수용공간부 내부로 노출될 수 있다.
구체적으로, 제 1 관체의 전단 측과 수용공간부 사이에는 진공펌프 측에서 배기되는 배기가스 및 파우더가 저류되는 저류공간부가 형성되되, 저류공간부는 제 1 관체를 확관시켜 형성될 수 있다.
구체적으로 히팅수단은, 배기수단을 감싸며, 일측에는 외부로부터 질소가스를 공급 받을 수 있도록 포트가 장착되는 히팅자켓; 및 히팅자켓 내부에 배치되되, 배기수단의 제 1 관체, 제 2 관체 및 제 3 관체의 외부를 감싸는 형태로 권선되어 히팅자켓 내부로 공급된 질소가스를 고온으로 가열시켜며, 양단은 히팅자켓에 형성된 관통공을 통해 히팅자켓의 외부로 인출되어 전원과 연결되는 히터코일을 포함할 수 있다.
더 구체적으로, 히팅자켓은 진공펌프 및 배기라인과의 용이한 연결을 위해 제 1 관체의 플랜지 및 제 3 관체의 플랜지를 외부로 노출시킬 수 있게 제공될 수 있다.
본 발명에 의하면, 제 2 관체의 내측으로 유입되는 고온의 질소가스가 제 2 관체의 내주면에 형성된 강선을 따라 흐르면서 볼텍스 플로를 형성하기 때문에 저류공간부에 저류된 배기가스 및 파우더와 진공펌프 내부의 배기가스 및 파우더를 흡입해 배기라인 측으로 유동시킬 수 있고, 이로 인해 진공펌프 내부에 파우더가 고착되는 것을 억제 및 방지할 수 있게 하는 효과를 제공할 수 있게 된다.
또한 본 발명에 의하면, 노즐공들을 통해 고온의 질소가스의 유속이 가속되어 배기라인 측으로 분사되기 때문에 배기라인 내부의 배기가스 및 파우더를 스크러버 측으로 불어 낼 수 있으며, 이로 인해 배기라인 내부에 파우더가 고착되는 것을 억제 및 방지할 수 있게 하는 효과를 제공할 수 있게 된다.
도 1은 일반적인 반도체 공정장치의 배기라인을 개략적으로 나타낸 도면이며,
도 2는 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치의 장착 상태를 개략적 나타낸 도면이고,
도 3은 도 2에 도시된 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치의 내부를 보인 단면도이며, 그리고
도 4는 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치의 작동 상태를 보인 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치의 장착 상태를 개략적 나타낸 도면이고,
도 3은 도 2에 도시된 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치의 내부를 보인 단면도이며, 그리고
도 4는 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치의 작동 상태를 보인 단면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명하면 다음과 같다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 이미 공지된 기능 혹은 구성에 대한 설명은, 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
그리고, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소는 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
도 2는 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치의 장착 상태를 개략적으로 나타낸 도면으로서, 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치(100)는 진공펌프(20)와 배기라인(30) 사이에 장착된다.
즉, 진공펌프(20)의 작동에 의해 공정챔버(10)에서 흡입되어 배기되는 배기가스 및 파우더는 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치(100)를 거쳐 배기라인(30)을 따라 스크러버(40) 측으로 안내된다.
도 3은 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치의 내부를 보인 도면으로서, 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치(100)는, 불활성가스인 질소(N2)가스를 고온으로 가열하는 히팅수단(140)과, 진공펌프(20)와 배기라인(30)을 연결시키며 히팅수단(140)으로부터 유입되는 고온의 질소가스를 매개체로 진공펌프(20) 내부의 배기가스 및 파우더를 흡입하고 배기라인(30) 내부의 배기가스 및 파우더를 스크러버(40) 측으로 불어 내는 배기수단(110)을 포함한다.
먼저, 배기수단(110)은 가공의 편의를 위해 분할 제공되는 제 1 관체(112), 제 2 관체(120) 및 제 3 관체(126)를 포함한다.
제 1 관체(112)는 진공펌프(20)와 연결되며, 이를 위해서 제 1 관체(112)의 전단 측에는 진공펌프(20)의 배출구(22)와의 연결을 위한 플랜지(114)가 형성된다.
여기서, 플랜지(114)를 이용한 제 1 관체(112)와 진공펌프(20)의 배출구(22)와의 연결은 당업계에서는 공지의 기술이므로 상세한 설명은 생략한다.
또한, 제 1 관체(112)의 후단 측에는 제 2 관체(120) 및 제 3 관체(126)의 전단 측이 삽입될 수 있도록 수용공간부(116)가 마련된다.
수용공간부(116)는 제 1 관체(112)의 후단에서부터 제 1 관체(112)의 전단 측으로 연장되며, 수용공간부(116)와 마주하는 제 1 관체(112)의 외주면에는 수용공간부(116)와 연결되게 유입공(118)이 형성된다. 이때 유입공(118)으로는 히팅수단(140)에 의해 고온으로 가열된 질소가스가 유입되고 유입공(118)을 통해 유입된 고온의 질소가스는 수용공간부(116) 내부에 채워진다.
한편, 제 1 관체(112)의 전단 측과 수용공간부(116) 사이에는 진공펌프(20) 측에서 배기되는 배기가스 및 파우더가 저류되는 저류공간부(119)가 형성된다. 저류공간부(119)는 다량의 배기가스 및 파우더를 저류(貯留)할 수 있도록 제 1 관체(112)를 확관시킨 형태로 형성된다.
즉, 저류공간부(119)는 다량의 배기가스를 한 번에 배기라인(30) 측으로 유동시키기 위해 형성된다.
제 2 관체(120)는 히팅수단(140)으로부터 유입되는 고온의 질소가스의 흐름을 변화시켜 저류공간부(119)에 저류된 배기가스 및 파우더와 진공펌프(20) 내부의 배기가스 및 파우더를 흡입해 배기라인(30) 측으로 유동시키고, 동시에 고온의 질소가스를 배기라인(30) 측으로 분사해 배기라인(30) 내부의 배기가스 및 파우더를 스크러버(40) 측으로 불어서 낼 수 있게 한다.
제 2 관체(120)는 전술한 바와 같이 전단 측이 수용공간부(116) 내에 배치되고 후단 측은 수용공간부(116)의 외측으로 연장되게 형성된다. 이때 제 2 관체(120)의 전단 측은 제 2 관체(120)의 내측으로 고온의 질소가스가 유입될 수 있게 수용공간부(116)의 바닥(116a)과 이격되게 배치된다.
한편, 제 2 관체(120)의 내주면 상에는 제 2 관체(120)의 전단 측에서부터 후단 측으로 나선의 형태로 연장되는 다수의 강선(122)들이 형성된다. 나선형 강선(122)들은 제 2 관체(120)의 내측으로 유입되어 제 2 관체(120)의 내주면을 따라 흐르는 고온의 질소가스가 볼텍스 플로(vortex flow)를 형성하게 하는데, 이에 의해 제 2 관체(120)의 내측의 기압은 진공펌프(20) 내부의 기압보다 낮아지고, 그로 인해 저류공간부(119)에 저류된 배기가스 및 파우더와 진공펌프(20) 내부의 배기가스 및 파우더는 제 2 관체(120)의 내측으로 흡입되어 배기라인(30) 측으로 유동된다.
즉, 나선형 강선(122)들이 제 2 관체(120)의 내측에 볼텍스 플로를 형성시켜 진공펌프(20) 내부의 배기가스 및 파우더를 흡입하기 때문에 진공펌프(20) 내부에 파우더가 고착되는 것을 억제 및 방지한다.
그리고 제 2 관체(120)의 내주면과 외주면 사이에는 다수의 노즐공(124)들이 형성된다.
노즐공(124)들은 제 2 관체(120)의 단면형상을 따라 등각도 간격으로 배치되며, 도시된 바와 같이 노즐공(124)들은 수용공간부(116) 내에 배치된 제 2 관체(120)의 전단 측에 인접한 외주면 상에서부터 제 2 관체(120)의 타단을 관통하여 형성된다.
이렇게 형성된 노즐공(124)들은 수용공간부(116) 내로 유입된 고온의 질소가스를 제 2 관체(120)의 타단 측으로 분사하는데, 이때 노즐공(124)들은 분사되는 질소가스의 유속을 가속시켜 제 2 관체(120)를 빠져 나온 배기가스 및 파우더와 배기라인(30)의 내부의 배기가스 및 파우더를 스크러버(40) 측으로 불어낸다.
즉, 노즐공(124)들은 수용공간부(116) 내로 유입된 고온의 질소가스의 압력에너지를 속도에너지로 바꾸어 질소가스의 유속을 가속시키며, 이렇게 유속이 가속된 질소가스는 전술한 바와 같이 제 2 관체(120)를 빠져 나온 배기가스 및 파우더와 배기라인(30)의 내부의 배기가스 및 파우더를 스크러버(40) 측으로 불어서 밀어내어 배기라인(30) 내부에 파우더가 고착되지 않게 한다.
제 3 관체(126)는 배기라인(30)과 연결되며, 이를 위해서 제 3 관체(126)의 후단 측에는 배기라인(30)과의 연결을 위한 플랜지(128)가 형성된다.
여기서, 플랜지(128)를 이용한 제 3 관체(126)와 배기라인(30)과의 연결은 당업계에서는 공지의 기술이므로 상세한 설명은 생략한다.
그리고 제 3 관체(126)의 전단 측 내부로는 제 2 관체(120)가 삽입되어 고정된다. 이때 제 3 관체(126)에 고정되는 제 2 관체(120)는 전단 측 및 노즐공(124)들의 일단 측, 즉 제 2 관체(120)의 전단 측에 인접한 외주면 상에 노출된 노출공(124)들의 일단 측이 제 3 관체(126)의 전단 측 외부로 노출되게 끼워져 고정된다.
여기서, 제 3 관체(126)와 제 2 관체(120)는 통상의 용접을 통해 서로 고정될 수 있다.
그리고 제 3 관체(126)는 제 3 관체(126)의 전단 외측으로 노출된 제 2 관체(120)의 전단 측 및 노출공(124)들의 일단 측이 수용공간부(116) 내에 배치되도록 제 1 관체(112)에 고정된다. 이를 위해서 제 3 관체(126)의 전단 측 및 제 3 관체(126)의 전단 측와 이어지는 외주면은 수용공간부(116) 내부로 삽입되어 고정되며, 제 1 관체(126)의 수용공간부(116)에 고정되는 제 3 관체(126)에 의해 제 2 관체(120)의 전단 측은 제 2 관체(120)의 내측으로 고온의 질소가스가 유입될 수 있게 수용공간부(116)의 바닥(116a)과 이격되게 배치되고, 마찬가지로 노즐공(124)들의 일단 측은 고온의 질소가스가 유입될 수 있게 수용공간부(116) 내에 배치된다.
한편, 수용공간부(116)의 내주면에 접하는 제 3 관체(126)의 외주면 상에는 수용공간부(116)로 유입되는 고온의 질소가스가 누기되지 않게 오링(130)이 끼워진다.
여기서, 제 3 관체(126)와 제 1 관체(112)는 통상의 용접 또는 나사체결방식으로 고정될 수 있다.
히팅수단(140)은 히팅자켓(142) 및 히팅자켓(142) 내부로 공급되는 질소가스를 고온으로 가열시키는 히터코일(148)을 포함한다.
히팅자켓(142)은 도시된 바와 같이 배기수단(110)을 감싸되, 진공펌프(20) 및 배기라인(30)과의 용이한 연결을 위해 제 1 관체(112)의 플랜지(114) 및 제 3 관체(136)의 플랜지(128)를 외부로 노출시킬 수 있게 제공된다.
그리고 히팅자켓(142)의 일측에는 외부로부터 질소가스를 공급 받을 수 있도록 포트(144)가 장착되며, 포트(144)에는 질소가스가 충진된 탱크(도시되지 않음)로부터 연장되는 질소가스 공급라인(L)이 연결된다.
여기서, 질소가스가 충진된 탱크로부터 히팅자켓(142) 내부로 질소가스를 연속적으로 공급하는 것은 공지의 기술이므로 상세한 설명은 생략한다.
바람직하게는, 히팅자켓(142)은 내열성 및 전기 절연성 등이 뛰어나 재질, 예를 들면 테프론(teflon) 재질로 이루어질 수 있다.
히터코일(148)은 도시된 바와 같이 히팅자켓(142) 내부에 배치되되, 제 1 관체(112), 제 2 관체(120) 및 제 3 관체(126)를 외부를 감싸는 형태로 권선된다. 그리고 히터코일(148)의 양단은 히팅자켓(142)에 형성된 관통공(146)을 통해 히팅자켓(142)의 외부로 인출되어 전원(도시되지 않음)과 연결된다.
이렇게 배치된 히터코일(148)에 전원이 인가되면, 히터코일(148)은 가열되며 그 열원은 히팅자켓(142) 내부로 공급된 질소가스를 고온으로 가열시킨다. 이때 고온으로 가열된 질소가스는 유입공(118)을 통해 수용공간부(116) 내부로 유입되고, 수용공간부(116) 내부로 유입된 고온의 질소가스는 강선(122)이 형성된 제 2 관체(120)의 내측 및 노즐공(124)들의 일단 측으로 유입된다.
여기서, 히터코일(148)은 배기가스의 분자들이 파우더(P) 형태로 고형화되는 것을 억제시킬 수 있도록 질소가스를 대략 150도 이상으로 가열시킨다.
하기에는 전술한 바와 같이 형성된 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치(100)의 작동 상태를 간략하게 설명한다.
우선, 진공펌프(20)가 작동하여 공정챔버(10)에서 발생하는 배기가스를 흡입하면 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치(100)는 히터코일(148)에 전원을 인가하면서 히팅자켓(142) 내부로 질소가스를 공급한다.
이때, 히팅자켓(142) 내부로 공급되는 질소가스는 히팅자켓(142) 내부를 채우며, 히터코일(148)은 히팅자켓(142) 내부로 공급된 질소가스를 대략 150도 이상의 온도로 가열시킨다.
히터코일(148)이 질소가스를 고온으로 가열시키면, 고온으로 가열된 질소가스는 유입공(118)을 통해 수용공간부(116) 내로 유입되어 수용공간부(116) 내부에 채워지는데, 이때 수용공간부(116) 내부로 유입된 고온의 질소가스 중 일부는 제 2 관체(120)의 내측으로 유입되고, 나머지 고온의 질소가스는 노즐공(124)들의 일단 측으로 유입된다.
여기서, 제 2 관체(120)의 내측으로 유입된 고온의 질소가스는 제 2 관체(120)의 내주면을 따라 흐르면서 강선(122)들에 의해 볼텍스 플로를 형성하는데, 이에 의해 제 1 관체(112)의 저류공간부(119)에 저류된 배기가스 및 파우더와 진공펌프(20) 내부의 배기가스 및 파우더는 볼텍스 플로에 의해 기압이 낮아진 제 2 관체(120)의 내측으로 흡입된 후 배기라인(30)측으로 유동된다.
그리고 노즐공(124)들의 일단 측으로 유입된 고온의 질소가스는 노즐공(124)을 지나는 과정에서 그 유속이 가속되어 제 2 관체(120)의 타단 외측, 즉 배기라인(30) 측으로 분사되는데, 이때 노즐공(124)들 통해 분사되는 고온의 질소가스는 배기라인(30) 내부의 배기가스 및 파우더(P)를 스크러버(40) 측으로 불어서 밀어낸다.
이와 같이 형성된 본 발명에 따른 파우더 고착 방지장치(100)는 제 2 관체(120)의 내측으로 유입되는 고온의 질소가스가 제 2 관체(120)의 내주면에 형성된 강선(122)을 따라 흐르면서 볼텍스 플로를 형성하기 때문에 저류공간부(119)에 저류된 배기가스 및 파우더와 진공펌프(20) 내부의 배기가스 및 파우더를 흡입해 배기라인(30) 측으로 유동시킬 수 있고, 이로 인해 진공펌프(20) 내부에 파우더가 고착되는 것을 억제 및 방지할 수 있게 한다.
또한 본 발명에 의하면, 노즐공(124)들을 통해 고온의 질소가스의 유속이 가속되어 배기라인(30) 측으로 분사되기 때문에 배기라인(30) 내부의 배기가스 및 파우더를 스크러버(40) 측으로 불어 낼 수 있으며, 이로 인해 배기라인(30) 내부에 파우더가 고착되는 것을 억제 및 방지할 수 있게 한다.
앞에서, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 일이다. 따라서, 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 기술적 사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안되며, 변형된 실시예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
100 : 파우더 고착 방지장치
110 : 배기수단
112 : 제 1 관체 116 : 수용공간부
118 : 유입공 120 : 제 2 관체
122 : 강선 124 : 노즐공
126 : 제 3 관체 140 : 히팅수단
142 : 히팅자켓 148 : 히터코일
112 : 제 1 관체 116 : 수용공간부
118 : 유입공 120 : 제 2 관체
122 : 강선 124 : 노즐공
126 : 제 3 관체 140 : 히팅수단
142 : 히팅자켓 148 : 히터코일
Claims (7)
- 공정챔버 내부에서 발생하는 배기가스를 흡입하는 진공펌프와 배기가스를 스크러버 측으로 안내하는 배기라인 사이에 장착되는 파우더 고착 방지장치에 있어서,
상기 파우더 고착 방지장치는,
질소가스를 고온으로 가열하는 히팅수단; 및
상기 진공펌프와 상기 배기라인을 연결시키며, 상기 히팅수단으로부터 유입되는 고온의 질소가스를 매개체로 상기 진공펌프 내부의 배기가스 및 파우더를 흡입하고 상기 배기라인 내부의 배기가스 및 파우더를 상기 스크러버 측으로 불어내는 배기수단;을 포함하는 파우더 고착 방지장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 배기수단은,
전단 측이 상기 진공펌프의 배출구와 연결되고, 후단 측에는 수용공간부가 마련되되, 상기 수용공간부와 마주하는 외주면 상에는 고온의 질소가스가 유입되는 유입공이 형성되는 제 1 관체;
전단 측이 상기 수용공간부 내에 배치되고 후단 측은 상기 수용공간부의 외측으로 연장되게 형성되되, 유입되는 고온의 질소가스의 흐름을 변화시켜 상기 진공펌프 내부의 배기가스 및 파우더를 흡입하고 상기 배기라인 내부의 배기가스 및 파우더를 상기 스크러버 측으로 불어내는 제 2 관체; 및
후단 측이 상기 배기라인과 연결되고, 전단 측 내부로는 상기 제 2 관체의 전단 측과 제 2 관체의 전단 측과 이어지는 외주면이 노출되도록 고정되며, 상기 제 2 관체의 전단 측이 상기 수용공간부 내에 배치되도록 상기 수용공간부에 고정되는 제 3 관체;를 포함하는 파우더 고착 방지장치.
- 청구항 2에 있어서,
상기 제 2 관체의 내주면 상에는 상기 제 2 관체의 내부로 유입되는 고온의 질소가스가 볼텍스 플로를 형성할 수 있도록 상기 제 2 관체의 전단 측에서부터 후단 측으로 나선의 형태로 연장되는 다수의 강선들이 형성되되,
상기 제 2 관체의 전단 측은 상기 제 2 관체의 내측으로 고온의 질소가스가 유입될 수 있게 상기 수용공간부의 바닥과 이격되는 파우더 고착 방지장치.
- 청구항 2에 있어서,
상기 제 2 관체의 내주면과 외주면 사이에는 다수의 노즐공들이 형성되되,
상기 노즐공들은 상기 제 2 관체의 단면형상을 따라 등각도 간격으로 배치되며, 상기 수용공간부 내에 배치된 상기 제 2 관체의 전단 측에 인접한 외주면 상에서부터 상기 제 2 관체의 타단을 관통하여 형성되되,
상기 제 2 관체의 전단 측에 인접한 외주면 상에 형성된 상기 노즐공들의 일단 측은 고온의 질소가스가 유입될 수 있게 상기 수용공간부 내부로 노출되는 파우더 고착 방지장치.
- 청구항 2에 있어서,
상기 제 1 관체의 전단 측과 상기 수용공간부 사이에는 상기 진공펌프 측에서 배기되는 배기가스 및 파우더가 저류되는 저류공간부가 형성되되,
상기 저류공간부는 상기 제 1 관체를 확관시켜 형성되는 파우더 고착 방지장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 히팅수단은,
상기 배기수단을 감싸며, 일측에는 외부로부터 질소가스를 공급 받을 수 있도록 포트가 장착되는 히팅자켓; 및
상기 히팅자켓 내부에 배치되되, 상기 배기수단의 제 1 관체, 제 2 관체 및 제 3 관체의 외부를 감싸는 형태로 권선되어 상기 히팅자켓 내부로 공급된 질소가스를 고온으로 가열시켜며, 양단은 상기 히팅자켓에 형성된 관통공을 통해 상기 히팅자켓의 외부로 인출되어 전원과 연결되는 히터코일을 포함하는 파우더 고착 방지장치.
- 청구항 6에 있어서,
상기 히팅자켓은 상기 진공펌프 및 상기 배기라인과의 용이한 연결을 위해 상기 제 1 관체의 플랜지 및 상기 제 3 관체의 플랜지를 외부로 노출시킬 수 있게 제공되는 파우더 고착 방지장치.
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